KR102312140B1 - 투명 토너 조성물 - Google Patents

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Abstract

오프셋 평판 인쇄 (또는 오프셋 인쇄)용 투명 토너 조성물. 이러한 투명 토너 조성물은 예를들면, 저 수준의 헤이즈를 포함한 바람직한 특성을 보인다.

Description

투명 토너 조성물{CLEAR TONER COMPOSITIONS}
본 실시태양들은 투명 토너 조성물에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 이들 실시태양은 오프셋 평판 (offset lithography) (또는 오프셋 인쇄)에 사용되는 투명 토너에 관한 것이다.
오프셋 프로세스에서, 이미지는 중간 전달체, 또는 블랭켓 실린더를 통해 간접적으로 매체, 예컨대 용지 또는 기타 재료에 적용되고, 여기에서 플레이트로부터 이미지가 먼저 블랭켓 실린더에 적용된 후, 블랭켓 실린더에서 매체로 오프셋, 또는 전달된다.
오프셋 인쇄를 효과적으로 완료하고, 또는 고품질 색상 적용 또는 특수 효과를 위하여, 평판 프린터는 때로 제5 정전 복사 스테이션을 추가하여 제5 컬러를 부가함으로써 색역 확대를 가능하게 한다. 임의의 소정 시간에, 평판 인쇄기는 CMYK 토너 더하기 색역 확대가 요망되는 색 공간에 따라 제5 스테이션에서 제5 컬러를 운영한다. 제5 컬러는 4색 믹스 (시안, 마젠타, 엘로우 및 블랙)에 추가하여 임의의 별색 (spot color) 또는 투명 (clear) 잉크이다.
시스템 성능을 증대시키기 위하여, 인쇄물에서 자국 (impression)의 광택 또는 밝은 특정 영역 (highlight specific area)을 개선하기 위하여 (스폿 바니쉬 (spot varnish)라고도 알려짐) 제5 정전 복사 스테이션에서 운전되는 투명 토너를 개발할 필요가 있다. 이는 그래픽 아트 (Graphic Arts) 마켓을 겨냥하는 시스템에서 상당히 매력적이다. 제5 스테이션에 투명 토너를 로딩함으로써, 최종 사용자는 원하는 아웃풋을 높이기 위하여 이러한 기능을 사용할 수 있다.
따라서, 고 광택 및 저 헤이즈 (low haze)를 보이는 투명 토너에 대한 필요성이 존재한다.
본 개시는 폴리에스테르 수지, 고도 가교화 수지, 및 표면에 적용되는 표면 첨가제를 포함하는 토너 입자를 가지고; 토너의 % 헤이즈는 약 1% 내지 약 15%인 토너 조성물을 제공한다.
소정의 실시태양들에서, 본 개시는 토너 조성물을 제공하고, 조성물은 토너 입자를 가지고, 입자는 폴리에스테르 수지, 가교화 수지, 이때 폴리에스테르 수지 대 고도 가교화 수지의 중량비는 약 90%: 10% 내지 약 80%: 20%, 및 표면 첨가제를 포함하고 첨가제는 입자 표면에 도포되는 음전하 실리카, 양전하 실리카 및 금속산화물을 포함하고, 토너의 % 헤이즈는 약 1% 내지 약 15%이다.
소정의 실시태양들에서, 본 개시는 토너 조성물을 제공하고 조성물은 토너 입자를 포함하고, 입자는 폴리에스테르 수지; 가교화 수지, 이때 폴리에스테르 수지 대 가교화 수지의 중량비는 약 90%: 10% 내지 약 80%: 20%; 표면에 적용되는 표면 첨가제를 포함하고, 상기 표면 첨가제는 음전하 실리카, 양전하 실리카 및 이산화티탄을 포함하고; 토너의 % 헤이즈는 약 1% 내지 약 15%이고, 토너의 탄성계수는 약 1680 dyn/cm2 내지 약 2300 dyn/cm2이고, 점성계수는 약 250 dyn/cm2 내지 약 385 dyn/cm2이다.
다양한 본 발명의 실시태양들이 도면들을 참조하여 이하 기술될 것이다:
도 1은 본 발명의 실시태양에 의한 투명 토너 및 2개의 대조 컬러 토너에 대하여 측정된 J-구역 마찰전기 전하를 보이는 그래프이다.
도 2는본 발명의 실시태양에 의한 투명 토너의 단위 영역 당 두 상이한 총 질량 (TMA) 수준에서 주요 컬러: 마젠타, 엘로우, 시안, 블랙, 레드 및 그린에 대한 광택 측정 도표이다.
본 실시태양들은 15% 이하의 낮은 수준의 헤이즈를 가지는 투명 토너를 제공한다. 본원에서 사용되는 바와 같이, 헤이즈는 일반적으로 재료 필름 또는 시트를 통과하는 빛의 산란에 의한 혼탁 외관 (cloudy appearance)을 의미한다. 빛은 필름에 있는 입자들, 예컨대 안료들 또는 오염물, 불완전한 표면, 또는 미세 섬유에 의해 산란된다. 또한 투명 토너의 경우, 도메인을 형성하는 성분들의 불화합성 (incompatibility)은 혼탁 또는 흐린 외관을 보인다. 포괄적으로, 헤이즈는 투명 표면에서의 빛 산란으로 측정된다. 헤이즈 비율이 크면, 토너 투명성이 낮아진다. 필름에 대한 헤이즈는 분광 광도계 또는 헤이즈 미터로 ASTM 방법 D1003-95에 의거 측정된다. 헤이즈 미터는 단일 콜리메이트 빔 (collimated beam)을 가지는 선회 광원을 이용한다. 광은 샘플을 통과하고 구체 일측에 진입하고 구체 반대 측의 출구 포트로 향한다. 광원에 제1 위치에 있을 때, 빛은 출구 포트에서 진출하고 차광판 (light trap)에 흡수된다. 광원이 선회하면, 빔은 구체 벽을 향하여 확산된다. 구체 내의 검출기는 광원 C (Illuminant C)로 필터링 되고 2°로 산란되는 빛의 %가 계산된다. % 헤이즈는 식 % 헤이즈 = 100% * (Tdif)/(TT)로 계산되고 Tdif 는 2 ° 이상에서 산란되는 확산광 비율이고 TT 는 샘플을 통과하는 빛의 총 비율이다. 하나 이상의 실시태양들에서, 필름의 헤이즈 값은 25% 미만이다. 기타 실시태양들에서, 헤이즈는 약 1% 내지 약 15%, 약 6.5% 내지 약 15%, 약 4.5% 내지 약 10% 약 4.5% 내지 약 6.5%이다. 또한 토너 투명도는 투명 토너 층을 가지는 투명 기재를 블랙 배경에 배치하여 시각적으로 평가된다.
본 실시태양들 토너의 광택 값은 약 70 내지 약 90 ggu, 약 72 내지 약 88 ggu, 또는 약 75 내지 약 85 ggu이다.
기재 상의 토너 광택은 토너 입자의 점탄성 함수이다. 최종 광택 제품에 영향을 주는 점탄성은 전형적으로 특성비 tan δ로 기술된다. Tan δ는 저장 탄성률 G' (탄성계수) 및 손실 탄성률 G'' (점성계수)의 비율이다. 탄성계수는 토너의 탄력성과 연관되고 점성계수는 토너의 가소성과 연관된다. 부착된 이미지의 충분한 광택을 유지하기 위하여, 가소성에 대한 탄력성의 비율을 조정하면서 원하는 탄력성을 유지하는 것이 중요하다. 본 실시태양들 토너의 탄성계수는 약 1680 dyn/cm2 내지 약 2520 dyn/cm2, 약 1890 dyn/cm2 내지 약 2300 dyn/cm2, 또는 약 2100 dyn/cm2이다. 본 실시태양들 토너의 점성계수는 약 250 dyn/cm2 내지 약 385 dyn/cm2, 약 290 dyn/cm2 내지 약 350 dyn/cm2, 또는 약 320 dyn/cm2이다. 점성 및 탄성계수 모두는 140 ºC 및 주파수 40 rad/sec에서 측정된다.
본 실시태양의 투명 토너 조성물은 폴리에스테르 수지 및 고도 가교화 폴리에스테르 수지를 포함한다. 예를들면, 고도 가교화 폴리에스테르의 가교도는 약 19 % 내지 약 49 %, 약 25 % 내지 약 40 %, 또는 약 30 % 내지 약 35 %이다. 폴리에스테르 수지는 결정질, 비정질 또는 이들의 조합일 수 있다. 본 발명자들은 고도 가교화 수지에 대한 폴리에스테르 수지의 중량비는 토너 광택도 뿐 아니라 헤이즈에서도 중요하다는 것을 알았다. 고 광택 특성 및 저 헤이즈를 달성하기 위하여, 폴리에스테르 수지 대 고도 가교화 수지의 중량비는 약 90%:10% 내지 약 80%:20%, 약 80%:20% 내지 약 85%:15%, 약 88%:12% 내지 약 92%:8% 범위에 있어야 한다.
수지
적합한 폴리에스테르 수지는, 예를들면, 결정질, 비정질, 이들의 조합, 및 기타 등을 포함한다. 폴리에스테르 수지는 선형, 분지형, 이들의 조합, 및 기타 등일 수 있다. 폴리에스테르 수지는, 실시태양들에서, 미국특허번호 6,593,049 및 6,756,176에 기술된 수지를 포함한다. 적합한 수지는 미국특허번호 6,830,860에 기술된 바와 같이 비정질 폴리에스테르 수지 및 결정질 폴리에스테르 수지의 혼합물을 포함한다.
결정질 수지
실시태양들에서, 결정질 수지는 임의선택적 촉매 존재에서 디올과 이산 (diacid)과의 반응으로 형성되는 폴리에스테르 수지일 수 있다. 결정질 폴리에스테르를 형성하기 위하여, 적합한 유기 디올은 약 2 내지 약 36 개의 탄소원자를 가지는 지방족 디올, 예컨대 1,2-에탄디올, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 1,10-데칸디올, 1,12-도데칸디올 및 기타 등; 알칼리 술포-지방족 디올 예컨대 소디오 2-술포-1,2-에탄디올, 리티오 2-술포-1,2-에탄디올, 포타시오 2-술포-1,2-에탄디올, 소디오 2-술포-1,3-프로판디올, 리티오 2-술포-1,3-프로판디올, 포타시오 2-술포-1,3-프로판디올, 이들 혼합물, 및 기타 등을 포함한다. 지방족 디올은, 예를들면, 약 40 내지 약 60 몰% 함량으로 선택될 수 있다 (그외 범위 함량도 가능).
결정질 수지 제조에 선택되는 비닐 이산 또는 비닐 디에스테르를 포함하는 유기 이산 또는 디에스테르의 예시로는 옥살산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 푸마르산, 디메틸 푸마레이트, 디메틸 이타코네이트, cis-1,4-디아세톡시-2-부텐, 디에틸 푸마레이트, 디에틸 말레에이트, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 나프탈렌-2,6-디카르복실산, 나프탈렌-2,7-디카르복실산, 시클로헥산 디카르복실산, 말론산, 메사콘산, 및 디에스테르 또는 이의 무수물을 포함한다. 유기 이산은, 예를들면, 실시태양들에서 약 40 내지 약 60 몰%로 선택될 수 있다.
결정질 수지의 예시로는 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리에틸렌, 폴리부틸렌, 폴리이소부티레이트, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, 폴리프로필렌, 이들 혼합물, 및 기타 등을 포함한다. 특정 결정질 수지는 폴리에스테르계, 예컨대 폴리(에틸렌-아디페이트), 폴리(프로필렌-아디페이트), 폴리(부틸렌-아디페이트), 폴리(펜틸렌-아디페이트), 폴리(헥실렌-아디페이트), 폴리(옥틸렌-아디페이트), 폴리(에틸렌-숙시네이트), 폴리(프로필렌-숙시네이트), 폴리(부틸렌-숙시네이트), 폴리(펜틸렌-숙시네이트), 폴리(헥실렌-숙시네이트), 폴리(옥틸렌-숙시네이트), 폴리(에틸렌-세바케이트), 폴리(프로필렌-세바케이트), 폴리(부틸렌-세바케이트), 폴리(펜틸렌-세바케이트), 폴리(헥실렌-세바케이트), 폴리(옥틸렌-세바케이트), 폴리(데실렌-세바케이트), 폴리(데실렌-데카노에이트), 폴리(에틸렌-데카노에이트), 폴리(에틸렌 도데카노에이트), 폴리(노닐렌-세바케이트), 폴리(노닐렌-데카노에이트), 코폴리(에틸렌-푸마레이트)-코폴리(에틸렌-세바케이트), 코폴리(에틸렌-푸마레이트)-코폴리(에틸렌-데카노에이트), 코폴리(에틸렌-푸마레이트)-코폴리(에틸렌-도데카노에이트) 및 기타 등일 수 있다. 폴리아미드 예시로는 폴리(에틸렌-아디파미드), 폴리(프로필렌-아디파미드), 폴리(부틸렌-아디파미드), 폴리(펜틸렌-아디파미드), 폴리(헥실렌-아디파미드), 폴리(옥틸렌-아디파미드), 폴리(에틸렌-숙신이미드), 및 폴리(프로필렌-세바카미드)를 포함한다. 폴리이미드 예시로는 폴리(에틸렌-아디피미드), 폴리(프로필렌-아디피미드), 폴리(부틸렌-아디피미드), 폴리(펜틸렌-아디피미드), 폴리(헥실렌-아디피미드), 폴리(옥틸렌-아디피미드), 폴리(에틸렌-숙신이미드), 폴리(프로필렌-숙신이미드), 및 폴리(부틸렌-숙신이미드)를 포함한다.
적합한 결정질 수지는 미국공개번호 2006/0222991에 기재된 것을 포함한다. 실시태양들에서, 적합한 결정질 수지는 에틸렌 글리콜 및 도데칸디오산 및 푸마르산 공단량체의 혼합물로 구성된다.
결정질 수지는 다양한 융점, 예를들면, 약 30℃. 내지 약 120℃., 실시태양들에서, 약 50℃. 내지 약 90℃를 가진다. 결정질 수지의 겔침투크로마토그래피 (GPC)로 측정된 수평균분자량(Mn) 은, 예를들면, 약 1,000 내지 약 50,000, 실시태양들에서, 약 2,000 내지 약 25,000이고, GPC로 측정되는 중량평균분자량 (Mw)은, 예를들면, 약 2,000 내지 약 100,000, 실시태양들에서, 약 3,000 내지 약 80,000이다. 결정질 수지의 분자량 분포 (Mw/Mn)는, 예를들면, 약 2 내지 약 6, 실시태양들에서, 약 3 내지 약 4이다. 결정질 폴리에스테르 수지의 산가는 약 1 meq KOH/g 미만, 약 0.5 내지 약 0.65 meq KOH/g, 실시태양들에서, 약 0.65 내지 약 0.75 meq KOH/g, 약 0.75 내지 약 0.8 meq KOH/g이다.
비정질 수지
비정질 폴리에스테르 제조에 선택되는 이산 또는 디에스테르의 예시로는 테레프탈산, 프탈산, 이소프탈산, 푸마르산, 말레산, 이타콘산, 숙신산, 숙신산무수물, 도데실숙신산, 도데실숙신산무수물, 글루타르산, 글루타르산무수물, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 도데칸이산, 디메틸 테레프탈레이트, 디에틸 테레프탈레이트, 디메틸이소프탈레이트, 디에틸이소프탈레이트, 디메틸프탈레이트, 프탈산무수물, 디에틸프탈레이트, 디메틸숙시네이트, 디메틸푸마레이트, 디메틸말레에이트, 디메틸글루타레이트, 디메틸아디페이트, 디메틸 도데실숙시네이트, 및 이들 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 디카르복실산 또는 디에스테르를 포함한다. 유기 이산 또는 디에스테르는, 예를들면, 수지의 약 45 내지 약 52 몰%로 선택된다.
비정질 폴리에스테르 제조에 적용되는 디올의 예시로는 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 펜탄디올, 헥산디올, 2,2-디메틸프로판디올, 2,2,3-트리메틸헥산디올, 헵탄디올, 도데칸디올, 비스(히드록시에틸)-비스페놀 A, 비스(2-히드록시프로필)-비스페놀 A, 1,4-시클로헥산디메탄올, 1,3-시클로헥산디메탄올, 자일렌디메탄올, 시클로헥산디올, 디에틸렌 글리콜, 비스(2-히드록시에틸) 옥시드, 디프로필렌 글리콜, 디부틸렌 글리콜, 1,2-에탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올, 1,8-옥탄디올, 1,9-노난디올, 1,10-데칸디올, 1,12-도데칸디올, 및 기타 등; 알칼리 술포-지방족 디올, 예컨대, 소디오 2-술포-1,2-에탄디올, 리티오 2-술포-1,2-에탄디올, 포타시오 2-술포-1,2-에탄디올, 소디오 2-술포-1,3-프로판디올, 리티오 2-술포-1,3-프로판디올, 포타시오 2-술포-1,3-프로판디올, 이들 혼합물, 및 기타 등, 및 이들 혼합물을 포함한다. 선택되는 유기 디올 함량은 가변적이고, 더욱 상세하게는, 예를들면, 수지의 약 45 내지 약 52 몰%이다.
알칼리가 리튬, 나트륨, 또는 칼륨인 알칼리 술폰화 2관능성 단량체 실시예로는, 디메틸-5-술포-이소프탈레이트, 디알킬-5-술포-이소프탈레이트-4-술포-1,8-나프탈산무수물, 4-술포-프탈산, 4-술포페닐-3,5-디카르보메톡시벤젠, 6-술포-2-나프틸-3,5-디카르보메톡시벤젠, 술포-테레프탈산, 디메틸-술포-테레프탈레이트, 디알킬-술포-테레프탈레이트, 술포-에탄디올, 2-술포-프로판디올, 2-술포-부탄디올, 3-술포-펜탄디올, 2-술포-헥산디올, 3-술포-2-메틸펜탄디올, N,N-비스(2-히드록시에틸)-2-아미노에탄 술폰산염, 2-술포-3,3-디메틸펜탄디올, 술포-p-히드록시벤조산, 이들 혼합물, 및 기타 등을 포함한다. 2관능성 단량체 유효 함량으로, 예를들면, 수지의 약 0.1 내지 약 2 wt %가 선택될 수 있다.
예시적 비정질 폴리에스테르 수지는, 제한되지는 않지만, 프로폭시화 비스페놀 A 푸마레이트 수지, 폴리(프로폭시화 비스페놀 코-푸마레이트), 폴리(에톡시화 비스페놀 코-푸마레이트), 폴리(부톡시화 비스페놀 코-푸마레이트), 폴리(코-프로폭시화 비스페놀 코-에톡시화 비스페놀 코-푸마레이트), 폴리(1,2-프로필렌 푸마레이트), 폴리(프로폭시화 비스페놀 코-말레에이트), 폴리(에톡시화 비스페놀 코-말레에이트), 폴리(부톡시화 비스페놀 코-말레에이트), 폴리(코-프로폭시화 비스페놀 코-에톡시화 비스페놀 코-말레에이트), 폴리(1,2-프로필렌 말레에이트), 폴리(프로폭시화 비스페놀 코-이타코네이트), 폴리(에톡시화 비스페놀 코-이타코네이트), 폴리(부톡시화 비스페놀 코-이타코네이트), 폴리(코-프로폭시화 비스페놀 코-에톡시화 비스페놀 코-이타코네이트), 폴리(1,2-프로필렌 이타코네이트), 코폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트)-코폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-테레프탈레이트), 터폴리 (프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트)-터폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-테레프탈레이트)-터폴리-(프로폭시화 비스페놀 A 코-도데실숙시네이트), 및 이들의 조합을 포함한다.
실시태양들에서, 적합한 비정질 폴리에스테르 수지는 폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트) 수지일 수 있다. 이러한 수지 및 제조 공정의 예시로는 미국특허번호 6,063,827에 개시된 것들을 포함한다.
라텍스 수지로 이용될 수 있는 선형 프로폭시화 비스페놀 A 푸마레이트 수지의 예시는 Resana S/A Industrias Quimicas, Sao Paulo Brazil의 상표명 SPARII로 입수될 수 있다. 적용 가능하고 상업적으로 입수 가능한 기타 프로폭시화 비스페놀 A 폴리에스테르계 수지는 Kao Corporation, Japan의 XP767, FXC-42 및 FXC-56, 및 Reichhold, Research Triangle Park, N.C.의 XP777, 및 기타 등을 포함한다.
실시태양들에서, 본 발명의 토너에 적용될 수 있는 적합한 비정질 수지는 때로 올리고머로 알려진 저분자량 비정질 수지이고, 실시태양들에서, Mw는 약 500 달톤 내지 약 10,000 달톤, 실시태양들에서, 약 1000 달톤 내지 약 5000 달톤, 실시태양들에서, 약 1500 달톤 내지 약 4000 달톤이다. 비정질 수지의 Tg는 약 58.5℃. 내지 약 66℃, 실시태양들에서, 약 60℃. 내지 약 62℃이다. 저분자량 비정질 수지의 연화점은 약 105℃. 내지 약 118℃., 실시태양들에서, 약 107℃. 내지 약 109℃이다. 비정질 폴리에스테르 수지의 산가는 약 8 내지 약 20 meq KOH/g, 실시태양들에서, 약 10 내지 약 16 meq KOH/g, 실시태양들에서, 약 11 내지 약 15 meq KOH/g이다.
기타 실시태양들에서, 본 개시의 토너 형성에 적용되는 비정질 수지는 고분자량 비정질 수지일 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같이, 고분자량 비정질 폴리에스테르 수지의, 예를들면, GPC로 측정된 Mn은, 예를들면, 약 1,000 내지 약 10,000, 실시태양들에서, 약 2,000 내지 약 9,000, 실시태양들에서, 약 3,000 내지 약 8,000, 실시태양들에서 약 6,000 내지 약 7,000이다. 수지의 Mw는 GPC로 측정되는 바와 같이 45,000 이상, 예를들면, 약 45,000 내지 약 150,000, 실시태양들에서, 약 50,000 내지 약 100,000, 실시태양들에서, 약 63,000 내지 약 94,000, 실시태양들에서, 약 68,000 내지 약 85,000이다. 분자량 분포와 동일한 다분산지수 (PD)는, GPC로 측정될 때 약 4 이상, 예컨대, 예를들면, 실시태양들에서, 약 4 내지 약 20, 실시태양들에서, 약 5 내지 약 10, 실시태양들에서, 약 6 내지 약 8이다. 여러 소스로부터 입수되는 고분자량 비정질 폴리에스테르 수지는 다양한 융점, 예를들면, 약 30℃. 내지 약 140℃., 실시태양들에서, 약 75℃. 내지 약 130℃., 실시태양들에서, 약 100℃. 내지 약 125℃., 실시태양들에서, 약 115℃. 내지 약 124℃를 가진다. 고분자량 비정질 수지의 Tg는 약 53℃. 내지 약 58℃., 실시태양들에서, 약 54.5℃. 내지 약 57℃이다.
추가 실시태양들에서, 조합된 비정질 수지의 용융 점도는 약 130℃에서 약 10 내지 약 1,000,000 Pa*S, 실시태양들에서, 약 50 내지 약 100,000 Pa*S이다.
촉매
결정질 또는 비정질 폴리에스테르 형성에 적용될 수 있는 중축합 촉매는 테트라알킬 티탄산염, 산화디알킬주석, 예컨대, 산화디부틸주석, 테트라알킬주석, 예컨대, 디부틸주석 디라우레이트, 및 산화디알킬주석 수산화물, 예컨대, 산화부틸주석 수산화물, 알루미늄 알콕시드, 알킬 아연, 디알킬 아연, 산화아연, 산화주석, 또는 이들의 조합을 포함한다. 이러한 촉매는, 예를들면, 폴리에스테르 수지 제조에 사용되는 출발 이산 또는 디에스테르 기준으로 약 0.01 몰% 내지 약 5 몰%로 사용된다.
가교 수지
선형 또는 분지형 불포화 폴리에스테르는 반응 압출에 의해 고도 가교화 폴리에스테르로 전환될 수 있다. 선형 또는 분지형 불포화 폴리에스테르는 포화 및 불포화 이산 (또는 무수물) 및 이가 알코올 (글리콜 또는 디올) 모두를 포함한다. 형성된 불포화 폴리에스테르는: (i) 폴리에스테르 사슬을 따라 있는 불포화 자리 (이중 결합), 및 (ii) 관능기, 예컨대, 산-염기 반응이 가능한 카르복실, 히드록시 및 유사한 기에서 반응성(예를들면, 가교성)이다. 불포화 폴리에스테르 수지는 이산 및/또는 무수물 및 디올을 이용하여 용융 중축합 또는 기타 중합 공정으로 제조될 수 있다. 불포화 폴리에스테르의 예시로는 임의의 다양한 폴리에스테르, 예컨대 SPAR™ (Dixie Chemicals), BECKOSOL™ (Reichhold Inc), ARAKOTE™ (Ciba-Geigy Corporation), HETRON™ (Ashland Chemical), PARAPLEX™ (Rohm & Hass), POLYLITE™ (Reichhold Inc), PLASTHALL™ (Rohm & Hass), CYGAL™ (American Cyanamide), ARMCO™ (Armco Composites), ARPOL™ (Ashland Chemical), CELANEX™ (Celanese Eng), RYNITE™ (DuPont), STYPOL™ (Freeman Chemical Corporation), 선형 불포화 폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트) 폴리에스테르, XP777 (Reichhold Inc.), 이들 혼합물 및 기타 등을 포함한다. 수지는 또한 관능화, 예컨대, 카르복실화, 술폰화 또는 기타, 예컨대, 소디오 술폰화될 수 있다.
가교화 수지는 (1) 선형 또는 분지형 불포화 폴리에스테르를 용융 혼합 장치에 녹이고; (2) 바람직하게는 화학적 가교 개시제로 고분자 용융물 가교를 개시하고 반응 온도를 올리고; (3) 고분자 용융물을 용융 혼합 장치에 선형 또는 분지형 수지의 부분 가교가 달성되기에 충분한 체류 시간 유지하고; (4) 전단 및 혼합 과정에서 겔 입자 형성 및 파괴를 유지하고 고분자 용융물 중 양호한 분산을 위해 가교 반응 중에 충분히 높은 전단을 제공하고; (5) 임의선택적으로 고분자 용융물을 탈 휘발하여 임의의 용출 휘발성 물질을 제거하고; 및 (6) 최종 수지에서 원하는 수준의 겔 함량을 달성하기 위하여 가교 후 임의선택적으로 추가 선형 또는 분지형 수지를 첨가하여 제조된다. 본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 “겔”은 고분자 내의 가교화 도메인을 의미한다. 화학 개시제 예컨대, 예를들면, 본 발명의 가교화 수지 제조에 있어서 유기 과산화물 또는 아조-화합물이 사용된다. 하나의 실시태양에서, 개시제는 1,1-디(t-부틸 퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산이다.
하나의 실시태양에서, 고도 가교화 수지는 불포화 폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트) 폴리에스테르 수지에서 제조된다.
표면 첨가제
본 실시태양들의 토너 조성물은 하나 이상의 표면 첨가제를 포함한다. 표면 첨가제는 토너 입자 표면에 도포되어, 토너 입자의 약 50% 내지 약 99%, 약 60 % 내지 약 90%, 또는 약 70 % 내지 약 80%의 총 표면적을 제공한다. 본 실시태양의 토너 조성물은 토너 총 중량 기준으로 약 2.7% 내지 약 4.0 %, 약 3.0% 내지 약 3.7 %, 또는 약 3.1% 내지 약 3.5 %의 표면 첨가제를 포함한다.
표면 첨가제는 실리카, 티타니아 및 스테아레이트를 포함한다. 토너의 하전 (charging) 및 유동 특성은 표면 첨가제 선택 및 토너에서의 농도에 의해 영향을 받는다. 표면 첨가제 농도 및 크기 및 형상은 토너 입자 표면에서 이들 구성을 제어한다. 실시태양들에서, 실리카는 2종의 코팅 실리카를 포함한다. 더욱 상세하게는, 2종의 실리카 중 하나는 음전하 실리카이고, 다른 실리카는 양전하 실리카이다 (캐리어에 비하여). 음전하란 첨가제가 토너 표면에 대하여 음전하라는 것을 의미하고 첨가제 존재 및 부재에서 토너 마찰전기 전하로 측정된다. 유사하게, 양전하란 첨가제가 토너 표면에 대하여 양전하를 띤다는 것을 의미하고 첨가제 존재 및 부재에서 토너 마찰전기 전하로 측정된다.
음전하 실리카 실시예로는 DeGussa/Nippon Aerosil Corporation에서 입수되는 NA50HS를 포함하고, 이는 헥사메틸디실라잔 및 아미노프로필트리에톡시실란의 혼합물로 코팅된 흄 실리카이다 (주요 입자 크기가 대략 30 나노미터이고 응집물 크기가 약 350 나노미터).
상대적으로 양전하 실리카의 실시예는 폴리디메틸실록산 단위 또는 세그먼트를 가지고, 고도의 소수성 흄 실리카 표면에 화학적으로 결합되는 아미노/암모늄 관능기를 가지는 H2050 실리카를 포함하고, 코팅 실리카의 BET 표면적은 약 110 내지 약 ±20 m2 /g이다 (Wacker Chemie에서 입수).
음전하 실리카는 표면 첨가제 중량 기준으로 약 1.6 % 내지 약 2.4 %, 약 1.8 % 내지 약 2.2 %, 약 1.9 % 내지 약 2.1 %로 존재한다.
양전하 실리카는 표면 첨가제 중량 기준으로 약 0.08 % 내지 약 0.12 %, 약 0.09 % 내지 약 0.11 %, 약 0.09 % 내지 약 0.1 % 존재한다.
음전하 실리카 대 양전하 실리카의 비율은, 예를들면, 중량 기준으로 약 13:1 내지 약 30:1, 또는 약 15:1 내지 약 25:1이다.
표면 첨가제는 또한 티타니아를 포함한다. 티타니아는 표면 첨가제 중량 기준으로 약 0.53 % 내지 약 0.9 %, 약 0.68 % 내지 약 0.83 %, 약 0.7 % 내지 약 0.8 % 존재한다. 본원에서 사용에 적합한 티타니아는, 예를들면, Tayca Corp. 에서 입수되는 SMT5103를 포함하고, 데실실란으로 처리되는 크기가 약 25 내지 약 55 nm인 티타니아이다.
음전하 실리카 대 티타니아의 중량비는 약 1.8:1 내지 약 4.5:1, 약 2.2:1 내지 약 3.2:1, 또는 약 2.5:1 내지 약 3.0:1이다.
표면 첨가제는 또한 윤활제 및 전도성 조제, 예를들면 지방산의 금속염 예컨대, 스테아르산아연, 스테아르산칼슘을 포함한다. 적합한 예시로는 Ferro Corp. 의 Zinc Stearate L, 또는 Ferro Corp. 의 스테아르산칼슘을 포함한다. 이러한 전도성 조제는 토너의 약 0.10% 내지 약 1.00중량%로 존재한다.
다른 바람직한 실시태양에서, 토너 및/또는 표면 첨가제는 또한 전도성 조제, 예를들면 지방산 금속염 예컨대, 스테아르산아연을 포함한다. 적합한 실시예로는 Ferro Corp. 의 Zinc Stearate L을 포함한다. 이러한 전도성 조제는 토너의 약 0.10% 내지 약 1.00중량%로 존재한다.
본 실시태양들의 투명 토너 조성물은 토너 압출 장치, 예컨대 Werner Pfleiderer에서 입수되는 ZSK25에서 수지 입자를 혼합, 예를들면, 용융 혼합, 및 가열, 및 형성된 토너 조성물을 장치에서 꺼내어 제조할 수 있다. 냉각 후, 토너 조성물을, 예를들면, 미국특허번호 5,716,751 참조의 Sturtevant 초미 분쇄기를 이용하여 분쇄한다. 이어, 토너 조성물을, 예를들면, Donaldson Model B 분급기를 이용하여 분류함으로써 매우 낮은 수준의 동일 재료의 미립자로 동반되는 미립자를 제거한다. 예를들면, 미립자 수준은 토너 중량의 약 0.1% 내지 약 3중량%이다. 과량의 미립자를 제거한 후, 투명 토너의 평균 입자 크기는 약 6 미크론 내지 약 8 미크론, 약 6.5 미크론 내지 약 7.5 미크론, 또는 약 7.0 미크론이다. GSD는 (D84/D50)에 대한 위 (upper) 부피 기하 표준 편차 (GSD) (조립 수준)이고 약 1.10 내지 약 1.30, 또는 약 1.15 내지 약 1.25, 또는 약 1.18 내지 약 1.21이다. (D50/D16)에 대한 수 기하 표준 편차 (GSD) (미립 수준)는 약 1.10 내지 약 1.30, 또는 약 1.15 내지 약 1.25, 또는 약 1.22 내지 약 1.24이다. 총 토너 입자들 중 누적 백분율 50%가 달성되는 입자 직경은 부피 D50로 정의되고, 누적 백분율 84%가 달성되는 입자 직경은 부피 D84로 정의된다. 이들 상기 부피 평균 입자 크기 분포 지수 GSDv는 누적 분포의 D50 및 D84로 표현되고, 부피 평균 입자 크기 분포 지수 GSDv는 (부피 D84/부피 D50)로 표현된다. 이들 상기 수 평균 입자 크기 분포 지수 GSDn는 누적 분포 D50 및 D16로 표현되고, 수 평균 입자 크기 분포 지수 GSDn은 (수 D50/수 D16)로 표현된다. GSD 값이 1.0에 가까울수록, 입자들의 크기 편차가 작다. 토너 입자들에 대한 상기 GSD 값은 토너 입자들이 좁은 입자 크기 분포를 가지도록 제조된다는 것을 의미한다. 입자 직경은 Multisizer III로 측정된다.
이하, 표면 첨가제 혼합물 및 기타 첨가제는 획득된 토너와 혼련하여 첨가된다. 용어 "입자"와 관련하여 본원에서 사용되는 바와 같이 용어 "입자 크기", 또는 용어 "크기"는 종래 직경 측정 장치, 예컨대 Coulter, Inc. 에서 판매되는 Multisizer III로 측정되는 부피 가중 직경을 의미한다. 평균 부피 가중 직경은 각각의 입자 중량과 동일 중량 및 밀도의 구형 입자 직경을 곱의 합을 총 입자 중량으로 나눈 것이다.
토너의 크기 분포 및 첨가제 제제로 인하여 토너는 기재를 충분히 덮고도 매우 낮은 중량 목표로 오프셋 평판 인쇄를 제공하도록 시스템에서 작동된다. 본 문맥에서, 중량 목표란 기재 단위 면적 당 기재 (즉 용지 또는 기타)에 현상되거나 배치되는 토너 입자 농도를 의미한다. 토너의 크기 분포 및 첨가제 제제로 인하여 시스템은 기재 평방 센티미터 당 중량 목표 0.3 내지 0.4 mg의 토너로 작동된다. 본 실시태양들 토너의 레올로지는 또한 광택 극대화 및 시스템에서 사용되는 정착기 롤 (fuser roll)이 있는 정착기에 대한 토너 오프셋 위험성이 감소되도록 설계된다.
하기 실시예들은 본 발명의 실시태양들을 설명하기 위한 것이다. 이들 실시예는 예시적인 것이고 본 발명의 범위를 한정할 의도는 아니다. 또한, 부 (parts) 및 백분율은 달리 언급이 없는 한 중량 기준이다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "실온"이란 약 20 ℃ 내지 약 25℃를 의미한다.
실시예 1
본 실시태양들에 의한 투명 토너 입자 제조
실시예 1A - 모 (parent) 입자 제조
약 90%의 폴리에스테르 수지 XP777 (프로폭시화 비스페놀 A 푸마레이트 수지, Reichold의 Resapol), 및 약 10%의 가교화 수지 A (선형 불포화 폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트) 폴리에스테르 수지 XP777에서 제조)를 용융 혼합하고 ZSK-25 압출기에서 압출하였다. 가교화 수지를 미국특허번호 6,359,105에 제시된 방법으로 제조하였다.
선형 및 가교화 수지의 얻어진 압출물을 200 AFG 유동상 젯 밀에서 분쇄하였다. 분쇄 과정에서, 약 0.3% TS530 실리카를 유동 조제로 첨가하였다. 모 입자의 중간 입자 크기는 과잉 미립자, , Multisizer III로 측정할 때 5 μm 미만 또는 15% 개수 이하의 미립자들을 제거한 후 약 6.4 미크론, 평균 크기는 약 7.0 μm이다.
투명 토너 입자의 얻어진 크기 분포 파라미터는 다음과 같다:
부피 중간 직경 - 7.1 미크론
부피 D84/D50 - 1.19
수 D50/D16 - 1.23
수 % < 5 미크론 - 13%
투명 입자들은 B18 Tandem Acucut 시스템으로 분급되었다. 투명 입자의 탄성계수는 약 2100 dyn/cm2 이고 점성계수는 320 dyn/cm2이다. 점성 및 탄성계수는 140 ℃ 및 주파수 40 rad/sec에서 측정된다.
실시예 1B - 표면 첨가제와 모 입자의 혼련
상기에서 획득된 모 입자를 75L Henschel 수직 혼합기에서 특정 파워 약 96 W/lb 및 총 특정 에너지 6.4 Wh/lb로 혼련하였다. 파워 및 에너지 수준은 임펠러 속도 및 혼련 시간으로 설정되었다. 첨가제의 표면적 피복률 (SAC) 기준으로 선택되는 첨가제 제제는 다음과 같다:
Figure 112016028756481-pat00001
제제로 인하여 표면 첨가제로부터 입자의 총 표면적 피복률 (Coverage) 약 82%에 이르고 SMT5103 티타니아에 대한 NA50HS 실리카의 표면적 피복률 비율 (Coverage Ratio)은 약 5.8이다. 0.5%의 스테아르산칼슘 또한 윤활제로 사용될 수 있다.
실시예 2
투명 토너 입자 특성
헤이즈 측정:
실시예 1에서 제조된 투명 토너 입자의 헤이즈를 유화 응집 투명 토너 (대조 투명 토너)와 비교하였다.
대조 투명 토너는 화학 토너 제조 유화 / 응집 공정으로 제조하였다. 유화 / 응집 공정에서 100 nm 내지 500 nm 범위의 입자를 반응기에 로딩하고 수성 분산액 형태로 응집하여 입자들을 형성하였다. 입자들을 예컨대, 제한되지는 않지만, 알킬디페닐옥시드 디술포네이트 및 도데실벤젠 술폰산나트륨의 분산 안정화제 도움으로 분산 상태로 유지하였다. 입자들 응집은 적합한 무기기 금속염 고분자 예컨대 폴리염화알루미늄, 폴리황산알루미늄, 또는 다황화칼슘을 첨가하여 가능하다. 무기 금속염 고분자 첨가, 열 투입 조절, 및 반응기 임펠러 회전에 의한 전단력으로 조절된 속도로 토너 입자를 성장시킬 수 있다. 일반적으로, 투명 토너 입자는 1) 폴리에스테르 수지 분산액, 이형제 분산액, 및 탈이온수를 반응기에 투입하고, 2) 반응기에서 분산액들을 혼합하고, 3) 무기기 금속염 고분자를 첨가하고 입자가 중간 크기인 1.0 미크론 미만에 도달할 때까지 혼합물을 균질화하고, 4) 입자가 원하는 크기에 이를 때까지 혼합을 조절하면서 반응기 내용물의 온도를 올리고, 5) 더 많은 폴리에스테르 수지 분산액을 첨가하여 분산액에서 입주 주위에 수지 쉘을 형성하고, 6) 염기 예컨대 수산화나트륨을 첨가하여 입자 성장을 동결시키고, 7) 유리전이온도 이상에서 입자를 가열하여 입자를 응착시키고 원하는 형상을 달성하고, 8) 입자를 유리전이 온도 이하로 냉각함으로써 형성된다. 입자 형성이 완료된 후, 입자 슬러리를 채질하여 과도 크기의 입자들을 제거한다. 이후 입자를 정수로 세척하여 입자 표면에 있는 임의의 과량의 이온 종들을 제거하고 건조시킨다. 이후 건조 입자를 종래 또는 분쇄된 토너 입자들과 동일한 방식으로 표면 첨가제와 혼합한다.
결과를 하기 표 1에 요약한다:
토너 측정된 헤이즈
대조 투명 토너 25%
실시예 1A - 표면 첨가제 부재의 투명 모 입자 4.8%
실시예 1B - 표면 첨가제 존재의 투명 모 입자 6.2%
마찰전기 전하 ( charge ):
투명 토너의 J-구역 마찰전기를 측정하고 Xerox iGenTM 150 디지털 프레스: 예컨대, iGen 150 / iGen4 Diamond Edition / iGen4 EXP Cyan Matte Dry Ink 및 iGen 150 / iGen4 Diamond Edition / iGen4 EXP Black Matte Dry Ink에서 사용되는 시안 및 블랙 토너와 비교하였다.
J-구역에서의 60 분 페인트 셰이크 (paint shake) 시간 트랙을 실시예 1B 투명 토너, 시안, 및 블랙 토너에 대하여 완성하고, 결과를 도 1에 제시한다. J-구역 (zone)은 상대습도가 약 10%이고 온도가 약 70 ℃일 때 주변 환경 유형을 나타내는 용어이다. 페인트 셰이크 시간 트랙은 소정량의 토너 및 캐리어를 병에 넣고, 토너 및 캐리어가 있는 병을 페인트 셰이커 (shaker)에 넣고, 60 분에 걸쳐 상이한 지점에서 캐리어에 대한 토너의 마찰전기 전하를 측정함으로써 생성된다. 시간 경과에 따른 전하 소멸이 없이 컬러 토너에 비하여 투명 토너의 우수한 전하 안정성을 보였다. 컬러 토너와 비교하여 J-구역 마찰 전기에서 유의한 차이도 보이지 않았다.
실시예 3
기계적 성능
기재 상에 다른 컬러의 다른 토너 층들 상부에 투명 토너 층을 2 통과 모드로 현상할 수 있는 5개의 현상 스테이션들이 있는 디지털 프레스에서 실시예 1B의 투명 토너를 시험하였다. 본 모드에서, 컬러들 (CMYK)이 먼저 용지 일부 표면에 적층 / 인쇄된 후, 용지를 다시 공급부에 넣고 정전 복사 인쇄기를 통과시켜투명 층을 인쇄된 컬러 상부에 적층 / 인쇄한다. 따라서, 색역 변화는 주로 투명 토너의 투과 / 흡수 특성에 의한 것이다. 투명 토너를 단위 면적 당 다양한 투명 중량 목표 (TMA), 0.4 및 0.3 mg/cm2에서 여러 컬러들로 시험하였다. 이로써 이미지-온-이미지 (IOI) 효과로 인한 최소 색역 손실이 가능하다. 0.3 mg/cm2 중량 목표는 특정 컬러에 대한 투명 존재의 면적 및 투명 부재의 면적에서 계산되는 ΔE에 기초한 최선의 결과를 보였다:
표 2. 투명 코트로 인한 색역 손실
컬러 ΔE (컬러 + 투명)
마젠타 2.4
황색 3.7
시안 1.1
블랙 3.0
적색 3.6
녹색 3.0
델타 E (ΔE)는 두 컬러, 하나는 기준 토너이고 다른 하나는 일치시키고자 하는 샘플의 컬러 간 차이를 계산하고 정량화하는 측정 단위이다. 일반적으로, ΔE 값이 2 이하는 사람 눈으로 거의 인지하지 못한다. 3 내지 5의 ΔE 값은 사람이 시각적으로 컬러 차이를 인지하지만, 인쇄 프레스에서 상업적 재생에 있어 허용되는 일치로 간주된다. 표준과 대비하면, ΔE 값이 낮을수록 양호한 일치 또는 양호한 컬러 재생을 나타낸다. 델타 E는 다른 식으로 계산될 수 있다; 본원에서 제시되는 값들은 ΔE2000 식으로 계산되고, X-RITE 939 컬러 분광 광도계로 얻어진 L*, a*, 및 b* 값들을 비교한다. 각각의 샘플에 대하여 L* (명도), a* (황색/청색의 색 공간), 및 b* (녹색/적색의 색 공간)이 계산되었다.
결과에 의하면 대부분 컬러들에 대한 색역 손실은 사람 눈 검출 한계 또는 약간 높지만 (ΔE ≥ 3), 역치에 매우 근사하고, 허용 가능하다고 간주되는 안에 있다. 광택 관점에서, 광택에서의 게인 (gain)은 15 내지 20 단위 정도이고 투명 질량이 0.3 mg/cm2 이상 증가하면 유의하게 증가하지 않는다. 결과를 도 2에 도시한다.

Claims (20)

  1. 토너 입자를 포함하는 투명 토너 조성물로서,
    상기 토너 입자는:
    폴리에스테르 수지;
    19% 내지 49%의 가교도를 갖는 고도 가교화 폴리에스테르;
    상기 토너 입자의 표면에 적용되는 표면 첨가제;를 포함하고,
    상기 폴리에스테르 수지 대 상기 고도 가교화 폴리에스테르의 중량비는 80:20 내지 90:10이고,
    상기 토너는 1% 내지 15%의 % 헤이즈를 갖는 투명 토너 조성물.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 토너는 유화 응집 토너가 아닌 투명 토너 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 토너는 실질적으로 첨가 착색제가 부재인 투명 토너 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 토너는 1680 dyn/cm2 내지 2520 dyn/cm2의 탄성 계수를 나타내는 투명 토너 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 토너는 250 dyn/cm2 내지 385 dyn/cm2의 점성 계수를 나타내는 투명 토너 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 폴리에스테르 수지는 비정질 폴리에스테르 수지를 포함하는 투명 토너 조성물.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 비정질 폴리에스테르 수지는 프로폭시화 비스페놀 A 푸마레이트 수지, 폴리(프로폭시화 비스페놀 코-푸마레이트), 폴리(에톡시화 비스페놀 코-푸마레이트), 폴리(부톡시화 비스페놀 코-푸마레이트), 폴리(코-프로폭시화 비스페놀 코-에톡시화 비스페놀 코-푸마레이트), 폴리(1,2-프로필렌 푸마레이트), 폴리(프로폭시화 비스페놀 코-말레에이트), 폴리(에톡시화 비스페놀 코-말레에이트), 폴리(부톡시화 비스페놀 코-말레에이트), 폴리(코-프로폭시화 비스페놀 코-에톡시화 비스페놀 코-말레에이트), 폴리(1,2-프로필렌 말레에이트), 폴리(프로폭시화 비스페놀 코-이타코네이트), 폴리(에톡시화 비스페놀 코-이타코네이트), 폴리(부톡시화 비스페놀 코-이타코네이트), 폴리(코-프로폭시화 비스페놀 코-에톡시화 비스페놀 코-이타코네이트), 폴리(1,2-프로필렌 이타코네이트), 코폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트)-코폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-테레프탈레이트), 터폴리 (프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트)-터폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-테레프탈레이트)-터폴리-(프로폭시화 비스페놀 A 코-도데실숙시네이트), 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 투명 토너 조성물.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 비정질 폴리에스테르 수지는 프로폭시화 비스페놀 A 푸마레이트 수지를 포함하는 투명 토너 조성물.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 고도 가교화 수지는 불포화 폴리(프로폭시화 비스페놀 A 코-푸마레이트) 폴리에스테르 수지로부터 제조되는 투명 토너 조성물.
  10. 삭제
  11. 청구항 1에 있어서,
    상기 표면 첨가제는 실리카, 티타니아, 및 스테아레이트를 포함하는 투명 토너 조성물.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 실리카는 음전하 실리카를 포함하는 투명 토너 조성물.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 실리카는 양전하 실리카를 추가로 포함하는 투명 토너 조성물.
  14. 청구항 11에 있어서,
    상기 티타니아는 이산화티탄을 포함하는 투명 토너 조성물.
  15. 청구항 1에 있어서,
    상기 토너 입자는 6 내지 8 ㎛의 평균 크기를 갖는 투명 토너 조성물.
  16. 청구항 1에 있어서,
    상기 토너는 70 내지 90 ggu의 광택 값을 갖는 투명 토너 조성물.
  17. 토너 입자를 포함하는 투명 토너 조성물로서,
    상기 토너 입자는:
    폴리에스테르 수지;
    19% 내지 49%의 가교도를 갖는 고도 가교화 폴리에스테르;
    상기 토너 입자의 표면에 적용되는 표면 첨가제;를 포함하고,
    상기 폴리에스테르 수지 대 상기 고도 가교화 폴리에스테르의 중량비는 90:10 내지 80:20이고,
    상기 표면 첨가제는 음전하 실리카, 양전하 실리카 및 금속 산화물을 포함하며,
    추가로 상기 토너는 1% 내지 15%의 % 헤이즈를 갖는 투명 토너 조성물.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 토너는 1680 dyn/cm2 내지 2520 dyn/cm2의 탄성 계수, 및 250 dyn/cm2 내지 385 dyn/cm2의 점성 계수를 나타내는 투명 토너 조성물.
  19. 청구항 1에 있어서,
    상기 토너 입자는 6.0 내지 8.0 ㎛의 평균 크기를 갖는 투명 토너 조성물.
  20. 토너 입자를 포함하는 투명 토너 조성물로서,
    상기 토너 입자는:
    폴리에스테르 수지;
    19% 내지 49%의 가교도를 갖는 고도 가교화 폴리에스테르;
    상기 토너 입자의 표면에 적용되는 표면 첨가제;를 포함하고,
    상기 폴리에스테르 수지 대 상기 고도 가교화 폴리에스테르의 중량비는 90:10 내지 80:20이고,
    상기 표면 첨가제는 음전하 실리카, 양전하 실리카 및 이산화티탄을 포함하고,
    상기 토너는 1% 내지 15%의 % 헤이즈를 가지며, 그리고 상기 토너는 1680 dyn/cm2 내지 2300 dyn/cm2의 탄성 계수, 및 250 dyn/cm2 내지 385 dyn/cm2의 점성 계수를 나타내는 투명 토너 조성물.
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