JPWO2019012733A1 - Hard coat film with optical adjustment layer for transparent conductive film, and transparent conductive film - Google Patents

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Abstract

透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、十分な耐ブロッキング性を得ることができ、かつ、視認性の低下を抑えることができる、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムを提供する。光学調整層付きハードコートフィルムは、非晶性ポリマーからなる透明基材フィルムと、その透明基材フィルムの一方の面に順に積層されたハードコート層およびその上の光学調整層とを備える。光学調整層には、複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、光学調整層の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径r1と平均膜厚d1とが、50nm≦(r1−d1)≦1900nmの関係にある。光学調整層の表面の、粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さRaは、0.3nm〜20nmの範囲にある。Even in a transparent conductive film provided with a transparent conductive layer, a hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film which can obtain sufficient blocking resistance and can suppress a decrease in visibility. I will provide a. The hard coat film with an optical adjustment layer comprises a transparent substrate film made of an amorphous polymer, a hard coat layer sequentially laminated on one side of the transparent substrate film, and an optical adjustment layer thereon. The optical adjustment layer contains a plurality of particles, and the average particle diameter of the particles is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer, and the average particle diameter r1 and the average film thickness d1 are 50 nm ≦ (r1− d1) ≦ 1900 nm. Arithmetic mean roughness Ra in the specific part of the surface of the optical adjustment layer excluding the convex part formed by the particles is in the range of 0.3 nm to 20 nm.

Description

この発明は、透明なフィルムを基材として用いる透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、および透明導電性フィルムに関するものである。   The present invention relates to a hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film using a transparent film as a substrate, and a transparent conductive film.

従来、例えばスマートフォンやタブレット端末などのように、表示画面に触れることで情報を入力できる装置として、静電容量式等のタッチパネルが広く用いられていた。ここで、タッチパネル用の透明導電性フィルムとしては、基材フィルム上に、透明導電層として、酸化インジウム錫(ITO:Indium Tin Oxide)を、蒸着やスパッタリング等の工法により積層したものが一般的であった(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, a touch panel such as a capacitive type has been widely used as a device that can input information by touching a display screen, such as a smartphone or a tablet terminal. Here, as a transparent conductive film for a touch panel, one in which indium tin oxide (ITO) is laminated as a transparent conductive layer on a substrate film by a method such as vapor deposition or sputtering is generally used. (See, for example, Patent Document 1).

そして、透明導電性フィルムの基材としては、複屈折が大きい結晶性ポリマーフィルムである、ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いていたが、例えばサングラス越しにモバイル端末を操作するような場合にあっては、偏光サングラスの使用により干渉縞(uneven interference)が発生する問題があることから、複屈折が小さい非晶性ポリマーフィルムを基材として用いることが提案された。   And although the polyethylene terephthalate film which is a crystalline polymer film with large birefringence was used as a substrate of a transparent conductive film, for example, when operating a mobile terminal through sunglasses, it is polarized. Due to the problem of the occurrence of uneven interference due to the use of sunglasses, it has been proposed to use an amorphous polymer film with low birefringence as a substrate.

しかし、非晶性ポリマーフィルムを基材とした透明導電性フィルムにより、上記の干渉縞の発生は解消されたが、非晶性ポリマーフィルムは、結晶性ポリマーフィルムと比べ、フィルムの表面に傷が生じ易いという欠点があった。また、非晶性ポリマーフィルムは、結晶性ポリマーフィルムと比べ、割れ易いという欠点もあるため、フィルムの搬送時に、搬送ロールなどの平滑面と密着することでしわとなり割れてしまう問題があった。そこで、非晶性ポリマーフィルムの片面あるいは両面にハードコート層を設けた、透明導電性フィルム用のハードコートフィルムが考えられた。しかし、この場合、ハードコートフィルムをロール状に巻き取ると、重なり合うハードコートフィルムの基材の裏面とハードコート層、あるいはハードコート層同士が密着してしまうブロッキングの問題があった。そこで、非晶性ポリマーフィルム上に1〜5μmの粒子を含むハードコート層を設け、ハードコート層およびその上のITO層(透明導電層)等の表面に凹凸を形成させ、耐ブロッキング性(anti−blocking)を改良することが提案された(例えば、特許文献2、3参照)。   However, although the generation of the above-mentioned interference fringes was eliminated by the transparent conductive film based on the amorphous polymer film, the amorphous polymer film has a scratch on the surface of the film as compared with the crystalline polymer film. There is a drawback that it is easy to occur. In addition, the amorphous polymer film has a defect that it is more easily cracked than the crystalline polymer film, and therefore, there is a problem that the film adheres to a smooth surface such as a transport roll at the time of transport of the film, resulting in wrinkles and cracking. Then, the hard coat film for transparent conductive films which provided the hard coat layer in one side or both sides of an amorphous polymer film was considered. However, in this case, when the hard coat film is wound into a roll, there is a blocking problem in which the back face of the base of the overlapping hard coat film and the hard coat layer or the hard coat layers adhere to each other. Therefore, a hard coat layer containing particles of 1 to 5 μm is provided on the non-crystalline polymer film, and irregularities are formed on the surface of the hard coat layer and the ITO layer (transparent conductive layer) thereon and the like. It has been proposed to improve -blocking) (see, for example, Patent Documents 2 and 3).

特開平7−68690号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-68690 特開2013−107349号公報JP, 2013-107349, A 特開2013−243115号公報JP, 2013-243115, A

しかし、ITO層(透明導電層)等の表面に凹凸が形成されるように、基材となる非晶性ポリマーフィルム上に、1〜5μmサイズの粒子を含むハードコート層を設けた場合、ハードコート層やその上のITO層(透明導電層)等の厚みによっては、粒子サイズが1〜2μmでは耐ブロッキング性が不足する虞があり、粒子サイズが2μmより大きいと視認性が低下する虞があった。   However, when a hard coat layer containing particles of 1 to 5 μm in size is provided on the non-crystalline polymer film as a base so that unevenness is formed on the surface of the ITO layer (transparent conductive layer) etc. Depending on the thickness of the coated layer, the ITO layer (transparent conductive layer) on the coated layer, etc., the blocking resistance may be insufficient at particle sizes of 1 to 2 μm, and the visibility may be reduced if the particle size is larger than 2 μm. there were.

この発明は、蒸着やスパッタリング法等により透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、十分な耐ブロッキング性を得ることができ、かつ、視認性の低下を抑えることができる、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、およびその光学調整層付きハードコートフィルムを用いた透明導電性フィルムを提供することにある。   The present invention can obtain sufficient blocking resistance even in a transparent conductive film provided with a transparent conductive layer by vapor deposition, sputtering method or the like, and can suppress a decrease in visibility. An object of the present invention is to provide a hard coat film with an optical adjustment layer for a film, and a transparent conductive film using the hard coat film with the optical adjustment layer.

この発明に係る透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、および透明導電性フィルムは、前記目的を達成するために、次の構成からなる。すなわち、
この発明に係る透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムは、非晶性ポリマーからなる透明基材フィルムと、その透明基材フィルムの少なくとも一方の面に順に積層されたハードコート層およびその上の光学調整層とを備える。ここで、前記光学調整層には、複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記光学調整層の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径r1と、その平均膜厚d1とが、
50nm≦(r1−d1)≦1900nm
の関係にある。そして、前記光学調整層の表面の、前記粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さRaが、0.3nm〜20nmの範囲にある。ここで、光学調整層が複数層(高屈折率層+低屈折率層)からなる場合は、平均粒径r1は、入れた粒子(平均膜厚d1より平均粒径が大きい粒子)全体の平均粒径であるが、平均膜厚d1は、両方の層に粒子を入れたときと、高屈折率層のみに粒子を入れたときは、全体の平均膜厚であり、低屈折率層のみに粒子を入れたときは、低屈折率層の平均膜厚である(以下、同じ)。
The hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film according to the present invention, and the transparent conductive film have the following constitution in order to achieve the above object. That is,
A hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film according to the present invention comprises a transparent base film made of an amorphous polymer, a hard coat layer sequentially laminated on at least one surface of the transparent base film, And an optical adjustment layer thereon. Here, the optical adjustment layer contains a plurality of particles, and the average particle diameter of the particles is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer, and the average particle diameter r1 and the average film thickness d1 But,
50 nm ≦ (r1−d1) ≦ 1900 nm
In a relationship of And arithmetic mean roughness Ra in the specific part except the convex part formed of the said particle | grains of the surface of the said optical adjustment layer exists in the range of 0.3 nm-20 nm. Here, when the optical adjustment layer is composed of a plurality of layers (high refractive index layer + low refractive index layer), the average particle diameter r1 is the average of the entire particles (particles having an average particle diameter larger than the average film thickness d1). Although the particle diameter is used, the average film thickness d1 is the average film thickness of the whole when particles are put in both layers and when particles are put only in the high refractive index layer, and only in the low refractive index layer When particles are added, it is the average film thickness of the low refractive index layer (hereinafter the same).

この透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムによると、ハードコート層上に積層された光学調整層には、複数の粒子が含有されている。そして、その光学調整層に含有される粒子の平均粒径r1が、光学調整層の平均膜厚d1よりも大きく、その差が50nm〜1900nmの範囲にある。また、光学調整層の表面の、粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さRaが、0.3nm〜20nmとなっている。こうして、光学調整層に含有される粒子の平均粒径と光学調整層の平均膜厚との差を50nm以上とし、光学調整層の表面の前記特定部分における算術平均粗さRaを0.3nm以上とすることで、その後に光学調整層上に蒸着やスパッタリング法等により透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、十分な耐ブロッキング性を得ることができる。また、光学調整層に含有される粒子の平均粒径と光学調整層の平均膜厚との差を1900nm以下とし、光学調整層の表面の前記特定部分における算術平均粗さRaを20nm以下とすることで、その後の透明導電性フィルムにおいても、視認性の低下を抑えることができる。   According to the hard coat film with an optical adjustment layer for this transparent conductive film, a plurality of particles are contained in the optical adjustment layer laminated on the hard coat layer. And the average particle diameter r1 of the particle | grains contained in the optical adjustment layer is larger than the average film thickness d1 of an optical adjustment layer, and the difference exists in the range of 50 nm-1900 nm. Moreover, arithmetic mean roughness Ra in the specific part except the convex part formed of particle | grains of the surface of an optical adjusting layer is 0.3 nm-20 nm. Thus, the difference between the average particle diameter of the particles contained in the optical adjustment layer and the average film thickness of the optical adjustment layer is 50 nm or more, and the arithmetic average roughness Ra at the specific part of the surface of the optical adjustment layer is 0.3 nm or more By setting it, sufficient blocking resistance can be acquired also in the transparent conductive film in which the transparent conductive layer was provided in the optical adjustment layer by vapor deposition, sputtering method, etc. after that. In addition, the difference between the average particle diameter of the particles contained in the optical adjustment layer and the average film thickness of the optical adjustment layer is 1900 nm or less, and the arithmetic average roughness Ra in the specific part of the surface of the optical adjustment layer is 20 nm or less Thus, the decrease in visibility can be suppressed also in the subsequent transparent conductive film.

また、前記光学調整層に含有される粒子の平均粒径r1は、100nm〜2000nmの範囲にあり、その平均粒径r1(nm)と、その粒子の個数N(個/mm2)とが、
199.03exp(−0.002r1)≦N≦3676.4exp(−0.002r1)
の関係にある。ここで、粒子の個数Nとは、光学調整層の表面(光学調整層が複数層ある場合には、その最表面)から50nm以上の高さのある粒子の個数をいう(以下、同じ)。
The average particle diameter r1 of the particles contained in the optical adjustment layer is in the range of 100 nm to 2000 nm, and the average particle diameter r1 (nm) and the number N of the particles (pieces / mm 2 ) are
199.03 exp (-0.002 r1) N N 367 3676.4 exp (-0.002 r1)
In a relationship of Here, the number N of particles refers to the number of particles having a height of 50 nm or more from the surface of the optical adjustment layer (the outermost surface when there are a plurality of optical adjustment layers) (hereinafter the same).

また、前記光学調整層の平均膜厚d1と、その光学調整層に含有される粒子の平均粒径r1とが、
(d1/r1)<0.5
の関係にある。
Further, an average film thickness d1 of the optical adjustment layer and an average particle diameter r1 of particles contained in the optical adjustment layer are as follows:
(D1 / r1) <0.5
In a relationship of

また、前記ハードコート層には、複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記ハードコート層の平均膜厚よりも小さく、それら粒子は、前記ハードコート層の表面に偏在している。   In addition, the hard coat layer contains a plurality of particles, and the average particle diameter of the particles is smaller than the average film thickness of the hard coat layer, and the particles are unevenly distributed on the surface of the hard coat layer There is.

また、前記ハードコート層の平均膜厚d2と、そのハードコート層に含有される粒子の平均粒径r2とが、
(d2/r2)>2
の関係にある。
Further, an average film thickness d2 of the hard coat layer and an average particle size r2 of particles contained in the hard coat layer are
(D2 / r2)> 2
In a relationship of

また、前記光学調整層の表面の谷側面積が、661780μm2当たり200000μm2以下である。ここで、光学調整層の表面の谷側面積とは、光学調整層に含まれる粒子の存在していない部分の光学調整層の平均高さから3nm以上谷側になる光学調整層の表面の面積をいう(以下、同じ)。Further, the valley side area of the surface of the optical adjustment layer is not more than 200,000 μm 2 per 661780 μm 2 . Here, the valley side area of the surface of the optical adjustment layer means the area of the surface of the optical adjustment layer which is 3 nm or more on the valley side from the average height of the optical adjustment layer of the portion where particles contained in the optical adjustment layer are not present. (Following, the same).

また、前記ハードコート層および前記光学調整層は、前記透明基材フィルムの一方の面に設けられ、その透明基材フィルムの他方の面側に、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされてもよい。   The hard coat layer and the optical adjustment layer are provided on one side of the transparent base film, and a protective film is attached to the other side of the transparent base film so as to form an outermost layer. May be

また、前記ハードコート層および前記光学調整層は、前記透明基材フィルムの両方の面に設けられ、その透明基材フィルムのいずれか一方の面側に、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされてもよい。   In addition, the hard coat layer and the optical adjustment layer are provided on both sides of the transparent substrate film, and a protective film is formed to form the outermost layer on any one side of the transparent substrate film. It may be pasted together.

また、この発明に係る透明導電性フィルムは、前記光学調整層付きハードコートフィルムにおける、光学調整層の表面に、透明導電層が形成されてなる。   In the transparent conductive film according to the present invention, a transparent conductive layer is formed on the surface of the optical adjustment layer in the hard coat film with the optical adjustment layer.

この発明に係る透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムによれば、光学調整層に粒子を含有させ、その粒子の平均粒径を、光学調整層の平均膜厚に対して50nm〜1900nmの範囲で大きくし、光学調整層の表面の、粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さRaを、0.3nm〜20nmとすることで、その後に透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、充分な耐ブロッキング性を得ることができ、かつ、視認性の低下を抑えることができる。   According to the hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film according to the present invention, particles are contained in the optical adjustment layer, and the average particle diameter of the particles is 50 nm to the average film thickness of the optical adjustment layer A transparent conductive layer is provided thereafter by enlarging the area in the range of 1900 nm and setting the arithmetic average roughness Ra at a specific portion of the surface of the optical adjustment layer excluding the convex portion formed by the particles to 0.3 nm to 20 nm. Also in the transparent conductive film described above, sufficient blocking resistance can be obtained, and a decrease in visibility can be suppressed.

この発明の第一の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the hard coat film with an optical adjustment layer of 1st embodiment of this invention. 同じく、光学調整層の、粒子の平均粒径と個数の関係を示す図である。Similarly, it is a figure which shows the relationship between the average particle diameter of particle | grains of an optical adjustment layer, and a number. この発明の第二の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the hard coat film with an optical adjustment layer of 2nd embodiment of this invention. この発明の第三の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the hard coat film with an optical adjustment layer of 3rd embodiment of this invention. この発明の他の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the hard coat film with an optical adjustment layer of other embodiment of this invention. この発明のさらに他の実施の形態の、光学調整層付きハードコートフィルムの断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram of the hard coat film with an optical adjustment layer of further another embodiment of this invention.

以下、この発明に係る透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム、および透明導電性フィルムを実施するための形態を図面に基づいて説明する。   EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing the hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films which concerns on this invention, and a transparent conductive film is demonstrated based on drawing.

図1〜図2は、本発明の第一の実施の形態を示す。図中符号1は、透明導電性フィルムに用いられる、光学調整層付きハードコートフィルムを示す。2は、透明基材フィルムを示す。3は、ハードコート層を示す。4は、光学調整層を示す。   1 to 2 show a first embodiment of the present invention. The code | symbol 1 in a figure shows the hard coat film with an optical adjustment layer used for a transparent conductive film. 2 shows a transparent base film. 3 shows a hard coat layer. 4 shows an optical adjustment layer.

光学調整層付きハードコートフィルム1は、透明基材フィルム2と、その透明基材フィルム2の少なくとも一方の面(図示実施の形態においては、一方の面)に順に積層されたハードコート層3およびその上の光学調整層4とを備える。
ここで、光学調整層4には、複数の粒子4a、4aが含有され、それら粒子4a、4aの平均粒径は、光学調整層4の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径r1と、その平均膜厚d1とが、
50nm≦(r1−d1)≦1900nm
の関係にある。つまり、平均粒径r1は、平均膜厚d1よりも、50nm〜1900nm大きい。そして、光学調整層4の表面の、その光学調整層4に含有される前記粒子4aにより形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さRaが、0.3nm〜20nm(より好ましくは、0.3nm〜10nm)の範囲にある。
The hard coat film 1 with an optical adjustment layer comprises a transparent substrate film 2 and a hard coat layer 3 sequentially laminated on at least one surface (in the illustrated embodiment, one surface) of the transparent substrate film 2 and And an optical adjustment layer 4 thereon.
Here, the optical adjustment layer 4 contains a plurality of particles 4a, 4a, and the average particle diameter of the particles 4a, 4a is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer 4, and the average particle diameter r1 The average film thickness d1 is
50 nm ≦ (r1−d1) ≦ 1900 nm
In a relationship of That is, the average particle diameter r1 is 50 nm to 1900 nm larger than the average film thickness d1. And arithmetic mean roughness Ra in specific part except the convex part formed of the said particle 4a contained in the optical adjustment layer 4 of the surface of the optical adjustment layer 4 is 0.3 nm-20 nm (more preferably, 0.3 nm to 10 nm).

そこで、透明導電性フィルム(図示せず)は、この光学調整層付きハードコートフィルム1における、光学調整層4の表面に、透明導電層が形成されてなるものである。   Therefore, a transparent conductive film (not shown) is obtained by forming a transparent conductive layer on the surface of the optical adjustment layer 4 in the hard coat film 1 with the optical adjustment layer.

この光学調整層付きハードコートフィルム1によると、ハードコート層3上に積層された光学調整層4には、複数の粒子4a、4aが含有されている。そして、その光学調整層4に含有される粒子4aの平均粒径r1が、光学調整層4の平均膜厚d1よりも大きく、その差が50nm〜1900nmの範囲にある。また、光学調整層4の表面の、粒子4aにより形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さRaが、0.3nm〜20nmの範囲となっている。光学調整層4に含有される粒子4aの平均粒径r1と光学調整層4の平均膜厚d1との差を50nm以上とし、光学調整層4の表面の前記特定部分における算術平均粗さRaを0.3nm以上とすることで、その後に光学調整層4上に蒸着やスパッタリング法等により透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、十分な耐ブロッキング性を得ることができる。つまり、粒子4aにより形成される凸部と、特定部分の算術平均粗さを形成する凸部4bの2種類の凸部により、この光学調整層付きハードコートフィルム1だけでなく、その後の透明導電性フィルムにおいても、耐ブロッキング性を発現する。また、光学調整層4に含有される粒子4aの平均粒径r1と光学調整層4の平均膜厚d1との差を1900nm以下とし、光学調整層4の表面の前記特定部分における算術平均粗さRaを20nm以下とすることで、その後の透明導電性フィルムにおいても、視認性の低下を抑えることができる。   According to the hard coat film 1 with the optical adjustment layer, the optical adjustment layer 4 laminated on the hard coat layer 3 contains a plurality of particles 4 a and 4 a. The average particle diameter r1 of the particles 4a contained in the optical adjustment layer 4 is larger than the average film thickness d1 of the optical adjustment layer 4, and the difference is in the range of 50 nm to 1900 nm. Moreover, arithmetic mean roughness Ra in the specific part except the convex part formed of particle | grains 4a of the surface of the optical adjustment layer 4 becomes the range of 0.3 nm-20 nm. The difference between the average particle diameter r1 of the particles 4a contained in the optical adjustment layer 4 and the average film thickness d1 of the optical adjustment layer 4 is 50 nm or more, and the arithmetic average roughness Ra at the specific part of the surface of the optical adjustment layer 4 is By setting the thickness to 0.3 nm or more, sufficient blocking resistance can be obtained even in the transparent conductive film in which the transparent conductive layer is provided on the optical adjustment layer 4 by evaporation, sputtering or the like. That is, not only the hard coat film 1 with the optical adjustment layer but also the transparent conductivity after that is formed by the two types of convex portions formed by the particles 4 a and the convex portions 4 b forming the arithmetic mean roughness of the specific portion. Also in the case of the sexing film, the blocking resistance is developed. In addition, the difference between the average particle diameter r1 of the particles 4a contained in the optical adjustment layer 4 and the average film thickness d1 of the optical adjustment layer 4 is 1900 nm or less, and the arithmetic average roughness at the specific portion of the surface of the optical adjustment layer 4 By setting Ra to 20 nm or less, a decrease in visibility can be suppressed even in the subsequent transparent conductive film.

こうして、光学調整層4に粒子4aを含有させ、その粒子4aの平均粒径を、光学調整層4の平均膜厚に対して50nm〜1900nmの範囲で大きくし、光学調整層4の表面の特定部分における算術平均粗さRaを、0.3nm〜20nmとすることで、その後に透明導電層が設けられた透明導電性フィルムにおいても、充分な耐ブロッキング性を得ることができ、かつ、視認性の低下を抑えることができる。   Thus, the particles 4a are contained in the optical adjustment layer 4, the average particle diameter of the particles 4a is increased in the range of 50 nm to 1900 nm with respect to the average film thickness of the optical adjustment layer 4, and the surface of the optical adjustment layer 4 is specified By setting the arithmetic average roughness Ra in a portion to 0.3 nm to 20 nm, sufficient blocking resistance can be obtained even in a transparent conductive film provided with a transparent conductive layer thereafter, and visibility Can reduce the

なお、この発明の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム1は、静電容量式のタッチパネル用として好適に使用することができるが、その用途は、前記タッチパネル用に限定されるものではない。   In addition, although the hard coat film 1 with the optical adjustment layer for transparent conductive films of this invention can be used suitably for capacitive touch panels, its application is limited to the said touch panels is not.

具体的には、透明基材フィルム2は、非晶性ポリマーからなる。この非晶性ポリマーとしては、脂環構造を有する非晶質オレフィンが好ましいが、これに限定されるわけではない。非晶質オレフィンとしては、例えば、シクロオレフィンポリマーやシクロオレフィンコポリマー等がある。また、この透明基材フィルム2の材料は、ポリカーボネートやトリアセチルセルロースやポリイミド等であってもよい。この透明基材フィルム2の厚さは、10μm〜500μmであるのが好ましく、より好ましくは10μm〜200μm、さらに好ましくは20μm〜100μmであるのがよい。また、透明基材フィルム2の表面に、予め、易接着層の塗工やコロナ放電処理等の物理処理等の前処理を施すことで、積層されるハードコート層3との密着性を向上させることができる。   Specifically, the transparent substrate film 2 is made of an amorphous polymer. The non-crystalline polymer is preferably an amorphous olefin having an alicyclic structure, but is not limited thereto. Examples of amorphous olefins include cycloolefin polymers and cycloolefin copolymers. The material of the transparent substrate film 2 may be polycarbonate, triacetyl cellulose, polyimide or the like. The thickness of the transparent substrate film 2 is preferably 10 μm to 500 μm, more preferably 10 μm to 200 μm, and still more preferably 20 μm to 100 μm. In addition, the adhesion to the laminated hard coat layer 3 is improved by pre-treating the surface of the transparent substrate film 2 with physical treatments such as coating of an easy adhesion layer and corona discharge treatment. be able to.

ハードコート層3は、その平均膜厚は、ハードコート性を得るため0.5μm〜10.0μmの範囲にあるのが好ましく、0.75μm〜5.0μmの範囲にあるのがより好ましい。膜厚が0.5μm未満であると、ハードコート層3の硬度が不充分となる虞があり、10.0μmを超えると、ハードコート層3あるいはその上の層にクラックが入ったり、巻き取りが困難となる虞があるだけでなく、透明性等の光学特性が低下する虞もある。   The average thickness of the hard coat layer 3 is preferably in the range of 0.5 μm to 10.0 μm, and more preferably in the range of 0.75 μm to 5.0 μm, in order to obtain hard coat properties. If the film thickness is less than 0.5 μm, the hardness of the hard coat layer 3 may be insufficient. If it exceeds 10.0 μm, the hard coat layer 3 or a layer thereon may be cracked or wound up. Not only there is a possibility that it becomes difficult, but also there is a possibility that optical characteristics such as transparency may deteriorate.

さらに光学調整層の前記特定部分の凸部4b(つまり、特定部分における算術平均粗さRaの前記値)を得るために、ハードコート層3の表面(つまり、透明基材フィルム2のある側とは反対の面)は、算術平均粗さRaが2nm〜20nmの範囲であることが好ましく、3nm〜10nmであることがより好ましい。ハードコート層3の表面の算術平均粗さRaが、2nm未満であると、その後の光学調整層4の前記特定部分における算術平均粗さRaが、0.3nm未満になる虞があり、耐ブロッキング性が低下する。また、ハードコート層3の表面の算術平均粗さRaが20nmよりも大きいと透明性等の光学特性が低下する虞がある。   Furthermore, in order to obtain the convex portion 4b of the specific portion of the optical adjustment layer (that is, the value of the arithmetic average roughness Ra in the specific portion), the surface of the hard coat layer 3 (that is, the side with the transparent substrate film 2) Arithmetic mean roughness Ra is preferably in the range of 2 nm to 20 nm, and more preferably 3 nm to 10 nm. If the arithmetic average roughness Ra of the surface of the hard coat layer 3 is less than 2 nm, the arithmetic average roughness Ra at the specific portion of the optical adjustment layer 4 after that may be less than 0.3 nm, and thus blocking resistance Sex is reduced. In addition, when the arithmetic average roughness Ra of the surface of the hard coat layer 3 is larger than 20 nm, optical properties such as transparency may be deteriorated.

図示実施の形態においては、ハードコート層3に、複数の粒子3a、3aが含有され、それら粒子3a、3aの平均粒径は、ハードコート層3の平均膜厚よりも小さい。そして、それら粒子3a、3aは、ハードコート層3の表面(つまり、透明基材フィルム2のある側とは反対の面)に偏在している。そこで、ハードコート層3の表面に偏在するこれら粒子3a、3aによる表面の凸部に追従するように、そのハードコート層3の上の光学調整層4の表面に凸部4b、4bが形成され、それら凸部4b、4bが、光学調整層4の表面の特定部分における算術平均粗さRaの値に反映する。   In the illustrated embodiment, the hard coat layer 3 contains a plurality of particles 3 a and 3 a, and the average particle size of the particles 3 a and 3 a is smaller than the average film thickness of the hard coat layer 3. And these particles 3a and 3a are unevenly distributed on the surface (that is, the surface opposite to the side with the transparent base film 2) of the hard coat layer 3. Therefore, convex portions 4b and 4b are formed on the surface of the optical adjustment layer 4 on the hard coat layer 3 so as to follow the convex portions on the surface due to the particles 3a and 3a unevenly distributed on the surface of the hard coat layer 3. The convex portions 4 b and 4 b are reflected in the value of the arithmetic average roughness Ra in a specific part of the surface of the optical adjustment layer 4.

詳細には、ハードコート層3を形成するためのハードコート塗工液は、バインダーと、ハードコート層3の平均膜厚より小さい平均粒径の複数の粒子3a、3aと、溶剤とを含む。そして、そのハードコート塗工液を透明基材フィルム2に塗工し、乾燥し、UV露光する中で(特に、乾燥工程で)、粒子3aをハードコート層3の表面へ偏在させる。この方法を用いることで、ハードコート層3の表面の好適な表面粗さを均一に効率よく得ることができる。   Specifically, the hard coat coating liquid for forming the hard coat layer 3 contains a binder, a plurality of particles 3 a and 3 a having an average particle size smaller than the average film thickness of the hard coat layer 3, and a solvent. Then, the hard coat coating solution is applied to the transparent substrate film 2, dried, and exposed to UV light (especially in the drying step) to cause the particles 3 a to be unevenly distributed on the surface of the hard coat layer 3. By using this method, it is possible to uniformly and efficiently obtain suitable surface roughness of the surface of the hard coat layer 3.

ハードコート塗工液は、詳しくは、ハードコート層3を形成する硬化性組成物であって、粒子3a、バインダーを含有し、好ましくは紫外線によって硬化するものがよい。ハードコート塗工液に含まれるバインダーは、特に限定されるものではないが、耐傷性を保ちつつ柔軟性を付与するため、ウレタンアクリレートを用いることができる。ハードコート塗工液に含まれる粒子3aの平均粒径は、50nm〜500nmの範囲にあるのが好ましく、80nm〜400nmの範囲にあるのがより好ましく、120nm〜400nmの範囲にあるのがさらに好ましい。そこで、これらの粒子3a、3aによって表面に凸部が形成されるが、平均粒径が50nm未満では表面に充分な凸部を形成することができない虞があり、平均粒径が500nmを越えると、ヘイズ(haze)が上昇する虞がある。また、ハードコート層3の平均膜厚d2と、そのハードコート層3に含有される粒子3aの平均粒径r2とは、(d2/r2)>2の関係にあるのが好ましく、この範囲にすることで、ヘイズ(haze)の上昇を抑えることができる。   Specifically, the hard coat coating liquid is a curable composition for forming the hard coat layer 3 and contains particles 3 a and a binder, and preferably is curable by ultraviolet light. Although the binder contained in a hard-coat coating liquid is not specifically limited, In order to provide a softness | flexibility, maintaining scratch resistance, a urethane acrylate can be used. The average particle diameter of the particles 3a contained in the hard coat coating solution is preferably in the range of 50 nm to 500 nm, more preferably in the range of 80 nm to 400 nm, and still more preferably in the range of 120 nm to 400 nm. . Then, although convex parts are formed on the surface by these particles 3a, 3a, if the average particle size is less than 50 nm, there is a possibility that sufficient convex parts can not be formed on the surface, and if the average particle size exceeds 500 nm There is a possibility that the haze may rise. Further, the average film thickness d2 of the hard coat layer 3 and the average particle size r2 of the particles 3a contained in the hard coat layer 3 preferably have a relationship of (d2 / r2)> 2 and within this range By doing this, it is possible to suppress the rise of the haze.

粒子3aとしては、特に限定されないが、各種無機系、有機系の粒子を用いることができる。この粒子3aとしては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、フェノール樹脂等を素材とする粒子などがあるが、これらに限定されるものではなく、2種以上を組み合わせてもよい。   The particles 3a are not particularly limited, but various inorganic and organic particles can be used. Examples of the particles 3a include particles made of silica, alumina, titania, acrylic resin, styrene-acrylic copolymer resin, styrene resin, urethane resin, epoxy resin, silicone resin, polyethylene resin, phenol resin, etc. However, it is not limited to these, You may combine 2 or more types.

粒子3aに有機系粒子を用いる場合は、アクリル系粒子を用い、乳化重合法により合成されたものが、所望の平均粒径の粒子を得るためにも好ましい。   When using organic type particle | grains for the particle | grains 3a, what was synthesize | combined by the emulsion polymerization method using acrylic type particle | grains is preferable also in order to obtain the particle | grains of a desired average particle diameter.

また、粒子3aに無機系粒子を用いる場合は、表面処理や界面活性剤などで表面自由エネルギーを小さくしたシリカ粒子を用いることが好ましい。このように表面自由エネルギーが小さくなることによって、ハードコート層3の表面へ粒子3aを偏在させやすくなる。   Moreover, when using inorganic type particle | grains for the particle | grains 3a, it is preferable to use the silica particle which made surface free energy small by surface treatment or surfactant. By thus reducing the surface free energy, the particles 3 a can be easily localized on the surface of the hard coat layer 3.

また、ハードコート塗工液には、必要に応じて、分散剤、レベリング剤、消泡剤、揺変剤、防汚剤、抗菌剤、難燃剤、傷防止剤、スリップ剤などの添加剤を性能に影響のない範囲で含んでもよい。   In addition, additives such as dispersant, leveling agent, antifoaming agent, thixotropic agent, antifouling agent, antibacterial agent, flame retardant, anti-scratch agent, slip agent and the like are optionally added to the hard coat coating liquid. You may include in the range which does not affect performance.

また、膜厚の調整などの観点から有機溶剤を使用してハードコート塗工液を希釈してもよい。例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルのようなアルコール系の有機溶剤や、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン(アノン)、アセトン等のようなケトン系有機溶剤や、酢酸ブチル、酢酸エチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のようなエステル系有機溶剤や、トルエン、キシレン等のような芳香族系有機溶剤や、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のようなアミド系有機溶剤等を用いることができる。そして、これら例示の有機溶剤は、単独であっても、2種以上を組み合わせて用いても良いが、その溶解度パラメータδは、8〜11の範囲であることが好ましく、さらには、溶解度パラメータδが8〜10の範囲にあることがさらに好ましい。   In addition, the hard coat coating solution may be diluted using an organic solvent from the viewpoint of adjusting the film thickness and the like. For example, alcohol-based organic solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (PGM) and diethylene glycol monobutyl ether, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone (anone), acetone and the like Ketone organic solvents, ester organic solvents such as butyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate etc., aromatic organic solvents such as toluene, xylene etc., N-methylpyrrolidone, dimethyl Amide-based organic solvents such as acetamide and dimethylformamide can be used. And although these organic solvents may be used singly or in combination of two or more, the solubility parameter δ is preferably in the range of 8 to 11, and further, the solubility parameter δ Is more preferably in the range of 8-10.

塗工には、例えば、リバースグラビアコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ナイフコート法、キスコート法等のようなコーティング方法や、各種印刷方法を用いることができるが、これらの方法に限定されるものではない。   For coating, for example, reverse gravure coating method, direct gravure coating method, die coating method, bar coating method, wire bar coating method, roll coating method, spin coating method, dip coating method, spray coating method, knife coating method, kiss coating Although a coating method such as a method or various printing methods can be used, it is not limited to these methods.

乾燥工程については乾燥が速すぎると、凝集・表面への偏在が不十分となるため、乾燥は50℃〜120℃の温度で10秒〜180秒間程度行うことが好ましく、特に乾燥温度は50℃〜80℃が好ましい。乾燥時間は、長いほどよいが、生産性を考慮すれば、10秒〜120秒程度とすることがさらに好ましい。   With regard to the drying step, if drying is too fast, aggregation and uneven distribution on the surface will be insufficient, so drying is preferably carried out at a temperature of 50 ° C to 120 ° C for about 10 seconds to 180 seconds, in particular at a drying temperature of 50 ° C. -80 ° C is preferred. The drying time is preferably as long as possible, but in view of productivity, it is more preferable to set the drying time to about 10 seconds to 120 seconds.

UV露光工程については、乾燥後に、ハードコート層3に紫外線を照射して硬化させることで、粒子3aの凝集体をハードコート層3の表面の側に固定化することができる。紫外線の照射には、高圧水銀ランプ、無電極(マイクロ波方式)ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、その他任意の紫外線照射装置を用いることができ、必要に応じて窒素などの不活性ガス雰囲気化で紫外線照射を行ってもよい。また、紫外線の照射量は、50〜800mJ/cm2の範囲、好ましくは、100〜300mJ/cm2の範囲であるのがよい。In the UV exposure step, after drying, the hard coat layer 3 is irradiated with ultraviolet light to be cured, whereby the aggregates of the particles 3 a can be immobilized on the surface of the hard coat layer 3. For irradiation with ultraviolet light, a high pressure mercury lamp, an electrodeless (microwave system) lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp or any other ultraviolet irradiation device can be used, and an inert gas atmosphere such as nitrogen can be used if necessary. Ultraviolet irradiation may be performed. The irradiation amount of ultraviolet rays in the range of 50 to 800 mJ / cm 2, preferably, it is in the range of 100~300mJ / cm 2.

光学調整層4は、透明導電性フィルムのパターニングされた透明導電層が存在する部分と存在しない部分の反射率の違いにより、そのパターンが目視できてしまう現象(つまり、骨見え)を緩和するために、ハードコート層3上に積層される。この骨見えを緩和するためには、光学調整層4の屈折率を、透明導電層の屈折率とハードコート層3の屈折率の間とするのがよく、そのため、光学調整層4の屈折率は、1.55〜1.80の範囲にあることが好ましい。また、この光学調整層4の平均膜厚は、透明基材フィルム2、ハードコート層3、光学調整層4の屈折率によって異なるが、5nm〜500nmの範囲であり、透明導電層が存在する部分と存在しない部分の反射率の差がなるべく小さくなる厚みに調整することが好ましい。光学調整層4の膜厚が5nm未満であると粒子4aの脱落の虞があり、500nmより大きな膜厚では透明導電層や金属層などを製膜した後に充分な耐ブロッキング性が得られない虞がある。   The optical adjustment layer 4 is for reducing the phenomenon (that is, bone appearance) that the pattern can be seen visually due to the difference in reflectance between the portion where the patterned transparent conductive layer of the transparent conductive film exists and the portion where it does not exist. Is laminated on the hard coat layer 3. In order to reduce the appearance of the bone, the refractive index of the optical adjustment layer 4 is preferably between the refractive index of the transparent conductive layer and the refractive index of the hard coat layer 3. Therefore, the refractive index of the optical adjustment layer 4 is Is preferably in the range of 1.55 to 1.80. Moreover, although the average film thickness of this optical adjustment layer 4 changes with refractive index of the transparent base film 2, the hard-coat layer 3, and the optical adjustment layer 4, it is the range of 5 nm-500 nm, and the part in which a transparent conductive layer exists It is preferable to adjust to such a thickness that the difference in reflectance between the non-existent portion and the non-existent portion is as small as possible. If the film thickness of the optical adjustment layer 4 is less than 5 nm, there is a possibility that the particles 4a may fall off, and if the film thickness is larger than 500 nm, a sufficient blocking resistance may not be obtained after forming the transparent conductive layer or metal layer. There is.

光学調整層4に含有される粒子4aの平均粒径は、100nm〜2000nmの範囲であることが好ましく、200nm〜1500nmであることがより好ましく、400nm〜1000nmであることがさらに好ましい。粒子4aの平均粒径をこの範囲にすることで、蒸着やスパッタリング法により透明導電層や金属層を製膜した後も充分な耐ブロッキング性を持たせ、さらに視認性の低下を抑えることができる。粒子4aの平均粒径が100nm未満であると蒸着やスパッタリング法により透明導電層や金属層を製膜した後に充分な耐ブロッキング性が得られない虞があり、粒子4aの平均粒径が2000nmより大きいと視認性が低下する虞がある。   The average particle diameter of the particles 4 a contained in the optical adjustment layer 4 is preferably in the range of 100 nm to 2000 nm, more preferably 200 nm to 1500 nm, and still more preferably 400 nm to 1000 nm. By setting the average particle diameter of the particles 4a in this range, sufficient blocking resistance can be imparted even after film formation of a transparent conductive layer or a metal layer by vapor deposition or sputtering, and further, deterioration in visibility can be suppressed. . If the average particle diameter of the particles 4a is less than 100 nm, there is a possibility that sufficient blocking resistance can not be obtained after film formation of the transparent conductive layer or metal layer by vapor deposition or sputtering, and the average particle diameter of the particles 4a is more than 2000 nm If the size is large, the visibility may be reduced.

また、光学調整層4の平均膜厚d1と、その光学調整層4に含有される粒子4aの平均粒径r1の関係は、(d1/r1)<0.5とすることが好ましい。この範囲にすることで粒子4aの平均粒径r1を小さくしても、充分な高さの凸部を作ることができる。そして、光学調整層4の膜厚、透明導電層の膜厚、金属層の膜厚から粒子4aの平均粒径を調整できる。   The relationship between the average film thickness d1 of the optical adjustment layer 4 and the average particle diameter r1 of the particles 4a contained in the optical adjustment layer 4 is preferably (d1 / r1) <0.5. By setting this range, even if the average particle diameter r1 of the particles 4a is reduced, it is possible to form a convex having a sufficient height. The average particle diameter of the particles 4a can be adjusted from the film thickness of the optical adjustment layer 4, the film thickness of the transparent conductive layer, and the film thickness of the metal layer.

ここで、(d1/r1)<0.5とすると、粒子4aの半分以上が凸部となり、擦れなどによる粒子4aの脱落の虞があるが、光学調整層4の前記特定部分の凸部4bが存在することで易滑性が上がり、擦れなどによる粒子4aの脱落を防止することができる。   Here, if (d1 / r1) <0.5, half or more of the particles 4a become convex portions, and there is a possibility that the particles 4a fall off due to rubbing or the like, but the convex portions 4b of the specific portion of the optical adjustment layer 4 As a result, the slipperiness is enhanced, and the detachment of the particles 4a due to rubbing or the like can be prevented.

粒子4aの添加量は、粒子4aの平均粒径により最適な量が異なり、その平均粒径r1(nm)と、その粒子4aの個数N(個/mm2)とが、
199.03exp(−0.002r1)≦N≦3676.4exp(−0.002r1)
の関係にあるのが好ましい(このNの範囲を、図2において右上がりの斜線で示す)。そして、より好ましくは、
480.48exp(−0.002r1)≦N≦2277exp(−0.002r1)の関係にあるのがよい(このNの範囲を、図2において右下がりの斜線で示す)。
The addition amount of the particles 4a varies depending on the average particle diameter of the particles 4a, and the average particle diameter r1 (nm) and the number N (particles / mm 2 ) of the particles 4a are
199.03 exp (-0.002 r1) N N 367 3676.4 exp (-0.002 r1)
(The range of N is indicated by a diagonal line rising to the right in FIG. 2). And more preferably,
It is preferable that there is a relationship of 480.48 exp (-0.002 r1) exp N 2 2277 exp (-0.002 r1) (the range of N is indicated by a downward sloping diagonal line in Fig. 2).

また、この光学調整層4に含まれる粒子4aの存在していない部分の光学調整層4の表面に大きな起伏が生じている場合は、ITOなどの導電膜を設けたとき、導通がしにくくなる場合がある。そこで、前記粒子4aの存在していない部分の光学調整層4の平均高さから3nm以上谷側になる光学調整層4の表面の面積(光学調整層4の表面の谷側面積)は、661780μm2当たり200000μm2以下であることが好ましく、150000μm2以下であることがさらに好ましい。すなわち、粒子4aの存在していない部分の光学調整層4の表面は、完全に平らであることが透明導電膜の導通にとっては好ましいが、耐ブロッキング性の問題があるため、前記凸部4bによりこの相反する問題を解決できる。Further, when a large undulation occurs on the surface of the optical adjustment layer 4 in a portion where the particles 4a contained in the optical adjustment layer 4 are not present, it becomes difficult to conduct when a conductive film such as ITO is provided. There is a case. Therefore, the area of the surface of the optical adjustment layer 4 (valley side area of the surface of the optical adjustment layer 4) which is on the valley side by 3 nm or more from the average height of the optical adjustment layer 4 in the portion where the particles 4a do not exist is 661780 μm is preferably 2 per 200000Myuemu 2 or less, and more preferably 150000Myuemu 2 or less. That is, although it is preferable for the conduction of the transparent conductive film that the surface of the optical adjustment layer 4 in the portion where the particles 4a are not present is completely flat, there is a problem of blocking resistance. This conflicting problem can be solved.

この光学調整層4は、光学調整層塗工液を、ハードコート層3の表面に塗工し、乾燥し、UV露光することで得られる。光学調整層塗工液としては屈折率が調整された公知の塗材(例えばアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−816−3L(製品名)」やトーヨーケム株式会社(Toyochem Co.,Ltd.)製「リオデュラス(LIODURAS)TYZ−A15−S(製品名)」)が使用できる。1.55〜1.80の高屈折率を得るためには金属酸化粒子を含んでもよい。この金属酸化粒子としては、例えば、チタン、ジルコニウム、スズ、亜鉛、ケイ素、ニオブ、アルミニウム、クロム、マグネシウム、ゲルマニウム、ガリウム、アンチモン、白金等の酸化物があるが、特に、酸化ジルコニウム、酸化チタンが好ましい。また、これらの酸化物を複数種組み合わせてもよい。   The optical adjustment layer 4 is obtained by applying the optical adjustment layer coating liquid to the surface of the hard coat layer 3, drying, and UV exposure. A well-known coating material (for example, Aica Kogyo Co., Ltd.) "AikaAITRON (AICAAITRON) Z-816-3L (product name)" whose refractive index is adjusted as an optical adjustment layer coating liquid And “Lioduras TYZ-A15-S (product name)” manufactured by Toyochem Co., Ltd. can be used. In order to obtain a high refractive index of 1.55 to 1.80, metal oxide particles may be included. The metal oxide particles include, for example, oxides such as titanium, zirconium, tin, zinc, silicon, niobium, aluminum, chromium, magnesium, germanium, gallium, antimony and platinum, and zirconium oxide and titanium oxide are particularly preferable. preferable. In addition, these oxides may be used in combination of two or more.

光学調整層4に含有する粒子4aの材料としては無機系、有機系の多分散や単分散の公知の粒子(例えば、綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製「MX−80H3wT(製品名)」)を使用することができる。   As the material of the particles 4a contained in the optical adjustment layer 4, known inorganic or organic polydispersed or monodispersed particles (for example, “MX- manufactured by Soken Chemical & Engineering Co., Ltd.) 80H3wT (product name) "can be used.

また、必要に応じて、分散剤、レベリング剤、消泡剤、揺変剤、防汚剤、抗菌剤、難燃剤、傷防止剤、スリップ剤などの添加剤を性能に影響のない範囲で光学調整層塗工液に含んでもよい。特にレベリング剤は、光学調整層4の表面の谷側面積を少なくする目的で、表面張力低下能力を調整することが好ましい。   In addition, if necessary, additives such as dispersant, leveling agent, antifoaming agent, thixotropic agent, antifouling agent, antibacterial agent, flame retardant, anti-scratch agent, slip agent, etc. are optical within the range not affecting the performance. You may include in the adjustment layer coating liquid. In particular, in order to reduce the valley side area of the surface of the optical adjustment layer 4, it is preferable to adjust the surface tension reduction ability of the leveling agent.

また、膜厚の調整などの観点から有機溶剤を使用して光学調整層塗工液を希釈してもよい。例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジエチレングリコールモノブチルエーテルのようなアルコール系の有機溶剤や、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン(アノン)、アセトン等のようなケトン系有機溶剤や、酢酸ブチル、酢酸エチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のようなエステル系有機溶剤や、トルエン、キシレン等のような芳香族系有機溶剤や、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド等のようなアミド系有機溶剤等を用いることができる。そして、これら例示の有機溶剤は、単独であっても、2種以上を組み合わせて用いても良いが、その溶解度パラメータδは、8〜11の範囲であることが好ましく、さらには、δが8〜10の範囲にあることが好ましい。使用する有機溶剤の表面張力は、20〜40dyne/cm2の範囲が好ましく、光学調整層4の表面の谷側面積を少なくする目的で、乾燥工程に起こる塗膜の濃度上昇において、各濃度に対する表面張力の差が少なくなるように光学調整層塗工液の有機溶剤種を選定することが好ましい。Moreover, you may dilute an optical adjustment layer coating liquid using an organic solvent from a viewpoint of adjustment of a film thickness etc. For example, alcohol-based organic solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (PGM) and diethylene glycol monobutyl ether, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone (anone), acetone and the like Ketone organic solvents, ester organic solvents such as butyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate etc., aromatic organic solvents such as toluene, xylene etc., N-methylpyrrolidone, dimethyl Amide-based organic solvents such as acetamide and dimethylformamide can be used. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more, but the solubility parameter δ is preferably in the range of 8 to 11, and further, δ is 8 It is preferable to be in the range of ̃10. The surface tension of the organic solvent to be used is preferably in the range of 20 to 40 dyne / cm 2 , and for the purpose of reducing the valley side area of the surface of the optical adjustment layer 4, the concentration increase of the coating film occurring in the drying step It is preferable to select the organic solvent type of the optical adjustment layer coating liquid so as to reduce the difference in surface tension.

塗工には、例えば、リバースグラビアコート法、ダイレクトグラビアコート法、ダイコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ナイフコート法、キスコート法等のようなコーティング方法や、各種印刷方法を用いることができるが、これらの方法に限定されるものではない。   For coating, for example, reverse gravure coating method, direct gravure coating method, die coating method, bar coating method, wire bar coating method, roll coating method, spin coating method, dip coating method, spray coating method, knife coating method, kiss coating Although a coating method such as a method or various printing methods can be used, it is not limited to these methods.

乾燥工程については50℃〜150℃の温度で10秒〜180秒間程度行うことが生産性の観点からも好ましい。温度は、性能に影響のない範囲であれば、高い方が硬化前の塗膜面の粘度が下がり、速くレベリング(平滑化)して光学調整層4の表面の谷側面積が少なくなるため、80℃〜150℃にすることがより好ましい。   It is preferable also from a viewpoint of productivity to perform about 10 seconds-180 seconds at a temperature of 50 ° C-150 ° C about a drying process. If the temperature is in a range that does not affect the performance, the higher the viscosity, the lower the viscosity of the coated film surface before curing, the faster leveling (smoothing), and the valley side area of the surface of the optical adjustment layer 4 decreases. It is more preferable to set it as 80 degreeC-150 degreeC.

UV露光工程については、乾燥後に、光学調整層4に紫外線を照射して硬化させることで膜を固定できる。紫外線の照射には、高圧水銀ランプ、無電極(マイクロ波方式)ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、その他任意の紫外線照射装置を用いることができ、必要に応じて窒素などの不活性ガス雰囲気化で紫外線照射を行ってもよい。また、紫外線の照射量は、50〜800mJ/cm2の範囲、好ましくは、100〜300mJ/cm2の範囲であるのがよい。In the UV exposure step, after drying, the film can be fixed by irradiating the optical adjustment layer 4 with ultraviolet light and curing it. For irradiation with ultraviolet light, a high pressure mercury lamp, an electrodeless (microwave system) lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp or any other ultraviolet irradiation device can be used, and an inert gas atmosphere such as nitrogen can be used if necessary. Ultraviolet irradiation may be performed. The irradiation amount of ultraviolet rays in the range of 50 to 800 mJ / cm 2, preferably, it is in the range of 100~300mJ / cm 2.

図3は、本発明の第二の実施の形態を示す。この実施の形態は、第一の実施の形態とは、透明基材フィルム2の他方の面にもハードコート層が設けられる点が異なるが、他は同様であり、以下に、同様の部分には同一の符号を付して、異なる部分を主に説明する。   FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. This embodiment is different from the first embodiment in that the hard coat layer is provided also on the other surface of the transparent substrate film 2, but the other is the same, and in the following, the same portion is used. Are given the same reference numerals and mainly explain different parts.

この光学調整層付きハードコートフィルム1は、透明基材フィルム2の他方の面(つまり、ハードコート層3および光学調整層4が設けられる一方の面とは反対の面)に第2のハードコート層5を有する。この第2のハードコート層5には、複数の粒子5a、5aが含有され、それら粒子5a、5aは、第2のハードコート層5の表面(つまり、透明基材フィルム2のある側とは反対の面)に偏在している。これにより、光学調整層付きハードコートフィルム1の一方の面だけでなく、他方の面にも、耐傷性と耐ブロッキング性を付与することができる。このため、透明基材フィルム2に、割れ易く表面に傷が生じ易いという欠点を持つ非晶性ポリマーフィルムを用いても、充分なハードコート性と充分な耐ブロッキング性を持つ、光学調整層付きハードコートフィルムが得られる。ここにおいて、視認性を低下させないためには、複数の粒子5a、5aの平均粒径を、第2のハードコート層5の平均膜厚よりも小さくするのが好ましいが、易滑性やフィルムの取り回し性をより付与させる目的で、必要に応じて粒子5aの平均粒径を第2のハードコート層5の平均膜厚よりも大きくしてもよい。   The hard coat film 1 with the optical adjustment layer is a second hard coat on the other surface of the transparent substrate film 2 (that is, the surface opposite to the surface on which the hard coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 are provided). Having a layer 5; The second hard coat layer 5 contains a plurality of particles 5a, 5a, and the particles 5a, 5a are the surface of the second hard coat layer 5 (that is, the side with the transparent substrate film 2) It is unevenly distributed on the opposite side). Thereby, scratch resistance and blocking resistance can be provided not only on one side of the hard coat film 1 with an optical adjustment layer but also on the other side. For this reason, even if an amorphous polymer film having a defect that it is easily broken and a scratch is easily generated on the transparent substrate film 2, it has an optical adjustment layer having sufficient hard coatability and sufficient blocking resistance. A hard coat film is obtained. Here, in order not to reduce the visibility, it is preferable to make the average particle diameter of the plurality of particles 5 a, 5 a smaller than the average film thickness of the second hard coat layer 5. The average particle diameter of the particles 5 a may be made larger than the average film thickness of the second hard coat layer 5 as necessary for the purpose of imparting the handling property more.

図4は、本発明の第三の実施の形態を示す。この実施の形態は、第二の実施の形態とは、保護フィルムが設けられる点が異なるが、他は同様であり、以下に、同様の部分には同一符号を付して、異なる部分を主に説明する。   FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention. This embodiment is different from the second embodiment in that a protective film is provided, but the others are the same, and in the following, similar parts are given the same reference numerals and different parts are mainly Explain to.

この光学調整層付きハードコートフィルム1においては、ハードコート層3および光学調整層4は、透明基材フィルム2の一方の面に設けられ、その透明基材フィルム2の他方の面側に、最外層を形成するように保護フィルム6が貼り合わされている。詳細には、この光学調整層付きハードコートフィルム1は、第2の実施の形態の光学調整層付きハードコートフィルム1を光学調整層付きハードコートフィルム本体1aとして、その光学調整層付きハードコートフィルム本体1aにおける、透明基材フィルム2の他方の面側である第2のハードコート層5の表面に、保護フィルム用透明基材フィルム6aと粘着層6bとからなる保護フィルム6が、その粘着層6bを用いて貼り合わされている。   In the hard coat film 1 with the optical adjustment layer, the hard coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 are provided on one side of the transparent substrate film 2, and the other side of the transparent substrate film 2 is A protective film 6 is attached to form an outer layer. In detail, the hard coat film 1 with the optical adjustment layer is the hard coat film with the optical adjustment layer of the second embodiment as the hard coat film body 1 a with the optical adjustment layer, and the hard coat film with the optical adjustment layer In the main body 1a, on the surface of the second hard coat layer 5 which is the other surface side of the transparent base film 2, the protective film 6 composed of the transparent base film 6a for protective film and the adhesive layer 6b It is pasted together using 6b.

このように、光学調整層付きハードコートフィルム1に保護フィルム6を設けることで、透明基材フィルム2が非常に薄い場合などにおいても、作業性を良化させ、汚れなども防止することができる。   As described above, by providing the protective film 6 on the hard coat film 1 with the optical adjustment layer, the workability can be improved even when the transparent base film 2 is very thin, etc., and dirt and the like can be prevented. .

保護フィルム6を形成する材料は特に限定されないが、熱処理工程中および熱処理工程後のカールの制御という観点から、光学調整層付きハードコートフィルム本体1aとは加熱収縮率および線膨張係数が近い材料が好ましい。   The material for forming the protective film 6 is not particularly limited, but from the viewpoint of controlling the curl during the heat treatment step and after the heat treatment step, a material having a heat shrinkage ratio and a linear expansion coefficient similar to that of the hard coat film body 1a with the optical adjustment layer preferable.

なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるわけではなく、その他種々の変更が可能である。例えば、光学調整層4に含有される複数の粒子4a、4aは、その径が同一でなくても、図5に示すように、異なっていてもよい。また、このことは、ハードコート層3に含有される粒子3a、3aにおいても同様である。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various other modifications are possible. For example, the plurality of particles 4a, 4a contained in the optical adjustment layer 4 may have different diameters as shown in FIG. The same is true for the particles 3 a and 3 a contained in the hard coat layer 3.

また、光学調整層4は、1層でなくても、高屈折率層、低屈折率層など2層以上の多層からなっても構わない。その場合、ハードコート層3側にある光学調整層の屈折率は1.55〜1.80の高屈折率にして、透明導電層を積層する側の光学調整層の屈折率は1.50以下の低屈折率にすることで好適に骨見えを緩和することができる。そして、光学調整層に含まれる粒子4aは、どの層に含有されてもよく、また、複数層に含有されても構わないが、透明基材フィルム2から最も離れた側にある光学調整層に含まれることが好ましい。   Further, the optical adjustment layer 4 may be a multilayer of two or more layers, such as a high refractive index layer and a low refractive index layer, instead of one layer. In that case, the refractive index of the optical adjustment layer on the hard coat layer 3 side is a high refractive index of 1.55 to 1.80, and the refractive index of the optical adjustment layer on the side on which the transparent conductive layer is laminated is 1.50 or less By setting the refractive index to be low, it is possible to suitably reduce the appearance of bones. And although particle 4a contained in an optical adjustment layer may be contained in which layer and may be contained in two or more layers, in the optical adjustment layer in the side farthest from transparent substrate film 2 Preferably, it is included.

また、光学調整層4の表面の特定部分における算術平均粗さRaを所定の範囲とするために、ハードコート層3に複数の粒子3a、3aを含有させて、ハードコート層3の表面(透明基材フィルム2のある側とは反対の面)に凸部を設け、その凸部を光学調整層の表面に反映させたが、このハードコート層3の表面に凸部を設ける方法として、粒子3aを用いるのではなく、2種類以上の材料が相分離(phase separation)することで凸部を形成する方法とか、エンボス加工により凸部を形成する方法などを採用してもよい(図6に示す凸部3b参照)。   Further, to make the hard coat layer 3 contain a plurality of particles 3 a and 3 a in order to set the arithmetic average roughness Ra in a specific part of the surface of the optical adjustment layer 4 to a predetermined range, the surface of the hard coat layer 3 (transparent Although the convex part was provided in the surface opposite to the side with the base film 2 and the convex part was reflected on the surface of the optical adjustment layer, it is a particle as a method of providing a convex part on the surface of this hard coat layer 3 Instead of using 3a, a method of forming a convex portion by phase separation of two or more kinds of materials, or a method of forming a convex portion by embossing may be adopted (FIG. 6). Refer to convex part 3b shown).

また、光学調整層付きハードコートフィルム1は、透明基材フィルム2の一方の面に、ハードコート層3および光学調整層4が設けられるが、透明基材フィルム2の両方の面に、ハードコート層3および光学調整層4が設けられてもよい。そして、この場合、透明基材フィルム2のいずれか一方の面側に(つまりは、いずれか一方の光学調整層4の表面に)、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされてもよい。   In addition, the hard coat film 1 with the optical adjustment layer is provided with the hard coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 on one side of the transparent substrate film 2, but the hard coat on both sides of the transparent substrate film 2 A layer 3 and an optical adjustment layer 4 may be provided. And in this case, a protective film may be pasted together so that the outermost layer may be formed on any one side (that is, on the surface of any one optical adjustment layer 4) of transparent substrate film 2 .

また、第二および第三の図示実施の形態においては、第2のハードコート層5に、粒子5aが含まれるが、この粒子5aは含まれなくてもよい。   In the second and third illustrated embodiments, the second hard coat layer 5 contains the particles 5a, but the particles 5a may not be contained.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples.

<実施例1>
透明基材フィルム2は、日本ゼオン株式会社(Zeon Corporation)製「ZeonorFilm ZF16−100(製品名)」を用いた。この透明基材フィルム2の一方の面にコロナ処理を施した後、その一方の面にハードコート層3を積層し、ハードコートフィルムを作製した。さらに、ハードコートフィルムにおけるハードコート層3の表面に光学調整層4を積層して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 1
As the transparent base film 2, "Zeonor Film ZF 16-100 (product name)" manufactured by Zeon Corporation (Nippon Zeon Co., Ltd.) was used. After subjecting one surface of this transparent substrate film 2 to corona treatment, the hard coat layer 3 was laminated on one surface thereof to prepare a hard coat film. Furthermore, the optical adjustment layer 4 was laminated on the surface of the hard coat layer 3 in the hard coat film to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(ハードコート塗工液(1a)の調製)
ディスポカップにDIC株式会社(DIC Corporation)製「PC16−2291(製品名)」と酢酸ブチルとメチルエチルケトン(MEK)を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液(1a)を調整した。
(Preparation of Hard Coat Coating Liquid (1a))
In a disposable cup, "PC16-2291 (product name)" manufactured by DIC Corporation (DIC Corporation), butyl acetate and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following composition ratio to prepare a hard coat coating solution (1a).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(ハードコートフィルム(1A)の作製)
前記ハードコート塗工液(1a)を#5のワイヤーバーを用いて、透明基材フィルム2のコロナ処理した面に塗布し、その後80℃の温度で1.0分間かけて乾燥し、次いで高圧水銀ランプを用いて、光量200mJ/cm2の条件で紫外線を照射し、ハードコートフィルム(1A)を作製した。
(Preparation of hard coat film (1A))
The hard coat coating solution (1a) is applied to the corona-treated side of the transparent substrate film 2 using a # 5 wire bar, and then dried at a temperature of 80 ° C. for 1.0 minutes, and then high pressure A hard coat film (1A) was produced by irradiating ultraviolet rays under the condition of a light amount of 200 mJ / cm 2 using a mercury lamp.

(光学調整層塗工液(1b)の調製)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−816−3L(製品名)」と綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製「ケミスノー(CHEMISNOW)MX−80H3wT(製品名)」とメチルエチルケトン(MEK)を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(1b)を調整した。
(Preparation of Optical Adjustment Layer Coating Liquid (1b))
Aika Kogyo Co., Ltd. (AICAAITRON) Z-816-3L (product name) and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd. The product "CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following composition ratio to prepare an optical adjustment layer coating liquid (1b).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(1B)の作製)
ハードコートフィルム(1A)のハードコート層3の表面に光学調整層塗工液(1b)を#3のワイヤーバーを用いて塗布し、その後80℃の温度で1.0分間かけて乾燥し、次いで、紫外線を透過する窓が上面に設けられた容器の中にフィルムを入れ3分間容器内を窒素雰囲気化に置いた。その後高圧水銀ランプを用いて、光量200mJ/cm2の条件で紫外線を照射し、光学調整層付きハードコートフィルム(1B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (1B) with optical adjustment layer)
The optical adjustment layer coating liquid (1b) is applied to the surface of the hard coat layer 3 of the hard coat film (1A) using a # 3 wire bar, and then dried at a temperature of 80 ° C. for 1.0 minutes. Next, the film was placed in a container provided with an ultraviolet light transmitting window on the top, and the container was placed in a nitrogen atmosphere for 3 minutes. Thereafter, using a high pressure mercury lamp, ultraviolet rays were irradiated under the condition of a light amount of 200 mJ / cm 2 to prepare a hard coat film (1B) with an optical adjustment layer.

<実施例2>
実施例1の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 2
The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層塗工液(2b)の調製)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−816−3L(製品名)」と綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製「ケミスノー(CHEMISNOW)MX−40(製品名)」とメチルエチルケトン(MEK)を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(2b)を調整した。
(Preparation of Optical Adjustment Layer Coating Liquid (2b))
Aika Kogyo Co., Ltd. (AICAAITRON) Z-816-3L (product name) and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd. The product "CHEMISNOW MX-40 (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following composition ratio to prepare an optical adjustment layer coating liquid (2b).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(2B)の作製)
光学調整層塗工液(2b)を使用し、他は実施例1と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(2B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (2B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (2B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical adjustment layer coating liquid (2b) was used.

<実施例3>
実施例1の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 3
The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層塗工液(3b)の調製)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−816−3L(製品名)」と綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製「ケミスノー(CHEMISNOW)MX−150(製品名)」とメチルエチルケトン(MEK)を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(3b)を調整した。
(Preparation of Optical Adjustment Layer Coating Liquid (3b))
Aika Kogyo Co., Ltd. (AICAAITRON) Z-816-3L (product name) and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd. The product "CHEMISNOW MX-150 (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following composition ratio to prepare an optical adjustment layer coating liquid (3b).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(3B)の作製)
光学調整層塗工液(3b)を使用し、他は実施例1と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(3B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (3B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (3B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical adjustment layer coating liquid (3b) was used.

<実施例4>
実施例1のハードコート層3の塗工液を変更して、ハードコートフィルムを作製した。さらに、ハードコートフィルムのハードコート層3の表面に実施例1と同様の光学調整層4を積層して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 4
The coating liquid for the hard coat layer 3 of Example 1 was changed to prepare a hard coat film. Furthermore, the same optical adjustment layer 4 as in Example 1 was laminated on the surface of the hard coat layer 3 of the hard coat film to produce a hard coat film with an optical adjustment layer.

(ハードコート塗工液(4a)の調製)
ディスポカップにDIC株式会社(DIC Corporation)製ハードコート剤「PC16−2291(製品名)」と「PC−16−9081(製品名)」と酢酸ブチルとメチルエチルケトン(MEK)を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液(4a)を調整した。
(Preparation of Hard Coat Coating Liquid (4a))
Dispo cup is mixed with hard coating agent "PC16-2291 (product name)" and "PC-16-9081 (product name)" made by DIC Corporation (DIC Corporation), butyl acetate and methyl ethyl ketone (MEK) in the following composition ratio The hard coat coating solution (4a) was prepared.

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(ハードコートフィルム(4A)の作製)
ハードコート塗工液(4a)を使用し、他は実施例1のハードコートフィルム(1A)の作製と全く同様にして、ハードコートフィルム(4A)を作製した。
(Preparation of hard coat film (4A))
A hard coat film (4A) was produced in the same manner as the production of the hard coat film (1A) of Example 1 except that the hard coat coating solution (4a) was used.

(光学調整層付きハードコートフィルム(4B)の作製)
ハードコートフィルム(4A)を使用し、他は実施例1と全く同様に光学調整層4を積層して、光学調整層付きハードコートフィルム(4B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (4B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (4A) was used, and otherwise the optical adjustment layer 4 was laminated in the same manner as in Example 1 to produce a hard coat film (4B) with an optical adjustment layer.

<実施例5>
実施例4の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 5
The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 4 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層付きハードコートフィルム(5B)の作製)
光学調整層塗工液(2b)を使用し、他は実施例4と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(5B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (5B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (5B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 4 except that the optical adjustment layer coating liquid (2b) was used.

<実施例6>
実施例4の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 6
The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 4 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層付きハードコートフィルム(6B)の作製)
光学調整層塗工液(3b)を使用し、他は実施例4と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(6B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (6B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (6B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 4 except that the optical adjustment layer coating liquid (3b) was used.

<実施例7>
実施例1のハードコート層3の塗工液を変更して、ハードコートフィルムを作製した。さらに、ハードコートフィルムのハードコート層3の表面に実施例1と同様の光学調整層4を積層して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 7
The coating liquid for the hard coat layer 3 of Example 1 was changed to prepare a hard coat film. Furthermore, the same optical adjustment layer 4 as in Example 1 was laminated on the surface of the hard coat layer 3 of the hard coat film to produce a hard coat film with an optical adjustment layer.

(ハードコート塗工液(7a)の調製)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−739L(製品名)」と東レ・ダウコーニング株式会社(Dow Corning Toray Co.,Ltd.)製「8019ADDITIVE(製品名)」とメチルイソブチルケトン(MIBK)を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液(7a)を調整した。
(Preparation of Hard Coat Coating Liquid (7a))
Dispo cup made by Aica Kogyo Co., Ltd. “AICAAITRON Z-739L (product name)” and Toray Dow Corning Co., Ltd. made “8019 ADDITIVE (product name)” and methyl isobutyl ketone (MIBK) were mixed at the following composition ratio to prepare a hard coat coating liquid (7a).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(ハードコートフィルム(7A)の作製)
ハードコート塗工液(7a)を使用し、他は実施例1のハードコートフィルム(1A)の作製と全く同様にして、ハードコートフィルム(7A)を作製した。
(Preparation of hard coat film (7A))
A hard coat film (7A) was produced in the same manner as the production of the hard coat film (1A) of Example 1 except that the hard coat coating solution (7a) was used.

(光学調整層付きハードコートフィルム(7B)の作製)
ハードコートフィルム(7A)を使用し、他は実施例1と全く同様にして光学調整層4を積層して、光学調整層付きハードコートフィルム(7B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (7B) with optical adjustment layer)
Using the hard coat film (7A), the optical adjustment layer 4 was laminated in the same manner as in Example 1 except for the above to prepare a hard coat film (7B) with an optical adjustment layer.

<実施例8>
実施例1の光学調整層付きハードコートフィルム(1B)の透明基材フィルム2の面(他方の面)に実施例1と同様の手順でハードコート層3と光学調整層4を形成し、両面光学調整層付きハードコートフィルム(8B)を作製した。
Example 8
The hard coat layer 3 and the optical adjustment layer 4 are formed on the surface (the other surface) of the transparent base film 2 of the hard coat film (1B) with an optical adjustment layer of Example 1 in the same procedure as in Example 1, A hard coat film (8B) with an optical adjustment layer was produced.

<実施例9>
実施例1の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 9
The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層塗工液(9b)の調製)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−816−3L(製品名)」と綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製「ケミスノー(CHEMISNOW)MX−80H3wT(製品名)」とメチルエチルケトン(MEK)を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(9b)を調整した。
(Preparation of Optical Adjustment Layer Coating Liquid (9b))
Aika Kogyo Co., Ltd. (AICAAITRON) Z-816-3L (product name) and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd. The product "CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)" and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following composition ratio to prepare an optical adjustment layer coating liquid (9b).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(9B)の作製)
光学調整層塗工液(9b)を使用し、他は実施例1と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(9B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (9B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (9B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical adjustment layer coating liquid (9b) was used.

<実施例10>
実施例1の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 10
The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層塗工液(10b)の調製)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−816−3L(製品名)」と綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製ケミスノー(CHEMISNOW)MX−80H3wT(製品名)」とメチルエチルケトン(MEK)を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(10b)を調整した。
(Preparation of Optical Adjustment Layer Coating Liquid (10b))
Aika Kogyo Co., Ltd. (AICAAITRON) Z-816-3L (product name) and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd. Chemisnow (CHEMISNOW) MX-80H3wT (product name) and methyl ethyl ketone (MEK) were mixed at the following composition ratio to prepare an optical adjustment layer coating liquid (10b).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(10B)の作製)
光学調整層塗工液(10b)を使用し、他は実施例1と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(10B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (10B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (10B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical adjustment layer coating liquid (10b) was used.

<実施例11>
実施例1のハードコート層3の塗工液およびワイヤーバーの番手を変更して、ハードコートフィルムを作製した。さらに、ハードコートフィルムのハードコート層3の表面に実施例1と同様の光学調整層4を積層して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 11
The hard coat film was produced by changing the coating solution of the hard coat layer 3 of Example 1 and the counts of the wire bar. Furthermore, the same optical adjustment layer 4 as in Example 1 was laminated on the surface of the hard coat layer 3 of the hard coat film to produce a hard coat film with an optical adjustment layer.

(ハードコート塗工液(11a)の調整)
ディスポカップに日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社(Nippon Paint Automotive Coatings Co.,Ltd.)製「UT−1147/P55(製品名)」と酢酸ブチルとメチルイソブチルケトン(MIBK)を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液(11a)を調整した。
(Adjustment of hard coat coating liquid (11a))
Diso cup "UT-1147 / P55 (product name)" manufactured by Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd. (Nippon Paint Automotive Coatings Co., Ltd.) and butyl acetate and methyl isobutyl ketone (MIBK) in the following composition ratio It mixed and adjusted the hard-coat coating liquid (11a).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(ハードコートフィルム(11A)の作製)
ハードコート塗工液(11a)を使用し、その塗工液の塗布に#7のワイヤーバーを用い、他は実施例1のハードコートフィルム(1A)の作製と全く同様にして、ハードコートフィルム(11A)を作製した。
(Preparation of hard coat film (11A))
A hard coat film is used in exactly the same manner as in the preparation of the hard coat film (1A) of Example 1 except that a hard coat coating liquid (11a) is used, and a # 7 wire bar is used to apply the coating liquid. (11A) was produced.

(光学調整層付きハードコートフィルム(11B)の作製)
ハードコートフィルム(11A)を使用し、他は実施例1と全く同様に光学調整層4を積層して、光学調整層付きハードコートフィルム(11B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (11B) with optical adjustment layer)
Using the hard coat film (11A), the optical adjustment layer 4 was laminated in the same manner as in Example 1 except the above to prepare a hard coat film (11B) with an optical adjustment layer.

<実施例12>
実施例1のハードコート層3の塗工液と光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 12
The coating solution of the hard coat layer 3 and the coating solution of the optical adjustment layer 4 of Example 1 were changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(ハードコート塗工液(12a)の調整)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−735L−35(製品名)」と、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)を次の配合比で混合し、ハードコート塗工液(12a)を調整した。
(Adjustment of hard coat coating liquid (12a))
Dispo cup is mixed with "AICAAITRON Z-735L-35 (product name)" manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. and propylene glycol monomethyl ether (PGM) at the following composition ratio The hard coat coating liquid (12a) was prepared.

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(ハードコートフィルム(12A)の作製)
ハードコート塗工液(12a)を使用し、他は実施例1のハードコートフィルム(1A)の作製と全く同様にして、ハードコートフィルム(12A)を作製した。
(Preparation of hard coat film (12A))
A hard coat film (12A) was produced in the same manner as the production of the hard coat film (1A) of Example 1 except that the hard coat coating solution (12a) was used.

(光学調整層塗工液(12b)の調整)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−816−3L改(製品名)」と、綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製「ケミスノー(CHEMISNOW)MX−80H3wT(製品名)」と、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)と、ビックケミー・ジャパン株式会社(BYK Japan KK)製「BYK−UV3570(製品名)」を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(12b)を調整した。
(Adjustment of optical adjustment layer coating liquid (12b))
Aika Kogyo Co., Ltd. (AICAAITRON) Z-816-3L Kai (product name) made of Aika Kogyo Co., Ltd., and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. .) “CHEMISNOW MX-80H3wT (product name)”, propylene glycol monomethyl ether (PGM) and “BYK-UV 3570 (product name)” manufactured by BYK Japan KK (product name) It mixed by the compounding ratio and adjusted the optical adjustment layer coating liquid (12b).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(12B)の作製)
光学調整層塗工液(12b)を使用し、他は実施例1と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(12B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (12B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (12B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical adjustment layer coating liquid (12b) was used.

<実施例13>
実施例12の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 13
The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 12 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層塗工液(13b)の調整)
ディスポカップにトーヨーケム株式会社(Toyochem Co.,Ltd.)製「リオデュラス(LIODURAS)TYZ−A15−S(製品名)」と、綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製「ケミスノー(CHEMISNOW)MX−80H3wT(製品名)」と、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(13b)を調整した。
(Adjustment of optical adjustment layer coating liquid (13b))
Dispo cup made by Toyochem Co., Ltd. “LIODURAS TYZ-A15-S (product name)” and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. (CHEMISNOW) MX-80H3wT (product name) "and propylene glycol monomethyl ether (PGM) were mixed at the following composition ratio to prepare a coating liquid for optical adjustment layer (13b).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(13B)の作製)
光学調整層塗工液(13b)を使用した他は実施例12と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(13B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (13B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (13B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 12 except that the optical adjustment layer coating liquid (13b) was used.

<実施例14>
実施例13の光学調整層4の乾燥条件を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 14
The drying conditions of the optical adjustment layer 4 of Example 13 were changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層付きハードコートフィルム(14B)の作製)
光学調整層の塗工後の乾燥温度を100℃にした他は実施例13と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(14B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (14B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (14B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 13 except that the drying temperature after the application of the optical adjustment layer was 100 ° C.

<実施例15>
実施例14の光学調整層4の乾燥条件を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 15
The drying conditions of the optical adjustment layer 4 of Example 14 were changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層付きハードコートフィルム(15B)の作製)
光学調整層の塗工後の乾燥温度を130℃にした他は実施例14と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(15B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (15B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (15B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 14 except that the drying temperature after application of the optical adjustment layer was 130 ° C.

<実施例16>
実施例15の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Example 16
The coating liquid for the optical adjustment layer 4 of Example 15 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層塗工液(16b)の調整)
ディスポカップにトーヨーケム株式会社(Toyochem Co.,Ltd.)製「リオデュラス(LIODURAS)TYZ−A15−S(製品名)」と、綜研化学株式会社(Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.)製「ケミスノー(CHEMISNOW)MX−80H3wT(製品名)」と、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(16b)を調整した。
(Adjustment of optical adjustment layer coating liquid (16b))
Dispo cup made by Toyochem Co., Ltd. “LIODURAS TYZ-A15-S (product name)” and Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. (CHEMISNOW) MX-80H3wT (product name) "and propylene glycol monomethyl ether (PGM) were mixed at the following composition ratio to prepare an optical adjustment layer coating liquid (16b).

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(16B)の作製)
光学調整層塗工液(16b)を使用した他は実施例15と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(16B)を作製した。
(Preparation of hard coat film (16B) with optical adjustment layer)
A hard coat film (16B) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 15 except that the optical adjustment layer coating liquid (16b) was used.

<比較例1>
実施例1の光学調整層4の塗工液を変更して、光学調整層付きハードコートフィルムを作製した。
Comparative Example 1
The coating liquid of the optical adjustment layer 4 of Example 1 was changed to prepare a hard coat film with an optical adjustment layer.

(光学調整層塗工液(Xb)の調製)
ディスポカップにアイカ工業株式会社(Aica Kogyo Co.,Ltd.)製「アイカアイトロン(AICAAITRON)Z−816−3L(製品名)」とメチルエチルケトン(MEK)を次の配合比で混合し、光学調整層塗工液(Xb)を調整した。
(Preparation of Optical Adjustment Layer Coating Liquid (Xb))
Optical adjustment by mixing “AICAAITRON Z-816-3L (product name)” and methyl ethyl ketone (MEK) manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd. in a disposable cup in the following composition ratio The layer coating liquid (Xb) was prepared.

Figure 2019012733
Figure 2019012733

(光学調整層付きハードコートフィルム(XB)の作製)
光学調整層塗工液(Xb)を使用し、他は実施例1と全く同様にして、光学調整層付きハードコートフィルム(XB)を作製した。
(Preparation of hard coat film (XB) with optical adjustment layer)
A hard coat film (XB) with an optical adjustment layer was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical adjustment layer coating liquid (Xb) was used.

<実施例17>
実施例1の光学調整層付きハードコートフィルム(1B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム(17)を作製した。
Example 17
An ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film (1B) with an optical adjustment layer of Example 1, and sputtering deposition of 21 nm was performed to prepare a transparent conductive film (17).

<実施例18>
実施例2の光学調整層付きハードコートフィルム(2B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム(18)を作製した。
Example 18
The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film (2B) with an optical adjustment layer of Example 2, and sputtering deposition of 21 nm was performed to prepare a transparent conductive film (18).

<実施例19>
実施例3の光学調整層付きハードコートフィルム(3B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム(19)を作製した。
Example 19
The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film (3B) with an optical adjustment layer of Example 3, and sputtering deposition of 21 nm was performed to prepare a transparent conductive film (19).

<実施例20>
実施例4の光学調整層付きハードコートフィルム(4B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム(20)を作製した。
Example 20
An ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film (4B) with an optical adjustment layer of Example 4, and sputtering deposition of 21 nm was performed to prepare a transparent conductive film (20).

<実施例21>
実施例5の光学調整層付きハードコートフィルム(5B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム(21)を作製した。
Example 21
The ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film (5B) with an optical adjustment layer of Example 5, and sputtering deposition of 21 nm was performed to prepare a transparent conductive film (21).

<実施例22>
実施例6の光学調整層付きハードコートフィルム(6B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、透明導電性フィルム(22)を作製した。
Example 22
An ITO target was used for the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film with optical adjustment layer (6B) of Example 6, and sputtering deposition of 21 nm was performed to prepare a transparent conductive film (22).

<実施例23>
実施例13の光学調整層付きハードコートフィルム(13B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、145℃のオーブンで1時間アニーリング(annealing)し、透明導電性フィルム(23)を作製した。
Example 23
An ITO target is used on the side of the optical adjustment layer 4 of the hard coat film with optical adjustment layer (13B) of Example 13 and sputtering deposition of 21 nm is performed, and annealing is performed in an oven at 145 ° C. for 1 hour. (23) was produced.

<実施例24>
実施例14の光学調整層付きハードコートフィルム(14B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、145℃のオーブンで1時間アニーリング(annealing)し、透明導電性フィルム(24)を作製した。
Example 24
An ITO target is used on the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film (14B) with an optical adjustment layer of Example 14, sputtering deposition of 21 nm is performed, and annealing is performed in an oven at 145 ° C. for 1 hour. (24) was produced.

<実施例25>
実施例15の光学調整層付きハードコートフィルム(15B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、145℃のオーブンで1時間アニーリング(annealing)し、透明導電性フィルム(25)を作製した。
Example 25
An ITO target is used on the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film (15B) with an optical adjustment layer of Example 15, sputtering deposition of 21 nm is performed, and annealing is performed in an oven at 145 ° C. for 1 hour. (25) was produced.

<実施例26>
実施例16の光学調整層付きハードコートフィルム(16B)の光学調整層4側にITOターゲットを用い、21nmのスパッタリング蒸着を行い、145℃のオーブンで1時間アニーリング(annealing)し、透明導電性フィルム(26)を作製した。
Example 26
An ITO target is used on the optical adjustment layer 4 side of the hard coat film with optical adjustment layer (16B) of Example 16, 21 nm sputtering deposition is performed, and annealing is performed in an oven at 145 ° C. for 1 hour to obtain a transparent conductive film. (26) was produced.

<実施例27>
実施例23の透明導電性フィルム(23)のITO層側に銅ターゲットを用い、200nmのスパッタリング蒸着を行い、金属層付き透明導電性フィルム(27)を作製した。
Example 27
Using a copper target on the ITO layer side of the transparent conductive film (23) of Example 23, sputtering deposition was performed at 200 nm to produce a metal layer-carrying transparent conductive film (27).

<実施例28>
実施例26の透明導電性フィルム(26)のITO層側に銅ターゲットを用い、200nmのスパッタリング蒸着を行い、金属層付き透明導電性フィルム(28)を作製した。
Example 28
Using a copper target on the ITO layer side of the transparent conductive film (26) of Example 26, sputtering deposition was performed at 200 nm to produce a metal layer-carrying transparent conductive film (28).

<光学調整層付きハードコートフィルムの評価結果>
光学調整層付きハードコートフィルムの評価結果を、次の表15および表16に示す。
<Evaluation result of hard coat film with optical adjustment layer>
The evaluation results of the hard coat film with the optical adjustment layer are shown in the following Tables 15 and 16.

Figure 2019012733
Figure 2019012733

Figure 2019012733
Figure 2019012733

表15および表16から明らかなように、実施例1〜16における光学調整層付きハードコートフィルムは、光学調整層4に光学調整層4の平均膜厚よりも平均粒径の大きい粒子4aを含み、光学調整層4の特定部分の算術平均粗さRaが0.3nm〜10nmであり、Hz(ヘイズ)が低く、静摩擦係数が1よりも低く、粒子脱落もない。この光学調整層付きハードコートフィルムは視認性が良く、光学調整層の表面に透明導電層を設けた場合でも充分な耐ブロッキング性を得ることができる。   As apparent from Table 15 and Table 16, the hard coat film with an optical adjustment layer in Examples 1 to 16 includes particles 4 a having an average particle diameter larger than the average thickness of the optical adjustment layer 4 in the optical adjustment layer 4. The arithmetic average roughness Ra of a specific portion of the optical adjustment layer 4 is 0.3 nm to 10 nm, the Hz (haze) is low, the static friction coefficient is lower than 1, and no particle detachment occurs. The hard coat film with the optical adjustment layer has good visibility, and even when a transparent conductive layer is provided on the surface of the optical adjustment layer, sufficient blocking resistance can be obtained.

また、比較例1の光学調整層付きハードコートフィルムも、視認性が良好であるが、光学調整層4に粒子を添加しておらず、静摩擦係数が1を超えている。このため、透明導電層を表面に設けた場合には、充分な耐ブロッキング性が得られていない。   Further, the hard coat film with an optical adjustment layer of Comparative Example 1 also has good visibility, but no particles are added to the optical adjustment layer 4 and the static friction coefficient exceeds 1. Therefore, when the transparent conductive layer is provided on the surface, sufficient blocking resistance can not be obtained.

<透明導電性フィルムの評価結果>
透明導電性フィルムの評価結果を、次の表17および表18に示す。
<Evaluation result of transparent conductive film>
The evaluation results of the transparent conductive film are shown in the following Tables 17 and 18.

Figure 2019012733
Figure 2019012733

Figure 2019012733
Figure 2019012733

表17および表18において、実施例17〜26における透明導電性フィルムは、実施例1〜6および実施例13〜16の光学調整層付きハードコートフィルムを使用しているが、Hz(ヘイズ)が低く、静摩擦係数が低い。この透明導電性フィルムは、視認性がよく、透明導電層付きであっても充分な耐ブロッキング性を有している。また、実施例23〜26における透明導電性フィルムは光学調整層の表面の谷側面積が、661780μm2当たり200000μm2以下であり、電気抵抗値も低い。In Tables 17 and 18, the transparent conductive films in Examples 17 to 26 use the hard coat film with the optical adjustment layer of Examples 1 to 6 and Examples 13 to 16, but the Hz (haze) Low, low static friction coefficient. This transparent conductive film has good visibility and has sufficient blocking resistance even with a transparent conductive layer. Moreover, the valley side area of the surface of an optical adjusting layer in the transparent conductive films in Examples 23 to 26 is not more than 200,000 μm 2 per 661780 μm 2 , and the electric resistance value is also low.

<金属層付き透明導電性フィルムの評価結果>
金属層付き透明導電性フィルムの評価結果を、次の表19に示す。
<Evaluation result of transparent conductive film with metal layer>
The evaluation results of the metal layer-carrying transparent conductive film are shown in Table 19 below.

Figure 2019012733
Figure 2019012733

表19において、実施例27〜28における金属層付き透明導電性フィルムは、実施例23および実施例26の透明導電性フィルムを使用しているが、電極となる金属層を付けても充分な耐ブロッキング性を有している。   In Table 19, the transparent conductive film with a metal layer in Examples 27 to 28 uses the transparent conductive films of Example 23 and Example 26, but the metal layer serving as an electrode is sufficiently resistant It has blocking properties.

<評価方法>
(Hz)
日本電色工業株式会社(Nippon Denshoku Industries Co.,Ltd.)製「Haze Meter NDH2000(製品名)」を用い、JIS−K7136の方法で測定した。
<Evaluation method>
(Hz)
It measured by the method of JIS-K7136 using "Haze Meter NDH2000 (product name)" by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

(視認性)
3波長蛍光灯の透過光を目視観察し、粒が殆ど見えない場合を○とし、粒が目視できるが1つ1つの粒がはっきりと見えない場合を△とし、1つ1つの粒がはっきり見える場合を×とした。
(Visibility)
The transmitted light of the three-wavelength fluorescent lamp was visually observed, and the case where the particles were hardly visible was ○, the particles were visible but the particles were not clearly visible, and △, the particles were clearly visible. The case was marked x.

(耐ブロッキング性)
株式会社島津製作所(Shimadzu Corporation)製「オートグラフ(AUTOGRAPH)AG−IS MS(AG−1kNIS)(製品名)」を用いて、摩擦方向60mm×50mmの面積に4.4kg重の垂直荷重を加えて試料の測定面同士の静摩擦係数を測定した。静摩擦係数が1以上である場合を×とし、1未満である場合を○とした。
(Blocking resistance)
Using “AUTOGRAPH AG-IS MS (AG-1kNIS) (product name)” manufactured by Shimadzu Corporation (Shimadzu Corporation), an area of 60 mm × 50 mm in the friction direction was subjected to a vertical load of 4.4 kg. The coefficient of static friction between the measurement surfaces of the sample was measured. The case where the static friction coefficient is 1 or more is taken as x, and the case where it is less than 1 is taken as o.

(粒子脱落)
テスター産業株式会社(Tester Sangyo Co.,Ltd.)製「AB−301 COLOR FASTNESS RUBBING TESTER(製品名)」を用い、ネル布(16号双糸ネルWKF2254)を500gの荷重で500往復光学調整層の面を擦り、その後表面を、株式会社キーエンス(Keyence Corporation)製「マイクロスコープ(Microscope)VHX−1000(製品名)」を用い粒子4aの脱落が無いか確認した。粒子4aの脱落がないものを○とし、粒子4aの脱落のあるものを×とした。
(Particle dropout)
500 reciprocation optical adjustment layer with a load of 500 g using “AB-301 COLOR FASTNESS RUBBING TESTER (product name)” manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd. (Tester Sangyo Co., Ltd.) with a load of 500 g The surface was rubbed, and then the surface was checked using a "Microscope VHX-1000 (product name)" manufactured by Keyence Corporation for whether or not the particles 4a were detached. The thing without drop-off | omission of particle | grains 4a was made into (circle), and the thing with drop-off | omission of particle | grains 4 was made into x.

(ハードコート層の平均膜厚)
ハードコート層3の平均膜厚は、フィルメトリクス(Filmetrics)株式会社製「Filmetrics F20 膜厚測定システム(製品名)」を用いて測定した。
(Average film thickness of hard coat layer)
The average film thickness of the hard coat layer 3 was measured using “Filmetrics F20 film thickness measurement system (product name)” manufactured by Filmetrics, Inc.

(光学調整層の平均膜厚)
光学調整層4の膜厚は、以下の手順で測定した。
(1)株式会社島津製作所(Shimadzu Corporation)製「UV3600(製品名)」を用い、波長380〜800nmにおける反射率を測定し波形を得る。
(2)光学シミュレーションソフトにて、光学調整層4の膜厚以外の積層膜の情報[構成、透明基材フィルム2の屈折率(1.52とした)と厚さ、ハードコート層3の屈折率(1.50とした)と平均膜厚(前記のハードコート層3の平均膜厚の測定値)、光学調整層の屈折率(実施例13〜16は1.60とした。その他の実施例は1.62とした)]を入れる。
(3)光学シミュレーションの光学調整層に任意の膜厚を入力して得られた波形と、(1)で得られた波形とが一致したときの膜厚値を、光学調整層の平均膜厚とする。
すなわち、株式会社島津製作所(Shimadzu Corporation)製「UV3600(製品名)」を用い干渉波形を得た後、測定した干渉波形とシミュレーションによる計算波形とが一致する膜厚値を光学調整層の平均膜厚とした。
(Average film thickness of optical adjustment layer)
The film thickness of the optical adjustment layer 4 was measured by the following procedure.
(1) Using "UV3600 (product name)" manufactured by Shimadzu Corporation (Shimadzu Corporation), the reflectance at a wavelength of 380 to 800 nm is measured to obtain a waveform.
(2) Information of the laminated film other than the film thickness of the optical adjustment layer 4 in optical simulation software [Configuration, refractive index of the transparent base film 2 (set to 1.52) and thickness, refraction of the hard coat layer 3 Rate (1.50), average film thickness (the measured value of the average film thickness of the above hard coat layer 3), and refractive index of the optical adjustment layer (Examples 13 to 16 1.60) Other Implementations An example is given as 1.62)).
(3) The average film thickness of the optical adjustment layer is a film thickness value when the waveform obtained by inputting an arbitrary film thickness into the optical adjustment layer of the optical simulation matches the waveform obtained in (1) I assume.
That is, after obtaining an interference waveform using "UV 3600 (product name)" manufactured by Shimadzu Corporation (Shimadzu Corporation), the film thickness value at which the measured interference waveform matches the calculated waveform by simulation is used as the average film of the optical adjustment layer It was thick.

(ハードコート層に含有される粒子の平均粒径)
国際標準化機構規格ISO 13320を基とする日本工業規格JIS Z8825に従うレーザ回折・散乱法により得られる体積基準の粒子径分布の算術平均値を、粒子の平均粒径とした。
(Average particle size of particles contained in hard coat layer)
The arithmetic mean value of the volume-based particle size distribution obtained by the laser diffraction / scattering method according to Japanese Industrial Standard JIS Z8825 based on International Standardization Mechanism Standard ISO 13320 was taken as the average particle size of the particles.

(光学調整層に含有される粒子の平均粒径)
国際標準化機構規格ISO 13320を基とする日本工業規格JIS Z8825に従うレーザ回折・散乱法により得られる体積基準の粒子径分布の算術平均値を、粒子の平均粒径とした。
(Average particle size of particles contained in the optical adjustment layer)
The arithmetic mean value of the volume-based particle size distribution obtained by the laser diffraction / scattering method according to Japanese Industrial Standard JIS Z8825 based on International Standardization Mechanism Standard ISO 13320 was taken as the average particle size of the particles.

(光学調整層の特定部分の算術平均粗さRa)
三菱ケミカルシステム株式会社(Mitsubishi Chemical Systems,Inc.)(旧社名:株式会社菱化システム(Ryoka Systems Inc.))製「非接触表面・層断面形状計測システムVertScan2.0(型式:R5300GL−L−A100−AC)(製品名)」を用いて50mm×50mmに切り出したサンプルをステージに置き、10倍レンズにて表面形状の測定を行った。その後、測定データを観察し、光学調整層4に含まれる粒子4aにより形成される凸部を除く特定部分において50μm×50μmの範囲の算術平均粗さRaを算出した。
(Arithmetic mean roughness Ra of a specific part of the optical adjustment layer)
Non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system VertScan 2.0 (type: R5300GL-L-) manufactured by Mitsubishi Chemical Systems, Inc. (old company name: Ryoka Systems Inc.) A sample cut into 50 mm × 50 mm using A100-AC) (product name) was placed on a stage, and the surface shape was measured with a 10 × lens. Thereafter, the measurement data was observed, and the arithmetic average roughness Ra in the range of 50 μm × 50 μm was calculated in the specific portion excluding the convex portion formed by the particles 4 a included in the optical adjustment layer 4.

(光学調整層含有粒子の個数N)
三菱ケミカルシステム株式会社(Mitsubishi Chemical Systems,Inc.)(旧社名:株式会社菱化システム(Ryoka Systems Inc.))製「非接触表面・層断面形状計測システムVertScan2.0(型式:R5300GL−L−A100−AC(製品名))を用いて、50mm×50mmに切り出したサンプルをステージに置き、10倍レンズにて表面形状の測定を行った。その後、測定データの粒子解析を実行し1mm×1mmにおける、光学調整層4の表面から50nm以上の高さのある粒子個数を数えた。
(Number of particles containing optical adjustment layer N)
Non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system VertScan 2.0 (type: R5300GL-L-) manufactured by Mitsubishi Chemical Systems, Inc. (old company name: Ryoka Systems Inc.) The sample cut into 50 mm × 50 mm was placed on the stage using A100-AC (product name), the surface shape was measured with a 10 × lens, and then particle analysis of the measurement data was performed to obtain 1 mm × 1 mm. The number of particles having a height of 50 nm or more from the surface of the optical adjustment layer 4 was counted.

(光学調整層の表面の谷側面積)
三菱ケミカルシステム株式会社(Mitsubishi Chemical Systems,Inc.)(旧社名:株式会社菱化システム(Ryoka Systems Inc.))製「非接触表面・層断面形状計測システムVertScan2.0(型式:R5300GL−L−A100−AC(製品名))」を用いて、50mm×50mmに切り出したサンプルをステージに置き、5倍レンズにて表面形状の測定を行った。その後、測定データのベアリング解析を実行し、粒子4aの存在していない部分の光学調整層4の平均高さから3nm以上谷側である面積(光学調整層の表面の谷側面積)を、661780μm2当たりの値で算出した。
(Valley side area of the surface of the optical adjustment layer)
Non-contact surface / layer cross-sectional shape measurement system VertScan 2.0 (type: R5300GL-L-) manufactured by Mitsubishi Chemical Systems, Inc. (old company name: Ryoka Systems Inc.) The sample cut into 50 mm × 50 mm was placed on a stage using “A100-AC (product name))”, and the surface shape was measured with a 5 × lens. After that, bearing analysis of the measurement data is performed, and the area (valley side area of the surface of the optical adjustment layer) on the valley side of 3 nm or more from the average height of the optical adjustment layer 4 of the portion where the particles 4a are not present is 661780 μm Calculated as per 2 values.

(透明導電性フィルムの電気抵抗値)
株式会社三菱ケミカルアナリテック(Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.)(旧社名:株式会社三菱化学アナリテック)製「Loresta−GP(型式:MCP−T610)(製品名)」を用いて測定した。
(Electric resistance value of transparent conductive film)
It measured using "Loresta-GP (type: MCP-T610) (product name)" made by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. (old company name: Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) (old name: Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.).

以上に示す光学調整層付きハードコートフィルムおよび透明導電性フィルムは、静電容量式のタッチパネル等に好適に用いられる。   The hard coat film with an optical adjustment layer and the transparent conductive film described above are suitably used for a capacitive touch panel or the like.

1 光学調整層付きハードコートフィルム
2 透明基材フィルム
3 ハードコート層
3a 粒子
4 光学調整層
4a 粒子
6 保護フィルム
1 hard coat film with optical adjustment layer 2 transparent substrate film 3 hard coat layer 3a particle 4 optical adjustment layer 4a particle 6 protective film

Claims (9)

非晶性ポリマーからなる透明基材フィルムと、その透明基材フィルムの少なくとも一方の面に順に積層されたハードコート層およびその上の光学調整層とを備える、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルムであって、
前記光学調整層には、複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記光学調整層の平均膜厚よりも大きく、その平均粒径r1と、その平均膜厚d1とが、
50nm≦(r1−d1)≦1900nm
の関係にあり、また、
前記光学調整層の表面の、前記粒子により形成される凸部を除く特定部分における算術平均粗さRaが、0.3nm〜20nmの範囲にある、透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
Optical adjustment layer for transparent conductive film, comprising a transparent substrate film made of amorphous polymer, a hard coat layer sequentially laminated on at least one surface of the transparent substrate film, and an optical adjustment layer thereon Hard coated film with
The optical adjustment layer contains a plurality of particles, and the average particle diameter of the particles is larger than the average film thickness of the optical adjustment layer, and the average particle diameter r1 and the average film thickness d1 are
50 nm ≦ (r1−d1) ≦ 1900 nm
And also,
Hard coat with an optical adjustment layer for a transparent conductive film having an arithmetic average roughness Ra in the range of 0.3 nm to 20 nm in a specific part of the surface of the optical adjustment layer excluding the convex part formed by the particles the film.
前記光学調整層に含有される粒子の平均粒径r1は、100nm〜2000nmの範囲にあり、その平均粒径r1(nm)と、その粒子の個数N(個/mm2)とが、
199.03exp(−0.002r1)≦N≦3676.4exp(−0.002r1)
の関係にある、請求項1に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
The average particle diameter r1 of the particles contained in the optical adjustment layer is in the range of 100 nm to 2000 nm, and the average particle diameter r1 (nm) and the number N (particles / mm 2 ) of the particles are
199.03 exp (-0.002 r1) N N 367 3676.4 exp (-0.002 r1)
The hard coat film with an optical adjusting layer for a transparent conductive film according to claim 1, which is in the relation of
前記光学調整層の平均膜厚d1と、その光学調整層に含有される粒子の平均粒径r1とが、
(d1/r1)<0.5
の関係にある、請求項1または2に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
An average film thickness d1 of the optical adjustment layer and an average particle diameter r1 of particles contained in the optical adjustment layer,
(D1 / r1) <0.5
The hard coat film with the optical adjustment layer for transparent conductive films of Claim 1 or 2 which has the relationship of (1).
前記ハードコート層には、複数の粒子が含有され、それら粒子の平均粒径は、前記ハードコート層の平均膜厚よりも小さく、それら粒子は、前記ハードコート層の表面に偏在している、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。   The hard coat layer contains a plurality of particles, the average particle size of the particles is smaller than the average film thickness of the hard coat layer, and the particles are unevenly distributed on the surface of the hard coat layer. A hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film according to any one of claims 1 to 3. 前記ハードコート層の平均膜厚d2と、そのハードコート層に含有される粒子の平均粒径r2とが、
(d2/r2)>2
の関係にある、請求項4に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。
The average film thickness d2 of the hard coat layer and the average particle size r2 of the particles contained in the hard coat layer are
(D2 / r2)> 2
The hard coat film with an optical adjustment layer for transparent conductive films according to claim 4, which is in the relation of
前記光学調整層の表面の谷側面積が、661780μm2当たり200000μm2以下である、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。The hard coat film with an optical adjusting layer for a transparent conductive film according to any one of claims 1 to 5, wherein the valley side area of the surface of the optical adjusting layer is not more than 200,000 μm 2 per 661780 μm 2 . 前記ハードコート層および前記光学調整層は、前記透明基材フィルムの一方の面に設けられ、その透明基材フィルムの他方の面側に、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされている、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。   The hard coat layer and the optical adjustment layer are provided on one surface of the transparent substrate film, and a protective film is attached to the other surface of the transparent substrate film so as to form an outermost layer. A hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6. 前記ハードコート層および前記光学調整層は、前記透明基材フィルムの両方の面に設けられ、その透明基材フィルムのいずれか一方の面側に、最外層を形成するように保護フィルムが貼り合わされている、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の透明導電性フィルム用の光学調整層付きハードコートフィルム。   The hard coat layer and the optical adjustment layer are provided on both sides of the transparent substrate film, and a protective film is attached to one side of the transparent substrate film so as to form an outermost layer. A hard coat film with an optical adjustment layer for a transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6. 請求項1ないし8のいずれか1項に記載の光学調整層付きハードコートフィルムにおける、光学調整層の表面に、透明導電層が形成されてなる、透明導電性フィルム。   The transparent conductive film in which the transparent conductive layer is formed in the surface of the optical adjustment layer in the hard coat film with an optical adjustment layer of any one of Claims 1-8.
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