KR102401424B1 - Cavity Printed Circuit Board Manufacturing Method Using Sand Blast - Google Patents

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KR102401424B1 KR1020200131130A KR20200131130A KR102401424B1 KR 102401424 B1 KR102401424 B1 KR 102401424B1 KR 1020200131130 A KR1020200131130 A KR 1020200131130A KR 20200131130 A KR20200131130 A KR 20200131130A KR 102401424 B1 KR102401424 B1 KR 102401424B1
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Abstract

본 발명은 샌드 블라스트 방식을 적용하여 한 변의 길이가 3 mm 이하, 깊이가 300 μm 이상인 캐비티를 균일하게 낮은 생산비용으로 제조하는 제조방법 및 이를 통해서 제조된 캐비티를 포함하는 인쇄회로기판을 제공한다.The present invention provides a manufacturing method for uniformly manufacturing a cavity having a side length of 3 mm or less and a depth of 300 μm or more at a low production cost by applying a sandblasting method, and a printed circuit board including the cavity manufactured through the same.

Description

샌드 블라스트를 이용한 캐비티 인쇄회로기판 제조방법{Cavity Printed Circuit Board Manufacturing Method Using Sand Blast}Cavity Printed Circuit Board Manufacturing Method Using Sand Blast

본 발명은 샌드 블라스트를 이용한 캐비티 인쇄회로기판의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된 캐비티 인쇄회로기판에 관한 것이다. 본 발명을 통해 한꺼번에 낮은 생산비용으로 캐비티를 효율적으로 제조할 수 있다.The present invention relates to a method for manufacturing a cavity printed circuit board using sand blasting and to a cavity printed circuit board manufactured by the manufacturing method. Through the present invention, it is possible to efficiently manufacture the cavity at once at a low production cost.

최근, 전자산업의 발달에 따라 전자부품의 고기능화, 소형화 요구가 점차 늘어나는 추세이고, 이에 따라 인쇄회로기판(PCB: Printed Circuit Board) 분야도 미세화, 박막화 및 다기능화 등에 대한 수요가 높아지고 있다. Recently, with the development of the electronic industry, the demand for high functionalization and miniaturization of electronic components is gradually increasing, and accordingly, the printed circuit board (PCB) field is also in increasing demand for miniaturization, thin film and multifunctionalization.

이러한 요구를 충족시키기 위하여 다양한 PCB 구조나 다양한 공법의 개발이 진행되고 있다. 대표적인 예로서, 코어리스(coreless) 구조나 내장 트레이스 기판(ETS: Embedded Trace Substrate) 구조를 들 수 있다.In order to meet these needs, various PCB structures or various methods are being developed. Representative examples include a coreless structure or an Embedded Trace Substrate (ETS) structure.

내장 트레이스 기판 구조는 표면 실장하던 IC와 같은 능동부품(active devices) 또는 MLCC형태의 커패시터 등 수동부품(passive devices)을 인쇄회로기판의 내부에 실장하는 구조이다.The built-in trace board structure is a structure in which active devices such as surface-mounted ICs or passive devices such as MLCC-type capacitors are mounted inside the printed circuit board.

통상, 내장 트레이스 기판 구조는 패턴이 형성된 기판 위에 접착제를 도포하고 접착제 위에 전자 소자를 배치하며, 전자 소자 크기 정도의 캐비티가 형성된 프리프레그를 따로 준비한 다음, 이를 상기 전자 소자가 배치된 기판 위에 적층하는 방식으로 제조되고 있다.In general, the built-in trace substrate structure includes applying an adhesive on a substrate on which a pattern is formed, placing an electronic device on the adhesive, separately preparing a prepreg having a cavity about the size of an electronic device, and then laminating it on the substrate on which the electronic device is disposed. method is manufactured.

내장 트레이스 기판 구조는 기존의 PCB 구조에 비하여 표면에 여유공간을 확보할 수 있고, 배선 밀도를 높일 수 있다.Compared to the conventional PCB structure, the built-in trace board structure can secure a free space on the surface and increase the wiring density.

또한, 소자가 수직방향으로 연결되므로 배선 길이가 크게 감소되어 고주파 신호를 사용하는 전자기기에서 기생효과(parasitic effect)에 의한 임피던스 발생 및 신호지연 등의 문제를 줄이는 효과가 있다.In addition, since the devices are connected in the vertical direction, the wiring length is greatly reduced, thereby reducing problems such as impedance generation and signal delay due to a parasitic effect in an electronic device using a high-frequency signal.

내장 트레이스 기판 구조는 여러 장점을 가지고 있지만, 해결되어야 할 단점들 또한 가지고 있다.Although the embedded trace substrate structure has several advantages, it also has disadvantages that need to be addressed.

예를 들어, 캐비티와 전자 소자의 정렬이 다른 공정의 일반적인 정렬보다 어렵고, 도금 관통홀(Plated Through Hole, PTH)과 블라인드 비아홀(Blind Via Hole, BVH)간의 깊이 차이에 따라 PTH 내부에 심각한 보이드(void)가 발생할 수 있으며, 접착제 도포시 동 패턴의 밀집도와 접착제의 유동성에 기인하여 보이드가 생길 수 있다. 발생한 보이드는 신뢰성 평가시 크랙의 주요 원인이 된다.For example, the alignment of the cavity and electronic device is more difficult than the general alignment of other processes, and due to the difference in depth between the Plated Through Hole (PTH) and the Blind Via Hole (BVH), serious voids ( void) may occur, and voids may occur due to the density of the copper pattern and the fluidity of the adhesive when applying the adhesive. The generated void is a major cause of cracks in reliability evaluation.

이외에도 휨(warpage)의 발생, 복잡한 구조 설계, 복잡한 공정으로 인한 제조 비용의 상승 등의 단점들도 가지고 있다.In addition, it also has disadvantages such as occurrence of warpage, complex structural design, and increase in manufacturing cost due to complex processes.

이에 최근 복잡한 공정없이 내장 트레이스 기판 구조를 구현하기 위한 연구가 관심을 받고 있다.Accordingly, research to implement a built-in trace substrate structure without a complicated process has recently been attracting attention.

내장 트레이스 기판 구조를 구현하기 위한 캐비티(cavity) 인쇄회로기판(Printed Circuit Board, PCB)는 부품이 실장되는 부위에 단차를 만든 기판으로, 두꺼운 부품을 실장했을 때에도 전체 두께를 낮출 수 있다.A cavity printed circuit board (PCB) for implementing a built-in trace board structure is a board with a step difference in the part where components are mounted, and the overall thickness can be lowered even when thick components are mounted.

최근 반도체용 패키지 기판의 캐비티 내에 반도체 또는 부품을 삽입 조립하여 기판의 최종 두께를 박판화하고, 회로 길이를 감소시켜 신호전달 속도를 높이고, 방열효과도 개선함과 동시에, 회로집적도도 증가시켜야 하므로, 캐비티 인쇄회로기판이 활발히 연구되고 있다.Recently, by inserting and assembling semiconductors or components into the cavity of the semiconductor package substrate, the final thickness of the substrate is thinned, the signal transmission speed is increased by reducing the circuit length, the heat dissipation effect is improved, and the circuit density must be increased. Printed circuit boards are being actively studied.

종래 캐비티 인쇄회로기판의 제조 방법으로는 기계적 라우팅(routing) 방식, 레이저 드릴 방식, 필컷(fill-cut) 방식, 프리프레그(prepreg) 윈도우 가공 접합 방식 등이 알려져 있다.Conventionally, as a method of manufacturing a cavity printed circuit board, a mechanical routing method, a laser drill method, a fill-cut method, a prepreg window processing bonding method, and the like are known.

먼저, 기계적 라우팅 방식은 기계적인 라우터(router)를 사용해서 캐비티를 가공하는 방식이고, 레이저 드릴 방식은 기판 내 캐비티를 형성하고자 하는 공간을 레이저로 태워서(ablation) 제거하는 방식이다.First, the mechanical routing method is a method of processing a cavity using a mechanical router, and the laser drilling method is a method of removing a space to be formed in a substrate by ablation with a laser.

또한, 필컷 방식은 기판 내 캐비티를 형성하고자 하는 공간을 폴리이미드 테이프, 양면테이프 또는 이형잉크와 같은 이형필름(release film)을 피복한 후 레이저로 컷팅을 하고 벗겨내어 캐비티를 제작하는 방식이고, 프리프레그 윈도우 가공 접합 방식은 캐비티가 형성될 영역에 미리 펀치 가공한 프리프레그를 붙이는 방식이다.In addition, the peel-cut method is a method of manufacturing a cavity by coating a release film such as polyimide tape, double-sided tape or release ink in the space where the cavity is to be formed in the substrate, then cutting it with a laser and peeling it off, The leg window processing bonding method is a method of attaching a prepreg punched in advance to the area where the cavity is to be formed.

이러한 종래의 캐비티 인쇄회로기판의 제조방법은 각각 장점이 있으나, 효율적인 캐비티의 제조를 위해서는 다음과 같은 해결해야 할 문제점이 있다.Although each of these conventional methods of manufacturing a cavity printed circuit board has advantages, there are problems to be solved as follows in order to efficiently manufacture the cavity.

(1) 기계적 라우팅 방식: 캐비티의 두께 깊이 제어가 매우 정밀해야 하며, 바닥면 회로 또는 아래 다른 층의 기계적 손상이 발생할 수 있는 위험을 내재하고 있다.(1) Mechanical routing method: The thickness and depth control of the cavity must be very precise, and there is an inherent risk of mechanical damage to the floor circuit or other layers below.

(2) 레이저 드릴 방식: 제조하고자 하는 캐비티의 공간의 크기에 따라 레이저 가공시간이 길어지고, 캐비티의 공간 깊이의 한계가 있으며, 생산성이 낮고, 바닥면에 회로를 형성시킬 수 없다.(2) Laser drilling method: Depending on the size of the cavity to be manufactured, the laser processing time is long, the space depth of the cavity is limited, the productivity is low, and a circuit cannot be formed on the bottom surface.

(3) 필컷 방식: 이형필름의 정확한 위치 정합이 요구되고, 반복자동 또는 수작업 공수가 많이 소요되며, 이형필름 두께에 제한이 있고, 적층시 밀림이 발생할 수 있으며, 레이저 가공시 캐비티 바닥면의 양 끝단에 손상이 발생할 수 있다.(3) Peel-cut method: Precise positioning of the release film is required, repetitive automatic or manual labor is required, the thickness of the release film is limited, and slippage may occur during lamination, and the amount of cavity bottom during laser processing Damage to the tip may occur.

(4) 프리프레그 윈도우 가공 접합 방식: 가공시 발생된 더스트(dust)가 적층 성형에서 불량을 유발할 수 있고, 재료의 수축/팽창으로 미세 위치 정합도가 요구되는 패키지 기판에 적용하기 어려우며, 접합제 프리프레그의 레진 유동성을 항상 관리해야 한다.(4) Prepreg window processing bonding method: Dust generated during processing may cause defects in laminate molding, and it is difficult to apply to package substrates that require fine positioning due to material shrinkage/expansion, and bonding agent The resin fluidity of the prepreg must be maintained at all times.

특히, 캐비티 인쇄회로기판 제조에 가장 많이 사용되고 있는 CO2 레이저 드릴 방식의 경우, 상술한 기술적 한계와 더불어 캐비티의 수가 증가할수록 고가의 장비 증설도 필요하여, 생산 비용이 매우 높은 실정이다.In particular, in the case of the CO 2 laser drilling method, which is most often used in the manufacture of cavity printed circuit boards, as the number of cavities increases in addition to the above-described technical limitations, expensive equipment expansion is also required, resulting in a very high production cost.

상기와 같은 기존 캐비티 인쇄회로기판 제조방법의 문제점을 해결하기 위해서 새로운 방식의 캐비티 인쇄회로기판 제조방법이 요구되고 있다. 특히, 생산 비용이 낮으면서도, 종래의 캐비티보다 크기가 작고, 깊은 균일한 캐비티를 제조하기 위한 캐비티 인쇄회로기판 제조방법이 필요한 실정이다.In order to solve the problems of the existing method for manufacturing a cavity printed circuit board as described above, a new method of manufacturing a cavity printed circuit board is required. In particular, there is a need for a cavity printed circuit board manufacturing method for manufacturing a deep uniform cavity, which is smaller in size than a conventional cavity, and has a low production cost.

1. 대한민국 등록특허 제10-2092816호1. Republic of Korea Patent No. 10-2092816 2. 대한민국 등록특허 제10-1750836호2. Republic of Korea Patent No. 10-1750836

이에 상기와 같은 문제를 해결하고자, 본 발명은 샌드 블라스트(sand blast) 방식을 적용한 캐비티 인쇄회로 기판 제조방법을 제공하는데 목적이 있다. 특히, 샌드 블라스트 방식을 적용하여 종래 캐비티 인쇄회로기판 제조방법으로는 제조할 수 없었던 한 변의 길이가 3 mm 이하, 깊이가 300 μm 이상인 균일한 형태의 캐비티를 한꺼번에 낮은 생산비용으로 제조하는데 목적이 있다.Accordingly, in order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a cavity printed circuit board to which a sand blast method is applied. In particular, by applying the sandblasting method, a cavity with a uniform shape with a side length of 3 mm or less and a depth of 300 μm or more, which could not be manufactured by the conventional cavity printed circuit board manufacturing method, can be manufactured at a low production cost at once. .

본 발명의 일 측면에 따르면, 인쇄회로기판에 제 1 제품 진행 속도로 제 1 샌드 블라스트 처리를 하는 제 1 단계; 및According to an aspect of the present invention, a first step of performing a first sand blasting treatment on a printed circuit board at a first product advancing speed; and

상기 제 1 제품진행 속도의 1.5배 이상인 제 2 제품 진행 속도로 추가로 제 2 샌드 블라스트 처리를 하는 제 2 단계;를 포함하는Including;

캐비티 인쇄회로기판의 제조방법을 제공한다.A method for manufacturing a cavity printed circuit board is provided.

상기 제 1 샌드 블라스트 처리 또는 상기 제 2 샌드 블라스트 처리의 분사압력이 4 kgf 이상일 수 있다.The injection pressure of the first sand blasting treatment or the second sand blasting treatment may be 4 kgf or more.

또한, 상기 상기 제 1 제품 진행 속도가 20 mm/min 이상일 수 있다.In addition, the first product advancing speed may be 20 mm/min or more.

그밖에, 상기 제 1 단계를 3회 이상 반복하고, 상기 제 2 단계를 2회 이상 반복할 수 있다.In addition, the first step may be repeated three or more times, and the second step may be repeated two or more times.

한편, 상기 캐비티의 깊이가 250 μm 이상이고, 한 변의 길이가 4 mm 이하일 수 있다.Meanwhile, the depth of the cavity may be 250 μm or more, and the length of one side may be 4 mm or less.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기 캐비티 인쇄회로기판의 제조방법에 의해서 제조된, 캐비티 인쇄회로기판을 제공한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a cavity printed circuit board manufactured by the method for manufacturing the cavity printed circuit board.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 깊이가 250 μm 이상이고, 한 변의 길이가 4 mm 이하인 캐비티가 형성된, 캐비티 인쇄회로기판을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a cavity printed circuit board in which a cavity having a depth of 250 μm or more and a side length of 4 mm or less is formed.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상기 캐비티 인쇄회로기판을 포함하는 전자부품을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided an electronic component including the cavity printed circuit board.

이러한 측면들에 따라 앞선 종래의 문제가 해결될 수 있으며, 이에 본 발명은 이의 구체적 실시예를 제공하는데 실질적인 목적이 있다.According to these aspects, the problems of the prior art can be solved, and the present invention has a practical object to provide specific embodiments thereof.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 샌드 블라스트 방식에 의한 캐비티 인쇄회로기판의 제조방법 및 이에 의해 제조된 캐비티 인쇄회로기판을 제공하고, 상기 제조방법은 가공 시간을 단축시킬 수 있고, 공정 비용을 대폭 저감시킬 수 있다.As described above, the present invention provides a method for manufacturing a cavity printed circuit board by a sand blast method and a cavity printed circuit board manufactured thereby, and the manufacturing method can shorten the processing time and significantly reduce the process cost. can be reduced.

또한, 캐비티의 설계 자유도가 높으므로, 캐비티에 실장되는 부품 크기의 제한을 크게 낮추고, 인쇄회로 기판의 최종 두께도 매우 얇게 할 수 있다.In addition, since the degree of freedom in designing the cavity is high, it is possible to greatly reduce the size of the component mounted in the cavity and make the final thickness of the printed circuit board very thin.

도 1은 본 발명의 샌드 블라스트 처리가 적용된 기판의 단면 사진이다.
도 2은 샌드 브라스트 처리의 분사 압력 및 제품 진행 속도에 따른 캐비티의 크기(한 변의 길이) 및 깊이의 변화를 나타낸 그래프이다.
도 3은 샌드 브라스트 처리의 분사 압력이 4 kgf일 때, 제품 진행 속도에 따른 캐비티의 깊이의 변화를 나타낸 그래프이다.
도 4는 본 발명의 샌드 블라스트 처리를 위한 샌드 블라스트 장비의 사진이다.
도 5는 본 발명의 실시예 및 비교예에 의해서 제조된 캐비티의 광학 현미경 사진이다(왼쪽부터 오른쪽 순서로 캐비티의 한 변의 길이가 1.0 mm, 1.5 mm, 2.0 mm, 2.5 mm 및 3.0 mm이다).
도 6는 본 발명의 실시예 1(도 6a), 실시예 2(도 6b) 및 실시예 3(도 6c)에 의해서 제조된 캐비티 단면의 광학 현미경 사진이다.
1 is a cross-sectional photograph of a substrate to which a sand blasting process of the present invention is applied.
2 is a graph showing changes in the size (length of one side) and depth of a cavity according to the injection pressure and product progress speed of sand blasting.
3 is a graph showing the change in the depth of the cavity according to the product progress speed when the injection pressure of the sand blasting treatment is 4 kgf.
Figure 4 is a photograph of the sand blasting equipment for the sand blasting process of the present invention.
5 is an optical micrograph of the cavity prepared in Examples and Comparative Examples of the present invention (in order from left to right, the length of one side of the cavity is 1.0 mm, 1.5 mm, 2.0 mm, 2.5 mm, and 3.0 mm).
6 is an optical micrograph of a cavity cross section prepared according to Example 1 (FIG. 6A), Example 2 (FIG. 6B), and Example 3 (FIG. 6C) of the present invention.

이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 발명의 실시 형태를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Prior to this, the terms or words used in the present specification and claims should not be construed as being limited to conventional or dictionary meanings, and the inventor should properly understand the concept of the term in order to best describe his invention. Based on the principle that it can be defined, it should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

따라서, 본 명세서에 기재된 실시예의 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.Accordingly, since the configuration of the embodiments described in the present specification is only one of the most preferred embodiments of the present invention and does not represent all the technical spirit of the present invention, various equivalents and modifications that can be substituted for them at the time of the present application It should be understood that examples may exist.

본 명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다", "구비하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 실시된 특징, 숫자, 단계, 구성 요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 구성 요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this specification, the singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present specification, terms such as "comprise", "comprising" or "have" are intended to designate the existence of an embodied feature, number, step, element, or a combination thereof, but one or more other features or It should be understood that the existence or addition of numbers, steps, elements, or combinations thereof, is not precluded in advance.

본 명세서에서 다양한 파라미터가 범위, 바람직한 범위 또는 바람직한 상한 값 및 바람직한 하한 값의 열거로서 주어지는 경우, 범위가 별도로 개시되는 지에 상관없이 임의의 한 쌍의 임의의 위쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값 및 임의의 아래쪽 범위 한계치 또는 바람직한 값으로 형성된 모든 범위를 구체적으로 개시하는 것으로 이해되어야 한다.Where various parameters are given herein as ranges, preferred ranges, or enumerations of upper preferred and lower preferred values, any pair of any upper range limit or preferred value and any lower range, regardless of whether ranges are separately disclosed. It is to be understood that all ranges formed of limits or preferred values are specifically disclosed.

수치 값의 범위가 본 명세서에서 언급될 경우, 달리 기술되지 않는다면, 그 범위는 그 종점 및 그 범위 내의 모든 정수와 분수를 포함하는 것으로 의도된다. 본 발명의 범주는 범위를 정의할 때 언급되는 특정 값으로 한정되지 않는 것으로 의도된다.When a range of numerical values is recited herein, unless otherwise stated, the range is intended to include the endpoint and all integers and fractions within the range. It is intended that the scope of the invention not be limited to the particular values recited when defining the ranges.

본 발명에 따른 캐비티 인쇄회로기판의 제조방법은 인쇄회로기판에 제1 제품 진행 속도로 제 1 샌드 블라스트 처리를 하는 제 1 단계; 및A method of manufacturing a cavity printed circuit board according to the present invention comprises: a first step of performing a first sand blasting treatment on the printed circuit board at a first product advancing speed; and

상기 제 1 제품 진행 속도의 1.5배 이상인 제 2 제품 진행 속도로 추가로 제 2 샌드 블라스트 처리를 하는 제 2 단계;를 포함한다.and a second step of additionally performing a second sandblasting treatment at a second product progress rate that is 1.5 times or more of the first product progress rate.

바람직하게는 상기 제 2 제품 진행 속도는 상기 제 1 제품 진행 속도의 2배 이상일 수 있다.Preferably, the second product progress rate may be at least twice the first product progress rate.

샌드 블라스트 처리를 하기 위한 인쇄회로기판은 적층, 정면, 밀착, 노광, 현상, 베이킹 및 에칭 처리를 순차적으로 진행하여 준비할 수 있다.A printed circuit board for sandblasting may be prepared by sequentially performing lamination, frontal, adhesion, exposure, development, baking, and etching processes.

먼저, 적층 단계에서는 구리 클래드 적층체(copper clad laminate, CCL)의 양 측면에 프리프레그층(prepreg, PP) 및 구리 필름(copper film, CF) 층을 각각 순차적으로 적층한다.First, in the lamination step, a prepreg layer (PP) and a copper film (CF) layer are sequentially laminated on both sides of a copper clad laminate (CCL), respectively.

프리프레그층은 샌드 블라스트 처리를 통해서 형성되는 캐비티의 깊이를 고려하여, 두께 및 층수를 정할 수 있다.The thickness and number of prepreg layers may be determined in consideration of the depth of the cavity formed through sand blasting.

예를 들어, 인쇄회로기판에 300 μm의 깊이를 가지는 캐비티를 샌드 블라스트 처리를 위해서 형성하기 위해서는, CCL의 한 측면에 적층되는 프리프레그의 두께를 캐비티의 두께와 되도록 일치할 수 있도록 하여야 하고, 이러한 두께를 가질 수 있는 프리프레그의 층수를 선택할 수 있다.For example, in order to form a cavity having a depth of 300 μm in a printed circuit board for sandblasting, the thickness of the prepreg laminated on one side of the CCL should be matched to the thickness of the cavity. The number of layers of prepreg that can have a thickness can be selected.

즉, 300 μm의 깊이를 가지는 캐비티의 형성을 위해서는 약 300 μm 두께의 프리프레그층을, 350 μm의 깊이를 가지는 캐비티의 형성을 위해서는 약 350μm 두께의 프리프레그층을, 400 μm의 깊이를 가지는 캐비티의 형성을 위해서는 약 400 μm 두께의 프리프레그층을, 450 μm의 깊이를 가지는 캐비티의 형성을 위해서는 약 450 μm 두께의 프리프레그층을 형성할 수 있다.That is, a prepreg layer with a thickness of about 300 μm is used to form a cavity having a depth of 300 μm, a prepreg layer having a thickness of about 350 μm is used to form a cavity having a depth of 350 μm, and a cavity having a depth of 400 μm. A prepreg layer having a thickness of about 400 μm may be formed for the formation of , and a prepreg layer having a thickness of about 450 μm may be formed to form a cavity having a depth of 450 μm.

또한, 도 1에 나타낸 바와 같이 구리 필름층은 상면부터 하면으로 순서대로 층의 순서를 정하는데 예를 들어, 상면의 구리 필름층부터 CCL의 양면에 형성된 구리 필름층, 하면의 구리 필름층 4층의 구리 필름층이 있는 경우, 상면의 구리 필름층부터 하면이 구리 필름층까지 순서대로 1층부터 4층으로 구리 필름층의 순서를 정할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 1, the copper film layer determines the order of the layers in order from the top surface to the bottom surface. If there is a copper film layer, the order of the copper film layer can be determined from the first layer to the fourth layer in order from the copper film layer on the upper surface to the copper film layer on the lower surface.

예를 들어, 300 μm의 깊이를 가지는 캐비티의 형성을 위해서는 약 300 μm 두께의 1층 구리 필름층과 2층 구리 필름층 사이의 프리프레그층을, 350 μm의 깊이를 가지는 캐비티의 형성을 위해서는 약 350μm 두께의 1층 구리 필름층과 2층 구리 필름층 사이의 프리프레그층을, 400 μm의 깊이를 가지는 캐비티의 형성을 위해서는 약 400 μm 두께의 1층 구리 필름층과 2층 구리 필름층 사이의 프리프레그층을, 450 μm의 깊이를 가지는 캐비티의 형성을 위해서는 약 450 μm 두께의 1층 구리 필름층과 2층 구리 필름층 사이의 프리프레그층을 형성할 수 있다.For example, to form a cavity having a depth of 300 μm, a prepreg layer between a single-layer copper film layer and a two-layer copper film layer having a thickness of about 300 μm is used for the formation of a cavity having a depth of 350 μm. A prepreg layer between the 350 μm thick single copper film layer and the double copper film layer was placed between the 400 μm thick single copper film layer and the double copper film layer to form a cavity with a depth of 400 μm. For the prepreg layer, to form a cavity having a depth of 450 μm, a prepreg layer between a single copper film layer and a two-layer copper film layer having a thickness of about 450 μm may be formed.

한편, 캐비티 형성 후, 캐비티의 바닥층이 되는 2층 및 3층의 구리 필름층의 두께는 샌드 브라스트 처리를 견디기 위해서 30 μm 이상일 수 있다. On the other hand, after the cavity is formed, the thickness of the copper film layer of the second and third layers, which becomes the bottom layer of the cavity, may be 30 μm or more in order to withstand the sand blasting treatment.

적층 단계 후, 드라이 필름(Dry film)과 구리 필름층의 밀착력 향상을 위한 표면 처리를 하는 정면 단계를 수행할 수 있다. 정면 단계는 이물질 제거를 위한 물리적 표면 처리인 브러쉬와 황산, 과산화수소 등을 사용하는 소프트 에칭 단계로 나누어질 수 있다.After the lamination step, a front step of surface treatment for improving adhesion between the dry film and the copper film layer may be performed. The front step can be divided into a brush, which is a physical surface treatment for removing foreign substances, and a soft etching step using sulfuric acid, hydrogen peroxide, and the like.

이후, 온도와 압력을 조절한 상태에서 밀착롤을 사용하여 드라이 필름과 구리 필름층을 밀착시키는 밀착 단계를 실시할 수 있다.Thereafter, an adhesion step of adhering the dry film and the copper film layer to the dry film may be performed using an adhesion roll in a state in which the temperature and pressure are adjusted.

밀착 단계 후, 광조사(예를 들어, 자외선(UV) 광 조사)를 통하여 원하는 부분을 경화시키는 노광 단계를 실시할 수 있다.After the adhesion step, an exposure step of curing the desired portion through light irradiation (eg, ultraviolet (UV) light irradiation) may be performed.

노광 단계 후, 탄산 나트룸(NaCO3) 등으로 광조사에 의해 경화되지 않은 부분을 용해하여 제거하는 현상 단계를 거친다. 현상 단계 후에는 베이킹(baking) 단계를 추가로 실시할 수 있다.After the exposure step, a developing step of dissolving and removing the uncured portion by light irradiation with sodium carbonate (NaCO 3 ) or the like is performed. After the developing step, a baking step may be additionally performed.

이후, 경화되지 않아서 현상 단계를 통해서 제거된 부분의 구리 층을 제거하기 위한 에칭 단계를 거칠 수 있다.Thereafter, an etching step for removing the copper layer of the portion that is not cured and has been removed through the developing step may be performed.

한편, 상기 제 1 샌드 블라스트 처리 또는 상기 제 2 샌드 블라스트 처리의 분사압력이 4 kgf 이상일 수 있고, 바람직하게는 6 kgf 이하일 수 있다.On the other hand, the injection pressure of the first sand blast treatment or the second sand blast treatment may be 4 kgf or more, preferably 6 kgf or less.

제조하고자 하는 캐비티의 크기 및 두께에 따라서 분사압력을 조절할 수 있으나, 도 2에 나타낸 바와 같이 샌드 블라스트 처리의 분사압력이 4 kgf 미만인 경우 원하는 깊이의 캐비티를 얻지 못하였고, 샌드 블라스트 처리의 분사압력이 6 kgf 초과인 경우, 균일한 깊이의 캐비티를 얻을 수 없었다. 캐비티의 밑면이 물결 모양으로 고르지 못한 불균일한 깊이의 캐비티는 실제 제품에 적용될 수 없다.The injection pressure can be adjusted according to the size and thickness of the cavity to be manufactured, but as shown in FIG. 2, when the injection pressure of the sand blasting treatment is less than 4 kgf, the cavity of the desired depth was not obtained, and the injection pressure of the sand blasting treatment was In the case of more than 6 kgf, a cavity of uniform depth could not be obtained. Cavity of uneven depth with uneven, wavy bottom of the cavity cannot be applied to actual products.

즉, 분사압력이 증가하면 캐비티의 깊이를 증가시킬 수 있으나, 캐비티의 깊이 및 캐비티의 크기에 따른 불균일성이 커지는 경향이 나타나서, 분사압력을 적절한 범위 내에서 조절하여야 한다.That is, when the injection pressure increases, the depth of the cavity can be increased, but the non-uniformity according to the depth of the cavity and the size of the cavity tends to increase, so the injection pressure must be adjusted within an appropriate range.

또한, 상기 제 1 제품 진행 속도가 20 mm/min 이상일 수 있고, 바람직하게는 60 mm/min 이하일 수 있다. 도 3에 나타낸 바와 같이 제품 진행 속도가 20 mm/min 미만일 경우, 캐비티의 깊이는 증가하였으나, 균일한 깊이의 캐비티를 얻을 수 없고, 제품 진행 속도가 60 mm/min 초과하는 경우, 원하는 깊이의 캐비티를 얻을 수 없다.In addition, the first product advancing speed may be 20 mm/min or more, preferably 60 mm/min or less. As shown in FIG. 3, when the product progressing speed is less than 20 mm/min, the depth of the cavity increases, but a cavity with a uniform depth cannot be obtained. can't get

따라서, 원하는 깊이의 균일한 캐비티를 얻기 위해서는 적절한 범위의 분사압력과 제품진행 속도를 조합하여야 하고, 분사압력과 제품진행 속도의 조합을 변경하면서 샌드 블라스트 처리를 2회 이상 수행하는 것이 바람직하다.Therefore, in order to obtain a uniform cavity of a desired depth, it is necessary to combine the injection pressure and the product advance speed in an appropriate range, and it is preferable to perform the sand blasting process twice or more while changing the combination of the injection pressure and the product advance speed.

특히, 상기 제 1 단계를 3회 이상 반복하고, 상기 제 2 단계를 2회 이상 반복할 수 있고, 상기 제 2 단계는 상기 제 1 단계보다 처리 횟수가 적은 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 상기 제 1 단계는 3회 이상 5회 이하, 제 2 단계는 2회 이상 3회 이하인 것이 바람직하다.In particular, the first step may be repeated three or more times, and the second step may be repeated two or more times, and it is preferable that the second step has fewer treatments than the first step, and more preferably the second step It is preferable that the 1st step is 3 times or more and 5 times or less, and the 2nd step is 2 or more times and 3 times or less.

또한, 원하는 캐비티의 깊이가 깊어질수록 상기 제 1 단계와 상기 제 2 단계의 처리 횟수는 증가할 수 있다.In addition, as the desired depth of the cavity increases, the number of times of processing in the first step and the second step may increase.

제조하고자 하는 캐비티의 깊이에 따라서 달라지지만 상기 제 1 단계 및 제 2 단계의 처리 횟수가 적정 범위보다 적은 경우, 원하는 깊이의 캐비티를 얻을 수 없고, 프리프레그가 완전히 제거되지 않은 상태로 잔존하며, 상기 제 1 단계 및 제 2 단계의 처리 횟수가 적정 범위보다 많은 경우, 드라이 필름(DF)층이나, 구리 필름층이 파손된다.Although it depends on the depth of the cavity to be manufactured, if the number of treatments in the first step and the second step is less than the appropriate range, the cavity of the desired depth cannot be obtained, and the prepreg remains in a state that is not completely removed, When the number of times of treatment in the first step and the second step is more than the appropriate range, the dry film (DF) layer or the copper film layer is damaged.

한편, 상기 제조방법에 의해서 제조된 캐비티의 깊이는 200 μm 이상이고, 한 변의 길이가 4 mm 이하이다.On the other hand, the depth of the cavity manufactured by the manufacturing method is 200 μm or more, and the length of one side is 4 mm or less.

캐비티의 깊이는 바람직하게는 300 μm 이상, 350 μm 이상, 400 μm 이상일 수 있다.The depth of the cavity may be preferably 300 μm or more, 350 μm or more, 400 μm or more.

또한, 캐비티의 크기(한 변의 길이)는 바람직하게는 3 mm 이하, 2 mm 이하, 1 mm 이하일 수 있다.In addition, the size (length of one side) of the cavity may be preferably 3 mm or less, 2 mm or less, or 1 mm or less.

한편, 상기 캐비티의 바닥면의 조도(roughness)로는 Ra가 1 μm 이하, Rz가 1 μm 이하일 수 있다. Meanwhile, as roughness of the bottom surface of the cavity, Ra may be 1 μm or less and Rz may be 1 μm or less.

상기 캐비티가 형성된 캐비티 인쇄회로기판은 다양한 전자부품에 활용될 수 있다.The cavity printed circuit board in which the cavity is formed may be utilized for various electronic components.

이하, 발명의 구체적인 실시예를 통해, 발명의 작용 및 효과를 보다 상술하기로 한다. 다만, 이러한 실시예는 발명의 예시로 제시된 것에 불과하며, 이에 의해 발명의 권리범위가 정해지는 것은 아니다.Hereinafter, through specific examples of the invention, the operation and effect of the invention will be described in more detail. However, these embodiments are merely presented as an example of the invention, and the scope of the invention is not defined thereby.

제조예production example

제조할 캐비티의 깊이에 맞는 인쇄회로기판을 준비하고 샌드 블라스트 처리를 하였다. 도 4에 나타낸 바와 같이 샌드 브라스트 장치의 노즐은 5mm의 지름을 가지는 1열 8개, 2열 7개로 구성되어 있고, 노즐 간 간격은 35mm, 노즐 높이는 50mm, 분사 속도는 10회/min (38Hz)이었다.A printed circuit board suitable for the depth of the cavity to be manufactured was prepared and sandblasted. As shown in FIG. 4, the nozzles of the sand blasting device are composed of 8 in 1 row and 7 in 2 rows having a diameter of 5 mm, the spacing between the nozzles is 35 mm, the nozzle height is 50 mm, and the spraying speed is 10 times/min (38 Hz). ) was.

또한, 연마재로는 브라운 퓨즈드 알루미나(brown fused alumina)를 사용하였다. 연마재는 Al2O3 (93.31%), TiO2 (3.85%), SiO2 (1.26%) 및 Fe2O3 (0.32%)를 포함하고, 입도 측정 결과, 상기 연마재의 d3은 39.24 μm, d50은 26.16 μm, d95는 18.42 μm이었다.In addition, as an abrasive, brown fused alumina was used. The abrasive includes Al 2 O 3 (93.31%), TiO 2 (3.85%), SiO 2 (1.26%) and Fe 2 O 3 (0.32%), and as a result of particle size measurement, d3 of the abrasive is 39.24 μm, d50 was 26.16 μm and d95 was 18.42 μm.

실시예 및 비교예Examples and Comparative Examples

제조예를 따라서 캐비티를 제조하였고, 제조하고자 하는 캐비티의 깊이에 따라서 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 제 1 샌드 블라스트 처리(압력: 4 kgf, 속도: 30 mm/min) 및 제 2 샌드 블라스트 처리(압력: 4 kgf, 속도: 60 mm/min)의 처리 횟수를 조절하였다.A cavity was prepared according to the preparation example, and according to the depth of the cavity to be manufactured, as shown in Table 1 below, the first sand blasting treatment (pressure: 4 kgf, speed: 30 mm/min) and the second sand blasting treatment (pressure : 4 kgf, speed: 60 mm/min) was adjusted.

각각의 실시예 및 비교예의 조건 하에서 크기가 다른 5개의 캐비티를 제조하였고, 캐비티의 한변의 길이는 1.0 mm, 1.5 mm, 2.0 mm, 2.5 mm 및 3.0 mm였다.Five cavities having different sizes were prepared under the conditions of each Example and Comparative Example, and the lengths of one side of the cavities were 1.0 mm, 1.5 mm, 2.0 mm, 2.5 mm, and 3.0 mm.

캐비티
깊이
(μm )
cavity
depth
(μm)
제1 샌드 블라스트1st sand blast 제2 샌드 블라스트2nd sandblast 결과result
압력enter 속도speed 압력enter 속도speed 4 kgf4 kgf 30 mm/min30 mm/min 4 kgf4 kgf 60 mm/min60 mm/min 실시예 1Example 1 300300 3 회3rd time 2 회Episode 2 양호Good 실시예 2Example 2 350350 4 회4 times 3 회3rd time 양호Good 실시예 3Example 3 400400 5 회5 times 3 회3rd time 양호Good 비교예 1Comparative Example 1 350350 4 회4 times 2 회Episode 2 PP 잔존PP remaining 비교예 2Comparative Example 2 350350 5 회5 times 1 회1 time DF, 동박 파손DF, copper foil breakage 비교예 3Comparative Example 3 400400 5 회5 times 2 회Episode 2 PP 잔존PP remaining 비교예 4Comparative Example 4 400400 6 회6 times 0 회0 times DF, 동박 파손DF, copper foil breakage

도 5에 나타낸 광학 현미경 관찰 결과와 같이, 실시예 1 내지 3의 제1 샌드 블라스트 처리와 제2 샌드 브라스트 처리 조건에서 각각 깊이가 300 μm, 350 μm 및 400 μm이고, 한 변의 길이가 1.0 mm, 1.5 mm, 2.0 mm, 2.5 mm 및 3.0 mm인 양호한 상태의 캐비티가 형성되었다.As shown in the optical microscope observation results shown in FIG. 5 , the depths were 300 μm, 350 μm, and 400 μm, respectively, and the length of one side was 1.0 mm in the first sand blasting treatment and the second sand blasting treatment conditions of Examples 1 to 3, respectively. , 1.5 mm, 2.0 mm, 2.5 mm and 3.0 mm cavities were formed in good condition.

제 1 샌드 블라스트 처리와 제 2 샌드 브라스트 처리의 처리 횟수가 변경된 비교예 1 내지 4에서는 프리프레그(PP)가 잔존하거나, 드라이 필름(DF)과 구리 필름층(동박)이 파손되는 것을 확인하였다.It was confirmed that the prepreg (PP) remained or the dry film (DF) and the copper film layer (copper foil) were damaged in Comparative Examples 1 to 4 in which the number of treatments of the first sand blast treatment and the second sand blast treatment were changed. .

특히, 형성된 캐비티의 단면을 광학 현미경으로 관찰한 결과, 실시예 1의 조건 하에서 한 변의 길이가 3mm 이하이고, 깊이가 300 μm 이상인 캐비티가 양호한 상태로 제조되었고(도 6a), 실시예 2의 조건 하에서 한 변의 길이가 2mm 이하이고, 깊이가 350 μm 이상인 캐비티가 양호한 상태로 제조되었으며(도 6b), 실시예 3의 조건 하에서 한 변의 길이가 1mm 이하이고, 깊이가 400 μm 이상인 캐비티가 양호한 상태로 제조되었다(도 6c).In particular, as a result of observing the cross section of the formed cavity with an optical microscope, a cavity with a length of 3 mm or less on one side and a depth of 300 μm or more was prepared in a good state under the conditions of Example 1 ( FIG. 6a ), conditions of Example 2 Under the conditions of Example 3, a cavity with a side length of 2 mm or less and a depth of 350 μm or more was prepared in good condition (FIG. 6b), and a cavity with a side length of 1 mm or less and a depth of 400 μm or more under the conditions of Example 3 was in good condition prepared (Fig. 6c).

즉, 실시예 1 내지 3의 샌드 블라스트 처리의 조건 하에서 깊이가 300 μm 이상이고, 한 변이 길이가 3mm 이하인 균일한 형태의 캐비티를 제조할 수 있었다.That is, under the conditions of the sand blasting treatment of Examples 1 to 3, a cavity having a uniform shape having a depth of 300 μm or more and a side length of 3 mm or less could be manufactured.

이상 본 발명의 구현예들을 참조하여 설명하였지만, 본 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면, 상기 내용을 바탕을 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다.Although described above with reference to the embodiments of the present invention, those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above content.

Claims (8)

인쇄회로기판에 제 1 제품 진행 속도로 제 1 샌드 블라스트 처리를 하는 제 1 단계; 및
상기 제 1 제품 진행 속도의 1.5배 이상인 제 2 제품진행 속도로 추가로 제 2 샌드 블라스트 처리를 하는 제 2 단계;를 포함하고,
상기 제 1 샌드 블라스트 처리 또는 상기 제 2 샌드 블라스트 처리의 분사압력이 4 kgf 이상이며,
상기 제 1 제품 진행 속도가 20 mm/min 이상이고,
상기 제 1 단계를 3회 이상 반복하고, 상기 제 2 단계를 2회 이상 반복하며,
형성된 캐비티의 깊이가 250 μm 이상이고, 한 변의 길이가 4 mm 이하이고,
상기 인쇄회로기판은 그리프레그층 및 구리 필름 층이 적층되어 이루어지며,
노즐은 5mm의 지름을 가지는 1열 8개, 2열 7개로 구성되고, 노즐 간 간격은 35mm, 노즐 높이는 50mm인 샌드 블라스트 장치를 사용하고,
브라운 퓨즈드 알루미나(brown fused alumina)로 Al2O3, TiO2, SiO2 및 Fe2O3를 포함하며, 입도인 d3은 39.24 μm, d50은 26.16 μm 및 d95는 18.42 μm인 연마재를 사용하는,
캐비티 인쇄회로기판의 제조방법.
A first step of performing a first sand blasting treatment on the printed circuit board at a first product advancing speed; and
a second step of additionally performing a second sand blasting treatment at a second product progress rate that is 1.5 times or more of the first product progress rate;
The injection pressure of the first sand blast treatment or the second sand blast treatment is 4 kgf or more,
The first product progress speed is 20 mm / min or more,
repeating the first step at least 3 times, and repeating the second step at least 2 times,
The depth of the formed cavity is 250 μm or more, and the length of one side is 4 mm or less,
The printed circuit board is made by laminating a Gripreg layer and a copper film layer,
The nozzle is composed of 8 in 1 row and 7 in 2 rows with a diameter of 5 mm, and a sand blasting device with an interval of 35 mm and a nozzle height of 50 mm is used.
Brown fused alumina containing Al 2 O 3 , TiO 2 , SiO 2 and Fe 2 O 3 , particle size d3 of 39.24 μm, d50 of 26.16 μm and d95 of 18.42 μm. ,
Method for manufacturing a cavity printed circuit board.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6292216B2 (en) * 2015-12-10 2018-03-14 日立金属株式会社 Multilayer ceramic substrate manufacturing method and multilayer ceramic substrate

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2217084A1 (en) * 1996-10-30 1998-04-30 Tin-Tack Peter Cheung Hydrogenation catalysts and processes therewith
KR101750836B1 (en) 2015-10-14 2017-06-27 대덕전자 주식회사 Method of fabricating cavity printed circuit board
KR102473417B1 (en) * 2016-04-27 2022-12-02 삼성전기주식회사 Printed circuit board and method for manufacturing the same
KR102092816B1 (en) 2018-05-04 2020-03-24 주식회사 티엘비 Method for forming cavity in pcb

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6292216B2 (en) * 2015-12-10 2018-03-14 日立金属株式会社 Multilayer ceramic substrate manufacturing method and multilayer ceramic substrate

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