KR102361847B1 - Hard coat film with optical adjustment layer for transparent conductive film and transparent conductive film - Google Patents

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Abstract

투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제공한다.
광학 조정층 부착 하드 코트 필름은 비정성 폴리머로 이루어지는 투명 기재 필름과, 그 투명 기재 필름의 일방의 면에 순서대로 적층된 하드 코트층 및 그 위의 광학 조정층을 구비한다. 광학 조정층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 광학 조정층의 평균 막두께보다 크며, 그 평균 입경 r1과 평균 막두께 d1이 50nm≤(r1-d1)≤1900nm의 관계에 있다. 광학 조정층의 표면의, 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra는 0.3nm~20nm의 범위에 있다.
The hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films which can obtain sufficient blocking resistance also in the transparent conductive film with a transparent conductive layer and can suppress the fall of visibility is provided.
The hard coat film with an optical adjustment layer is equipped with the transparent base material film which consists of an amorphous polymer, the hard-coat layer laminated|stacked in order on one side of the transparent base film, and the optical adjustment layer on it. The optical adjustment layer contains a plurality of particles, the average particle diameter of the particles is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer, and the average particle diameter r1 and the average film thickness d1 are in the relationship of 50 nm≤(r1-d1)≤1900 nm . Arithmetic mean roughness Ra in the specific part of the surface of the optical adjustment layer except the convex part formed with particle|grains exists in the range of 0.3 nm - 20 nm.

Description

투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름Hard coat film with optical adjustment layer for transparent conductive film and transparent conductive film

본 발명은 투명한 필름을 기재로서 사용하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films using a transparent film as a substrate and a transparent conductive film.

종래, 예를 들면 스마트폰이나 태블릿 단말 등과 같이 표시 화면에 접촉함으로써 정보를 입력할 수 있는 장치로서 정전용량식 등의 터치패널이 널리 사용되고 있었다. 여기서 터치패널용의 투명 도전성 필름으로서는 기재 필름 상에 투명 도전층으로서 산화인듐주석(ITO : Indium Tin Oxide)을 증착이나 스퍼터링 등의 공법에 의해 적층한 것이 일반적이었다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).Conventionally, for example, a touch panel of a capacitive type or the like has been widely used as a device capable of inputting information by contacting a display screen such as a smart phone or a tablet terminal. Here, as a transparent conductive film for touch panels, it was common to laminate indium tin oxide (ITO: Indium Tin Oxide) as a transparent conductive layer on a base film by a method such as vapor deposition or sputtering (see, for example, Patent Document 1) ).

그리고 투명 도전성 필름의 기재로서는 복굴절이 큰 결정성 폴리머 필름인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용하고 있었지만, 예를 들면 선글라스 너머로 모바일 단말을 조작하는 것 같은 경우에 있어서는 편광 선글라스의 사용에 의해 간섭 줄무늬(uneven interference)가 발생하는 문제가 있는 점에서, 복굴절이 작은 비정성(非晶性) 폴리머 필름을 기재로서 사용하는 것이 제안되었다.And, as the base material of the transparent conductive film, a polyethylene terephthalate film, which is a crystalline polymer film with large birefringence, was used. ), it has been proposed to use an amorphous polymer film having a small birefringence as a base material.

그러나 비정성 폴리머 필름을 기재로 한 투명 도전성 필름에 의해 상기한 간섭 줄무늬의 발생은 해소되었지만, 비정성 폴리머 필름은 결정성 폴리머 필름에 비해 필름의 표면에 상처가 생기기 쉽다는 결점이 있었다. 또 비정성 폴리머 필름은 결정성 폴리머 필름에 비해 깨지기 쉽다는 결점도 있기 때문에, 필름의 반송시에 반송 롤 등의 평활면과 밀착함으로써 주름이 되어 깨져버리는 문제가 있었다. 그래서 비정성 폴리머 필름의 편면 또는 양면에 하드 코트층을 설치한 투명 도전성 필름용의 하드 코트 필름이 생각되었다. 그러나 이 경우 하드 코트 필름을 롤 형상으로 권취하면, 겹치는 하드 코트 필름의 기재의 이면과 하드 코트층, 또는 하드 코트층끼리가 밀착해버린다는 블로킹의 문제가 있었다. 그래서 비정성 폴리머 필름 상에 1~5μm의 입자를 포함하는 하드 코트층을 설치하고, 하드 코트층 및 그 위의 ITO층(투명 도전층) 등의 표면에 요철을 형성시켜, 내블로킹성(anti-blocking)을 개량하는 것이 제안되었다(예를 들면, 특허문헌 2, 3 참조).However, although the occurrence of the interference fringes described above was eliminated by the transparent conductive film based on the amorphous polymer film, the amorphous polymer film had a drawback in that the surface of the film was easily damaged compared to the crystalline polymer film. Moreover, since the amorphous polymer film also has a drawback that it is more brittle compared to the crystalline polymer film, there is a problem that the film is wrinkled and cracked when it is brought into close contact with a smooth surface such as a conveying roll during conveyance of the film. Then, the hard-coat film for transparent conductive films which provided the hard-coat layer on the single side|surface or both surfaces of an amorphous polymer film was considered. However, in this case, when a hard coat film was wound up in roll shape, there existed a problem of the blocking that the back surface of the base material of a overlapping hard coat film, a hard coat layer, or hard-coat layers will closely_contact|adhere. Therefore, a hard coat layer containing particles of 1 to 5 μm is provided on the amorphous polymer film, and irregularities are formed on the surface of the hard coat layer and the ITO layer (transparent conductive layer) thereon, etc. -blocking) has been proposed (see, for example, Patent Documents 2 and 3).

일본 특개 평7-68690호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-68690 일본 특개 2013-107349호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2013-107349 일본 특개 2013-243115호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2013-243115

그러나 ITO층(투명 도전층) 등의 표면에 요철이 형성되도록, 기재가 되는 비정성 폴리머 필름 상에 1~5μm 사이즈의 입자를 포함하는 하드 코트층을 설치한 경우, 하드 코트층이나 그 위의 ITO층(투명 도전층) 등의 두께에 따라서는 입자 사이즈가 1~2μm에서는 내블로킹성이 부족할 우려가 있고, 입자 사이즈가 2μm보다 크면 시인성이 저하될 우려가 있었다.However, when a hard coat layer containing particles having a size of 1 to 5 μm is provided on the amorphous polymer film serving as a base material so that irregularities are formed on the surface of the ITO layer (transparent conductive layer), the hard coat layer or the above Depending on the thickness of the ITO layer (transparent conductive layer) or the like, when the particle size is 1 to 2 μm, there is a fear that the blocking resistance is insufficient, and when the particle size is larger than 2 μm, there is a fear that visibility is reduced.

본 발명은 증착이나 스퍼터링법 등에 의해 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 그 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 사용한 투명 도전성 필름을 제공하는 것에 있다.The present invention provides a hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film that can obtain sufficient blocking resistance even in a transparent conductive film provided with a transparent conductive layer by vapor deposition or sputtering method, and can suppress a decrease in visibility; It exists in providing the transparent conductive film using this hard-coat film with an optical adjustment layer.

본 발명에 따른 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름은 상기 목적을 달성하기 위해서 다음의 구성으로 이루어진다. 즉The hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films which concern on this invention, and a transparent conductive film consist of the following structures in order to achieve the said objective. In other words

본 발명에 따른 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름은 비정성 폴리머로 이루어지는 투명 기재 필름과, 그 투명 기재 필름의 적어도 일방의 면에 순서대로 적층된 하드 코트층 및 그 위의 광학 조정층을 구비한다. 여기서 상기 광학 조정층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 상기 광학 조정층의 평균 막두께보다 크며, 그 평균 입경 r1과 그 평균 막두께 d1이The hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films according to the present invention comprises a transparent base film made of an amorphous polymer, a hard coat layer laminated sequentially on at least one surface of the transparent base film, and optical adjustment thereon provide a layer Here, the optical adjustment layer contains a plurality of particles, the average particle diameter of the particles is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer, and the average particle diameter r1 and the average film thickness d1 are

50nm≤(r1-d1)≤1900nm50nm≤(r1-d1)≤1900nm

의 관계에 있다. 그리고 상기 광학 조정층의 표면의, 상기 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm의 범위에 있다. 여기서 광학 조정층이 복수층(고굴절률층+저굴절률층)으로 이루어지는 경우는 평균 입경 r1은 넣은 입자(평균 막두께 d1보다 평균 입경이 큰 입자) 전체의 평균 입경인데, 평균 막두께 d1은 양쪽의 층에 입자를 넣었을 때와, 고굴절률층에만 입자를 넣었을 때는 전체의 평균 막두께이며, 저굴절률층에만 입자를 넣었을 때는 저굴절률층의 평균 막두께이다(이하, 동일함).is in the relationship of And the arithmetic mean roughness Ra in the specific part of the surface of the said optical adjustment layer except the convex part formed with the said particle|grain exists in the range of 0.3 nm - 20 nm. Here, when the optical adjustment layer consists of a plurality of layers (high refractive index layer + low refractive index layer), the average particle diameter r1 is the average particle diameter of all the particles (particles having an average particle diameter larger than the average film thickness d1), and the average film thickness d1 is both When the particles are put in the layer of and when the particles are put only in the high refractive index layer, it is the overall average film thickness, and when the particles are put in only the low refractive index layer, it is the average film thickness of the low refractive index layer (hereinafter the same).

이 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름에 의하면, 하드 코트층 상에 적층된 광학 조정층에는 복수의 입자가 함유되어 있다. 그리고 그 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경 r1이 광학 조정층의 평균 막두께 d1보다 크고, 그 차가 50nm~1900nm의 범위에 있다. 또 광학 조정층의 표면의, 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm가 되고 있다. 이와 같이 하여, 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경과 광학 조정층의 평균 막두께의 차를 50nm 이상으로 하고, 광학 조정층의 표면의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 0.3nm 이상으로 함으로써, 그 후에 광학 조정층 상에 증착이나 스퍼터링법 등에 의해 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있다. 또 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경과 광학 조정층의 평균 막두께의 차를 1900nm 이하로 하고, 광학 조정층의 표면의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 20nm 이하로 함으로써, 그 후의 투명 도전성 필름에 있어서도 시인성의 저하를 억제할 수 있다.According to this hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films, the optical adjustment layer laminated|stacked on the hard-coat layer contains several particle|grains. And the average particle diameter r1 of the particle|grains contained in the optical adjustment layer is larger than the average film thickness d1 of an optical adjustment layer, The difference exists in the range of 50 nm - 1900 nm. Moreover, arithmetic mean roughness Ra in the specific part of the surface of the optical adjustment layer except the convex part formed with particle|grains is set to 0.3 nm - 20 nm. In this way, the difference between the average particle diameter of the particles contained in the optical adjustment layer and the average film thickness of the optical adjustment layer is 50 nm or more, and the arithmetic mean roughness Ra in the specific portion of the surface of the optical adjustment layer is 0.3 nm or more By setting it as this, sufficient blocking resistance can be acquired also in the transparent conductive film in which the transparent conductive layer was provided on the optical adjustment layer after that by vapor deposition, a sputtering method, etc. Further, the difference between the average particle diameter of the particles contained in the optical adjustment layer and the average film thickness of the optical adjustment layer is set to 1900 nm or less, and the arithmetic mean roughness Ra in the specific portion of the surface of the optical adjustment layer is 20 nm or less, Also in a later transparent conductive film, the fall of visibility can be suppressed.

또 상기 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경 r1은 100nm~2000nm의 범위에 있고, 그 평균 입경 r1(nm)과 그 입자의 개수 N(개/mm2)가In addition, the average particle diameter r1 of the particles contained in the optical adjustment layer is in the range of 100 nm to 2000 nm, and the average particle diameter r1 (nm) and the number N (pieces/mm 2 ) of the particles are

199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)

의 관계에 있다. 여기서 입자의 개수 N은 광학 조정층의 표면(광학 조정층이 복수층 있는 경우에는 그 최표면)으로부터 50nm 이상의 높이가 있는 입자의 개수를 말한다(이하, 동일함).is in the relationship of Here, the number N of particles refers to the number of particles having a height of 50 nm or more from the surface of the optical adjustment layer (the outermost surface when there are multiple optical adjustment layers) (hereinafter the same).

또 상기 광학 조정층의 평균 막두께 d1과, 그 광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경 r1이Moreover, the average film thickness d1 of the said optical adjustment layer, and the average particle diameter r1 of the particle|grains contained in this optical adjustment layer are

(d1/r1)<0.5(d1/r1)<0.5

의 관계에 있다.is in the relationship of

또 상기 하드 코트층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 상기 하드 코트층의 평균 막두께보다 작으며, 그들 입자는 상기 하드 코트층의 표면에 편재하고 있다.Moreover, the said hard-coat layer contains several particle|grains, the average particle diameter of these particle|grains is smaller than the average film thickness of the said hard-coat layer, These particle|grains are unevenly distributed on the surface of the said hard-coat layer.

또 상기 하드 코트층의 평균 막두께 d2와, 그 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입경 r2가Moreover, the average film thickness d2 of the said hard-coat layer, and the average particle diameter r2 of the particle|grains contained in this hard-coat layer are

(d2/r2)>2(d2/r2)>2

의 관계에 있다.is in the relationship of

또 상기 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적이 661780μm2당 200000μm2 이하이다. 여기서 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적은 광학 조정층에 포함되는 입자가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층의 평균 높이로부터 3nm 이상 곡부측이 되는 광학 조정층의 표면의 면적을 말한다(이하, 동일함).Moreover, the curved part side area of the surface of the said optical adjustment layer is 200000 micrometers 2 or less per 661780 micrometers< 2 >. Here, the curved portion-side area of the surface of the optical adjustment layer refers to the area of the surface of the optical adjustment layer that is at least 3 nm from the average height of the optical adjustment layer in the portion in which the particles contained in the optical adjustment layer do not exist (hereinafter, same).

또 상기 하드 코트층 및 상기 광학 조정층은 상기 투명 기재 필름의 일방의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름의 타방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합(貼合)되어도 된다.Moreover, the said hard-coat layer and the said optical adjustment layer are provided in one surface of the said transparent base film, and a protective film may be pasted together so that the outermost layer may be formed in the other surface side of the transparent base film.

또 상기 하드 코트층 및 상기 광학 조정층은 상기 투명 기재 필름의 양쪽의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름의 어느 일방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합되어도 된다.Moreover, the said hard-coat layer and the said optical adjustment layer are provided in both surfaces of the said transparent base film, and a protective film may be pasted together so that an outermost layer may be formed in either surface side of the transparent base film.

또 본 발명에 따른 투명 도전성 필름은 상기 광학 조정층 부착 하드 코트 필름에 있어서의 광학 조정층의 표면에 투명 도전층이 형성되어 이루어진다.Moreover, as for the transparent conductive film which concerns on this invention, the transparent conductive layer is formed in the surface of the optical adjustment layer in the said hard coat film with an optical adjustment layer.

본 발명에 따른 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름에 의하면, 광학 조정층에 입자를 함유시키고, 그 입자의 평균 입경을 광학 조정층의 평균 막두께에 대하여 50nm~1900nm의 범위에서 크게 하며, 광학 조정층의 표면의, 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 0.3nm~20nm으로 함으로써, 그 후에 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있다.According to the hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films which concerns on this invention, an optical adjustment layer is made to contain particle|grains, and the average particle diameter of the particle|grains is large with respect to the average film thickness of an optical adjustment layer in the range of 50 nm - 1900 nm and, by setting the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical adjustment layer to 0.3 nm to 20 nm in a specific portion excluding the convex portions formed by particles, sufficient blocking resistance even in a transparent conductive film provided with a transparent conductive layer thereafter can be obtained, and a decrease in visibility can be suppressed.

도 1은 본 발명이 제1 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
도 2는 동일하게 광학 조정층의 입자의 평균 입경과 개수의 관계를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
도 4는 본 발명의 제3 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 단면 모식도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a cross-sectional schematic diagram of the hard-coat film with an optical adjustment layer of 1st Embodiment of this invention.
It is a figure which shows the relationship between the average particle diameter of the particle|grains of an optical adjustment layer, and a number similarly.
It is a cross-sectional schematic diagram of the hard-coat film with an optical adjustment layer of 2nd Embodiment of this invention.
It is a cross-sectional schematic diagram of the hard-coat film with an optical adjustment layer of 3rd Embodiment of this invention.
It is a cross-sectional schematic diagram of the hard-coat film with an optical adjustment layer of other embodiment of this invention.
It is a cross-sectional schematic diagram of the hard-coat film with an optical adjustment layer of another embodiment of this invention.

이하, 본 발명에 따른 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름을 실시하기 위한 형태를 도면에 기초하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing the hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films which concern on this invention, and a transparent conductive film is demonstrated based on drawing.

도 1~도 2는 본 발명의 제1 실시형태를 나타낸다. 도면 중 부호 1은 투명 도전성 필름에 사용되는 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 나타낸다. 2는 투명 기재 필름을 나타낸다. 3은 하드 코트층을 나타낸다. 4는 광학 조정층을 나타낸다.1 and 2 show a first embodiment of the present invention. In the figure, the code|symbol 1 shows the hard-coat film with an optical adjustment layer used for a transparent conductive film. 2 represents a transparent base film. 3 represents a hard coat layer. 4 represents an optical adjustment layer.

광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 투명 기재 필름(2)과, 그 투명 기재 필름(2)의 적어도 일방의 면(도시 실시형태에 있어서는 일방의 면)에 순서대로 적층된 하드 코트층(3) 및 그 위의 광학 조정층(4)을 구비한다.The hard coat film 1 with an optical adjustment layer is the transparent base film 2 and the hard-coat layer laminated|stacked in order on at least one surface (one surface in the illustrated embodiment) of the transparent base film 2 ( 3) and an optical adjustment layer 4 thereon.

여기서 광학 조정층(4)에는 복수의 입자(4a, 4a)가 함유되고, 그들 입자(4a, 4a)의 평균 입경은 광학 조정층(4)의 평균 막두께보다 크며, 그 평균 입경 r1과 그 평균 막두께 d1이Here, the optical adjustment layer 4 contains several particle|grains 4a, 4a, and the average particle diameter of these particle|grains 4a, 4a is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer 4, The average particle diameter r1 and its average film thickness d1

50nm≤(r1-d1)≤1900nm50nm≤(r1-d1)≤1900nm

의 관계에 있다. 즉, 평균 입경 r1은 평균 막두께 d1보다 50nm~1900nm 크다. 그리고 광학 조정층(4)의 표면의, 그 광학 조정층(4)에 함유되는 상기 입자(4a)에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm(보다 바람직하게는 0.3nm~10nm)의 범위에 있다.is in the relationship of That is, the average particle diameter r1 is 50 nm - 1900 nm larger than the average film thickness d1. And the arithmetic mean roughness Ra in the specific part of the surface of the optical adjustment layer 4 excluding the convex part formed by the said particle|grain 4a contained in the optical adjustment layer 4 is 0.3 nm - 20 nm (more preferably It is in the range of 0.3 nm to 10 nm).

그래서 투명 도전성 필름(도시하지 않음)은 이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)에 있어서의 광학 조정층(4)의 표면에 투명 도전층이 형성되어 이루어지는 것이다.Then, as for a transparent conductive film (not shown), the transparent conductive layer is formed in the surface of the optical adjustment layer 4 in this hard coat film 1 with an optical adjustment layer.

이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)에 의하면, 하드 코트층(3) 상에 적층된 광학 조정층(4)에는 복수의 입자(4a, 4a)가 함유되어 있다. 그리고 그 광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경 r1이 광학 조정층(4)의 평균 막두께 d1보다 크고, 그 차가 50nm~1900nm의 범위에 있다. 또 광학 조정층(4)의 표면의, 입자(4a)에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm의 범위로 되어 있다. 광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경 r1과 광학 조정층(4)의 평균 막두께 d1의 차를 50nm 이상으로 하고, 광학 조정층(4)의 표면의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 0.3nm 이상으로 함으로써, 그 후에 광학 조정층(4) 상에 증착이나 스퍼터링법 등에 의해 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있다. 즉, 입자(4a)에 의해 형성되는 볼록부와, 특정 부분의 산술 평균 거칠기를 형성하는 볼록부(4b)의 2종류의 볼록부에 의해, 이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1) 뿐만아니라 그 후의 투명 도전성 필름에 있어서도 내블로킹성을 발현한다. 또 광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경 r1과 광학 조정층(4)의 평균 막두께 d1의 차를 1900nm 이하로 하고, 광학 조정층(4)의 표면의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 20nm 이하로 함으로써, 그 후의 투명 도전성 필름에 있어서도 시인성의 저하를 억제할 수 있다.According to this hard coat film 1 with an optical adjustment layer, several particle|grains 4a, 4a are contained in the optical adjustment layer 4 laminated|stacked on the hard-coat layer 3. And the average particle diameter r1 of the particle|grains 4a contained in the optical adjustment layer 4 is larger than the average film thickness d1 of the optical adjustment layer 4, The difference exists in the range of 50 nm - 1900 nm. Moreover, the arithmetic mean roughness Ra in the specific part of the surface of the optical adjustment layer 4 except the convex part formed with the particle|grains 4a is 0.3 nm - the range of 20 nm. The difference between the average particle diameter r1 of the particles 4a contained in the optical adjustment layer 4 and the average film thickness d1 of the optical adjustment layer 4 is 50 nm or more, and the specific portion of the surface of the optical adjustment layer 4 is By making arithmetic mean roughness Ra in 0.3 nm or more, sufficient blocking resistance can be acquired also in the transparent conductive film in which the transparent conductive layer was provided on the optical adjustment layer 4 by vapor deposition, a sputtering method, etc. after that. That is, by two types of convex parts, the convex part formed by the particle|grain 4a, and the convex part 4b which forms the arithmetic mean roughness of a specific part, this hard coat film 1 with an optical adjustment layer as well as Blocking resistance is expressed also in the transparent conductive film after that. Moreover, the difference between the average particle diameter r1 of the particle|grains 4a contained in the optical adjustment layer 4, and the average film thickness d1 of the optical adjustment layer 4 shall be 1900 nm or less, and the said specific part of the surface of the optical adjustment layer 4 By making arithmetic mean roughness Ra in 20 nm or less into a transparent conductive film after that, the fall of visibility can be suppressed.

이와 같이 하여 광학 조정층(4)에 입자(4a)를 함유시키고, 그 입자(4a)의 평균 입경을 광학 조정층(4)의 평균 막두께에 대하여 50nm~1900nm의 범위에서 크게 하고, 광학 조정층(4)의 표면의 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 0.3nm~20nm으로 함으로써, 그 후에 투명 도전층이 설치된 투명 도전성 필름에 있어서도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있다.Thus, the optical adjustment layer 4 is made to contain the particle|grains 4a, and the average particle diameter of the particle|grains 4a is enlarged with respect to the average film thickness of the optical adjustment layer 4 in the range of 50 nm - 1900 nm, and optical adjustment By setting the arithmetic mean roughness Ra in a specific portion of the surface of the layer 4 to 0.3 nm to 20 nm, sufficient blocking resistance can be obtained also in the transparent conductive film provided with the transparent conductive layer thereafter, and the decrease in visibility can be suppressed

또한 본 발명의 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 정전용량식의 터치패널용으로서 적합하게 사용할 수 있는데, 그 용도는 상기 터치패널용에 한정되는 것은 아니다.Moreover, although the hard coat film 1 with optical adjustment layer for transparent conductive films of this invention can be used suitably as objects for a capacitive touch panel, the use is not limited to the object for said touch panels.

구체적으로는 투명 기재 필름(2)은 비정성 폴리머로 이루어진다. 이 비정성 폴리머로서는 지환 구조를 가지는 비정질 올레핀이 바람직한데, 이것에 한정되는 것은 아니다. 비정질 올레핀으로서는 예를 들면 사이클로올레핀 폴리머나 사이클로올레핀 코폴리머 등이 있다. 또 이 투명 기재 필름(2)의 재료는 폴리카보네이트나 트라이아세틸셀룰로스나 폴리이미드 등이어도 된다. 이 투명 기재 필름(2)의 두께는 10μm~500μm인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10μm~200μm, 더욱 바람직하게는 20μm~100μm인 것이 좋다. 또 투명 기재 필름(2)의 표면에 미리 이접착층(易接着層)의 도공이나 코로나 방전 처리 등의 물리 처리 등의 전처리를 시행함으로써, 적층되는 하드 코트층(3)과의 밀착성을 향상시킬 수 있다.Specifically, the transparent base film 2 is made of an amorphous polymer. As this amorphous polymer, although an amorphous olefin which has an alicyclic structure is preferable, it is not limited to this. Examples of the amorphous olefin include a cycloolefin polymer and a cycloolefin copolymer. Moreover, the material of this transparent base film 2 may be polycarbonate, triacetyl cellulose, polyimide, etc. may be sufficient as it. It is preferable that the thickness of this transparent base film 2 is 10 micrometers - 500 micrometers, More preferably, they are 10 micrometers - 200 micrometers, It is good that they are 20 micrometers - 100 micrometers more preferably. In addition, by performing pretreatment such as physical treatment such as coating of an easily adhesive layer or corona discharge treatment on the surface of the transparent base film 2 in advance, the adhesion with the hard coat layer 3 to be laminated can be improved. have.

하드 코트층(3)은 그 평균 막두께는 하드 코트성을 얻기 위해서 0.5μm~10.0μm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 0.75μm~5.0μm의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 막두께가 0.5μm 미만이면 하드 코트층(3)의 경도가 불충분하게 될 우려가 있고, 10.0μm를 넘으면 하드 코트층(3) 또는 그 위의 층에 크랙이 들어가거나, 권취가 곤란하게 될 우려가 있을 뿐만아니라 투명성 등의 광학 특성이 저하될 우려도 있다.The average film thickness of the hard coat layer 3 is preferably in the range of 0.5 µm to 10.0 µm, more preferably in the range of 0.75 µm to 5.0 µm in order to obtain hard coat properties. If the film thickness is less than 0.5 μm, there is a fear that the hardness of the hard coat layer 3 becomes insufficient, and when it exceeds 10.0 μm, cracks enter the hard coat layer 3 or the layer above it, or there is a fear that winding becomes difficult There is also a possibility that optical properties such as transparency may be deteriorated.

또한 광학 조정층의 상기 특정 부분의 볼록부(4b)(즉, 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra의 상기 값)를 얻기 위해서, 하드 코트층(3)의 표면(즉, 투명 기재 필름(2)이 있는 측과는 반대의 면)은 산술 평균 거칠기 Ra가 2nm~20nm의 범위인 것이 바람직하고, 3nm~10nm인 것이 보다 바람직하다. 하드 코트층(3)의 표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 2nm 미만이면 그 후의 광학 조정층(4)의 상기 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm 미만이 될 우려가 있어, 내블로킹성이 저하된다. 또 하드 코트층(3)의 표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 20nm보다 크면 투명성 등의 광학 특성이 저하될 우려가 있다.Moreover, in order to obtain the convex part 4b of the said specific part of an optical adjustment layer (that is, the said value of the arithmetic mean roughness Ra in a specific part), the surface of the hard-coat layer 3 (namely, the transparent base film 2 It is preferable that arithmetic mean roughness Ra is the range of 2 nm - 20 nm, and, as for the surface opposite to the side with ), it is more preferable that it is 3 nm - 10 nm. If the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the hard-coat layer 3 is less than 2 nm, there exists a possibility that arithmetic mean roughness Ra in the said specific part of the optical adjustment layer 4 after that may become less than 0.3 nm, and blocking resistance is lowered Moreover, when arithmetic mean roughness Ra of the surface of the hard-coat layer 3 is larger than 20 nm, there exists a possibility that optical characteristics, such as transparency, may fall.

도시 실시형태에 있어서는 하드 코트층(3)에 복수의 입자(3a, 3a)가 함유되고, 그들 입자(3a, 3a)의 평균 입경은 하드 코트층(3)의 평균 막두께보다 작다. 그리고 그들 입자(3a, 3a)는 하드 코트층(3)의 표면(즉, 투명 기재 필름(2)이 있는 측과는 반대의 면)에 편재하고 있다. 그래서 하드 코트층(3)의 표면에 편재하는 이들 입자(3a, 3a)에 의한 표면의 볼록부에 추종하도록, 그 하드 코트층(3) 상의 광학 조정층(4)의 표면에 볼록부(4b, 4b)가 형성되고, 그들 볼록부(4b, 4b)가 광학 조정층(4)의 표면의 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra의 값에 반영된다.In the illustrated embodiment, a plurality of particles 3a and 3a are contained in the hard coat layer 3 , and the average particle diameter of the particles 3a and 3a is smaller than the average film thickness of the hard coat layer 3 . And these particle|grains 3a, 3a are unevenly distributed on the surface (namely, the surface opposite to the side with the transparent base film 2) of the hard-coat layer 3). Then, the convex part 4b on the surface of the optical adjustment layer 4 on the hard-coat layer 3 may follow the convex part on the surface by these particle|grains 3a, 3a unevenly distributed on the surface of the hard-coat layer 3, , 4b) are formed, and those projections 4b and 4b are reflected in the value of the arithmetic mean roughness Ra in a specific part of the surface of the optical adjustment layer 4 .

상세하게는 하드 코트층(3)을 형성하기 위한 하드 코트 도공액은 바인더와, 하드 코트층(3)의 평균 막두께보다 작은 평균 입경의 복수의 입자(3a, 3a)와, 용제를 포함한다. 그리고 그 하드 코트 도공액을 투명 기재 필름(2)에 도공하고, 건조시켜, UV 노광하는 중에 (특히, 건조 공정에서) 입자(3a)를 하드 코트층(3)의 표면으로 편재시킨다. 이 방법을 사용함으로써, 하드 코트층(3)의 표면의 적합한 표면 거칠기를 균일하게 효율적으로 얻을 수 있다.Specifically, the hard coat coating liquid for forming the hard coat layer 3 contains a binder, a plurality of particles 3a and 3a having an average particle diameter smaller than the average film thickness of the hard coat layer 3, and a solvent. . And the hard coat coating liquid is coated on the transparent base film 2, and it is made to dry, and during UV exposure (especially in a drying process), the particle|grains 3a are made to be unevenly distributed on the surface of the hard coat layer 3 . By using this method, the suitable surface roughness of the surface of the hard-coat layer 3 can be obtained uniformly and efficiently.

하드 코트 도공액은 상세하게는 하드 코트층(3)을 형성하는 경화성 조성물로서, 입자(3a), 바인더를 함유하고, 바람직하게는 자외선에 의해 경화하는 것이 좋다. 하드 코트 도공액에 포함되는 바인더는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 내상성을 유지하면서 유연성을 부여하기 위해서 유레테인아크릴레이트를 사용할 수 있다. 하드 코트 도공액에 포함되는 입자(3a)의 평균 입경은 50nm~500nm의 범위에 있는 것이 바람직하고, 80nm~400nm의 범위에 있는 것이 보다 바람직하며, 120nm~400nm의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다. 그래서 이들 입자(3a, 3a)에 의해 표면에 볼록부가 형성되는데, 평균 입경이 50nm 미만에서는 표면에 충분한 볼록부를 형성할 수 없을 우려가 있고, 평균 입경이 500nm를 넘으면 헤이즈(haze)가 상승할 우려가 있다. 또 하드 코트층(3)의 평균 막두께 d2와, 그 하드 코트층(3)에 함유되는 입자(3a)의 평균 입경 r2는 (d2/r2)>2의 관계에 있는 것이 바람직하고, 이 범위로 함으로써 헤이즈(haze)의 상승을 억제할 수 있다.The hard coat coating liquid is a curable composition which forms the hard-coat layer 3 in detail, It is good to contain the particle|grains 3a and a binder, It is good to harden|cure preferably by ultraviolet-ray. The binder contained in the hard coat coating liquid is not particularly limited, but urethane acrylate may be used to impart flexibility while maintaining scratch resistance. The average particle diameter of the particles 3a contained in the hard coat coating solution is preferably in the range of 50 nm to 500 nm, more preferably in the range of 80 nm to 400 nm, and still more preferably in the range of 120 nm to 400 nm. Therefore, convex portions are formed on the surface by these particles 3a and 3a. If the average particle diameter is less than 50 nm, there is a fear that sufficient projections cannot be formed on the surface, and if the average particle diameter exceeds 500 nm, haze may rise there is Moreover, it is preferable that the average film thickness d2 of the hard-coat layer 3, and the average particle diameter r2 of the particle|grains 3a contained in the hard-coat layer 3 exist in the relationship of (d2/r2)>2, and it is this range It is possible to suppress a rise in haze by setting it as

입자(3a)로서는 특별히 한정되지 않지만, 각종 무기계, 유기계의 입자를 사용할 수 있다. 이 입자(3a)로서는 예를 들면 실리카, 알루미나, 타이타니아, 아크릴 수지, 스타이렌-아크릴 공중합 수지, 스타이렌 수지, 유레테인 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지, 폴리에틸렌 수지, 페놀 수지 등을 소재로 하는 입자 등이 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니며, 2종 이상을 조합해도 된다.Although it does not specifically limit as particle|grains 3a, Various inorganic type and organic type particle|grains can be used. As the particles 3a, for example, silica, alumina, titania, acrylic resin, styrene-acrylic copolymer resin, styrene resin, urethane resin, epoxy resin, silicone resin, polyethylene resin, phenol resin, etc. Although there exist particle|grains etc., it is not limited to these, You may combine 2 or more types.

입자(3a)에 유기계 입자를 사용하는 경우는 아크릴계 입자를 사용하고, 유화 중합법에 의해 합성된 것이 원하는 평균 입경의 입자를 얻기 위해서도 바람직하다.When using organic particle|grains for the particle|grains 3a, in order to obtain particle|grains of a desired average particle diameter, what was synthesize|combined by the emulsion polymerization method using acrylic particle|grains is preferable.

또 입자(3a)에 무기계 입자를 사용하는 경우는 표면 처리나 계면활성제 등으로 표면 자유 에너지를 작게 한 실리카 입자를 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같이 표면 자유 에너지가 작아짐으로써, 하드 코트층(3)의 표면으로 입자(3a)를 편재시키기 쉬워진다.Moreover, when using inorganic particles for the particle|grains 3a, it is preferable to use the silica particle which made the surface free energy small by surface treatment, surfactant, etc. Thus, when the surface free energy becomes small, it becomes easy to make the particle|grains 3a unevenly distributed on the surface of the hard-coat layer 3 .

또 하드 코트 도공액에는 필요에 따라 분산제, 레벨링제, 소포제, 요변제, 방오제, 항균제, 난연제, 상처 방지제, 슬립제 등의 첨가제를 성능에 영향이 없는 범위에서 포함해도 된다.In addition, the hard coat coating liquid may contain additives such as a dispersant, a leveling agent, an antifoaming agent, a thixotropic agent, an antifouling agent, an antibacterial agent, a flame retardant, an anti-wound agent, and a slip agent, if necessary, within a range that does not affect the performance.

또 막두께의 조정 등의 관점에서 유기 용제를 사용하여 하드 코트 도공액을 희석해도 된다. 예를 들면 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM), 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터와 같은 알코올계의 유기 용제나, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸아이소뷰틸케톤(MIBK), 사이클로헥산온(아논), 아세톤 등과 같은 케톤계 유기 용제나, 아세트산뷰틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 등과 같은 에스터계 유기 용제나, 톨루엔, 자일렌 등과 같은 방향족계 유기 용제나, N-메틸피롤리돈, 다이메틸아세트아마이드, 다이메틸폼아마이드 등과 같은 아마이드계 유기 용제 등을 사용할 수 있다. 그리고 이들 예시의 유기 용제는 단독이어도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 되는데, 그 용해도 파라미터 δ는 8~11의 범위인 것이 바람직하고, 또한 용해도 파라미터 δ가 8~10의 범위에 있는 것이 더욱 바람직하다.Moreover, you may dilute the hard-coat coating liquid using the organic solvent from a viewpoint, such as adjustment of a film thickness. For example, alcohol-based organic solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (PGM), and diethylene glycol monobutyl ether, methyl ethyl ketone (MEK), methyl Ketone-based organic solvents such as isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone (anone), and acetone, ester-based organic solvents such as butyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and toluene , an aromatic organic solvent such as xylene, or an amide-based organic solvent such as N-methylpyrrolidone, dimethylacetamide or dimethylformamide may be used. And the organic solvents of these examples may be used individually or in combination of 2 or more types, but it is preferable that the solubility parameter δ is in the range of 8-11, and it is further more that the solubility parameter δ is in the range of 8-10. desirable.

도공(塗工)에는 예를 들면 리버스 그라비어 코트법, 다이렉트 그라비어 코트법, 다이 코트법, 바 코트법, 와이어 바 코트법, 롤 코트법, 스핀 코트법, 딥 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법, 키스 코트법 등과 같은 코팅 방법이나, 각종 인쇄 방법을 사용할 수 있는데, 이들 방법에 한정되는 것은 아니다.For coating, for example, the reverse gravure coating method, the direct gravure coating method, the die coating method, the bar coating method, the wire bar coating method, the roll coating method, the spin coating method, the dip coating method, the spray coating method, and the knife coating method A coating method such as a method, a kiss coat method, or the like, or various printing methods may be used, but the present invention is not limited thereto.

건조 공정에 대해서는 건조가 지나치게 빠르면, 응집·표면으로의 편재가 불충분하게 되기 때문에, 건조는 50℃~120℃의 온도에서 10초~180초간정도 행하는 것이 바람직하고, 특히 건조 온도는 50℃~80℃가 바람직하다. 건조 시간은 길수록 좋은데, 생산성을 고려하면 10초~120초정도로 하는 것이 더욱 바람직하다.Regarding the drying step, if drying is too fast, agglomeration and uneven distribution to the surface will become insufficient. C is preferred. The longer the drying time, the better. Considering productivity, it is more preferable to set it to about 10 seconds to 120 seconds.

UV 노광 공정에 대해서는 건조 후에 하드 코트층(3)에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써, 입자(3a)의 응집체를 하드 코트층(3)의 표면의 측에 고정화할 수 있다. 자외선의 조사에는 고압 수은 램프, 무전극(마이크로파 방식) 램프, 제논 램프, 메탈 할라이드 램프, 그 밖에 임의의 자외선 조사 장치를 사용할 수 있고, 필요에 따라 질소 등의 불활성 가스 분위기화에서 자외선 조사를 행해도 된다. 또 자외선의 조사량은 50~800mJ/cm2의 범위, 바람직하게는 100~300mJ/cm2의 범위인 것이 좋다.About a UV exposure process, the aggregate of the particle|grains 3a can be fixed to the side of the surface of the hard-coat layer 3 by irradiating and hardening an ultraviolet-ray to the hard-coat layer 3 after drying. A high-pressure mercury lamp, an electrodeless (microwave type) lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or any other UV irradiation device can be used for UV irradiation. also be In addition, the irradiation amount of ultraviolet rays is in the range of 50 to 800 mJ/cm 2 , preferably in the range of 100 to 300 mJ/cm 2 .

광학 조정층(4)은 투명 도전성 필름의 패터닝된 투명 도전층이 존재하는 부분과 존재하지 않는 부분의 반사율의 차이에 의해 그 패턴을 눈으로 볼 수 있게 되는 현상(즉, 패턴 보임)을 완화하기 위해서 하드 코트층(3) 상에 적층된다. 이 패턴 보임을 완화하기 위해서는 광학 조정층(4)의 굴절률을 투명 도전층의 굴절률과 하드 코트층(3)의 굴절률의 사이로 하는 것이 좋고, 그 때문에 광학 조정층(4)의 굴절률은 1.55~1.80의 범위에 있는 것이 바람직하다. 또 이 광학 조정층(4)의 평균 막두께는 투명 기재 필름(2), 하드 코트층(3), 광학 조정층(4)의 굴절률에 따라 상이하지만, 5nm~500nm의 범위이며, 투명 도전층이 존재하는 부분과 존재하지 않는 부분의 반사율의 차가 가능한 한 작아지는 두께로 조정하는 것이 바람직하다. 광학 조정층(4)의 막두께가 5nm 미만이면 입자(4a)의 탈락의 우려가 있고, 500nm보다 큰 막두께에서는 투명 도전층이나 금속층 등을 제막한 후에 충분한 내블로킹성이 얻어지지 않을 우려가 있다.The optical adjustment layer 4 relieves the phenomenon that the pattern becomes visible to the eye due to the difference in reflectance between the portion in which the patterned transparent conductive layer is present and the portion in which the patterned transparent conductive layer is not present (that is, the pattern is visible) of the transparent conductive film. It is laminated on the hard coat layer 3 for this purpose. In order to alleviate this pattern visibility, it is good to set the refractive index of the optical adjustment layer 4 between the refractive index of the transparent conductive layer and the refractive index of the hard coat layer 3, and therefore the refractive index of the optical adjustment layer 4 is 1.55 to 1.80. It is preferable to be in the range of Moreover, although the average film thickness of this optical adjustment layer 4 changes with the refractive index of the transparent base film 2, the hard-coat layer 3, and the optical adjustment layer 4, it is the range of 5 nm - 500 nm, and a transparent conductive layer It is preferable to adjust the thickness so that the difference in reflectance between the present portion and the non-existent portion is as small as possible. If the film thickness of the optical adjustment layer 4 is less than 5 nm, there is a fear that the particles 4a may fall off, and if the film thickness is greater than 500 nm, sufficient blocking resistance may not be obtained after the transparent conductive layer or metal layer is formed. have.

광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경은 100nm~2000nm의 범위인 것이 바람직하고, 200nm~1500nm인 것이 보다 바람직하며, 400nm~1000nm인 것이 더욱 바람직하다. 입자(4a)의 평균 입경을 이 범위로 함으로써, 증착이나 스퍼터링법에 의해 투명 도전층이나 금속층을 제막한 후에도 충분한 내블로킹성을 갖게 하고, 또한 시인성의 저하를 억제할 수 있다. 입자(4a)의 평균 입경이 100nm 미만이면 증착이나 스퍼터링법에 의해 투명 도전층이나 금속층을 제막한 후에 충분한 내블로킹성이 얻어지지 않을 우려가 있고, 입자(4a)의 평균 입경이 2000nm보다 크면 시인성이 저하될 우려가 있다.It is preferable that it is the range of 100 nm - 2000 nm, as for the average particle diameter of the particle|grains 4a contained in the optical adjustment layer 4, it is more preferable that they are 200 nm - 1500 nm, It is still more preferable that they are 400 nm - 1000 nm. By making the average particle diameter of the particle|grains 4a into this range, even after forming a transparent conductive layer and a metal layer into a film by vapor deposition or sputtering method, sufficient blocking resistance can be provided, and the fall of visibility can be suppressed. If the average particle diameter of the particles 4a is less than 100 nm, there is a fear that sufficient blocking resistance may not be obtained after the transparent conductive layer or metal layer is formed by vapor deposition or sputtering method, and if the average particle diameter of the particles 4a is larger than 2000 nm, visibility This may decrease.

또 광학 조정층(4)의 평균 막두께 d1과, 그 광학 조정층(4)에 함유되는 입자(4a)의 평균 입경 r1의 관계는 (d1/r1)<0.5로 하는 것이 바람직하다. 이 범위로 함으로써 입자(4a)의 평균 입경 r1을 작게 해도 충분한 높이의 볼록부를 만들 수 있다. 그리고 광학 조정층(4)의 막두께, 투명 도전층의 막두께, 금속층의 막두께로부터 입자(4a)의 평균 입경을 조정할 수 있다.Moreover, it is preferable that the relationship between the average film thickness d1 of the optical adjustment layer 4, and the average particle diameter r1 of the particle|grains 4a contained in this optical adjustment layer 4 shall be (d1/r1)<0.5. By setting it as this range, even if it makes small the average particle diameter r1 of the particle|grains 4a, the convex part of sufficient height can be made. And the average particle diameter of the particle|grains 4a can be adjusted from the film thickness of the optical adjustment layer 4, the film thickness of a transparent conductive layer, and the film thickness of a metal layer.

여기서 (d1/r1)<0.5로 하면, 입자(4a)의 반 이상이 볼록부가 되고, 스침 등에 의한 입자(4a)의 탈락의 우려가 있지만, 광학 조정층(4)의 상기 특정 부분의 볼록부(4b)가 존재함으로써 이활성(易滑性)이 높아져, 스침 등에 의한 입자(4a)의 탈락을 방지할 수 있다.Here, when (d1/r1) < 0.5, more than half of the particles 4a become convex portions, and there is a risk of the particles 4a falling off due to rubbing or the like, but the convex portions of the specific portion of the optical adjustment layer 4 are The presence of (4b) increases the lubricating activity, and it is possible to prevent the particles 4a from falling off due to rubbing or the like.

입자(4a)의 첨가량은 입자(4a)의 평균 입경에 따라 최적의 양이 상이하며, 그 평균 입경 r1(nm)과 그 입자(4a)의 개수 N(개/mm2)이The optimal amount of the addition amount of the particles 4a is different depending on the average particle diameter of the particles 4a, and the average particle diameter r1 (nm) and the number N (pieces/mm 2 ) of the particles 4a are

199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)

의 관계에 있는 것이 바람직하다(이 N의 범위를 도 2에 있어서 우측 상승의 사선으로 나타낸다). 그리고 보다 바람직하게는It is preferable to have a relationship of (the range of this N is indicated by the diagonal line rising to the right in FIG. 2). and more preferably

480.48exp(-0.002r1)≤N≤2277exp(-0.002r1)의 관계에 있는 것이 좋다(이 N의 범위를 도 2에 있어서 우측 하강의 사선으로 나타낸다).It is preferable to have a relationship of 480.48exp(-0.002r1) ? N ? 2277exp(-0.002r1) (the range of N is indicated by the diagonal line falling to the right in FIG. 2).

또 이 광학 조정층(4)에 포함되는 입자(4a)가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층(4)의 표면에 큰 기복이 생겨 있는 경우는 ITO 등의 도전막을 설치했을 때 도통이 어려워지는 경우가 있다. 그래서 상기 입자(4a)가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층(4)의 평균 높이로부터 3nm 이상 곡부측이 되는 광학 조정층(4)의 표면의 면적(광학 조정층(4)의 표면의 곡부측 면적)은 661780μm2당 200000μm2 이하인 것이 바람직하고, 150000μm2 이하인 것이 더욱 바람직하다. 즉, 입자(4a)가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층(4)의 표면은 완전히 평평한 것이 투명도전막의 도통에 있어서는 바람직한데, 내블로킹성의 문제가 있기 때문에, 상기 볼록부(4b)에 의해 이 상반되는 문제를 해결할 수 있다.In addition, when large undulations occur on the surface of the optical adjustment layer 4 in the portion where the particles 4a contained in the optical adjustment layer 4 do not exist, conduction becomes difficult when a conductive film such as ITO is provided. There are cases. Then, the area of the surface of the optical adjustment layer 4 used as the curved side by 3 nm or more from the average height of the optical adjustment layer 4 of the part in which the said particle|grain 4a does not exist (the surface of the optical adjustment layer 4 curved portion) lateral area) is preferably 200000 μm 2 or less per 661780 μm 2 , and more preferably 150000 μm 2 or less. That is, the surface of the optical adjustment layer 4 in the portion where the particles 4a is not present is preferably completely flat for conduction of the transparent conductive film, but since there is a problem of blocking resistance, the convex portion 4b This conflicting problem can be solved.

이 광학 조정층(4)은 광학 조정층 도공액을 하드 코트층(3)의 표면에 도공하고, 건조시켜, UV 노광함으로써 얻어진다. 광학 조정층 도공액으로서는 굴절률이 조정된 공지의 도재(예를 들면 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」이나 도요켐 가부시키가이샤(Toyochem Co., Ltd.)제 「리오듀라스(LIODURAS) TYZ-A15-S(제품명)」)를 사용할 수 있다. 1.55~1.80의 고굴절률을 얻기 위해서는 금속 산화 입자를 포함해도 된다. 이 금속 산화 입자로서는 예를 들면 타이타늄, 지르코늄, 주석, 아연, 규소, 나이오븀, 알루미늄, 크로뮴, 마그네슘, 저마늄, 갈륨, 안티모니, 백금 등의 산화물이 있는데, 특히 산화지르코늄, 산화타이타늄이 바람직하다. 또 이들 산화물을 복수종 조합해도 된다.This optical adjustment layer 4 is obtained by coating the optical adjustment layer coating liquid on the surface of the hard-coat layer 3, drying, and UV exposure. As the optical adjustment layer coating solution, a known ceramic material having an adjusted refractive index (for example, “AICAAITRON Z-816-3L (product name)” manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd.) or Toyo "LIODURAS TYZ-A15-S (product name)" manufactured by Toyochem Co., Ltd.) can be used. In order to obtain the high refractive index of 1.55-1.80, you may contain metal oxide particle|grains. The metal oxide particles include, for example, oxides of titanium, zirconium, tin, zinc, silicon, niobium, aluminum, chromium, magnesium, germanium, gallium, antimony, platinum, etc., and particularly, zirconium oxide and titanium oxide are preferable. do. Moreover, you may combine two or more types of these oxides.

광학 조정층(4)에 함유하는 입자(4a)의 재료로서는 무기계, 유기계의 다분산이나 단분산의 공지의 입자(예를 들면, 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「MX-80H3wT(제품명)」)를 사용할 수 있다.As a material of the particle|grains 4a contained in the optical adjustment layer 4, polydispersion and monodispersion of inorganic type, organic type, and well-known particle|grains (For example, Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. ) product "MX-80H3wT (product name)") can be used.

또 필요에 따라 분산제, 레벨링제, 소포제, 요변제, 방오제, 항균제, 난연제, 상처 방지제, 슬립제 등의 첨가제를 성능에 영향이 없는 범위에서 광학 조정층 도공액에 포함해도 된다. 특히 레벨링제는 광학 조정층(4)의 표면의 곡부측 면적을 적게 할 목적에서, 표면장력 저하 능력을 조정하는 것이 바람직하다.If necessary, additives such as a dispersing agent, leveling agent, antifoaming agent, thixotropic agent, antifouling agent, antibacterial agent, flame retardant, wound preventing agent, slip agent and the like may be included in the optical adjustment layer coating solution within a range that does not affect the performance. In particular, it is preferable that the leveling agent adjusts the surface tension lowering ability for the purpose of reducing the area on the curved side of the surface of the optical adjustment layer 4 .

또 막두께의 조정등의 관점에서 유기 용제를 사용하여 광학 조정층 도공액을 희석해도 된다. 예를 들면, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM), 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터와 같은 알코올계의 유기 용제나, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸아이소뷰틸케톤(MIBK), 사이클로헥산온(아논), 아세톤 등과 같은 케톤계 유기 용제나, 아세트산뷰틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 등과 같은 에스터계 유기 용제나, 톨루엔, 자일렌 등과 같은 방향족계 유기 용제나, N-메틸피롤리돈, 다이메틸아세트아마이드, 다이메틸폼아마이드 등과 같은 아마이드계 유기 용제 등을 사용할 수 있다. 그리고 이들 예시의 유기 용제는 단독이어도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 되는데, 그 용해도 파라미터 δ는 8~11의 범위인 것이 바람직하고, 또한 δ가 8~10의 범위에 있는 것이 바람직하다. 사용하는 유기 용제의 표면장력은 20~40dyne/cm2의 범위가 바람직하고, 광학 조정층(4)의 표면의 곡부측 면적을 적게 할 목적에서, 건조 공정에 일어나는 도막의 농도 상승에 있어서 각 농도에 대한 표면장력의 차가 적어지도록 광학 조정층 도공액의 유기 용제종을 선정하는 것이 바람직하다.Moreover, you may dilute the optical adjustment layer coating liquid using an organic solvent from a viewpoint, such as adjustment of a film thickness. For example, alcohol-based organic solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (PGM), diethylene glycol monobutyl ether, methyl ethyl ketone (MEK), Ketone-based organic solvents such as methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone (anone), acetone, and ester-based organic solvents such as butyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, An aromatic organic solvent such as toluene or xylene, or an amide-based organic solvent such as N-methylpyrrolidone, dimethylacetamide or dimethylformamide may be used. And although the organic solvent of these examples may be used individually or in combination of 2 or more types, it is preferable that the solubility parameter δ is in the range of 8-11, and it is preferable that δ exists in the range of 8-10. The surface tension of the organic solvent to be used is preferably in the range of 20 to 40 dyne/cm 2 , and for the purpose of reducing the area on the curved side of the surface of the optical adjustment layer 4, each concentration in the increase in the concentration of the coating film occurring in the drying process It is preferable to select the organic solvent type of the optical adjustment layer coating solution so that the difference in the surface tension with respect to it is small.

도공에는 예를 들면 리버스 그라비어 코트법, 다이렉트 그라비어 코트법, 다이 코트법, 바 코트법, 와이어 바 코트법, 롤 코트법, 스핀 코트법, 딥 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법, 키스 코트법 등과 같은 코팅 방법이나, 각종 인쇄 방법을 사용할 수 있는데, 이들 방법에 한정되는 것은 아니다.For coating, for example, the reverse gravure method, the direct gravure method, the die coat method, the bar coat method, the wire bar coat method, the roll coat method, the spin coat method, the dip coat method, the spray coat method, the knife coat method, the kiss coat method Although a coating method such as a method and various printing methods can be used, it is not limited to these methods.

건조 공정에 대해서는 50℃~150℃의 온도에서 10초~180초간정도 행하는 것이 생산성의 관점에서도 바람직하다. 온도는 성능에 영향이 없는 범위이면 높은 편이 경화 전의 도막면의 점도가 내려가고, 빠르게 레벨링(평활화)하여 광학 조정층(4)의 표면의 곡부측 면적이 적어지기 때문에, 80℃~150℃로 하는 것이 보다 바람직하다.About the drying process, it is preferable also from a viewpoint of productivity to carry out for about 10 second - 180 second at the temperature of 50 degreeC - 150 degreeC. If the temperature is within a range that does not affect the performance, the higher the temperature, the lower the viscosity of the coating film surface before curing, and the faster leveling (smoothing), the smaller the area on the curved side of the surface of the optical adjustment layer 4, so it is 80 ° C to 150 ° C. It is more preferable to

UV 노광 공정에 대해서는 건조 후에 광학 조정층(4)에 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 막을 고정할 수 있다. 자외선의 조사에는 고압 수은 램프, 무전극(마이크로파 방식) 램프, 제논 램프, 메탈 할라이드 램프, 그 밖에 임의의 자외선 조사 장치를 사용할 수 있고, 필요에 따라 질소 등의 불활성 가스 분위기화에서 자외선 조사를 행해도 된다. 또 자외선의 조사량은 50~800mJ/cm2의 범위, 바람직하게는 100~300mJ/cm2의 범위인 것이 좋다.About a UV exposure process, a film|membrane can be fixed by irradiating and hardening an ultraviolet-ray to the optical adjustment layer 4 after drying. A high-pressure mercury lamp, an electrodeless (microwave type) lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or any other UV irradiation device can be used for UV irradiation. also be In addition, the irradiation amount of ultraviolet rays is in the range of 50 to 800 mJ/cm 2 , preferably in the range of 100 to 300 mJ/cm 2 .

도 3은 본 발명의 제2 실시형태를 나타낸다. 이 실시형태는 제1 실시형태와는 투명 기재 필름(2)의 타방의 면에도 하드 코트층이 설치되는 점이 상이하지만, 그 밖에는 동일하며, 이하에 동일한 부분에는 동일한 부호를 붙이고, 상이한 부분을 주로 설명한다.3 shows a second embodiment of the present invention. Although this embodiment differs from 1st Embodiment in that the hard-coat layer is also provided in the other surface of the transparent base film 2, it is the same otherwise, and the same code|symbol is attached|subjected to the same part below, and a different part is mainly used Explain.

이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 투명 기재 필름(2)의 타방의 면(즉, 하드 코트층(3) 및 광학 조정층(4)이 설치되는 일방의 면과는 반대의 면)에 제2 하드 코트층(5)을 가진다. 이 제2 하드 코트층(5)에는 복수의 입자(5a, 5a)가 함유되고, 그들 입자(5a, 5a)는 제2 하드 코트층(5)의 표면(즉, 투명 기재 필름(2)이 있는 측과는 반대의 면)에 편재하고 있다. 이것에 의해 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)의 일방의 면 뿐만아니라 타방의 면에도 내상성과 내블로킹성을 부여할 수 있다. 이 때문에 투명 기재 필름(2)에 깨지기 쉽고 표면에 상처가 생기기 쉽다는 결점을 가지는 비정성 폴리머 필름을 사용해도 충분한 하드 코트성과 충분한 내블로킹성을 가지는 광학 조정층 부착 하드 코트 필름이 얻어진다. 여기에 있어서 시인성을 저하시키지 않기 위해서는 복수의 입자(5a, 5a)의 평균 입경을 제2 하드 코트층(5)의 평균 막두께보다 작게 하는 것이 바람직한데, 이활성이나 필름의 처리성을 보다 부여시킬 목적에서, 필요에 따라 입자(5a)의 평균 입경을 제2 하드 코트층(5)의 평균 막두께보다 크게 해도 된다.This hard coat film 1 with an optical adjustment layer is the other surface of the transparent base film 2 (that is, the surface opposite to the one surface in which the hard-coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 are provided) It has a 2nd hard-coat layer (5). A plurality of particles 5a and 5a are contained in the second hard coat layer 5, and the particles 5a and 5a are the surface of the second hard coat layer 5 (that is, the transparent substrate film 2). It is ubiquitous on the side opposite to the side where it is. Thereby, scratch resistance and blocking resistance can be provided not only to one surface of the hard coat film 1 with an optical adjustment layer but to the other surface. For this reason, even if it uses the amorphous polymer film which has the fault that it is brittle and the surface is easily damaged in the transparent base film 2, the hard coat film with an optical adjustment layer which has sufficient hard-coat property and sufficient blocking resistance is obtained. In order not to reduce the visibility here, it is preferable to make the average particle diameter of several particle|grains 5a, 5a smaller than the average film thickness of the 2nd hard-coat layer 5, but lubricity and processability of a film are provided more. For the purpose of making it, you may make the average particle diameter of the particle|grains 5a larger than the average film thickness of the 2nd hard-coat layer 5 as needed.

도 4는 본 발명의 제3 실시형태를 나타낸다. 이 실시형태는 제2 실시형태와는 보호 필름이 설치되는 점이 상이하지만, 그 밖에는 동일하며, 이하에 동일한 부분에는 동일 부호를 붙이고, 상이한 부분을 주로 설명한다.4 shows a third embodiment of the present invention. Although this embodiment differs from 2nd Embodiment in the point in which a protective film is provided, it is other than that, The same code|symbol is attached|subjected to the same part below, and the different part is mainly demonstrated.

이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)에 있어서는 하드 코트층(3) 및 광학 조정층(4)은 투명 기재 필름(2)의 일방의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름(2)의 타방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름(6)이 첩합되어 있다. 상세하게는 이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 제2 실시형태의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)을 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 본체(1a)로 하여, 그 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 본체(1a)에 있어서의 투명 기재 필름(2)의 타방의 면측인 제2 하드 코트층(5)의 표면에 보호 필름용 투명 기재 필름(6a)과 점착층(6b)으로 이루어지는 보호 필름(6)이 그 점착층(6b)을 사용하여 첩합되어 있다.In this hard-coat film 1 with an optical adjustment layer, the hard-coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 are provided in one surface of the transparent base film 2, The other of the transparent base film 2 The protective film 6 is pasted together so that the outermost layer may be formed in the surface side. In detail, this hard coat film 1 with an optical adjustment layer uses the hard coat film 1 with an optical adjustment layer of 2nd Embodiment as the hard coat film main body 1a with an optical adjustment layer, and has the optical adjustment layer Protection which consists of the transparent base film 6a for protective films and the adhesive layer 6b on the surface of the 2nd hard-coat layer 5 which is the other surface side of the transparent base film 2 in the hard-coat film main body 1a The film 6 is pasted together using the adhesion layer 6b.

이와 같이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)에 보호 필름(6)을 설치함으로써, 투명 기재 필름(2)이 매우 얇은 경우 등에 있어서도 작업성을 양호하게 하고, 오염 등도 방지할 수 있다.Thus, by providing the protective film 6 in the hard coat film 1 with an optical adjustment layer, even when the transparent base film 2 is very thin, etc., workability|operativity can be made favorable and a contamination etc. can also be prevented.

보호 필름(6)을 형성하는 재료는 특별히 한정되지 않지만, 열 처리 공정 중 및 열 처리 공정 후의 컬의 제어라는 관점에서, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 본체(1a)와는 가열 수축률 및 선팽창 계수가 가까운 재료가 바람직하다.Although the material which forms the protective film 6 is not specifically limited, From a viewpoint of control of the curl during a heat treatment process and after a heat treatment process, the heat shrinkage rate and coefficient of linear expansion are close to the hard coat film main body 1a with an optical adjustment layer. material is preferred.

또한 본 발명은 상기 서술한 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 그 밖에 각종 변경이 가능하다. 예를 들면 광학 조정층(4)에 함유되는 복수의 입자(4a, 4a)는 그 직경이 동일하지 않아도 되며, 도 5에 나타내는 바와 같이 상이해도 된다. 또 이 점은 하드 코트층(3)에 함유되는 입자(3a, 3a)에 있어서도 동일하다.In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, In addition, various changes are possible. For example, the some particle|grains 4a, 4a contained in the optical adjustment layer 4 may not have the same diameter, and may differ as shown in FIG. Moreover, this point is the same also in the particle|grains 3a, 3a contained in the hard-coat layer 3.

또 광학 조정층(4)은 1층이 아니어도 되며, 고굴절률층, 저굴절률층 등 2층 이상의 다층으로 이루어져도 상관없다. 그 경우, 하드 코트층(3)측에 있는 광학 조정층의 굴절률은 1.55~1.80의 고굴절률로 하고, 투명 도전층을 적층하는 측의 광학 조정층의 굴절률은 1.50 이하의 저굴절률로 함으로써 적합하게 패턴 보임을 완화할 수 있다. 그리고 광학 조정층에 포함되는 입자(4a)는 어느 층에 함유되어도 되고, 또 복수층에 함유되어도 상관없지만, 투명 기재 필름(2)으로부터 가장 떨어진 측에 있는 광학 조정층에 포함되는 것이 바람직하다.Moreover, the optical adjustment layer 4 does not need to be one layer, and it does not matter even if it consists of two or more multilayers, such as a high refractive index layer and a low refractive index layer. In that case, the refractive index of the optical adjustment layer on the hard coat layer 3 side is set to a high refractive index of 1.55 to 1.80, and the refractive index of the optical adjustment layer on the side where the transparent conductive layer is laminated is set to a low refractive index of 1.50 or less suitably. The appearance of the pattern can be alleviated. And although the particle|grains 4a contained in the optical adjustment layer may be contained in any layer and may be contained in multiple layers, it is preferable that it is contained in the optical adjustment layer in the side most distant from the transparent base film 2 .

또 광학 조정층(4)의 표면의 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra를 소정의 범위로 하기 위해서, 하드 코트층(3)에 복수의 입자(3a, 3a)를 함유시켜, 하드 코트층(3)의 표면(투명 기재 필름(2)이 있는 측과는 반대의 면)에 볼록부를 설치하고, 그 볼록부를 광학 조정층의 표면에 반영시켰지만, 이 하드 코트층(3)의 표면에 볼록부를 설치하는 방법으로서, 입자(3a)를 사용하는 것이 아니라, 2종류 이상의 재료가 상분리(phase separation)함으로써 볼록부를 형성하는 방법이라든지, 엠보스 가공에 의해 볼록부를 형성하는 방법 등을 채용해도 된다(도 6에 나타내는 볼록부(3b) 참조).Moreover, in order to make arithmetic mean roughness Ra in the specific part of the surface of the optical adjustment layer 4 into a predetermined range, the hard-coat layer 3 is made to contain several particle|grains 3a, 3a, and hard-coat layer ( A convex part was provided on the surface of 3) (the surface opposite to the side on which the transparent base film 2 is), and the convex part was reflected on the surface of the optical adjustment layer, but the convex part was formed on the surface of this hard coat layer 3 As a method of providing, instead of using the particles 3a, a method of forming a convex portion by phase separation of two or more kinds of materials or a method of forming a convex portion by embossing may be adopted (Fig. Refer to the convex part 3b shown in 6).

또 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1)은 투명 기재 필름(2)의 일방의 면에 하드 코트층(3) 및 광학 조정층(4)이 설치되는데, 투명 기재 필름(2)의 양쪽의 면에 하드 코트층(3) 및 광학 조정층(4)이 설치되어도 된다. 그리고 이 경우 투명 기재 필름(2)의 어느 일방의 면측에(결국은 어느 일방의 광학 조정층(4)의 표면에) 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합되어도 된다.Moreover, although the hard-coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 are provided in one surface of the transparent base film 2 in the hard coat film 1 with an optical adjustment layer, both surfaces of the transparent base film 2 The hard-coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 may be provided in this. And in this case, a protective film may be pasted together so that an outermost layer may be formed in any one surface side of the transparent base film 2 (after all, in the surface of either optical adjustment layer 4).

또 제2 및 제3 도시 실시형태에 있어서는 제2 하드 코트층(5)에 입자(5a)가 포함되는데, 이 입자(5a)는 포함되지 않아도 된다.Moreover, although the particle|grains 5a are contained in the 2nd hard-coat layer 5 in 2nd and 3rd illustration embodiment, this particle|grain 5a does not need to be contained.

(실시예)(Example)

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples.

<실시예 1><Example 1>

투명 기재 필름(2)은 닛폰 제온 가부시키가이샤(Zeon Corporation)제 「ZeonorFilm ZF16-100(제품명)」을 사용했다. 이 투명 기재 필름(2)의 일방의 면에 코로나 처리를 시행한 후, 그 일방의 면에 하드 코트층(3)을 적층하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 또한 하드 코트 필름에 있어서의 하드 코트층(3)의 표면에 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.As the transparent base film 2, "ZeonorFilm ZF16-100 (product name)" made by Nippon Zeon Corporation was used. After corona-treating one surface of this transparent base film 2, the hard-coat layer 3 was laminated|stacked on the one surface, and the hard-coat film was produced. Furthermore, the optical adjustment layer 4 was laminated|stacked on the surface of the hard-coat layer 3 in a hard-coat film, and the hard-coat film with an optical adjustment layer was produced.

(하드 코트 도공액(1a)의 조제)(Preparation of hard coat coating solution (1a))

디스포컵에 DIC 가부시키가이샤(DIC Corporation)제 「PC16-2291(제품명)」과 아세트산뷰틸과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(1a)을 조정했다.DIC Corporation "PC16-2291 (product name)", butyl acetate, and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed in a dispo cup at the following mixing ratio to prepare a hard coat coating solution (1a).

하드 코트 도공액(1a)의 배합Formulation of hard coat coating liquid (1a) PC16-2291PC16-2291 아세트산뷰틸butyl acetate MEKMEK 중량weight 6.25g 중of 6.25g 1.88g 중1.88g of 1.88g 중1.88g of

(하드 코트 필름(1A)의 제작)(Production of hard coat film (1A))

상기 하드 코트 도공액(1a)을 #5의 와이어 바를 사용하여 투명 기재 필름(2)의 코로나 처리한 면에 도포하고, 그 후 80℃의 온도에서 1.0분간에 걸쳐 건조시키고, 이어서 고압 수은 램프를 사용하여 광량 200mJ/cm2의 조건으로 자외선을 조사하여, 하드 코트 필름(1A)을 제작했다.The hard coat coating solution (1a) was applied to the corona-treated side of the transparent base film (2) using a #5 wire bar, and then dried at a temperature of 80°C for 1.0 minutes, followed by a high-pressure mercury lamp The ultraviolet-ray was irradiated on the conditions of 200 mJ/cm< 2 > of light quantity using, and the hard coat film 1A was produced.

(광학 조정층 도공액(1b)의 조제)(Preparation of optical adjustment layer coating liquid (1b))

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(1b)을 조정했다."AICAAITRON Z-816-3L (product name)" manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. (Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.) "CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following compounding ratio, and the optical adjustment layer coating liquid (1b) was adjusted.

광학 조정층 도공액(1b)의 배합Mixing of optical adjustment layer coating liquid (1b) Z-816-3LZ-816-3L MX-80H3wTMX-80H3wT MEKMEK 중량weight 1.78g 중1.78g in 0.20mg 중0.20mg out 8.22g 중of 8.22g

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1B)의 제작)(Preparation of hard coat film (1B) with optical adjustment layer)

하드 코트 필름(1A)의 하드 코트층(3)의 표면에 광학 조정층 도공액(1b)을 #3의 와이어 바를 사용하여 도포하고, 그 후 80℃의 온도에서 1.0분간에 걸쳐 건조시키고, 이어서 자외선을 투과하는 창이 상면에 설치된 용기 안에 필름을 넣어 3분간 용기 내를 질소 분위기화에 두었다. 그 후 고압 수은 램프를 사용하여 광량 200mJ/cm2의 조건으로 자외선을 조사하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1B)을 제작했다.The optical adjustment layer coating liquid 1b is applied to the surface of the hard coat layer 3 of the hard coat film 1A using a wire bar #3, and then dried at a temperature of 80° C. for 1.0 minutes, and then The film was placed in a container provided with a window that transmits ultraviolet rays on the upper surface, and the inside of the container was placed in a nitrogen atmosphere for 3 minutes. Then, ultraviolet-ray was irradiated on the conditions of 200 mJ/cm< 2 > of light quantity using the high-pressure mercury-vapor lamp, and the hard coat film 1B with an optical adjustment layer was produced.

<실시예 2><Example 2>

실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 도공액(2b)의 조제)(Preparation of optical adjustment layer coating liquid (2b))

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-40(제품명)」과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(2b)을 조정했다."AICAAITRON Z-816-3L (product name)" manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. (Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.) "CHEMISNOW MX-40 (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following compounding ratio, and the optical adjustment layer coating liquid (2b) was adjusted.

광학 조정층 도공액(2b)의 배합Blending of optical adjustment layer coating liquid (2b) Z-816-3LZ-816-3L MX-40MX-40 MEKMEK 중량weight 1.78g 중1.78g in 0.25mg 중0.25mg of 8.22g 중of 8.22g

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(2B)의 제작)(Preparation of hard coat film (2B) with optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(2b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(2B)을 제작했다.Using the optical adjustment layer coating liquid (2b), other than that, it carried out completely similarly to Example 1, and produced the hard coat film 2B with an optical adjustment layer.

<실시예 3><Example 3>

실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 도공액(3b)의 조제)(Preparation of optical adjustment layer coating liquid (3b))

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-150(제품명)」과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(3b)을 조정했다."AICAAITRON Z-816-3L (product name)" manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. (Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.) "CHEMISNOW MX-150 (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed in the following compounding ratio, and the optical adjustment layer coating liquid (3b) was adjusted.

광학 조정층 도공액(3b)의 배합Blending of optical adjustment layer coating liquid (3b) Z-816-3LZ-816-3L MX-150MX-150 MEKMEK 중량weight 1.78g 중1.78g in 0.32mg 중of 0.32mg 8.22g 중of 8.22g

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(3B)의 제작)(Preparation of hard coat film (3B) with optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(3b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(3B)을 제작했다.Except for using the optical adjustment layer coating liquid 3b, it carried out completely similarly to Example 1, and produced the hard coat film 3B with an optical adjustment layer.

<실시예 4><Example 4>

실시예 1의 하드 코트층(3)의 도공액을 변경하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 또한 하드 코트 필름의 하드 코트층(3)의 표면에 실시예 1과 동일한 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the hard-coat layer 3 of Example 1 was changed, and the hard-coat film was produced. Furthermore, the optical adjustment layer 4 similar to Example 1 was laminated|stacked on the surface of the hard-coat layer 3 of a hard-coat film, and the hard-coat film with an optical adjustment layer was produced.

(하드 코트 도공액(4a)의 조제)(Preparation of hard coat coating solution (4a))

디스포컵에 DIC 가부시키가이샤(DIC Corporation)제 하드 코트제 「PC16-2291(제품명)」과 「PC16-9081(제품명)」과 아세트산뷰틸과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(4a)을 조정했다.DIC Corporation hard coat products "PC16-2291 (product name)" and "PC16-9081 (product name)", butyl acetate and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed in the dispo cup in the following mixing ratio. , the hard coat coating solution (4a) was adjusted.

하드 코트 도공액(4a)의 배합Formulation of hard coat coating liquid (4a) PC16-2291PC16-2291 PC16-9081PC16-9081 아세트산뷰틸butyl acetate MEKMEK 중량weight 3.12g 중3.12g of 3.12g 중3.12g of 1.88g 중1.88g of 1.88g 중1.88g of

(하드 코트 필름(4A)의 제작)(Production of hard coat film (4A))

하드 코트 도공액(4a)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1의 하드 코트 필름(1A)의 제작과 완전히 동일하게 하여 하드 코트 필름(4A)을 제작했다.Using the hard coat coating liquid 4a, other than that, it carried out completely similarly to preparation of the hard coat film 1A of Example 1, and produced the hard coat film 4A.

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(4B)의 제작)(Production of hard coat film 4B with optical adjustment layer)

하드 코트 필름(4A)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(4B)을 제작했다.Using the hard coat film 4A, the optical adjustment layer 4 was laminated|stacked just like Example 1 other than that, and the hard coat film 4B with an optical adjustment layer was produced.

<실시예 5><Example 5>

실시예 4의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 4 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(5B)의 제작)(Preparation of the hard coat film 5B with an optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(2b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 4와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(5B)을 제작했다.The optical adjustment layer coating liquid 2b was used, and other than that, it carried out completely similarly to Example 4, and produced the hard coat film 5B with an optical adjustment layer.

<실시예 6><Example 6>

실시예 4의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 4 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(6B)의 제작)(Preparation of the hard coat film 6B with an optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(3b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 4와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(6B)을 제작했다.Except for using the optical adjustment layer coating liquid 3b, it carried out completely similarly to Example 4, and produced the hard coat film 6B with an optical adjustment layer.

<실시예 7><Example 7>

실시예 1의 하드 코트층(3)의 도공액을 변경하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 또한 하드 코트 필름의 하드 코트층(3)의 표면에 실시예 1과 동일한 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the hard-coat layer 3 of Example 1 was changed, and the hard-coat film was produced. Furthermore, the optical adjustment layer 4 similar to Example 1 was laminated|stacked on the surface of the hard-coat layer 3 of a hard-coat film, and the hard-coat film with an optical adjustment layer was produced.

(하드 코트 도공액(7a)의 조제)(Preparation of hard coat coating solution (7a))

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-739L(제품명)」과 도레·다우코닝 가부시키가이샤(Dow Corning Toray Co., Ltd.)제 「8019ADDITIVE(제품명)」와 메틸아이소뷰틸케톤(MIBK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(7a)을 조정했다."AICAAITRON Z-739L (product name)" manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. and Dow Corning Toray Co., Ltd. in the Dispo Cup. ) agent "8019ADDITIVE (product name)" and methyl isobutyl ketone (MIBK) were mixed in the following compounding ratio, and the hard coat coating liquid (7a) was adjusted.

하드 코트 도공액(7a)의 배합Formulation of hard coat coating liquid (7a) Z-739LZ-739L 8019ADDITIVE8019ADDITIVE MIBKMIBK 중량weight 10.36g 중of 10.36g 4.1mg 중out of 4.1mg 4.64g 중of 4.64g

(하드 코트 필름(7A)의 제작)(Production of hard coat film 7A)

하드 코트 도공액(7a)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1의 하드 코트 필름(1A)의 제작과 완전히 동일하게 하여 하드 코트 필름(7A)을 제작했다.Using the hard coat coating liquid 7a, other than that, it carried out completely similarly to preparation of the hard coat film 1A of Example 1, and produced the hard coat film 7A.

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(7B)의 제작)(Preparation of the hard coat film 7B with an optical adjustment layer)

하드 코트 필름(7A)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(7B)을 제작했다.Using the hard coat film 7A, the optical adjustment layer 4 was laminated|stacked like Example 1 completely otherwise, and the hard coat film 7B with an optical adjustment layer was produced.

<실시예 8><Example 8>

실시예 1의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1B)의 투명 기재 필름(2)의 면(타방의 면)에 실시예 1과 동일한 순서로 하드 코트층(3)과 광학 조정층(4)을 형성하여, 양면 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(8B)을 제작했다.On the surface (the other surface) of the transparent base film 2 of the hard coat film 1B with an optical adjustment layer of Example 1, the hard-coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 in the same procedure as Example 1 It formed and produced the hard coat film 8B with a double-sided optical adjustment layer.

<실시예 9><Example 9>

실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 도공액(9b)의 조제)(Preparation of optical adjustment layer coating liquid 9b)

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(9b)을 조정했다."AICAAITRON Z-816-3L (product name)" manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. (Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.) "CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following compounding ratio, and the optical adjustment layer coating liquid 9b was adjusted.

광학 조정층 도공액(9b)의 배합Mixing of optical adjustment layer coating liquid (9b) Z-816-3LZ-816-3L MX-80H3wTMX-80H3wT MEKMEK 중량weight 1.78g 중1.78g in 0.07mg 중of 0.07mg 8.22g 중of 8.22g

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(9B)의 제작)(Preparation of hard coat film 9B with optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(9b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(9B)을 제작했다.Except for using the optical adjustment layer coating liquid 9b, it carried out completely similarly to Example 1, and produced the hard coat film 9B with an optical adjustment layer.

<실시예 10><Example 10>

실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 도공액(10b)의 조제)(Preparation of optical adjustment layer coating liquid 10b)

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(10b)을 조정했다."AICAAITRON Z-816-3L (product name)" manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. (Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.) "CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following compounding ratio, and the optical adjustment layer coating liquid 10b was adjusted.

광학 조정층 도공액(10b)의 배합Blending of optical adjustment layer coating liquid (10b) Z-816-3LZ-816-3L MX-80H3wTMX-80H3wT MEKMEK 중량weight 1.78g 중1.78g in 0.44mg 중of 0.44mg 8.22g 중of 8.22g

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(10B)의 제작)(Preparation of the hard coat film 10B with an optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(10b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(10B)을 제작했다.Except for using the optical adjustment layer coating liquid 10b, it carried out completely similarly to Example 1, and produced the hard coat film 10B with an optical adjustment layer.

<실시예 11><Example 11>

실시예 1의 하드 코트층(3)의 도공액 및 와이어 바의 번수(番手)를 변경하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 또한 하드 코트 필름의 하드 코트층(3)의 표면에 실시예 1과 동일한 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the hard-coat layer 3 of Example 1, and the number of the wire bars were changed, and the hard-coat film was produced. Furthermore, the optical adjustment layer 4 similar to Example 1 was laminated|stacked on the surface of the hard-coat layer 3 of a hard-coat film, and the hard-coat film with an optical adjustment layer was produced.

(하드 코트 도공액(11a)의 조정)(Adjustment of the hard coat coating solution 11a)

디스포컵에 닛폰페인트·오토모티브코팅스 가부시키가이샤(Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd.)제 「UT-1147/P55(제품명)」와 아세트산뷰틸과 메틸아이소뷰틸케톤(MIBK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(11a)을 조정했다.In a dispo cup, "UT-1147/P55 (product name)" manufactured by Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd. and butyl acetate and methyl isobutyl ketone (MIBK) were mixed in the following mixing ratio. was mixed to prepare a hard coat coating solution (11a).

하드 코트 도공액(11a)의 배합Mixing of hard coat coating liquid (11a) UT-1147/P55UT-1147/P55 아세트산뷰틸butyl acetate MIBKMIBK 중량weight 9.00g 중of 9.00g 2.25mg 중2.25mg of 0.75g 중of 0.75g

(하드 코트 필름(11A)의 제작)(Production of hard coat film 11A)

하드 코트 도공액(11a)을 사용하고, 그 도공액의 도포에 #7의 와이어 바를 사용하며, 그 밖에는 실시예 1의 하드 코트 필름(1A)의 제작과 완전히 동일하게 하여 하드 코트 필름(11A)을 제작했다.The hard coat coating liquid 11a was used, the wire bar of #7 was used for application of the coating liquid, and otherwise, the hard coat film 11A was prepared in exactly the same manner as in the production of the hard coat film 1A of Example 1. has produced

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(11B)의 제작)(Preparation of hard coat film 11B with optical adjustment layer)

하드 코트 필름(11A)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 광학 조정층(4)을 적층하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(11B)을 제작했다.Using the hard coat film 11A, the optical adjustment layer 4 was laminated|stacked just like Example 1 other than that, and the hard coat film 11B with an optical adjustment layer was produced.

<실시예 12><Example 12>

실시예 1의 하드 코트층(3)의 도공액과 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the hard-coat layer 3 of Example 1, and the coating liquid of the optical adjustment layer 4 were changed, and the hard-coat film with an optical adjustment layer was produced.

(하드 코트 도공액(12a)의 조정)(Adjustment of hard coat coating solution 12a)

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-735-35L(제품명)」와, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM)를 다음의 배합비로 혼합하여, 하드 코트 도공액(12a)을 조정했다.In a dispo cup, "AICAAITRON Z-735-35L (product name)" manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. and propylene glycol monomethyl ether (PGM) were added to the following was mixed at a compounding ratio of to prepare a hard coat coating solution (12a).

하드 코트 도공액(12a)의 배합Formulation of hard coat coating liquid (12a) Z-735-35LZ-735-35L PGMPGM 중량weight 10.36g 중of 10.36g 4.64g 중of 4.64g

(하드 코트 필름(12A)의 제작)(Production of hard coat film 12A)

하드 코트 도공액(12a)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1의 하드 코트 필름(1A)의 제작과 완전히 동일하게 하여 하드 코트 필름(12A)을 제작했다.Using the hard coat coating liquid 12a, other than that, it carried out completely similarly to preparation of the hard coat film 1A of Example 1, and produced the hard coat film 12A.

(광학 조정층 도공액(12b)의 조정)(Adjustment of optical adjustment layer coating liquid 12b)

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L개(改)(제품명)」와, 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM)와, 빅케미·재팬 가부시키가이샤(BYK Japan KK)제 「BYK-UV3570(제품명)」을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(12b)을 조정했다."AICAAITRON Z-816-3L (product name)" made by Aica Kogyo Co., Ltd. and Soken Chemical in a dispo cup & Engineering Co., Ltd. "CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)" and propylene glycol monomethyl ether (PGM), manufactured by BYK Japan KK "BYK-UV3570 (product name)" was mixed by the following compounding ratio, and the optical adjustment layer coating liquid 12b was adjusted.

광학 조정층 도공액(12b)의 배합Mixing of optical adjustment layer coating liquid (12b) Z-816-3L개Z-816-3L pcs. MX-80H3wTMX-80H3wT PGMPGM BYK-UV3570BYK-UV3570 중량weight 1.78g 중1.78g in 0.44mg 중of 0.44mg 8.22g 중of 8.22g 9mg 중out of 9mg

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(12B)의 제작)(Production of hard coat film 12B with optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(12b)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(12B)을 제작했다.Except for using the optical adjustment layer coating liquid 12b, it carried out completely similarly to Example 1, and produced the hard coat film 12B with an optical adjustment layer.

<실시예 13><Example 13>

실시예 12의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 12 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 도공액(13b)의 조정)(Adjustment of optical adjustment layer coating liquid 13b)

디스포컵에 도요켐 가부시키가이샤(Toyochem Co., Ltd.)제 「리오듀라스(LIODURAS) TYZ-A15-S(제품명)」와, 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM)를 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(13b)을 조정했다.“LIODURAS TYZ-A15-S (product name)” manufactured by Toyochem Co., Ltd. and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Ltd.) "CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)" and propylene glycol monomethyl ether (PGM) were mixed at the following compounding ratio, and the optical adjustment layer coating liquid (13b) was adjusted.

광학 조정층 도공액(13b)의 배합Mixing of optical adjustment layer coating liquid (13b) TYZ-A15-STYZ-A15-S MX-80H3wTMX-80H3wT PGMPGM 중량weight 1.48g 중1.48g of 0.55mg 중of 0.55mg 8.22g 중of 8.22g

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(13B)의 제작)(Preparation of hard coat film 13B with optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(13b)을 사용한 것 외에는 실시예 12와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(13B)을 제작했다.Except having used the optical adjustment layer coating liquid 13b, it carried out completely similarly to Example 12, and produced the hard coat film 13B with an optical adjustment layer.

<실시예 14><Example 14>

실시예 13의 광학 조정층(4)의 건조 조건을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The drying conditions of the optical adjustment layer 4 of Example 13 were changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(14B)의 제작)(Preparation of hard coat film 14B with optical adjustment layer)

광학 조정층의 도공 후의 건조 온도를 100℃로 한 것 외에는 실시예 13과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(14B)을 제작했다.Except having made the drying temperature after coating of the optical adjustment layer into 100 degreeC, it carried out completely similarly to Example 13, and produced the hard coat film 14B with an optical adjustment layer.

<실시예 15><Example 15>

실시예 14의 광학 조정층(4)의 건조 조건을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The drying conditions of the optical adjustment layer 4 of Example 14 were changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(15B)의 제작)(Preparation of the hard coat film 15B with an optical adjustment layer)

광학 조정층의 도공 후의 건조 온도를 130℃로 한 것 외에는 실시예 14와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(15B)을 제작했다.Except having made the drying temperature after coating of the optical adjustment layer into 130 degreeC, it carried out completely similarly to Example 14, and produced the hard coat film 15B with an optical adjustment layer.

<실시예 16><Example 16>

실시예 15의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 15 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 도공액(16b)의 조정)(Adjustment of optical adjustment layer coating liquid 16b)

디스포컵에 도요켐 가부시키가이샤(Toyochem Co., Ltd.)제 「리오듀라스(LIODURAS) TYZ-A15-S(제품명)」와, 소켄카가쿠 가부시키가이샤(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.)제 「케미스노우(CHEMISNOW) MX-80H3wT(제품명)」와, 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGM)를 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(16b)을 조정했다."LIODURAS TYZ-A15-S (product name)" manufactured by Toyochem Co., Ltd. and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. Ltd.) "CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)" and propylene glycol monomethyl ether (PGM) were mixed in the following compounding ratio, and the optical adjustment layer coating liquid (16b) was adjusted.

광학 조정층 도공액(16b)의 배합Blending of optical adjustment layer coating liquid (16b) TYZ-A15-STYZ-A15-S MX-80H3wTMX-80H3wT PGMPGM 중량weight 1.48g 중1.48g of 0.20mg 중0.20mg out 8.22g 중of 8.22g

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(16B)의 제작)(Preparation of the hard coat film 16B with an optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(16b)을 사용한 것 외에는 실시예 15와 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(16B)을 제작했다.Except having used the optical adjustment layer coating liquid 16b, it carried out completely similarly to Example 15, and produced the hard coat film 16B with an optical adjustment layer.

<비교예 1><Comparative Example 1>

실시예 1의 광학 조정층(4)의 도공액을 변경하여, 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed, and the hard coat film with an optical adjustment layer was produced.

(광학 조정층 도공액(Xb)의 조제)(Preparation of optical adjustment layer coating liquid (Xb))

디스포컵에 아이카코교 가부시키가이샤(Aica Kogyo Co., Ltd.)제 「아이카아이트론(AICAAITRON) Z-816-3L(제품명)」과 메틸에틸케톤(MEK)을 다음의 배합비로 혼합하여, 광학 조정층 도공액(Xb)을 조정했다.Mix Aica Kogyo Co., Ltd. "AICAAITRON Z-816-3L (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) in the dispo cup at the following mixing ratio, The optical adjustment layer coating liquid (Xb) was adjusted.

광학 조정층 도공액(Xb)의 배합Blending of optical adjustment layer coating liquid (Xb) Z-816-3LZ-816-3L MEKMEK 중량weight 1.78g 중1.78g in 8.22g 중of 8.22g

(광학 조정층 부착 하드 코트 필름(XB)의 제작)(Preparation of hard coat film (XB) with optical adjustment layer)

광학 조정층 도공액(Xb)을 사용하고, 그 밖에는 실시예 1과 완전히 동일하게 하여 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(XB)을 제작했다.Except for using the optical adjustment layer coating liquid (Xb), it carried out completely similarly to Example 1, and produced the hard coat film (XB) with an optical adjustment layer.

<실시예 17><Example 17>

실시예 1의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(1B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(17)을 제작했다.The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 1B with an optical adjustment layer of Example 1, 21 nm sputtering vapor deposition was performed, and the transparent conductive film 17 was produced.

<실시예 18><Example 18>

실시예 2의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(2B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(18)을 제작했다.The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 2B with an optical adjustment layer of Example 2, 21 nm sputtering vapor deposition was performed, and the transparent conductive film 18 was produced.

<실시예 19><Example 19>

실시예 3의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(3B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(19)을 제작했다.The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 3B with an optical adjustment layer of Example 3, sputtering vapor deposition of 21 nm was performed, and the transparent conductive film 19 was produced.

<실시예 20><Example 20>

실시예 4의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(4B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(20)을 제작했다.The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 4B with an optical adjustment layer of Example 4, 21 nm sputtering vapor deposition was performed, and the transparent conductive film 20 was produced.

<실시예 21><Example 21>

실시예 5의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(5B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(21)을 제작했다.The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 5B with an optical adjustment layer of Example 5, 21 nm sputtering vapor deposition was performed, and the transparent conductive film 21 was produced.

<실시예 22><Example 22>

실시예 6의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(6B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 투명 도전성 필름(22)을 제작했다.The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 6B with an optical adjustment layer of Example 6, 21 nm sputtering vapor deposition was performed, and the transparent conductive film 22 was produced.

<실시예 23><Example 23>

실시예 13의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(13B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하고, 145℃의 오븐에서 1시간 어닐링(annealing)하여, 투명 도전성 필름(23)을 제작했다.Using an ITO target on the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 13B with an optical adjustment layer of Example 13, sputtering deposition of 21 nm was performed, annealing in an oven at 145° C. for 1 hour, and transparent A conductive film 23 was produced.

<실시예 24><Example 24>

실시예 14의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(14B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하고, 145℃의 오븐에서 1시간 어닐링(annealing)하여, 투명 도전성 필름(24)을 제작했다.Using an ITO target on the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 14B with an optical adjustment layer of Example 14, sputtering deposition of 21 nm is performed, annealing in an oven at 145° C. for 1 hour, and transparent A conductive film 24 was produced.

<실시예 25><Example 25>

실시예 15의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(15B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하고, 145℃의 오븐에서 1시간 어닐링(annealing)하여, 투명 도전성 필름(25)을 제작했다.Using an ITO target on the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 15B with an optical adjustment layer of Example 15, sputtering deposition of 21 nm is performed, annealing in an oven at 145° C. for 1 hour, and transparent A conductive film 25 was produced.

<실시예 26><Example 26>

실시예 16의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름(16B)의 광학 조정층(4)측에 ITO 타겟을 사용하고, 21nm의 스퍼터링 증착을 행하고, 145℃의 오븐에서 1시간 어닐링(annealing)하여, 투명 도전성 필름(26)을 제작했다.An ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film 16B with an optical adjustment layer of Example 16, sputtering deposition of 21 nm was performed, annealing in an oven at 145 degreeC for 1 hour, and transparent A conductive film 26 was produced.

<실시예 27><Example 27>

실시예 23의 투명 도전성 필름(23)의 ITO층측에 구리 타겟을 사용하고, 200nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 금속층 부착 투명 도전성 필름(27)을 제작했다.Using a copper target on the ITO layer side of the transparent conductive film 23 of Example 23, sputtering deposition at 200 nm was performed to prepare a transparent conductive film 27 with a metal layer.

<실시예 28><Example 28>

실시예 26의 투명 도전성 필름(26)의 ITO층측에 구리 타겟을 사용하고, 200nm의 스퍼터링 증착을 행하여, 금속층 부착 투명 도전성 필름(28)을 제작했다.Using a copper target on the ITO layer side of the transparent conductive film 26 of Example 26, sputtering deposition of 200 nm was performed, and the transparent conductive film 28 with a metal layer was produced.

<광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 평가 결과><Evaluation result of hard coat film with optical adjustment layer>

광학 조정층 부착 하드 코트 필름의 평가 결과를 다음의 표 15 및 표 16에 나타낸다.The evaluation result of the hard coat film with an optical adjustment layer is shown to following Table 15 and Table 16.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3 Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]
of the optical adjustment layer
Average film thickness d1 [nm]
120120 120120 120120 120120 120120 120120
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]
of particles containing an optical adjustment layer
Average particle size r1 [nm]
800800 400400 15001500 800800 400400 15001500
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]
of particles containing an optical adjustment layer
Number N [pcs/mm 2 ]
223223 931931 7575 211211 882882 9393
d1/r1d1/r1 0.150.15 0.30.3 0.080.08 0.150.15 0.30.3 0.080.08 하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]
hard coat layer
Average film thickness d2 [nm]
995995 980980 10521052 11111111 10021002 920920
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]
Hard coat layer-containing particles
Average particle size r2[nm]
250250 250250 250250 250250 250250 250250
d2/r2d2/r2 3.983.98 3.923.92 4.214.21 4.444.44 4.014.01 3.683.68 광학 조정층의 표면의
산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1
of the surface of the optical adjustment layer.
Arithmetic mean roughness Ra[nm] *1
4.554.55 5.255.25 4.804.80 7.897.89 8.208.20 7.807.80
Hz[%]Hz [%] 0.400.40 0.400.40 0.700.70 0.500.50 0.500.50 0.70 0.70 시인성visibility 정마찰 계수coefficient of static friction 0.400.40 0.400.40 0.410.41 0.380.38 0.390.39 0.380.38 내블로킹성blocking resistance 입자 탈락particle dropout 실시예 7Example 7 실시예 8Example 8 실시예 9Example 9 실시예 10Example 10 실시예 11Example 11 실시예 12Example 12 광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]
of the optical adjustment layer
Average film thickness d1 [nm]
120120 120120 120120 120120 120120 120120
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]
of particles containing an optical adjustment layer
Average particle size r1 [nm]
800800 800800 800800 800800 800800 800800
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]
of particles containing an optical adjustment layer
Number N [pcs/mm 2 ]
250250 198198 136136 405405 220220 306306
d1/r1d1/r1 0.150.15 0.150.15 0.150.15 0.150.15 0.150.15 0.150.15 하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]
hard coat layer
Average film thickness d2 [nm]
10441044 10201020 999999 976976 21122112 980980
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]
Hard coat layer-containing particles
Average particle size r2[nm]
120120 250250 250250 250250 -- 120120
d2/r2d2/r2 8.78.7 4.084.08 3.993.99 3.903.90 -- 8.178.17 광학 조정층의 표면의
산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1
of the surface of the optical adjustment layer.
Arithmetic mean roughness Ra[nm] *1
1.801.80 5.655.65 6.246.24 5.755.75 4.294.29 0.60.6
Hz[%]Hz [%] 0.400.40 1.301.30 0.350.35 1.201.20 1.001.00 0.900.90 시인성visibility 정마찰 계수coefficient of static friction 0.470.47 0.400.40 0.490.49 0.380.38 0.490.49 0.490.49 내블로킹성blocking resistance 입자 탈락particle dropout

주) *1 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기는 실시예에 있어서는 광학 조정층에 함유되는 입자에 의한 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다.Note) *1 The arithmetic mean roughness of the surface of the optical adjustment layer represents the arithmetic mean roughness in the range of 50 µm × 50 µm in a specific portion except for the convex portions by particles contained in the optical adjustment layer in Examples.

실시예 13Example 13 실시예 14Example 14 실시예 15Example 15 실시예 16Example 16 비교예 1Comparative Example 1 광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]
of the optical adjustment layer
Average film thickness d1 [nm]
9090 9090 9090 9090 120120
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]
of particles containing an optical adjustment layer
Average particle size r1 [nm]
800800 800800 800800 800800 --
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]
of particles containing an optical adjustment layer
Number N [pcs/mm 2 ]
530530 505505 520520 215215 00
d1/r1d1/r1 0.110.11 0.110.11 0.110.11 0.110.11 -- 하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]
hard coat layer
Average film thickness d2 [nm]
980980 980980 980980 980980 11011101
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]
Hard coat layer-containing particles
Average particle size r2[nm]
120120 120120 120120 120120 250250
d2/r2d2/r2 8.178.17 8.178.17 8.178.17 8.178.17 4.404.40 광학 조정층의 표면의
산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1
of the surface of the optical adjustment layer.
Arithmetic mean roughness Ra[nm] *1
1.321.32 1.351.35 1.411.41 1.321.32 1.561.56
광학 조정층의 표면의
곡부측 면적[μm2]
of the surface of the optical adjustment layer.
Area of curved side [μm 2 ]
143146143146 1010241024 3140531405 2012320123 --
Hz[%]Hz [%] 0.900.90 0.890.89 0.910.91 0.450.45 0.150.15 시인성visibility 정마찰 계수coefficient of static friction 0.430.43 0.410.41 0.430.43 0.600.60 1.211.21 내블로킹성blocking resistance ×× 입자 탈락particle dropout

주) *1 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기는 실시예에 있어서는 광학 조정층에 함유되는 입자에 의한 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다. 비교예에 있어서는 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다.Note) *1 The arithmetic mean roughness of the surface of the optical adjustment layer represents the arithmetic mean roughness in the range of 50 µm × 50 µm in a specific portion except for the convex portions by particles contained in the optical adjustment layer in Examples. In a comparative example, the arithmetic mean roughness of the range of 50 micrometers x 50 micrometers is shown.

표 15 및 표 16으로부터 명확한 바와 같이, 실시예 1~16에 있어서의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름은 광학 조정층(4)에 광학 조정층(4)의 평균 막두께보다 평균 입경이 큰 입자(4a)를 포함하고, 광학 조정층(4)의 특정 부분의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~10nm이며, Hz(헤이즈)가 낮고, 정마찰 계수가 1보다 낮으며, 입자 탈락도 없다. 이 광학 조정층 부착 하드 코트 필름은 시인성이 좋고, 광학 조정층의 표면에 투명 도전층을 설치한 경우에도 충분한 내블로킹성을 얻을 수 있다.As is clear from Table 15 and Table 16, the hard coat film with an optical adjustment layer in Examples 1-16 is particle|grains ( 4a) is included, and the arithmetic mean roughness Ra of the specific part of the optical adjustment layer 4 is 0.3 nm - 10 nm, Hz (haze) is low, the static friction coefficient is lower than 1, and there is no particle dropout. This hard coat film with an optical adjustment layer has good visibility and can acquire sufficient blocking resistance even when a transparent conductive layer is provided in the surface of an optical adjustment layer.

또 비교예 1의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름도 시인성이 양호하지만, 광학 조정층(4)에 입자를 첨가하고 있지 않고, 정마찰 계수가 1을 넘고 있다. 이 때문에 투명 도전층을 표면에 설치한 경우에는 충분한 내블로킹성이 얻어지지 않는다.Moreover, although visibility is favorable also in the hard coat film with an optical adjustment layer of the comparative example 1, particle|grains are not added to the optical adjustment layer 4, but the static friction coefficient is over 1. For this reason, when a transparent conductive layer is provided on the surface, sufficient blocking resistance is not acquired.

<투명 도전성 필름의 평가 결과><Evaluation result of transparent conductive film>

투명 도전성 필름의 평가 결과를 다음의 표 17 및 표 18에 나타낸다.The evaluation results of the transparent conductive film are shown in Tables 17 and 18 below.

실시예 17Example 17 실시예 18Example 18 실시예 19Example 19 실시예 20Example 20 실시예 21Example 21 실시예 22Example 22 광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]
of the optical adjustment layer
Average film thickness d1 [nm]
120120 120120 120120 120120 120120 120120
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]
of particles containing an optical adjustment layer
Average particle size r1 [nm]
800800 400400 15001500 800800 400400 15001500
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]
of particles containing an optical adjustment layer
Number N [pcs/mm 2 ]
215215 830830 7575 250250 10101010 8080
d1/r1d1/r1 0.150.15 0.30.3 0.080.08 0.150.15 0.30.3 0.080.08 하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]
hard coat layer
Average film thickness d2 [nm]
995995 980980 10521052 11111111 10021002 920920
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]
Hard coat layer-containing particles
Average particle size r2[nm]
250250 250250 250250 250250 250250 250250
d2/r2d2/r2 3.983.98 3.923.92 4.214.21 4.444.44 4.014.01 3.683.68 ITO 막두께[nm]ITO film thickness [nm] 2121 2121 2121 2121 2121 2121 Hz[%]Hz [%] 0.760.76 0.760.76 1.091.09 0.820.82 0.850.85 0.860.86 시인성visibility 정마찰 계수coefficient of static friction 0.480.48 0.360.36 0.510.51 0.410.41 0.450.45 0.420.42 내블로킹성blocking resistance

실시예 23Example 23 실시예 24Example 24 실시예 25Example 25 실시예 26Example 26 광학 조정층의
평균 막두께 d1[nm]
of the optical adjustment layer
Average film thickness d1 [nm]
9090 9090 9090 9090
광학 조정층 함유 입자의
평균 입경 r1[nm]
of particles containing an optical adjustment layer
Average particle size r1 [nm]
800800 800800 800800 800800
광학 조정층 함유 입자의
개수 N[개/mm2]
of particles containing an optical adjustment layer
Number N [pcs/mm 2 ]
530530 505505 520520 215215
d1/r1d1/r1 0.110.11 0.110.11 0.110.11 0.110.11 하드 코트층의
평균 막두께 d2[nm]
hard coat layer
Average film thickness d2 [nm]
980980 980980 980980 980980
하드 코트층 함유 입자의
평균 입경 r2[nm]
Hard coat layer-containing particles
Average particle size r2[nm]
120120 120120 120120 120120
d2/r2d2/r2 8.178.17 8.178.17 8.178.17 8.178.17 광학 조정층의 표면의
산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1
of the surface of the optical adjustment layer.
Arithmetic mean roughness Ra[nm] *1
1.321.32 1.351.35 1.411.41 1.321.32
광학 조정층의 표면의
곡부측 면적[μm2]
of the surface of the optical adjustment layer.
Area of curved side [μm 2 ]
143146143146 1010241024 3140531405 2012320123
ITO 막두께[nm]ITO film thickness [nm] 2121 2121 2121 2121 Hz[%]Hz [%] 1.201.20 1.191.19 1.251.25 0.800.80 전기 저항값[Ω/□]Electrical resistance [Ω/□] 149149 145145 141141 141141 시인성visibility 정마찰 계수coefficient of static friction 0.400.40 0.410.41 0.410.41 0.520.52 내블로킹성blocking resistance

주) *1 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기는 실시예에 있어서는 광학 조정층에 함유되는 입자에 의한 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다.Note) *1 The arithmetic mean roughness of the surface of the optical adjustment layer represents the arithmetic mean roughness in the range of 50 µm × 50 µm in a specific portion except for the convex portions by particles contained in the optical adjustment layer in Examples.

표 17 및 표 18에 있어서, 실시예 17~26에 있어서의 투명 도전성 필름은 실시예 1~6 및 실시예 13~16의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름을 사용하고 있지만, Hz(헤이즈)가 낮고, 정마찰 계수가 낮다. 이 투명 도전성 필름은 시인성이 좋고, 투명 도전층 부착에서도 충분한 내블로킹성을 가지고 있다. 또 실시예 23~26에 있어서의 투명 도전성 필름은 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적이 661780μm2당 200000μm2 이하이며, 전기 저항값도 낮다.In Table 17 and Table 18, although the hard coat film with an optical adjustment layer of Examples 1-6 and Examples 13-16 is used for the transparent conductive film in Examples 17-26, Hz (haze) is low, , the coefficient of static friction is low. This transparent conductive film has good visibility and has sufficient blocking resistance even when a transparent conductive layer is attached. Moreover, as for the transparent conductive film in Examples 23-26, the curved part side area of the surface of an optical adjustment layer is 200000 micrometers 2 or less per 661780 micrometers 2 , and electrical resistance value is also low.

<금속층 부착 투명 도전성 필름의 평가 결과><Evaluation result of transparent conductive film with metal layer>

금속층 부착 투명 도전성 필름의 평가 결과를 다음의 표 19에 나타낸다.The evaluation result of the transparent conductive film with a metal layer is shown in following Table 19.

실시예 27Example 27 실시예 28Example 28 광학 조정층의 평균 막두께 d1[nm]Average film thickness d1 [nm] of the optical adjustment layer 9090 9090 광학 조정층 함유 입자의 평균 입경 r1[nm]Average particle diameter r1 [nm] of particle|grains containing an optical adjustment layer 800800 800800 광학 조정층 함유 입자의 개수 N[개/mm2]Number of particles containing the optical adjustment layer N [pieces/mm 2 ] 530530 215215 d1/r1d1/r1 0.110.11 0.110.11 하드 코트층의 평균 막두께 d2[nm]Average film thickness d2 [nm] of hard coat layer 980980 980980 하드 코트층 함유 입자의 평균 입경 r2[nm]Average particle diameter r2 [nm] of hard-coat layer containing particle|grains 120120 120120 d2/r2d2/r2 8.178.17 8.178.17 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기 Ra[nm] *1Arithmetic mean roughness Ra [nm] *1 of the surface of the optical adjustment layer 1.321.32 1.321.32 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적[μm2]Area on the curved side of the surface of the optical adjustment layer [μm 2 ] 143146143146 2012320123 ITO 막두께[nm]ITO film thickness [nm] 2121 2121 구리 막두께[nm]Copper film thickness [nm] 200200 200200 정마찰 계수coefficient of static friction 0.320.32 0.380.38 내블로킹성blocking resistance

주) *1 광학 조정층의 표면의 산술 평균 거칠기는 실시예에 있어서는 광학 조정층에 함유되는 입자에 의한 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기를 나타낸다.Note) *1 The arithmetic mean roughness of the surface of the optical adjustment layer represents the arithmetic mean roughness in the range of 50 µm × 50 µm in a specific portion except for the convex portions by particles contained in the optical adjustment layer in Examples.

표 19에 있어서, 실시예 27~28에 있어서의 금속층 부착 투명 도전성 필름은 실시예 23 및 실시예 26의 투명 도전성 필름을 사용하고 있지만, 전극이 되는 금속층을 부착해도 충분한 내블로킹성을 가지고 있다.In Table 19, although the transparent conductive films of Examples 23 and 26 are used for the transparent conductive film with a metal layer in Examples 27-28, even if it attaches the metal layer used as an electrode, it has sufficient blocking resistance.

<평가 방법><Evaluation method>

(Hz)(Hz)

닛폰덴쇼쿠코교 가부시키가이샤(Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.)제 「Haze Meter NDH2000(제품명)」을 사용하여, JIS-K7136의 방법으로 측정했다.It measured by the method of JIS-K7136 using "Haze Meter NDH2000 (product name)" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

(시인성)(Visibility)

삼파장 형광등의 투과광을 육안으로 관찰하고, 입자가 거의 보이지 않는 경우를 ○로 하고, 입자를 육안으로 확인할 수 있지만 하나하나의 입자가 확실하게 보이지 않는 경우를 △로 하고, 하나하나의 입자가 확실하게 보이는 경우를 ×로 했다.When the transmitted light of a three-wavelength fluorescent lamp is observed with the naked eye, the case where the particles are hardly visible is denoted as ○, and the case where the particles can be visually confirmed but each particle is not clearly visible is denoted by Δ, and each particle is The visible case was made into X.

(내블로킹성)(blocking resistance)

가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼(Shimadzu Corporation)제 「오토그래프(AUTOGRAPH) AG-IS MS(AG-1kNIS)(제품명)」을 사용하여, 마찰 방향 60mm×50mm의 면적에 4.4kg 중의 수직 하중을 가하여 시료의 측정면끼리의 정마찰 계수를 측정했다. 정마찰 계수가 1 이상인 경우를 ×로 하고, 1 미만인 경우를 ○로 했다.Using "AUTOGRAPH AG-IS MS (AG-1kNIS)" (product name) manufactured by Shimadzu Corporation, a vertical load of 4.4 kg was applied to an area of 60 mm x 50 mm in the friction direction. The coefficient of static friction between the measurement surfaces of the sample was measured. The case where the static friction coefficient was 1 or more was made into x, and the case where it was less than 1 was made into (circle).

(입자 탈락)(Particle dropout)

테스터산교 가부시키가이샤(Tester Sangyo Co., Ltd.)제 「AB-301 COLOR FASTNESS RUBBING TESTER(제품명)」을 사용하여, 플란넬(16호 쌍사 플란넬 WKF2254)을 500g의 하중으로 500 왕복 광학 조정층의 면을 문지르고, 그 후 표면을 가부시키가이샤 기엔스(Keyence Corporation)제 「마이크로스코프(Microscope) VHX-1000(제품명)」을 사용하여 입자(4a)의 탈락이 없는지 확인했다. 입자(4a)의 탈락이 없는 것을 ○로 하고, 입자(4a)의 탈락이 있는 것을 ×로 했다.Using "AB-301 COLOR FASTNESS RUBBING TESTER (product name)" manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd., flannel (No. 16 twin yarn flannel WKF2254) was applied to 500 reciprocating optical adjustment layers under a load of 500 g. The surface was rubbed, and after that, it was confirmed whether the particle|grains 4a did not fall off using "Microscope VHX-1000 (product name)" manufactured by Keyence Corporation on the surface. The thing without drop-off|omission of the particle|grains 4a was made into (circle), and the thing with drop-off|omission of the particle|grain 4a was made into x.

(하드 코트층의 평균 막두께)(average thickness of hard coat layer)

하드 코트층(3)의 평균 막두께는 필메트릭스(Filmetrics) 가부시키가이샤제 「Filmetrics F20 막두께 측정 시스템(제품명)」을 사용하여 측정했다.The average film thickness of the hard-coat layer 3 was measured using "Filmetrics F20 film thickness measurement system (product name)" made by Filmetrics Corporation.

(광학 조정층의 평균 막두께)(Average film thickness of optical adjustment layer)

광학 조정층(4)의 막두께는 이하의 순서로 측정했다.The film thickness of the optical adjustment layer 4 was measured in the following procedure.

(1) 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼(Shimadzu Corporation)제 「UV3600(제품명)」을 사용하고, 파장 380~800nm에 있어서의 반사율을 측정하여 파형을 얻는다.(1) Using "UV3600 (product name)" by Shimadzu Corporation, the reflectance in wavelength 380-800 nm is measured, and a waveform is obtained.

(2) 광학 시뮬레이션 소프트에, 광학 조정층(4)의 막두께 이외의 적층막의 정보 [구성, 투명 기재 필름(2)의 굴절률(1.52로 했다)과 두께, 하드 코트층(3)의 굴절률(1.50으로 했다)과 평균 막두께(상기한 하드 코트층(3)의 평균 막두께의 측정값), 광학 조정층의 굴절률(실시예 13~16은 1.60으로 했다. 그 밖의 실시예는 1.62로 했다)]를 넣는다.(2) information on the laminated film other than the film thickness of the optical adjustment layer 4 in the optical simulation software [configuration, refractive index (1.52) of the transparent base film 2) and thickness, 1.50), the average film thickness (measured value of the average film thickness of the hard coat layer 3 described above), and the refractive index of the optical adjustment layer (Examples 13-16 were set to 1.60. Other examples were set to 1.62) )] is inserted.

(3) 광학 시뮬레이션의 광학 조정층에 임의의 막두께를 입력하여 얻어진 파형과, (1)에서 얻어진 파형이 일치했을 때의 막두께값을 광학 조정층의 평균 막두께로 한다.(3) Let the film thickness value when the waveform obtained by inputting arbitrary film thicknesses into the optical adjustment layer of optical simulation match with the waveform obtained in (1) be the average film thickness of an optical adjustment layer.

즉, 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼(Shimadzu Corporation)제 「UV3600(제품명)」을 사용하여 간섭 파형을 얻은 후, 측정한 간섭 파형과 시뮬레이션에 의한 계산 파형이 일치하는 막두께값을 광학 조정층의 평균 막두께로 했다.That is, after obtaining an interference waveform using "UV3600 (product name)" manufactured by Shimadzu Corporation, the film thickness value at which the measured interference waveform and the calculated waveform by simulation coincide with the value of the optical adjustment layer It was set as the average film thickness.

(하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입경)(Average particle diameter of the particles contained in the hard coat layer)

국제표준화기구규격 ISO 13320을 기초로 하는 일본공업규격 JIS Z8825에 따른 레이저 회절·산란법에 의해 얻어지는 체적 기준의 입자 직경 분포의 산술 평균값을 입자의 평균 입경으로 했다.The arithmetic mean value of the volume-based particle diameter distribution obtained by the laser diffraction/scattering method according to the Japanese industrial standard JIS Z8825 based on the international standardization organization standard ISO 13320 was taken as the average particle diameter of the particles.

(광학 조정층에 함유되는 입자의 평균 입경)(Average particle diameter of particles contained in the optical adjustment layer)

국제표준화기구규격 ISO 13320을 기초로 하는 일본공업규격 JIS Z8825에 따른 레이저 회절·산란법에 의해 얻어지는 체적 기준의 입자 직경 분포의 산술 평균값을 입자의 평균 입경으로 했다.The arithmetic mean value of the volume-based particle diameter distribution obtained by the laser diffraction/scattering method according to the Japanese industrial standard JIS Z8825 based on the international standardization organization standard ISO 13320 was taken as the average particle diameter of the particles.

(광학 조정층의 특정 부분의 산술 평균 거칠기 Ra)(arithmetic mean roughness Ra of a specific part of the optical adjustment layer)

미츠비시케미컬시스템 가부시키가이샤(Mitsubishi Chemical Systems, Inc.)(구 사명 : 가부시키가이샤 료카시스템(Ryoka Systems Inc.))제 「비접촉 표면·층단면 형상 계측 시스템 VertScan 2.0(형식 : R5300GL-L-A100-AC)(제품명)」을 사용하여 50mm×50mm로 잘라낸 샘플을 스테이지에 두고, 10배 렌즈로 표면 형상의 측정을 행했다. 그 후, 측정 데이터를 관찰하여, 광학 조정층(4)에 포함되는 입자(4a)에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서 50μm×50μm의 범위의 산술 평균 거칠기 Ra를 산출했다.Mitsubishi Chemical Systems, Inc. (former name: Ryoka Systems Inc.) “Non-contact surface/layer cross-section shape measurement system VertScan 2.0 (model: R5300GL-L-A100)” -AC) (product name)", the sample cut out to 50 mm x 50 mm was placed on the stage, and the surface shape was measured with a 10x lens. Then, the measurement data was observed and the arithmetic mean roughness Ra of the range of 50 micrometers x 50 micrometers was computed in the specific part except the convex part formed by the particle|grains 4a contained in the optical adjustment layer 4.

(광학 조정층 함유 입자의 개수 N)(Number of particles containing the optical adjustment layer)

미츠비시케미컬시스템 가부시키가이샤(Mitsubishi Chemical Systems, Inc.)(구 사명 : 가부시키가이샤 료카시스템(Ryoka Systems Inc.))제 「비접촉 표면·층단면 형상 계측 시스템 VertScan 2.0(형식 : R5300GL-L-A100-AC(제품명))을 사용하여, 50mm×50mm로 잘라낸 샘플을 스테이지에 두고, 10배 렌즈로 표면 형상의 측정을 행했다. 그 후, 측정 데이터의 입자 해석을 실행하여 1mm×1mm에 있어서의 광학 조정층(4)의 표면으로부터 50nm 이상의 높이가 있는 입자 개수를 세었다.Mitsubishi Chemical Systems, Inc. (former name: Ryoka Systems Inc.) “Non-contact surface/layer cross-section shape measurement system VertScan 2.0 (model: R5300GL-L-A100)” Using -AC (product name)), the sample cut out to 50 mm x 50 mm was placed on the stage, and the surface shape was measured with a 10x lens. Then, particle analysis of the measurement data was performed, and the number of particles with a height of 50 nm or more was counted from the surface of the optical adjustment layer 4 in 1 mm x 1 mm.

(광학 조정층의 표면의 곡부측 면적)(Area on the curved side of the surface of the optical adjustment layer)

미츠비시케미컬시스템 가부시키가이샤(Mitsubishi Chemical Systems, Inc.)(구 사명 : 가부시키가이샤 료카시스템(Ryoka Systems Inc.))제 「비접촉 표면·층단면 형상 계측 시스템 VertScan 2.0(형식 : R5300GL-L-A100-AC(제품명))」을 사용하여, 50mm×50mm로 잘라낸 샘플을 스테이지에 두고, 5배 렌즈로 표면 형상의 측정을 행했다. 그 후, 측정 데이터의 베어링 해석을 실행하여, 입자(4a)가 존재하고 있지 않은 부분의 광학 조정층(4)의 평균 높이로부터 3nm 이상 곡부측인 면적(광학 조정층의 표면의 곡부측 면적)을 661780μm2당의 값으로 산출했다.Mitsubishi Chemical Systems, Inc. (former name: Ryoka Systems Inc.) “Non-contact surface/layer cross-section shape measurement system VertScan 2.0 (model: R5300GL-L-A100)” -AC (product name))", the sample cut out to 50 mm x 50 mm was placed on the stage, and the surface shape was measured with a 5x lens. Thereafter, bearing analysis of the measurement data is performed, and the area on the curved side by 3 nm or more from the average height of the optical adjustment layer 4 in the portion where the particles 4a do not exist (the surface of the optical adjustment layer on the curved side area) was calculated as a value per 661780 µm 2 .

(투명 도전성 필름의 전기 저항값)(Electrical resistance value of transparent conductive film)

가부시키가이샤 미츠비시케미컬애널리테크(Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.)(구 사명 : 가부시키가이샤 미츠비시카가쿠애널리테크)제 「Loresta-GP(형식 : MCP-T610)(제품명)」을 사용하여 측정했다."Loresta-GP (model: MCP-T610) (product name)" manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. (formerly known as Mitsubishi Chemical Analytech) is used. was measured.

(산업상 이용 가능성)(Industrial Applicability)

이상에 나타내는 광학 조정층 부착 하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름은 정전용량식의 터치패널 등에 적합하게 사용된다.The hard coat film and transparent conductive film with an optical adjustment layer shown above are used suitably for a capacitive touchscreen etc.

1…광학 조정층 부착 하드 코트 필름
2…투명 기재 필름
3…하드 코트층
3a…입자
4…광학 조정층
4a…입자
6…보호 필름
One… Hard coat film with optical adjustment layer
2… transparent base film
3… hard coat layer
3a… particle
4… optical adjustment layer
4a… particle
6… protective film

Claims (10)

비정성 폴리머로 이루어지는 투명 기재 필름과, 그 투명 기재 필름의 적어도 일방의 면에 적층된 하드 코트층 및 그 하드 코트층 위에 적층된 광학 조정층을 구비하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름으로서,
상기 광학 조정층에는 그 광학 조정층의 표면에 볼록부를 형성하는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 상기 광학 조정층의 평균 막두께보다 크며, 그 평균 입경 r1과 그 평균 막두께 d1이
50nm≤(r1-d1)≤1900nm
의 관계에 있으며, 또
상기 광학 조정층의 표면의, 상기 입자에 의해 형성되는 볼록부를 제외한 특정 부분에 있어서의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.3nm~20nm의 범위에 있고, 또한
상기 광학 조정층에 함유되는 상기 입자의 평균 입경 r1은 100nm~2000nm의 범위에 있는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
A hard coat with an optical adjustment layer for a transparent conductive film comprising a transparent base film made of an amorphous polymer, a hard coat layer laminated on at least one surface of the transparent base film, and an optical adjustment layer laminated on the hard coat layer As a film,
The optical adjustment layer contains a plurality of particles forming convex portions on the surface of the optical adjustment layer, the average particle diameter of these particles is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer, the average particle diameter r1 and the average film thickness d1 this
50nm≤(r1-d1)≤1900nm
is in the relationship of
Arithmetic mean roughness Ra in a specific part of the surface of the said optical adjustment layer except the convex part formed by the said particle|grains exists in the range of 0.3 nm - 20 nm, and
The hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films in which average particle diameter r1 of the said particle|grains contained in the said optical adjustment layer exists in the range of 100 nm - 2000 nm.
제 1 항에 있어서, 상기 광학 조정층에 함유되는 상기 입자의 평균 입경 r1(nm)과 그 입자의 개수 N(개/mm2)이
199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)
의 관계에 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
The method according to claim 1, wherein the average particle diameter r1 (nm) of the particles contained in the optical adjustment layer and the number N (pieces/mm 2 ) of the particles are
199.03exp(-0.002r1)≤N≤3676.4exp(-0.002r1)
The hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films characterized by the above-mentioned relationship.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 광학 조정층의 평균 막두께 d1과, 그 광학 조정층에 함유되는 상기 입자의 평균 입경 r1이
(d1/r1)<0.5
의 관계에 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
The average film thickness d1 of the said optical adjustment layer, and the average particle diameter r1 of the said particle|grains contained in this optical adjustment layer according to Claim 1 or 2
(d1/r1)<0.5
The hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films characterized by the above-mentioned relationship.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 하드 코트층에는 복수의 입자가 함유되고, 그들 입자의 평균 입경은 상기 하드 코트층의 평균 막두께보다 작으며, 그들 입자는 상기 하드 코트층의 표면에 편재하고 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.3. The hard coat layer according to claim 1 or 2, wherein the hard coat layer contains a plurality of particles, the average particle diameter of the particles is smaller than the average film thickness of the hard coat layer, and the particles are deposited on the surface of the hard coat layer. It is unevenly distributed, The hard coat film with optical adjustment layer for transparent conductive films characterized by the above-mentioned. 제 4 항에 있어서, 상기 하드 코트층의 평균 막두께 d2와, 그 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입경 r2가
(d2/r2)>2
의 관계에 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.
The average film thickness d2 of the said hard-coat layer and the average particle diameter r2 of the particle|grains contained in the said hard-coat layer according to claim 4,
(d2/r2)>2
The hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films characterized by the above-mentioned relationship.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 광학 조정층의 표면의 곡부측 면적이 661780μm2당 200000μm2 이하인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.The curved part side area of the surface of the said optical adjustment layer is 200000 micrometers 2 or less per 661780 micrometers 2 The hard coat film with optical adjustment layers for transparent conductive films of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 하드 코트층 및 상기 광학 조정층은 상기 투명 기재 필름의 일방의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름의 타방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.The said hard-coat layer and the said optical adjustment layer are provided in one surface of the said transparent base film, and a protective film is pasted together so that an outermost layer may be formed in the other surface side of this transparent base film. A hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films, characterized in that. 제 7 항에 있어서, 상기 투명 기재 필름의 타방의 면에 하드 코트층이 설치되고, 그 하드 코트층의 표면에 상기 보호 필름이 첩합되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.The hard coat layer is provided on the other surface of the said transparent base film, and the said protective film is pasted together on the surface of the hard coat layer, The hard-coat with optical adjustment layer for transparent conductive films of Claim 7 characterized by the above-mentioned. coat film. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 하드 코트층 및 상기 광학 조정층은 상기 투명 기재 필름의 양쪽의 면에 설치되고, 그 투명 기재 필름의 어느 일방의 면측에 최외층을 형성하도록 보호 필름이 첩합되어 있는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름용의 광학 조정층 부착 하드 코트 필름.The protective film according to claim 1 or 2, wherein the hard coat layer and the optical adjustment layer are provided on both sides of the transparent base film, and an outermost layer is formed on either side of the transparent base film. It is pasted together, The hard coat film with optical adjustment layer for transparent conductive films characterized by the above-mentioned. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광학 조정층 부착 하드 코트 필름에 있어서의 광학 조정층의 표면에 투명 도전층이 형성되어 이루어지는 투명 도전성 필름.The transparent conductive film in which the transparent conductive layer is formed in the surface of the optical adjustment layer in the hard coat film with an optical adjustment layer of Claim 1 or 2.
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