KR102420921B1 - 증착 장치 시스템 - Google Patents
증착 장치 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102420921B1 KR102420921B1 KR1020190010764A KR20190010764A KR102420921B1 KR 102420921 B1 KR102420921 B1 KR 102420921B1 KR 1020190010764 A KR1020190010764 A KR 1020190010764A KR 20190010764 A KR20190010764 A KR 20190010764A KR 102420921 B1 KR102420921 B1 KR 102420921B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- nozzle
- heater unit
- deposition apparatus
- temperature
- crucible
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- H01L51/001—
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/164—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 증착 장치 시스템을 측면에서 바라본 모습을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 증착 장치의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 증착 장치의 분해 사시도이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 가이드의 사시도이다.
도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 노즐 커버를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시 예에 따른 도가니의 사시도이다.
도 8은 본 발명의 실시 예에 따른 도가니의 수직방향 단면도이다.
도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 히터부의 사시도이다.
도 10은 본 발명의 실시 예에 따른 히터부의 분해 사시도이다.
도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 히터부를 수용하고 있는 냉각부를 도시한 사시도이다.
도 12는 본 발명의 실시 예에 따른 도가니의 상면을 확대 도시한 사시도이다.
도 13은 본 발명의 실시 예에 따른 히트 파이프를 도시한 사시도이다.
도 14는 도 13에 도시된 히트 파이프를 직선 튜브부 방향에서 도시한 도면이다.
도 15는 도 13에 도시된 히트 파이프를 돌출 튜브부 방향에서 도시한 도면이다.
도 16은 본 발명의 실시 예에 따른 히트 파이프의 위치를 고정하는 히트 파이프 마운터가 도시된 사시도이다.
도 17은 도 16에 도시된 히트 파이프 마운터가 측면 방향에서 도시된 도면이다.
도 18 내지 도 21은 본 발명의 실시 예에 따른 히트 파이프 내부에 수용된 열 전달 유체의 움직임을 설명하기 위한 도면이다.
도 22는 본 발명의 실시 예에 따른 노즐에서의 클로깅 발생을 모니터링하는 증착 장치 시스템을 도시한 도면이다.
도 23은 본 발명의 실시 예에 따른 클로깅 발생을 모니터링하는 방법을 나타내는 플로우 차트이다.
100: 증착 장치 110: 가이드
120: 냉각부 130: 히터부
135: 리플렉터 138: 히터 유닛
140: 도가니 141, 142: 노즐
200: 히트 파이프 210: 돌출 튜브부
220: 직선 튜브부 230: 연결 튜브부
240: 히트 파이프 마운터
Claims (10)
- 진공 챔버;
증착 원료가 수용되는 도가니와, 상기 도가니를 가열하는 히터 유닛과, 상기 증착 원료에서 증발된 증착 물질이 통과하는 노즐을 포함하며, 상기 진공 챔버의 내부에 수용되는 증착 장치;
상기 진공 챔버의 외부에 위치하는 카메라; 및
상기 카메라와 상기 노즐 사이에 배치된 뷰포트와;
상기 카메라가 촬영한 노즐 이미지를 수신하는 제어 장치를 포함하고,
상기 히터 유닛은
상기 노즐과 수평방향으로 나란한 상부 히터 유닛과,
상기 도가니와 수평방향으로 나란한 하부 히터 유닛을 포함하고,
상기 제어 장치는
상기 상부 히터 유닛을 제1온도로 제어하고,
상기 카메라가 촬영한 노즐 이미지에서 클로깅을 감지하고,
상기 노즐 이미지에서 클로깅이 감지되지 않으면 상기 상부 히터 유닛의 온도를 상기 제1 온도로 제어하고,
상기 노즐 이미지에서 클로깅이 감지되면 상기 상부 히터 유닛의 온도를 상기 제1 온도 보다 높게 제어하는
증착 장치 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 뷰포트는
상기 진공 챔버에 배치된
증착 장치 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 카메라에 연결되며, 상기 노즐의 주변 밝기를 조절하는 조명 장치를 더 포함하는
증착 장치 시스템. - 제3항에 있어서,
상기 뷰포트와 상기 노즐 사이에 위치하는 셔터를 더 포함하는
증착 장치 시스템. - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 제어 장치는
상기 상부 히터 유닛의 온도를 제1 온도 보다 높게 제어한 후 상기 노즐을 재촬영하도록 상기 카메라를 제어하고,
상기 노즐을 재촬영한 결과 상기 클로깅이 제거되지 않은 경우 상기 상부 히터 유닛의 온도를 상기 제1 온도 보다 낮은 제2 온도로 제어하는
증착 장치 시스템. - 제7항에 있어서,
상기 제어 장치는
상기 노즐을 재촬영한 결과 상기 클로깅이 제거된 경우 상기 상부 히터 유닛의 온도를 상기 제1 온도로 제어하는
증착 장치 시스템. - 제1항에 있어서,
상기 카메라가 촬영한 노즐 이미지가 표시하는 모니터를 더 포함하는
증착 장치 시스템. - 제9항에 있어서,
상기 제어 장치는
상기 노즐 이미지에 기초하여 클로깅의 단면적을 산출하여 상기 모니터에 더 표시하는
증착 장치 시스템.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190010764A KR102420921B1 (ko) | 2017-07-11 | 2019-01-28 | 증착 장치 시스템 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170087737A KR102381054B1 (ko) | 2017-07-11 | 2017-07-11 | 증착 장치 |
KR1020190010764A KR102420921B1 (ko) | 2017-07-11 | 2019-01-28 | 증착 장치 시스템 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170087737A Division KR102381054B1 (ko) | 2017-07-11 | 2017-07-11 | 증착 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190014032A KR20190014032A (ko) | 2019-02-11 |
KR102420921B1 true KR102420921B1 (ko) | 2022-07-15 |
Family
ID=82400753
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190010764A Active KR102420921B1 (ko) | 2017-07-11 | 2019-01-28 | 증착 장치 시스템 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102420921B1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102237185B1 (ko) * | 2019-06-20 | 2021-04-07 | 엘지전자 주식회사 | 증착 장치 시스템 |
KR20220123245A (ko) * | 2020-02-21 | 2022-09-06 | 엘지전자 주식회사 | 증착 장치 시스템 |
KR20210113462A (ko) * | 2020-03-05 | 2021-09-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 노즐 검사 방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005120441A (ja) | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Showa Shinku:Kk | 光学薄膜形成用装置及び方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013211137A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Samsung Display Co Ltd | 真空蒸着方法及びその装置 |
KR101350026B1 (ko) * | 2012-05-03 | 2014-01-16 | 주식회사 야스 | 증발관 노즐 교체식 선형 증발원 |
KR101530033B1 (ko) * | 2013-12-05 | 2015-06-19 | 주식회사 에스에프에이 | 박막 증착 장치 |
-
2019
- 2019-01-28 KR KR1020190010764A patent/KR102420921B1/ko active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005120441A (ja) | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Showa Shinku:Kk | 光学薄膜形成用装置及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190014032A (ko) | 2019-02-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102381054B1 (ko) | 증착 장치 | |
KR102420921B1 (ko) | 증착 장치 시스템 | |
KR101754356B1 (ko) | 증발원, 증착물질 공급장치, 및 이를 포함하는 증착장치 | |
KR102165778B1 (ko) | 듀얼-모드 냉각 시스템 및 듀얼-모드로 냉각되는 전자 디스플레이 어셈블리 | |
KR102446900B1 (ko) | 증착 장치 시스템 | |
KR102074404B1 (ko) | 수지 재료 공급 장치, 수지 재료 공급 방법, 수지 성형 장치, 및 수지 성형품 제조 방법 | |
US9340864B2 (en) | Vacuum evaporation apparatus and evaporation method | |
US9457555B2 (en) | Film peeling apparatus | |
KR20220123245A (ko) | 증착 장치 시스템 | |
US10547003B2 (en) | Deposition apparatus | |
KR20160021470A (ko) | 자외선 경화장치 | |
WO2020082619A1 (zh) | 一种显示装置及电子设备 | |
KR102221962B1 (ko) | 증착 장치 | |
US20200371071A1 (en) | Sample temperature adjustment device | |
KR101334698B1 (ko) | 열전모듈을 이용한 냉각수단을 갖는 엘이디 광원 장치 | |
CN107012432B (zh) | 一种蒸发源及蒸镀装置 | |
CN107709604A (zh) | 用于测量沉积速率的方法及沉积速率控制系统 | |
JP2008066403A (ja) | ポッティング装置 | |
KR101530033B1 (ko) | 박막 증착 장치 | |
KR102168686B1 (ko) | 박막 증착 장치 및 박막 증착 방법 | |
KR102398356B1 (ko) | 증착 장치 | |
KR101680576B1 (ko) | 무인 정보단말장치 | |
KR101742526B1 (ko) | 연성 엘이디 기판 장치 | |
KR102135312B1 (ko) | 바이오 3d 프린터의 바이오웨어 고정용 타공 빌드플레이트 구조, 상기 바이오웨어의 온도를 조절하는 방법 및 상기 바이오웨어를 고정하는 방법 | |
KR102369542B1 (ko) | 증착 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
PA0107 | Divisional application |
Comment text: Divisional Application of Patent Patent event date: 20190128 Patent event code: PA01071R01D Filing date: 20170711 Application number text: 1020170087737 |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20200707 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R04I Patent event date: 20190128 Comment text: Divisional Application of Patent |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20211203 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20220420 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20220711 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20220712 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20250610 Start annual number: 4 End annual number: 4 |