KR102374732B1 - Flexible display device pressing and bonding system - Google Patents

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KR102374732B1 KR1020200054696A KR20200054696A KR102374732B1 KR 102374732 B1 KR102374732 B1 KR 102374732B1 KR 1020200054696 A KR1020200054696 A KR 1020200054696A KR 20200054696 A KR20200054696 A KR 20200054696A KR 102374732 B1 KR102374732 B1 KR 102374732B1
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Abstract

본 발명은 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템을 제공하는 것을 목적으로 하는 것으로, 본 발명의 구성은 메인 프레임(110)에 설치된 레이저 헤드(812)의 아래에서 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름(2)을 받쳐서 지지하는 본딩 베이스부(820); 상기 레이저 헤드(812)와 상기 본딩 베이스부(820) 사이로 지나가는 상기 플렉시블 필름(2) 위에 소자를 본딩되도록 가압하는 레이저 본딩 가압부(850);를 포함하고, 상기 본딩 베이스부(820)는 진공 히팅 플레이트(822)와 진공척(824)을 포함하는 것을 특징으로 한다.An object of the present invention is to provide a flexible display device pressure bonding system, the configuration of the present invention is to support the flexible film 2 passing along the transfer line under the laser head 812 installed in the main frame 110, a bonding base portion 820 for supporting; and a laser bonding pressing unit 850 that presses a device to be bonded on the flexible film 2 passing between the laser head 812 and the bonding base 820, and the bonding base unit 820 is vacuum It is characterized in that it includes a heating plate (822) and a vacuum chuck (824).

Description

유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템{Flexible display device pressing and bonding system}Flexible display device pressing and bonding system

본 발명은 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플렉시블 필름과 반도체 소자와 같은 소자 간의 가압 본딩 작업시 플렉시블 필름을 진공압으로 안정적으로 고정하고 히팅을 적용한 상태에서 정밀한 가압과 본딩 작업이 이루어질 수 있도록 하는 새로운 구성의 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a pressure bonding system for a flexible display device, and more particularly, when performing pressure bonding between a flexible film and a device such as a semiconductor device, the flexible film is stably fixed with vacuum pressure and precision pressure and bonding work in a state where heating is applied It relates to a flexible display device pressure bonding system of a new configuration that allows this to be made.

일반적으로 엘씨디나 엘이디와 같은 평판 디스플레이들은 점차 경박단소화되어 감에따라 이에 대응하여 글래스의 패턴부에 반도체 소자나 회로기판과 같은 소자들이 직접 본딩되어 제작되는 경우가 많으며, 이러한 본딩작업은 로딩부와 본딩부가 각각 구비된 소자본딩장치에 의해 이루어진다.In general, flat panel displays such as LCDs and LEDs are gradually becoming lighter, thinner and smaller, and in response to this, elements such as semiconductor elements or circuit boards are directly bonded to the pattern part of glass and are often manufactured. and a device bonding device each having a bonding unit.

상기 소자본딩장치에 글래스와 반도체 소자 등을 본딩하려면 로딩부에 글래스와 반도체 소자를 각각 로딩시켜 셋팅한 후 본딩부에서 본딩헤드로 가압하면서 본딩을 행하게 된다.In order to bond glass and a semiconductor device to the device bonding apparatus, the glass and the semiconductor device are respectively loaded and set in the loading unit, and then the bonding is performed while pressing the bonding unit with a bonding head.

그러나, 이러한 종류의 평판 디스플레이 장치가 갖는 문제점은 유리 기판으로 인해 기판이 매우 단단하고 무거울 뿐만 아니라 휨 응력(Bending stress)에 대한 매우 낮은 허용오차를 갖는다는 점이다. 상기 디스플레이 장치가 휨모멘트를 받으면 기판 사이의 셀갭의 변화로 인해 디스플레이 이미지의 손실이 초래되는데 이것은 액정층의 두께변화가 발생되기 때문이다.However, a problem with this type of flat panel display device is that, due to the glass substrate, the substrate is very hard and heavy, and has a very low tolerance for bending stress. When the display device receives a bending moment, a display image is lost due to a change in the cell gap between the substrates because a change in the thickness of the liquid crystal layer occurs.

또한, 유비쿼터스 디스플레이 환경을 구현하기 위해서는 디스플레이 장치의 휴대성을 향상시킴과 동시에 각종 멀티미디어 정보를 표시가 가능하면서 가볍고, 표시면적이 넓고, 해상도가 우수하며, 표시속도가 빠른 디스플레이 장치의 특성이 요구되어야 한다.In addition, in order to realize a ubiquitous display environment, the characteristics of a display device that can display various multimedia information while improving the portability of the display device, and being lightweight, have a large display area, have excellent resolution, and have a fast display speed, are required. do.

따라서, 유연성, 경량화 및 휴대성이 우수한 특성을 동시에 만족시키기 위해서는 디스플레이 장치의 배선 및 소자를 플라스틱 기판 상에 형성하는 유연디스플레이 장치의 필요성이 대두되고 있다. 유연디스플레이 장치는 롤러(Roll) 투 롤러(Roll) 방식으로 제조되는 경우가 많다. 이러한 유연디스플레이의 제조 공정에서는 플렉시블 필름(2)과 반도체 소자나 플렉시블 인쇄회로기판과 같은 소자 간의 본딩 작업이 수행된다.Therefore, in order to simultaneously satisfy the excellent characteristics of flexibility, weight reduction and portability, the need for a flexible display device in which wiring and elements of the display device are formed on a plastic substrate is emerging. Flexible display devices are often manufactured in a Roll-to-Roll method. In the manufacturing process of such a flexible display, a bonding operation between the flexible film 2 and a device such as a semiconductor device or a flexible printed circuit board is performed.

그런데, 유연디스플레이 장치를 생산하기 위해서는 플렉시블 필름(2)(기판)과 소자 간의 정밀하고 오차없는 본딩 작업이 요구된다. 플렉시블 필름(2)은 유연디스플레이의 기판이라 할 수 있으며, 예를 들어 PI Film(Polyimid Film)이 될 수 있는데, 이러한 유연디스플레이 기판과 반도체 소자의 본딩 작업시 오차가 생기면 본딩 불량으로 인한 유연디스플레의 불량이 발생되므로, 정밀하고 오차가 없는 소자와 유연디스플레이 기판 사이의 본딩 작업이 요구된다. 또한, 공정 수율 및 효율성이 저하되는 경우 등을 방지하기 위한 본딩 작업의 정밀도가 더욱 요구된다.However, in order to produce a flexible display device, a precise and error-free bonding operation between the flexible film 2 (substrate) and the element is required. The flexible film 2 can be called a substrate of a flexible display, and for example, it can be a PI Film (Polyimid Film). Since defects occur, a bonding operation between the device and the flexible display substrate that is precise and error-free is required. In addition, the precision of the bonding operation to prevent a case in which the process yield and efficiency are lowered is more required.

한국등록특허 제10-1754511호(2017년06월29일 등록)Korean Patent Registration No. 10-1754511 (registered on June 29, 2017) 한국공개특허 제10-1996-0035935호(1996년10월28일 공개)Korean Patent Publication No. 10-1996-0035935 (published on October 28, 1996) 한국공개특허 제10-2000-0074174호(2000년12월05일 공개)Korean Patent Publication No. 10-2000-0074174 (published on December 05, 2000) 한국등록실용신안 제20-0311427호(2003년04월11일 등록)Korea Registered Utility Model No. 20-0311427 (registered on April 11, 2003)

본 발명은 전술한 바와 같은 문제를 해결하기 위해 개발된 것으로, 본 발명의 목적은 플렉시블 필름과 반도체 소자와 같은 소자 간의 가압 본딩 작업시 플렉시블 필름을 진공압으로 안정적으로 고정하고 히팅을 적용한 상태에서 정밀한 가압과 본딩 작업이 이루어질 수 있도록 하며, 본딩 정밀도 향상으로 인하여 유연디스플레이의 고품질을 보장할 수 있도록 하는 새로운 구성의 유연디스플레이 소자용 공정 시스템의 진공 히팅 가압 본딩 시스템을 제공하고자 하는 것이다.The present invention has been developed to solve the problems described above, and an object of the present invention is to stably fix the flexible film with vacuum pressure during pressure bonding between the flexible film and the device such as a semiconductor device, An object of the present invention is to provide a vacuum heating pressure bonding system of a process system for a flexible display device of a new configuration that enables pressurization and bonding work, and ensures high quality of flexible display due to improved bonding precision.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명에 의하면, 메인 프레임에 설치된 레이저 헤드의 아래에서 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름을 받쳐서 지지하는 본딩 베이스부; 상기 레이저 헤드와 상기 본딩 베이스부 사이로 지나가는 상기 플렉시블 필름 위에 소자를 본딩되도록 가압하는 레이저 본딩 가압부;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템이 제공된다.According to the present invention for solving the above problems, a bonding base portion supporting and supporting a flexible film passing along a transfer line under a laser head installed on a main frame; There is provided a flexible display device pressure bonding system comprising a; a laser bonding press unit for pressing the device to be bonded on the flexible film passing between the laser head and the bonding base unit.

상기 본딩 베이스부는 진공 히팅 플레이트와 진공척을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.The bonding base part is characterized in that it is configured to include a vacuum heating plate and a vacuum chuck.

상기 진공척은, 상기 진공 히팅 플레이트의 내부에 확보된 진공 형성홀; 상기 진공 형성홀에 연결되어 상기 진공 히팅 플레이트의 상면으로 연통된 복수개의 흡착홀;을 포함하여 구성되고, 상기 진공 히팅 플레이트은 내부에 히터가 내장되도록 구성된 것을 특징으로 한다.The vacuum chuck may include a vacuum forming hole secured inside the vacuum heating plate; and a plurality of suction holes connected to the vacuum forming hole and communicating with the upper surface of the vacuum heating plate, wherein the vacuum heating plate is configured to have a heater built therein.

상기 레이저 본딩 가압부는, 상기 레이저 헤드의 하부에 배치된 슬라이더 바디; 상기 슬라이더 바디에 승강 가능하게 장착된 중공형의 승강 슬라이더; 상기 승강 슬라이더에 장착된 쿼츠; 상기 메인 프레임의 기대에 장착된 가압 서보모터; 상기 가압 서보모터의 모터축에 연결된 가압 캠플랜지; 상기 메인 프레임의 상기 기대에 장착된 가압 힌지 브라켓; 상기 가압 힌지 브라켓에 힌지부를 매개로 결합되고 상기 가압 캠플랜지에 연결되어 상기 슬라이더 바디 위에 배치된 가압 레버;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.The laser bonding pressing unit may include a slider body disposed under the laser head; a hollow elevating slider mounted on the slider body so as to be elevating; a quartz mounted on the elevating slider; a pressurized servomotor mounted on the base of the main frame; a pressurized cam flange connected to the motor shaft of the pressurized servomotor; a pressure hinge bracket mounted on the base of the main frame; and a pressing lever coupled to the pressing hinge bracket via a hinge part and connected to the pressing cam flange and disposed on the slider body.

상기 가압 레버에는 길이 방향으로 장홀이 형성되고, 상기 장홀에 상기 가압 캠플랜지에 구비된 가압 작동 연결핀이 결합된 것을 특징으로 한다.A long hole is formed in the pressing lever in the longitudinal direction, and a pressing operation connecting pin provided in the pressing cam flange is coupled to the long hole.

상기 가압 작동 연결핀에는 롤링부재가 구비되고, 상기 롤링부재의 외주면이 상기 가압 레버의 상기 장홀에 접촉된 상태에서 롤링되도록 구성된 것을 특징으로 한다.The pressure operation connecting pin is provided with a rolling member, characterized in that the outer peripheral surface of the rolling member is configured to be rolled while in contact with the long hole of the pressure lever.

상기 승강 슬라이더에 구비된 쿼츠 홀더에 상기 쿼츠가 결합된 것을 특징으로 한다.It is characterized in that the quartz is coupled to a quartz holder provided in the elevating slider.

상기 쿼츠의 저면이 플렉시블 필름과 마주하고, 상기 쿼츠의 저면은 수평면으로 구성된 것을 특징으로 한다.The bottom surface of the quartz faces the flexible film, and the bottom surface of the quartz is characterized in that it is composed of a horizontal surface.

상기 쿼츠의 저면에는 실리콘 블록이 구비된 것을 특징으로 한다.A silicon block is provided on the bottom of the quartz.

상기 승강 슬라이더에는 본딩 가압 플레이트가 구비되고, 상기 가압 레버에는 상기 본딩 가압 플레이트의 상면에 접촉된 가압 캠팔로워 베어링이 더 구비된 것을 특징으로 한다.A bonding pressure plate is provided in the lifting slider, and a pressure cam follower bearing in contact with an upper surface of the bonding pressure plate is further provided in the pressure lever.

상기 승강 슬라이더에는 본딩 가압 플레이트가 구비되고, 상기 본딩 가압 플레이트는 상기 슬라이더 바디의 상단부에 마주하는 위치에 배치되고, 상기 슬라이더 바디의 상단부와 상기 본딩 가압 플레이트의 저면 사이에는 상승 복귀용 플런저가 배치된 것을 특징으로 한다.The lifting slider is provided with a bonding pressure plate, the bonding pressure plate is disposed at a position facing the upper end of the slider body, and a plunger for lifting and returning is disposed between the upper end of the slider body and the bottom surface of the bonding pressure plate. characterized in that

상기 승강 슬라이더와 상기 슬라이더 바디 사이에 개재된 간극 조절 플레이트;를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.and a gap adjusting plate interposed between the lifting slider and the slider body.

상기 슬라이더 바디에는 가압량 확인용 로드셀이 더 구비된 것을 특징으로 한다.The slider body is characterized in that it is further provided with a load cell for checking the amount of pressurization.

상기 메인 프레임에는 소재가 탑재된 플렉시블 필름의 위치를 촬영하는 카메라가 더 구비된 것을 특징으로 한다.It is characterized in that the main frame is further equipped with a camera for photographing the position of the flexible film on which the material is mounted.

본 발명의 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템에서는 PI Film(Polyimid Film) 쪽으로 진공 히팅 테이블 상승, 레이저 헤드에서의 레이저 조사, 레이저 본딩 유닛에서 소자를 PI Flim에 압착 본딩하는 과정을 반복함으로써, PI Film에 소자(주로 반도체 소자)를 본딩하게 되며, 이러한 본 발명의 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템은 유연디스플레이 장치를 생산하기 위하여 PI Film(유연 디스플레이 필름)과 소자(주로 반도체 소자)간의 정밀하고 오차없는 본딩 작업이 가능한 효과가 있다.In the flexible display device pressure bonding system of the present invention, by repeating the process of raising the vacuum heating table toward the PI Film (Polyimid Film), irradiating the laser from the laser head, and press bonding the device to the PI Flim in the laser bonding unit, the device on the PI Film (Mainly a semiconductor device) is bonded, and the flexible display device pressure bonding system of the present invention performs a precise and error-free bonding operation between a PI Film (flexible display film) and a device (mainly a semiconductor device) in order to produce a flexible display device. There is a possible effect.

한편, 상기한 효과는 본 발명의 주요 효과에 해당하며, 본 발명은 상기한 효과 이외에 다른 여러 가지 유용한 효과가 있으며, 본 발명은 상기한 효과에 의해서만 특징이 한정되는 것은 아니라는 점을 이해해야 할 것이다.On the other hand, the above-described effect corresponds to the main effect of the present invention, the present invention has several other useful effects in addition to the above-mentioned effects, and it should be understood that the present invention is not limited in its features only by the above-described effects.

도 1은 본 발명에 의한 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템의 구조를 보여주는 정면도
도 2는 본 발명에 의한 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템의 구조를 보여주는 사시도
도 3은 본 발명의 주요부인 레이저 헤드와 레이저 본딩 가압부 및 플렉시블 필름의 일부를 보여주는 사시도
도 4는 도 3의 우측면 사시도
도 5는 도 4의 저면 사시도
도 6은 본 발명의 주요부인 본딩 베이스부의 사시도
도 7은 도 6의 본딩 베이스부의 측단면도
도 8은 도 7의 주요부인 본딩 테이블의 측단면도
도 9는 본 발명의 주요부인 레이저 헤드와 레이저 본딩 가압부와 본딩 베이스부 및 플렉시블 필름의 일부를 보여주는 사시도
도 10은 도 9의 일측면도
도 11은 도 9에 도시된 본딩 베이스부와 레이저 본딩 가압부의 우측면도
도 12는 본 발명의 유연디스플레이 소자용 열공정 시스템에 의해 소자 본딩 작업이 이루어지는 플렉시블 필름의 일부를 보여주는 사시도
도 13은 본 발명의 주요부인 레이저 헤드와 레이저 본딩 가압부 및 플렉시블 필름의 일부를 보여주는 정면도
도 14는 본 발명의 주요부인 레이저 헤드와 레이저 본딩 가압부의 분해된 상태를 보여주는 사시도
도 15는 도 14의 레이저 본딩 가압부와 레이저 헤드 및 플렉시블 필름의 일부를 보여주는 사시도
1 is a front view showing the structure of a flexible display device pressure bonding system according to the present invention;
2 is a perspective view showing the structure of a flexible display device pressure bonding system according to the present invention;
3 is a perspective view showing a part of a laser head, a laser bonding pressing unit, and a flexible film, which are main parts of the present invention;
Figure 4 is a right side perspective view of Figure 3;
5 is a bottom perspective view of FIG.
6 is a perspective view of a bonding base part, which is a main part of the present invention;
Figure 7 is a side cross-sectional view of the bonding base of Figure 6;
Fig. 8 is a side cross-sectional view of the bonding table which is the main part of Fig. 7;
9 is a perspective view showing a part of a laser head, a laser bonding pressing unit, a bonding base unit, and a flexible film, which are main parts of the present invention;
Figure 10 is a side view of Figure 9
11 is a right side view of the bonding base unit and the laser bonding pressing unit shown in FIG. 9;
12 is a perspective view showing a part of a flexible film on which device bonding is performed by the thermal process system for a flexible display device of the present invention;
13 is a front view showing a part of the laser head, the laser bonding pressing part, and the flexible film, which are the main parts of the present invention;
14 is a perspective view showing an exploded state of the laser head and the laser bonding pressing part, which are the main parts of the present invention;
15 is a perspective view illustrating a part of the laser bonding press unit, the laser head, and the flexible film of FIG. 14;

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 상기 본 발명의 목적과 특징 및 장점은 첨부도면 및 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 더욱 쉽게 이해될 수 있을 것이다. 도면에서 동일 부분에 대해서는 동일 부호를 사용한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The objects, features and advantages of the present invention will be more readily understood by referring to the accompanying drawings and the following detailed description. In the drawings, the same reference numbers are used for the same parts. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the components of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only for distinguishing the elements from other elements, and the essence, order, or order of the elements are not limited by the terms. When it is described that a component is "connected", "coupled" or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, but another component is between each component. It will be understood that may also be "connected", "coupled" or "connected".

도면을 참조하면, 본 발명에 의한 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템은 메인 프레임(110)에 설치된 레이저 헤드(812)의 아래에서 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름(2)을 받쳐서 지지하는 본딩 베이스부(820)와, 상기 레이저 헤드(812)와 상기 본딩 베이스부(820) 사이로 지나가는 상기 플렉시블 필름(2) 위에 소자를 본딩되도록 가압하는 레이저 본딩 가압부(850)를 구비한다. PI Film(2)은 플렉시블 기판의 일종이며, 본 발명에서 기술하는 PI Film(2)과 플렉시블 기판과 유연 디스플레이 필름은 동일한 것으로 이해하면 될 것이다.Referring to the drawings, the flexible display device pressure bonding system according to the present invention supports and supports the flexible film 2 passing along the transfer line under the laser head 812 installed in the main frame 110, the bonding base portion 820 ), and a laser bonding press unit 850 for pressing the device to be bonded on the flexible film 2 passing between the laser head 812 and the bonding base unit 820 . The PI Film (2) is a kind of flexible substrate, and it will be understood that the PI Film (2) described in the present invention, the flexible substrate, and the flexible display film are the same.

상기 메인 프레임(110)은 육면체 프레임 형상으로 구성된다. 메인 프레임(110)에는 메인 베이스(112)가 구비된다. 상기 메인 프레임(110)의 좌우 양쪽 위치에는 각각 언와인더 유닛(210)과 리와인더 유닛(310)이 배치되어, 상기 언와인더 유닛(210)과 리와인더 유닛(310)에 의해서 PI Film(2)이 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112) 위의 이송 경로를 따라 피딩된다. 상기 언와인더 유닛(210)과 리와인더 유닛(310) 이외에도 PI Film(2)은 다른 공지의 피딩 수단에 의해 메인 프레임(110)의 이송 경로를 따라 공급되도록 구성될 수 있다.The main frame 110 is configured in a hexahedral frame shape. The main frame 110 is provided with a main base 112 . An unwinder unit 210 and a rewinder unit 310 are disposed at both left and right positions of the main frame 110, respectively, and the PI Film 2 is formed by the unwinder unit 210 and the rewinder unit 310. It is fed along a transport path on the main base 112 of this main frame 110 . In addition to the unwinder unit 210 and the rewinder unit 310 , the PI Film 2 may be configured to be supplied along the transport path of the main frame 110 by other known feeding means.

상기 메인 프레임(110)에는 메인 베이스(112) 위쪽에 배치되도록 레이저 헤드(812)가 장착된다. 레이저 헤드(812)의 저면에는 렌즈가 구비되어, 레이저 헤드(812) 내부에 구비된 레이저 장치에서 발생한 레이저가 렌즈를 통해서 PI Film(2) 쪽으로 조사되도록 구성된다.A laser head 812 is mounted on the main frame 110 to be disposed above the main base 112 . A lens is provided on the bottom surface of the laser head 812 so that the laser generated from the laser device provided inside the laser head 812 is irradiated toward the PI Film 2 through the lens.

본 발명은 레이저 헤드(812)의 하부에 배치되어 메인 프레임(110)의 이송 경로상으로 지나가는 플렉시블 필름(2)(본 발명에서는 PI Film(2)으로서 이하에서는 편의상 플렉시블 필름(2)을 PI Film(2)이라 칭함)을 받쳐서 지지하는 본딩 베이스부(820)를 포함한다.The present invention is a flexible film 2 disposed under the laser head 812 and passing on the transport path of the main frame 110 (in the present invention, as PI Film 2, hereinafter for convenience, the flexible film 2 is used as a PI Film (referred to as (2)) includes a bonding base portion 820 for supporting and supporting.

본 발명은 레이저 헤드(812)와 본딩 베이스부(820) 사이로 지나가는 PI Film(2) 위에 소자를 본딩되도록 가압하는 레이저 본딩 가압부(850)를 포함한다. 상기 레이저 본딩 가압부(850)는 슬라이더 바디(852), 승강 슬라이더(854), 쿼츠(855), 가압 서보모터(856), 가압 캠플랜지(857), 가압 힌지 브라켓(858), 가압 레버(859)를 포함한다.The present invention includes a laser bonding press unit 850 that presses the device to be bonded on the PI Film 2 passing between the laser head 812 and the bonding base unit 820 . The laser bonding pressing unit 850 includes a slider body 852, a lifting slider 854, a quartz 855, a pressing servo motor 856, a pressing cam flange 857, a pressing hinge bracket 858, and a pressing lever ( 859).

상기 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112)에 결합된 기대(724)에는 수직 방향으로 Z축 엘엠 가이드(732)가 구비되고, 상기 Z축 엘엠 가이드(732)를 매개로 Z축 승강패널(734)이 상기 기대(724)에 승강 가능하게 결합되고, 상기 Z축 승강패널(734)에는 레이저 헤드(812)가 장착되어 있는데, 상기 슬라이더 바디(852)는 레이저 헤드(812)의 아래에 배치되도록 Z축 승강패널(734)에 장착된다. 상기 메인 베이스(112)에 결합된 기대(724)에 Z축 승강패널(734)이 승강 가능하게 결합되고, 상기 슬라이더 바디(852)는 Z축 승강패널(734)에 장착되므로, 상기 메인 프레임(110)의 기대(724)에 슬라이더 바디(852)가 장착된 상태에서 상기 레이저 헤드(812)의 하부에 배치된다. 상기 슬라이더 바디(852)는 내부에 승강 슬라이더(854)가 승강가능하게 결합되기 위한 승강 가이드 공간부를 구비하며, 상기 승강 가이드 공간부는 슬라이더 바디(852)의 상단부와 하단부로 연통되도록 구성된다. 상기 슬라이더 바디(852)는 내부에 사각형 승강 가이드 공간부를 구비하고 상하단부는 개방된 사각 박스 형상으로 구성된다.The base 724 coupled to the main base 112 of the main frame 110 is provided with a Z-axis LM guide 732 in the vertical direction, and a Z-axis elevating panel ( A laser head 812 is mounted on the Z-axis elevation panel 734 , and the slider body 852 is disposed below the laser head 812 . It is mounted on the Z-axis lifting panel 734 as possible. Since the Z-axis elevating panel 734 is coupled to the base 724 coupled to the main base 112 so as to be elevating, and the slider body 852 is mounted on the Z-axis elevating panel 734, the main frame ( It is disposed below the laser head 812 in a state where the slider body 852 is mounted on the base 724 of the 110 . The slider body 852 has an elevating guide space for the elevating slider 854 to be elevated therein, and the elevating guide space is configured to communicate with an upper end and a lower end of the slider body 852 . The slider body 852 has a rectangular lifting guide space therein, and the upper and lower ends have an open rectangular box shape.

상기 슬라이더 바디(852)에는 승강 슬라이더(854)가 상하로 승강 가능하게 결합된다. 상기 승강 슬라이더(854)는 내부에 레이저 조사 공간부를 구비한다. 승강 슬라이더(854)는 상하단부로 연통된 중공형 바디 형상으로 구성되어, 승강 슬라이더(854)의 내부에 상기 레이저 조사 공간부가 형성된다. 승강 슬라이더(854)의 상단부와 하단부는 개방된다. 상기 레이저 헤드(812)의 하부에 구비된 렌즈를 통해서 조사되는 레이저가 승강 슬라이더(854)의 상단부에서 하단부를 거쳐서 PI Film(2)까지 도달하도록 개방된 중공형 바디 형상으로 구성된다. 즉, 승강 슬라이더(854) 내부의 레이저 조사 공간부는 승강 슬라이더(854)의 상단부와 하단부로 연통되도록 구성된다. 상기 승강 슬라이더(854)는 내부에 사각형 레이저 조사 공간부를 구비하고 상하단부는 개방된 사각 박스 형상으로 구성된다. 상기 슬라이더 바디(852)와 승강 슬라이더(854)는 레이저 헤드(812)의 하부와 본딩 베이스부(820)를 지나가는 PI Film(2)의 상부 사이에 배치된다. 상기 승강 슬라이더(854)는 단면 사각형 중공형 바디 또는 단면 원형의 중공형 바디 형상으로 구성될 수 있다. 승강 슬라이더(854)는 단면 사각형이나 단면 원형의 중공형 바디 형상 이외에 다양한 중공형 바디 형상으로 구성될 수 있다.A lifting slider 854 is vertically coupled to the slider body 852 . The lifting slider 854 has a laser irradiation space therein. The elevating slider 854 has a hollow body shape that communicates with upper and lower ends, and the laser irradiation space is formed inside the elevating slider 854 . The upper end and lower end of the lifting slider 854 are open. It has a hollow body shape that is opened so that the laser irradiated through the lens provided at the lower part of the laser head 812 reaches the PI Film 2 from the upper end of the elevating slider 854 through the lower end. That is, the laser irradiation space inside the lifting slider 854 is configured to communicate with the upper end and the lower end of the lifting slider 854 . The elevating slider 854 has a rectangular laser irradiation space therein, and the upper and lower ends have an open rectangular box shape. The slider body 852 and the lifting slider 854 are disposed between the lower portion of the laser head 812 and the upper portion of the PI Film 2 passing through the bonding base portion 820 . The elevating slider 854 may have a rectangular cross-section hollow body or a circular cross-section hollow body shape. The lifting slider 854 may be configured in various hollow body shapes in addition to the rectangular or circular cross-sectional hollow body shape.

상기 승강 슬라이더(854)에는 본딩 가압 플레이트(854BP)가 구비된다. 승강 슬라이더(854)의 상단부에 본딩 가압 플레이트(854BP)가 구비된다. 이때, 본딩 가압 플레이트(854BP)에는 승강 슬라이더(854) 내부의 레이저 조사 공간부와 연결된 레이저 통과홀이 구비된다. 상기 승강 슬라이더(854)의 레이저 조사 공간부는 승강 슬라이더(854)의 상단부와 하단부로 관통된 개방홀이고 상기 레이저 통과홀은 본딩 가압 플레이트(854BP)의 상면에서부터 레이저 조사 공간부로 관통된 개방홀이다.The lifting slider 854 is provided with a bonding pressure plate 854BP. A bonding pressure plate 854BP is provided at the upper end of the lifting slider 854 . In this case, the bonding pressure plate 854BP is provided with a laser passage hole connected to the laser irradiation space inside the lifting slider 854. The laser irradiation space portion of the elevating slider 854 is an open hole penetrating through the upper end and the lower end of the lifting slider 854, and the laser passage hole is an open hole penetrating from the upper surface of the bonding pressure plate 854BP to the laser irradiation space portion.

상기 본딩 가압 플레이트(854BP)는 슬라이더 바디(852)의 상단부에 마주하는 위치에 배치된다. 상기 슬라이더 바디(852)의 상단부와 본딩 가압 플레이트(854BP)의 저면 사이에는 상승 복귀용 플런저(852SP)가 배치된다. 상승 복귀용 플런저(852SP)는 플런저 하우징의 내부에 플런저핀이 슬라이드 가능하게 결합되고, 플런저핀은 플런저 하우징에 내장된 스프링에 의해 탄지되어 상기 플런저 하우징의 상단부에서 플런저핀의 일부가 돌출된 구조이다. 상기 플런저핀을 누르게 되면 플런저 하우징 내부의 스프링이 압축되어 탄성 복원력을 보유하고, 상기 플런저핀을 누르는 힘이 해제되면 압축되었던 스프링이 원래의 상태로 펴지면서 플런지핀을 탄성적으로 밀어서 플런지핀이 눌려져 있던 상태에서 플런저 하우징의 상단부에서 탄성적으로 돌출된다.The bonding pressure plate 854BP is disposed at a position facing the upper end of the slider body 852 . A plunger 852SP for lifting and returning is disposed between the upper end of the slider body 852 and the bottom surface of the bonding pressure plate 854BP. The plunger 852SP for upward return has a structure in which a plunger pin is slidably coupled to the inside of the plunger housing, the plunger pin is supported by a spring built into the plunger housing, and a part of the plunger pin protrudes from the upper end of the plunger housing. . When the plunger pin is pressed, the spring inside the plunger housing is compressed to retain elastic restoring force, and when the force pressing the plunger pin is released, the compressed spring expands to its original state and elastically pushes the plunger pin to push the plunger pin. In this pressed state, it elastically protrudes from the upper end of the plunger housing.

상기 상승 복귀용 플런저(852SP)는 슬라이더 바디(852)의 중심부를 기준으로 양쪽 대칭되는 위치에 배치된다. 슬라이더 바디(852)의 내부에 상승 복귀용 플런저(852SP)가 내장되고, 플런저 바디의 상단부에서 돌출되어 있는 플런지핀의 일부가 슬라이더 바디(852)의 상단부에서 돌출되어 있다. 본 발명에서 슬라이더 바디(852)는 사각 박스 형상으로 구성되는데, 두 개의 상승 복귀용 플런저(852SP)가 슬라이더 바디(852)의 중심부를 기준으로 양쪽 대칭되는 위치에 배치된다. 상기 메인 프레임(110)에 장착된 슬라이더 바디(852)의 정면에서 볼 때에 좌우 양쪽에 각각 하나씩 상승 복귀용 플런저(852SP)가 배치된다. 상기 상승 복귀용 플런저(852SP)는 상기 승강 슬라이더(854)에 구비된 본딩 가압 플레이트(854BP)의 아래에 배치된다. 상승 복귀용 플런저(852SP)에서 플런저 바디의 상단부에서 일부가 돌출되어 있는 플런저핀은 본딩 가압 플레이트(854BP)의 저면에 접촉되어 있다.The plunger 852SP for lifting and returning is disposed at positions symmetrical to both sides with respect to the center of the slider body 852 . A plunger 852SP for rising and returning is built in the slider body 852 , and a part of the plunge pin protruding from the upper end of the plunger body protrudes from the upper end of the slider body 852 . In the present invention, the slider body 852 is configured in a rectangular box shape, and the two upward and return plungers 852SP are disposed at positions symmetrical to both sides with respect to the center of the slider body 852 . When viewed from the front of the slider body 852 mounted on the main frame 110, one on each of the left and right, respectively, the plungers 852SP for lifting and returning are disposed. The lift and return plunger 852SP is disposed below the bonding pressure plate 854BP provided in the lift slider 854 . In the plunger for lifting and returning (852SP), the plunger pin partially protruding from the upper end of the plunger body is in contact with the bottom surface of the bonding pressure plate (854BP).

상기 승강 슬라이더(854)와 슬라이더 바디(852) 사이에는 간극 조절 플레이트(853)가 개재된다. 상기 승강 슬라이더(854)의 상승 하강 동작시 유격을 간극 조절 플레이트(853)가 최소화함으로써 슬라이더 바디(852)에서 승강 슬라이더(854)가 위치 틀어짐이 없이 정밀하게 승강될 수 있게 된다.A gap adjustment plate 853 is interposed between the elevating slider 854 and the slider body 852 . The clearance adjustment plate 853 minimizes the clearance during the ascending and descending operation of the lifting slider 854 , so that the lifting slider 854 in the slider body 852 can be precisely raised without shifting the position.

상기 승강 슬라이더(854)의 하부에는 쿼츠 홀드(854HD)가 고정되고, 상기 쿼츠 홀드(854HD)에는 쿼츠(855)가 결합되어, 상기 승강 슬라이더(854)의 하부에 쿼츠(855)가 배치된다. 이때, 쿼츠(855)는 블록 형상으로 구성되어, 승강 슬라이더(854) 내부의 레이저 조사 공간부와 위아래에서 만나는 위치에 배치된다. 쿼츠(855)는 메인 프레임(110)의 기대(724)에 장착된 레이저 헤드(812)의 렌즈(레이저 광학계 렌즈)와도 위아래에서 만나는 위치에 배치된다. 상기 레이저 헤드(812)에 생성된 레이저가 렌즈를 통과하여 아래로 조사되면, 상기 쿼츠(855)를 통과한 레이저가 메인 프레임(110)의 이송 경로를 따라 지나가는 PI Film(2) 쪽에 조사된다. 이때, 상기 쿼츠(855)는 육면체 블록 형상으로 구성되고, 쿼츠(855)의 저면은 PI Film(2)(플렉시블 필름)과 마주하고, 상기 쿼츠(855)의 저면은 수평면으로 구성된다. 쿼츠(855)의 저면이 수평면으로서 PI Film(2)을 쿼츠(855)의 저면 전체면이 균일한 힘으로 가압할 수 있도록 구성된다. 쿼츠(855)의 저면 전체면이 균일한 수평면이므로, 쿼츠(855)의 저면 전체면이 PI Film(2)을 위에서 균일한 힘으로 누를 수 있게 되는 것이다.A quartz hold 854HD is fixed to a lower portion of the elevating slider 854 , a quartz 855 is coupled to the quartz hold 854HD, and a quartz 855 is disposed under the elevating slider 854 . At this time, the quartz 855 is configured in a block shape, and is disposed at a position where it meets the laser irradiation space inside the elevating slider 854 at the top and bottom. The quartz 855 is disposed at a position where it also meets the lens (laser optical system lens) of the laser head 812 mounted on the base 724 of the main frame 110 from above and below. When the laser generated in the laser head 812 passes through the lens and is irradiated downward, the laser passing through the quartz 855 is irradiated to the PI Film 2 passing along the transport path of the main frame 110 . At this time, the quartz 855 is configured in a hexahedral block shape, the bottom surface of the quartz 855 faces the PI Film 2 (flexible film), and the bottom surface of the quartz 855 is configured as a horizontal plane. The bottom surface of the quartz 855 is a horizontal plane, and the entire bottom surface of the quartz 855 is configured to press the PI Film 2 with a uniform force. Since the entire bottom surface of the quartz 855 is a uniform horizontal surface, the entire bottom surface of the quartz 855 can press the PI Film 2 from above with a uniform force.

한편, 상기 상승 복귀용 플런저(852SP)는 상기 승강 슬라이더(854)에 구비된 본딩 가압 플레이트(854BP)의 아래에 배치되는데, 상기 본강 가압 플레이트를 위에서 누르는 힘이 없을 때에는 상승 복귀용 플런저(852SP)의 플런저핀에 의해 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)가 위로 올라가 있게 된다. 상기 본딩 가압 플레이트(854BP)를 위에서 누르는 힘이 작용하지 않을 때에는 상승 복귀용 플런저(852SP)의 플런저핀이 스프링의 탄성력으로 밀어올리는 힘에 의해서 상기 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)가 위로 올라가 있게 되는 것이다. 본 발명에서는 승강 슬라이더(854)의 중심부를 기준으로 양쪽 대칭되는 위치에 상승 복귀용 플런저(852SP)들이 배치되어 있어서, 상승 복귀용 플런저(852SP)들의 플런저핀들이 탄성적으로 밀어올리는 힘에 의해 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)가 어느 한쪽으로 치우치지 않고 수직 방향으로 정밀하게 올라가도록 구성된다. 한편, 상기 본딩 가압 플레이트(854BP)를 위에서 누르는 힘이 작용하는 경우에는 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)가 하강하면서 본딩 가압 플레이트(854BP)가 아래로 내리 누르는 힘에 의해 상승 복귀용 플런저(852SP)의 플런저핀이 아래로 눌려지고 동시에 플런저 하우징에 내장된 스프링은 압축되어 탄성 복원력을 보유하게 된다. 상기 승강 슬라이더(854)에 구비된 본딩 가압 플레이트(854BP)가 내리 누르는 힘에 의해서 상승 복귀용 플런저(852SP)의 플런저핀이 플런저 하우징의 내부 쪽으로 들어가도록 눌려지는 것이다. 본 발명에서는 승강 슬라이더(854)의 중심부를 기준으로 양쪽 대칭되는 위치에 상승 복귀용 플런저(852SP)들이 배치되어 있어서, 상승 복귀용 플런저(852SP)들의 플런저핀들이 눌려질 때에도 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)가 어느 한쪽으로 치우치지 않고 수직 방향으로 정밀하게 하강할 수 있도록 구성된다.On the other hand, the lifting and returning plunger (852SP) is disposed below the bonding pressure plate (854BP) provided in the lifting slider (854). The bonding pressure plate 854BP, the lifting slider 854, and the quartz 855 are raised by the plunger pin of the . When the force pressing the bonding pressure plate (854BP) from above does not act, the bonding pressure plate (854BP) and the elevating slider (854) and The quartz 855 will rise upward. In the present invention, since the plungers 852SP for lifting and return are arranged at positions symmetrical on both sides with respect to the center of the lifting slider 854, the plunger pins of the plungers for lifting and return 852SP are bonded by the elastically pushing force. The pressure plate 854BP, the lifting slider 854, and the quartz 855 are configured to rise precisely in the vertical direction without being biased to either side. On the other hand, when the force pressing the bonding pressure plate (854BP) from above acts, the bonding pressure plate (854BP) presses down while the bonding pressure plate (854BP), the elevating slider (854), and the quartz (855) descend. As a result, the plunger pin of the plunger 852SP for upward return is pressed down, and at the same time, the spring built into the plunger housing is compressed to retain the elastic restoring force. The plunger pin of the plunger 852SP for lifting and returning is pressed into the inner side of the plunger housing by the pressing force of the bonding pressure plate 854BP provided in the lifting slider 854 . In the present invention, the plungers 852SP for lifting and return are arranged at positions symmetrical on both sides with respect to the center of the lifting slider 854, so that even when the plunger pins of the plungers 852SP for lifting and returning are pressed, the bonding pressure plate (854BP) And the lifting slider 854 and the quartz 855 are configured to be precisely descended in the vertical direction without being biased to either side.

상기 Z축 승강패널(734)의 전면에는 레이저 헤드(812)의 한쪽 옆으로 벗어난 위치에 복수개의 브라켓 서포터(856BS)가 구비된다. 브라켓 서포터(856BS)는 바아 형상이다. 복수개의 브라켓 서포터(856BS)가 Z축 승강패널(734)의 전면에서 돌출되어 있다. 상기 Z축 승강패널(734)을 전면을 앞에서 볼 때에 복수개의 브라켓 서포터(856BS)가 레이저 헤드(812)와 승강 슬라이더(854)의 우측 옆으로 벗어난 위치에 배치된다.A plurality of bracket supporters 856BS are provided on the front side of the Z-axis lifting panel 734 at a position deviated to one side of the laser head 812 . The bracket supporter (856BS) has a bar shape. A plurality of bracket supporters (856BS) protrude from the front of the Z-axis lifting panel (734). When the Z-axis lifting panel 734 is viewed from the front, a plurality of bracket supporters 856BS are disposed at positions deviated from the right side of the laser head 812 and the lifting slider 854 .

상기 브라켓 서포터(856BS)에는 가압 서보모터 브라켓(856BRK)이 결합된다. 브라켓 서포터(856BS)에 볼트와 같은 체결구에 의해 가압 서보모터 브라켓(856BRK)이 결합될 수 있다.A pressure servomotor bracket 856BRK is coupled to the bracket supporter 856BS. The pressure servomotor bracket 856BRK may be coupled to the bracket supporter 856BS by a fastener such as a bolt.

상기 가압 서보모터 브라켓(856BRK)에는 가압 서보모터(856)가 장착된다. 본 발명에서 가압 서보모터(856)는 소자 가압 서보모터라 할 수 있으며, 소자(3)라 함은 주로 반도체 소자를 의미한다. 가압 서보모터(856)의 모터축은 메인 프레임(110)의 이송 경로로 지나가는 PI Film(2)과 직교하는 방향으로 배치된다. 상기 메인 프레임(110)에 구비된 기대(724)에 Z축 승강패널(734)이 승강 가능하게 결합되고, 상기 Z축 승강패널(734)에 브라켓 서포트에 지지된 가압 서보모터 브라켓(856BRK)이 장착되고, 상기 가압 서보모터 브라켓(856BRK)에 상기 가압 서보모터(856)가 장착되는데, 상기 Z축 승강패널(734)이 메인 프레임(110)의 기대(724)를 구성하므로, 상기 메인 프레임(110)의 기대(724)에 가압 서보모터(856)가 장착된 구조가 된다.A pressurized servomotor 856 is mounted on the pressurized servomotor bracket 856BRK. In the present invention, the pressurized servomotor 856 may be referred to as an element pressurized servomotor, and the element 3 mainly refers to a semiconductor element. The motor shaft of the pressurized servomotor 856 is disposed in a direction perpendicular to the PI Film 2 passing through the transport path of the main frame 110 . A Z-axis elevating panel 734 is coupled to the base 724 provided in the main frame 110 to be elevating, and a pressurized servomotor bracket 856BRK supported by a bracket support to the Z-axis elevating panel 734 is provided. is mounted, and the pressure servomotor 856 is mounted on the pressure servomotor bracket 856BRK. Since the Z-axis lifting panel 734 constitutes the base 724 of the main frame 110, the main frame ( It becomes the structure in which the pressurization servomotor 856 was attached to the base 724 of 110. As shown in FIG.

상기 가압 서보모터(856)의 모터축에는 가압 캠플랜지(857)가 결합된다. 캠플랜지는 판형상으로 구성된다. 캠플랜지의 중심부가 가압 서보모터(856)의 모터축에 동축적으로 결합된다. 가압 서보모터(856)의 모터축이 회전함에 따라 가압 캠플랜지(857)가 회전하게 된다.A pressure cam flange 857 is coupled to the motor shaft of the pressure servomotor 856 . The cam flange is formed in a plate shape. The central portion of the cam flange is coaxially coupled to the motor shaft of the pressurized servomotor 856 . As the motor shaft of the pressure servomotor 856 rotates, the pressure cam flange 857 rotates.

상기 메인 프레임(110)에는 기대(724)가 구비되고, 상기 기대(724)에는 Z축 승강패널(734)이 수직 방향(Z축 방향)으로 승강 가능하게 결합되는데, 상기 Z축 승강패널(734)의 전면에는 가압 힌지 브라켓(858)이 장착된다. 상기 가압 힌지 브라켓(858)은 승강 슬라이더(854)에 구비된 본딩 가압 플레이트(854BP)와 인접한 위치 및 본딩 가압 플레이트(854BP)의 위쪽 위치에 배치된다. 상기 메인 프레임(110)에 구비된 기대(724)에 Z축 승강패널(734)이 승강 가능하게 결합되고, 상기 Z축 승강패널(734)에 가압 힌지 브라켓(858)이 장착되는데, 상기 Z축 승강패널(734)이 메인 프레임(110)의 기대(724)를 구성하므로, 상기 메인 프레임(110)의 기대(724)에 가압 힌지 브라켓(858)이 장착된 구조가 된다.A base 724 is provided on the main frame 110, and a Z-axis elevating panel 734 is coupled to the base 724 so as to be elevating in the vertical direction (Z-axis direction), and the Z-axis elevating panel 734 is coupled to the base 724. ), a pressure hinge bracket 858 is mounted on the front side. The pressure hinge bracket 858 is disposed at a position adjacent to the bonding pressure plate 854BP provided in the elevating slider 854 and above the bonding pressure plate 854BP. A Z-axis elevating panel 734 is coupled to the base 724 provided in the main frame 110 to be elevating, and a pressing hinge bracket 858 is mounted on the Z-axis elevating panel 734, the Z-axis Since the lifting panel 734 constitutes the base 724 of the main frame 110 , the pressure hinge bracket 858 is mounted on the base 724 of the main frame 110 .

상기 가압 힌지 브라켓(858)에 힌지부를 매개로 가압 레버(859)가 결합된다. 가압 레버(859)의 앞쪽과 뒤쪽 사이의 영역이 힌지부를 매개로 가압 힌지 브라켓(858)에 결합된다. 가압 레버(859)가 가압 힌지 브라켓(858)에서 힌지부를 기준으로 시소처럼 위아래로 회동될 수 있다. 상기 메인 프레임(110)에 구비된 기대(724)에 Z축 승강패널(734)이 승강 가능하게 결합되고, 상기 Z축 승강패널(734)에 가압 힌지 브라켓(858)이 장착되고, 상기 가압 힌지 브라켓(858)에 힌지부를 매개로 가압 레버(859)가 장착되는데, 상기 Z축 승강패널(734)이 기대(724)의 구성 부분이므로, 상기 가압 레버(859)가 메인 프레임(110)에 구비된 기대(724)에 힌지부를 매개로 장착된 구조가 된다.A pressing lever 859 is coupled to the pressing hinge bracket 858 through a hinge portion. A region between the front and rear of the pressing lever 859 is coupled to the pressing hinge bracket 858 via the hinge portion. The pressing lever 859 may be rotated up and down like a seesaw based on the hinge in the pressing hinge bracket 858 . A Z-axis elevating panel 734 is coupled to the base 724 provided in the main frame 110 to be elevating, and a pressurizing hinge bracket 858 is mounted on the Z-axis elevating panel 734, and the pressurizing hinge A pressing lever 859 is mounted on the bracket 858 via a hinge part. Since the Z-axis lifting panel 734 is a component of the base 724 , the pressing lever 859 is provided on the main frame 110 . It becomes a structure mounted on the base 724 through the hinge part.

상기 가압 레버(859)에는 길이 방향으로 장홀(859LH)이 형성된다. 가압 레버(859)의 기단부와 인접한 위치에 장홀(859LH)이 형성된다. 상기 장홀(859LH)은 가압 레버(859)의 기단부와 선단부 사이의 경로를 따라 길게 연장된 홀형상으로 구성된다.A long hole 859LH is formed in the pressing lever 859 in the longitudinal direction. A long hole 859LH is formed at a position adjacent to the base end of the pressing lever 859 . The long hole 859LH is configured in the shape of a hole extending long along the path between the proximal end and the front end of the pressing lever 859 .

상기 가압 레버(859)에는 본딩 가압 플레이트(854BP)의 상면에 접촉된 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)(859CAB)이 더 구비된다. 본 발명에서 가압 레버(859)의 선단부측에는 한 쌍의 나란한 캠팔로워 장착 레버편이 구비된다. 캠팔로워 장착 레버편은 가압 레버(859)의 위에서 볼 때에 가압 레버(859)의 길이 방향 중심선에서 전방과 후방 쪽으로 각각 하나씩 배치된다. 상기 한 쌍의 캠팔로워 장착 레버편에 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)(859CAB)이 구비된다.The pressure lever 859 is further provided with pressure cam follower bearings 859CAB and 859CAB in contact with the upper surface of the bonding pressure plate 854BP. In the present invention, a pair of side-by-side cam follower mounting lever pieces are provided on the tip side of the pressing lever 859 . The cam follower mounting lever pieces are respectively disposed one at the front and one rearward from the longitudinal centerline of the pressure lever 859 when viewed from above of the pressure lever 859 . Pressurized cam follower bearings 859CAB and 859CAB are provided on the pair of cam follower mounting lever pieces.

따라서, 가압 레버(859)에 본딩 가압 플레이트(854BP)의 상면에 접촉된 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)이 구비된 구조를 취한다. 한 쌍의 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)이 본딩 가압 플레이트(854BP)의 상면에 전방과 후방 위치에서 접촉된다. 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)의 외주면이 본딩 가압 플레이트(854BP)의 상면에 접촉된다.Accordingly, the pressure lever 859 has a structure in which the pressure cam follower bearing 859CAB in contact with the upper surface of the bonding pressure plate 854BP is provided. A pair of pressure cam follower bearings 859CAB are in contact with the upper surface of the bonding pressure plate 854BP at front and rear positions. The outer peripheral surface of the pressure cam follower bearing (859CAB) is in contact with the upper surface of the bonding pressure plate (854BP).

상기 가압 레버(859)의 한 쌍의 캠팔로워 장착 레버편 사이에는 상기 본딩 가압 플레이트(854BP)에 형성된 레이저 통과홀과 직하방으로 만나는 가압 레버(859)측 레이저 통과홀이 확보된다. 한 쌍의 캠팔로워 장착 레버편은 본딩 가압 플레이트(854BP)의 레이저 통과홀을 벗어난 위치에 배치되면서 한 쌍의 캠팔로워 장착 레버편 사이에 가압 레버(859)측 레이저 통과홀이 확보된다.Between the pair of cam follower mounting lever pieces of the pressure lever 859, a laser passage hole on the side of the pressure lever 859 that meets directly below the laser passage hole formed in the bonding pressure plate 854BP is secured. The pair of cam follower mounting lever pieces is disposed at a position out of the laser passage hole of the bonding pressure plate 854BP, and a laser passage hole on the side of the pressing lever 859 is secured between the pair of cam follower mounting lever pieces.

상기 레이저 헤드(812)에서 발생한 레이저가 렌즈를 통과하여 가압 레버(859)측 레이저 통과홀과 본딩 가압 플레이트(854BP)의 레이저 통과홀과 승강 슬라이더(854)의 레이저 통과홀을 통과하여 PI Film(2) 쪽으로 조사된다.The laser generated from the laser head 812 passes through the lens and passes through the laser passage hole on the side of the pressure lever 859, the laser passage hole of the bonding pressure plate 854BP, and the laser passage hole of the lifting slider 854 to pass through the PI Film ( 2) is investigated.

상기 가압 캠플랜지(857)에는 가압 작동 연결핀(857PCP)이 구비된다. 가압 캠플랜지(857)의 중심부에서 한쪽으로 편심된 위치에 가압 작동 연결핀(857PCP)이 구비된다.The pressing cam flange 857 is provided with a pressing operation connecting pin 857PCP. A pressure operation connecting pin 857PCP is provided at an eccentric position from the center of the pressure cam flange 857 to one side.

상기 가압 레버(859)에 형성된 장홀에 상기 가압 캠플랜지(857)에 구비된 가압 작동 연결핀(857PCP)이 결합된다. 이때, 가압 작동 연결핀(857PCP)에는 롤링부재(857ROL)가 구비되고, 상기 롤링부재(857ROL)가 가압 레버(859)의 장홀(859LH)에 삽입된 상태에서 롤링부재(857ROL)의 외주면이 가압 레버(859)의 상기 장홀(859LH)에 접촉된 상태에서 롤링될 수 있도록 구성된다.A pressing operation connecting pin 857PCP provided in the pressing cam flange 857 is coupled to the long hole formed in the pressing lever 859 . At this time, the pressing operation connecting pin 857PCP is provided with a rolling member 857ROL, and in a state in which the rolling member 857ROL is inserted into the long hole 859LH of the pressing lever 859, the outer peripheral surface of the rolling member 857ROL is pressed It is configured to be rolled while in contact with the long hole (859LH) of the lever (859).

정리하면, 본 발명에서 레이저 본딩 가압부(850)는, 메인 프레임(110)의 기대(724)에 장착된 가압 서보모터(856)와, 상기 가압 서보모터(856)의 모터축에 연결된 가압 캠플랜지(857)와, 상기 메인 프레임(110)의 기대(724)에 장착되며 길이 방향으로 장홀이 형성된 가압 힌지 브라켓(858)과, 상기 가압 힌지 브라켓(858)에 힌지부를 매개로 결합된 가압 레버(859)와, 상기 메인 프레임(110)의 기대(724)에 장착되어 가압 레버(859)의 하부에 배치된 슬라이더 바디(852)와, 상기 슬라이더 바디(852)에 승강 가능하게 장착된 승강 슬라이더(854)와, 상기 승강 슬라이더(854)에 장착된 쿼츠(855)를 포함하여 구성된다.In summary, in the present invention, the laser bonding pressurizing unit 850 includes a pressurized servomotor 856 mounted on the base 724 of the main frame 110 and a pressurized cam connected to the motor shaft of the pressurized servomotor 856 . A flange 857, a pressing hinge bracket 858 mounted on the base 724 of the main frame 110 and having a long hole in the longitudinal direction, and a pressing lever coupled to the pressing hinge bracket 858 through a hinge part 859 , a slider body 852 mounted on the base 724 of the main frame 110 and disposed under the pressing lever 859 , and a lifting slider mounted on the slider body 852 to be able to move up and down. 854 , and a quartz 855 mounted on the elevating slider 854 .

한편, 상기 슬라이더 바디(852)에는 가압량 확인용 로드셀(852LOC)이 더 구비된다. 가압량 확인용 로드셀(852LOC)은 슬라이더 바디(852)의 상단부에 구비된다. 슬라이더 바디(852)의 상단부와 본강 가압 플레이트의 저면 사이에 가압량 확인용 로드셀(852LOC)이 배치된다.On the other hand, the slider body 852 is further provided with a load cell 852LOC for checking the amount of pressurization. The load cell 852LOC for checking the amount of pressure is provided at the upper end of the slider body 852 . A load cell 852LOC for checking the amount of pressure is disposed between the upper end of the slider body 852 and the bottom surface of the main steel pressure plate.

상기 승강 슬라이더(854)와 쿼츠(855)가 내려와있지 않고 가압 레버(859)에 구비된 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)(859CAB)의 외주면이 승강 슬라이더(854)에 구비된 본강 가압 플레이트의 상면에 접촉되어 있는 상태에서는 가압 캠플랜지(857)에 구비된 가압 작동 연결핀(857PCP)과 롤링부재(857ROL)가 가압 레버(859)에 구비된 장홀의 내부 선단부와 기단부 사이의 영역에 배치되어 있다.The elevating slider 854 and the quartz 855 are not down, and the outer peripheral surfaces of the pressurizing cam follower bearings 859CAB and 859CAB provided in the pressurizing lever 859 are on the upper surface of the main steel pressurizing plate provided in the elevating slider 854. In the contact state, the pressure operation connecting pin 857PCP and the rolling member 857ROL provided in the pressure cam flange 857 are disposed in the region between the inner front end and the base end of the long hole provided in the pressure lever 859 .

상기 가압 서보모터(856)의 모터축을 한쪽 방향으로 회전시켜서 가압 캠플랜지(857)를 한쪽 방향으로 회전시키면, 상기 가압 작동 연결핀(857PCP)에 구비된 롤링부재(857ROL)가 가압 레버(859)의 장홀(859LH)을 따라 가압 레버(859)의 기단부 쪽으로 이동하고 동시에 가압 작동 연결편과 롤링부재(857ROL)가 상승하면서 상기 가압 레버(859)의 기단부 쪽을 가압 레버(859) 브라켓에서 힌지부를 기준으로 위로 들어올려지고 가압 레버(859)의 선단부 쪽은 아래로 내려가도록 회동시킨다.When the pressing cam flange 857 is rotated in one direction by rotating the motor shaft of the pressing servomotor 856 in one direction, the rolling member 857ROL provided in the pressing operation connecting pin 857PCP moves the pressing lever 859. While moving toward the proximal end of the pressure lever 859 along the long hole 859LH of the pressurizing lever 859 and at the same time as the pressure operation connecting piece and the rolling member 857ROL rise, the proximal end of the pressure lever 859 is the hinge portion of the pressure lever 859 bracket. is lifted upward and the tip side of the pressure lever 859 is rotated to go down.

그러면, 상기 가압 레버(859)의 선단부에 구비된 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)(859CAB)은 아래의 본딩 가압 플레이트(854BP)의 상면에서 롤링되고 동시에 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)를 내리 눌러서 상기 쿼츠(855)가 PI Film(2)에 탑재된 소자(주로, 반도체 소자)를 일정 압력으로 가압하고, 상기 레이저 헤드(812)에서부터 쿼츠(855)의 저면으로 조사된 레이저에 의해서 소자가 본딩 페이스트에 의해 PI Film(2)에 본딩되도록 한다.Then, the pressure cam follower bearings 859CAB and 859CAB provided at the tip of the pressure lever 859 are rolled on the upper surface of the bonding pressure plate 854BP below and at the same time the bonding pressure plate 854BP and the lifting slider 854) And by pressing down the quartz 855 to press the element (mainly semiconductor element) mounted on the PI Film (2) with the quartz 855 at a constant pressure, from the laser head 812 to the bottom of the quartz 855 The device is bonded to the PI Film (2) by the bonding paste by the irradiated laser.

상기 반도체 소자 가압 서보모터(856)에 의해 반도체 소자 가압 캠플랜지(857)가 회전되고, 가압 레버(859)가 가압 힌지 브라켓(858)에 의해서 회전운동이 가압 레버(859)를 통해 상하 직진운동으로 변환되어 쿼츠(855)가 하강하게 되어 상기 진공 히팅 테이블에 접촉되어 가압하게 된다. 진공 히팅 테이블 위에 받쳐진 PI Film(2) 위의 소자(반도체 소자)를 하강한 쿼츠(855)가 가압하여 본딩 페이스트에 의해 PI Film(2) 위에 본딩시키게 되는 것이다.The semiconductor element pressing cam flange 857 is rotated by the semiconductor element pressing servomotor 856 , and the pressing lever 859 is rotated by the pressing hinge bracket 858 in a vertical straight motion through the pressing lever 859 . , and the quartz 855 descends to come into contact with the vacuum heating table and pressurize it. The quartz 855, which descends the element (semiconductor element) on the PI Film 2 supported on the vacuum heating table, presses it and bonds it onto the PI Film 2 by the bonding paste.

이때, 상기 쿼츠(855)의 저면에는 실리콘 블록이 구비될 수 있으며, 이러한 경우에는 실리콘 블록이 소자(3)에 접촉되어 PI Film(2) 위에 소자(3)를 본딩시키게 된다.At this time, a silicon block may be provided on the bottom surface of the quartz 855 , and in this case, the silicon block contacts the device 3 to bond the device 3 on the PI Film 2 .

또한, 상기 슬라이더 바디(852)에 구비된 가압량 확인용 로드셀(852LOC)은 PI Film(2) 위의 소자(반도체 소자)를 하강한 쿼츠(855)가 가압하여 본딩 페이스트에 의해 PI Film(2) 위에 본딩시에 소자에 대한 적절한 가압량을 확인하여 소자가 무리한 힘으로 눌리는 것을 방지한다. 상기 본딩 가압 서보보터의 모터축의 회전에 의해서 결과적으로 쿼츠(855) 부분이 소자를 가압하여 PI Fim 위에 본딩되도록 하는데, 가압용 확인 로드셀(852LOC)에 의해서 쿼츠(855)가 소자를 가압하여 본딩시키기 위한 가압량을 확인함으로써 상기 본딩 가압 서보모터(856)의 모터축의 회전량을 제어되도록 하고, 상기 본딩 가압 서보모터(856)의 모터축의 회전량이 제어되도록 함으로써 쿼츠(855) 부분이 소자를 PI Film(2)에 가압하는 힘을 적절하게 조절되도록 할 수 있다.In addition, the load cell 852LOC for checking the pressurization amount provided in the slider body 852 is pressed by the quartz 855 that descends the element (semiconductor element) on the PI Film 2, and the PI Film 2 is formed by bonding paste. ) Check the appropriate amount of pressure on the element during bonding to prevent the element from being pressed with excessive force. As a result, the quartz 855 part presses the element by the rotation of the motor shaft of the bonding pressurization servomotor so that it is bonded on the PI Fim. The amount of rotation of the motor shaft of the bonding pressure servomotor 856 is controlled by confirming the amount of pressure to be applied, and the amount of rotation of the motor shaft of the bonding pressure servomotor 856 is controlled. The force applied to the Film (2) can be adjusted appropriately.

상기 본딩 베이스부(820)는 진공 히팅 플레이트(822)와 진공척(824)을 구비하고, 진공 히팅 플레이트(822)와 진공척(824)은 업다운 작동수단에 의해 승강되도록 구성된다. 또한, 상기 본딩 베이스부(820)는 X축 이동 작동부에 의해서 메인 프레임(110)의 X축 방향으로 이동이 가능하도록 구성된다.The bonding base part 820 includes a vacuum heating plate 822 and a vacuum chuck 824 , and the vacuum heating plate 822 and the vacuum chuck 824 are configured to be raised and lowered by an up-down operation means. In addition, the bonding base part 820 is configured to be movable in the X-axis direction of the main frame 110 by the X-axis movement operation unit.

상기 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112)에 본딩 베이스 서포트 블록(826)이 구비된다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)은 내부에 공간부가 있는 박스 형상으로 구성된다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에는 하부 슬라이더(827)가 구비된다. 상기 하부 슬라이더(827)의 상면은 하부 업다운 경사면(827SF)으로 구성된다. 상기 하부 슬라이더(827)는 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 이동 가능하게 내장된다. 하부 슬라이더(827)는 PI Film(2)이 지나가는 메인 프레임(110)의 이송 경로인 X축 방향과 직교하는 방향인 Y축 방향으로 전후진 가능하도록 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 내장된다. 상기 하부 슬라이더(827)의 상면을 이루는 하부 업다운 경사면(827SF)은 한쪽은 상대적으로 다른 쪽보다 높은 경사면이다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 한쪽 옆에서 볼 때에 하부 업다운 경사면(827SF)의 높은 쪽이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 후방 쪽에 배치되고, 하부 업다운 경사면(827SF)의 낮은 쪽이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 전방 쪽에 배치된다.A bonding base support block 826 is provided on the main base 112 of the main frame 110 . The bonding base support block 826 is configured in a box shape having a space therein. A lower slider 827 is provided in the inner space of the bonding base support block 826 . The upper surface of the lower slider 827 is composed of a lower up-down inclined surface 827SF. The lower slider 827 is movably embedded in the inner space of the bonding base support block 826 . The lower slider 827 is located in the inner space of the bonding base support block 826 so as to move forward and backward in the Y-axis direction, which is a direction orthogonal to the X-axis direction, which is the transport path of the main frame 110 through which the PI Film 2 passes. is built-in One of the lower up-down inclined surfaces 827SF constituting the upper surface of the lower slider 827 is a relatively higher inclined surface than the other. When viewed from one side of the bonding base support block 826, the higher side of the lower up-down inclined surface 827SF is disposed on the rear side of the bonding base support block 826, and the lower side of the lower up-down inclined surface 827SF is the bonding base support It is disposed on the front side of block 826 .

상기 하부 슬라이더(827)는 업다운 엘엠 가이드에 의해 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 하면에 이동 가능하게 결합된다. 업다운 엘엠 가이드는 업다운 가이드 레일과 업다운 가이드 레일블록으로 구성되는데, 업다운 가이드 레일은 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 전후 방향으로 배치된다. 메인 프레임(110)에서 PI Film(2)의 이송 방향인 X축 방향과 직교하는 Y축 방향과 나란한 방향으로 업다운 가이드 레일이 배치된다. 상기 업다운 가이드 레일에는 업다운 가이드 레일블록이 슬라이드 가능하게 결합되고, 상기 업다운 가이드 레일블록은 하부 슬라이더(827)에 연결되어, 상기 하부 슬라이더(827)가 업다운 엘엠 가이드에 의해 메인 프레임(110)의 PI Film(2) 이송 방향과 직교하는 방향으로 이동될 수 있도록 구성된다. 이때, 하부 슬라이더(827)의 저면에 업다운 가이드 레일홈이 구비되고, 메인 프레임(110)에서 PI Film(2)의 이송 방향인 X축 방향과 직교하는 Y축 방향과 나란한 방향으로 업다운 가이드 레일이 배치되어, 상기 하부 슬라이더(827)의 업다운 가이드 레일홈이 상기 업다운 가이드 레일에 슬라이드 가능하게 결합되도도록 구성될 수도 있다. 이러한 경우에는 업다운 엘엠 가이드는 상기 업다운 가이드 레일홈과 상기 업다운 가이드 레일로 구성된다.The lower slider 827 is movably coupled to the inner lower surface of the bonding base support block 826 by an up-down LM guide. The up-down LM guide is composed of an up-down guide rail and an up-down guide rail block, and the up-down guide rail is disposed in the front-rear direction of the bonding base support block 826 . In the main frame 110 , an up-down guide rail is arranged in a direction parallel to the Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction, which is the transport direction of the PI Film (2). An up-down guide rail block is slidably coupled to the up-down guide rail, the up-down guide rail block is connected to a lower slider 827, and the lower slider 827 is PI of the main frame 110 by an up-down LM guide. Film (2) is configured to be movable in a direction orthogonal to the transport direction. At this time, an up-down guide rail groove is provided on the bottom surface of the lower slider 827, and the up-down guide rail is parallel to the Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction, which is the transport direction of the PI Film (2) in the main frame 110. It may be arranged so that the up-down guide rail groove of the lower slider 827 is slidably coupled to the up-down guide rail. In this case, the up-down LM guide includes the up-down guide rail groove and the up-down guide rail.

상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)에는 승강 작동 서보모터(832)가 장착된다. 승강 작동 서보모터(832)의 모터축은 메인 프레임(110)의 PI Film(2) 이송 방향과 직교하는 방향(Y축 방향)과 나란한 방향으로 배치된다. 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축에는 승강 작동 볼나사(833)가 구비된다. 승강 작동 볼나사(833)도 상기 Y축 방향으로 배치된다.A lifting operation servo motor 832 is mounted on the bonding base support block 826 . The motor shaft of the elevating operation servomotor 832 is disposed in a direction parallel to the direction (Y-axis direction) orthogonal to the transport direction of the PI Film (2) of the main frame 110 . A lifting operation ball screw 833 is provided on the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 . The lifting operation ball screw 833 is also disposed in the Y-axis direction.

상기 승강 작동 볼나사(833)에는 승강 작동 볼너트(834)가 결합된다. 승강 작동 볼나사(833)가 하부 슬라이더(827)의 후면에 구비되고, 상기 승강 작동 볼너트(834)가 승강 작동 서보모터(832)의 모터축에 구비된 승강 작동 볼나사(833)에 결합된다.The lifting operation ball nut 834 is coupled to the lifting operation ball screw 833 . The lifting operation ball screw 833 is provided on the rear surface of the lower slider 827 , and the lifting operation ball nut 834 is coupled to the lifting operation ball screw 833 provided on the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 . do.

상기 하부 슬라이더(827)에는 승강 작동 서보모터(832)의 모터축이 연결된다. 상기 승강 작동 서보모터(832)는 본딩 베이스 서포트 블록(826)에 볼트와 브라켓과 같은 고정수단에 의해 고정되고, 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축에는 승강 작동 볼나사(833)가 구비되고, 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)에는 승강 작동 볼너트(834)가 구비되고, 상기 승강 작동 볼너트(834)가 상기 슬라이더 볼나사에 결합된다. 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축은 PI Film(2)의 이송 경로와 직교하는 방향으로 배치된 상태에서 하부 슬라이더(827)에 연결된다. 하부 슬라이더(827)의 일측면에서 볼 때에 승강 작동 서보모터(832)의 모터축이 하부 슬라이더(827)의 후면에 연결된다.A motor shaft of the lifting operation servo motor 832 is connected to the lower slider 827 . The lifting operation servomotor 832 is fixed to the bonding base support block 826 by fixing means such as bolts and brackets, and a lifting operation ball screw 833 is provided on the motor shaft of the lifting operation servomotor 832 . A lifting operation ball nut 834 is provided on the bonding base support block 826 , and the lifting operation ball nut 834 is coupled to the slider ball screw. The motor shaft of the lifting operation servomotor 832 is connected to the lower slider 827 in a state in which it is disposed in a direction orthogonal to the transport path of the PI Film (2). When viewed from one side of the lower slider 827 , the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 is connected to the rear surface of the lower slider 827 .

상기 하부 슬라이더(827)는 업다운 작동수단에 의해 전후진하도록 구성된다. 본 발명에서 업다운 작동수단은 승강 작동 서보모터(832)와 승강 작동 볼나사(833) 및 승강 작동 볼너트(834)이다.The lower slider 827 is configured to move forward and backward by an up-down operation means. In the present invention, the up-down operation means is a lifting operation servo motor 832 , a lifting operation ball screw 833 , and a lifting operation ball nut 834 .

따라서, 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축이 정역회전하면 승강 작동 볼나사(833)가 정역회전하여 승강 작동 볼너트(834)에 연결된 하부 슬라이더(827)가 업다운 엘엠 가이드에 의해서 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 Y축 방향을 따라 전진하거나 후진할 수 있게 된다. 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축과 승강 작동 볼나사(833)가 정역회전하면, 하부 슬라이더(827)가 연결된 하부 업다운 이동 볼너트가 하부 업다운 엘엠 가이드의 업다운 가이드 레일을 따라 전후진하므로, 상기 하부 업다운 이동 볼너트에 연결된 하부 슬라이더(827)가 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 Y축 방향을 따라 전진하거나 후진할 수 있게 되는 것이다. 상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축의 회전력이 승강 작동 볼나사(833)와 승강 작동 볼너트(834)에 의해서 직선운동으로 전환되어 업다운 엘엠 가이드에 의해 상기 하부 슬라이더(827)가 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 Y축 방향으로 전후진할 수 있게 된다. 하부 슬라이더(827)가 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 방향으로 이동할 때에 하부 업다운 경사면(827SF)도 PI Film(2)의 이송 방향과 직교하는 방향으로 이동할 수 있게 된다.Therefore, when the motor shaft of the lifting operation servomotor 832 rotates forward and reverse, the lifting operation ball screw 833 rotates forward and reverse, and the lower slider 827 connected to the lifting operation ball nut 834 moves up and down by the LM guide. It becomes possible to move forward or backward along the Y-axis direction orthogonal to the transfer direction of (2). When the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 and the lifting operation ball screw 833 rotate forward and reverse, the lower up-down movement ball nut to which the lower slider 827 is connected moves forward and backward along the up-down guide rail of the lower up-down LM guide. , the lower slider 827 connected to the lower up-down movement ball nut can move forward or backward along the Y-axis direction orthogonal to the transport direction of the PI Film (2). The rotational force of the motor shaft of the lifting operation servomotor 832 is converted into a linear motion by the lifting operation ball screw 833 and the lifting operation ball nut 834, and the lower slider 827 is moved by the PI Film ( It becomes possible to move forward and backward in the Y-axis direction orthogonal to the feed direction of 2). When the lower slider 827 moves in a direction perpendicular to the transport direction of the PI Film 2 , the lower up-down inclined surface 827SF can also move in a direction perpendicular to the transport direction of the PI Film 2 .

상기 하부 슬라이더(827)의 위에 상부 슬라이더(828)가 배치된다. 상기 상부 슬라이더(828)는 테이블 업다운 슬라이더라 할 수 있다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 상부 슬라이더(828)가 구비된다. 상기 상부 슬라이더(828)의 저면은 상부 업다운 경사면(828SF)으로 구성된다. 상기 상부 슬라이더(828)는 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 승강 가능하게 내장된다. 즉, 상부 슬라이더(828)는 슬라이더 승강 엘엠 가이드에 의해서 본딩 베이스 서포트 블록(826)에 승강 가능하게 결합된다. 상부 슬라이더(828)는 메인 프레임(110)의 이송 경로를 따라 지나가는 PI Film(2)의 아래에서 승강되도록 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 내부 공간부에 내장된다. 상기 상부 슬라이더(828)의 저면을 이루는 상부 업다운 경사면(828SF)은 한쪽은 상대적으로 다른 쪽보다 높은 경사면이다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 한쪽 옆에서 볼 때에 상부 업다운 경사면(828SF)의 높은 쪽이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 후방 쪽에 배치되고, 상부 업다운 경사면(828SF)의 낮은 쪽이 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 전방 쪽에 배치된다. 상기 상부 슬라이더(828) 저면의 상부 업다운 경사면(828SF)은 하부 슬라이드 상면의 하부 업다운 경사면(827SF)에 맞닿아 있다. 상기 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 일측면에서 볼 때에 상부 슬라이더(828)의 상부 업다운 경사면(828SF)과 하부 슬라이더(827)의 하우 업다운 경사면이 서로 맞닿아 있는 상태에서 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 후방에서 전방 쪽으로 기울어진 경사면으로 형성된다.An upper slider 828 is disposed on the lower slider 827 . The upper slider 828 may be referred to as a table up-down slider. An upper slider 828 is provided in the inner space of the bonding base support block 826 . A bottom surface of the upper slider 828 is configured as an upper up-down inclined surface 828SF. The upper slider 828 is embedded in the inner space of the bonding base support block 826 to be liftable. That is, the upper slider 828 is coupled to the bonding base support block 826 to be elevating by the slider elevating LM guide. The upper slider 828 is embedded in the internal space of the bonding base support block 826 so as to be raised and lowered under the PI Film 2 passing along the transport path of the main frame 110 . One of the upper up-down inclined surfaces 828SF constituting the bottom surface of the upper slider 828 is a relatively higher inclined surface than the other. When viewed from one side of the bonding base support block 826, the higher side of the upper up-down inclined surface 828SF is disposed on the rear side of the bonding base support block 826, and the lower side of the upper up-down inclined surface 828SF is the bonding base support It is disposed on the front side of block 826 . The upper up-down inclined surface 828SF of the lower surface of the upper slider 828 is in contact with the lower up-down inclined surface 827SF of the upper surface of the lower slide. When viewed from one side of the bonding base support block 826, the upper up-down inclined surface 828SF of the upper slider 828 and the lower up-down inclined surface of the lower slider 827 are in contact with each other. Bonding base support block 826 It is formed as a slope inclined from the rear to the front of the

상기 업다운 가동수단을 구성하는 승강 작동 서보모터(832)의 모터축과 승강 작동 볼나사(833)가 한쪽 방향으로 회전함에 따라 하부 슬라이더(827)가 전진한다. 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 한쪽 측면에서 볼 때에 하부 슬라이더(827)가 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 후방에서 전방 쪽으로 전진한다. 그러면, 하부 슬라이더(827)의 하부 업다운 경사면(827SF)과 상부 슬라이더(828)의 상부 업다운 경사면(828SF)에 의해서 상부 슬라이더(828)가 상승한다.As the motor shaft of the lifting operation servomotor 832 and the lifting operation ball screw 833 constituting the up-down operation means rotate in one direction, the lower slider 827 advances. When viewed from one side of the bonding base support block 826 , the lower slider 827 advances from the rear to the front of the bonding base support block 826 . Then, the upper slider 828 rises by the lower up-down inclined surface 827SF of the lower slider 827 and the upper up-down inclined surface 828SF of the upper slider 828 .

상기 승강 작동 서보모터(832)의 모터축과 승강 작동 볼나사(833)가 다른 쪽 방향으로 회전함에 따라 하부 슬라이더(827)가 후진한다. 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 한쪽 측면에서 볼 때에 하부 슬라이더(827)가 본딩 베이스 서포트 블록(826)의 전방에서 후방 쪽으로 전진한다. 그러면, 하부 슬라이더(827)의 하부 업다운 경사면(827SF)과 상부 슬라이더(828)의 상부 업다운 경사면(828SF)에 의해서 상부 슬라이더(828)가 하강한다.As the motor shaft of the lifting operation servo motor 832 and the lifting operation ball screw 833 rotate in the other direction, the lower slider 827 moves backward. When viewed from one side of the bonding base support block 826 , the lower slider 827 advances from the front to the rear of the bonding base support block 826 . Then, the upper slider 828 descends by the lower up-down inclined surface 827SF of the lower slider 827 and the upper up-down inclined surface 828SF of the upper slider 828 .

상기 상부 슬라이더(828)의 상면에는 단열재가 구비된다. 상기 단열재 위에 진공 히팅 플레이트(822)가 구비된다. 진공 히팅 플레이트(822)의 하부와 상부 슬라이더(828)의 상면 사이에 단열재가 개재된다. 즉, 상기 진공 히팅 플레이트(822)의 하부에는 상부 슬라이더(828)가 구비되고, 상기 상부 슬라이더(828)의 저면은 상부 업다운 경사면(828SF)으로 구성되고, 상기 상부 슬라이더(828)의 아래에는 하부 슬라이더(827)가 구비되고, 상기 하부 슬라이더(827)의 상면은 상기 상부 업다운 경사면(828SF)과 면접촉되는 하부 업다운 경사면(827SF)으로 구성되며, 상기 하부 슬라이더(827)는 업다운 작동수단에 의해 전후진하고, 상기 하부 슬라이더(827)가 전후진 작동함에 따라 상부 슬라이더(828)와 진공 히팅 플레이트(822)를 승강시키게 된다. 물론 단열재고 상부 슬라이더(828)와 진공 히팅 플레이트(822)와 함께 승강된다.A heat insulating material is provided on the upper surface of the upper slider 828 . A vacuum heating plate 822 is provided on the insulating material. An insulating material is interposed between the lower portion of the vacuum heating plate 822 and the upper surface of the upper slider 828 . That is, an upper slider 828 is provided under the vacuum heating plate 822 , a bottom surface of the upper slider 828 is composed of an upper up-down inclined surface 828SF, and a lower portion below the upper slider 828 . A slider 827 is provided, and the upper surface of the lower slider 827 includes a lower up-down inclined surface 827SF that is in surface contact with the upper up-down inclined surface 828SF, and the lower slider 827 is operated by an up-down operation means. The upper slider 828 and the vacuum heating plate 822 are raised and lowered as the lower slider 827 moves forward and backward. Of course, it is raised and lowered together with the insulation stock upper slider 828 and the vacuum heating plate 822 .

상기 메인 프레임(110)의 메인 베이스(112) 위에 구비된 본딩 베이스 서포트 블록(826), 상부 슬라이더(828), 하부 슬라이더(827), 단열재, 진공 히팅 플레이트(822)가 진공 히팅 테이블을 구성한다. 본 발명에서는 진공 히팅 테이블을 본딩 베이스부(820)라 칭한다.The bonding base support block 826, the upper slider 828, the lower slider 827, the insulating material, and the vacuum heating plate 822 provided on the main base 112 of the main frame 110 constitute a vacuum heating table. . In the present invention, the vacuum heating table is referred to as a bonding base unit 820 .

상기 본딩 베이스부(820)는 진공 히팅 플레이트(822)와 진공척(824)을 포함한다.The bonding base part 820 includes a vacuum heating plate 822 and a vacuum chuck 824 .

상기 진공 히팅 플레이트(822)는 상기 상부 슬라이더(828) 위에 있는 단열재의 상면에 결합되어 있어서, 상기 메인 프레임(110)의 이송 경로를 따라 지나가는 PI Film(2)의 아래에서 진공 히팅 플레이트(822)가 승강될 수 있다. 상기와 같이 하부 슬라이더(827)가 전진하여 상부 슬라이더(828)를 위로 밀어올리면 진공 히팅 플레이트(822)가 상승하고, 하부 슬라이더(827)가 후진하여 상부 슬라이더(828)가 아래로 내려오면 진공 히팅 플레이트(822)가 하강한다.The vacuum heating plate 822 is coupled to the upper surface of the insulating material on the upper slider 828, so that the vacuum heating plate 822 is under the PI Film 2 passing along the transport path of the main frame 110. can be elevated. As described above, when the lower slider 827 advances and pushes the upper slider 828 upward, the vacuum heating plate 822 rises, and when the lower slider 827 moves backward and the upper slider 828 descends, vacuum heating The plate 822 is lowered.

상기 진공척(824)은 진공 히팅 플레이트(822)의 내부에 확보된 진공 형성홀(824VH)과, 상기 진공 형성홀(824VH)에 연결되어 진공 히팅 플레이트(822)의 상면으로 연통된 복수개의 흡착홀(824SH)을 포함한다.The vacuum chuck 824 is connected to the vacuum forming hole 824VH secured inside the vacuum heating plate 822, and the vacuum forming hole 824VH, and is connected to the upper surface of the vacuum heating plate 822 by a plurality of adsorption. and a hole 824SH.

상기 진공 형성홀(824VH)은 진공 히팅 플레이트(822)의 내부에 진공을 형성하기 위한 통로를 형성한다. 상기 진공 형성홀(824VH)에는 미도시된 진공장치가 연결된다.The vacuum forming hole 824VH forms a passage for forming a vacuum in the vacuum heating plate 822 . A vacuum device (not shown) is connected to the vacuum forming hole 824VH.

상기 복수개의 흡착홀(824SH)들은 진공 형성홀(824VH)과 연통된다. 복수개의 흡착홀(824SH)들이 진공 히팅 플레이트(822)에 격자 배열 형태로 분포된다. 복수개의 흡착홀(824SH)들이 진공 히팅 플레이트(822)의 상면에 균일한 간격으로 격자 형태로 배열된 구조가 된다. 상기 진공 형성홀(824VH)에 진공장치의 작동에 의해 진공이 형성되면 상기 복수개의 흡착홀(824SH)들에서는 진공 히팅 플레이트(822)의 상면에 얹혀진 PI Film(2)(기판)을 진공압으로 흡착하여 진공 히팅 플레이트(822)의 상면에 고정하게 된다. 진공 히팅 플레이트(822)의 상면에 균일한 격자형으로 배열된 복수개의 흡착홀(824SH)들에 의해서 PI Film(2)을 균일한 진공압으로 흡착하여 진공 흡착 플레이트의 상면에 안정적으로 밀착되도록 고정하는 것이다.The plurality of adsorption holes 824SH communicate with the vacuum forming hole 824VH. A plurality of adsorption holes 824SH are distributed on the vacuum heating plate 822 in a grid arrangement. A plurality of adsorption holes 824SH are arranged in a lattice form at uniform intervals on the upper surface of the vacuum heating plate 822 . When a vacuum is formed in the vacuum forming hole 824VH by the operation of a vacuum device, the PI Film 2 (substrate) placed on the upper surface of the vacuum heating plate 822 is applied to the plurality of adsorption holes 824SH by vacuum pressure. It is adsorbed and fixed to the upper surface of the vacuum heating plate 822 . The PI Film (2) is adsorbed with a uniform vacuum pressure by a plurality of adsorption holes (824SH) arranged in a uniform grid on the upper surface of the vacuum heating plate (822) and fixed to be stably adhered to the upper surface of the vacuum adsorption plate (822) will do

이때, 상기 메인 프레임(110)에는 소재가 탑재된 플렉시블 필름(2)의 위치를 촬영하는 카메라(851)가 더 구비된다. 카메라(851)는 브라켓과 같은 고정수단에 의해 PI Film(2)의 위쪽에 배치되도록 메인 프레임(110)에 지지되어 장착될 수 있다. 상기 카메라(851)에 의해 PI Film(2)의 위치와 소자의 위치를 촬영하여 레이저 헤드(812)와 승강 슬라이더(854)와 쿼츠(855)의 X축 위치와 Y축 위치와 Z축 위치가 PI Film(2) 위치에 맞춰서 조절될 수 있도록 한다.At this time, the main frame 110 is further provided with a camera 851 for photographing the position of the flexible film 2 on which the material is mounted. The camera 851 may be supported and mounted on the main frame 110 so as to be disposed above the PI Film 2 by a fixing means such as a bracket. By photographing the position of the PI Film (2) and the position of the element by the camera 851, the X-axis position, Y-axis position, and Z-axis position of the laser head 812, the lifting slider 854, and the quartz 855 are It can be adjusted according to the position of the PI Film (2).

한편, 상기 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854)와 쿼츠(855)가 내려와서 쿼츠(855) 부분이 PI Flim 위에 소자를 누르고 있는 상태에서는 상승 복귀용 플런저(852SP)들의 플런저핀들은 승강 슬라이더(854)에 구비된 본딩 가압 플레이트(854BP)에 의해 눌려지고 상승 복귀용 플런저(852SP)들 내부의 스프링은 압축된 상태로 된다.On the other hand, in a state in which the bonding pressure plate 854BP, the lifting slider 854 and the quartz 855 descend and the quartz 855 part is pressing the element on the PI Flim, the plunger pins of the plungers 852SP for lifting and returning are raised and lowered. It is pressed by the bonding pressure plate 854BP provided in the slider 854 and the springs inside the plungers 852SP for lifting and returning are in a compressed state.

상기 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)가 내려가 있는 상태에서 상기 가압 서보모터(856)의 모터축을 다른 쪽 방향으로 회전시켜서 가압 캠플랜지(857)를 다른 쪽 방향으로 회전시키면, 상기 가압 작동 연결핀(857PCP)에 구비된 롤링부재(857ROL)가 가압 레버(859)의 장홀(859LH)을 따라 가압 레버(859)의 기단부에서 선단부 쪽으로 이동하고 동시에 가압 작동 연결편과 롤링부재(857ROL)가 하승하면서 상기 가압 레버(859)의 기단부 쪽을 가압 레버(859) 브라켓에서 힌지부를 기준으로 아래로 내리고 가압 레버(859)의 선단부 쪽은 들어올려지도록 회동시킨다.In the state in which the bonding pressure plate 854BP, the lifting slider 854, and the quartz 855 are down, the motor shaft of the pressure servo motor 856 is rotated in the other direction to rotate the pressure cam flange 857 in the other direction. When rotated, the rolling member 857ROL provided in the pressure operation connecting pin 857PCP moves from the proximal end to the front end of the pressure lever 859 along the long hole 859LH of the pressure lever 859 and simultaneously rolls with the pressure operation connection piece As the member 857ROL descends, the proximal end side of the pressure lever 859 is rotated downward based on the hinge part of the pressure lever 859 bracket and the front end side of the pressure lever 859 is lifted.

그러면, 상기 가압 레버(859)의 선단부에 구비된 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)(859CAB)은 아래의 본딩 가압 플레이트(854BP)의 상면에서 롤링되고 동시에 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)를 내리 누르는 힘이 해제되며, 이때에 상기 상승 복귀용 플런저(852SP)들의 눌려져 있는 플런저핀들이 스프링이 펼쳐지는 탄성력에 의해서 탄성적으로 올라오면서 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)를 PI Film(2) 위로 상승시키게 된다. 상기 쿼츠(855)가 위로 올라감에 따라 쿼츠(855)가 PI Film(2)에 탑재된 소자를 일정 압력으로 가압하는 상태가 해제되는 것이다.Then, the pressure cam follower bearings 859CAB and 859CAB provided at the tip of the pressure lever 859 are rolled on the upper surface of the bonding pressure plate 854BP below and at the same time the bonding pressure plate 854BP and the lifting slider 854) And the force pressing down the quartz 855 is released, and at this time, the pressed plunger pins of the lift and return plungers 852SP are elastically raised by the elastic force of the spring unfolding, and the bonding pressure plate 854BP and the elevating slider (854) and quartz (855) are raised above the PI Film (2). As the quartz 855 moves upward, the state in which the quartz 855 presses the element mounted on the PI Film 2 to a predetermined pressure is released.

본 발명에 의한 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템은 레이저 본더 디바이스 가압 시스템이라 할 수 있으며, 언와인더 유닛(210)에서 플렉시블 필름(2) 공급(PI Film(2) 공급), PI Film(2)에 소자 레이저 본딩, 리와인더 유닛(310)에서 PI Film(2) 리와인딩 작업을 진행한다.The flexible display element pressure bonding system according to the present invention can be called a laser bonder device pressure system, and the flexible film 2 supply (PI Film 2 supply) from the unwinder unit 210, the PI Film 2 The PI Film (2) rewinding operation is performed in the device laser bonding and rewinder unit (310).

본 발명에서는 PI Film(2)(기판) 피딩, 레이저 헤드(812) 조사 정위치로 이동(X,Y,Z축), 진공 히팅 테이블 상승, 레이저 헤드(812) 조사, 레이저 본딩 시스템 하강 압착에 의해서 PI Film(2)에 소자(주로 반도체 소자)를 레이저 본딩하게 된다.In the present invention, PI Film (2) (substrate) feeding, laser head 812 irradiation move to the correct position (X, Y, Z axes), vacuum heating table rise, laser head 812 irradiation, laser bonding system downward compression By this, a device (mainly a semiconductor device) is laser-bonded to the PI Film (2).

소자가 탑재된 PI Film(2)이 한 피치씩 이동하여 스탑된 상태에서 승강 작동 서보모터(832)에 의해 진공 히팅 플레이트(822)가 상승한다. 승강 작동 서보모터(832)에 의해 승강 작동 볼나사(833)(테이블 승강 슬라이더(854) 볼나사)가 회전하면 테이블 승강 슬라이더(854)가 상승 또는 하강하게 된다. 상기한 바와 같이, 승강 작동 서보모터(832)의 모터축과 승강 작동 볼나사(833)가 한쪽 방향으로 회전함에 따라 하부 슬라이더(827)가 전진하여 상기 상부 슬라이더(828)를 상승시키고, 승강 작동 서보모터(832)의 모터축과 승강 작동 볼나사(833)가 다른 쪽 방향으로 회전함에 따라 하부 슬라이더(827)가 후진하여 상기 상부 슬라이더(828)를 하강시킨다. 상기 하부 슬라이더(827)가 전진하여 상기 상부 슬라이더(828)를 상승시키면, 상부 슬라이더(828)가 저면에 연결된 진공 히팅 플레이트(822)가 상승한다. 진공 히팅 플레이트(822)가 상승하면 PI Film(2)의 저면에 진공 히팅 플레이트(822)의 상면이 접촉된다.The vacuum heating plate 822 rises by the elevating servomotor 832 in a state in which the PI Film 2 on which the element is mounted is moved and stopped by one pitch. When the lifting operation ball screw 833 (table lifting slider 854 ball screw) is rotated by the lifting operation servomotor 832, the table lifting slider 854 is raised or lowered. As described above, as the motor shaft of the lifting operation servomotor 832 and the lifting operation ball screw 833 rotate in one direction, the lower slider 827 advances to raise the upper slider 828, and the lifting operation is performed. As the motor shaft of the servo motor 832 and the lifting operation ball screw 833 rotate in the other direction, the lower slider 827 moves backward to lower the upper slider 828 . When the lower slider 827 advances to raise the upper slider 828 , the vacuum heating plate 822 connected to the bottom surface of the upper slider 828 rises. When the vacuum heating plate 822 rises, the top surface of the vacuum heating plate 822 is in contact with the bottom surface of the PI Film 2 .

소자 가압 서보모터(856)에 의해 소자(3) 가압 캠플랜지(857)가 회전되고, 가압 레버(859)가 가압 힌지 브라켓(858)에 의해 회전운동이 가압 레버(859)를 통해 상하 직진운동으로 변환되어 승강 슬라이더(854)와 함께 쿼츠(855)가 하강하게 되어 진공 히팅 플레이트(822)에 접촉되어 가압된다. 상기 쿼츠(855)의 아래에 소자(3)(반도체 소자(3))가 탑재된 PI Film(2)이 있으므로, 상기 쿼츠(855)가 소자(3)와 PI Film(2)을 진공 히팅 플레이트(822)의 상면에 가압되도록 한다. 상기한 바와 같이, 가압 서보모터(856)의 모터축을 한쪽 방향으로 회전시켜서 가압 캠팔로워를 한쪽 방향으로 회전시키면, 상기 가압 작동 연결핀(857PCP)에 구비된 롤링부재(857ROL)가 가압 레버(859)의 장홀(612XLH)을 따라 가압 레버(859)의 기단부 쪽으로 이동하고 동시에 가압 작동 연결편과 롤링부재(857ROL)가 상승하면서 상기 가압 레버(859)의 기단부 쪽을 가압 힌지 브라켓(858)에서 힌지부를 기준으로 위로 들어올려지고 가압 레버(859)의 선단부 쪽은 아래로 내려가도록 회동시켜줌으로써 본딩 가압 플레이트(854BP)와 승강 슬라이더(854) 및 쿼츠(855)를 내리 눌러서 상기 쿼츠(855)가 PI Film(2)에 탑재된 소자(3)를 진공 히팅 플레이트(822)의 상면에 일정 압력으로 가압하게 된다.The element 3 pressurizing cam flange 857 is rotated by the element pressurizing servomotor 856, and the pressurizing lever 859 rotates by the pressurizing hinge bracket 858 and moves vertically through the pressurizing lever 859. , and the quartz 855 is lowered together with the elevating slider 854 to be in contact with the vacuum heating plate 822 and pressurized. Since the PI Film 2 on which the element 3 (semiconductor element 3) is mounted is located under the quartz 855, the quartz 855 applies the element 3 and the PI Film 2 to the vacuum heating plate. (822) to be pressurized on the upper surface. As described above, when the pressure cam follower is rotated in one direction by rotating the motor shaft of the pressure servomotor 856 in one direction, the rolling member 857ROL provided in the pressure operation connecting pin 857PCP moves the pressure lever 859 ) moves toward the proximal end of the pressure lever 859 along the long hole 612XLH, and at the same time, the pressure operation connecting piece and the rolling member 857ROL rise, while the pressure lever 859 moves toward the proximal end of the pressure lever 859. The quartz 855 is PI Film by pushing down the bonding pressure plate 854BP, the lifting slider 854 and the quartz 855 by lifting it up as a reference and rotating the tip of the pressure lever 859 to go down. The element 3 mounted in (2) is pressed to the upper surface of the vacuum heating plate 822 at a constant pressure.

상기와 같이, 승강 작동 서보모터(832)에 의해 승강 작동 볼나사((833)(테이블 업다운 슬라이더 볼나사)가 회전하면서 승강 작동 볼너트(834)에 의해 하부 슬라이더(827)의 전후진에 따라 상부 슬라이더(828)(테이블 업다운 슬라이더)가 상승 또는 하강하는데, 상기 상부 슬라이더(828)의 상승에 의해서 진공 히팅 플레이트(822)의 상면이 소자(3)가 탑재된 PI Film(2)의 저면에 접촉된 상태에서 배큐엄 니플과 진공 형성홀(824VH)을 통해서 진공이 형성되며, 흡착홀(824SH)을 통해서 PI Film(2)(기판)을 진공압으로 흡착한다. 상기 배큐엄 니플은 미도시된 진공발생장치에 호스 등의 연결관을 매개로 연결되고, 배큐엄 니플은 진공 히팅 플레이트(822)의 내부에 구비진 진공 형성홀(824VH)에 연결되어, 진공발생장치에서 발생한 진공에 의해 진공 히팅 플레이트(822)의 내부 진공 형성홀(824VH)에 진공압이 형성되고, 진공압은 진공 형성홀(824VH)로부터 진공 히팅 플레이트(822)의 상면으로 연통된 흡착홀(824SH)을 통해서 작용하여 상기 PI Film(2)(기판)이 진공압에 의해서 진공 히팅 플레이트(822)의 상면에 안정적으로 흡착 고정된다.As described above, as the lifting operation ball screw 833 (table up-down slider ball screw) rotates by the lifting operation servo motor 832, the lower slider 827 moves forward and backward by the lifting operation ball nut 834 The upper slider 828 (table up-down slider) rises or descends. As the upper slider 828 rises, the upper surface of the vacuum heating plate 822 is placed on the lower surface of the PI Film 2 on which the element 3 is mounted. In a contact state, a vacuum is formed through the vacuum nipple and the vacuum forming hole 824VH, and the PI Film 2 (substrate) is adsorbed by vacuum pressure through the adsorption hole 824SH. The vacuum nipple is not shown The vacuum generator is connected to the vacuum generator through a connecting tube such as a hose, and the vacuum nipple is connected to the vacuum forming hole (824VH) provided in the vacuum heating plate 822, and the vacuum generated by the vacuum generator is vacuumed. A vacuum pressure is formed in the internal vacuum forming hole 824VH of the heating plate 822, and the vacuum pressure acts through the suction hole 824SH communicating with the upper surface of the vacuum heating plate 822 from the vacuum forming hole 824VH. The PI Film 2 (substrate) is stably adsorbed and fixed to the upper surface of the vacuum heating plate 822 by vacuum pressure.

소자 가압 서보모터(856) 및 소자 가압용 감속기에 의해 소자 가압 캠플랜지(857)가 회전운동을 하게 되고, 소자 가압 캠플랜지(857)에 연결된 가압 레버(859)는 가압 레버(859) 브라켓에서 힌지부를 기준으로 지렛대 운동 원리에 의해 승강 슬라이더(854)를 밑으로 눌러서 하강시키게 된다.The element pressurizing cam flange 857 is rotated by the element pressurizing servomotor 856 and the element pressurizing reducer, and the pressurizing lever 859 connected to the element pressurizing cam flange 857 is the pressurizing lever 859 from the bracket. Based on the hinge part, the lifting slider 854 is pressed downward by the lever motion principle to descend.

상기 승강 슬라이더(854)에는 쿼츠 홀더(854HD) 및 쿼츠(855)가 연결되어 있어서, 상기 승강 슬라이더(854)가 하강하면, PI Film(2)(기판)과 소자(3)(주로 반도체 소자)를 가압하게 된다.A quartz holder 854HD and a quartz 855 are connected to the elevating slider 854, so that when the elevating slider 854 is lowered, the PI Film 2 (substrate) and the element 3 (mainly a semiconductor element) will pressurize

한편, 상기 PI Film(2)은 밑에 있는 진공 히팅 플레이트(822)가 받치고 있으면서 진공압으로 고정된 상태로 유지된다.Meanwhile, the PI Film 2 is maintained in a fixed state by vacuum pressure while the vacuum heating plate 822 below is supported.

상기 레이저 헤드(812)에서 렌즈(레이저 광학 렌즈)를 통해 레이저를 조사하여 소자(반도체 소자)를 본딩 페이스트와 같은 본딩재에 의해 PI Film(2) 위에 본딩되도록 한다. 이때, 가열용 히터와 온도측청용 센서에 의해 진공 히팅 플레이트(822)가 적정 온도(약 100℃)로 유지되도록 한다. 진공 히팅 플레이트(822)에 가열용 히터와 온도 측정용 센서가 구비되어, 온도 측정용 센서가 감지하는 온도에 따라 제어부 등에서 가열용 히터가 진공 히팅 플레이트(822)를 가열하는 온도가 상기 적정 온도(약 100℃)로 유지되도록 함으로써, 소자가 PI Film(2)에 불량 등의 발생이 없이 안정적으로 본딩되도록 한다.The laser head 812 irradiates a laser through a lens (laser optical lens) to bond the device (semiconductor device) onto the PI Film 2 by a bonding material such as a bonding paste. At this time, the vacuum heating plate 822 is maintained at an appropriate temperature (about 100° C.) by the heating heater and the temperature measuring sensor. A heater for heating and a sensor for temperature measurement are provided on the vacuum heating plate 822, and the temperature at which the heater for heating in the control unit etc. heats the vacuum heating plate 822 according to the temperature sensed by the sensor for temperature measurement is the appropriate temperature ( about 100°C), so that the device is stably bonded to the PI Film (2) without defects or the like.

본 발명에서는 쿼츠(855)가 소자에 접촉되어 소자와 PI Film(2)(기판)을 가압한다. 쿼츠(855)가 하강할 때에 테프론 테이프(7)가 소자에 접촉된 상태에서 소자와 PI Film(2)이 가압되도록 할 수 있다. 쿼츠(855)의 저면이 PI Film(2)에 탑재된 소자(반도체 소자)에 접촉된 상태에서 소자를 PI Film(2)에 본딩 작업을 수행할 수 있도록 한다.In the present invention, the quartz 855 is in contact with the device to press the device and the PI Film 2 (substrate). When the quartz 855 descends, the device and the PI Film 2 may be pressed while the Teflon tape 7 is in contact with the device. In a state where the bottom of the quartz 855 is in contact with the device (semiconductor device) mounted on the PI Film (2), the device can be bonded to the PI Film (2).

한편, 상기 쿼츠(855)의 저면에는 실리콘 블록이 구비될 수 있다. 실리콘 블록은 판형상으로서 접착제와 같은 접합수단에 의해 쿼츠(855)의 저면에 부착될 수 있다. 실리콘 블록은 레이저 헤드(812)에서 조사되어 쿼츠(855)를 통과한 레이저가 PI Film(2) 쪽으로 조사될 수 있도록 레이저 투광성 재질로 구성된다. 예를 들어, 실리콘 블록은 레이저가 통과할 수 있는 투명판 또는 반투명판 형상으로 구성될 수 있다. 실리콘 블록이 레이저가 통과할 수 있는 재질로 구성되어, 실리콘 블록을 통과한 레이저가 PI Film(2) 쪽으로 조사될 수 있도록 한다.Meanwhile, a silicon block may be provided on the lower surface of the quartz 855 . The silicon block may be attached to the bottom of the quartz 855 by a bonding means such as an adhesive as a plate shape. The silicon block is made of a laser-transmissive material so that the laser that is irradiated from the laser head 812 and has passed through the quartz 855 can be irradiated toward the PI Film (2). For example, the silicon block may be configured in the shape of a transparent or translucent plate through which a laser can pass. The silicon block is made of a material that the laser can pass through, so that the laser passing through the silicon block can be irradiated toward the PI Film (2).

상기 실리콘 블록이 구비된 경우에는 쿼츠(855)가 하강할 때에 실리콘 블록이 소자에 접촉되어 PI Film(2)에 소자 가압 본딩 작업을 수행하게 된다.When the silicon block is provided, when the quartz 855 descends, the silicon block comes into contact with the device to perform the device pressure bonding operation on the PI Film (2).

상기한 구성의 본 발명에 의한 유연디스플레이 소자용 열공정 시스템의 가압 본딩 시스템은 유연디스플레이 장치를 생산하기 위하여 PI Film(2)(유연 디스플레이 필름)과 소자(주로 반도체 소자)간의 정밀하고 오차없는 본딩 작업이 가능하며, 공정 수율 및 효율성이 저하되는 경우 등을 방지하기 위한 본딩 작업의 정밀도가 더욱 확실하게 달성할 수 있다.The pressure bonding system of the thermal process system for a flexible display device according to the present invention of the above configuration is a precise and error-free bonding between the PI Film (2) (flexible display film) and the device (mainly a semiconductor device) in order to produce a flexible display device. work is possible, and the precision of the bonding operation to prevent the case where the process yield and efficiency is lowered, etc. can be achieved more reliably.

또한, 본 발명에서는 소자 가압 서보모터(856)에 의해 소자 가압 캠플랜지(857)가 회전운동을 하게 되고, 소자 가압 캠플랜지(857)에 연결된 가압 레버(859)는 지렛대 운동 원리에 의해 승강 슬라이더(854)를 밑으로 눌러서 하강시키며, 상기 승강 슬라이더(854)에는 쿼츠(855)가 연결되어 있어서, 상기 승강 슬라이더(854)가 하강하면, PI Film(2)(기판)과 소자(반도체 소자)를 적절하게 균일한 힘으로 가압하여 소자를 PI Film(2)에 레이저 본딩이 되도록 하므로, 쿼츠(855)가 PI Film(2) 위에 있는 복수개의 소자들을 정밀하게 PI Film(2)에 본딩되도록 할 수 있다. 예를 들어, 쿼츠(855)가 가압할 수 있는 영역에 네 개의 소자가 들어와 있다면, 상기 쿼츠(855)가 네 개의 소자를 가압하여 PI Film(2)에 본딩되도록 하는데, 쿼츠(855)가 네 개의 소자들을 균일한 힘으로 눌러서 PI Film(2)에 본딩되도록 하기 때문에, PI Film(2)에 소자를 정밀하게 본딩할 수 있도록 한다.In addition, in the present invention, the element pressing cam flange 857 is rotated by the element pressing servo motor 856, and the pressing lever 859 connected to the element pressing cam flange 857 is a lifting slider by the lever motion principle. (854) is pressed down to descend, and a quartz 855 is connected to the lifting slider 854, so that when the lifting slider 854 descends, the PI Film (2) (substrate) and the device (semiconductor device) is pressed with an appropriate and uniform force so that the device is laser-bonded to the PI Film (2), so that the quartz 855 is precisely bonded to the plurality of devices on the PI Film (2) to the PI Film (2). can For example, if four elements are placed in a region that can be pressed by the quartz 855, the quartz 855 presses the four elements to be bonded to the PI Film 2, and the quartz 855 presses the four elements. Since the devices are bonded to the PI Film (2) by pressing them with a uniform force, it is possible to precisely bond the devices to the PI Film (2).

또한, 상기 가압 레버(859)가 시소처럼 지렛대 운동 원리에 의해 승강 슬라이더(854)를 밑으로 눌러서 하강시키는 도중에는 승강 슬라이더(854) 위에 있는 본딩 가압 플레이트(854BP)의 상면에서 가압 캠팔로워 베어링(859CAB)이 롤링되므로, 가압 레버(859)가 승강 슬라이더(854)를 밑으로 눌어주는 프레싱 본딩 작동이 보다 원활하게 이루어질 수 있도록 한다.In addition, while the pressing lever 859 presses the lifting slider 854 downward by the lever motion principle like a seesaw to descend, the pressure cam follower bearing 859CAB on the upper surface of the bonding pressure plate 854BP on the lifting slider 854 ) is rolled, so that a pressing bonding operation in which the pressing lever 859 pushes the lifting slider 854 downward can be performed more smoothly.

또한, 본딩 베이스부(820)에서 진공 히팅 플레이트(822)에 진공 형성홀(824VH)과 복수개의 흡착홀(824SH)이 구비되어, 상기 진공 히팅 플레이트(822)에 올려져 있는 PI Film(2)(기판)을 진공 형성홀(824VH)과 흡착홀(824SH)을 통해서 진공압으로 안정적으로 고정한 상태에서 소자가 PI Film(2)(기판) 위에 레이저 본딩되도록 할 수 있으므로, 본딩 작업중에 PI Film(2)과 소자가 유동됨으로 인한 소자 본딩 정밀도가 저하되는 경우를 방지하고, 소자의 본딩(접합) 불량이 발생되는 것을 확실하게 방지할 수 있다.In addition, a vacuum forming hole (824VH) and a plurality of adsorption holes (824SH) are provided in the vacuum heating plate ( 822 ) in the bonding base part ( 820 ), and the PI Film ( 2 ) mounted on the vacuum heating plate ( 822 ) Since the device can be laser-bonded on the PI Film (2) while the (substrate) is stably fixed with vacuum pressure through the vacuum forming hole (824VH) and the adsorption hole (824SH), the PI Film ( It is possible to prevent a case in which the bonding precision of the device is deteriorated due to the flow of 2) and the device, and it is possible to reliably prevent the occurrence of a bonding (bonding) defect of the device.

이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 상술하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.In the above, specific embodiments of the present invention have been described above. However, the spirit and scope of the present invention is not limited to these specific embodiments, and various modifications and variations are possible within the scope that does not change the gist of the present invention. Anyone who has it will understand.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Therefore, since the embodiments described above are provided to fully inform those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs the scope of the invention, it should be understood that they are exemplary in all respects and not limiting, The invention is only defined by the scope of the claims.

2. 플렉시블 필름(PI Film) 3. 소자
110. 메인 프레임 112. 메인 베이스
812. 레이저 헤드 820. 본딩 베이스부
822. 진공 히팅 플레이트 824. 진공척
824VH. 진공 형성홀 824SH. 흡착홀
826. 본딩 베이스 서포트 블록 827. 하부 슬라이더
827SF. 하부 업다운 경사면 828. 상부 슬라이더
828SF. 상부 업다운 경사면 832. 승강 작동 서보모터
833. 승강 작동 볼나사 834. 승강 작동 볼너트
835. 단열재 837. 본딩 베이스 지지패널
839. 본딩 베이스 이동 볼나사 841. 본딩 베이스 이동 볼너트
843. 본딩 베이스 이동 서보모터 850. 레이저 본딩 가압부
851. 카메라 852. 슬라이더 바디
852LOC. 로드셀 852SP. 상승 복귀용 플런저
853. 간극 조절 플레이트 854. 승강 슬라이더
854BP. 본딩 가압 플레이트 854HD. 퀴츠홀더
855. 쿼츠 856. 가압 서보모터
856BS. 브라켓 서포터 856BRK. 가압 서보모터 브라켓
857. 가압 캠플랜지 858. 가압 힌지 브라켓
859. 가압 레버 859CAB. 가압 캠팔로워 베어링
859LH. 장홀 872. 언와인딩 스풀
874. 리와인딩 롤러 876. 피딩 가이드롤러
2. Flexible Film (PI Film) 3. Device
110. Main Frame 112. Main Base
812. Laser head 820. Bonding base part
822. Vacuum heating plate 824. Vacuum chuck
824VH. Vacuum forming hole 824SH. suction hole
826. Bonding base support block 827. Lower slider
827SF. Lower up-down slope 828. Upper slider
828SF. Upper up-down slope 832. Elevating operation servomotor
833. Lifting action ball screw 834. Lifting action ball nut
835. Insulation material 837. Bonding base support panel
839. Bonding base moving ball screw 841. Bonding base moving ball nut
843. Bonding base movement servomotor 850. Laser bonding pressurization part
851. Camera 852. Slider Body
852LOC. Load cell 852SP. Plunger for lift return
853. Gap adjustment plate 854. Elevating slider
854 BP. Bonding pressure plate 854HD. Quitz Holder
855. Quartz 856. Pressurized servomotor
856BS. Bracket supporter 856BRK. Pressurized Servo Motor Bracket
857. Pressurized cam flange 858. Pressurized hinge bracket
859. Pressure lever 859CAB. Pressurized Cam Follower Bearing
859LH. Long hole 872. Unwinding spool
874. Rewinding roller 876. Feeding guide roller

Claims (8)

메인 프레임(110)에 설치된 레이저 헤드(812)의 아래에서 이송 라인을 따라 지나가는 플렉시블 필름(2)을 받쳐서 지지하는 본딩 베이스부(820);
상기 레이저 헤드(812)와 상기 본딩 베이스부(820) 사이로 지나가는 상기 플렉시블 필름(2) 위에 소자를 본딩되도록 가압하는 레이저 본딩 가압부(850);를 포함하여 구성되고,
상기 레이저 본딩 가압부(850)는,
상기 레이저 헤드(812)의 하부에 배치된 슬라이더 바디(852);
상기 슬라이더 바디(852)에 승강 가능하게 장착된 중공형의 승강 슬라이더(854);
상기 승강 슬라이더(854)에 장착된 쿼츠(855);
상기 메인 프레임(110)의 기대(724)에 장착된 가압 서보모터(856);
상기 가압 서보모터(856)의 모터축에 연결된 가압 캠플랜지(857);
상기 메인 프레임(110)의 상기 기대(724)에 장착된 가압 힌지 브라켓(858);
상기 가압 힌지 브라켓(858)에 힌지부를 매개로 결합되고 상기 가압 캠플랜지(857)에 연결되어 상기 슬라이더 바디(852) 위에 배치된 가압 레버(859);를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템.
Bonding base portion 820 for supporting and supporting the flexible film 2 passing along the transfer line under the laser head 812 installed on the main frame 110;
and a laser bonding pressing unit 850 for pressing the device to be bonded on the flexible film 2 passing between the laser head 812 and the bonding base unit 820;
The laser bonding pressing unit 850,
a slider body 852 disposed under the laser head 812;
a hollow elevating slider 854 mounted to the slider body 852 so as to be elevating;
a quartz 855 mounted on the elevating slider 854;
a pressurized servomotor (856) mounted on the base (724) of the main frame (110);
a pressure cam flange 857 connected to the motor shaft of the pressure servo motor 856;
a pressure hinge bracket (858) mounted to the base (724) of the main frame (110);
A flexible display device comprising a; a pressing lever 859 coupled to the pressing hinge bracket 858 via a hinge part and connected to the pressing cam flange 857 and disposed on the slider body 852; pressure bonding system.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 승강 슬라이더(854)에 구비된 쿼츠 홀더(854HD)에 상기 쿼츠(855)가 결합된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템.
According to claim 1,
A flexible display device pressure bonding system, characterized in that the quartz (855) is coupled to the quartz holder (854HD) provided in the elevating slider (854).
제5항에 있어서,
상기 쿼츠(855)의 저면이 플렉시블 필름(2)과 마주하고, 상기 쿼츠(855)의 저면은 수평면으로 구성된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템.
6. The method of claim 5,
A flexible display device pressure bonding system, characterized in that the lower surface of the quartz (855) faces the flexible film (2), and the lower surface of the quartz (855) is composed of a horizontal surface.
제6항에 있어서,
상기 쿼츠(855)의 저면에는 실리콘 블록이 구비된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템.
7. The method of claim 6,
A flexible display device pressure bonding system, characterized in that a silicon block is provided on the bottom of the quartz (855).
제1항에 있어서,
상기 메인 프레임(110)에는 소재가 탑재된 플렉시블 필름(2)의 위치를 촬영하는 카메라가 더 구비된 것을 특징으로 하는 유연디스플레이 소자 가압 본딩 시스템.
According to claim 1,
The main frame 110 has a flexible display device pressure bonding system, characterized in that further provided with a camera for photographing the position of the flexible film (2) is mounted material.
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