KR102176870B1 - Method of controlling scribing apparatus - Google Patents

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문상욱
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주식회사 탑 엔지니어링
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Abstract

A control method of a scribing device according to an embodiment of the present invention is a method of controlling a scribing device, which comprises a stage supporting a base plate, a first scribing wheel positioned in an upper side of the stage, and a second scribing wheel positioned in a lower side of the stage. The method comprises the steps of: setting up an initial position of the second scribing wheel; and setting up an initial position of the first scribing wheel. The step of setting up the initial position of the second scribing wheel includes a step of moving the second scribing wheel to set up a position of the second scribing wheel when an upper end of the second scribing wheel is positioned on the same plane with the top surface of the stage as the initial position of the second scribing wheel. The step of setting up the initial position of the first scribing wheel includes the steps of: arranging the base plate between the first and second scribing wheels; positioning the second scribing wheel at the initial position of the second scribing wheel; and moving the first scribing wheel to set up a position of the first scribing wheel when a lower end of the first scribing wheel touches the top surface of the base plate as the initial position of the first scribing wheel. The control method of the scribing device is capable of accurately setting up the initial positions of the scribing wheels and an initial position of a supporting roller on the base plate.

Description

스크라이빙 장치의 제어 방법{METHOD OF CONTROLLING SCRIBING APPARATUS}Control method of scribing device {METHOD OF CONTROLLING SCRIBING APPARATUS}

본 발명은 기판을 절단하기 위해 기판에 스크라이빙 라인을 형성하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of controlling a scribing apparatus for forming a scribing line on a substrate to cut the substrate.

일반적으로, 평판 디스플레이에 사용되는 액정 디스플레이 패널, 유기 전계 발광 디스플레이 패널, 무기 전계 발광 디스플레이 패널, 투과형 프로젝터 기판, 반사형 프로젝터 기판 등을 제조하는 데에는 유리와 같은 취성의 머더 글라스 패널(이하, '기판'이라 함)로부터 소정의 크기로 절단된 단위 글라스 패널(이하, '단위 기판'이라 함)이 사용된다.In general, to manufacture a liquid crystal display panel, an organic electroluminescent display panel, an inorganic electroluminescent display panel, a transmissive projector substrate, and a reflective projector substrate used in flat panel displays, a brittle mother glass panel such as glass (hereinafter referred to as'substrate A unit glass panel (hereinafter, referred to as'unit substrate') cut into a predetermined size from') is used.

기판을 단위 기판으로 절단하는 공정은, 다이아몬드와 같은 재료로 이루어진 스크라이빙 휠을 기판이 절단될 절단 예정 라인을 따라 기판에 가압한 상태에서 스크라이빙 휠 및/또는 기판을 이동시켜 기판에 스크라이빙 라인을 형성하는 스크라이빙 공정을 포함한다.In the process of cutting a substrate into a unit substrate, a scribing wheel made of a material such as diamond is pressed against the substrate along the line to be cut to be cut, and the scribing wheel and/or the substrate are moved to the substrate. It includes a scribing process to form a cribbing line.

기판은 제1 패널 및 제2 패널이 합착되어 형성되는 합착 기판이다. 예를 들면, 제1 패널은 박막 트랜지스터를 구비할 수 있으며, 제2 패널은 컬러 필터를 구비할 수 있다. 제1 패널 및 제2 패널은 접착제로서 페이스트를 사용하여 합착된다. 제1 패널 및 제2 패널 사이에는 액정 및/또는 전자 소자 등이 구비된다.The substrate is a bonded substrate formed by bonding the first panel and the second panel. For example, a first panel may include a thin film transistor, and a second panel may include a color filter. The first panel and the second panel are bonded together using a paste as an adhesive. Liquid crystals and/or electronic devices are provided between the first panel and the second panel.

제1 패널 및 제2 패널에 각각 스크라이빙 라인을 형성하기 위해, 제1 스크라이빙 휠 및 제1 지지 롤러가 제1 패널의 표면(기판의 상면)을 향하도록 배치되고, 제1 스크라이빙 휠 및 제2 지지 롤러가 제2 패널의 표면(기판의 하면)을 향하도록 배치된다.In order to form a scribing line on the first panel and the second panel, respectively, the first scribing wheel and the first support roller are disposed to face the surface of the first panel (the upper surface of the substrate), and the first scribing wheel The ice wheel and the second support roller are disposed to face the surface of the second panel (the lower surface of the substrate).

기판을 사이에 두고 제1 스크라이빙 휠 및 제2 지지 롤러가 서로 대향하게 배치되고, 제1 스크라이빙 휠이 제1 패널을 가압하고, 제2 지지 롤러가 제2 패널을 지지한 상태에서, 제1 스크라이빙 휠 및/또는 기판이 이동됨에 따라, 제1 패널에는 스크라이빙 라인이 형성된다. 또한, 기판을 사이에 두고 제2 스크라이빙 휠 및 제1 지지 롤러가 서로 대향하게 배치되고, 제2 스크라이빙 휠이 제2 패널을 가압하고, 제1 지지 롤러가 제1 패널을 지지한 상태에서 제2 스크라이빙 휠 및/또는 기판이 이동됨에 따라, 제2 패널에는 스크라이빙 라인이 형성된다.In a state in which the first scribing wheel and the second support roller are disposed to face each other with the substrate therebetween, the first scribing wheel presses the first panel, and the second support roller supports the second panel. , As the first scribing wheel and/or the substrate is moved, a scribing line is formed on the first panel. In addition, the second scribing wheel and the first support roller are disposed to face each other with the substrate therebetween, the second scribing wheel presses the second panel, and the first support roller supports the first panel. As the second scribing wheel and/or the substrate are moved in the state, a scribing line is formed on the second panel.

제1 패널 및 제2 패널에 스크라이빙 라인을 형성하는 공정 이전에, 제1 패널에 대한 제1 스크라이빙 휠 및 제1 지지 롤러의 초기 위치(높이)가 설정되며, 제2 패널에 대한 제2 스크라이빙 휠 및 제2 지지 롤러의 초기 위치(높이)가 설정된다.Prior to the process of forming a scribing line on the first panel and the second panel, the initial position (height) of the first scribing wheel and the first support roller with respect to the first panel is set, and The initial position (height) of the second scribing wheel and the second support roller is set.

제1 스크라이빙 휠 또는 제1 지지 롤러를 제1 패널을 향하여 이동시켜 제1 스크라이빙 휠 또는 제1 지지 롤러가 제1 패널에 접촉할 때의 제1 스크라이빙 휠 또는 제1 지지 롤러의 위치를 제1 스크라이빙 휠 또는 제1 지지 롤러의 초기 위치로 설정한다. 그러나, 기판의 자중에 의해서 기판이 하방으로 처지거나 제1 스크라이빙 휠 또는 제1 지지 롤러가 제1 패널을 가압함에 따라 기판이 하방으로 절곡된다. 이로 인해, 제1 스크라이빙 휠 또는 제1 지지 롤러가 제1 패널에 접촉되는 위치가 변동되기 때문에, 제1 스크라이빙 휠 또는 제1 지지 롤러의 초기 위치를 정확하게 설정할 수 없는 문제가 있다.The first scribing wheel or the first support roller when the first scribing wheel or the first support roller is in contact with the first panel by moving the first scribing wheel or the first support roller toward the first panel The position of is set to the initial position of the first scribing wheel or the first support roller. However, the substrate is bent downward as the substrate sags downward due to its own weight or the first scribing wheel or the first support roller presses the first panel. For this reason, there is a problem that the initial position of the first scribing wheel or the first support roller cannot be accurately set because the position where the first scribing wheel or the first support roller contacts the first panel is changed.

또한, 제2 스크라이빙 휠 또는 제2 지지 롤러를 제2 패널을 향하여 이동시켜 제2 스크라이빙 휠 또는 제2 지지 롤러가 제2 패널에 접촉할 때의 제2 스크라이빙 휠 또는 제2 지지 롤러의 위치를 제2 스크라이빙 휠 또는 제2 지지 롤러의 초기 위치로 설정한다. 그러나, 기판의 자중에 의해서 기판이 하방으로 처지거나 제2 스크라이빙 휠 또는 제2 지지 롤러가 제2 패널을 가압함에 따라 기판이 상방으로 절곡된다. 이로 인해, 제2 스크라이빙 휠 또는 제2 지지 롤러가 제2 패널에 접촉되는 위치가 변동되기 때문에, 제2 스크라이빙 휠 또는 제2 지지 롤러의 초기 위치를 정확하게 설정할 수 없는 문제가 있다.In addition, by moving the second scribing wheel or the second support roller toward the second panel, the second scribing wheel or the second scribing wheel when the second scribing wheel or the second support roller contacts the second panel. The position of the support roller is set to the initial position of the second scribing wheel or the second support roller. However, the substrate is bent upward as the substrate sags downward due to its own weight or the second scribing wheel or the second support roller presses the second panel. For this reason, there is a problem that the initial position of the second scribing wheel or the second support roller cannot be accurately set because the position at which the second scribing wheel or the second support roller contacts the second panel is changed.

본 발명은 종래 기술의 문제를 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 스크라이빙 휠 및 지지 롤러의 기판에 대한 초기 위치를 정확하게 설정할 수 있는 스크라이빙 장치의 제어 방법을 제공하는 것이다.The present invention is to solve the problem of the prior art, and an object of the present invention is to provide a method for controlling a scribing apparatus capable of accurately setting initial positions of a scribing wheel and a support roller with respect to a substrate.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법은, 기판을 지지하는 스테이지, 스테이지를 기준으로 상부에 위치되는 제1 스크라이빙 휠, 스테이지를 기준으로 하부에 위치되는 제2 스크라이빙 휠을 포함하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법으로서, 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계; 및 제1 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함할 수 있고, 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계는, 제2 스크라이빙 휠을 이동시켜 제2 스크라이빙 휠의 상단이 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 스크라이빙 휠의 위치를 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있으며, 제1 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계는, 제1 스크라이빙 휠 및 제2 스크라이빙 휠 사이에 기판을 배치하는 단계; 제2 스크라이빙 휠을 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및 제1 스크라이빙 휠을 이동시켜 제1 스크라이빙 휠의 하단이 기판의 상면에 접촉할 때의 제1 스크라이빙 휠의 위치를 제1 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있다.A method of controlling a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes a stage supporting a substrate, a first scribing wheel positioned above the stage, and a lower portion of the stage based on the stage. A method of controlling a scribing apparatus including a positioned second scribing wheel, the method comprising: setting an initial position of a second scribing wheel; And setting an initial position of the first scribing wheel, and setting the initial position of the second scribing wheel includes moving the second scribing wheel to obtain a second scribing wheel. It may include setting the position of the second scribing wheel when the upper end of the stage is on the same plane as the upper surface of the stage as an initial position of the second scribing wheel, and the initial position of the first scribing wheel The step of setting may include disposing a substrate between the first scribing wheel and the second scribing wheel; Positioning the second scribing wheel at an initial position of the second scribing wheel; And moving the first scribing wheel to set the position of the first scribing wheel as the initial position of the first scribing wheel when the lower end of the first scribing wheel contacts the upper surface of the substrate. Can include.

제2 스크라이빙 휠의 상단이 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 스크라이빙 휠의 위치를 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계는, 기판에 비하여 큰 강성을 갖는 기준 플레이트를 스테이지에 탑재하는 단계; 및 제2 스크라이빙 휠의 상단이 기준 플레이트의 하면에 접촉할 때까지 제2 스크라이빙 휠을 이동시키는 단계를 포함할 수 있다.The step of setting the position of the second scribing wheel as the initial position of the second scribing wheel when the upper end of the second scribing wheel is placed on the same plane as the upper surface of the stage may have greater rigidity than the substrate. Mounting the reference plate on the stage; And moving the second scribing wheel until the upper end of the second scribing wheel contacts the lower surface of the reference plate.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법은, 기판을 지지하는 스테이지, 스테이지를 기준으로 상부에 위치되는 스크라이빙 휠, 스테이지를 기준으로 하부에 위치되는 지지 롤러를 포함하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법으로서, 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계; 및 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함할 수 있고, 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계는, 지지 롤러를 이동시켜 지지 롤러의 상단이 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 지지 롤러의 위치를 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있으며, 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계는, 스크라이빙 휠 및 지지 롤러 사이에 기판을 배치하는 단계; 지지 롤러를 지지 롤러의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및 스크라이빙 휠을 이동시켜 스크라이빙 휠의 하단이 기판의 상면에 접촉할 때의 스크라이빙 휠의 위치를 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, a method for controlling a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a stage for supporting a substrate, a scribing wheel positioned above the stage, and a support roller positioned below the stage. A method of controlling a scribing apparatus, comprising: setting an initial position of a support roller; And setting the initial position of the scribing wheel, wherein the step of setting the initial position of the support roller includes support when the upper end of the support roller is flush with the upper surface of the stage by moving the support roller. Setting the position of the roller as an initial position of the support roller, wherein the step of setting the initial position of the scribing wheel includes: placing a substrate between the scribing wheel and the support roller; Positioning the support roller at an initial position of the support roller; And setting a position of the scribing wheel when the lower end of the scribing wheel contacts the upper surface of the substrate by moving the scribing wheel as an initial position of the scribing wheel.

지지 롤러의 상단이 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 지지 롤러의 위치를 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계는, 기판에 비하여 큰 강성을 갖는 기준 플레이트를 스테이지에 탑재하는 단계; 및 지지 롤러의 상단이 기준 플레이트의 하면에 접촉할 때까지 지지 롤러를 이동시키는 단계를 포함할 수 있다.The step of setting the position of the support roller as the initial position of the support roller when the upper end of the support roller is placed on the same plane as the upper surface of the stage may include: mounting a reference plate having greater rigidity compared to the substrate on the stage; And moving the support roller until the upper end of the support roller contacts the lower surface of the reference plate.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법은, 기판을 지지하는 스테이지, 스테이지를 기준으로 상부에 위치되는 지지 롤러, 스테이지를 기준으로 하부에 위치되는 스크라이빙 휠을 포함하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법으로서, 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계; 및 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함할 수 있고, 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계는, 스크라이빙 휠을 이동시켜 스크라이빙 휠의 상단이 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 스크라이빙 휠의 위치를 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있으며, 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계는, 지지 롤러 및 스크라이빙 휠 사이에 기판을 배치하는 단계; 스크라이빙 휠을 스크라이빙 휠의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및 지지 롤러를 이동시켜 지지 롤러의 하단이 기판의 상면에 접촉할 때의 지지 롤러의 위치를 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, a method of controlling a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a stage supporting a substrate, a support roller positioned above the stage, and a scribing wheel positioned below the stage. A method of controlling a scribing apparatus, comprising: setting an initial position of a scribing wheel; And setting the initial position of the support roller, wherein the setting of the initial position of the scribing wheel includes moving the scribing wheel so that the top of the scribing wheel is flush with the top surface of the stage. It may include the step of setting the position of the scribing wheel when placed as the initial position of the scribing wheel, the step of setting the initial position of the support roller, placing a substrate between the support roller and the scribing wheel Step to do; Positioning the scribing wheel at an initial position of the scribing wheel; And setting the position of the support roller when the lower end of the support roller contacts the upper surface of the substrate by moving the support roller as an initial position of the support roller.

스크라이빙 휠의 상단이 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 스크라이빙 휠의 위치를 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계는, 기판에 비하여 큰 강성을 갖는 기준 플레이트를 스테이지에 탑재하는 단계; 및 스크라이빙 휠의 상단이 기준 플레이트의 하면에 접촉할 때까지 스크라이빙 휠을 이동시키는 단계를 포함할 수 있다.The step of setting the position of the scribing wheel as the initial position of the scribing wheel when the top of the scribing wheel is on the same plane as the top surface of the stage is to mount a reference plate having greater rigidity than the substrate on the stage. Step to do; And moving the scribing wheel until the upper end of the scribing wheel contacts the lower surface of the reference plate.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법은, 기판을 지지하는 스테이지, 스테이지를 기준으로 상부에 위치되는 제1 지지 롤러, 스테이지를 기준으로 하부에 위치되는 제2 지지 롤러를 포함하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법으로서, 제2 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계; 및 제1 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함할 수 있고, 제2 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계는, 제2 지지 롤러를 이동시켜 제2 지지 롤러의 상단이 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 지지 롤러의 위치를 제2 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있고, 제1 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계는, 제1 지지 롤러 및 제2 지지 롤러 사이에 기판을 배치하는 단계; 제2 지지 롤러를 제2 지지 롤러의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및 제1 지지 롤러를 이동시켜 제1 지지 롤러의 하단이 기판의 상면에 접촉할 때의 제1 지지 롤러의 위치를 제1 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the control method of the scribing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a stage for supporting a substrate, a first support roller positioned above the stage, and a second support roller positioned below the stage. A method of controlling a scribing apparatus comprising: setting an initial position of a second support roller; And setting the initial position of the first support roller, wherein the setting of the initial position of the second support roller includes moving the second support roller so that the upper end of the second support roller is the same as the upper surface of the stage. It may include the step of setting the position of the second support roller when placed on the plane as the initial position of the second support roller, the step of setting the initial position of the first support roller, the first support roller and the second support Placing a substrate between the rollers; Positioning the second support roller at an initial position of the second support roller; And setting a position of the first support roller when the lower end of the first support roller contacts the upper surface of the substrate by moving the first support roller as an initial position of the first support roller.

제2 지지 롤러의 상단이 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 지지 롤러의 위치를 제2 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계는, 기판에 비하여 큰 강성을 갖는 기준 플레이트를 스테이지에 탑재하는 단계; 및 제2 지지 롤러의 상단이 기준 플레이트의 하면에 접촉할 때까지 제2 지지 롤러를 이동시키는 단계를 포함할 수 있다.In the step of setting the position of the second support roller as the initial position of the second support roller when the upper end of the second support roller is on the same plane as the upper surface of the stage, a reference plate having greater rigidity compared to the substrate is mounted on the stage. Step to do; And moving the second support roller until the upper end of the second support roller contacts the lower surface of the reference plate.

본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법에 따르면, 처짐을 일으키거나 외력에 의해 절곡(변형)되지 않는 기준 플레이트를 사용하거나 촬상 유닛을 사용하여 제2 스크라이빙 휠 및/또는 제2 지지 롤러의 초기 위치를 설정하고, 초기 위치에 위치된 제2 스크라이빙 휠 및/또는 제2 지지 롤러에 의해 기판이 지지된 상태에서 제1 스크라이빙 휠 및/또는 제1 지지 롤러를 기판의 상면에 접촉시켜 제1 스크라이빙 휠 및/또는 제1 지지 롤러의 초기 위치를 설정한다. 따라서, 제1 스크라이빙 휠, 제2 스크라이빙 휠, 제1 지지 롤러 및 제2 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 과정에서 기판이 처지거나 절곡되지 않으므로, 제1 스크라이빙 휠, 제2 스크라이빙 휠, 제1 지지 롤러 및 제2 지지 롤러의 초기 위치를 정확하게 설정할 수 있다.According to the control method of the scribing apparatus according to the embodiment of the present invention, a second scribing wheel and/or a second scribing wheel and/or a second scribing wheel and/or a second scribing wheel and/or a second scribing wheel and/or an imaging unit are used or 2 Set the initial position of the support roller, and the first scribing wheel and/or the first support roller in a state in which the substrate is supported by the second scribing wheel and/or the second support roller positioned at the initial position. The initial position of the first scribing wheel and/or the first support roller is set by contacting the upper surface of the substrate. Therefore, in the process of setting initial positions of the first scribing wheel, the second scribing wheel, the first support roller, and the second support roller, the substrate does not sag or bend, and thus the first scribing wheel and the second The initial positions of the scribing wheel, the first support roller and the second support roller can be accurately set.

또한, 제1 스테이지의 상면 및/또는 제2 스테이지의 상면을 기준으로 실제로 사용될 기판에 대해 제1 스크라이빙 휠, 제2 스크라이빙 휠, 제1 지지 롤러 및 제2 지지 롤러의 초기 위치를 설정할 수 있으므로, 기판의 두께가 달라지는 경우에도 제1 스크라이빙 휠, 제2 스크라이빙 휠, 제1 지지 롤러 및 제2 지지 롤러의 초기 위치를 정확하게 설정할 수 있다.In addition, the initial positions of the first scribing wheel, the second scribing wheel, the first supporting roller and the second supporting roller are determined with respect to the substrate to be actually used based on the top surface of the first stage and/or the top surface of the second stage. Since it can be set, initial positions of the first scribing wheel, the second scribing wheel, the first supporting roller, and the second supporting roller can be accurately set even when the thickness of the substrate is changed.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치가 개략적으로 도시된 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치가 개략적으로 도시된 측면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 스크라이빙 유닛이 개략적으로 도시된 도면이다.
도 4 내지 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법이 순차적으로 도시된 도면이다.1 is a plan view schematically illustrating a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a side view schematically showing a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic diagram of a scribing unit of a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 to 8 are diagrams sequentially illustrating a method of controlling a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method of controlling a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치에 의해 스크라이빙 라인이 형성되는 대상은 제1 패널(S1) 및 제2 패널(S2)이 합착되어 구성되는 합착 기판(S)(이하, '기판'이라 함)이다. 예를 들면, 제1 패널(S1)은 박막 트랜지스터를 구비할 수 있으며, 제2 패널(S2)은 컬러 필터를 구비할 수 있다. 이와 반대로, 제1 패널(S1)은 컬러 필터를 구비할 수 있고, 제2 패널(S2)은 박막 트랜지스터를 구비할 수 있다. 도면에서는 제1 패널(S1)이 상부에 위치되고 제2 패널(S2)이 하부에 위치되지만, 본 발명은 제1 패널(S1) 및 제2 패널(S2)의 위치에 한정되지 않는다.As shown in FIGS. 1 to 3, the object on which the scribing line is formed by the scribing apparatus according to the embodiment of the present invention is composed of a first panel S1 and a second panel S2 joined together. It is a bonded substrate S (hereinafter referred to as'substrate'). For example, the first panel S1 may include a thin film transistor, and the second panel S2 may include a color filter. Conversely, the first panel S1 may include a color filter, and the second panel S2 may include a thin film transistor. In the drawing, the first panel S1 is positioned at the top and the second panel S2 is positioned at the bottom, but the present invention is not limited to the locations of the first panel S1 and the second panel S2.

한편, 스크라이빙 라인이 형성될 기판(S)이 이송되는 방향을 Y축 방향이라 정의하고, 기판(S)이 이송되는 방향(Y축 방향)에 수직하는 방향을 X축 방향이라 정의한다. 그리고, 기판(S)이 놓이는 X-Y평면에 수직인 방향을 Z축 방향이라 정의한다.Meanwhile, the direction in which the substrate S on which the scribing line is to be formed is transported is defined as the Y-axis direction, and the direction perpendicular to the direction in which the substrate S is transported (Y-axis direction) is defined as the X-axis direction. In addition, a direction perpendicular to the X-Y plane on which the substrate S is placed is defined as the Z-axis direction.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치는, 제1 패널(S1) 및 제2 패널(S2)에 스크라이빙 라인을 형성하도록 구성되는 스크라이빙 유닛(30)과, 기판(S)을 스크라이빙 유닛(30)으로 이송하는 제1 이송 유닛(20)과, 기판(S)을 스크라이빙 유닛(30)으로부터 후속 공정으로 이송하는 제2 이송 유닛(40)을 포함할 수 있다.1 and 2, the scribing apparatus according to the embodiment of the present invention is configured to form a scribing line on the first panel (S1) and the second panel (S2). The unit 30, a first transfer unit 20 for transferring the substrate S to the scribing unit 30, and a second transfer unit 20 for transferring the substrate S from the scribing unit 30 to a subsequent process It may include a transfer unit 40.

제1 이송 유닛(20)은 기판(S)을 지지하는 제1 스테이지(21)와, 제1 스테이지(21) 상에 지지된 기판(S)의 후행단을 파지하는 파지 부재(22)와, 파지 부재(22)와 연결되며 X축 방향으로 연장되는 지지바(23)와, 지지바(23)와 연결되며 Y축 방향으로 연장되는 가이드 레일(24)을 포함할 수 있다.The first transfer unit 20 includes a first stage 21 for supporting the substrate S, a gripping member 22 for holding a trailing end of the substrate S supported on the first stage 21, It may include a support bar 23 connected to the gripping member 22 and extending in the X-axis direction, and a guide rail 24 connected to the support bar 23 and extending in the Y-axis direction.

일 예로서, 제1 스테이지(21)는 X축 방향으로 서로 이격된 복수의 벨트로서 구성될 수 있다. 이 경우, 각 벨트(21)는 복수의 풀리(211)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(211) 중 적어도 하나는 벨트(21)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.As an example, the first stage 21 may be configured as a plurality of belts spaced apart from each other in the X-axis direction. In this case, each belt 21 is supported by a plurality of pulleys 211, and at least one of the plurality of pulleys 211 may be a driving pulley that provides a driving force for rotating the belt 21.

다른 예로서, 도시되지 않았지만, 제1 스테이지(21)는 가스 공급원과 연결되어 가스를 분사하는 복수의 가스 분사홀을 구비하며, 기판(S)의 하면을 향하여 가스를 분사하여 기판(S)을 부양시키는 부양 테이블로서 구성될 수 있다.As another example, although not shown, the first stage 21 includes a plurality of gas injection holes connected to a gas supply source to inject gas, and injects gas toward the lower surface of the substrate S to provide the substrate S. It can be configured as a flotation table to lift.

또 다른 예로서, 도시되지 않았지만, 제1 스테이지(21)는 하나의 벨트로서 구성될 수 있다.As another example, although not shown, the first stage 21 may be configured as one belt.

지지바(23)와 가이드 레일(24) 사이에는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비될 수 있다. 따라서, 파지 부재(22)가 기판(S)을 파지한 상태에서 지지바(23)가 직선 이동 기구에 의해 Y축 방향으로 이동됨에 따라, 기판(S)이 Y축 방향으로 이송될 수 있다. 이때, 복수의 벨트(21)는 파지 부재(22)의 이동과 함께 회전하면서 기판(S)을 안정적으로 지지할 수 있다.Between the support bar 23 and the guide rail 24, an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism may be provided. Accordingly, as the support bar 23 is moved in the Y-axis direction by the linear movement mechanism while the holding member 22 holds the substrate S, the substrate S can be transferred in the Y-axis direction. At this time, the plurality of belts 21 may stably support the substrate S while rotating together with the movement of the gripping member 22.

파지 부재(22)는 기판(S)을 가압하여 유지하는 클램프일 수 있다. 다른 예로서, 파지 부재(22)는 진공원과 연결된 진공홀을 구비하여 기판(S)을 흡착하도록 구성될 수 있다.The gripping member 22 may be a clamp for pressing and holding the substrate S. As another example, the gripping member 22 may be configured to have a vacuum hole connected to a vacuum source to adsorb the substrate S.

제2 이송 유닛(40)은 기판(S)을 지지하여 이송하는 제2 스테이지(41)를 포함할 수 있다.The second transfer unit 40 may include a second stage 41 that supports and transfers the substrate S.

일 예로서, 제2 스테이지(41)는 X축 방향으로 서로 이격된 복수의 벨트로서 구성될 수 있다. 이 경우, 각 벨트(41)는 복수의 풀리(411)에 의해 지지되며, 복수의 풀리(411) 중 적어도 하나는 벨트(41)를 회전시키는 구동력을 제공하는 구동 풀리일 수 있다.As an example, the second stage 41 may be configured as a plurality of belts spaced apart from each other in the X-axis direction. In this case, each belt 41 is supported by a plurality of pulleys 411, and at least one of the plurality of pulleys 411 may be a driving pulley that provides a driving force for rotating the belt 41.

다른 예로서, 도시되지 않았지만, 제2 스테이지(41)는 하나의 벨트로서 구성될 수 있다.As another example, although not shown, the second stage 41 may be configured as one belt.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 스크라이빙 유닛(30)은 X축 방향으로 연장되는 제1 프레임(31)과, 제1 프레임(31)에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되는 제1 헤드(70)와, 제1 헤드(70)를 제1 프레임(31)을 따라 X축 방향으로 이동시키는 제1 이동 블록(75)과, 제1 프레임(31)의 아래에서 제1 프레임(31)과 평행하게 배치되고 X축 방향으로 연장되는 제2 프레임(32)과, 제2 프레임(32)에 X축 방향으로 이동 가능하게 설치되는 제2 헤드(80)와, 제2 헤드(80)를 제2 프레임(32)을 따라 X축 방향으로 이동시키는 제2 이동 블록(85)을 포함할 수 있다.2 and 3, the scribing unit 30 includes a first frame 31 extending in the X-axis direction, and a first frame 31 installed to be movable in the X-axis direction. 1 head 70, a first moving block 75 for moving the first head 70 along the first frame 31 in the X-axis direction, and a first frame ( 31) and a second frame 32 extending in the X-axis direction, a second head 80 installed on the second frame 32 so as to be movable in the X-axis direction, and a second head 80 ) May include a second movement block 85 that moves along the second frame 32 in the X-axis direction.

제1 이동 블록(75) 및 제1 프레임(31) 사이에는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비되며, 이러한 직선 이동 기구에 의해 제1 이동 블록(75)이 X축 방향으로 이동된다.Between the first moving block 75 and the first frame 31, a linear moving mechanism such as an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a ball screw mechanism is provided. The first movement block 75 is moved in the X-axis direction by a linear movement mechanism.

마찬가지로, 제2 이동 블록(85) 및 제2 프레임(32) 사이에는 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구가 구비되며, 이러한 직선 이동 기구에 의해 제2 이동 블록(85)이 X축 방향으로 이동된다.Similarly, between the second movement block 85 and the second frame 32, a linear movement mechanism such as an actuator operated by pneumatic or hydraulic pressure, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a ball screw mechanism is provided. , The second movement block 85 is moved in the X-axis direction by this linear movement mechanism.

제1 프레임(31)에는 X축 방향으로 복수의 제1 헤드(70)가 장착될 수 있으며, 제2 프레임(32)에는 X축 방향으로 복수의 제2 헤드(80)가 장착될 수 있다. 이에 따라, 기판(S)에는 복수의 스크라이빙 라인이 동시에 형성될 수 있다. 제1 프레임(31) 및 제2 프레임(32)은 일체로 구성될 수 있다.A plurality of first heads 70 may be mounted on the first frame 31 in the X-axis direction, and a plurality of second heads 80 may be mounted on the second frame 32 in the X-axis direction. Accordingly, a plurality of scribing lines may be simultaneously formed on the substrate S. The first frame 31 and the second frame 32 may be integrally configured.

제1 헤드(70) 및 제2 헤드(80)는 Z축 방향으로 서로 대향하게 배치될 수 있다.The first head 70 and the second head 80 may be disposed to face each other in the Z-axis direction.

제1 헤드(70)는, 제1 스크라이빙 휠(711)을 구비하는 제1 스크라이빙 휠 모듈(71)과, 제1 지지 롤러(721)를 구비하는 제1 지지 롤러 모듈(72)과, 제1 스크라이빙 휠 모듈(71)을 제1 패널(S1)에 대하여 Z축 방향으로 이동시키도록 구성되는 제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73)과, 제1 지지 롤러 모듈(72)을 제1 패널(S1)에 대하여 Z축 방향으로 이동시키도록 구성되는 제1 지지 롤러 이동 모듈(74)을 포함할 수 있다.The first head 70 includes a first scribing wheel module 71 including a first scribing wheel 711 and a first supporting roller module 72 including a first supporting roller 721 And, a first scribing wheel moving module 73 configured to move the first scribing wheel module 71 in the Z-axis direction with respect to the first panel S1, and a first support roller module 72 ) May include a first support roller moving module 74 configured to move in the Z-axis direction with respect to the first panel S1.

제2 헤드(80)는, 제2 스크라이빙 휠(811)을 구비하는 제2 스크라이빙 휠 모듈(81)과, 제2 지지 롤러(821)를 구비하는 제2 지지 롤러 모듈(82)과, 제2 스크라이빙 휠 모듈(81)을 제2 패널(S2)에 대하여 Z축 방향으로 이동시키도록 구성되는 제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83)과, 제2 지지 롤러 모듈(82)을 제2 패널(S2)에 대하여 Z축 방향으로 이동시키도록 구성되는 제2 지지 롤러 이동 모듈(84)을 포함할 수 있다.The second head 80 includes a second scribing wheel module 81 having a second scribing wheel 811 and a second support roller module 82 having a second support roller 821 And, a second scribing wheel moving module 83 configured to move the second scribing wheel module 81 in the Z-axis direction with respect to the second panel S2, and a second support roller module 82 ) May include a second support roller moving module 84 configured to move in the Z-axis direction with respect to the second panel S2.

제1 스크라이빙 휠(711) 및 제2 지지 롤러(821)는 기판(S)을 사이에 두고 Z축 방향으로 서로 대향하도록 배치된다. 제2 스크라이빙 휠(811) 및 제1 지지 롤러(721)는 기판(S)을 사이에 두고 서로 대향하도록 배치된다.The first scribing wheel 711 and the second support roller 821 are disposed to face each other in the Z-axis direction with the substrate S interposed therebetween. The second scribing wheel 811 and the first support roller 721 are disposed to face each other with the substrate S interposed therebetween.

제1 스크라이빙 휠(711) 및 제1 지지 롤러(721)는 X축 방향으로 일렬로 배치될 수 있다. 제2 스크라이빙 휠(811) 및 제2 지지 롤러(821)는 X축 방향으로 일렬로 배치될 수 있다.The first scribing wheel 711 and the first support roller 721 may be arranged in a line in the X-axis direction. The second scribing wheel 811 and the second support roller 821 may be arranged in a line in the X-axis direction.

제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73)에 의해 제1 스크라이빙 휠 모듈(71)이 제1 패널(S1)을 향하여 이동됨에 따라, 제1 스크라이빙 휠(711)이 제1 패널(S1)에 가압될 수 있다. 제1 스크라이빙 휠(711)이 제1 패널(S1)을 가압하는 정도에 따라 제1 패널(S1)에 대한 제1 스크라이빙 휠(711)의 절삭 깊이가 조절될 수 있다.As the first scribing wheel module 71 is moved toward the first panel S1 by the first scribing wheel moving module 73, the first scribing wheel 711 is moved to the first panel ( It can be pressurized on S1). The cutting depth of the first scribing wheel 711 with respect to the first panel S1 may be adjusted according to the degree to which the first scribing wheel 711 presses the first panel S1.

제1 지지 롤러 이동 모듈(74)에 의해 제1 지지 롤러 모듈(72)이 제1 패널(S1)을 향하여 이동됨에 따라 제1 지지 롤러(721)가 제1 패널(S1)에 가압될 수 있다.As the first support roller module 72 is moved toward the first panel S1 by the first support roller movement module 74, the first support roller 721 may be pressed against the first panel S1. .

제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83)에 의해 제2 스크라이빙 휠 모듈(81)이 제2 패널(S2)을 향하여 이동됨에 따라, 제2 스크라이빙 휠(811)이 제2 패널(S2)에 가압될 수 있다. 제2 스크라이빙 휠(811)이 제2 패널(S2)을 가압하는 정도에 따라 제2 패널(S2)에 대한 제2 스크라이빙 휠(811)의 절삭 깊이가 조절될 수 있다.As the second scribing wheel module 81 is moved toward the second panel S2 by the second scribing wheel moving module 83, the second scribing wheel 811 is moved to the second panel ( S2) can be pressed. The cutting depth of the second scribing wheel 811 with respect to the second panel S2 may be adjusted according to the degree to which the second scribing wheel 811 presses the second panel S2.

제2 지지 롤러 이동 모듈(84)에 의해 제2 지지 롤러 모듈(82)이 제2 패널(S2)을 향하여 이동됨에 따라 제2 지지 롤러(821)가 제2 패널(S2)에 가압될 수 있다.As the second support roller module 82 is moved toward the second panel S2 by the second support roller moving module 84, the second support roller 821 may be pressed against the second panel S2. .

제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73), 제1 지지 롤러 이동 모듈(74), 제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83) 및/또는 제2 지지 롤러 이동 모듈(84)은 공압 또는 유압에 의하여 작동하는 액추에이터, 전자기적 상호 작용에 의해 작동되는 리니어 모터, 또는 볼 스크류 기구와 같은 직선 이동 기구로 구성될 수 있다.The first scribing wheel moving module 73, the first supporting roller moving module 74, the second scribing wheel moving module 83 and/or the second supporting roller moving module 84 are pneumatic or hydraulic. It may be composed of an actuator operated by means of an actuator, a linear motor operated by electromagnetic interaction, or a linear movement mechanism such as a ball screw mechanism.

일 예로서, 제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73), 제1 지지 롤러 이동 모듈(74), 제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83) 및/또는 제2 지지 롤러 이동 모듈(84)이 액추에이터 또는 리니어 모터로서 구성되는 경우에는, 제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73), 제1 지지 롤러 이동 모듈(74), 제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83) 및/또는 제2 지지 롤러 이동 모듈(84)은 리니어 스케일을 더 구비할 수 있다. 리니어 스케일을 사용하여 제1 스크라이빙 휠 모듈(71), 제1 지지 롤러 모듈(72), 제2 스크라이빙 휠 모듈(81) 및 제2 지지 롤러 모듈(82)의 변위 및 이동량을 계측할 수 있으며, 계측된 변위 및 이동량을 기초로, 제1 스크라이빙 휠(711), 제1 지지 롤러(721), 제2 스크라이빙 휠(811) 및/또는 제2 지지 롤러(821)의 현재의 위치를 검출할 수 있다.As an example, the first scribing wheel moving module 73, the first supporting roller moving module 74, the second scribing wheel moving module 83 and/or the second supporting roller moving module 84 When configured as an actuator or a linear motor, the first scribing wheel moving module 73, the first supporting roller moving module 74, the second scribing wheel moving module 83 and/or the second supporting roller The moving module 84 may further include a linear scale. The displacement and movement amount of the first scribing wheel module 71, the first support roller module 72, the second scribing wheel module 81 and the second support roller module 82 are measured using a linear scale. And, based on the measured displacement and movement amount, the first scribing wheel 711, the first support roller 721, the second scribing wheel 811 and/or the second support roller 821 The current location of can be detected.

다른 예로서, 제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73), 제1 지지 롤러 이동 모듈(74), 제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83) 및/또는 제2 지지 롤러 이동 모듈(84)이 볼 스크류 기구로서 구성되는 경우에는, 제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73), 제1 지지 롤러 이동 모듈(74), 제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83) 및/또는 제2 지지 롤러 이동 모듈(84)은 볼 스크류와 연결되는 모터의 토크를 측정하는 토크 측정기를 더 구비할 수 있다. 토크 측정기를 사용하여 모터의 토크 변화를 계측할 수 있으며, 계측된 토크 변화를 기초로, 제1 스크라이빙 휠(711), 제1 지지 롤러(721), 제2 스크라이빙 휠(811) 및/또는 제2 지지 롤러(821)가 기판(S)(또는 기준 플레이트(P))에 접촉되었는지 여부 및 제1 스크라이빙 휠(711), 제1 지지 롤러(721), 제2 스크라이빙 휠(811) 및/또는 제2 지지 롤러(821)가 기판(S)(또는 기준 플레이트(P))을 가압하는 정도(가압력)를 검출할 수 있다.As another example, the first scribing wheel moving module 73, the first supporting roller moving module 74, the second scribing wheel moving module 83 and/or the second supporting roller moving module 84 When configured as a ball screw mechanism, the first scribing wheel moving module 73, the first supporting roller moving module 74, the second scribing wheel moving module 83 and/or the second supporting roller moving The module 84 may further include a torque meter for measuring the torque of the motor connected to the ball screw. The torque change of the motor can be measured using a torque meter, and based on the measured torque change, the first scribing wheel 711, the first support roller 721, and the second scribing wheel 811 And/or whether the second support roller 821 is in contact with the substrate S (or the reference plate P) and the first scribing wheel 711, the first support roller 721, and the second scribing The degree (pressing force) of the bing wheel 811 and/or the second support roller 821 pressing the substrate S (or the reference plate P) may be detected.

이러한 구성에 따르면, 제1 스크라이빙 휠(711)이 제1 패널(S1)에 가압되고, 제2 스크라이빙 휠(811)이 제2 패널(S2)에 가압되고, 제1 지지 롤러(721)가 제1 패널(S1)을 지지하고, 제2 지지 롤러(821)가 제2 패널(S2)을 지지한 상태에서, 제1 헤드(70) 및 제2 헤드(80)가 기판(S)에 대하여 상대적으로 X축 방향으로 이동되는 것에 의해, 제1 패널(S1) 및 제2 패널(S2)에는 각각 스크라이빙 라인이 형성될 수 있다. 이때, 제1 지지 롤러(721)는 제2 스크라이빙 휠(811)이 제2 패널(S2)을 가압하는 힘을 지지하고, 제2 지지 롤러(821)는 제1 스크라이빙 휠(711)이 제1 패널(S1)을 가압하는 힘을 지지한다.According to this configuration, the first scribing wheel 711 is pressed against the first panel (S1), the second scribing wheel 811 is pressed against the second panel (S2), and the first support roller ( With 721 supporting the first panel S1 and the second supporting roller 821 supporting the second panel S2, the first head 70 and the second head 80 ) Relative to each other in the X-axis direction, each of the first and second panels S1 and S2 may have scribing lines. At this time, the first support roller 721 supports the force that the second scribing wheel 811 presses the second panel S2, and the second support roller 821 is the first scribing wheel 711 ) Supports the force pressing the first panel (S1).

제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)는 제1 스테이지(21) 및 제2 스테이지(41) 사이에 위치되므로, 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)의 기판(S)에 대한 초기 위치(높이)를 설정하는 과정은 제1 스테이지(21) 및 제2 스테이지(41) 사이에 위치된 기판(S)의 일부분에 대하여 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)를 접촉시키는 과정을 통하여 수행된다.The first scribing wheel 711, the second scribing wheel 811, the first support roller 721 and the second support roller 821 are between the first stage 21 and the second stage 41 Since it is located at, the initial position (height) of the first scribing wheel 711, the second scribing wheel 811, the first support roller 721, and the second support roller 821 with respect to the substrate S The process of setting) is a first scribing wheel 711 and a second scribing wheel 811 for a portion of the substrate S positioned between the first stage 21 and the second stage 41. , It is performed through the process of contacting the first support roller 721 and the second support roller 821.

이 과정에서, 제1 스테이지(21) 및 제2 스테이지(41) 사이에 위치된 기판(S)의 일부분이 하방으로 처지게 되므로, 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)가 기판(S)에 접촉되는 위치가 변동한다. 또한, 제1 스크라이빙 휠(711) 및 제1 지지 롤러(721)가 기판(S)에 접촉할 때 기판(S)이 하방으로 절곡되고, 제2 스크라이빙 휠(811) 및 제2 지지 롤러(821)가 기판(S)에 접촉할 때 기판(S)이 상방으로 절곡되므로, 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)가 기판(S)에 접촉되는 위치가 변동한다. 따라서, 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치를 정확하게 설정하기 어렵다.In this process, since a part of the substrate S positioned between the first stage 21 and the second stage 41 is drooped downward, the first scribing wheel 711 and the second scribing wheel The positions 811, the first support roller 721, and the second support roller 821 contact the substrate S vary. In addition, when the first scribing wheel 711 and the first support roller 721 contact the substrate S, the substrate S is bent downward, and the second scribing wheel 811 and the second Since the substrate S is bent upward when the support roller 821 contacts the substrate S, the first scribing wheel 711, the second scribing wheel 811, and the first support roller 721 ) And the position where the second support roller 821 comes into contact with the substrate S varies. Accordingly, it is difficult to accurately set initial positions of the first scribing wheel 711, the second scribing wheel 811, the first support roller 721, and the second support roller 821.

본 발명은 이러한 문제를 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법은, 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치를 설정하는 단계와, 제1 스크라이빙 휠(711)의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함할 수 있다.The present invention is to solve this problem, and a method of controlling a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention includes the steps of setting an initial position of the second scribing wheel 811, and the first scribing It may include the step of setting the initial position of the wheel (711).

여기에서, 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치를 설정하는 단계는 제2 스크라이빙 휠(811)을 상방으로 이동시켜 제2 스크라이빙 휠(811)의 상단이 제1 스테이지(21)의 상면 또는 제2 스테이지(41)의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 스크라이빙 휠(811)의 위치를 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치로서 설정하는 과정을 포함할 수 있다.Here, in the step of setting the initial position of the second scribing wheel 811, the second scribing wheel 811 is moved upward so that the upper end of the second scribing wheel 811 is the first stage ( 21) or when the second scribing wheel 811 is placed on the same plane as the upper surface of the second stage 41 as an initial position of the second scribing wheel 811 can do.

일 예로서, 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 스테이지(21) 또는 제2 스테이지(41)에는 기준 플레이트(P)가 반입될 수 있다. 기준 플레이트(P)는 두껍고 강성이 큰 유리판 또는 금속판으로 구성된다. 기준 플레이트(P)는 기판(S)에 비하여 강성이 크다. 따라서, 기준 플레이트(P)는 제1 스테이지(21) 및 제2 스테이지(41) 사이에 위치된 경우에도 처지지 않는다. 또한, 제2 스크라이빙 휠(811)이 상방으로 이동하여 기준 플레이트(P)의 하면에 접촉하는 경우에도 기준 플레이트(P)는 상방으로 절곡되지 않는다. 따라서, 도 4에 도시된 바와 같이, 제2 스크라이빙 휠(811)이 상방으로 이동하여 기준 플레이트(P)의 하면에 접촉할 때의 제2 스크라이빙 휠(811)의 위치를 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치로 설정할 수 있다. 여기에서, 제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83)이 리니어 스케일을 구비하는 구성의 경우, 제2 스크라이빙 휠(811)의 위치가 변화하지 않는 것이 리니어 스케일에 의해 검출될 때, 제2 스크라이빙 휠(811)이 기준 플레이트(P)의 하면에 접촉하였다고 판단할 수 있다. 다른 예로서, 제2 스크라이빙 휠 이동 모듈(83)이 볼 스크류 기구를 구비하는 구성의 경우, 모터의 토크가 증가하여 미리 정해진 기준 토크를 초과할 때, 제2 스크라이빙 휠(811)이 기준 플레이트(P)의 하면에 접촉하였다고 판단할 수 있다.As an example, as shown in FIG. 4, the reference plate P may be carried into the first stage 21 or the second stage 41. The reference plate P is composed of a thick and highly rigid glass plate or metal plate. The reference plate P has greater rigidity than the substrate S. Accordingly, the reference plate P does not sag even when positioned between the first stage 21 and the second stage 41. In addition, even when the second scribing wheel 811 moves upward and contacts the lower surface of the reference plate P, the reference plate P is not bent upward. Accordingly, as shown in FIG. 4, the position of the second scribing wheel 811 when the second scribing wheel 811 moves upward and contacts the lower surface of the reference plate P is changed to a second position. It can be set to the initial position of the scribing wheel 811. Here, in the case of a configuration in which the second scribing wheel moving module 83 has a linear scale, when it is detected by the linear scale that the position of the second scribing wheel 811 does not change, the second It may be determined that the scribing wheel 811 is in contact with the lower surface of the reference plate P. As another example, in the case of a configuration in which the second scribing wheel moving module 83 includes a ball screw mechanism, when the torque of the motor increases and exceeds a predetermined reference torque, the second scribing wheel 811 It can be determined that it has contacted the lower surface of this reference plate P.

다른 예로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 스크라이빙 유닛(30)의 측면에는 제1 스테이지(21) 또는 제2 스테이지(41), 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)를 촬상하는 촬상 유닛(90)이 구비될 수 있다. 촬상 유닛(90)은 제2 스크라이빙 휠(811)과 제1 스테이지(21) 또는 제2 스테이지(41)를 동시에 촬상할 수 있다. 따라서, 도 5에 도시된 바와 같이, 촬상 유닛(90)에 의해 촬상된 제2 스크라이빙 휠(811)과 제1 스테이지(21) 또는 제2 스테이지(41)의 이미지를 기초로, 제2 스크라이빙 휠(811)의 상단이 제1 스테이지(21) 또는 제2 스테이지(41)의 상면과 동일 평면에 놓였다고 판단될 때의 제2 스크라이빙 휠(811)의 위치를 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치로 설정할 수 있다.As another example, as shown in FIG. 1, a first stage 21 or a second stage 41, a first scribing wheel 711, and a second scribing are provided on the side of the scribing unit 30. An imaging unit 90 for photographing the Bing wheel 811, the first support roller 721 and the second support roller 821 may be provided. The imaging unit 90 may simultaneously capture the second scribing wheel 811 and the first stage 21 or the second stage 41. Accordingly, as shown in FIG. 5, based on the image of the second scribing wheel 811 and the first stage 21 or the second stage 41 captured by the imaging unit 90, the second The position of the second scribing wheel 811 when it is determined that the upper end of the scribing wheel 811 is on the same plane as the top surface of the first stage 21 or the second stage 41 is second It can be set to the initial position of the climbing wheel 811.

이와 같이, 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치가 설정되면, 도 6에 도시된 바와 같이, 제1 스테이지(21) 또는 제2 스테이지(41)에는 기판(S)이 반입된다. 기판(S)은 제1 스크라이빙 휠(711) 및 제2 스크라이빙 휠(811) 사이에 배치된다.In this way, when the initial position of the second scribing wheel 811 is set, the substrate S is carried into the first stage 21 or the second stage 41 as shown in FIG. 6. The substrate S is disposed between the first scribing wheel 711 and the second scribing wheel 811.

그리고, 도 7에 도시된 바와 같이, 제2 스크라이빙 휠(811)이 상술한 바와 같이 설정된 초기 위치에 위치된다. 이때, 제2 스크라이빙 휠(811)의 상단은 제1 스테이지(21) 또는 제2 스테이지(41)의 상면과 동일 평면에 놓이므로, 제2 스크라이빙 휠(811)은 기판(S)의 하면에 접촉된 상태를 유지한다. 그리고, 기판(S)의 하면은 제2 스크라이빙 휠(811)에 의해 지지된다. 여기에서, 제2 스크라이빙 휠(811)이 접촉하는 기판(S)의 부분은 실제로 제품에 사용되지 않고 절단되어 버려지는 부분(더미)일 수 있다.Then, as shown in FIG. 7, the second scribing wheel 811 is positioned at the initial position set as described above. At this time, since the upper end of the second scribing wheel 811 is on the same plane as the upper surface of the first stage 21 or the second stage 41, the second scribing wheel 811 is a substrate (S) Keep in contact with the underside of the body. Further, the lower surface of the substrate S is supported by the second scribing wheel 811. Here, the portion of the substrate S that the second scribing wheel 811 contacts may be a portion (dummy) that is not actually used in a product and is cut and discarded.

그리고, 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 스크라이빙 휠(711)이 하방으로 이동되어 기판(S)의 상면에 접촉한다. 제1 스크라이빙 휠(711)이 접촉하는 기판(S)의 부분은 실제로 제품에 사용되지 않고 절단되어 버려지는 부분(더미)일 수 있다. 그리고, 제1 스크라이빙 휠(711)의 하단이 기판(S)의 상면에 접촉할 때의 제1 스크라이빙 휠(711)의 위치가 제1 스크라이빙 휠(711)의 초기 위치로서 설정된다. 기판(S)의 하면이 제2 스크라이빙 휠(811)에 의해 지지된 상태이므로, 제1 스크라이빙 휠(711)의 하단이 기판(S)의 상면에 접촉한 경우, 제1 스크라이빙 휠(711)은 더 이상 하방으로 이동하지 않는다. 따라서, 제1 스크라이빙 휠(711)이 기판(S)의 상면에 접촉하여 더 이상 이동하지 않을 때의 제1 스크라이빙 휠(711)의 위치가 제1 스크라이빙 휠(711)의 초기 위치로서 설정된다. 여기에서, 제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73)이 리니어 스케일을 구비하는 구성의 경우, 제1 스크라이빙 휠(711)의 위치가 변화하지 않는 것이 리니어 스케일에 의해 검출될 때, 제1 스크라이빙 휠(711)이 기판(S)의 상면에 접촉하였다고 판단할 수 있다. 다른 예로서, 제1 스크라이빙 휠 이동 모듈(73)이 볼 스크류 기구를 구비하는 구성의 경우, 모터의 토크가 증가하여 미리 정해진 기준 토크를 초과할 때, 제1 스크라이빙 휠(711)이 기판(S)의 상면에 접촉하였다고 판단할 수 있다.In addition, as shown in FIG. 8, the first scribing wheel 711 is moved downward to contact the upper surface of the substrate S. The portion of the substrate S that the first scribing wheel 711 contacts may be a portion (dummy) that is not actually used in a product and is cut and discarded. In addition, the position of the first scribing wheel 711 when the lower end of the first scribing wheel 711 contacts the upper surface of the substrate S is the initial position of the first scribing wheel 711 Is set. Since the lower surface of the substrate S is in a state supported by the second scribing wheel 811, when the lower end of the first scribing wheel 711 contacts the upper surface of the substrate S, the first scribing wheel Bing wheel 711 does not move downward any more. Accordingly, the position of the first scribing wheel 711 when the first scribing wheel 711 contacts the upper surface of the substrate S and no longer moves is It is set as the initial position. Here, in the case of a configuration in which the first scribing wheel moving module 73 has a linear scale, when it is detected by the linear scale that the position of the first scribing wheel 711 does not change, the first It may be determined that the scribing wheel 711 has contacted the upper surface of the substrate S. As another example, in the case of a configuration in which the first scribing wheel moving module 73 has a ball screw mechanism, when the torque of the motor increases and exceeds a predetermined reference torque, the first scribing wheel 711 It can be judged that it has contacted the upper surface of this substrate S.

다른 예로서, 촬상 유닛(90)에 의해 제1 스크라이빙 휠(711) 및 기판(S)의 상면이 동시에 촬상될 수 있다. 제1 스크라이빙 휠(711) 및 기판(S)의 이미지를 기초로, 제1 스크라이빙 휠(711)이 기판(S)의 상면에 접촉할 때의 제1 스크라이빙 휠(711)의 위치를 제1 스크라이빙 휠(711)의 초기 위치로 설정할 수 있다.As another example, the first scribing wheel 711 and the upper surface of the substrate S may be simultaneously captured by the imaging unit 90. The first scribing wheel 711 when the first scribing wheel 711 contacts the upper surface of the substrate S based on the images of the first scribing wheel 711 and the substrate S The position of may be set as the initial position of the first scribing wheel 711.

한편, 제1 스크라이빙 휠(711)의 초기 위치를 설정하는 과정은, 제2 지지 롤러(821)를 사용하여 수행될 수 있다. 즉, 제1 스크라이빙 휠(711)의 초기 위치를 설정하는 과정은, 제2 지지 롤러(821)를 이동시켜 제2 지지 롤러(821)의 상단이 제1 스테이지(21) 및/또는 제2 스테이지(41)의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 지지 롤러(821)의 위치를 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치로서 설정하는 단계; 제1 스크라이빙 휠(711) 및 제2 지지 롤러(821) 사이에 기판(S)을 배치하는 단계; 제2 지지 롤러(821)를 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및 제1 스크라이빙 휠(711)을 이동시켜 제1 스크라이빙 휠(711)의 하단이 기판(S)의 상면에 접촉할 때의 제1 스크라이빙 휠(711)의 위치를 제1 스크라이빙 휠(711)의 초기 위치로 설정하는 단계를 포함할 수 있다.Meanwhile, the process of setting the initial position of the first scribing wheel 711 may be performed using the second support roller 821. That is, in the process of setting the initial position of the first scribing wheel 711, the upper end of the second support roller 821 by moving the second support roller 821 is the first stage 21 and/or the first stage. 2 setting the position of the second support roller 821 as the initial position of the second support roller 821 when placed on the same plane as the upper surface of the stage 41; Disposing a substrate S between the first scribing wheel 711 and the second support roller 821; Positioning the second support roller 821 at the initial position of the second support roller 821; And a position of the first scribing wheel 711 when the lower end of the first scribing wheel 711 contacts the upper surface of the substrate S by moving the first scribing wheel 711. It may include the step of setting the initial position of the scribing wheel 711.

또한, 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치를 설정하는 과정은 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치를 설정하는 과정과 동일하게 수행될 수 있다. 즉, 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치를 설정하는 과정은 제2 지지 롤러(821)를 이동시켜 제2 지지 롤러(821)의 상단이 제1 스테이지(21) 및 제2 스테이지(41)의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 지지 롤러(821)의 위치를 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the process of setting the initial position of the second support roller 821 may be performed in the same manner as the process of setting the initial position of the second scribing wheel 811. That is, in the process of setting the initial position of the second support roller 821, the second support roller 821 is moved so that the upper end of the second support roller 821 is the first stage 21 and the second stage 41. It may include the step of setting the position of the second support roller 821 when placed on the same plane as the upper surface of the second support roller 821 as an initial position of the second support roller (821).

또한, 제1 지지 롤러(721)의 초기 위치를 설정하는 과정은 제2 스크라이빙 휠(811)을 사용하여 수행될 수 있다. 즉, 제1 지지 롤러(721)의 초기 위치를 설정하는 과정은, 제2 스크라이빙 휠(811)을 이동시켜 제2 스크라이빙 휠(811)의 상단이 제1 스테이지(21) 및/또는 제2 스테이지(41)의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 스크라이빙 휠(811)의 위치를 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치로서 설정하는 단계; 제1 지지 롤러(721) 및 제2 스크라이빙 휠(811) 사이에 기판(S)을 배치하는 단계; 제2 스크라이빙 휠(811)을 제2 스크라이빙 휠(811)의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및 제1 지지 롤러(721)를 이동시켜 제1 지지 롤러(721)의 하단이 기판(S)의 상면에 접촉할 때의 제1 지지 롤러(721)의 위치를 제1 지지 롤러(721)의 초기 위치로 설정하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the process of setting the initial position of the first support roller 721 may be performed using the second scribing wheel 811. That is, in the process of setting the initial position of the first support roller 721, the upper end of the second scribing wheel 811 by moving the second scribing wheel 811 is the first stage 21 and/ Or setting a position of the second scribing wheel 811 when placed on the same plane as the upper surface of the second stage 41 as an initial position of the second scribing wheel 811; Disposing a substrate (S) between the first support roller 721 and the second scribing wheel 811; Positioning the second scribing wheel 811 at the initial position of the second scribing wheel 811; And the position of the first support roller 721 when the lower end of the first support roller 721 contacts the upper surface of the substrate S by moving the first support roller 721. It may include the step of setting the initial position.

또한, 제1 지지 롤러(721)의 초기 위치를 설정하는 과정은 제2 지지 롤러(821)를 사용하여 수행될 수 있다. 즉, 제1 지지 롤러(721)의 초기 위치를 설정하는 과정은, 제2 지지 롤러(821)를 이동시켜 제2 지지 롤러(821)의 상단이 제1 스테이지(21) 및 제2 스테이지(41)의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 제2 지지 롤러(821)의 위치를 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치로서 설정하는 단계; 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821) 사이에 기판(S)을 배치하는 단계; 제2 지지 롤러(821)를 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및 제1 지지 롤러(721)를 이동시켜 제1 지지 롤러(721)의 하단이 기판(S)의 상면에 접촉할 때의 제1 지지 롤러(721)의 위치를 제1 지지 롤러(721)의 초기 위치로 설정하는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the process of setting the initial position of the first support roller 721 may be performed using the second support roller 821. That is, in the process of setting the initial position of the first support roller 721, the second support roller 821 is moved so that the upper end of the second support roller 821 becomes the first stage 21 and the second stage 41. Setting the position of the second support roller 821 as the initial position of the second support roller 821 when placed on the same plane as the upper surface of ); Disposing a substrate S between the first support roller 721 and the second support roller 821; Positioning the second support roller 821 at the initial position of the second support roller 821; And the position of the first support roller 721 when the lower end of the first support roller 721 contacts the upper surface of the substrate S by moving the first support roller 721. It may include the step of setting the initial position.

본 발명의 실시예에 따른 스크라이빙 장치의 제어 방법에 따르면, 처짐을 일으키거나 외력에 의해 절곡(변형)되지 않는 기준 플레이트(P)를 사용하거나 촬상 유닛(90)을 사용하여 제2 스크라이빙 휠(811) 및/또는 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치를 설정하고, 초기 위치에 위치된 제2 스크라이빙 휠(811) 및/또는 제2 지지 롤러(821)에 의해 기판(S)이 지지된 제1 스크라이빙 휠(711) 및/또는 제1 지지 롤러(721)를 기판(S)의 상면에 접촉시켜 제1 스크라이빙 휠(711) 및/또는 제1 지지 롤러(721)의 초기 위치를 설정한다. 따라서, 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치를 설정하는 과정에서 기판(S)이 처지거나 절곡되지 않으므로, 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치를 정확하게 설정할 수 있다. 또한, 제1 스테이지(21) 및/또는 제2 스테이지(41)의 상면을 기준으로 실제로 사용될 기판(S)에 대해 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치를 설정할 수 있으므로, 기판(S)의 두께가 달라지는 경우에도 제1 스크라이빙 휠(711), 제2 스크라이빙 휠(811), 제1 지지 롤러(721) 및 제2 지지 롤러(821)의 초기 위치를 정확하게 설정할 수 있다.According to the control method of the scribing apparatus according to the embodiment of the present invention, the second scribing is performed using a reference plate P that does not cause sagging or bends (deforms) by an external force, or uses the imaging unit 90. The initial position of the bing wheel 811 and/or the second support roller 821 is set, and the substrate (the second scribing wheel 811 and/or the second support roller 821) positioned at the initial position ( S) the first scribing wheel 711 and/or the first support roller 721 supported on the substrate S by contacting the upper surface of the first scribing wheel 711 and/or the first support roller The initial position of 721 is set. Therefore, in the process of setting the initial positions of the first scribing wheel 711, the second scribing wheel 811, the first support roller 721, and the second support roller 821, the substrate S is Since they are not sagging or bent, the initial positions of the first scribing wheel 711, the second scribing wheel 811, the first support roller 721, and the second support roller 821 can be accurately set. In addition, the first scribing wheel 711, the second scribing wheel 811, and the substrate S to be actually used based on the top surface of the first stage 21 and/or the second stage 41 Since the initial positions of the first support roller 721 and the second support roller 821 can be set, even when the thickness of the substrate S is different, the first scribing wheel 711 and the second scribing wheel ( Initial positions of the 811, the first support roller 721, and the second support roller 821 can be accurately set.

본 발명의 바람직한 실시예가 예시적으로 설명되었으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에 한정되지 않으며, 청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경될 수 있다.Although preferred embodiments of the present invention have been described exemplarily, the scope of the present invention is not limited to such specific embodiments, and may be appropriately changed within the scope described in the claims.

20: 제1 이송 유닛
30: 스크라이빙 유닛
40: 제2 이송 유닛
70: 제1 헤드
80: 제2 헤드20: first transfer unit
30: scribing unit
40: second transfer unit
70: first head
80: second head

Claims (8)

기판을 지지하는 스테이지, 상기 스테이지를 기준으로 상부에 위치되는 제1 스크라이빙 휠, 상기 스테이지를 기준으로 하부에 위치되는 제2 스크라이빙 휠을 포함하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법에 있어서,
상기 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계; 및
상기 제1 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함하고,
상기 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계는,
상기 제2 스크라이빙 휠을 이동시켜 상기 제2 스크라이빙 휠의 상단이 상기 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 상기 제2 스크라이빙 휠의 위치를 상기 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함하고,
상기 제1 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계는,
상기 제1 스크라이빙 휠 및 상기 제2 스크라이빙 휠 사이에 상기 기판을 배치하는 단계;
상기 제2 스크라이빙 휠을 상기 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및
상기 제1 스크라이빙 휠을 이동시켜 상기 제1 스크라이빙 휠의 하단이 상기 기판의 상면에 접촉할 때의 상기 제1 스크라이빙 휠의 위치를 상기 제1 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함하고,
상기 제2 스크라이빙 휠의 상단이 상기 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 상기 제2 스크라이빙 휠의 위치를 상기 제2 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계는,
상기 기판에 비하여 큰 강성을 갖는 기준 플레이트를 상기 스테이지에 탑재하는 단계; 및
상기 제2 스크라이빙 휠의 상단이 상기 기준 플레이트의 하면에 접촉할 때까지 상기 제2 스크라이빙 휠을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.In a method of controlling a scribing apparatus comprising a stage supporting a substrate, a first scribing wheel positioned above the stage, and a second scribing wheel positioned below the stage, ,
Setting an initial position of the second scribing wheel; And
Including the step of setting the initial position of the first scribing wheel,
The step of setting the initial position of the second scribing wheel,
The position of the second scribing wheel when the upper end of the second scribing wheel is placed on the same plane as the top surface of the stage by moving the second scribing wheel And setting as a location,
The step of setting the initial position of the first scribing wheel,
Placing the substrate between the first scribing wheel and the second scribing wheel;
Positioning the second scribing wheel at an initial position of the second scribing wheel; And
The position of the first scribing wheel when the lower end of the first scribing wheel contacts the upper surface of the substrate by moving the first scribing wheel is an initial position of the first scribing wheel. Including the step of setting,
Setting the position of the second scribing wheel when the upper end of the second scribing wheel is on the same plane as the upper surface of the stage as an initial position of the second scribing wheel,
Mounting a reference plate having greater rigidity compared to the substrate on the stage; And
And moving the second scribing wheel until an upper end of the second scribing wheel contacts a lower surface of the reference plate. 삭제delete 기판을 지지하는 스테이지, 상기 스테이지를 기준으로 상부에 위치되는 스크라이빙 휠, 상기 스테이지를 기준으로 하부에 위치되는 지지 롤러를 포함하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법에 있어서,
상기 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계; 및
상기 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함하고,
상기 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계는,
상기 지지 롤러를 이동시켜 상기 지지 롤러의 상단이 상기 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 상기 지지 롤러의 위치를 상기 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함하고,
상기 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계는,
상기 스크라이빙 휠 및 상기 지지 롤러 사이에 상기 기판을 배치하는 단계;
상기 지지 롤러를 상기 지지 롤러의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및
상기 스크라이빙 휠을 이동시켜 상기 스크라이빙 휠의 하단이 상기 기판의 상면에 접촉할 때의 상기 스크라이빙 휠의 위치를 상기 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함하고,
상기 지지 롤러의 상단이 상기 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 상기 지지 롤러의 위치를 상기 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계는,
상기 기판에 비하여 큰 강성을 갖는 기준 플레이트를 상기 스테이지에 탑재하는 단계; 및
상기 지지 롤러의 상단이 상기 기준 플레이트의 하면에 접촉할 때까지 상기 지지 롤러를 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.In a method for controlling a scribing apparatus comprising a stage supporting a substrate, a scribing wheel positioned above the stage, and a support roller positioned below the stage,
Setting an initial position of the support roller; And
Including the step of setting the initial position of the scribing wheel,
The step of setting the initial position of the support roller,
And setting a position of the support roller as an initial position of the support roller when the upper end of the support roller is placed on the same plane as the upper surface of the stage by moving the support roller,
The step of setting the initial position of the scribing wheel,
Placing the substrate between the scribing wheel and the support roller;
Positioning the support roller at an initial position of the support roller; And
Moving the scribing wheel to set a position of the scribing wheel when the lower end of the scribing wheel contacts the upper surface of the substrate as an initial position of the scribing wheel,
Setting the position of the support roller as the initial position of the support roller when the upper end of the support roller is on the same plane as the upper surface of the stage,
Mounting a reference plate having greater rigidity compared to the substrate on the stage; And
And moving the support roller until an upper end of the support roller contacts a lower surface of the reference plate. 삭제delete 기판을 지지하는 스테이지, 상기 스테이지를 기준으로 상부에 위치되는 지지 롤러, 상기 스테이지를 기준으로 하부에 위치되는 스크라이빙 휠을 포함하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법에 있어서,
상기 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계; 및
상기 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함하고,
상기 스크라이빙 휠의 초기 위치를 설정하는 단계는,
상기 스크라이빙 휠을 이동시켜 상기 스크라이빙 휠의 상단이 상기 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 상기 스크라이빙 휠의 위치를 상기 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함하고,
상기 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계는,
상기 지지 롤러 및 상기 스크라이빙 휠 사이에 상기 기판을 배치하는 단계;
상기 스크라이빙 휠을 상기 스크라이빙 휠의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및
상기 지지 롤러를 이동시켜 상기 지지 롤러의 하단이 상기 기판의 상면에 접촉할 때의 상기 지지 롤러의 위치를 상기 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함하고,
상기 스크라이빙 휠의 상단이 상기 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 상기 스크라이빙 휠의 위치를 상기 스크라이빙 휠의 초기 위치로서 설정하는 단계는,
상기 기판에 비하여 큰 강성을 갖는 기준 플레이트를 상기 스테이지에 탑재하는 단계; 및
상기 스크라이빙 휠의 상단이 상기 기준 플레이트의 하면에 접촉할 때까지 상기 스크라이빙 휠을 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.In the method of controlling a scribing apparatus comprising a stage supporting a substrate, a support roller positioned above the stage, and a scribing wheel positioned below the stage,
Setting an initial position of the scribing wheel; And
Including the step of setting the initial position of the support roller,
The step of setting the initial position of the scribing wheel,
Moving the scribing wheel to set a position of the scribing wheel as an initial position of the scribing wheel when an upper end of the scribing wheel is placed on the same plane as the upper surface of the stage, ,
The step of setting the initial position of the support roller,
Placing the substrate between the support roller and the scribing wheel;
Positioning the scribing wheel at an initial position of the scribing wheel; And
Moving the support roller to set a position of the support roller when the lower end of the support roller contacts the upper surface of the substrate as an initial position of the support roller,
The step of setting the position of the scribing wheel when the upper end of the scribing wheel is on the same plane as the upper surface of the stage as an initial position of the scribing wheel,
Mounting a reference plate having greater rigidity compared to the substrate on the stage; And
And moving the scribing wheel until an upper end of the scribing wheel contacts a lower surface of the reference plate. 삭제delete 기판을 지지하는 스테이지, 상기 스테이지를 기준으로 상부에 위치되는 제1 지지 롤러, 상기 스테이지를 기준으로 하부에 위치되는 제2 지지 롤러를 포함하는 스크라이빙 장치를 제어하는 방법에 있어서,
상기 제2 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계; 및
상기 제1 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계를 포함하고,
상기 제2 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계는,
상기 제2 지지 롤러를 이동시켜 상기 제2 지지 롤러의 상단이 상기 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 상기 제2 지지 롤러의 위치를 상기 제2 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함하고,
상기 제1 지지 롤러의 초기 위치를 설정하는 단계는,
상기 제1 지지 롤러 및 상기 제2 지지 롤러 사이에 상기 기판을 배치하는 단계;
상기 제2 지지 롤러를 상기 제2 지지 롤러의 초기 위치에 위치시키는 단계; 및
상기 제1 지지 롤러를 이동시켜 상기 제1 지지 롤러의 하단이 상기 기판의 상면에 접촉할 때의 상기 제1 지지 롤러의 위치를 상기 제1 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계를 포함하고,
상기 제2 지지 롤러의 상단이 상기 스테이지의 상면과 동일 평면에 놓일 때의 상기 제2 지지 롤러의 위치를 상기 제2 지지 롤러의 초기 위치로서 설정하는 단계는,
상기 기판에 비하여 큰 강성을 갖는 기준 플레이트를 상기 스테이지에 탑재하는 단계; 및
상기 제2 지지 롤러의 상단이 상기 기준 플레이트의 하면에 접촉할 때까지 상기 제2 지지 롤러를 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.A method for controlling a scribing apparatus comprising a stage supporting a substrate, a first support roller positioned above the stage, and a second support roller positioned below the stage,
Setting an initial position of the second support roller; And
Including the step of setting the initial position of the first support roller,
The step of setting the initial position of the second support roller,
Moving the second support roller to set a position of the second support roller as an initial position of the second support roller when the upper end of the second support roller is on the same plane as the upper surface of the stage, ,
Setting the initial position of the first support roller,
Placing the substrate between the first support roller and the second support roller;
Positioning the second support roller at an initial position of the second support roller; And
Moving the first support roller to set a position of the first support roller as an initial position of the first support roller when the lower end of the first support roller contacts the upper surface of the substrate,
The step of setting the position of the second support roller when the upper end of the second support roller is on the same plane as the upper surface of the stage as an initial position of the second support roller,
Mounting a reference plate having greater rigidity compared to the substrate on the stage; And
And moving the second support roller until an upper end of the second support roller contacts a lower surface of the reference plate. 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112679082A (en) * 2020-12-04 2021-04-20 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Cutting device

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KR20070010855A (en) * 2005-07-20 2007-01-24 주식회사 에스에프에이 Multi braking system
KR20070070731A (en) * 2005-12-29 2007-07-04 주식회사 탑 엔지니어링 Apparatus for cutting substrate

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