CN107012432B - 一种蒸发源及蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种蒸发源和蒸镀装置。该蒸发源包括:至少一个喷嘴、坩埚盖和坩埚本体;所述喷嘴设置在所述坩埚盖上;所述坩埚盖覆盖在所述坩埚本体的开口上;所述坩埚本体包括:第一蒸发槽和至少一个第二蒸发槽,所述第二蒸发槽嵌套环绕在所述第一蒸发槽的外围;所述第一蒸发槽的槽口处覆盖第一内板,所述第一内板上设置有第一通孔;所述第二蒸发槽的槽口处覆盖第二内板,所述第二内板上设置有第二通孔,所述第二内板的外表面朝向所述第一蒸发槽倾斜设置。本发明实施例将第二内板朝向第一蒸发槽倾斜设置,使得从第二蒸发槽喷出的蒸汽可与第一蒸发槽喷出的蒸汽充分混合均匀后,从喷嘴中喷出并蒸镀到基板上,提高基板表面蒸镀的材料的均一性。
Description
技术领域
本发明涉及蒸发源技术领域,特别是涉及一种蒸发源及蒸镀装置。
背景技术
自从1987年邓青云发现异质节OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管),OLED就得到迅速发展。与LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)相比,OLED显示器具有轻薄,低功耗,高对比度,高色域,可以实现柔性显示等优点,是下一代显示器的发展趋势。OLED显示包括PMOLED(Passive-matrix organic light emitting diode,被动式矩阵有机发光二极管)和AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode,主动式矩阵有机发光二极管)显示,其中AMOLED显示的实现方式有LTPS(Low TemperaturePoly-silicon,低温多晶硅)背板+FMM Mask(Fine Metal Shadow Mask,精细金属掩膜)方式,或者,Oxide(氧化物)背板+WOLED(White Organic Light-Emtting Diode,白光有机发光二极管)+彩膜的方式。前者主要应用于小尺寸面板,对应手机和移动应用;后者主要应用于大尺寸面板,对应Monitor(监控器)和电视等应用。现在LTPS背板+FMM Mask的方式已经初步成熟,实现量产。
精细金属掩膜是通过蒸镀方式将OLED材料按照预定程序蒸镀到LTPS背板上,利用FMM上的图形,形成红绿蓝像素。蒸镀是在真空腔体中进行,目前量产蒸镀红绿蓝发光膜层材料通常用线性蒸发源和线性坩埚,如图1和2所示,线性坩埚的坩埚本体11为长方体中空结构。坩埚本体11的开口覆盖有坩埚盖12。坩埚盖12上设置有多个通孔,每个通孔连接一个喷嘴13。加热丝14围绕坩埚本体11的外表面对坩埚进行加热。一个蒸发源通常需要三个线性并列的线性坩埚,两边坩埚蒸镀红绿蓝发光膜层主体材料,中间坩埚蒸镀掺杂材料,如图3所示,三个坩埚靠角度控制板15将材料喷到基板16上的相同位置来控制掺杂的均一性。角度控制板15会将大部分材料遮挡,造成材料浪费。由于喷嘴13为圆形,如图4所示,喷出材料蒸镀到平整的基板16上会产生中心密集四周散的不均匀现象,发光层主体材料和掺杂材料会掺杂不均一,影响产品性能。
发明内容
本发明实施例提供一种蒸发源及蒸镀装置,以解决现有技术在蒸镀时发光层主体材料和掺杂材料会掺杂不均一的问题。
第一方面,提供一种蒸发源,包括:至少一个喷嘴、坩埚盖和坩埚本体;所述喷嘴设置在所述坩埚盖上;所述坩埚盖覆盖在所述坩埚本体的开口上;所述坩埚本体包括:第一蒸发槽和至少一个第二蒸发槽,所述第二蒸发槽嵌套环绕在所述第一蒸发槽的外围;所述第一蒸发槽的槽口处覆盖第一内板,所述第一内板上设置有第一通孔;所述第二蒸发槽的槽口处覆盖第二内板,所述第二内板上设置有第二通孔,所述第二内板的外表面朝向所述第一蒸发槽倾斜设置。
进一步,所述第二蒸发槽的槽口的端面高于所述第一蒸发槽的槽口的端面;并且,若所述第二蒸发槽的数量为两个以上,则位于外侧的所述第二蒸发槽的槽口的端面比相邻的位于内侧的所述第二蒸发槽的槽口的端面高。
进一步,还包括:设置在所述坩埚本体内部的第三内板,所述第三内板覆盖所述坩埚本体的开口,所述第三内板与所述坩埚盖之间隔有间距,所述第三内板与所述第一内板和所述第二内板之间隔有间距,所述第三内板设置有第三通孔。
进一步,还包括:第一通管、第二通管、第一速率检测器和第二速率检测器;其中,所述第一通管与所述第一蒸发槽的内部连通,所述第一通管的一端设置在所述第一蒸发槽的侧壁上,并且位于所述第一蒸发槽的最大容纳高度所在的平面和所述第一蒸发槽的槽口的端面之间,所述第一通管的另一端延伸出最外侧的所述第二蒸发槽的侧壁;所述第一速率检测器设置在所述第一通管内,用于检测所述第一蒸发槽的蒸镀速率;所述第二通管与所述第二蒸发槽的内部连通,所述第二通管的一端设置在所述第二蒸发槽的侧壁上,并且位于所述第二蒸发槽的最大容纳高度所在的平面和所述第二蒸发槽的槽口的端面之间,所述第二通管的另一端延伸出最外侧的所述第二蒸发槽的侧壁;所述第二速率检测器设置在所述第二通管内,用于检测所述第二蒸发槽的蒸镀速率。
进一步,还包括:第四内板和至少一个第五内板,其中,所述第四内板设置在所述第一通管的一端,所述第四内板上设置有第四通孔,所述第四内板的材质、所述第四通孔的尺寸和所述第一内板的材质、所述第一通孔的尺寸相同;所述第五内板设置在所述第二通管的一端,所述第五内板上设置有第五通孔,所述第五内板的材质、所述第五通孔的尺寸和所述第二内板的材质、所述第二通孔的尺寸相同。
进一步:所述第一通管设置在所述第一蒸发槽的平行于所述蒸发源的移动方向的侧壁上;所述第二通管设置在所述第二蒸发槽的平行于所述蒸发源的移动方向的侧壁上。
进一步,还包括:第一加热单元和至少一个第二加热单元,其中,所述第一加热单元用于加热所述第一蒸发槽;所述第二加热单元用于加热所述第二蒸发槽。
进一步,还包括:温度检测单元和温度控制单元,所述温度控制单元分别和所述温度检测单元、所述第一加热单元和所述第二加热单元电连接,其中,所述温度检测单元用于检测所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽的温度,并将所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽的温度发送到所述温度控制单元;所述温度控制单元根据所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽的温度,控制所述第一加热单元和所述第二加热单元的加热温度。
进一步,还包括:冷却单元,所述冷却单元分别设置在所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽的外围,用于冷却所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽。
第二方面,提供一种蒸镀装置,包括:上述的蒸发源。
这样,本发明实施例中,通过设置具有第一蒸发槽和嵌套环绕第一蒸发槽的至少一个第二蒸发槽的坩埚本体结构,并且将第二内板朝向第一蒸发槽倾斜设置,使得从第二蒸发槽喷出的蒸汽可与第一蒸发槽喷出的蒸汽交融在一起,充分混合均匀后,从喷嘴中喷出并蒸镀到基板上,可提高基板表面蒸镀的材料的均一性;并且可省去现有技术中的角度控制板的结构,节省了材料。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是现有技术的蒸发源的剖面图;
图2是现有技术的蒸发源的主视图;
图3是现有技术的蒸发源的坩埚本体的俯视图;
图4是现有技术蒸发源蒸镀材料到基板后的基板上的蒸镀材料的分布示意图;
图5是本发明实施例的蒸发源的剖视图;
图6是本发明实施例的蒸发源的俯视图;
图7是本发明实施例的蒸发源的第一内板的俯视图;
图8是本发明实施例的蒸发源的第二内板的俯视图;
图9是本发明实施例的蒸发源的第四内板的俯视图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例公开了一种蒸发源。如图5和6所示,该蒸发源包括:至少一个喷嘴501、坩埚盖502和坩埚本体。喷嘴501设置在坩埚盖502上。喷嘴501与坩埚盖502上的通孔连通。坩埚盖502覆盖在坩埚本体的开口上。优选的,该蒸发源为线性蒸发源,喷嘴501的数量为多个,在坩埚盖502上沿线性蒸发源的线性方向呈线性排列。例如,坩埚本体和坩埚盖502均呈长方形,则线性方向为长方形的长边所在的方向,喷嘴501沿长边所在的方向线性排列。喷嘴501的数量可由蒸镀的基板的范围确定。
其中,坩埚本体包括:第一蒸发槽503和至少一个第二蒸发槽504。第二蒸发槽504嵌套环绕在第一蒸发槽503的外围。具体的,若第二蒸发槽504只有一个,则第二蒸发槽504环绕在第一蒸发槽503的外围。若第二蒸发槽504有两个以上,则第二蒸发槽504环绕在第一蒸发槽503的外围,该第二蒸发槽504的外围再环绕一个第二蒸发槽504,以此类推,多个第二蒸发槽504这样嵌套环绕设置。第一蒸发槽503和第二蒸发槽504用于蒸镀不同的材料。因此,第二蒸发槽504的数量由蒸镀的材料的种类确定。例如,第一蒸发槽503用于蒸镀红绿蓝发光膜层掺杂材料,第二蒸发槽504用于蒸镀红绿蓝发光膜层主体材料。应当理解的是,第一蒸发槽503也可以用于蒸镀红绿蓝发光膜层主体材料,第二蒸发槽504也可以用于蒸镀红绿蓝发光膜层掺杂材料。若还有其他材料,则可以再根据其他材料的种类设置对应数量的第二蒸发槽504。第一蒸发槽503的槽口处覆盖第一内板505。第一内板505的材质通常为金属Cu。如图7所示,第一内板505上设置有第一通孔5051。第一蒸发槽503蒸镀产生的蒸汽可从第一通孔5051中喷出。该第一通孔5051的数量、尺寸和分布密度等可根据实际情况确定,不同的第一通孔5051的数量、尺寸和分布密度可调节第一蒸发槽503的内部的气压,有利于使第一蒸发槽503的内部的蒸汽混合均匀后喷出。第二蒸发槽504的槽口处覆盖第二内板506。如图8所示,该第二内板506的形状为环状。第二内板506上设置有第二通孔5061。同样的,第二蒸发槽504蒸镀产生的蒸汽可从第二通孔5061中喷出。该第二通孔5061的数量、尺寸和分布密度等可根据实际情况确定,不同的第二通孔5061的数量、尺寸和分布密度可调节第二蒸发槽504的内部的气压,有利于使第二蒸发槽504的内部的蒸汽混合均匀后喷出。第二内板506的外表面朝向第一蒸发槽503倾斜设置,使得第二蒸发槽504的远离第一蒸发槽503的槽口的端面比靠近第一蒸发槽503的槽口的端面高。该倾斜的角度可根据实际情况确定,满足将第一蒸发槽503和第二蒸发槽504蒸镀出的蒸汽混合均匀并且第二蒸发槽504蒸镀出的蒸汽不会喷到第一蒸发槽503的侧壁上的要求。
该蒸发源通过设置具有第一蒸发槽503和嵌套环绕第一蒸发槽503的至少一个第二蒸发槽504的坩埚本体结构,并且将第二内板506朝向第一蒸发槽503倾斜设置,使得从第二蒸发槽504喷出的蒸汽可与第一蒸发槽503喷出的蒸汽交融在一起,充分混合均匀后,从喷嘴501中喷出并蒸镀到基板上,可提高基板表面蒸镀的材料的均一性;并且可省去现有技术中的角度控制板的结构,节省了材料。
第二蒸发槽504的槽口的端面高于第一蒸发槽503的槽口的端面,从而使得第二蒸发槽504蒸发出的蒸汽不会被第一蒸发槽503的侧壁挡住,进一步避免造成材料的浪费,也更有利于蒸汽的充分混合。
若第二蒸发槽504的数量为两个以上,则位于外侧的第二蒸发槽504的槽口的端面比相邻的位于内侧的第二蒸发槽504的槽口的端面高。
通过限定相邻的两个第二蒸发槽504中,位于外侧的第二蒸发槽504的槽口的端面高于位于内侧的第二蒸发槽504的槽口的端面,从而使得位于外侧的第二蒸发槽504蒸发出的蒸汽不会被位于内侧的第二蒸发槽504的侧壁挡住,不会造成蒸汽的浪费,也更有利于蒸汽的充分混合。
在一优选的实施例中,该蒸发源还包括:设置在坩埚本体内部的第三内板507。第三内板507覆盖坩埚本体的开口。第三内板507与坩埚盖502之间隔有间距。第三内板507与第一内板505和第二内板506之间隔有间距。第三内板507设置有第三通孔。通过设置第三内板507,覆盖坩埚本体的开口,使第三内板507和第一内板505、第二内板506之间形成一容纳空间。该第三通孔的数量、尺寸和分布密度等可根据实际情况确定,不同的第三通孔的数量、尺寸和分布密度可调节容纳空间内的气压,有利于使容纳空间内的蒸汽混合均匀后喷出。
通过上述结构设置,第一蒸发槽503和第二蒸发槽504喷出的蒸汽可在该容纳空间内充分混合均匀后,再从第三内板507喷出,使得喷出的蒸汽更加均匀,从而蒸镀到基板上的材料更加均匀。
为了便于控制蒸镀的速率,如图6所示,该蒸发源还包括:第一通管508、第二通管509、第一速率检测器和第二速率检测器。
其中,第一通管508与第一蒸发槽503的内部连通。第一通管508的一端设置在第一蒸发槽503的侧壁上,并且位于第一蒸发槽503的最大容纳高度所在的平面和第一蒸发槽503的槽口的端面之间。第一通管508的位置与第一内板505的位置接近,既不会影响第一蒸发槽503蒸镀,也能够较为准确地模拟蒸汽从第一内板505喷出的场景。第一通管503的另一端延伸出最外侧的第二蒸发槽504的侧壁。应当理解的是,第一通管503的另一端会穿过位于第一蒸发槽503外围的所有第二蒸发槽504,第一通管508的侧壁的外表面与第一蒸发槽503、第二蒸发槽504的侧壁的相接触的位置密封设置,确保蒸镀材料不会漏出。第一速率检测器设置在第一通管508内,用于检测第一蒸发槽503的蒸镀速率。
通过设置第一通管508,第一蒸发槽503在蒸镀的过程中,蒸汽除通过第一内板505向外喷出外,部分蒸汽进入第一通管508中向外喷出,因此,通过第一速率检测器测定这部分蒸汽的喷出速率,可间接测定第一蒸发槽503的蒸镀速率。
为了更准确地测量第一蒸发槽503的蒸镀速率,如图9所示,该蒸发源还包括:第四内板514。第四内板514设置在第一通管508的一端。第四内板514上设置有第四通孔5141。第四内板514的材质、第四通孔5141的尺寸和第一内板505的材质、第一通孔5051的尺寸相同,这样可确保蒸汽从第四内板514喷出,和从第一内板505喷出的场景相近,从而使得测得的第一蒸发槽503的蒸镀速率更加准确。
第二通管509的数量由第二蒸发槽504的数量确定。第二通管509与第二蒸发槽504的内部连通,第二通管509的一端设置在第二蒸发槽504的侧壁上,并且位于第二蒸发槽504的最大容纳高度所在的平面和第二蒸发槽504的槽口的端面之间。第二通管509的位置与第二内板506的位置接近,既不会影响第二蒸发槽504蒸镀,也能够较为准确地模拟蒸汽从第二内板506喷出的场景。第二通管509的另一端延伸出最外侧的第二蒸发槽504的侧壁。应当理解的是,第二通管509的另一端会穿过位于该第二蒸发槽504外围的所有其他第二蒸发槽504。若该第二蒸发槽504外围没有其他第二蒸发槽504,则第二通管509的另一端只需要穿过自身的侧壁即可。第二通管509的侧壁的外表面与第二蒸发槽504的侧壁的相接触的位置密封设置,确保蒸镀材料不会漏出。第二速率检测器设置在第二通管509内,用于检测第二蒸发槽504的蒸镀速率。
同样的,通过设置第二通管509,第二蒸发槽504在蒸镀的过程中,蒸汽除通过第二内板506向外喷出外,部分蒸汽进入第二通管509中向外喷出,因此,通过第二速率检测器测定这部分蒸汽的喷出速率,可间接测定第二蒸发槽504的蒸镀速率。
同样的,为了更准确地测量第二蒸发槽504的蒸镀速率,该蒸发源还包括:至少一个第五内板(其结构可参考图9的第四内板504的结构)。其中,第五内板设置在第二通管509的一端。第五内板的数量由第二通管509的数量确定。第五内板上设置有第五通孔。第五内板的材质、第五通孔的尺寸和第二内板506的材质、第二通孔5061的尺寸相同,这样可确保蒸汽从第五内板喷出,和从第二内板506喷出的场景相近,从而使得测得的第二蒸发槽504的蒸镀速率更加准确。
优选的,第一通管508设置在第一蒸发槽503的平行于蒸发源的移动方向的侧壁上。第二通管509设置在第二蒸发槽504的平行于蒸发源的移动方向的侧壁上。
由于该蒸发源工作的过程中,蒸发源在某一方向上移动,在该方向上一般会设置其他装置,则在垂直于该方向的侧壁上设置第一通管508和第二通管509会影响蒸发源和其他装置工作。因此,通过限定第一通管508和第二通管509设置在平行于蒸发源的移动方向的侧壁上,在测定蒸镀速率时,避免影响蒸发源和其他装置工作。
该蒸发源还包括:第一加热单元510和至少一个第二加热单元511。第二加热单元511的数量由第二蒸发槽504的数量确定。第一加热单元510用于加热第一蒸发槽503。第二加热单元511用于加热第二蒸发槽504。第一加热单元510和第二加热单元511的具体形式可根据实际情况确定。例如,本实施中,第一加热单元510和第二加热单元511均采用加热丝的形式。第一加热单元510的加热丝围绕在第一蒸发槽503的外围,第二加热单元511的加热丝围绕在第二蒸发槽504的外围。
由于第一蒸发槽503和第二蒸发槽504一般用于蒸镀不同的材料,因此设置独立的第一加热单元510和第二加热单元511,可根据所蒸镀的材料,分别加热第一蒸发槽503和第二蒸发槽504到适宜的温度。
为了更准确地控制加热温度,该蒸发源还包括:温度检测单元512和温度控制单元。温度控制单元分别与温度检测单元512、第一加热单元510和第二加热单元511电连接。其中,温度检测单元512用于检测第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度,并将第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度发送到温度控制单元。该温度检测单元512的具体形式可根据实际情况确定。例如,本实施例中,温度检测单元512为温度传感器,设置在第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的侧壁的外表面上。温度控制单元根据第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度,控制第一加热单元510和第二加热单元511的加热温度。
通过设置温度检测单元512和温度控制单元可根据第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的实际温度,以及第一蒸发槽503和第二蒸发槽504内的蒸镀材料所需的加热温度,调节第一加热单元510和第二加热单元511,从而可控制加热温度,有效地进行蒸镀。
为了更便于调节第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度,该蒸发源还包括:冷却单元513。冷却单元513分别设置在第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的外围,用于冷却第一蒸发槽503和第二蒸发槽504。该冷却单元513的具体形式可根据实际情况确定。例如,冷却单元513可以采用水冷的方式,与第一加热单元510和第二加热单元511配合控制第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度,使第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度稳定。第一蒸发槽503和第二蒸发槽504可以共用同一个冷却单元513,第一蒸发槽503和第二蒸发槽504也可以分别使用各自的冷却单元513。优选的,该冷却单元513为一体型,有利于整体温度的均一性。该冷却单元513也可以与温度控制单元电连接,由温度控制单元根据实际情况控制冷却单元513的开闭。
通过设置冷却单元,可以冷却第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度,与第一加热单元510和第二加热单元511配合使用,保持第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度的稳定。
综上,本发明实施例的蒸发源,通过设置具有第一蒸发槽503和嵌套环绕第一蒸发槽503的至少一个第二蒸发槽504的坩埚本体结构,并且将第二内板506朝向第一蒸发槽503倾斜设置,使得从第二蒸发槽504喷出的蒸汽可与第一蒸发槽503喷出的蒸汽交融在一起,以及通过设置第三内板507的结构,使蒸汽充分混合均匀后,从喷嘴501中喷出并蒸镀到基板上,可提高基板表面蒸镀的材料的均一性;并且可省去现有技术中的角度控制板的结构,节省了材料;并且,通过合理设置第一蒸发槽503的槽口的端面和第二蒸发槽504的槽口的端面的高度,可避免造成材料的浪费;还能检测第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的蒸镀速率,以及根据实际情况控制第一蒸发槽503和第二蒸发槽504的温度,实现更好的蒸镀效果。
本发明实施例还提供了一种蒸镀装置。该蒸镀装置包括:上述实施例的蒸发源。该蒸发源的结构在此不再赘述。该蒸镀装置可使蒸发的蒸汽混合均匀,从而提高基板表面蒸镀的材料的均一性,实现更好的蒸镀效果。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
尽管已描述了本发明实施例的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明实施例范围的所有变更和修改。
最后,还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种蒸发源,包括:至少一个喷嘴、坩埚盖和坩埚本体;所述喷嘴设置在所述坩埚盖上;所述坩埚盖覆盖在所述坩埚本体的开口上;其特征在于,所述坩埚本体包括:第一蒸发槽和至少一个第二蒸发槽,所述第二蒸发槽嵌套环绕在所述第一蒸发槽的外围;所述第一蒸发槽的槽口处覆盖第一内板,所述第一内板上设置有第一通孔;所述第二蒸发槽的槽口处覆盖第二内板,所述第二内板上设置有第二通孔,所述第二内板的外表面朝向所述第一蒸发槽倾斜设置;
所述蒸发源还包括:第一通管和第一速率检测器;其中,
所述第一通管与所述第一蒸发槽的内部连通,所述第一通管的一端设置在所述第一蒸发槽的侧壁上,并且位于所述第一蒸发槽的最大容纳高度所在的平面和所述第一蒸发槽的槽口的端面之间,所述第一通管的另一端延伸出最外侧的所述第二蒸发槽的侧壁;
所述第一速率检测器设置在所述第一通管内,用于检测所述第一蒸发槽的蒸镀速率。
2.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述第二蒸发槽的槽口的端面高于所述第一蒸发槽的槽口的端面;并且,若所述第二蒸发槽的数量为两个以上,则位于外侧的所述第二蒸发槽的槽口的端面比相邻的位于内侧的所述第二蒸发槽的槽口的端面高。
3.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,还包括:设置在所述坩埚本体内部的第三内板,所述第三内板覆盖所述坩埚本体的开口,所述第三内板与所述坩埚盖之间隔有间距,所述第三内板与所述第一内板和所述第二内板之间隔有间距,所述第三内板设置有第三通孔。
4.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,还包括:第二通管和第二速率检测器;其中,
所述第二通管与所述第二蒸发槽的内部连通,所述第二通管的一端设置在所述第二蒸发槽的侧壁上,并且位于所述第二蒸发槽的最大容纳高度所在的平面和所述第二蒸发槽的槽口的端面之间,所述第二通管的另一端延伸出最外侧的所述第二蒸发槽的侧壁;
所述第二速率检测器设置在所述第二通管内,用于检测所述第二蒸发槽的蒸镀速率。
5.根据权利要求4所述的蒸发源,其特征在于,还包括:第四内板和至少一个第五内板,其中,所述第四内板设置在所述第一通管的一端,所述第四内板上设置有第四通孔,所述第四内板的材质、所述第四通孔的尺寸和所述第一内板的材质、所述第一通孔的尺寸相同;所述第五内板设置在所述第二通管的一端,所述第五内板上设置有第五通孔,所述第五内板的材质、所述第五通孔的尺寸和所述第二内板的材质、所述第二通孔的尺寸相同。
6.根据权利要求4所述蒸发源,其特征在于:所述第一通管设置在所述第一蒸发槽的平行于所述蒸发源的移动方向的侧壁上;所述第二通管设置在所述第二蒸发槽的平行于所述蒸发源的移动方向的侧壁上。
7.根据权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,还包括:第一加热单元和至少一个第二加热单元,其中,所述第一加热单元用于加热所述第一蒸发槽;所述第二加热单元用于加热所述第二蒸发槽。
8.根据权利要求7所述的蒸发源,其特征在于,还包括:温度检测单元和温度控制单元,所述温度控制单元分别和所述温度检测单元、所述第一加热单元和所述第二加热单元电连接,其中,所述温度检测单元用于检测所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽的温度,并将所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽的温度发送到所述温度控制单元;所述温度控制单元根据所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽的温度,控制所述第一加热单元和所述第二加热单元的加热温度。
9.根据权利要求1~8任一项所述的蒸发源,其特征在于,还包括:冷却单元,所述冷却单元分别设置在所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽的外围,用于冷却所述第一蒸发槽和所述第二蒸发槽。
10.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:如权利要求1~9任一项所述的蒸发源。
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