KR102308020B1

KR102308020B1 - 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치

Info

Publication number: KR102308020B1
Application number: KR1020210031142A
Authority: KR
Inventors: 김숙자
Original assignee: 김숙자
Priority date: 2021-03-10
Filing date: 2021-03-10
Publication date: 2021-09-30

Abstract

본 발명은 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 사출품이 자유 낙하하는 면을 제외한 삼면에 대하여 상부금형(상코아) 및 하부금형(하코아) 측부에 오염방지 플레이트를 구비하되 상기 오염방지 플레이트가 상기 하코아 측벽에 부착되어 금형의 형개 후 사출품 취출 시 상기 사출품이 방사됨으로써 주변 오염 물질에 의해 오염되는 것을 방지하는 것이 가능한 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치를 제공한다.

Description

오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치{INJECTION MOLD DEVICE WITH ANTI-POLLUTION PLATE}

본 발명은 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 사출품이 자유 낙하하는 면을 제외한 삼면에 대하여 상부금형(상코아) 및 하부금형(하코아) 측부에 오염방지 플레이트를 구비하되 상기 오염방지 플레이트가 상기 하코아 측벽에 부착되어 금형의 형개 후 사출품 취출 시 상기 사출품이 방사됨으로써 주변 오염 물질에 의해 오염되는 것을 방지하는 것이 가능한 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치에 관한 것이다.

일반적으로, 사출성형(injection molding)은 플라스틱을 성형하는 방식의 일종으로 용도에 따라 착색, 배합된 사출품은 사출성형기로 통칭하는 기계를 이용해 성형하는데, 사출성형기는 원재료를 가열하여 녹이면 녹인 원재료를 금형에 압축 형태로 공급 후 목적한 형태로 사출성형하고, 사출된 성형품은 고화(固化)되어 자동으로 금형으로부터 취출되는 사출성형 공정을 거치게 된다.

도 1a 및 1b는 종래의 사출 금형 장치를 도시한 도면들이다.

도 1a 및 1b를 참고하면, 종래의 사출 금형 장치는, 하고정판(100), 상고정판(104), 스페이스블록(101), 코어블록(102), 캐버티블록(105) 및 제어부(미도시)를 포함한다.

상기 코어블록(102)은, 상기 하고정판(100)에 상기 스페이스블록(101)을 통하여 체결되고 하부금형(하코아)(103)이 구비된다.

상기 캐버티블록(105)은, 상기 상고정판(104)에 체결되어 상기 코어블록(102) 상에 위치하고 상부금형(상코아)(106)이 구비된다.

상기 제어부는, 상기 사출 금형 장치를 제어하여 사출품을 형성하고 취출하는데 필요한 모든 제어를 수행한다.

또한, 종래의 사출 금형 장치는, 상기 코어블록(102)과 상기 캐버티블록(105)의 개폐에 따른 사출품을 일정하게 생산하도록 하기 위해, 상기 캐버티블록(105)을 관통하여 구비되며 상기 사출 금형 장치의 개폐를 가이드하는 다수의 가이드부시(107), 및 상기 캐버티블록(105)의 각 가이드부시(107)를 통과하도록 상기 코어블록(102)을 관통하여 구비된 다수의 가이드핀(108)을 더 포함한다.

또한, 종래의 사출 금형 장치는, 사출품의 형성 후, 이를 취출하기 쉽도록 사출 성형 제품의 아랫부분에 취출력을 주도록 하기 위해, 상기 코어블록(102)과 상기 하고정판(100) 사이의 상기 스페이스블록(101)의 내부 공간에 설치되는 이젝트플레이트(109), 및 상기 이젝트플레이트(109)의 위치를 조정하기 위해 상기 코어블록(102)을 통과하여 상기 이젝트플레이트(109)의 상부에 형성된 다수의 리턴핀(110)을 더 포함한다. 상기 다수의 리턴핀(110)은 상기 사출 금형 장치의 형폐시, 상기 캐버티 블록(105)에 의해 눌려서 상기 이젝트플레이트(109)를 원래 자리를 찾도록 한다.

상기 제어부는, 상기 코어블록(102)의 위치를 조정하여 금형을 개폐하고, 상기 금형의 형폐 시 용융상태의 플라스틱을 상기 캐버티블록(105)에 구비되는 투입구를 통해서 상기 금형(106, 103) 내부로 사출하고, 상기 플라스틱을 냉각시켜 사출품을 형성하고, 상기 금형의 형개 시 상기 이젝트플레이트(109)를 이용하여 상기 사출품을 취출하도록 제어한다.

이러한 사출성형기는 금형이 열리고 사출품이 취출되는 과정에서 금형 표면과 사출품 표면의 접촉에 의해 수만 볼트 이상의 정전기 전압이 사출품 표면에 형성되어 이후 이동과정에서 주변의 먼지 등의 이물질을 강하게 끌어당겨 사출품이 오염되는 등의 불량을 야기하고 있으며, 사출 현장에서 이를 제거하기 위한 많은 노력을 기울이고 있다.

한편, 제품의 자유낙하 취출시, 제품이 자연스럽게 제품포집함으로 떨어지지 않고 방사형으로 튀어나가면서 고정측(CAVITY) 또는 가동측(CORE)의 가이드 부시나 가이드핀, 기타 윤활유 오염물질(검은색)과 접촉하면서 제품 오염 불량이 다수 발행하는 문제가 생긴다.

한편, 제품 취출 로봇에 공구박스를 부착하여 제품이 자유낙하 하기 전에 공구박스가 제품이 방사형으로 튀어나가는 것을 막는 방법이 있지만, 이런 경우, 취출로봇의 하강 및 상승 공정이 추가되어 사이클 타임이 늘어나게 됨으로써 생산성이 저하되는 문제점이 있다.

한국등록특허 [10-0897265]에서는 범퍼의 상부 양측단의 언더컷부에 대응하여 실린더 구동에 의해 전후진하는 인서트 코어를 적용하여 제품 취출 시, 상기 범퍼의 상부 양측단 언더컷부가 간섭없이 취출될 수 있도록 하는 플라스틱 사출금형장치이 개시되어 있다.

한국공개특허 [10-2017-0053496]에서는 사출성형에 따른 제어설정이 무단으로 변경되는 것을 방지하는 사출성형장치가 개시되어 있다.

한국등록특허 [10-0897265](등록일자: 2009. 05. 06) 한국공개특허 [10-2007-0024202](공개일자: 2007. 03. 02) 한국공개특허 [10-2017-0053496](공개일자: 2017. 05. 16)

따라서, 본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 사출품이 자유 낙하하는 면을 제외한 삼면에 대하여 상부금형(상코아) 및 하부금형(하코아) 측부에 오염방지 플레이트를 구비하되 상기 오염방지 플레이트가 상기 하코아 측벽에 부착되어 금형의 형개 후 사출품 취출 시 상기 사출품이 방사됨으로써 주변 오염 물질에 의해 오염되는 것을 방지하는 것이 가능한 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 실 시예들의 목적은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치는, 하고정판(200) 및 상고정판(300); 상기 하고정판(200)에 스페이스블록(210)을 통하여 체결되고 하부금형(하코아)(230)이 구비된 코어블록(220); 상기 상고정판(300)에 체결되어 상기 코어블록(220) 상에 위치하고 상부금형(상코아)(320)이 구비된 캐버티블록(310); 상기 상부금형(320) 및 상기 하부금형(230) 측부에 구비되는 다수의 오염방지 플레이트(400); 및 상기 사출 금형 장치를 제어하여 사출품을 형성하고 취출하는데 필요한 모든 제어를 수행하는 제어부(500)를 포함한다.

각 오염방지 플레이트(400)는, 상기 사출 금형 장치의 형개 시, 상기 캐버티블록과 상기 코어블록 간의 간격보다 기설정된 길이만큼 긴 높이와, 상기 상부금형 또는 상기 하부금형의 폭만큼의 폭을 가지는 상부플레이트(510); 상기 상부플레이트의 하부에 구비되어 상기 하부금형 만큼의 높이와, 상기 상부플레이트의 폭보다 기설정된 폭만큼 작은 폭을 가지는 하부플레이트(520); 및 상기 하부플레이트의 하부에서 직각으로 연결되어 소정의 폭을 가지는 고정턱(530)을 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 각 오염방지 플레이트(400)는, 상기 고정턱은 상기 하부금형의 하부에 위치하도록 하고, 상기 하부플레이트는 상기 하부금형의 측면에 부착되어 상기 각 오염방지 플레이트의 위치가 고정되도록 하고, 상기 사출 금형 장치의 개폐 시 상기 상부플레이트가 상기 캐버티블록에 구비되는 오염방지 플레이트 삽입 공간(410)을 통해 이동되도록 하는 것을 특징으로 한다.

상기 각 오염방지 플레이트(400)는, 폴리카보네이트(PC: polycarbonate), 폴리에텔에텔 케톤(PEEK: polyetherether ketone), 및 폴리에스테르술폰(PES: polyethersulfone)에서 선택되는 적어도 하나를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 한다.

상기 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치는, 상기 오염방지 플레이트를 통하여 상기 금형 장치의 동작을 감시하는 카메라(미도시)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 카메라의 촬영방향에 대응하는 면에 구비되는 오염방지 플레이트는, 투명으로 형성되는 것을 특징으로 한다.

상기 다수의 오염방지 플레이트(400)는, 상기 사출품이 자유 낙하하는 방향의 상기 상부금형 및 상기 하부금형의 일측면을 제외한 삼면에 대하여 상기 상부금형 및 상기 하부금형의 측부에 구비되는 것을 특징으로 한다.

상기 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치는, 상기 캐버티블록을 관통하여 구비되며 상기 사출 금형 장치의 개폐를 가이드하는 다수의 가이드부시(330); 및 상기 캐버티블록의 각 가이드부시를 통과하도록 상기 코어블록을 관통하여 구비된 다수의 가이드핀(260)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치는, 상기 코어블록과 상기 하고정판 사이의 상기 스페이스블록의 내부 공간에 설치되는 이젝트플레이트(240); 및 상기 이젝트플레이트의 위치를 조정하기 위해 상기 코어블록을 통과하여 상기 이젝트플레이트의 상부에 형성된 다수의 리턴핀(250)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기 제어부는, 상기 코어블록의 위치를 조정하여 금형을 개폐하고, 상기 금형의 형폐 시 용융상태의 플라스틱을 상기 캐버티블록에 구비되는 투입구를 통해서 상기 금형 내부로 사출하고, 상기 플라스틱을 냉각시켜 사출품을 형성하고, 상기 금형의 형개 시 상기 이젝트플레이트를 이용하여 상기 사출품을 취출하도록 제어하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치에 의하면, 사출품이 자유 낙하하는 면을 제외한 삼면에 대하여 상부금형(상코아) 및 하부금형(하코아) 측부에 오염방지 플레이트를 구비하되 상기 오염방지 플레이트가 상기 하코아 측벽에 부착되어 금형의 형개 시 상기 사출품이 방사됨으로써 주변 오염 물질에 의해 오염되는 것을 방지하는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치에 의하면, 투명한 고내열성 수지로 형성되는 오염방지 플레이트를 부착함으로써 금형 검사를 위한 카메라의 시야 확보에 문제가 없도록 하는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치에 의하면, 사출품의 오염방지도 가능하고, 상기 금형 장치의 동작을 감시하는 것도 가능하며, 금형 장치에 가깝게 위치하는 카메라의 오염도 방지할 수 있는 효과가 있다.

따라서, 사출품의 오염방지도 가능하고, 상기 금형 장치의 동작을 감시하는 것도 가능하며, 금형 장치에 가깝게 위치하는 카메라의 오염도 방지할 수 있는 효과가 있다.

아울러, 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치에 의하면, 제품 취출 로봇을 사용하지 않고 사출된 제품을 자유낙하시켜 제품 포집함에 자연스럽게 모음으로써, 작업 시간을 줄여 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

도 1a 및 1b는 종래의 사출 금형 장치를 도시한 도면들.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치.
도 3은 도 2의 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치의 형폐 상태에서 A-A'방향으로 자른 단면의 일부를 도시한 도면.
도 4는 도 2의 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치의 형개 상태에서 B-B'방향으로 자른 단면의 일부를 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치의 오염방지 플레이트에 대한 일 실시예 도면.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야한다.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.

반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.

본 명세서에서 사용되는 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 공정, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 공정, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미가 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미가 있는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정하여 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 또한, 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가지며, 하기의 설명 및 첨부 도면에서 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대한 설명은 생략한다. 다음에 소개되는 도면들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 제시되는 도면들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 또한, 명세서 전반에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다. 도면들 중 동일한 구성요소들은 가능한 한 어느 곳에서든지 동일한 부호들로 나타내고 있음에 유의해야 한다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치이고, 도 3은 도 2의 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치의 형폐 상태에서 A-A'방향으로 자른 단면의 일부를 도시한 도면이고, 도 4는 도 2의 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치의 형개 상태에서 B-B'방향으로 자른 단면의 일부를 도시한 도면이다.

도 2 내지 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치는, 하고정판(200), 상고정판(300), 스페이스블록(210), 코어블록(220), 캐버티블록(310), 다수의 오염방지 플레이트(400), 및 제어부(미도시)를 포함한다.

상기 코어블록(220)은, 상기 하고정판(200)에 상기 스페이스블록(210)을 통하여 체결되고 하부금형(하코아)(230)가 구비된다.

상기 캐버티블록(310)은, 상기 상고정판(300)에 체결되어 상기 코어블록(220) 상에 위치하고 상부금형(상코아)(320)이 구비된다.

상기 다수의 오염방지 플레이트(400)는 상기 상부금형(320) 및 상기 하부금형(230) 측부에 구비되어 사출품의 오염을 방지한다.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치는, 상기 코어블록(220)과 상기 캐버티블록(310)의 개폐에 따른 사출품을 일정하게 생산하도록 하기 위해, 상기 캐버티블록(310)을 관통하여 구비되며 상기 사출 금형 장치의 개폐를 가이드하는 다수의 가이드부시(330), 및 상기 캐버티블록(310)의 각 가이드부시(330)를 통과하도록 상기 코어블록(220)을 관통하여 구비된 다수의 가이드핀(260)을 더 포함한다.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치는, 사출품의 형성 후, 이를 취출하기 쉽도록 사출 성형 제품의 아랫부분에 취출력을 주도록 하기 위해, 상기 코어블록(220)과 상기 하고정판(200) 사이의 상기 스페이스블록(210)의 내부 공간에 설치되는 이젝트플레이트(240), 및 상기 이젝트플레이트(240)의 위치를 조정하기 위해 상기 코어블록(220)을 통과하여 상기 이젝트플레이트(240)의 상부에 형성된 다수의 리턴핀(250)을 더 포함한다. 상기 다수의 리턴핀(250)은 상기 사출 금형 장치의 형폐 시, 상기 캐버티 블록(310)에 의해 눌려서 상기 이젝트플레이트(240)를 원래 자리를 찾도록 한다.

상기 제어부는, 상기 코어블록(220)의 위치를 조정하여 금형을 개폐하고, 상기 금형의 형폐 시 용융상태의 플라스틱을 상기 캐버티블록(310)에 구비되는 투입구를 통해서 상기 금형(320. 230) 내부로 사출하고, 상기 플라스틱을 냉각시켜 사출품을 형성하고, 상기 금형의 형개 시 상기 이젝트플레이트(240)를 이용하여 상기 사출품을 취출하도록 제어한다.

상기 다수의 오염방지 플레이트(400)는, 상기 사출품이 자유 낙하하는 방향의 상기 상부금형(320) 및 상기 하부금형(230)의 일측면을 제외한 삼면에 대하여 상기 상부금형(320) 및 상기 하부금형(230)의 측부에 구비된다.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치의 오염방지 플레이트에 대한 일 실시예 도면이다.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치의 각 오염방지 플레이트(400)는, 상부플레이트(510), 하부플레이트(520), 및 고정턱(530)을 포함한다.

상기 상부플레이트(510)는, 상기 사출 금형 장치의 형개 시, 상기 캐버티블록(310)과 상기 코어블록(220) 간의 간격보다 기설정된 길이만큼 긴 높이와, 상기 상부금형(320) 또는 상기 하부금형(230)의 폭만큼의 폭을 가진다.

상기 하부플레이트(520)는, 상기 상부플레이트(510)의 하부에 구비되어 상기 하부금형(230) 만큼의 높이와, 상기 상부플레이트(510)의 폭보다 기설정된 폭만큼 작은 폭을 가진다.

상기 고정턱(530)은 상기 하부플레이트(520)의 하부에서 직각으로 연결되어 소정의 폭을 가진다.

상기 각 오염방지 플레이트(400)에서, 상기 고정턱(530)은 상기 하부금형(230)의 하부에 위치하도록 하고, 상기 하부플레이트(520)는 상기 하부금형(230)의 측면에 부착되어 상기 각 오염방지 플레이트(400)의 위치가 고정되도록 하고, 상기 사출 금형 장치의 개폐 시 상기 상부플레이트(510)가 상기 캐버티블록(310)에 구비되는 오염방지 플레이트 삽입 공간(410)을 통해 이동되도록 한다.

상기 오염방지 플레이트 삽입 공간(410)은 상기 오염방지 플레이트(400)가 이동되도록 하는 공간이므로, 상기 오염방지 플레이트(400)의 긁힘 방지를 위해 상기 오염방지 플레이트(400)와 마주하는 면과 기설정 너비만큼 간격을 가지도록 형성된다. 예를 들어, 상기 오염방지 플레이트 삽입 공간(410)은 상기 오염방지 플레이트(400)보다 사방으로 약 0.5 mm 크게 형성될 수 있다.

상기 각 오염방지 플레이트(400)는, 고내열성 수지로 형성되는 것을 특징으로 하며, 일예로, 폴리카보네이트(PC: polycarbonate), 폴리에텔에텔 케톤(PEEK: polyetherether ketone), 및 폴리에스테르술폰(PES: polyethersulfone)에서 선택되는 적어도 하나를 포함하여 형성된다.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치는, 상기 오염방지 플레이트(400)를 통하여 상기 금형 장치의 동작을 감시하는 카메라(미도시)를 더 포함할 수 있다.

이 때, 상기 카메라의 촬영방향에 대응하는 면에 구비되는 오염방지 플레이트는, 투명의 고내열성 수지로 형성된다.

즉, 상기 카메라의 촬영방향에 대응하는 면에 구비되는 오염방지 플레이트만 투명이고, 나머지 두 개의 오염방지 플페이트는 투명이 아니어도 상관 없다.

본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.

200: 하고정판 210: 스페이스블록
220: 코어블록 230: 하부금형
240: 이젝트플레이트 250: 리턴핀
260: 가이드핀 300: 상고정판
310: 캐버티블록 320: 상부금형
330: 가이드부시 400: 오염방지 플레이트
410: 오염방지 플레이트 삽입 공간 510: 상부플레이트
520: 하부플레이트 530: 고정턱

Claims

오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치에 있어서,
하고정판(200) 및 상고정판(300);
상기 하고정판(200)에 스페이스블록(210)을 통하여 체결되고 하부금형(하코아)(230)이 구비된 코어블록(220);
상기 상고정판(300)에 체결되어 상기 코어블록(220) 상에 위치하고 상부금형(상코아)(320)이 구비된 캐버티블록(310);
상기 상부금형(320) 및 상기 하부금형(230) 측부에 구비되는 다수의 오염방지 플레이트(400); 및
상기 사출 금형 장치를 제어하여 사출품을 형성하고 취출하는데 필요한 모든 제어를 수행하는 제어부(미도시)
를 포함하고,
상기 다수의 오염방지 플레이트(400)는,
상기 사출품이 자유 낙하하는 방향의 상기 상부금형 및 상기 하부금형의 일측면을 제외한 삼면에 대하여 상기 상부금형 및 상기 하부금형의 측부에 구비되는 것을 특징으로 하고,
각 오염방지 플레이트(400)는,
상기 사출 금형 장치의 형개 시, 상기 캐버티블록과 상기 코어블록 간의 간격보다 기설정된 길이만큼 긴 높이와, 상기 상부금형 또는 상기 하부금형의 폭만큼의 폭을 가지는 상부플레이트(510);
상기 상부플레이트의 하부에 구비되어 상기 하부금형 만큼의 높이와, 상기 상부플레이트의 폭보다 기설정된 폭만큼 작은 폭을 가지는 하부플레이트(520); 및
상기 하부플레이트의 하부에서 직각으로 연결되어 소정의 폭을 가지는 고정턱(530)
을 포함하는 것을 특징으로 하고,
상기 각 오염방지 플레이트(400)는,
상기 고정턱은 상기 하부금형의 하부에 위치하도록 하고, 상기 하부플레이트는 상기 하부금형의 측면에 부착되어 상기 각 오염방지 플레이트의 위치가 고정되도록 하고,
상기 사출 금형 장치의 개폐 시 상기 상부플레이트가 상기 캐버티블록에 구비되는 오염방지 플레이트 삽입 공간(410)을 통해 이동되도록 하는 것을 특징으로 하고,
상기 사출 금형 장치의 형개 시, 상기 상부플레이트는 상기 오염방지 플레이트 삽입 공간(410)에서 이탈되지 않는 것을 특징으로 하고,
상기 오염방지 플레이트 삽입 공간(410)은,
상기 오염방지 플레이트(400)의 긁힘 방지를 위해 상기 오염방지 플레이트(400)와 마주하는 면과 기설정 너비만큼 간격을 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치.
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제1항에 있어서,
상기 각 오염방지 플레이트(400)는,
폴리카보네이트(PC: polycarbonate), 폴리에텔에텔 케톤(PEEK: polyetherether ketone), 및 폴리에스테르술폰(PES: polyethersulfone)에서 선택되는 적어도 하나를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치.
제1항에 있어서,
상기 오염방지 플레이트를 통하여 상기 금형 장치의 동작을 감시하는 카메라(미도시)
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치.
제5항에 있어서,
상기 카메라의 촬영방향에 대응하는 면에 구비되는 오염방지 플레이트는,
투명으로 형성되는 것을 특징으로 하는 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치.
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제1항에 있어서,
상기 캐버티블록을 관통하여 구비되며 상기 사출 금형 장치의 개폐를 가이드하는 다수의 가이드부시(330); 및
상기 캐버티블록의 각 가이드부시를 통과하도록 상기 코어블록을 관통하여 구비된 다수의 가이드핀(260)
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치.
제1항에 있어서,
상기 코어블록과 상기 하고정판 사이의 상기 스페이스블록의 내부 공간에 설치되는 이젝트플레이트(240); 및
상기 이젝트플레이트의 위치를 조정하기 위해 상기 코어블록(220)을 통과하여 상기 이젝트플레이트의 상부에 형성된 다수의 리턴핀(250)
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치.
제9항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 코어블록의 위치를 조정하여 금형을 개폐하고,
상기 금형의 형폐 시 용융상태의 플라스틱을 상기 캐버티블록에 구비되는 투입구를 통해서 상기 금형 내부로 사출하고, 상기 플라스틱을 냉각시켜 사출품을 형성하고,
상기 금형의 형개 시 상기 이젝트플레이트를 이용하여 상기 사출품을 취출하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 오염방지 플레이트가 구비된 사출 금형 장치.