KR102413195B1 - 방사선 화상 독취 장치 - Google Patents

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Abstract

방사선 화상 독취 장치는, 방사선 화상이 기록된 기록 매체의 표면에 대해서, 주사선을 따라서 여기광을 주사하는 광 주사부와, 주사선을 포함하고 또한 기록 매체의 표면과 교차하는 검출면 내에서, 여기광의 주사에 의해 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광을 검출하는 광 검출부와, 기록 매체의 표면과 광 검출부와의 사이에 배치된 광학 필터를 구비한다. 기록 매체의 표면에서 반사된 여기광이 광학 필터를 투과하는 투과율, 및, 검출면 내에서 주사선에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광이 광학 필터를 투과하는 투과율 각각은, 검출면 내에서 주사선에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광이 광학 필터를 투과하는 투과율보다도 작다.

Description

방사선 화상 독취 장치
본 발명의 일 측면은, 방사선 화상 독취(讀取, 읽어냄) 장치에 관한 것이다.
방사선 화상이 기록된 기록 매체의 표면에 대해서 여기광(勵起光)을 주사하는 광 주사부와, 여기광의 주사에 의해 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광을 검출하는 광 검출부를 구비하는 방사선 화상 독취 장치가 알려져 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).
특허 문헌 1 : 일본특허공개 제2002－77548호 공보
상술한 바와 같은 방사선 화상 독취 장치에서는, 장치 사이즈의 소형화가 요구되는 경우가 있다. 그렇지만, 장치 사이즈의 소형화를 위해서, 예를 들면, 기록 매체의 표면으로부터의 거리가 작게 되도록 광 검출부가 배치되면, 방사선 화상의 독취 정밀도가 저하되는 경우가 있었다.
그래서, 본 발명의 일 측면은, 장치 사이즈의 소형화 및 방사선 화상의 독취 정밀도의 유지의 양립을 도모할 수 있는 방사선 화상 독취 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 측면에 관한 방사선 화상 독취 장치는, 방사선 화상이 기록된 기록 매체의 표면에 대해서, 주사선(走査線)을 따라서 여기광(勵起光)을 주사하는 광 주사부와, 주사선을 포함하고 또한 기록 매체의 표면과 교차하는 검출면 내에서, 여기광의 주사에 의해 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광을 검출하는 광 검출부와, 기록 매체의 표면과 광 검출부와의 사이에 배치된 광학 필터를 구비하며, 기록 매체의 표면에서 반사된 여기광이 광학 필터를 투과하는 투과율, 및, 검출면 내에서 주사선에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광이 광학 필터를 투과하는 투과율 각각은, 검출면 내에서 주사선에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광이 광학 필터를 투과하는 투과율보다도 작다.
이 방사선 화상 독취 장치에서는, 기록 매체의 표면에서 반사된 여기광이 광학 필터를 투과하는 투과율, 및, 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광이 광학 필터를 투과하는 투과율 각각이, 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광이 광학 필터를 투과하는 투과율보다도 작다. 이것에 의해, 여기광이 광 검출부에 입사하는 것에 기인하여 방사선 화상의 독취 정밀도가 저하되는 것이 억제된다. 또, 장치 사이즈의 소형화를 위해서, 기록 매체의 표면으로부터의 거리가 작게 되도록 광 검출부가 배치되고 또한 주사선에 평행한 방향에서의 광 검출부의 길이가 제한되었다고 해도, 신호광이 발산각(發散角)을 가지는 것에 기인하여 방사선 화상의 독취 정밀도가 저하되는 것이 억제된다. 신호광이 발산각을 가지는 것에 기인하여 방사선 화상의 독취 정밀도가 저하되는 이유는, 다음과 같다. 즉, 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광은 발산각을 가지기 때문에, 장치 사이즈의 소형화를 위해서, 기록 매체의 표면으로부터의 거리가 작게 되도록 광 검출부가 배치되고 또한 주사선에 평행한 방향에서의 광 검출부의 길이가 제한되면, 예를 들면, 주사선의 중앙부에서는 신호광 전부가 광 검출부에 입사하는 것에 대해, 주사선의 양단부에서는 신호광 전부가 광 검출부에 입사하지 않기 때문이다. 즉, 이 방사선 화상 독취 장치에서는, 장치 사이즈의 소형화가 도모되어졌다고 해도, 주사선의 중앙부와 양단부에서, 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광의 검출 범위에 차이가 생기는 것이 억제된다. 이상에 의해, 이 방사선 화상 독취 장치에 의하면, 장치 사이즈의 소형화 및 방사선 화상의 독취 정밀도의 유지의 양립을 도모할 수 있다.
본 발명의 일 측면에 관한 방사선 화상 독취 장치에서는, 검출면 내에서 여기광의 주사 영역과 신호광의 검출 영역이 중앙 맞춤의 위치 관계에 있는 경우에 있어서, 주사 영역의 폭을 W1으로 하고, 검출 영역의 폭을 W2(＞W1)로 하고, 주사 영역과 검출 영역과의 거리를 D로 하며, 소정 각도를 θ로 하면, θ=tan－1{(W2－W1)/2D}가 성립해도 괜찮다. 이 구성에 의하면, 주사선의 중앙부와 양단부에서, 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광의 검출 범위가 동등하게 되기 때문에, 방사선 화상의 독취 정밀도의 저하를 보다 확실히 억제할 수 있다.
본 발명의 일 측면에 관한 방사선 화상 독취 장치에서는, 광학 필터는, 유리판과, 유리판의 일방의 표면에 형성된 제1 유전체 다층막과, 유리판의 타방의 표면에 형성된 제2 유전체 다층막을 가지며, 기록 매체의 표면에서 반사된 여기광이 제1 유전체 다층막 및 제2 유전체 다층막을 투과하는 투과율, 및, 검출면 내에서 주사선에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광이 제1 유전체 다층막 및 제2 유전체 다층막을 투과하는 투과율 각각은, 검출면 내에서 주사선에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광이 제1 유전체 다층막 및 제2 유전체 다층막을 투과하는 투과율보다도 작아도 좋다. 이 구성에 의하면, 상술한 기능을 가지는 광학 필터를 용이하게 또한 확실히 얻을 수 있다.
본 발명의 일 측면에 관한 방사선 화상 독취 장치는, 기록 매체의 표면과 광학 필터와의 사이에 배치되고, 검출면에 수직인 면내만에 대해서, 기록 매체의 표면에서 반사된 여기광 및 기록 매체의 표면으로부터 방출된 신호광을 수렴시키는 기능을 가지는 광학 소자를 더 구비해도 괜찮다. 이 구성에 의하면, 광 검출부로서, 주사선에 평행한 방향을 따라서 배열된 복수의 광 검출 소자를 포함하는 것을 이용할 수 있다.
본 발명의 일 측면에 관한 방사선 화상 독취 장치에서는, 광 검출부는, 주사선에 평행한 방향을 따라서 배열된 복수의 광 검출 소자를 포함하며, 복수의 광 검출 소자는, 1개의 채널로서 제어되어도 괜찮다. 이 구성에 의하면, 보다 간단한 구성으로 방사선 화상을 읽어낼 수 있다.
본 발명의 일 측면에 의하면, 장치 사이즈의 소형화 및 방사선 화상의 독취 정밀도의 유지의 양립을 도모할 수 있는 방사선 화상 독취 장치를 제공하는 것이 가능해진다.
도 1은 일 실시 형태의 방사선 화상 독취 장치의 구성도로서, 방사선 화상 독취시의 도면이다.
도 2는 도 1의 방사선 화상 독취 장치의 일부분의 사시도이다.
도 3은 도 1의 방사선 화상 독취 장치의 광 검출부의 구성도이다.
도 4는 도 1의 방사선 화상 독취 장치의 광학 필터의 구성도이다.
도 5는 도 4의 광학 필터의 일 실시예에 대한 투과율 특성을 나타내는 도면이다.
도 6은 도 1의 방사선 화상 독취 장치의 일부분의 확대도이다.
도 7은 도 1의 방사선 화상 독취 장치의 구성도로서, 방사선 화상 소거시의 도면이다.
도 8은 도 6의 VIII－VIII선을 따른 단면도이다.
도 9는 여기광의 주사 위치에 대한 광의 강도 분포를 나타내는 도면이다.
도 10의 (a) 제1 변형예의 광학 필터의 구성도이고, (b)는 제2 변형예의 광학 필터의 구성도이며, (c)는 제3 변형예의 광학 필터의 구성도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 또, 각 도면에서 동일 또는 상당 부분에는 동일 부호를 부여하여, 중복하는 설명을 생략한다.
도 1에 나타내어지는 바와 같이, 방사선 화상 독취 장치(1)는, 케이스(2)와, 복수의 반송 롤러쌍(3)과, 반입 검지(檢知) 센서(4)와, 광 주사부(5)와, 광학 소자(6)와, 광학 필터(10)와, 광 검출부(7)와, 방사선 화상 소거부(8)를 구비하고 있다. 방사선 화상 독취 장치(1)는, 이미징 플레이트(imaging plate)(기록 매체)(IP)에 기록되어 있는 방사선 화상을 읽어내는 장치이다.
케이스(2)는, 복수의 반송 롤러쌍(3), 반입 검지 센서(4), 광 주사부(5), 광학 소자(6), 광학 필터(10), 광 검출부(7) 및 방사선 화상 소거부(8) 등을 수용하고 있다. 케이스(2)는, 케이스(2)에 수용되어 있는 각 부품을 외부로부터 보호하고 있음과 아울러 외부로부터 차광하고 있다. 케이스(2)에는, 이미징 플레이트(IP)가 반입되는 반입구(2a) 및 이미징 플레이트(IP)가 반출되는 반출구(2b)가 마련되어 있다. 반입구(2a)는, X축 방향에서의 케이스(2)의 일방의 벽부에 마련되어 있다. 반출구(2b)는, X축 방향에서의 케이스(2)의 타방의 벽부에 마련되어 있다.
복수의 반송 롤러쌍(3)은, 서로 이간한 상태에서, X축 방향을 따라서 병설되어 있다. 각 반송 롤러쌍(3)을 구성하는 한 쌍의 롤러(31)는, Y축 방향을 따라서 연장되어 있고, 서로 이간한 상태에서, Z축 방향에서 서로 대향하고 있다. 한 쌍의 롤러(31) 사이의 간극은, 이미징 플레이트(IP)의 두께와 대략 동일하다. 복수의 반송 롤러쌍(3)은, Z축 방향에서, 한 쌍의 롤러(31) 사이의 간극의 위치가 반입구(2a) 및 반출구(2b)의 위치와 대략 동일하게 되도록, 배치되어 있다. 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 이미징 플레이트(IP)는, 반입구(2a)로부터 반입되고, 복수의 반송 롤러쌍(3)에 의해서 X축 방향을 따라서 반송되어, 반출구(2b)로부터 반출된다.
반입 검지 센서(4)는, 케이스(2)의 반입구(2a) 근방에 배치되어 있다. 반입 검지 센서(4)는, 이미징 플레이트(IP)가 반입구(2a)로부터 반입될 때에, 이미징 플레이트(IP)가 반입된 것을 검지한다. 반입 검지 센서(4)로서는, 예를 들면, 기계적 스위치(예를 들면, 오므론제(OMRON製) D2F-01 FL-D3)가 이용되어도 괜찮고, 혹은, 포토 인터럽터 등의 광 검지형 센서가 이용되어도 괜찮다. 또, 광 검지형 센서로부터 발(發)하여진 광이 조사됨으로써, 이미징 플레이트(IP)에 기록된 방사선 화상이 열화할 우려가 있는 것을 고려하면, 기계적 스위치가 이용되는 것이 바람직하다.
도 1 및 도 2에 나타내어지는 바와 같이, 광 주사부(5)는, 여기 광원 유닛(51)과, 위치 조정 미러(52)를 가지고 있다. 여기 광원 유닛(51)은, 여기 광원(미도시)과, MEMS(Micro　Electro　Mechanical　System) 미러(미도시)를 포함하고 있다. 여기 광원 유닛(51)은, Z축 방향에 평행한 축선을 중심선으로 하여 여기광(EL)을 요동시키면서, X축 방향을 따라서 여기광(EL)을 출사한다. 위치 조정 미러(52)는, Y축 방향에 평행한 축선을 중심선으로 하여 반사면의 방향을 조정할 수 있게 구성되어 있다. 위치 조정 미러(52)는, 여기 광원 유닛(51)으로부터 출사된 여기광(EL)을 주사선(L) 상으로 반사한다. 주사선(L)은, 복수의 반송 롤러쌍(3)에 의해서 반송되는 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)(방사선 화상이 기록된 표면) 상에 위치하는 가상선이며, 예를 들면, Y축 방향에 평행한 선이다. 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 광 주사부(5)는, 방사선 화상이 기록된 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에 대해서, 주사선(L)을 따라서 여기광(EL)을 주사한다(즉, 주사선(L)을 따라서 여기광(EL)의 조사 영역(집광 영역)을 왕복 이동시킨다).
광 검출부(7)는, Z축 방향에서 주사선(L)과 대향하도록 배치되어 있다. 광 검출부(7)는, 검출면(S) 내에서, 여기광(EL)의 주사에 의해 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 검출한다. 검출면(S)은, 주사선(L)을 포함하고 또한 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)과 교차하는 가상면이며, 예를 들면, YZ평면에 평행한 면이다.
도 3에 나타내어지는 바와 같이, 광 검출부(7)는, 복수의 포토 다이오드(광 검출 소자)(71)와, 스위치(72)와, 앰프(73)와, A/D 컨버터(74)를 가지고 있다. 광 검출부(7)는, 구체적으로는, MPPC(Multi-Pixel　Photon　Counter)이다. MPPC는, 복수의 포토 다이오드(71)의 픽셀로 이루어지는 포톤 카운팅(photon counting) 디바이스이다. 복수의 포토 다이오드(71)는, Y축 방향(즉, 주사선(L)에 평행한 방향)을 따라서 배열되어 있다. 복수의 포토 다이오드(71)는, 배선(75)을 매개로 하여 1개의 스위치(72)의 일단에 병렬로 접속되어 있다. 스위치(72)의 타단에는, 앰프(73)가 접속되어 있다. 앰프(73)에는, A/D 컨버터(74)가 접속되어 있다. 또, 포토 다이오드(71)에는 상대적으로 극성이 다른 전위가 인가된다. 그 중의 일방의 전위(V2)를 그라운드 전위로 해도 괜찮다.
신호광(FL)이 광 검출부(7)에 입사하면, 각 포토 다이오드(71)는, 입사한 신호광(FL)의 광량에 따라 전기 신호를 출력한다. 각 포토 다이오드(71)로부터 출력된 전기 신호는, 합산되고, 앰프(73) 및 A/D 컨버터(74)를 거쳐, 예를 들면 제어부(미도시)에 출력된다. 즉, 복수의 포토 다이오드(71)는 1개의 채널로서 제어된다.
도 1 및 도 2에 나타내어지는 바와 같이, 광학 필터(10)는, 주사선(L)과 광 검출부(7)와의 사이에 배치되어 있다. 즉, 광학 필터(10)는, 복수의 반송 롤러쌍(3)에 의해서 반송되는 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)과 광 검출부(7)와의 사이에 배치되어 있다. 광학 필터(10)는, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)을 감쇠시킨다. 또, 광학 필터(10)는, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 감쇠시키고, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 투과시킨다. 또, 광학 필터(10)는, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 투과시킨다.
여기서, 「이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)을 감쇠시킨다」라는 것은, 상기 여기광(EL)이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율이 평균에서 50% 미만인 경우를 말한다. 「검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 감쇠시킨다」라는 것은, 상기 신호광(FL)이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율이 평균에서 50% 미만인 경우를 말한다. 「검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 투과시킨다」라는 것은, 상기 신호광(FL)이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율이 평균에서 50% 이상인 경우를 말한다.
도 4에 나타내어지는 바와 같이, 광학 필터(10)는, 유리판(11)과, 제1 유전체 다층막(12)과, 제2 유전체 다층막(13)을 가지고 있다. 유리판(11)은, Z축 방향에서 서로 대향하는 제1 표면(일방의 표면)(11a) 및 제2 표면(타방의 표면)(11b)을 가지고 있다. 제1 표면(11a)은, 유리판(11)에서의 주사선(L)측의 면이다. 제2 표면(11b)은, 유리판(11)에서의 광 검출부(7)측의 면이다. 유리판(11)은, 신호광(FL)을 투과시키는 부재이다. 유리판(11)은, 여기광(EL)에 대해서 흡수성을 가지는 색 유리에 의해서 형성되어 있다. 제1 유전체 다층막(12)은, 제1 표면(11a)에 형성되어 있다. 제2 유전체 다층막(13)은, 제2 표면(11b)에 형성되어 있다. 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13) 각각은, 예를 들면, SiO2 및 Ta2O5가 교호로 적층된 적층체이다. 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13)은, 예를 들면 스퍼터링(sputtering) 또는 증착에 의해서, 유리판(11)의 제1 표면(11a) 및 제2 표면(11b)에 각각 형성된다.
광학 필터(10)에서는, 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13)이, 복수의 반송 롤러쌍(3)에 의해서 반송되는 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL), 및, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 감쇠시키고, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 투과시킨다.
도 5는, 광학 필터(10)의 일 실시예에 대한 투과율 특성을 나타내는 도면이다. 발명자들은, 광학 필터(10)의 일 실시예에 대해서, 여러가지 파장을 가지는 광을 여러가지 각도(검출면(S) 내에서, 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 이루는 각도(여기에서는, 「입사 각도」라고 함))로 광학 필터(10)에 입사시킨 경우에서의 광의 투과율을 조사했다. 도 5에 나타내어지는 바와 같이, 여기광(EL)의 파장에 상당하는 파장 650nm에 대해서는, 입사 각도에 의하지 않고, 투과율이 대략 0으로 되어 있다. 또, 신호광(FL)의 파장에 상당하는 파장 400nm에 대해서는, 입사 각도 0도, 20도, 40도에서는 투과율이 95%를 초과하고 있는 것에 대해, 입사 각도 60도에서는, 투과율이 20%를 하회(下回)했다. 즉, 이 광학 필터(10)의 일 실시예에 의하면, 신호광(FL)의 파장이 400nm인 경우에, 40도보다도 크고 60도보다도 작은 각도를, 상술한 소정 각도로 할 수 있는 것을 알았다.
도 1 및 도 2에 나타내어지는 바와 같이, 광학 소자(6)는, 주사선(L)과 광학 필터(10)와의 사이에 배치되어 있다. 즉, 광학 소자(6)는, 복수의 반송 롤러쌍(3)에 의해서 반송되는 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)과 광학 필터(10)와의 사이에 배치되어 있다.
도 6에 나타내어지는 바와 같이, 광학 소자(6)는, 예를 들면, Y축 방향에 평행한 축선을 중심선으로 하는 원기둥 모양을 나타내는 로드(rod) 렌즈이다. 이것에 의해, 광학 소자(6)는, ZX 평면에 평행한 면 내에서는, 광학 소자(6)에 입사한 여기광(EL) 및 신호광(FL)을, 복수의 포토 다이오드(71)가 배열된 라인 상에 수렴시킨다. 한편으로, 광학 소자(6)는, 검출면(S) 내에서는, 광학 소자(6)에 입사한 여기광(EL) 및 신호광(FL)을 실질적으로 수렴시키지 않고, 복수의 포토 다이오드(71)에 입사시킨다. 즉, 광학 소자(6)는, 검출면(S)에 수직인 면(즉, ZX 평면에 평행한 면) 내만에 대해서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL) 및 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 수렴시키는 기능을 가지고 있다.
도 1 및 도 2에 나타내어지는 바와 같이, 방사선 화상 소거부(8)는, 이미징 플레이트(IP)의 반송 방향에서의 주사선(L)의 하류측에 배치되어 있다. 방사선 화상 소거부(8)는, 예를 들면, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에 백색광을 조사하는 것에 의해, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방사선 화상을 소거한다. 방사선 화상 소거부(8)로서는, 예를 들면, 백색 LED(Light　Emitting　Diode) 등의 백색 램프, 형광등 등이 이용된다.
이상과 같이 구성된 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 이하와 같이, 이미징 플레이트(IP)에 기록된 방사선 화상이 읽어내어진다.
도 1에 나타내어지는 바와 같이, 이미징 플레이트(IP)는, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)이 광 검출부(7)측을 향한 상태에서, 반입구(2a)로부터 케이스(2)의 내부에 반입된다. 이 때, 이미징 플레이트(IP)가 반입되었던 것이 반입 검지 센서(4)에 의해서 검지되고, 반송 롤러쌍(3) 및 광 주사부(5)의 동작이 개시된다. 케이스(2)의 내부에 반입된 이미징 플레이트(IP)는, 반송 롤러쌍(3)에 의해서, X축 방향을 따라서 반송된다. 이미징 플레이트(IP)가 광 검출부(7)에 대향하는 위치로 반송되었을 때, 광 주사부(5)는, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에 대해서, 주사선(L)을 따라서 여기광(EL)을 주사한다. 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에 주사된 여기광(EL)은, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된다. 이것과 동시에, 여기광(EL)에 주사된 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터는, 신호광(FL)이 방출된다. 광 검출부(7)는, 광학 소자(6) 및 광학 필터(10)를 투과한 신호광(FL)을 검출한다. 그리고, 도 7에 나타내어지는 바와 같이, 이미징 플레이트(IP)는, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에 기록된 방사선 화상이 방사선 화상 소거부(8)에 의해 소거된 후, 반출구(2b)로부터 반출된다. 방사선 화상 독취 장치(1)에 의하면, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa) 중 방사선 화상이 기억된 영역의 전체에 여기광(EL)을 조사하고, 상기 영역의 전체에 대해 신호광(FL)을 검출함으로써, 방사선 화상을 형성할 수 있다.
다음으로, 여기광(EL)의 주사 영역과 신호광(FL)의 검출 영역과의 관계에 대해 설명한다.
도 8에 나타내어지는 바와 같이, 검출면(S) 내에서, 여기광(EL)의 주사 영역(R1)의 폭(Y축 방향에서의 폭)은 W1이다. 여기광(EL)의 주사 영역(R1)은, 검출면(S) 내에서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에 여기광(EL)이 주사되는 범위를 말한다. 즉, 검출면(S) 내에서, 여기광(EL)의 주사 영역(R1)의 폭(W1)은, 주사선(L)의 길이와 동일하다. 검출면(S) 내에서, 신호광(FL)의 검출 영역(R2)의 폭(Y축 방향에서의 폭)은 W2이다. 신호광(FL)의 검출 영역(R2)은, 검출면(S) 내에서, 광 검출부(7)가 광을 검출하는 범위를 말한다. 즉, Y축 방향을 따라서 배열된 복수의 포토 다이오드(71)의 검출 영역의 길이와 동일하다. 검출면(S) 내에서, 신호광(FL)의 검출 영역(R2)의 폭(W2)은, 여기광(EL)의 주사 영역(R1)의 폭(W1)보다 길다. 검출면(S) 내에서, 여기광(EL)의 주사 영역(R1)과 신호광(FL)의 검출 영역(R2)은 중앙 맞춤의 위치 관계에 있다. 중앙 맞춤의 위치 관계는, 검출면(S) 내에서, 여기광(EL)의 주사 영역(R1)의 중앙의 위치(Y축 방향에서의 중앙의 위치)와 신호광(FL)의 검출 영역(R2)의 중앙의 위치(Y축 방향에서의 중앙의 위치)가 Y축 방향에서 일치하고 있는 것을 말한다. Z축 방향에서, 여기광(EL)의 주사 영역(R1)과 신호광(FL)의 검출 영역(R2)과의 거리는 D이다. 이 때, 상술한 광학 필터(10)에 대한 소정 각도를 θ로 하면, θ=tan－1{(W2－W1)/2D}가 성립한다.
이상 설명한 바와 같이, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)이 광학 필터(10)에 의해서 감쇠된다. 즉, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)보다도 작은 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL), 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL), 및, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)이, 광학 필터(10)에 의해서 감쇠된다. 이것에 의해, 여기광(EL)이 광 검출부(7)에 입사하는 것에 기인하여 방사선 화상의 독취 정밀도가 저하되는 것이 억제된다. 또, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 소정 각도(θ)보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)이 광학 필터(10)에 의해서 감쇠되고, 소정 각도(θ)보다도 작은 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)이 광학 필터(10)를 투과한다. 이것에 의해, 장치 사이즈의 소형화를 위해서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터의 거리가 작게 되도록 광 검출부(7)가 배치되고 또한 주사선(L)에 평행한 방향에서의 광 검출부(7)의 길이가 제한되었다고 해도, 신호광(FL)이 발산각을 가지는 것에 기인하여 방사선 화상의 독취 정밀도가 저하되는 것이 억제된다. 이상에 의해, 방사선 화상 독취 장치(1)에 의하면, 장치 사이즈의 소형화 및 방사선 화상의 독취 정밀도의 유지의 양립을 도모할 수 있다.
신호광(FL)이 발산각을 가지는 것에 기인하여 방사선 화상의 독취 정밀도가 저하되는 이유는, 다음과 같다. 즉, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)은 발산각을 가지기 때문에, 장치 사이즈의 소형화를 위해서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터의 거리가 작게 되도록 광 검출부(7)가 배치되고 또한 주사선(L)에 평행한 방향에서의 광 검출부(7)의 길이가 제한되면, 예를 들면, 주사선(L)의 중앙부에서는 신호광 전부가 광 검출부(7)에 입사하는 것에 대해, 주사선(L)의 양단부(여기광(EL)의 주사 영역(R1)의 양단부)에서는 신호광(FL) 전부가 광 검출부(7)에 입사하지 않기 때문이다.
구체적으로는, 도 8에 나타내어지는 바와 같이, 검출면(S) 내에서, 예를 들면 주사선(L)의 일단부에서는, 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)보다도 작은 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL2(FL)), 및, 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL1(FL)) 중 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 주사선(L)의 타단부측으로 진행하는 신호광(FL1)은, 광 검출부(7)에 입사한다. 한편으로, 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL1(FL)) 중 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 주사선(L)의 타단부와는 반대측으로 진행하는 신호광(FL1)은, 광 검출부(7)에 입사하지 않는다. 이상에 의해, 주사선(L)의 중앙부와 양단부에서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)의 검출 범위에 차이가 생기게 된다.
상술한 바와 같이, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 광학 필터(10)가, 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL1(FL))을 감쇠시킨다. 즉, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 장치 사이즈의 소형화가 도모되었다고 해도, 주사선(L)의 중앙부와 양단부에서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)의 검출 범위에 차이가 생기는 것이 억제된다.
종래의 방사선 화상 독취 장치에서는, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향을 따라서 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)을 감쇠시키는 유전체 다층막이 여기광 컷 필터로서 채용되는 경우가 있다. 이러한 경우, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)이 충분히 감쇠되지 않는 경우가 있다. 도 9는, 그러한 여기광 컷 필터가 채용된 경우에, Y축 방향에서의 광 검출부(7)의 중앙에 배치되어 있는 포토 다이오드(71)에서 검출된 광의 강도 분포를 나타내는 도면이다. 또, 도 9에는, 여기광(EL)이 주사선(L)을 따라서 복수회 주사되었을 때에서의 광의 강도 분포가 나타내어져 있고, 파선은, 중앙에 배치되어 있는 포토 다이오드(71)에 대향하는 위치(여기광(EL)의 주사 위치)에 상당한다. 이 경우에는, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)이, 광 검출부(7)에 입사한다. 이 때문에, 도 9에 나타내어지는 바와 같이, Y축 방향에서의 광 검출부(7)의 중앙에 배치되어 있는 포토 다이오드(71)에서 검출된 광의 강도 분포는, 여기광(EL)의 주사 위치가 파선으로부터 떨어진 양측에서 증강(增强)된다. 이것에 대해서, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 광학 필터(10)가, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향을 따라서 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL) 뿐만 아니라, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)도 감쇠시킨다. 이것에 의해, Y축 방향에서의 광 검출부(7)의 중앙에 배치되어 있는 포토 다이오드(71)에서 검출된 광의 강도 분포가, 여기광(EL)의 주사 위치가 파선으로부터 떨어진 양측에서 증강되는 것이 억제된다.
또, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 검출면(S) 내에서 여기광(EL)의 주사 영역(R1)과 신호광(FL)의 검출 영역(R2)이 중앙 맞춤의 위치 관계에 있는 경우에 있어서, 주사 영역(R1)의 폭을 W1으로 하고, 검출 영역(R2)의 폭을 W2(＞W1)로 하고, 주사 영역(R1)과 검출 영역(R2)과의 거리를 D로 하며, 소정 각도를 θ로 하면, θ=tan－1{(W2－W1)/2D}가 성립한다. 이 구성에 의하면, 주사선(L)의 중앙부와 양단부에서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)의 검출 범위가 동등하게 되기 때문에, 방사선 화상의 독취 정밀도의 저하를 보다 확실히 억제할 수 있다.
또, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 광학 필터(10)가, 유리판(11)과, 유리판(11)의 제1 표면(11a)에 형성된 제1 유전체 다층막(12)과, 유리판(11)의 제2 표면(11b)에 형성된 제2 유전체 다층막(13)을 가지고 있다. 이 구성에 의하면, 상술한 기능을 가지는 광학 필터(10)를 용이하게 또한 확실히 얻을 수 있다. 예를 들면, 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13)이 다음과 같은 것이면, 광학 필터(10)는, 상술한 기능을 가지게 된다. 즉, 제1 유전체 다층막(12)이, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 대해서 소정 각도(θ)보다도 큰 각도로 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL1(FL)), 및, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 대해서 소정 각도(θ)보다도 작은 각도로 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)을 감쇠시키고, 제2 유전체 다층막(13)이, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 대해서 소정 각도(θ)보다도 큰 각도로 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)을 감쇠시키는 것이면 좋다. 이와 같이, 1종류의 유전체 다층막에서는, 상술한 기능을 가지는 광학 필터(10)를 얻는 것이 곤란한 경우에는, 2종류 이상의 유전체 다층막을 조합시키는 것에 의해서, 상술한 기능을 가지는 광학 필터(10)를 얻을 수 있다. 또, 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13)의 기능은, 상술한 것에 한정되지 않고, 상술한 기능을 가지는 광학 필터(10)를 얻을 수 있으면, 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13) 각각이 감쇠시키는 광의 종류는, 임의로 설정할 수 있다. 또, 유리판(11)은, 여기광(EL)에 대해서 흡수성을 가지는 색 유리에 의해서 형성되어 있기 때문에, 광학 필터(10)의 내부에서 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13)에서 반사된 여기광(EL)이 유리판(11)에 흡수되어, 여기광(EL)이 광 검출부(7)에 입사하는 것이 보다 확실히 억제된다. 또, 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13)을 각각 유리판(11)의 제1 표면(11a) 및 제2 표면(11b)에 안정되게 형성할 수 있다.
또, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 검출면(S)에 수직인 면내만에 대해서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL) 및 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 수렴시키는 기능을 가지는 광학 소자(6)가, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)과 광학 필터(10)와의 사이에 배치되어 있다. 이 구성에 의하면, 광 검출부(7)로서, 주사선(L)에 평행한 방향을 따라서 배열된 복수의 포토 다이오드(71)를 포함하는 것을 이용할 수 있다.
또, 방사선 화상 독취 장치(1)에서는, 광 검출부(7)에서, 주사선(L)에 평행한 방향을 따라서 배열된 복수의 포토 다이오드(71)가, 1개의 채널로서 제어되어 있다. 이 구성에 의하면, 보다 간단한 구성으로 방사선 화상을 읽어낼 수 있다.
이상, 본 발명의 일 실시 형태에 대해 설명했지만, 본 발명의 일 측면은, 상술한 실시 형태에 한정되는 것은 아니다.
상기 실시 형태에서는, 광 검출부(7)에서 복수의 포토 다이오드(71)가 1개의 채널로서 제어되었지만, 복수의 포토 다이오드(71)는, 복수의 채널로서 제어되어도 괜찮다. 복수의 포토 다이오드(71)가 복수의 채널로서 제어됨으로써, 복수의 포토 다이오드(71)가 1개의 채널로서 제어되는 경우에 비해, 노이즈를 감소시킬 수 있다. 또, 복수의 포토 다이오드(71)가 복수의 채널로서 제어되는 경우에는, 여기광(EL)을 주사선(L)을 따라서 주사하지 않고, 여기광(EL)을 주사 영역(R1)의 전체에 조사했다고 해도, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에 기록된 방사선 화상을 읽어낼 수 있다.
또, 상기 실시 형태에서는, 「이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)」이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율이 평균에서 50% 미만이며, 「검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)」이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율이 평균에서 50% 미만이며, 「검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)」이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율이 평균에서 50% 이상이었지만, 각 투과율의 값은 이들에 한정되지 않는다. 「이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL)」이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율(예를 들면, 평균에서의 투과율), 및, 「검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)」이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율(예를 들면, 평균에서의 투과율) 각각이, 「검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)」이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율(예를 들면, 평균에서의 투과율)보다도 작으면, 장치 사이즈의 소형화 및 방사선 화상의 독취 정밀도의 유지의 양립을 도모할 수 있다. 다만, 여기광(EL)은, 신호광(FL)보다도 강도가 강한 것이 일반적이기 때문에, 여기광(EL)이 광학 필터(10)를 투과하는 투과율은, 평균에서 1% 미만인 것이 바람직하다.
또, 상기 실시 형태에서는, 광학 소자(6)가 원기둥 모양을 나타내고 있었지만, 광학 소자(6)는, 검출면(S)에 수직인 면내만에 대해서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 수렴시키는 기능을 가지는 것이면, 그 형상은 상관없다. 또, 광학 소자(6), 광학 필터(10) 및 광 검출부(7)는, 서로 접촉하고 있어도 괜찮고(도 6 참조), 혹은, 서로 이간하고 있어도 괜찮다.
또, 도 10의 (a)에 나타내어지는 바와 같이, 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13) 양쪽 모두가 유리판(11)의 제2 표면(11b)에 형성되어 있어도 괜찮다. 구체적으로는, 제1 유전체 다층막(12)이, 유리판(11)의 제2 표면(11b)에 형성되어 있고, 제2 유전체 다층막(13)이, 제1 유전체 다층막(12)의 표면에 형성되어 있어도 괜찮다. 또, 제2 유전체 다층막(13)이, 유리판(11)의 제2 표면(11b)에 형성되어 있고, 제1 유전체 다층막(12)이, 제2 유전체 다층막(13)의 표면에 형성되어 있어도 괜찮다.
또, 도 10의 (b)에 나타내어지는 바와 같이, 광학 필터(10)가, 복수의 유리판(11)을 가지고 있어도 괜찮다. 이 경우, 일방의 유리판(11)의 표면(11a)에, 제1 유전체 다층막(12)이 형성되어 있고, 타방의 유리판(11)의 표면(11b)에, 제2 유전체 다층막(13)이 형성되어 있다. 그리고, 복수의 유리판(11)이, 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13)에 의해 사이에 끼워지도록 서로 접속되어 있다. 또, 도 10의 (c)에 나타내어지는 바와 같이, 제1 유전체 다층막(12) 및 제2 유전체 다층막(13)이, 유리판(11) 사이에 끼워지도록 서로 접속되어 있어도 괜찮다.
또, 상기 실시 형태에서는, 광학 필터(10)가, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 투과시켰지만, 광학 필터(10)는, 검출면(S) 내에서 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL)을 감쇠시켜도 괜찮다.
또, 상기 실시 형태에서는, 광학 필터(10)에 대해서, θ=tan－1{(W2－W1)/2D}가 성립했지만, 광학 필터(10)는, 검출면(S) 내에서, 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)에서 반사된 여기광(EL), 및 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 소정 각도(θ)보다도 큰 각도를 이루어 이미징 플레이트(IP)의 표면(IPa)으로부터 방출된 신호광(FL1(FL))을 감쇠시키는 것이 가능하면 좋고, 소정 각도(θ)의 크기는 필요에 따라서 설정할 수 있다. 또, 소정 각도(θ)는, 작으면 작을수록, 방사선 화상의 독취 정밀도가 저하되는 것이 억제된다.
또, 검출면(S) 내에서, 여기광(EL)의 주사 영역(R1)과 신호광(FL)의 검출 영역(R2)이 중앙 맞춤의 위치 관계에 있는지 아닌지에 관계없이, 소정 각도(θ)는, 다음과 같이 파악할 수 있다. 도 8을 참조하면, 소정 각도(θ)는, 검출면(S) 내에서, 주사 영역(R1)의 일단(Y축 방향에서의 일방측의 단부)과 검출 영역(R2)의 일단(Y축 방향에서의 일방측의 단부)을 연결하는 가상선이, 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 이루는 각도로 파악할 수 있다. 또는, 소정 각도(θ)는, 검출면(S) 내에서, 주사 영역(R1)의 타단(Y축 방향에서의 타방측의 단부)과 검출 영역(R2)의 타단(Y축 방향에서의 타방측의 단부)을 연결하는 가상선이, 주사선(L)에 수직인 방향에 대해서 이루는 각도로 파악할 수 있다. 또, 여기광(EL)의 주사 영역(R1)과 신호광(FL)의 검출 영역(R2)이 중앙 맞춤의 위치 관계에 없는 경우에는, 일방측과 타방측에서 소정 각도(θ)가 다르게 되지만, 그 경우에는, 방사선 화상의 독취 정밀도의 유지를 도모하는 관점으로부터, 일방측의 소정 각도(θ) 및 타방측의 소정 각도(θ) 중 작은 쪽의 소정 각도(θ)를 채용하는 것이 바람직하다.
또, 상기 실시 형태에서는, 광 검출부(7)에서, 복수의 포토 다이오드(71)가, Y축 방향을 따라서 1차원으로 배열되어 있었지만, 복수의 포토 다이오드(71)가, XY평면과 평행한 면 내에서 2차원으로 배열되어 있어도 괜찮다.
1 - 방사선 화상 독취 장치 5 - 광 주사부
10 - 광학 필터 11 - 유리판
11a - 제1 표면 11b - 제2 표면
12 - 제1 유전체 다층막 13 - 제2 유전체 다층막
6 - 광학 소자 7 - 광 검출부
71 - 포토 다이오드(광 검출 소자) EL - 여기광
FL - 신호광
IP - 이미징 플레이트(기록 매체)
IPa - 이미징 플레이트의 표면
L - 주사선 R1 - 주사 영역
R2 - 검출 영역 S - 검출면
W1 - 주사 영역의 폭 W2 - 검출 영역의 폭
D - 주사 영역과 검출 영역과의 거리 θ - 소정 각도

Claims (5)

  1. 방사선 화상이 기록된 기록 매체의 표면에 대해서, 주사선(走査線)을 따라서 여기광(勵起光)을 주사하는 광 주사부와,
    상기 주사선을 포함하고 또한 상기 기록 매체의 상기 표면과 교차하는 검출면 내에서, 상기 여기광의 주사에 의해 상기 기록 매체의 상기 표면으로부터 방출된 신호광을 검출하는 광 검출부와,
    상기 기록 매체의 상기 표면과 상기 광 검출부와의 사이에 배치된 광학 필터를 구비하며,
    상기 기록 매체의 상기 표면에서 반사된 상기 여기광이 상기 광학 필터를 투과하는 투과율, 및, 상기 검출면 내에서 상기 주사선에 수직인 방향에 대해서 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 상기 기록 매체의 상기 표면으로부터 방출된 상기 신호광이 상기 광학 필터를 투과하는 투과율 각각은, 상기 검출면 내에서 상기 주사선에 수직인 방향에 대해서 상기 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 상기 기록 매체의 상기 표면으로부터 방출된 상기 신호광이 상기 광학 필터를 투과하는 투과율보다도 작고,
    상기 검출면 내에서 상기 여기광의 주사 영역과 상기 신호광의 검출 영역이 중앙 맞춤의 위치 관계에 있는 경우에 있어서, 상기 주사 영역의 폭을 W1으로 하고, 상기 검출 영역의 폭을 W2(＞W1)로 하고, 상기 주사 영역과 상기 검출 영역과의 거리를 D로 하며, 상기 소정 각도를 θ로 하면,
    θ=tan－1{(W2－W1)/2D}가 성립하는 방사선 화상 독취 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 광학 필터는,
    유리판과,
    상기 유리판의 일방의 표면에 형성된 제1 유전체 다층막과,
    상기 유리판의 타방의 표면에 형성된 제2 유전체 다층막을 가지며,
    상기 기록 매체의 상기 표면에서 반사된 상기 여기광이 상기 제1 유전체 다층막 및 상기 제2 유전체 다층막을 투과하는 투과율, 및, 상기 검출면 내에서 상기 주사선에 수직인 방향에 대해서 상기 소정 각도보다도 큰 각도를 이루어 상기 기록 매체의 상기 표면으로부터 방출된 상기 신호광이 상기 제1 유전체 다층막 및 상기 제2 유전체 다층막을 투과하는 투과율 각각은, 상기 검출면 내에서 상기 주사선에 수직인 방향에 대해서 상기 소정 각도보다도 작은 각도를 이루어 상기 기록 매체의 상기 표면으로부터 방출된 상기 신호광이 상기 제1 유전체 다층막 및 상기 제2 유전체 다층막을 투과하는 투과율보다도 작은 방사선 화상 독취 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 기록 매체의 상기 표면과 상기 광학 필터와의 사이에 배치되고, 상기 검출면에 수직인 면 내만에 대해서, 상기 기록 매체의 상기 표면에서 반사된 상기 여기광 및 상기 기록 매체의 상기 표면으로부터 방출된 상기 신호광을 수렴시키는 기능을 가지는 광학 소자를 더 구비하는 방사선 화상 독취 장치.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 광 검출부는, 상기 주사선에 평행한 방향을 따라서 배열된 복수의 광 검출 소자를 포함하며,
    복수의 상기 광 검출 소자는, 1개의 채널로서 제어되는 방사선 화상 독취 장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 광 검출부는, 상기 주사선에 평행한 방향을 따라서 배열된 복수의 광 검출 소자를 포함하며,
    복수의 상기 광 검출 소자는, 1개의 채널로서 제어되는 방사선 화상 독취 장치.
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