KR102365281B1 - 다수 솔리드 대상물을 식별하기 위한 xrf 분석기, 분류 시스템 및 그 분류 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 상이한 대상물에 대한 여기 빔의 강도를 변조/변화시키고 그 2차 방사선을 측정함으로써 복수의 대상물에서 마킹 조성물의 존재를 동시에 식별할 수있는 새로운 XRF 분석기를 개시한다. XRF 분석기는 복수의 대상물을 동시에 조사하기위한 공간 강도 분포를 갖는 적어도 하나의 X선 또는 감마선(Gamma-Ray) 여기 방사선 빔을 방출하도록된 방사선 이미터 어셈블리; X선 또는 감마선 방사선에 의해 대상물의 조사에 응답하여 복수의 대상물로부터 도달하는 2차 방사선 X선 신호를 검출하고, 복수의 대상물에 대하여 검출된 데이터 X선 신호의 공간 강도 분포를 나타내는 데이터를 제공하기 위한 방사선 검출기; 그리고 상기 검출기와 통신하는 신호 판독 처리기를 포함하고, 상기 처리기는 상기 복수의 대상물 각각의 적어도 하나의 표면에 포함된 상기 마킹 조성물의 존재를 확인하기 위해 상기 검출된 응답 X- 선 신호를 수신하고 처리하는데 적합하다.
Description
본 발명은 복수의 솔리드 대상물을 식별하기 위한 새로운 XRF 분석기, 그 분류 시스템 및 방법에 관한 것이다.
본원 발명의 배경 기술로서 간주 되는 참고 문헌은 다음과 같다 :
- PCT 공개 번호 WO 1997/025692
- 미국 특허 출원 공개 번호 US 2011/222654
- 미국 특허 출원 공개 번호 US 2001/045378
본원의 상기 참고 문헌의 인정은 이들이 본 발명의 특허성에 어떤 식으로든 관련이 있다는 것을 의미하는 것은 아니다.
일반적으로 솔리드 대상물(solid objects)을 식별하는 방법에는 각 대상물의 물리적 속성 또는 특징을 결정하고, 공통 속성을 공유하는 대상물을 그룹화하는 작업을 포함한다. 이러한 특성은 색, 색조, 질감, 무게, 밀도, 빛, 소리 또는 기타 신호에 대한 투과성, 다양한 분야와 같은 자극에대한 반응을 포함할 수 있다. 이러한 성질을 결정하는 방법은 사람에 의한 물질의 시각적 식별, 방사 또는 방출되는 광파의 양 및/또는 파장에 의한 식별, 와전류 분리, 헤비-미디어(heavy-media) 식물 분리 및 X- 선 형광 검출을 포함한다.
X- 선 형광 분광학은 오랫동안 학문적 환경과 산업 분야에서 물질 내의 원소를 확인함으로써 물질을 분류하는 실험실에서 유용한 분석 도구였다. 여기에서 방출되는 K- 쉘 또는 L- 쉘 X- 선과 같은 특징적인 X- 선의 사용은 금속 및 금속 합금과 같은 상이한 재료에 존재하는 원소 및 이들의 상대적인 양의 확실한 식별 방법을 제공한다. 예를 들어, 방사선 타격 물질(radiation striking matter)은 K- 껍질 전자가 들어오는 방사선에 의해 K- 껍질에서 노크(knocked)되고 그 다음 외부 껍질 전자로 대체될 때 특성 K- 껍질 X- 선의 방출을 일으킨다. 외부 전자는 K- 껍질 에너지 상태로 떨어지면서 원자의 X- 선 방사선 특성을 방출한다
방출된 X- 선 에너지는 형광 요소의 원자 번호에 달려 있다. 에너지 분해능 검출기는 X선이 형광을 발산하는 다양한 에너지 레벨을 검출하고, 검출된 X선으로부터 X선 신호를 생성한다. 이 X- 선 신호는 검출된 X- 선의 에너지 스펙트럼을 형성하는 데 사용될 수 있으며, 상기 정보로부터 X- 선을 생성한 요소 또는 요소가 식별될 수 있다. 형광 X선은 조사된 원소로부터 등방성으로 방출되며 검출된 방사선은 검출기에 의해 지정된 입체각 및 검출기에 도달하기 전에 방사선의 흡수에 따라 달라진다. X선의 에너지가 낮을수록 공기가 흡수되기 전에 이동 거리가 짧아진다. 따라서, X선을 검출할 때, 검출된 X선의 양은 방출된 X선의 양, 방출된 X선의 에너지 준위, 전송 매체에 흡수된 방출된 X선, 검출된 X선 및 검출기 사이의 거리, 및 검출기와 조사된 물질 사이의 거리를 포함한다.
X선 분광법은 재료를 분류하는 데 유용한 분석 도구이지만 현재 기술로 분석당 비용이 높으며 필요한 시간은 일반적으로 몇 분 또는 몇 시간이다. 금속 및 합금 스크랩 야드 식별은 시각적으로 각 금속 대상물을 한 번에 하나씩 검사하는 훈련된 분류자에 의해 주로 성취된다. 전단(shearing)에 의해 오염이 제거된다. 숙련된 분류기는 색상, 색조, 질감 및 밀도의 미묘한 특성을 관찰하여 금속 조성물을정성적으로 평가한다. 때로는 스파크 테스트 또는 화학 물질 "리트머스(litmus)" 테스트가 식별에 도움이된다. 이 프로세스는 느리고 부정확하지만 스크랩 메탈을 업그레이드하여 오늘날의 가치를 업그레이드하는 가장 보편적인 방법이다.
물질의 X선 형광에 기초하여 물질을 분류하기 위한 다양한 시스템 및 기술이 개시되어있다. 이 시스템 중 일부는 휴대용 또는 벤치 톱 X선 형광 검출기를 포함한다. 이러한 시스템 중 일부는 컨베이어 벨트를 따라 소재 조각을 연속적으로 운반하고 각 부품에 X선을 차례로 조사하는 것을 포함한다. 이 X- 레이는 조각에 포함된 요소에 따라 다양한 에너지 레벨에서 X- 선을 각각의 조각이 형광을 내도록한다. 형광 X선이 검출되고, 재료 조각은 형광 X선에 기초하여 분류되고 이 분류에 따라 분류된다.
그러나 공개된 시스템은 X- 선을 검출하고 이에 따라 대상물 조각을 정확하게 분류하는데 약 1초 이상을 필요로 하고, 단위 시간당 식별되는 물체의 수에 비례하여 비용이 비싸기 때문에 상업적으로 널리 받아들여지지 않았다.
또한, 현재 전 세계적으로 환경에대한 우려로 인해 재사용 할 수 있는 자재를 포함하는 물품을 재활용하려는 노력이 증가하고 있다.
따라서, 식별 가능한 새로운 솔리드 대상물을 특별히 제조하지 않으면서 고속 및 정확도로 기존의 사용된 복수의 솔리드 대상물을 식별할 수 있는 시스템 및 방법을 제공할 필요가 있다.
본 발명은 상이한 대상물에 대한 여기 빔의 강도를 변조/변화시키고 2차 방사선을 측정함으로써 복수의 대상물에서 마킹 조성물의 존재를 동시에 식별할 수 있는 신규한 XRF 분석기를 제공한다. 상기 XRF 분석기는 복수의 대상물을 동시에 조사하기 위한 공간 강도 분포를 갖는 적어도 하나의 X선 또는 감마선(Gamma-Ray) 여기 방사선 빔(excitation beam)을 방출하도록 된 방사선 이미터 어셈블리; X선 또는 감마선(Gamma-Ray) 방사선에 의해 대상물의 조사에 응답하여 복수의 대상물로부터 도달한 2차 방사선 X-선 신호를 검출하고, 복수의 대상물에 대하여 검출된 X선 신호 데이터의 공간 강도 분포를 나타내는 데이터를 제공하기 위한 방사선 검출기; 그리고 상기 검출기와 통신하는 신호 판독 처리기로서, 복수의 대상물 각각의 적어도 하나의 표면상에 상기 마킹 조성물의 존재를 확인하기 위해 상기 검출된 응답 X-선 신호를 수신하고 처리하기 위한 상기 검출기와 통신하는 신호 판독 처리기를 포함한다. 상기 마킹 조성물은 전자기 방사선을 대상물에 조사하는 것에 응답하여 대상물로부터 방출된 응답 전자기 신호를 검출함으로써 식별 가능하다. 상기 대상물은 X- 선 형광(XRF) 분석에 의해 식별되며, 여기에서 X-선 또는 감마선 신호에 의해 조사되는 것에 응답하여 마킹된 대상에 의해 방출된 X- 선 스펙트럼이 검출되고 분석된다. 상기 마킹 조성물은 X선 형광(XRF) 분석에 의해 확인 가능한 하나 이상의 마커 물질을 포함한다. 예를 들어, XRF 분석기는 에너지 분산형 XRF 분석기 (EDXRF)로서, 검출기로 들어오는 X선의 에너지는 회절 결정을 사용하지 않고 전압 신호로 변환된다. 본 발명의 XRF 분석기는 진공 상태가 없는 제어되지 않은 환경에서 작동할 수 있다.
일정 실시 예에서, 상기 이미터 어셈블리는 서로 이격된 복수의 이미터를 포함하며, 이미터 각각은 서로에 대해 상이한 강도를 갖는 여기 빔을 생성하도록 적응될 수 있다.
일정 실시 예에서, 상기 이미터 어셈블리는 이미터 그리고 상기 이미터에 결합된 공간 강도 빔 변조기를 포함하며, 동 변조기는 상기 대상물 각각에 충돌하는 강도가 상이하고 식별가능 하도록 상기 여기 빔의 강도를 공간적으로 변조하도록 구성된다. 일정 실시 예에서, XRF 분석기는 솔리드 대상물 각각에 의해 증착된 마킹 조성물의 양을 식별하도록 구성되고 동작 가능하다. 특히, 상기 신호 처리기는 솔리드 대상물각각의 적어도 하나의 표면상에 도포된 마킹 조성물 농도를 식별하도록 적응된다.
일정 실시 예에서, 상기 신호 처리기가 데이터베이스 내에 저장된 사전에 선택된 데이터를 솔리드 대상물 각각의 적어도 한 표면상에 도포된 마킹 조성물(marking composition) 일정 농도와 비교하도록 적응된다.
적어도 하나의 X선 또는 감마선 여기 빔을 동시에 복수의 대상물에 조사하는 단계 - 상기 대상물들 각각에 도달하는 상기 빔의 강도는 상이하고 식별 가능함; 상기 대상물로부터 도달하는 2차 방사선을 검출하는 단계; 그리고 상기 검출된 공간 강도 분포에 따라 마킹 조성물에 의해 복수의 대상물 중 어느 것이 마킹되는 가를 식별하는 단계를 포함하는 XRF 마커에 의해 마킹된 복수의 대상물을 식별하기 위한 방법이 제공된다.
일정 실시 예에서, 상기 방법은 상기 대상물들 각각에 충돌하는 강도가 상이하고 식별 가능하도록, 상기 적어도 하나의 여기 빔의 강도를 공간적으로 변조하는 단계를 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 마킹 방법은 본원 명세서에서 참고되는 PCT 출원 번호 PCT/IL2017/050121에서 설명된 마킹 방법을 포함할 수 있다.
일정 실시 예에서, 상기 마킹 조성물은 하나 이상의 마커 물질(사전 선택된 코드에 따라 임의로 결정/설정될 수 있다) 일정 농도(고유한 농도)로 준비된다.
일정 실시 예에서, 본 발명은 복수의 솔리드 대상물, 그리고 특히 코인, 메달리온, 토큰 및 도박 칩과 같은 디스크-형상 솔리드 대상물을 온라인 마킹 및 분류하기 위한 새로운 분류 시스템 및 방법을 제공한다. 본 발명의 시스템은 또한 귀금속 및/또는 보석 또는 다이아몬드, 보석(특히 상감 보석)으로 제조된 대상물과 같은 귀중품의 마킹 및 분류에 사용될 수 있다. 특히, 분류 시스템은 마킹 조성물(X선 형광(XRF) 또는 다른 유형의 마킹을 통해 식별 가능)로 복수의 솔리드 대상물을 연속적으로(온라인으로) 마킹하고, 마킹을 검출 또는 판독하며(예를 들어, XRF 분석기에 의해), 그리고 대상물의 표면상에 마킹 조성물의 존재 및 양/농도에 따라 대상물을 분류하도록 구성되고 동작 가능하다. 분류 시스템은 사용된 그리고 새롭게 제조된 대상물을 마킹하고 분류할 수 있다. 따라서, 특정 유형의 대상물(예를 들면, 인증 또는 기타 목적을 위해)상에 새로운 마킹을 도입할 때 이미 사용중인 대상물을 대체할 필요가 없다. 예를 들어, 코인을 마킹함에 있어서, 분류 시스템은 새로 제조된 코인과 이미 유통중인 코인을 모두 마킹하고 분류하는데 사용될 수 있다.
분류 시스템은 상기 솔리드 대상물의 적어도 하나의 표면상의 마킹 조성물 존재를 식별하도록 구성되고 동작 가능한 적어도 한 XRF 분석기, 그리고 마킹 조성물의 존재가 검출되지 않은 대상물을 사전 선택된 방향으로 전환하기 위해 XRF 분석기와 통신하는 적어도 한 분류기를 포함한다.
일정 실시 예에서, XRF 분석기가 마킹 조성물의 농도를 식별하도록 구성되고 동작가능하다. 다음에 분류기는 상기 마킹 조성물의 농도가 사전에 선택된 방향을 향하여 사전에 선택된 임계치 이하인 대상물 각각을 방향 전환시키도록 동작 가능하다.
일정 실시 예에서, 분류 시스템은 상기 솔리드 대상물의 적어도 하나의 표면으로 마킹 조성물을 도포하기 위한 적어도 하나의 마킹 모듈을 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 마킹 모듈은 프린팅 및 진공 증착 프로세스 중 적어도 하나를 사용함으로써 마킹 조성물을 도포하도록 적응된다.
일정 실시 예에서, 상기 XRF 분석기는 상기 마킹 모듈의 동작을 검증하도록 적응된다.
일정 실시 예에서, 상기 분류 시스템은 상기 대상물의 제2 표면을 상기 XRF 분석기에 노출시키도록 적응된 회전 메카니즘을 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 분류 시스템은 상기 설명된 바와 같은 XRF 분석기를 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 분류 시스템은 마킹 조성물을 경화하고, 그에 의해 마킹 조성물을 솔리드 대상물과 결합시키\도록 구성되며 동작 가능하는 적어도 하나의 경화 모듈을 포함한다.
상기 분류 시스템은 또한 대상물, 광학적 검사 모듈(예를 들면 마킹 조성물의 가시성을 검증하기 위한)을 클린하기 위한 하나 이상의 클린닝 모듈과 같은 추가 컴포넌트를 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 광의적 특징에 따라, 적어도 하나의 솔리드 대상물을 분류하는 방법이 제공된다. 이 같은 방법은 적어도 하나의 X선 또는 감마선 여기 빔을 사용하여 적어도 하나의 솔리드 대상물을 조사하는 단계; 상기 대상물의 적어도 하나의 표면상에서 마킹 조성물의 존재를 검출하는 단계; 그리고 상기 마킹 조성물의 상기 존재에 따라 상기 대상물을 분류하는 단계를 포함한다.
일정 실시 예에서, 복수의 솔리드 대상물을 마킹 조성물로 연속적으로 마킹하는 단계를 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 마킹 단계는 인쇄 및 진공 증착 공정 중 적어도 하나를 적용하는 단계를 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 방법은 마킹 단계가 적절히 적용되었음을 입증함을 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 방법은 상기 대상물의 두 표면상에서 마킹 조성물 존재를 검출하는 단계를 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 방법은 복수의 솔리드 대상물을 적어도 하나의 X선 또는 감마선 여기 빔으로 동시에 조사하는 단계를 포함한다.
일정 실시 예에서, 상기 대상물들의 상기 분류는 분당 2000 대상물까지의 용량으로 수행된다.
일정 실시 예에서, 상기 방법은 상기 설명된 바와 같은 식별 방법을 포함한다.
하기에서는 첨부도면을 참조하여 비 제한적인 예로서 본원 발명을 상세히 설명한다.
도 1A는 본 발명 실시 예에 따른 XRF 분석기를 도시하는 블록도.
도 1B는 본 발명 실시 예에 따른 XRF 분석기의 가능한 구성을 도시하는 도면.
도 1C는 본 발명 실시 예에 따른 XRF 분석기의 강도 변조기의 가능한 구성을 도시한 도면.
도 1D는 본 발명 실시 예에 따른 복수 대상물에 충돌하는 상이한 강도의 방사선을 개략적으로 도시한 도면.
도 2는 본 발명 실시 예에 따른 복수 대상물을 식별하기 위한 방법의 흐름도.
도 3은 본 발명 실시 예에 따른 분류 시스템을 도시하는 블록도.
도 4는 본 발명 실시 예에 따른 복수 대상물을 분류하기 위한 방법 흐름도.
도 1A는 본 발명 실시 예에 따른 XRF 분석기를 도시하는 블록도.
도 1B는 본 발명 실시 예에 따른 XRF 분석기의 가능한 구성을 도시하는 도면.
도 1C는 본 발명 실시 예에 따른 XRF 분석기의 강도 변조기의 가능한 구성을 도시한 도면.
도 1D는 본 발명 실시 예에 따른 복수 대상물에 충돌하는 상이한 강도의 방사선을 개략적으로 도시한 도면.
도 2는 본 발명 실시 예에 따른 복수 대상물을 식별하기 위한 방법의 흐름도.
도 3은 본 발명 실시 예에 따른 분류 시스템을 도시하는 블록도.
도 4는 본 발명 실시 예에 따른 복수 대상물을 분류하기 위한 방법 흐름도.
블록도를 도시한 도 1A와 관련하여, 본원 발명의 일부 실시 예에 따른 XRF 분석기(100)의 주요 구성 요소들을 도시한다. XRF 분석기(100)는 검사중인 복수의 대상물을 향하여 공간 강도 분포를 갖는 적어도 하나의 X선 및/또는 감마선 방사선(1차 방사선)을 방출하도록 구성된 이미터 어셈블리(12), 그리고 대상물로부터 응답으로 방출되는 응답 X선 신호(2차 방사선)를 검출하도록 적응된 X선 검출기(14)를 포함한다. XRF 분석기(100)는 XRF 검출기(14)와 통신하는 신호 처리기(16)를 더욱 포함한다. 프로세서(16)는 단일 시간 스텝으로 측정된 대상물 중 어느 대상물이 마킹되어 있는지를 식별하도록 구성된다. 대상물들은 예를 들어 연속적인 트랙(10)의 폭(트랙의 이동 방향에 수직)에 단일 행으로 위치 될수 있다. 한 대상물 그룹 내의 어떤 대상물이 마킹되고 어떤 대상물이 마킹되지 않는가를 식별하기 위해, 각각의 대상물은 상이한 강도로 조사되어, 관련 파장 범위 내의 전체 대상물 그룹으로부터의 전체 응답 신호의 강도를 검출하도록 하며(입사하는 방사선의 전체 강도에 비례함) 정확히 어떤 대상물이 마킹되는가를 결정할 수 있도록 한다. 예를 들어, 2개의 대상물(X 및 Y)이 동시에 조사되고, 이들 각각의 응답 신호가 검출기에 의해 동시에 검출되는 경우, 강도 I로 대상물 X를 조사하고 강도 2I로 Y를 조사할 수 있다. 이러한 구성은 입사 방사선의 강도에 비례하는 대상물 상의 하나 이상의 마커로부터 방출된 응답 신호의 강도를 측정함으로써 네 가지 가능한 결과를 구별할 수 있게 한다. IR에 의해 대상물 X 상의 하나 이상의 마커에서 방출된 강도를 나타낼 때 네 가지 가능한 결과가 하기 표 1에 요약되어 있다.
결과 | 응답 신호 강도 |
대상물 X 및 Y 모두 마킹됨 | 3IR |
대상물 X 마킹되지 않음 대상물 Y 마킹됨 |
2IR |
대상물 X 마킹됨 대상물 Y 마킹되지 않음 |
IR |
대상물 X 및 Y 모두 마킹되지 않음 | 0 |
또 다른 예에서, 강도 I의 대상물 X, 강도 2I의 대상물 Y 및 강도 4I의 대상물 Z 그룹을 동시에 조사함으로써 3개의 대상물(X, Y 및 Z) 그룹 중에서 어떤 대상물이 마킹되어야 할지를 식별할 수 있다. 이러한 구성은 응답 신호의 8개의 강도(대상물 X로부터의 응답 신호의 강도가 IR인 경우 3개의 모든 대상물로부터의 응답 신호의 8개의 가능한 강도는: 0, IR, 2IR,,...7IR)를 구별하여 3개의 대상물 중 어느 것이 표시되는지 정확하게 식별할 수 있도록 한다. 단순화를 위해, 2개 또는 3개의 대상물을 사용하는 2개의 예가 제시되었지만, 본 발명은 특정 수의 대상물로 제한되지 않으며 응답 신호 강도의 임의의 조합이 검출될 수 있다.
k 개의 대상물이 동시에 조사되는 일반적인 경우, k 개의 대상물 중 어느 것이 마킹되어 있는지를 식별하기 위해, 상이한 대상물이 강도 I, 21I, 22I,... 2k -1I.로 조사되어야 한다. 하나 이상의 마커로부터의 응답 신호의 강도는 표시된 대상물의 가능한 2k 세트에 해당하는 0, IR,.... (2k-1)IR 중 하나가 된다.
상이한 사전 선택된 강도를 갖는 복수의 대상물을 조사하기 위해, 복수의 여기 빔을 방출하는 복수의 이미터를 사용할 수 있다. 이를 대신하여 또는 이에 추가로, 도 1B - 1C에 도시된 바와 같이, 공간 강도 빔 변조기(spatial intensity beam modulator)를 갖는 단일 이미터를 사용할 수 있으며, 이들은 빔을 변조하여 조사 된 전체 영역 내의 상이한 영역 또는 지역이 상이한 강도의 방사선을 수신하도록 한다. 따라서, 방출된 방사선의 강도를 변조함으로써, 본 발명의 기술은 XRF 마커에 고유한 시그너쳐를 제공하며, 검사중인 대상물의 용이한 분류(분류) 및 분리를 가능하게 한다.
XRF 분석기(100)는 방사선 이미터(12) 및 방사선 검출기(14)를 포함하는 단일 장치로서 구성될 수 있다. 선택적으로, 방사선(X선) 이미터(12) 및 방사선(X선) 검출기(14)는 별개의 장치로서 구성될 수 있다. 다른 디자인 구성에서, XRF 분석기 (100)는 2 이상의 이미터 및 2 이상의 검출기를 포함할 수 있다. 신호 처리기(16)는 배경 방사선 노이즈를 필터링하고 응답 신호로부터 클러터를 제거하도록 응답 X- 선 신호를 처리할 수 있다. 신호 처리기(16)는 개선된 SNR 및 SCR을 갖는 향상된 응답 신호를 얻기 위해, 예를 들어 시계열 분석과 같은 통계적 방법과 같은 응답 신호를 처리하기 위한 더욱 진보된 방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 신호 처리기(16)는 국제 출원 PCT/IL2016/050340에 기술된 방법을 사용할 수 있다.
일반적으로, 본 발명의 XRF 분석기는 아날로그 및/또는 디지털 수단에 의해 구현될 수 있다. XRF 분석기는 컴퓨터 프로세서(CPU) 및 메모리를 포함하는 컴퓨터 시스템을 포함한다. 따라서 분석기의 모듈은 적절한 회로 및/또는 하기 설명되는 방법(200 및/또는 400)의 동작을 구현하도록 구성된 컴퓨터 판독 가능 코드를 포함하는 소프트웨어 및/또는 하드웨어 구성 요소에 의해 구현될 수 있다. 본 발명의 XRF 분석기는 XRF 신호 처리 센터의 일부로서, 및/또는 휴대용(예를 들어, 핸드헬드) XRF 판독 장치로서 구현될 수 있다.
신호 처리기(16)는 응답 X선 신호를 수신하기 위한 통신 모듈을 포함하는 데이터 입력 유틸리티(16A), 식별된 대상물과 관련된 데이터를 생성하기 위한 선택적 데이터 출력 유틸리티(16B), 데이터베이스, 즉 대상물의 마킹 시그너쳐 및 대상물의 기하학적 위치에 대한 응답 신호의 강도를 나타내는 사전 선택된 데이터를 저장하기 위한 메모리(즉, 비휘발성 컴퓨터 판독가능 매체)(16C), 그리고 측정된 대상물 중 어느 대상물이 마킹되고 어느 대상물이 마킹 되지 않는지를 식별하기 위한 데이터 프로세싱 유틸리티(16D)를 포함한다.
데이터베이스는 Microsoft Access, Cybase, Oracle 또는 기타 적합한 상용 데이터베이스 시스템으로 구현될 수 있다. 일정 실시 예에서, XRF 분석기(100)는 프로세싱 유틸리티(16D) 및/또는 메모리(16C)의 일부가 다수의 별개의 위치에 상주할 수 있도록 클라우드 기반 구성으로 구성되거나 및/또는 인터넷 기반 컴퓨팅을 이용한다. XRF 분석기(100)의 활성화 시에, 프로세서(16)는 방사선 이미터 어셈블리(12)에 신호를 보내서 방사선(예를 들어, X선 방사선)을 방출하도록 한다.
프로세서(16)는 대상물(존재한다면) 상의 XRF 마커로부터 방출된 방사선 검출기(14)를 통해 방사선 형광 신호 패턴을 검출한다. 프로세서(16)는 데이터 통신(예를 들면, 셀룰러 네트워크를 통한)을 통해 중앙 컴퓨터의 통신 모듈로 형광 신호 패턴(형광 파장 및/또는 강도와 같은)에 관한 데이터를 전송할 수 있다. 프로세서(16)는 수신된 데이터를 메모리(16C)의 데이터베이스에 기록하고 및/또는 수신된 데이터를 데이터베이스 내의 데이터와 질의/상호 비교하여 대상물이 마킹되었는지를 식별하고, 프로세서(16)가 대상물 데이터에 대응하는 메시지를 디스플레이하도록 신호를 보내는 이동 장치에 그와 같은 대상물 데이터를 전달할 수있다. 이와 같은 목적을 위해, 데이터베이스에 저장된 사전 선택된 데이터는 검출 된 XRF 마커의 형광 패턴/XRF-시그니쳐를 대상물을 마킹하기 위해 이전에 사용된 그리고 데이터베이스에 저장된 다수의 XRF 마커의 시그니쳐/화학 조성과 비교하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 마킹 조성물의 농도는 대상물의 분석 이전에 특정 마커(들)의 특정 농도를 나타내는 다수의 XRF 시그너쳐 응답을 데이터베이스에 저장함으로써 식별될 수 있다. 또 다른 예에서, 마킹 조성물은 하나 이상의 마커 재료 특정(가능하게는 유일한) 농도(사전 선택된 코드에 따라 임의적으로 결정/설정 될 수 있는)로 준비된다. 그런 다음, 마킹 조성물이 대상물 표면에 적용된 후에 비로서, 특정 샘플 기판에 적용된 마킹으로부터 XRF 응답 신호가 판독되고, XRF 응답 신호가 대상물에 해당하는 마킹의 코드-워드로서 설정된다. 특정 XRF 응답 시그니쳐(특정 마킹을 나타내는 것임)와 특정 샘플 기판(마킹 조성물뿐만 아니라) 간의 대응은 데이터베이스에 저장될 수 있다. 이 경우, 마킹 요소(들)의 농도(들)는 사전 선택된 코드에 기초하여 선험적으로 결정되지는 않지만, 그 대신에 마킹 조성물(마킹 요소의 임의의 농도를 포함)이 샘플 기판에 가해진후에 비로서 후험적으로 결정/측정된다. 따라서, 마커 재료(들)의 농도(들) 및/또는 상대 농도(들)는 마킹의 원하는 코드 워드에 기초하여 선험적으로 결정될 수도 있고 그렇지 않을 수도 있다. 어떤 경우에는 요소의 특정(반드시 알려져있을 필요는 없음) 농도를 갖는 마킹 조성물이 대상물(예를 들어, 기준 대상물/컴포넌트)에 도포된 후에만 코드 워드가 후천적으로 결정할 수 있다. 상기 대상물의 유형/재료는 마킹 조성물에 의해 표시되어야 하는 컴포넌트와 유사한 유형/재료를 갖는다.
데이터 프로세싱 유틸리티(16D)는 샘플 및 홀드 회로, 아날로그 - 디지털 변환기(ADC), 디지털 - 아날로그 변환기(DAC) 및 데이터 프로세싱 유틸리티가 X- 선 응답 신호를 수신할 수 있게 하는 워킹 메모리를 포함할 수 있다. X선 응답 신호가 수신된 후에, 데이터 프로세싱 유틸리티(16D)는 또한 신호(들)를 처리할 수 있게 된다. 신호 처리 단계의 결과는 디스플레이 되거나 및/또는 저장 장치에 저장될 수 있고 및/또는 광역 네트워크(예를 들어, 인터넷)를 통해 전송을 위해 데이터 통신 유닛으로 전송 될 수 있다. 이러한 "프로세싱 유틸리티"는 "클라우드 컴퓨터"와 같은 "서버"시스템 상에 설치된 소프트웨어 제품에 의해 구성되거나 "클라이언트 컴퓨터"일 수 있다. 이동 전화와 같은 클라이언트의 개인 통신 장치 또는 컴퓨터 시스템의 다양한 모듈 내의 애플리케이션 프로그램 인터페이스(API)는 서버와 클라이언트 컴퓨터(즉, 분산 소프트웨어) 사이에 분산될 수있다. 메모리(16C)는 데이터 프로세싱 유틸리티(16D)에 의해 실행 가능한 명령들을 포함할 수 있다. 상기 명령들은 데이터 프로세싱 유틸리티(16D)가 X- 레이 응답 신호를 수신하고, X- 레이 응답 신호를 처리하고, 어떤 대상물이 마킹되어 있는지 식별하고, 그리고 데이터 출력 유틸리티(16B)를 통해 표시된 대상물에 관한 통지를 출력할 수 있도록 할 수 있다. 메모리(16C)는 외부 유닛에 의해 중앙 데이터베이스에 무선 또는 유선 접속을 통해 중계 될 수있다.
본 발명의 특징은 이하에서 더 상세하게 설명되는 다양한 컴퓨터 하드웨어 구성 요소를 포함하는 범용 또는 특수 목적 컴퓨터 시스템을 포함할 수 있다. 본 발명의 범위 내의 특징은 또한 컴퓨터 실행 가능 명령, 컴퓨터 판독 가능 명령 또는 컴퓨터 하드웨어에 저장된 데이터 구조를 지니는 컴퓨터 판독 가능 매체를 포함한다. 이러한 컴퓨터 판독 가능 매체는 범용 또는 특수 목적 컴퓨터 시스템에 의해 액세스 가능한 임의의 이용 가능한 매체 일 수 있다. 예를 들어, 그러한 컴퓨터 판독 가능 매체는 RAM, ROM, EPROM, 플래시 디스크, CD-ROM 또는 다른 광학 디스크 저장 장치, 자기 디스크 저장 장치 또는 다른 자기 저장 장치와 같은 물리적 저장 매체, 또는 임의의 다른 컴퓨터 - 실행 가능 명령, 컴퓨터 - 판독 가능 명령 또는 데이터 구조의 형태로 원하는 프로그램 코드 수단을 운반 또는 저장하는데 사용될 수 있고 그리고 범용 또는 특수 목적 컴퓨터 시스템에 의해 액세스 될 수 있는 다른 매체를 포함할 수 있다. 컴퓨터 판독 가능 매체는 예를 들어 인터넷과 같은 광역 네트워크(WAN)와 같은 네트워크를 통해 컴퓨터 시스템에 다운로드 가능한 컴퓨터 프로그램 또는 컴퓨터 애플리케이션을 포함 할 수있다.
본 명세서 및 이하의 청구항에서, "프로세서"는 전자 데이터에 대한 동작을 수행하기 위해 함께 동작하는 하나 이상의 소프트웨어 모듈, 하나 이상의 하드웨어 모듈 또는 이들의 조합으로서 정의된다. 예를 들어, 데이터 분석기의 정의는 개인용 컴퓨터의 하드웨어 구성 요소뿐만 아니라 개인용 컴퓨터의 운영 체제와 같은 소프트웨어 모듈을 포함한다. 모듈의 실제 레이아웃은 관련이 없다. 컴퓨터 시스템은 컴퓨터 네트워크를 통해 연결된 하나 이상의 컴퓨터를 포함 할 수있다. 마찬가지로 컴퓨터 시스템은 내부 모듈(메모리 및 프로세서와 같은)이 함께 작동하여 전자 데이터에 대한 작업을 수행하는 단일 물리적 장치(전화 또는 PDA와 같은)를 포함할 수 있다. 임의의 컴퓨터 시스템이 이동식 일 수 있지만, 본 명세서에서 사용되는 "모바일 컴퓨터 시스템"이라는 용어 또는 "모바일 컴퓨터 장치"라는 용어는 특히 랩톱 컴퓨터, 넷북 컴퓨터, 셀룰러 전화, 스마트 폰, 무선 전화, PDA, 터치 스크린 등을 갖는 개인 휴대 정보 단말기를 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 "서버"라는 용어는 일반적으로 컴퓨터 네트워크를 통해 서비스를 제공하도록 구성된 프로세서, 데이터 저장 장치 및 네트워크 어댑터를 포함하는 컴퓨터 시스템을 의미한다. 서버에 의해 제공되는 서비스를 수신하는 컴퓨터 시스템은 "클라이언트"컴퓨터 시스템으로 알려져있을 수있다.
"네트워크"는 둘 이상의 컴퓨터 시스템이 데이터를 교환할 수 있는 아키텍처로 정의된다. "네트워크"라는 용어는 광역 네트워크, 인터넷 로컬 영역 네트워크, 인트라넷, Wi-Fi TM와 같은 무선 네트워크, 가상 사설 네트워크, 액세스 포인트 명칭(APN) 및 인터넷을 사용하는 모바일 액세스 네트워크를 포함할 수 있다. 교환된 데이터는 둘 이상의 컴퓨터 시스템에 의미가 있는 전기 신호의 형태 일 수 있다. 데이터가 네트워크 또는 다른 통신 연결(유선, 무선 또는 유선 또는 무선의 조합)을 통해 컴퓨터 시스템 또는 컴퓨터 장치로 전송 또는 제공되는 때, 상기 연결은 컴퓨터 판독 가능 매체로서 적절하게 뷰(view)된다. 따라서, 임의의 이러한 연결은 적절하게 컴퓨터 판독 가능 매체로 지칭된다. 상기의 조합은 또한 컴퓨터 - 판독 가능 매체의 범위 내에 포함되어야 한다. 컴퓨터 실행 가능 명령은 예를 들어, 범용 컴퓨터 시스템 또는 특수 목적 컴퓨터 시스템이 특정 기능 또는 기능 그룹을 수행하게하는 명령 및 데이터를 포함한다.
본 명세서에서 사용되는 "프로세서", "서버", "샘플"과 같은 "하나(a, an)"라는 용어는 "하나 또는 그 이상의 프로세서", "하나 또는 그 이상의 서버", 그리고 "하나 또는 그 이상의 샘플"의 의미를 갖는다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 프로세싱 유틸리티(16D)는 또한 마킹 조성물 내에 존재하는 마커 및/또는 바인더의 농도를 결정할 수 있다. 프로세싱 유틸리티(16D)는 또한 측정된 농도를 메모리(16C)에 저장된 사전 선택된 데이터로부터 도출된 농도와 비교하도록 구성된다.
도 1B는 이미터 어셈블리(12A)가 방사선 빔을 변조하도록 구성된 공간 강도 변조기(20)를 갖는 단일 X선 이미터(18)를 포함하는 본 발명의 일부 실시 예에 따른 XRF 분석기(100A)의 다른 가능한 구성을 도시하며, 조사된(irradiated) 전체 영역 내의 상이한 영역이 상이한 강도의 방사선을 수신하도록 한다. 빔 변조기(20)는 대상물에 도달하는 방사선의 강도가 하나 이상의 방향을 따라 변화하도록 가변 폭을 갖는 단일 개구를 포함할 수 있다. 일 실시 예에서, 이미터(18)의 콜리메이터는 (빔을 평행하게 할 뿐만 아니라) 빔 변조기로서 또한 동작하도록 구성 될 수있다.
빔 변조기(20)는 각각 사전 선택된 강도로 조사되는 구역에 대응하는 상이한 크기의 다수의 개구를 갖는 요소로서 구성될 수 있다. 이 같은 특정 및 비 제한적인 예가 도 1C에 도시되며, 이미터 어셈블리(12)(도시되지 않음)로부터 도달하는 전자기 방사선을 2개의 구역(zone) 사이에 분배하도록 구성된 상이한 기하학적 크기의 2 개의 개구(A 및 B)를 갖는 빔 변조기(20A)를 도시하며, 큰 개구(A)를 통해 제 1 구역에 도달하는 방사선의 강도는 작은 개구(B)를 통해 제 2 구역에 도달하는 방사선강도의 약 4 배 이도록 한다. 설명의 단순화를 위해, 도면은 축척대로 표현되지 않는다. 이러한 구성을 통해 XRF 분석기가 어떤 대상물은 표시되고 어떤 대상물은 표시되지 않는가를 식별할 수 있도록 한다. 도 1D를 참조하면, XRF 분석기는 연속적인 트랙 또는 컨베이어 벨트상에서 동시에 평행하게 진행하는 2 열의 대상물을 검사하도록 구성된다. XRF 분석기는 각 시간 단계에서 두 개의 대상물 열을 검사하도록 구성된다. 도면에 도시된 바와 같이, 도 1C의 강도 변조기(A 및 B)의 상이한 개구에 대응하는 상이한 방사선 빔 크기(A '및 B')에 의해 표시된 상이한 방사선 강도로 2 개의 대상물의 칼럼에 충돌한다. 간략화를 위해, 검사중인 2 개의 대상물이 표현되지만, 본 발명은 동시에 검사될 대상물의 수를 제한하지 않는다.
본 발명의 일부 실시 예에 따라 복수의 대상물을 동시에 식별하는 방법의 주요 단계를 흐름도로 도시한 도 2를 참조한다. 방법(200)은 적어도 하나의 여기 빔으로 복수의 대상물이 동시에 조사되는 단계(202)를 포함한다. 대상물은 적어도 하나의 행(row), 적어도 하나의 열(column) 또는 이들의 임의의 조합을 따라 이격된 구성으로 배열될 수 있다. 대상물의 기하학적 배열은 표시된 대상물 식별을 가능하게 하기 위한 강도의 기하학적 분포에 해당합니다. 단계(204)에서, 적어도 하나의 여기 빔의 강도가 변조되어 대상물들 각각에 충돌하는 강도가 상이하고 식별 가능하도록 한다. 여기 빔의 강도(intensity of the excitation beam)는 전체 조사된 영역 내의 상이한 영역 또는 구역이 상이한 강도의 방사선을 수신하도록 빔을 변조하는 이미터에 결합된 강도 변조기를 사용함으로써 변조될 수 있다. 선택적으로 또는 부가적으로, 강도는 복수의 이미터를 동시에 동작시킴으로써 공간적으로 변조될 수 있으며, 각각의 이미터는 상이한 강도로 방사한다. 후자의 경우, 단계(202 및 204)는 동시에 수행된다. 단계(206)에서, 복수의 대상물로부터 도달하는 방사선이 검출되고, 복수의 대상물에서의 공간 강도 분포를 나타내는 신호가 생성된다. 방사선의 검출은 입사하는 방사선의 강도에 비례하는 대상물에서의 하나 이상의 마커로부터 방출된 응답 신호의 강도를 측정함을 포함한다. 단계(208)에서, 복수의 대상물들로부터의 특정 마킹 된 대상물들이 식별된다. 하나의 대상물 그룹 내의 어떤 대상물이 마킹되고 어떤 대상물이 아닌지를 식별하기 위해, 각각의 대상물은 상이한 강도로 조사되어, 관련 파장 범위 내의 전체 대상물 그룹으로부터의 전체 응답 신호의 강도를 검출한다 ( 입사하는 방사선의 전체 강도에 비례 함)는 정확히 어떤 대상물이 표시되는지를 결정할 수있게 해준다. 상기 설명하는 바와 같이, 방법(200)은 또한 배경 방사선 노이즈를 필터링하고 응답 신호로부터 그것을 클러터링(cluttering)하는 것과 같은 추가 처리 단계 (도시되지 않음)를 포함할 수 있다. 일정 실시 예에서, 각 대상물에 존재하는 마커의 농도(있는 경우)가 또한 결정될 수 있고, 데이터베이스에 저장된 사전 선택된 데이터와 비교될 수 있다. 일정 실시 예에서, 방법(200)은 또한 XRF 분석기 아래 배치된 연속적인 트랙을 따라 분석될 복수의 대상물을 전진시키는 단계를 포함할 수 있다.
방법(200)은 마킹을 데이터베이스에 기록하는 단계를 더 포함할 수 있다. 데이터베이스는 검출 가능한 조성물(composition) 마킹에 대응하는 고유 코드를 제공하도록 구성될 수 있다. 상기 고유 코드는 검출 가능한 조성물 마킹과 연관된 XRF 지문/시그너쳐에 대응할 수 있다. 마커 조합 또는 마커 조합 각각에대한 고유한 코드가 생성 될 수 있다. 예를 들어, 방법(200)은 대상물에 마킹하기 위해 사용된 마킹 조성물의 시그너쳐를 나타내는 사전 선택된 데이터를 데이터베이스에 저장하는 단계, 그리고 대상물의 속성 및/또는 신원을 마킹의 시그너쳐과 연관시키는 연관 데이터를 저장하는 단계를 포함할 수 있다. 선택적으로, 방법(200)은 수신된 XRF 데이터를 데이터베이스 내의 데이터와 비교하는 단계를 더 포함할 수 있다. 수신된 XRF 데이터가 데이터베이스에 로그(logged)될 수 있다. 로그되고 수신된(Logged received) XRF 데이터는 향후 샘플 분석에 사용될 수 있다. 선택적으로, 방법(200)은 데이터베이스 데이터에 기초하여 샘플의 신원을 평가하는 단계를 더 포함할 수 있다. 신원을 평가하는 것은 수신된 XRF 데이터가 데이터베이스 XRF 데이터와 비교되고 통계적 비교가 수행되는 통계 분석을 사용하여 수행될 수 있다. 미리 결정된 수준의 유사성이 표시되면, XRF 데이터는 일치하는 샘플에서 나온 것으로 간주될 수 있다.
도 3은 본 발명의 신규 분류 시스템(300)의 주요 기능 부를 블록 도로 도시 한 도면이다. 단일의 대상물이 검사 될 수 있거나, 대안으로, 복수의 솔리드 대상물(이하, "대상물")이 연속적으로 분류 시스템(300)으로 공급되어 컨베이어 시스템 또는 컨베이어 벨트와 같은 연속적인 트랙에 의해 상이한 모듈들 사이에서 이동 될 수있다. 분류 시스템(300)은 XRF 분석기(104)의 상류에 있는 입구 컨베이어(2); 입구 컨베이어(2)로부터 솔리드 대상물을 수용하고 솔리드 대상물을 XRF 분석기(104)로 이동하도록 구성된 컨베이어 테이블(3); 그리고 XRF 분석기(104)에 의해 처리된 후에 대상물을 수용하기 위해 XRF 분석기(104)의 하류에 있는 출구 컨베이어(4)를 포함하는 컨베이어 시스템을 포함하거나 컨베이어 시스템에 결합 될 수 있다. 컨베이어 테이블(3)은 XRF 분석기(104)를 향해 또는 그로부터 이동 가능하다. 컨베이어 테이블(3)은 컨베이어 테이블(3)에 의해 운반된 대상물상에서 XRF 분석기(104) 의해 수행되는 때 대상물을 테이블에 견고하게 고정시키기 위해 진공을 가하기 위해 흡입 제어 장치에 연결된 진공 개구부로 형성될 수 있다. 프로세싱 작업이 대상물상에서 수행된 후, 컨베이어 테이블(3)에 의해 출구 컨베이어(4)로 운반된다. 이 같은 출구 컨베이어(4)는 입구 컨베이어(2)에서와 같이 구성된다. 이 같은 특정 및 비 제한적인 예에서, XRF 분석기(104)는 컨베이어 테이블(3)의 정상 위치로부터 측 방향으로 위치하도록 된다.
분류 시스템(300)은 대상물의 적어도 하나의 표면상에 마킹 조성물의 존재를 식별하도록 구성된 적어도 하나의 XRF 분석기(104) 및 대상물이 연속적으로 분류 시스템(300)을 통과할 때 온라인으로 대상물을 분류하도록 구성된 적어도 하나의 분류기(106)를 포함한다.
일정 실시 예에서, XRF 분석기(104)는 대상물이 적절하게 마킹되었는지를 검증하도록 구성될 수 있다. 분류기(106)는 또한 표시되지 않은 또는 부분적으로 표시된 대상물(들)을 우회하도록 구성 될 수 있다.
XRF 분석기(104)는 새로운 대상물 및 사용된 대상물에서의 마킹을 식별할 수 있다. 예를 들어, 코인을 마킹하고 분류하는데 사용된 때, 분류 시스템(300)은 이미 유통중인 새로운 코인 및 사용된 코인 모두에 마킹을 표시 및/또는 판독할 수있다. 분류 시스템(300)에 진입하는 대상물은 분류(예를 들어, 이미 유통중인 코인) 이전의 일정 기간 분류될 수 있으며 또는 온라인으로 마킹될 수 있다(예를 들어, 새로운 코인들). 대상물이 온라인으로 마킹하여야 하는 경우, 분류 시스템(300)은 또한 대상물의 적어도 하나의 표면에 마킹 조성물을 도포함으로써 대상물의 적어도 하나의 표면을 마킹하도록 구성된 적어도 하나의 마킹 모듈(102)을 포함할 수있다. 이 경우, XRF 분석기(104)는 마킹 프로세스가 정확하게 수행되었는지를 확인하도록 구성된다.
분류 시스템(300)은 새로운 코인 또는 마크되지 않은 코인을 마킹하기 위해 마킹 모드에서 사용될 수 있다. 이미 유통중인 중고 코인을 마킹하기 위해(따라서 이전에 표기된 코인을 포함할 수도 있음), 분류 시스템(300)은 분류 모드의 제 1 단계에서 사용될 수 있으며(예를 들어, 코인이 다른 수단에 의해 진짜 위조되지 않은 코인임이 입증 된다) 코인을 마킹 및 비 마킹 코인으로 분류하고, 마킹 모드의 두 번째 단계에서 마킹되지 않은 코인을 마킹하도록 한다. 유통중인 코인의 충분한 비율이 마킹된 때, 분류 시스템(300)이 위조 방지 수단으로 분류 모드로 사용될수 있으며, 마킹되지 않은 모든 코인이 가짜 코인으로 간주되고 폐기된다. 이 같은 장치를 마킹 모드로 작동시키는 동안, 마킹되어질 대상물은 분류시스템(300)의 상이한 모듈을 통해 연속적인 트랙에 의해 다음의 순서로 이동된다: 먼저 마킹 모듈(102)이 대상물에 마킹을 하고; 대상물은 마킹을 판독하고 대상물이 적절히 마킹되었다는 것을 확인하는 XRF 분석기(104)를 통과한다(선택적으로, 판독 모듈은 유휴 상태이거나 이 같은 모드에서 꺼질 수 있다); 그 후, 상기 대상물은 분류기(106)를 통과하여 적절하게 마킹 되지 않은 대상물을 분리 트랙 또는 수집 수단으로 방향을 전환시킨다; 선택적으로 적절히 마킹된 대상물은 마킹 조성물이 경화되어 대상물에 부착되는 경화/접착 모듈(108)을 통과한다. 그 후, 마킹된 대상물은 분류 시스템(300)을 떠나 추가의 트랙 또는 수집 수단을 향한다. 경화 모듈(108)은 마킹 모듈(102) 다음에 위치되어, 마킹된 대상물이 XRF 분석기에 의해 검사되기 전에 경화 모듈(108)을 통과하도록 할 수있다. 선택적으로, 경화 모듈이 XRF 분석기(104) 다음에 설치될 수 있다. 또 다른 예에서, 대상물이 분류된 후에 만 마킹 조성물이 경화되도록 경화 유닛(108)이 분류기(106) 뒤에 설치될 수 있다. 적절하게 마킹되지 않은 대상물은 마킹 조성물이 대상물의 표면에서 쉽게 씻겨 질 수 있도록 경화되지 않는다. 적절하게 마킹되지 않은 대상물은 이어서 분류 시스템(300)에 재공급되어 다시 마킹 되도록 한다.
분류 시스템(300)은 또한 XRF 분석기(104)에 의한 마킹의 검사 전에 마킹 된 대상물의 예비 검사를 위한 광학 검사 모듈(미도시)을 포함할 수 있다. 광학 검사 모듈은 마킹된 대상물의 시각적 외관을 검사할 수 있다(마킹이 보이지 않음을 검증 함). 광학 검사 시스템은 마킹된 대상물의 이미지를 데이터베이스에 저장된 대상물의 사전 선택된 이미지와 비교함으로써 마킹을 검사할 수 있다.
분류기(106)는 출구 컨베이어(4)의 단부에 위치한 전환 장치(112)를 제어하는 프로세서(110B)(이하, "분류 처리기")를 포함한다. 분류기(106)는 메모리 내에 저장된 데이터베이스 내 XRF 시그너쳐 마다 일정량의 마킹 조성물을 나타내는 데이터에 접근하고 상기 분류를 실행하기 위해 데이터를 사용한다. 데이터는 분류 매개 변수 및 비교 결과를 포함될 수 있다. 일단 데이터가 데이터베이스에 저장되면, 그러한 데이터는 예를 들어 Microsoft SQL과 같은 쿼리 언어와 같은 공지된 데이터베이스 분석 툴을 사용하여 분석될 수 있다. 분류 처리기(110B)는 이러한 비교에 따라, 그리고 선택적으로 사용자 입력에 따라, 어떤 대상물이 표시되고 표시되지 않는지(또는 부분적으로만 표시되는지) 여부를 결정한다. 따라서, 분류 처리기(110B)는 통신 모듈을 통해 XRF 분석기(104)로부터 마킹 대상물의 존재를 나타내는 데이터를 수신하도록 구성되고, 마킹되지 않은 대상물만을 선택적으로 전환시키는 전환 장치(112)의 동작을 제어한다. 이어서, 분류 처리기(110B)는 대상물의 XRF 시그너쳐에 기초하여 대상물을 분류하고, 전환 장치 (112)를 활성화시킨다. 전환 장치(diverting apparatus)(112)는 마킹되지 않은 대상물을 연속적인 트랙으로부터 다른 트랙 또는 수집 수단으로 방향 전환시킨다. 전환 장치(112)는 노치된(notched) 솔레노이드의 샤프트 형태를 취할 수 있어서, 트랙의 연속 또는 트랙 상의 장벽(barrier)을 형성한다. 전환 장치 (112)는 트랙을 따라 이동하는 각각의 대상물을 감지하고 각 대상물의 마킹을 나타내는 신호를 제공하는 프로세서 (110A)로부터 데이터를 수신하는 분류 처리기(110B)에 의해 작동된다. 전환 장치 (112)는 기계적 아암(arm)을 사용할 수 있다. 전기식, 공압식 및 유압식 피스톤뿐만 아니라 자석, 전자석 및/또는 공기압을 이용하여 연속적인 트랙 또는 컨베이어 시스템으로부터 분리된 트랙 또는 수집 수단으로 대상물을 전환(방향 전환)시킬 수 있다. 예를 들어, 에어 제트 중 하나가 분류 처리기(110B)로부터 신호를 수신하는 때, 그와 같은 에어 제트는 대상물이 컨베이어 시스템으로부터 그와 같은 에어 제트에 대응하는 분류 빈(sorting bin)으로 배출되게 하는 공기 스트림을 방출한다. 예를 들어, 15 ms의 동작/폐쇄 시간으로, 60-90 psi의 공기 압력 제트를 공급하기 위해, Mac Industries의 고속 공기 밸브를 사용할 수 있다. 컨베이어 시스템으로부터 대상물을 로봇을 사용하여 제거하거나, 컨베이어 시스템으로부터 대상물을 밀어내거나, 대상물이 떨어질 수 있는 컨베이어 시스템의 개구를 유발하는 것과 같은 다른 방법이 대상물을 배출하는 데 사용될 수 있다.
분류 처리기(110B)의 기능은 분류 시스템(300) 내에 또는 외부에 배치된 단일 유닛을 형성하는 프로세서(110A)에 의해 수행될 수 있다. XRF 분석기(104)의 신호 처리기(110A)는 분류 처리기(110B)로서 또한 사용될 수 있다. XRF 분석기(104)의 신호 처리기(110A) 및/또는 분류 처리기(110B)는 분류 시스템의 동작을 제어할 수 있다. 선택적으로, XRF 분석기(104)의 신호 처리기(110A) 및 분류 처리기(110B)는 분류 시스템(300)의 동작을 제어하는 제어기에 의해 제어된다.
마킹 모듈(102)은 마킹 조성물을 대상물에 도포하도록 구성된다. 대상물에 도포된 마킹 조성물은 하나 이상의 마커를 포함할 수 있다. 마커는 X선 형광(X-Ray Fluorescence : XRF) 분석으로 식별할 수 있는 하나 이상의 엘리먼트를 포함하는 화합물이다. 즉, 상기 엘리먼트는 X선 또는 감마선(1차 방사선)에 응답하여 그와 같은 엘리먼트를 특징으로 하는 스펙트럼 특징(즉, 특정 에너지/파장의 피크)을 갖는 X선 신호(2차 방사선)를 방출한다(이하, X선 응답 신호는 XRF 시그너쳐로 표시된다.). 마킹 조성물은 또한 마커를 금속 대상물(예를 들어, 열경화성 중합체)의 표면에 결합시키는 화합물인 하나 이상의 결합제를 포함할 수 있다. 마킹 모듈(102)은 마킹 조성물을 대상물의 적어도 하나의 표면에 결합시키기 위해 표면 처리를 사용할 수 있다. 마킹 조성물은 또한 용매, 분산제, 에칭제, 계면 활성제 및 접착 촉진제를 포함할 수 있다. 마킹 모듈에 의해 대상물을 마킹하는데 사용될 수 있는 마킹 조성물은 예를 들어 본원에 참고로 인용된 PCT 특허출원 제 PCT/IL2017/050121 호에 기재되어 있다.
마킹 조성물은 드롭-온-디맨드(drop-on-demand) 잉크젯과 같은 잉크젯 인쇄 장치에 의해 대상물에 도포될 수 있다. 이러한 잉크젯 인쇄 장치에서, 인쇄 헤드에 부착된 압전 장치 또는 가열 장치는 재료가 피코 리터 드롭 형태의 인쇄 노즐로부터 빠져 나오게한다. 마킹 모듈의 인쇄 헤드 수는 단일 시간 단계에서 마킹된 연속 트랙의 단일 행에있는 대상물 수에 의해 설정된다. 마킹 조성물을 금속 대상물에 적용하기 위해 사용될 수 있는 다른 방법은 초음파 분무 노즐 코팅, 딥 코팅, 스핀 코팅, 플라즈마 분무, 전기 영동 증착(EPD), 핫 멜트 코팅 및 나이프 오버 롤 코팅을 포함한다. 또한, 마킹 조성물은 증착 공정이 대기압보다 훨씬 낮은 압력 또는 진공 (즉, 진공 챔버)에서 수행되는 진공 증착 방법에 의해 대상물의 표면에 도포될 수있다. 일반적으로, 진공 증착 공정은 단일 원자에서 수 밀리미터까지의 두께 범위의 층의 증착을 가능하게 한다. 이러한 방법으로 기판상에 증착되는 재료는 증기 상태이다.
바람직하게는, 이러한 마킹 기술에 사용될 수 있는 진공 증착 프로세스는 하나 이상의 전구체를 포함하는 화학 반응에 의해 증기가 발생되는 화학 기상 증착 (CVD)을 이용한다. 상기 전구체는 전형적으로 유기 금속 화합물을 포함한다. CVD 카테고리는 저압 화학 기상 증착(LPCVD), 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD), 플라즈마 보조 CVD(PACVD) 및 원자 층 증착(ALD)과 같은 다양한 프로세스를 포함한다.
선택적으로 또는 부가적으로, 대상물 상에 마커 재료(들)를 증착하는 공정은 증기 소스가 고체 또는 액체인 물리적 증기 증착(PVD)을 포함한다. PVD 공정은 스퍼터링, 캐소드 아크 증착, 열 증발, 증기를 생성하기 위한 (고체) 전구체로서 작용하는 레이저 삭마(ablation) 및 증기 상으로 증착된 입자를 생성시키는 전자 빔 증착과 같은 기술을 사용할 수 있다.
진공 증착 방법은 하나 이상의 마커를 운반하는 층형 구조를 증착시키는 것을 허용한다. 상기 층형 구조는 예를 들면, 대상물 표면 위의 전체에 걸쳐 균일한 화합물 층(마커 포함), 증착된 화합물의 이산 이격(discrete spaced-apart) 영역(마스크를 통해 증착됨)에 의해 형성된 연속(패터닝되지 않은) 층 구조/필름을 포함한다.
진공 증착 공정의 정확성 및 층의 균일성은 증착된 마커의 농도를 빠르고 정확하게 측정하는 것을 용이하게 한다. 진공 증착 방법에 의해 증착된 마킹 층은 탄성 및 내 마모성이 있다.
온라인으로 진공 증착 방법에 의해 대상물(예를 들어, 연속된 트랙 또는 컨베이어 벨트 상의 대상물)에 상에 마킹 조성물을 도포하기 위해, 마커가 대상물에 증착되는 진공 챔버로 들어가기 전에, 연속적인 트랙상의 대상물이 통과하는 하나 이상의 압력 챔버를 사용할 수 있다.
일정 실시 예에서, 마킹 모듈(102)은 마킹 조성물을 경화 및/또는 결합시키기 위한 경화/접착 모듈(108)을 포함한다. 경화 모듈은 마킹 조성물이 경화되도록 (예를 들어, 가교 결합을 형성하여) 마킹 조성물을 경화시키고 마킹된 대상물에 부착되도록 구성된다. 경화/접착 모듈(108)은 전자빔, 열, 화학적 첨가제 및/또는 자외선을 사용하여 마킹 조성물을 대상물에 결합시킬 수 있다. 경화/접착 모듈(108)은 또한 마킹 조성물을 대상물에 접착시킴을 달성하기 위해 용매의 증발을 사용할 수 있다. 경화/접착 모듈(108)이 사용될 때, 경화되지 않은 대상물은 경화/접착 모듈(108)에서 경화를 거치기 전에 분리된 트랙으로 전환(방향 전환)되기 때문에, 마킹 조성물이 대상물로부터 물로 씻겨 나와서, 대상물이 추가 마킹 조성물 층으로 도포되지 않고, 대상물이 마킹 공정을 받을 수 있도록 한다. 단층 마킹은 마킹의 비 가시성이 유익할 수 있는 은밀한 위조 방지 조치로 사용될 때, 또는 마킹 조성물의 두꺼운 층이 대상물의 다른 특성에 영향을 줄 수 있는 때 중요할 수 있다. 예를 들어, 코인을 마킹할 때 코인의 화학적, 기계적, 전기적 및 자기 적 특성에 영향을 주지 않는 것이 필수적 일 수 있다.
일정 실시 예에서, 분류 시스템(300)은 대상물의 2개의 표면을 식별할 수 있다. 예를 들어, 코인을 마킹할 때 코인의 양면(머리 및 꼬리)을 식별하는 것이 유익할 수 있다. 즉, 대상물은 연속적인 트랙에 의해 분류 시스템(300) 내로 이동되고, 대상물의 제1 표면은 XRF 분석기(104)에 의해 판독되며; 그런 다음 마킹되지 않은 대상물은 분리된 트랙으로 전환(방향 전환)되고; 제2 표면이 쉽게 판독될 수 있도록 임의의 조작 모듈(114)(예를 들어, 뒤집기/회전 메커니즘)에 의해 대상물이 회전되거나 뒤집힐 수 있다. 그 다음, 대상물의 제2 표면은 XRF 분석기(104)에 의해 판독되고; 그리고 마킹 되지 않은 대상물(즉, 제2 표면이 적절하게 마킹되지 않은 대상물)이 연속적인 트랙으로부터 멀어지게 전환된다. 이를 위해, 분류 시스템(400)은 2개의 XRF 분석기 및 2개의 분류기(도시되지 않음)를 포함할 수 있으며, 각각의 분석기는 대상물의 한 면을 분석하도록 구성된다.
또한, 코인을 마킹할 때 코인의 양쪽 면(머리와 꼬리)을 마킹하는 것이 유익 할 수 있다. 이를 위해, 마킹 모듈(102)은 대상물의 두 면을 마킹하기에 적합할 수 있다. 대안적으로, 분류 시스템(300)은 2개의 마킹 모듈(도시되지 않음)을 포함할 수 있다. 마킹 조성물에 의한 대상물의 양 표면의 마킹은 순차적으로 행해질 수 있다. 마킹 조성물은 단일 경화/접착 모듈에 의해 대상물의 표면에 경화 및/또는 결합 될 수 있다. 대안적으로, 마킹 조성물의 경화는 2개의 경화/접착 모듈(도시되지 않음)에 의해 수행될 수 있다.
제2 예에서, 대상물의 양 표면의 마킹 판독 및 분류는 병행하여 수행될 수 있다. 즉, 양 표면은 동일한 마킹 모듈 또는 제1 및 제2 마킹 모듈에 의해 마킹되고; 마킹은 동일한 XRF 분석기 또는 제1 및 제2 XRF 분석기에 의해 판독되고; 마킹 되지 않은 대상물, 즉 한면이 적절하게 마킹되지 않은 대상물은 연속적인 트랙으로부터 멀어지게 전환되며; 그리고 마킹 조성물은 하나 또는 두 개의 경화 모듈에 의해 경화된다.
도 4는 본 발명의 새로운 분류 방법(400)의 주요 단계를 흐름도로 도시한 것이다. 초기 선택적 단계(402)에서, 단일 대상물 또는 복수의 솔리드 대상물(이하, "대상물"이라 함)이 분류 시스템(300)으로 연속적으로 공급되고 컨베이어 시스템 또는 컨베이어 벨트와 같은 연속적인 트랙에 의해 상이한 모듈들 사이에서 이동된다. 단계(404)에서, 방사선 빔의 강도가 공간적으로 변조된다. 이 같은 경우, 복수의 대상물을 동시에 검사하고, 복수의 솔리드 대상물이 여기 빔으로 동시에 조사된다. 단계(406)에서, 마킹 조성물의 존재가 대상물의 적어도 하나의 표면상에서 검출되고, 상기 마킹된 대상물이 식별된다. 단계(408)에서, 대상물은 마킹 조성물의 존재에 따라 분류된다.
일정 실시 예에서, 방법(400)은 대상물을 마킹하는 단계(410)를 포함할 수 있다. 이 단계(410)는 대상물의 적절한 마킹을 검증하기 위해 대상물을 분류하기 전에 초기에 수행될 수 있다. 선택적으로 또는 부가적으로, 이 단계(410)는 마킹 되지 않거나 부분적으로 마킹된 대상물에 대해서만 대상물을 분류한 후에 수행될 수 있다. 이 방법(400)은 분당 약 2000개까지의 대상물 용량을 갖는다. 일정 실시 예에서, 방법(400)은 분당 약 2000 내지 약 5000 대상물의 용량을 갖는다. 이 기술은 마킹을 하고, 마킹을 판독하고, 분당 5000개까지의 대상물 속도로 두 개의 분리된 트랙 또는 출력(마킹되거나 마킹되지 않은 대상물에 대해)으로 대상물을 분류 할 수 있다. 대상물은 연속 선상에 한 줄로 연속된 트랙 상에 배치하여 하나씩 마킹, 판독(마킹 조성물의 존재 여부 확인) 및 분류될 수 있다. 대안적으로, 대상물은 2개 이상의 대상물을 포함할 수 있는 행으로 연속 트랙 상에 배치될 수 있어서, 전체 행이 마킹 되고, 동시에 판독되며, 그 다음에 마킹된 대상물 또는 마킹되지 않은 대상물에 대한 분리된 출력으로 분류될 수 있다. 마킹 조성물의 존재와 양은 전체 대상물 행(row)이 동시에 검사되는 경우에도 개별 대상물에서 판독될 수 있다. 즉, 전체 행이 단일 시간 단계에서 판독되는 경우에도 마킹된 및 마킹되지 않은 대상물이 행(row)으로 식별되어 대상물을 두 개의 분리된 출력으로 안정적으로 분류한다. 일 실시 예에서, 연속적인 트랙 상의 대상물들의 행은 2개 내지 10개의 대상물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 단일 행에는 5개의 대상물이 포함될 수 있다.
따라서, 본 발명의 기술은 다양한 작업을 달성하기 위해 다수의 모드, 즉 마킹 모드 및 분류 모드에서 동작 가능하다. 단계(410)를 포함하는 마킹 모드에서, 마킹되지 않은 대상물은 연속적으로 변위되고(예를 들어, 분류 시스템으로 공급 됨), 마킹되지 않은 대상물의 적어도 하나의 표면에 마킹 조성물이 도포된다. 이 같은 마킹 모드에서 판독 및 분류 능력은 대상물이 올바르게 마킹 되었는 지(마킹 조성물에 포함된 마커 재료 농도를 측정함에 의해)를 입증하기 위해서만 사용되며, 마킹되지 않거나 부분적으로 마킹된 대상물을 마킹될 분리된 트랙 또는 수집 수단과 같은 분리된 출력으로 전환하는 용도로만 사용된다. 분류 모드에서, 마킹된 및 마킹되지 않은 대상물은 연속적으로 변위되고(예를 들어, 분류 시스템으로 공급 됨), 마킹되지 않은 대상물을 분리된 출력으로 전환하여 대상물을 분류한다. 마킹 단계(410)는 분류 모드에서 사용되지 않는다. 마킹되지 않은 대상물은 마킹 모드의 마킹 단계(410)에서 마킹될 수 있다. 선택적으로, 마킹되지 않는 대상물은 위조품 또는 모조품으로 간주되거나, 그렇지 않으면 결함이 있거나 버려진 것으로 간주 될 수 있다. 특정 및 비 제한적인 예에서, 마킹 모드에서, 마킹되는 대상물은 단계(402)에서 연속적인 트랙에 의해 다음과 같은 순서로 뷴류 시스템의 상이한 모듈을 통해 이동된다: 먼저 마킹 단계(410)에서 대상물이 마킹된다; 그 다음에 대상물은 단계(404)에서 판독되어 대상물이 적절히 마킹되었는지를 검증한다; 그 다음에 대상물은 단계(408)에서 분류되고 적절히 마킹되지 않은 대상물은 개별 트랙 또는 수집 수단으로 전환(방향 전환)된다. 선택적으로, 마킹 단계(410)는 적절하게 마킹되지 않은 대상물이 경화/접착 모듈을 통과하고, 마킹 조성물이 경화되고 대상물에 부착되는 경화 단계(도시되지 않음)를 포함한다. 다음에 마킹된 대상물은 분류 시스템을 추가 트랙 또는 수집 수단으로 향하도록 한다.
Claims (23)
- 복수의 솔리드 대상물을 동시에 조사하기 위한 공간 강도 분포를 갖는 적어도 하나의 X선 또는 감마선(Gamma-Ray) 여기 빔(excitation beam)을 방출하도록 된 이미터 어셈블리 - 상기 이미터 어셈블리는 (i) 서로 이격된 복수의 이미터 - 각각의 이미터는 서로에 대해 상이한 강도를 갖는 여기 빔을 생성하도록 적응됨 - , 및 (ii) 이미터 및 상기 이미터에 결합된 공간 강도 빔 변조기 - 상기 공간 강도 빔 변조기는 상기 대상물 각각에 충돌하는 강도가 상이하고 식별가능하도록 여기 빔의 강도를 공간적으로 변조하도록 구성됨 - 중 적어도 하나를 포함함 - ;
복수의 대상물에 의해 방출된 2차 방사선을 측정하고, 복수의 대상물에 대하여 검출된 X선 데이터의 공간 강도 분포를 나타내는 신호를 발생시키는 X선 검출기; 그리고
복수의 솔리드 대상물 각각의 적어도 하나의 표면에 마킹 조성물의 존재를 확인하기 위해 상기 검출된 응답 X-선 신호를 수신하고 처리하기 위해 상기 검출기와 통신하는 신호 처리기를 포함하는 XRF 분석기. - 제1 항에 있어서, 상기 신호 처리기는 솔리드 대상물 각각의 적어도 하나의 표면상에 도포된 마킹 조성물 농도를 식별하도록 적응됨을 특징으로 하는 XRF 분석기.
- 제2항에 있어서, 상기 신호 처리기가 데이터베이스 내에 저장된 사전에 선택된 데이터를 솔리드 대상물 각각의 적어도 한 표면상에 도포된 마킹 조성물 일정 농도를 나타내는 XRF 신호와 비교하도록 적응됨을 특징으로 하는 XRF 분석기.
- 공간적으로 분포된 변조된 강도를 갖는 적어도 하나의 X선 또는 감마선 여기 빔을 동시에 복수의 대상물에 조사하는 단계 - 상기 대상물들 각각에 도달하는 상기 빔의 강도는 상이하고 식별가능함 - ;
상기 복수의 대상물로부터 도달하는 2차 X선 방사를 검출하고 상기 복수의 대상물에 대한 공간 강도 분포를 나타내는 신호를 생성하는 단계; 그리고
상기 검출된 공간 강도 분포에 따라 마킹 조성물에 의해 복수의 대상물 중 어느 것이 마킹되는 가를 식별하는 단계를 포함하는 방법. - 제4항에 있어서, 상기 대상물들 각각에 충돌하는 강도가 상이하고 식별 가능하도록, 상기 적어도 하나의 여기 빔의 강도를 공간적으로 변조하는 단계를 포함함을 특징으로하는 방법.
- 적어도 하나의 솔리드 대상물의 적어도 하나의 표면상에 마킹 조성물의 존재를 확인하고 그것을 나타내는 데이터를 생성하기 위한 청구항 제1항에 따르는 적어도 하나의 XRF 분석기; 상기 마킹 조성물의 농도가 사전에 선택된 방향을 향하여 사전에 선택된 임계치 이하인 상기 대상물을 방향 전환시키기 위해 상기 XRF 분석기와 통신하는 적어도 하나의 분류기(sorter)를 포함함을 특징으로 하는 분류 시스템(sorting system).
- 제6항에 있어서, 상기 XRF 분석기는 특정 농도의 마킹 조성물을 식별하도록 적응됨을 특징으로 하는 분류 시스템.
- 제6항에 있어서, 상기 솔리드 대상물의 적어도 하나의 표면으로 마킹 조성물을 도포하기위한 적어도 하나의 마킹 모듈을 포함함을 특징으로 하는 분류 시스템.
- 제8항에 있어서, 상기 마킹 모듈은 프린팅 및 진공 증착 프로세스 중 적어도 하나를 사용함으로써 마킹 조성물을 도포하도록 적응됨을 특징으로 하는 분류 시스템.
- 제8항에 있어서, 상기 마킹 조성물의 특정 농도를 나타내는 특정 XRF 시그너쳐를 상기 XRF 분석기가 식별하도록, 상기 마킹 모듈이 기준 대상물 상에 특정 마킹 조성물을 도포하도록 적응됨을 특징으로 하는 분류 시스템.
- 제8항에 있어서, 상기 XRF 분석기는 상기 마킹 모듈의 동작을 검증하도록 됨을 특징으로 하는 분류 시스템.
- 제6항에 있어서, 상기 대상물의 제2면을 상기 XRF 분석기에 노출시키도록 적응된 회전 메카니즘을 포함함을 특징으로 하는 분류 시스템.
- 적어도 하나의 X선 또는 감마선 여기 빔을 사용하여 적어도 하나의 솔리드 대상물을 조사하는 단계 - 적어도 하나의 솔리드 대상물 각각에 도달하는 빔의 강도가 상이하고 식별 가능함 - ;
상기 솔리드 대상물의 적어도 하나의 표면 상에서 마킹 조성물의 존재를 검출하는 단계 - 상기 적어도 하나의 솔리드 대상물로부터 도달하는 2차 X-선 복사가 검출되고 적어도 하나의 솔리드 대상물 상의 공간 강도 분포를 나타내는 신호가 생성되며, 적어도 하나의 솔리드 대상물 중 어느 것이 마킹 조성물에 의해 마킹되는지가 검출된 공간 강도 분포에 따라 식별됨 - ; 그리고
상기 마킹 조성물의 존재에 따라 상기 대상물을 분류하는 단계를 포함하는 분류 방법. - 제13항에 있어서, 복수의 솔리드 대상물을 마킹 조성물로 연속적으로 마킹하는 단계를 포함함을 특징으로하는 분류 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 마킹 단계는 인쇄 및 진공 증착 공정 중 적어도 하나를 적용하는 단계를 포함함을 특징으로하는 분류 방법.
- 제13항에 있어서, 마킹 단계를 확인하는 단계를 포함함을 특징으로하는 분류 방법.
- 제13항에 있어서, 상기 대상물의 두 표면상에서 마킹 조성물 존재를 검출하는 단계를 포함함을 특징으로하는 분류 방법.
- 제13항에 있어서, 복수의 솔리드 대상물을 적어도 하나의 X선 또는 감마선 여기 빔으로 동시에 조사하는 단계를 포함함을 특징으로하는 분류 방법.
- 제18항에 있어서, 상기 대상물들의 상기 분류는 분당 최대 2000개의 대상물의 용량으로 수행되는 것을 특징으로하는 분류 방법.
- 제13항에 있어서, 솔리드 대상물 각각 상에서의 충돌 강도가 상이하고 식별 가능하도록 적어도 하나의 여기 빔의 강도를 공간적으로 변조하는 단계를 포함하는 분류 방법.
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