KR102313623B1

KR102313623B1 - 저점도 히알루론산 제조방법

Info

Publication number: KR102313623B1
Application number: KR1020190094124A
Authority: KR
Inventors: 박지용; 김성한; 이현아; 김정운
Original assignee: 연세대학교 산학협력단; 주식회사 뉴트렉스테크놀러지
Priority date: 2019-08-02
Filing date: 2019-08-02
Publication date: 2021-10-19
Also published as: KR20210015377A

Abstract

본 발명의 일실시예는 저점도 히알루론산의 제조방법을 제공하고, 보다 구체적으로는 광촉매-자외선 처리를 이용하여 저점도 히알루론산의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따라 제조된 히알루론산은 점도가 현저히 감소하였고 또한 미생물 및 생물독성(엔도톡신)의 수치가 감소하였다.

Description

저점도 히알루론산 제조방법{A METHOD FOR PREPARING HYALURONIC ACID WITH LOW VISCOSITY}

본 발명은 히알루론산 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 점도가 낮아진 히알루론산 제조방법에 관한 것이다.

히알루론산(hyaluronic acid)는 동물 등의 피부에 많이 존재하는 생체 합성 천연 물질이다. 수산화기(-OH)가 많기 때문에 친수성 물질이며, 동물 등의 피부에서 보습 작용의 역할을 한다. 인간의 피부에도 존재하며, 특히 지렁이의 피부에 많은 것으로 알려져 있다. 보습 작용이 있으므로 화장품 등에 많이 들어있다. 다양한 상피세포에서 발현되어 있는 CD44단백질과 반응하여 다양한 생리적 작용을 조절한다. 특히, 황산콘드로이틴 등과 함께 주요한 뮤코다당류로 알려져 있다. N-아세틸글루코사민과 글루쿠론산이 교대로 사슬 모양으로 결합한 분자량이 20만∼40만 되는 고분자 화합물이다. 눈의 초자체나 탯줄 등에 존재하며, 점성이 크고 세균의 침입이나 독물의 침투를 막는 데 중요하다. 또한, 히알루론산은 식물의 펙틴질과 비슷하며, 히알루로니다아제에 의하여 가수분해된다.

히알루론산은 피부 속에 원래 존재하는 성분으로, 노화에 따라 그 양이 줄어들면서 피부가 건조해지고 잔주름도 생긴다. 히알루론산은 자기 몸 크기의 200배에 달하는 수분을 끌어당겨 저장하는 능력을 갖고 있다. 그래서 최근에는 바르는 히알루론산 화장품이나 비타민처럼 먹는 히알루론산 영양제가 인기다. 하지만 인체의 대사과정상 피부 진피층까지 히알루론산이 흡수되는 데는 한계가 있다.　 히알루론산은 체내에서 연골과 관절을 부드럽게 하는 완충작용의 역할을 한다. 퇴행성관절염 등의 영향으로 관절 내 히알루론산이 감소하면 외부 충격을 흡수하지 못해 관절 손상이 심해지게 되는데, 일반적으로 무릎연골주사로 알려진 주사법이 바로 관절에 히알루론산을 주입하는 방법이다. 현재 국내외적으로 히알루론산이 함유된 먹는 화장품의 매출이 폭발적으로 성장하고, 바르고 먹는 것으로 모자라 레이저로 피부 속까지 주입시키는 등 관련 시장이 활기를 띠고 있다.　

하지만, 기존 히알루론산이 첨가된 화장품 제형의 경우, 대부분 히알루론산의 높은 점도와 높은 가격으로 인해 0.01% 내지 0.02%의 저농도로 첨가하여 사용하였다. 히알루론산을 0.05% 이상 고농도로 함유하는 제품의 경우 에센스 또는 이멀젼의 형태로만 사용할 수 있었다. 일반적으로 기능성 화장품 원료의 대부분은 제형 내에 2% 이상 함유되어야 그 기능을 발휘할 것으로 기대 할 수 있으나, 기존 대부분의 화장품 제형에 함유된 히알루론산의 양은 0.01~0.02% 정도의 극미량이어서 히알루론산 자체의 효과를 얻을 수 없었다. 히알루론산에 기인한 보습 효과의 극대화를 위하여 1% 이상 함유하는 경우 점도의 증가로 인하여 사용 시 피부 당김 등의 현상으로 사용감이 현저히 떨어지거나 도포 후 시간 경과에 따라 피부 표면에 필름 형태로 남는 문제점이 있는 상황이다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 저점도 히알루론산을 제공하는 것이고, 보다 구체적으로 광촉매-자외선으로 처리하여 저점도 히알루론산을 제공하는 것이다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일측면에 따른 저점도 히알루론산 제조방법은

히알루론산 또는 그의 염을 준비하는 단계;

상기 히알루론산 또는 그의 염을 용매에 넣어서 용액화시키는 단계; 및

상기 용액화된 히알루론산 또는 그의 염을 광촉매-자외선으로 처리하는 단계;

를 포함할 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 용매는 수계용매일 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 수계용매는 아세트산을 포함하는 약산성 용매, 물 및 알코올로 이루어진 군에서 선택되는 하나일 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 광촉매는 TiO₂, ZnO, WO₃, CdS, ZnS, GaP 및 CdSe로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 광촉매-자외선 처리 단계는 상기 광촉매가 코팅되어 있는 튜브에 히알루론산을 순환시키면서 자외선을 조사하는 것일 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 자외선은 파장대가 180nm 내지 400nm일 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 광촉매-자외선 처리 단계는 1내지 5시간동안 이루어질 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 저점도 히알루론산은 점도가 광촉매-자외선 처리 전보다 80% 내지 90% 낮아질 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 저점도 히알루론산은 오염미생물이 저감화된 것일 수 있다.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 저점도 히알루론산은 엔도톡신(endotoxin)이 저감화된 것일 수 있다.

본 발명의 실시예에 따라 제조된 저점도 히알루론산은 종래의 히알루론산보다 점도가 80%이상 줄어들 수 있고, 오염미생물과 엔토톡신이 저감화될 수 있다.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

도 1은 광촉매-자외선 처리된 히알루론산의 점도측정 결과값을 나타낸 것이다.
도2는 광촉매-자외선 처리된 히알루론산의 엔도톡신(Endotoxin) 측정 결과값을 나타낸 것이다.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

본 발명의 일측면에 따른 저점도 히알루론산 제조방법은 1) 히알루론산 또는 그의 염을 준비하는 단계; 2) 상기 히알루론산 또는 그의 염을 용매에 넣어서 용액화시키는 단계; 및 3) 상기 용액화된 히알루론산 또는 그의 염을 광촉매-자외선으로 처리하는 단계;를 포함할 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 용매는 수계용매일 수 있으며, 상기 수계용매는 아세트산을 포함하는 약산성 용매, 물 및 알코올로 이루어진 군에서 선택되는 하나일 수 있다. 바람직하게는 상기 수계용매는 물일 수 있다.

상기 히알루론산 또는 그의 염은 용액상태일 수 있다. 이는 분말이나 고체상태의 히알루론산을 광촉매-자외선 처리 단계에 사용할 경우, 본 발명의 일실시예에 따른 저점도 히알루론산 제조를 하기 힘들며, 또한 오염미생물이 저감화되거나 엔도톡신 저감화를 기대하기 힘들기 때문이다.

경제적이고 환경 친화적인 광촉매 반응을 이용한 연구가 집중적으로 이루어지고 있는데, 상기 광촉매-자외선으로 처리하는 단계에서 상기 광촉매는 TiO₂, ZnO, WO₃, CdS, ZnS, GaP 및 CdSe로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나일 수 있으며, 바람직하게는 TiO₂일 수 있다. 본 발명의 일실시예에 따르면, TiO₂입자 표면에 자외선(UV)을 조사하면 TiO₂ 촉매 역할에 의한 연속 반응으로 수산화라디칼(hydroxyl radical, ·OH)이 생성되며, 이 수산화 라디칼은 염소나 산처리공정처리시 추가되는 탈염공정이 필요하지 않기 때문에 히알루론산의 점도조절 및 물성 개량에 적절할 수 있다. 그리고, TiO₂는 광에 의한 자체 분해 반응이 일어나지 않고, 매우 풍부한 자원이기 때 문에 경제적이며, 광촉매로서 내구성 및 내 마모성이 우수하다. 또한 그 자체로서 무독 물질이어서 폐기하여도 2차 공해에 대한 염려가 없는 바, 환경 정화용 광촉매로서도 매우 적합하다. 특히, 광촉매의 조건과 활성을 고려해 볼 때, 빛을 받아도 자신은 변화하지 않아 반영구적으로 사용할 수 있고, 염소나 오존보다 산화력이 높기 때문에 살균력이 뛰어나며, trihalomethane 등의 염소 소독의 부산물들을 효과적으로 처리할 수 있어 TiO₂는 대표적인 광촉매 물질로서 적합할 수 있다.

상기 광촉매-자외선 처리단계에서 상기 자외선은 가시광선보다는 파장이 짧고 X선보다는 파장이 긴 전자기파로서 10 내지 400nm의 파장에서 통상의 기술자에게 널리 알려진 자외선 영역을 조사할 수 있다. 바람직하게는 히알루론산의 점도를 낮추기 위하여 자외선의 파장 중 자외선C (Ultraviolet C, UVC)를 사용할 수 있다. 상기 UVC는 100 내지 280 nm 파장의 자외선으로 햇빛에도 포함되어 있으나 대기에 거의 완벽히 흡수되어서 지표에는 잘 도달하지 못하고, 파장이 짧아 에너지가 자외선 중 가장 높다. 상기 UVC는 자외선 파장 중 가장 짧은 파장을 갖는다 하여 short wave라 통칭하고 각종 미생물을 죽일 수 있는 효과가 있어서 germicidal range라 부르며, 특히 100 내지 200 nm 사이는 오존(O₃)을 형성시켜주는 효과가 있어서 ozone forming range (대표 파장 184.9 nm)라고 한다.

상기 광촉매-자외선 처리단계는 광촉매-자외선 장치로 수행될수 있으며, 사용된 자외선은 바람직하게는, 254 nm 파장으로 광도는 25 mW/cm²로서 자외선 복사계(radiometer)를 사용하여 측정될 수 있다.

상기 광촉매-자외선 장치는 석영 튜브(quartz tube)를 포함할 수 있으며 상기 석영 튜브는 바람직하게는 이산화티타늄(TiO₂)광촉매가 코팅된 것일 수 있다. 상기 광촉매-자외선 장치를 통한 광촉매 및 UVC처리는 에어펌프(air pump)를 이용하여 공기를 불어 넣어줌으로써 처리하는 동안 시료가 고르게 섞일 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 광촉매-자외선 처리 단계는 상기 광촉매가 코팅되어 있는 튜브에 히알루론산을 순환시키면서 자외선을 조사하는 것일 수 있다. 즉, 상기 광촉매-자외선 장치에서 히알루론산을 계속 순환시키면서 자외선을 조사하여 처리하는 것일 수 있다. 본 발명의 다른 실시예에 있어서, 상기 광촉매-자외선 처리 단계는 1내지 5시간동안 이루어질 수 있다. 다시 말해서, 상기 광촉매-자외선 장치에서 히알루론산을 순환시키면서 자외선을 조사하는 시간이 1 내지 5시간일 수 있으며, 더 구체적으로 1 내지 3시간일 수 있다. 바람직하게는 1시간일 수 있다. 또한, 상기 자외선의 파장영역은 180nm 내지 400nm일 수 있으며, 바람직하게는 185nm 내지 400nm일 수 있고, 보다 바람직하게는 185nm 내지 370nm일 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따라 제조된 저점도 히알루론산은 점도가 100 내지 800 cP일 수 있다. 이는 종래의 히알루론산 점도보다 80% 내지 90% 감소된 것이다. 그리고, 본 발명의 일실시예에 따라 제조된 저점도 히아루론산은 분자량에 있어서 유의미하게 차이가 나지 않을 수 있다. 즉, 광촉매-자외선 처리가 히알루론산의 점도를 낮출 수 있지만 히알루론산을 저분자화시키지 않을 수 있다.

본 발명의 다른 일실시예에 따르면, 상기 저점도 히알루론산은 오염미생물이 저감화된 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 오염미생물은 측정이 되지 않을 정도로 감소했다. 여기서, 상기 오염미생물은 세균 및 진균 등을 포함할 수 있으며, 상기 세균은 원핵생물로서 일반적으로 그람양성 및 음성으로 구별되며 그람양성에는 식중독을 일으키는 포도상구균이 그람음성에는 심내막염, 폐렴, 수막염, 폐혈증을 일으키는 녹농균, 장내설사 복통을 일으키는 살모넬라균 등을 포함할 수 있다. 그리고, 상기 진균은 포자를 형성하면서 증식하는 곰팡이 효모가 이에 속하며 곰팡이는 병원 내 공기감염을 일으키는 것이 있으며 페니실린 등을 생산하는 것도 있다.

본 발명의 또다른 실시예에 있어서, 상기 저점도 히알루론산은 엔도톡신(endotoxin)이 저감화된 것일 수 있다. 상기 엔도톡신은 그람 음성 세균(E. coli 등)의 세포 외벽에 있는 독성 분자이다. 엔도톡신은 polysaccharide, lipid A, 기타 cell wall 성분들의 복합체이며, 일반적으로 포유 동물에서 발열을 유발하므로 pyrogen으로 불린다. 즉, 엔도톡신은 Limulus Amebocyte의 intracellular proenzyme system을 활성화시킴으로써 LAL의 clotting protein인 coaglulin을 수식하여 불투명하고 불용성의 gel을 형성하게 할 수 있다. 본 발명의 제조방법에 따라 제조된 저점도 히알루론산은 종래의 히알루론산보다 엔도톡신이 5배 내지 8배 감소될 수 있다.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.

실시예1. 광촉매-자외선(UVTP)를 이용한 저점도 히알루론산 제조

Sodium hyaluronate와 증류수를 1% 농도(w/v)로 혼합하여 하룻동안 녹여 용액을 만든다. TIO₂가 코팅된 관이 설치된 UVC관(파장: 185nm~370nm)에 페리스탤틱 펌프(Peristaltic Pump)를 이용하여 히알루론산 용액(HA solution)을 순환시켜 히드록실 라디칼(hydroxyl radical)을 히알루론산에에 1~5시간동안 적용시킨다. 이후에 UVTP가 적용된 히알루론산 용액을 동결건조 시켰다.

시험예1. 광촉매-자외선 처리된 히알루론산의 점도 측정

실시예1에서 제조된 히알루론산 용액50~200ml을 점도계 (Brookfield DV2T)를 사용하여 25℃, Spindle 61~65, 50~200rpm의 조건 하에서 점도를 측정하였고, 그 결과는 표1에 나타내었다.

히알루론산 용액	점도(cP)
HA Solution(1%)	1473
UVTP 30min	690
UVTP 60min	182.4

표1의 점도 결과값을 살펴보면, 광촉매-자외선 처리 후 히알루론산의 점도가 88% 감소했다. 여기서 UVTP 30min은 광촉매-자외선 처리가 30분동안 이루어진 히알루론산 용액이고, UVTP 60min은 광촉매-자외선 처리가 60분동안 이루어진 히알루론산 용액이다.

시험예2. 광촉매-자외선 처리된 히알루론산의 엔도톡신(Endotoxin) 측정

실시예1에서 제조된 히알루론산 용액을, LAL Kinetic Assay를 이용하여 엔도톡신을 측정하였다. 먼저, CSE (Control Standard Endotoxin)을 용해하여 STD와 spike용액을 제작했다. 이후에 LAL시약을 용해하였고, LAL 용액과 CSE용액 그리고 10~200배로 희석시킨 히알루론산 용액 샘플을 96 WELL 에 분주 후 37 °C에서 1~2시간동안 405nm에서 OD값을 측정하여 엔도톡신을 측정하였다. 그 결과는 표2에 나타내었다.

히알루론산 용액	Endotoxin (EU)
HA Solution(1%)	6.719
UVTP 60min	1.1765
UVTP 120min	0.7945

표2의 결과값을 살펴보면 광촉매-자외선으로 처리한 히알루론산 용액에서 엔도톡신이 5배 내지 8배로 감소했다.

시험예3. 광촉매-자외선 처리된 히알루론산의 미생물 측정

실시예1에서 제조된 히알루론산 용액의 미생물 변화를 측정하였다. 총 균수는 검체 중에 존재하는 세균 중 표준 한천 배지 내에서 발육할 수 있는 균의 수를 말한다. 이 방법은 검체와 표준한천배지를 페트리디시 접시 중에서 혼합 응고시켜 배양 후 발생한 세균의 집락수로부터 검체 중의 생균 수를 산출하였다.

(1) 시액 및 시약 준비

- 보통한천배지(Nutrient agar)

Beef extract: 3.0g, Peptone 5.0g 및 Agar 15.0g 증류수를 가하여 1,000mL로 만들고 pH 7.0±0.2로 조정한 후 121℃로 15분간 멸균하였다.

- 멸균 생리 식염수

0.9% 염화 나트륨 수용액으로, 121℃로 15분간 멸균하여 사용하였다.

(2) 시험 방법

실시예1에서 제조된 히알루론산 용액 1g을 10배~10000배 희석, 용해시킨 다음, 패트리디시에 1ml을 붇고 43~45℃의 멸균된 보통 한천 배지 25~50mL를 투입하고, 배지가 굳기 전에 흔들어 섞었다.

응고시킨 후, 37℃에서 48시간 배양하였다. 배양 후 생성된 집락(콜로니)의 수를 측정하고 이를 희석배수를 대입하여 총 균수를 측정한 후 그 결과를 표 3에 나타내었다.

히알루론산 용액	Total aerobic counts (CFU)
HA Solution(1%)	1.53
UVTP 30min	0.30
UVTP 60min	ND

표3의 결과값을 살펴보면, 광촉매-자외선으로 처리된 히알루론산 용액의 미생물은 측정되지 않을 정도로 감소하였다.

시험예4. 광촉매-자외선 처리된 히알루론산의 분자량 측정

실시예1에서 제조된 히알루론산 용액의 분자량 변화를 측정하기 위해 GPC(Gel Permeation Chromatography, Agilent 1100s)를 이용하였다. 광촉매-자외선 처리 후 동결건조된 히알루론산을 아래의 조건으로 분자량 분석을 하였다.

25℃로 설정된 GFC기기(Agilent 1100s)에 H₂0 + 0.2 M NaNO₃ + 0.01 M NaH₂PO₄(pH 7)의 용매를 1.0 ml/min의 Flow-rate로 준비시켜 제조된 동결건조 히알루론산을 PL Aquagel-OH phase에 통과시킨 후 통과된 시간에 따른 분자량을 분석 후 그 결과를 표 4 에 나타내었다.

히알루론산 용액	Retention time (min)	분자량(g/mol)
HA Solution(1%)	11.075 - 23.251	7.8579*10⁵
UVTP 30min	11.069 - 22.137	6.7448*10⁵
UVTP 60min	11.130 - 23.436	2.4603*10⁵

표4의 결과값을 살펴보면, 광촉매-자외선 처리된 히알루론산의 분자량은 자외선 노출시간에 따라 유의미한 감소를 보이진 않았다.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims

히알루론산 또는 그의 염을 준비하는 단계;
상기 히알루론산 또는 그의 염을 용매에 넣어서 용액화시키는 단계; 및
상기 용액화된 히알루론산 또는 그의 염을 광촉매-자외선으로 처리하는 단계;
를 포함하는 저점도 히알루론산 제조방법으로서,
상기 광촉매는 TiO₂인 것을 특징으로 하고,
상기 광촉매-자외선 처리 단계는 TiO₂ 광촉매가 코팅된 석영튜브를 포함하는 광촉매-자외선 장치로 수행되는 것을 특징으로 하며,
상기 광촉매-자외선 처리 단계는 상기 광촉매가 코팅되어 있는 석영튜브에 히알루론산을 순환시키면서 자외선을 조사하는 것을 특징으로 하고,
상기 저점도 히알루론산은 엔도톡신(endotoxin)이 저감화된 것을 특징으로 하는, 저점도 히알루론산 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 용매는 수계용매인 것을 특징으로 하는 저점도 히알루론산 제조방법.
제2항에 있어서,
상기 수계용매는 아세트산을 포함하는 약산성 수용액, 물 및 알코올 수용액으로 이루어진 군에서 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는 저점도 히알루론산 제조방법.
삭제
삭제
제1항에 있어서,
상기 자외선은 파장대가 180nm 내지 400nm인 것을 특징으로 하는 저점도 히알루론산 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 광촉매-자외선 처리 단계는 1내지 5시간동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 저점도 히알루론산 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 저점도 히알루론산은 점도가 광촉매-자외선 처리 전보다 80% 내지 90% 낮아진 것을 특징으로 하는 저점도 히알루론산 제조방법.
제1항에 있어서,
상기 저점도 히알루론산은 오염미생물이 저감화된 것을 특징으로 하는 저점도 히알루론산 제조방법.
삭제