KR102305152B1 - A photocurable resin composition, an image display apparatus, and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

라디칼 중합성기 함유 화합물과, 양이온 중합성기 함유 화합물과, 광 라디칼 개시제와, 광 산 발생제를 함유하고, 상기 라디칼 중합성기 함유 화합물의 함유량이, 상기 양이온 중합성기 함유 화합물의 함유량보다도 많고, 상기 광 라디칼 개시제가, α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제, 및 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제 중 적어도 어느 것이며, 상기 광 라디칼 개시제와, 상기 광 산 발생제의 질량 비율(광 라디칼 개시제/광 산 발생제)이, 0.5 내지 30인 광 경화성 수지 조성물이다.A radical polymerizable group-containing compound, a cationically polymerizable group-containing compound, an optical radical initiator, and a photo acid generator are included, wherein the content of the radical polymerizable group-containing compound is higher than the content of the cationically polymerizable group-containing compound, and the light The radical initiator is at least any one of an α-hydroxyalkylphenone-based photoradical initiator and a benzylmethylketal-based photoradical initiator, and the mass ratio of the photoradical initiator and the photoacid generator (radical photoinitiator/photoacid generator) 2) is a photocurable resin composition of 0.5-30.

Figure 112018131780496-pct00049
Figure 112018131780496-pct00049

Description

광 경화성 수지 조성물, 그리고 화상 표시 장치, 및 그의 제조 방법A photocurable resin composition, an image display apparatus, and its manufacturing method

본 발명은 광 경화성 수지 조성물, 그리고 화상 표시 장치, 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable resin composition, an image display device, and a manufacturing method thereof.

근년, 텔레비전, 노트북 PC, 태블릿 PC, 카 내비게이션, 전자계산기, 휴대 전화, 스마트 폰, 전자 수첩, 및 PDA(Personal Digital Assistant) 등의 각종 전자 기기인 화상 표시 장치에는, 예를 들어 액정 디스플레이(LCD), 유기 EL 디스플레이(OLED), 전계 발광 디스플레이(ELD), 전계 방출 디스플레이(FED), 및 플라스마 디스플레이(PDP) 등의 표시 소자가 사용되고 있다.In recent years, in image display devices that are various electronic devices such as televisions, notebook PCs, tablet PCs, car navigation systems, electronic calculators, mobile phones, smartphones, electronic notebooks, and personal digital assistants (PDA), for example, liquid crystal displays (LCDs) ), an organic EL display (OLED), an electroluminescent display (ELD), a field emission display (FED), and a display element such as a plasma display (PDP) are used.

상기 화상 표시 장치에 있어서, 상기 표시 소자를 보호하기 위하여, 판유리 등의 광 투과성 커버 부재를 상기 표시 소자에 접합하는 일이 행해지고 있고, 접합에는 광 경화성 수지 조성물이 사용된다.The said image display apparatus WHEREIN: In order to protect the said display element, bonding light-transmitting cover members, such as plate glass, to the said display element is performed, and a photocurable resin composition is used for bonding.

여기서, 일반적인 광 경화성 수지 조성물로서는, 라디칼 중합성 성분과, 광 라디칼 개시제를 함유하는 조성물이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 내지 2 참조). 또한, 라디칼 중합성 성분과, 양이온 중합성 성분과, 광 라디칼 개시제와, 광 산 발생제를 함유하는 조성물도 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 3 참조).Here, as a general photocurable resin composition, the composition containing a radically polymerizable component and an optical radical initiator is known (for example, refer patent documents 1-2). Moreover, the composition containing a radically polymerizable component, a cationically polymerizable component, an optical radical initiator, and a photoacid generator is also proposed (for example, refer patent document 3).

그런데, 광 투과성 커버 부재의 화상 표시부측 표면의 주연부에는, 표시 화상의 휘도, 콘트라스트, 의장성 등의 향상을 위하여 차광층이 마련되고 있다. 그러한 차광층과 화상 표시 부재 사이에 끼워진 광 경화성 수지 조성물은, 경화 시에 광이 직접 닿지 않기 때문에, 경화가 충분히 진행되지 않는다. 그 때문에, 충분히 경화되지 않은 성분이 스며 나온다(블리드 아웃)고 하는 문제가 생긴다.Incidentally, a light-shielding layer is provided on the periphery of the surface of the light-transmitting cover member on the side of the image display section to improve the brightness, contrast, designability, and the like of the displayed image. Since light does not directly hit the photocurable resin composition sandwiched between such a light-shielding layer and an image display member at the time of hardening, hardening does not advance fully. Therefore, the problem that the component which is not hardened|cured enough seeps out (bleed-out) arises.

그래서, 광 경화성 수지 조성물에 열 중합 개시제를 배합하여 열 및 광 경화성 수지 조성물로 하고, 차광층이 형성된 광 투과성 커버 부재의 표면에, 이 열 및 광 경화성 수지 조성물을 도포하고, 이 도포면을 화상 표시 부재에 겹치고, 자외선을 조사하여 광 경화시킨 후에, 전체를 가열함으로써 차광층과 화상 표시 부재 사이에 끼워진 열 및 광 경화성 수지 조성물을 열경화시키는 것이 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 4 참조).Therefore, a thermal polymerization initiator is blended with the photocurable resin composition to obtain a heat and photocurable resin composition, the heat and photocurable resin composition is applied to the surface of the light-transmissive cover member on which the light-shielding layer is formed, and the coated surface is displayed as an image After overlapping a member and photocuring by irradiating an ultraviolet-ray, it is proposed to thermoset the heat and photocurable resin composition pinched|interposed between a light shielding layer and an image display member by heating the whole (for example, refer patent document 4).

그러나, 이 제안된 기술에서는, 열 중합 개시제를 함유하기 때문에, 열 중합 프로세스를 위한 설비를 요한다는 것과, 보존 안정성이 저하된다고 하는 문제가 있다.However, in this proposed technique, since it contains a thermal polymerization initiator, there exists a problem that the equipment for a thermal polymerization process is required, and storage stability falls.

따라서, 열 중합 프로세스를 필요로 하지 않으면서, 또한 차광층과 화상 표시 부재 사이에 끼워져 광이 직접 닿지 않는 영역의 경화성을 양호하게 하여, 경화물의 블리드 아웃을 방지할 수 있는 광 경화성 수지 조성물의 제공이 요구되고 있는 것이 현재 상황이다.Therefore, providing a photocurable resin composition that does not require a thermal polymerization process and can prevent bleed-out of the cured product by improving the curability of the region that is sandwiched between the light-shielding layer and the image display member and does not directly hit with light What is required is the present situation.

일본 특허 공개 제2015-34240호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2015-34240 일본 특허 공개 제2000-67677호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2000-67677 일본 특허 공개 제2000-336127호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2000-336127 국제 공개 제2008/126860호 팸플릿International Publication No. 2008/126860 pamphlet

본 발명은 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하고, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다. 즉, 본 발명은 광이 직접 닿지 않는 영역의 경화성을 양호하게 하여, 경화물의 블리드 아웃을 방지할 수 있는 광 경화성 수지 조성물, 상기 광 경화성 수지 조성물을 사용한 화상 표시 장치 및 상기 광 경화성 수지 조성물을 사용한 화상 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to solve the above-mentioned various problems in the prior art and to achieve the following objects. That is, the present invention provides a photo-curable resin composition capable of preventing bleed-out of a cured product by improving curability in a region not directly exposed to light, an image display device using the photo-curable resin composition, and a photo-curable resin composition using the photo-curable resin composition An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an image display device.

상기 과제를 해결하기 위한 수단으로는, 이하와 같다. 즉,As a means for solving the said subject, it is as follows. in other words,

<1> 라디칼 중합성기 함유 화합물과, 양이온 중합성기 함유 화합물과, 광 라디칼 개시제와, 광 산 발생제를 함유하고,<1> A radical polymerizable group-containing compound, a cationically polymerizable group-containing compound, a radical photoinitiator, and a photoacid generator are contained;

상기 라디칼 중합성기 함유 화합물의 함유량이, 상기 양이온 중합성기 함유 화합물의 함유량보다도 많고,Content of the said radically polymerizable group containing compound is more than content of the said cationically polymerizable group containing compound,

상기 광 라디칼 개시제가, α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제, 및 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제 중 적어도 어느 것이며,The optical radical initiator is at least any one of an α-hydroxyalkylphenone-based radical optical initiator and a benzylmethyl ketal-based radical optical initiator;

상기 광 라디칼 개시제와, 상기 광 산 발생제의 질량 비율(광 라디칼 개시제/광 산 발생제)이, 0.5 내지 30인 것을 특징으로 하는 광 경화성 수지 조성물이다.Mass ratio (optical radical initiator/photoacid generator) of the said radical photoinitiator and the said photoacid generator is 0.5-30, It is a photocurable resin composition characterized by the above-mentioned.

<2> 상기 양이온 중합성기 함유 화합물이, 라디칼 중합성기를 갖는 상기 <1>에 기재된 광 경화성 수지 조성물이다.<2> The said cationically polymerizable group containing compound is the photocurable resin composition as described in said <1> which has a radically polymerizable group.

<3> 상기 양이온 중합성기 함유 화합물에 있어서의 양이온 중합성기가, 알콕시실릴기 및 에폭시기 중 적어도 어느 것인 상기 <1> 또는 <2> 중 어느 것에 기재된 광 경화성 수지 조성물이다.<3> The photocurable resin composition according to any one of <1> or <2>, wherein the cationically polymerizable group in the cationically polymerizable group-containing compound is at least any one of an alkoxysilyl group and an epoxy group.

<4> 상기 광 산 발생제의 함유량이, 0.01질량% 이상이며,<4> content of the said photo acid generator is 0.01 mass % or more,

상기 광 라디칼 개시제의 함유량과, 상기 광 산 발생제의 함유량의 합(광 라디칼 개시제+광 산 발생제)이, 1.5질량% 이하인 상기 <1> 내지 <3> 중 어느 것에 기재된 광 경화성 수지 조성물이다.It is the photocurable resin composition in any one of said <1>-<3> whose sum (optical radical initiator + photoacid generator) of content of the said radical photoinitiator and content of the said photoacid generator is 1.5 mass % or less. .

<5> 가소제를 추가로 함유하는 상기 <1> 내지 <4> 중 어느 것에 기재된 광 경화성 수지 조성물이다.<5> It is the photocurable resin composition in any one of said <1>-<4> which further contains a plasticizer.

<6> 상기 <1> 내지 <5> 중 어느 것에 기재된 광 경화성 수지 조성물의 경화물을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치이다.<6> It is an image display apparatus characterized by having the hardened|cured material of the photocurable resin composition in any one of said <1>-<5>.

<7> 화상 표시 부재와, 광 투과성 커버 부재를 갖고,<7> an image display member and a light-transmitting cover member;

상기 화상 표시 부재와, 상기 광 투과성 커버 부재가, 상기 경화물을 사이에 두고 접착되어 있는 상기 <6>에 기재된 화상 표시 장치이다.The image display device according to <6>, wherein the image display member and the light transmissive cover member are adhered with the cured product therebetween.

<8> 상기 광 투과성 커버 부재가, 주연부에 차광층을 갖고,<8> the light-transmitting cover member has a light-shielding layer on its periphery,

상기 광 투과성 커버 부재에 있어서, 상기 차광층을 갖는 면이, 상기 화상 표시 부재를 향하고 있는 상기 <7>에 기재된 화상 표시 장치이다.In the light-transmitting cover member, the image display device according to <7>, wherein the surface having the light-shielding layer faces the image display member.

<9> 주연부에 차광층을 갖는 광 투과성 커버 부재의 상기 차광층을 갖는 측의 면에, 상기 <1> 내지 <5> 중 어느 것에 기재된 광 경화성 수지 조성물을 도포하고, 도포층을 얻는 도포 공정과,<9> Application step of applying the photocurable resin composition according to any one of <1> to <5> above to the surface of the light-transmitting cover member having the light-shielding layer in the peripheral portion, on the side having the light-shielding layer, to obtain an application layer class,

상기 도포층에, 상기 광 투과성 커버 부재측과 반대측으로부터 광을 조사하고, 상기 도포층을 가경화시켜, 가경화층을 얻는 가경화 공정과,a provisional curing step of irradiating the application layer with light from a side opposite to the light-transmitting cover member side, and temporarily curing the application layer to obtain a provisionally cured layer;

상기 가경화층과, 화상 표시 부재를 접합하는 접합 공정과,a bonding step of bonding the temporary cured layer and the image display member;

상기 광 투과성 커버 부재측으로부터 상기 가경화층에 광을 조사하여, 상기 가경화층을 본경화시키고, 본경화층을 얻는 본경화 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법이다.and a main curing step of irradiating light to the temporary curing layer from the light-transmitting cover member side to cause the temporary curing layer to be cured, and to obtain the main cured layer.

본 발명에 따르면, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하고, 상기 목적을 달성할 수 있으며, 광이 직접 닿지 않는 영역의 경화성을 양호하게 하여, 경화물의 블리드 아웃을 방지할 수 있는 광 경화성 수지 조성물, 상기 광 경화성 수지 조성물을 사용한 화상 표시 장치, 및 상기 광 경화성 수지 조성물을 사용한 화상 표시 장치의 제조 방법을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the photocurable resin composition which can solve the said various problems in the prior art, can achieve the said objective, improve curability in the area|region which light does not directly hit, and can prevent the bleed-out of hardened|cured material , the image display device using the said photocurable resin composition, and the manufacturing method of the image display device using the said photocurable resin composition can be provided.

도 1의 (a)는, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 단면 모식도이다(첫째).
도 1의 (b)는, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 단면 모식도이다(둘째).
도 1의 (c)는, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 단면 모식도이다(셋째).
도 1의 (d)는, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 단면 모식도이다(넷째).
도 1의 (e)는, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 단면 모식도이다(다섯째).
도 2의 (a)는 실시예에 있어서의 모의 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 단면 모식도이다(첫째).
도 2의 (b)는 실시예에 있어서의 모의 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 단면 모식도이다(둘째).
도 2의 (c)는, 실시예에 있어서의 모의 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 단면 모식도이다(셋째).
도 2의 (d)는, 실시예에 있어서의 모의 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 단면 모식도이다(넷째).
도 2의 (e)는, 실시예에 있어서의 모의 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 단면 모식도이다(다섯째).
Fig. 1(a) is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a method for manufacturing an image display device of the present invention (first).
Fig. 1(b) is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a method for manufacturing an image display device of the present invention (second).
Fig. 1C is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a method for manufacturing an image display device of the present invention (third).
Fig. 1(d) is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a method for manufacturing an image display device of the present invention (fourth).
Fig. 1(e) is a schematic cross-sectional view for explaining an example of a method for manufacturing an image display device of the present invention (fifth).
Fig. 2(a) is a schematic cross-sectional view for explaining a method for manufacturing a simulation panel in an Example (first).
Fig. 2(b) is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing method of the simulation panel in the Example (second).
FIG.2(c) is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the manufacturing method of the simulation panel in an Example (3rd).
FIG.2(d) is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the manufacturing method of the simulation panel in an Example (fourth).
Fig. 2(e) is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing method of the simulation panel in the Example (fifth).

(광 경화성 수지 조성물) (Photocurable resin composition)

본 발명의 광 경화성 수지 조성물은, 라디칼 중합성기 함유 화합물과, 양이온 중합성기 함유 화합물과, 광 라디칼 개시제와, 광 산 발생제를 함유하고, 필요에 따라, 그 밖의 성분을 추가로 함유한다.The photocurable resin composition of this invention contains a radically polymerizable group containing compound, a cationically polymerizable group containing compound, an optical radical initiator, and a photoacid generator, and contains other components further as needed.

상기 광 라디칼 개시제는, α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제, 및 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제 중 적어도 어느 것이다.The optical radical initiator is at least any one of an α-hydroxyalkylphenone-based optical radical initiator and a benzylmethyl ketal-based optical radical initiator.

상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서, 상기 라디칼 중합성기 함유 화합물의 함유량은, 상기 양이온 중합성기 함유 화합물의 함유량보다도 많다.The said photocurable resin composition WHEREIN: There is more content of the said radically polymerizable group containing compound than content of the said cationically polymerizable group containing compound.

본 발명자들은, 광이 직접 닿지 않는 영역의 경화성을 양호하게 하여, 경화물의 블리드 아웃을 방지할 수 있는 광 경화성 수지 조성물을 제공하기 위해, 예의 검토를 행했다. 그 결과, 라디칼 경화계에 양이온 경화계를 병용한 광 경화계에 있어서, 광 라디칼 개시제로서, α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제, 및 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제 중 적어도 어느 것을 사용하고, 양이온 경화계의 경화제로서 광 산 발생제를 사용함으로써, 광이 직접 닿지 않는 영역의 경화성을 양호하게 하여, 경화물의 블리드 아웃을 방지할 수 있음을 알아내어, 본 발명의 완성에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly examined in order to provide the photocurable resin composition which can improve sclerosis|hardenability of the area|region which light does not directly hit, and can prevent the bleed-out of hardened|cured material. As a result, in the photo-curing system in which the cationic curing system is used in combination with the radical curing system, at least any one of an α-hydroxyalkylphenone-based optical radical initiator and a benzylmethyl ketal-based optical radical initiator is used as the optical radical initiator, By using a photoacid generator as a hardening|curing agent of a cationic curing system, sclerosis|hardenability of the area|region which light does not directly hit can be made favorable, and it discovered that the bleed-out of hardened|cured material could be prevented, and it led to the completion of this invention.

여기서, 본 발명자가 생각하는, 본 발명의 효과가 얻어지는 추정 메커니즘을 이하의 스킴 1을 사용하여 설명한다. 이하의 예는, 광 라디칼 개시제로서, α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제를 사용하고, 광 산 발생제로서 오늄염을 사용한 예이다.Here, the estimation mechanism in which the present inventor thinks that the effect of this invention is acquired is demonstrated using the following scheme 1. The following examples are examples in which an α-hydroxyalkylphenone-based optical radical initiator is used as the radical photoinitiator, and an onium salt is used as the photoacid generator.

Figure 112018131780496-pct00001
Figure 112018131780496-pct00001

광 경화성 수지 조성물에 광이 조사되면, α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제가 우선적으로 광을 흡수하고, 카르보닐기와 수산기의 탄소-탄소 결합이 개열을 일으켜(α 개열), 라디칼을 발생한다. 발생된 라디칼(A)의 일부는, 광 산 발생제로 전자를 이동시키고, 라디칼(A)은, 양이온(B)이 된다. 양이온(B)은, 보다 안정적인 구조인 비이온성의 구조(C)로 전위한다. 이 때, 프로톤(H +)이 생긴다.When light is irradiated to the photocurable resin composition, the α-hydroxyalkylphenone-based photoradical initiator preferentially absorbs light, and the carbon-carbon bond between the carbonyl group and the hydroxyl group causes cleavage (α cleavage), thereby generating a radical. A part of the generated radicals (A) transfer electrons to the photoacid generator, and the radicals (A) become cations (B). The cation (B) translocates to the nonionic structure (C), which is a more stable structure. At this time, protons (H +) are generated.

프로톤의 발생에는, 광 조사로부터 타임 래그가 있다. 또한, 프로톤은 라디칼에 비교하여 안정적이고, 프로톤은 계 내에서 확산 가능하다. 그 때문에, 광 경화성 수지 조성물은 광 조사 후에 있어서도 경화가 계속되며, 또한 광이 직접 미치지 않는 영역에 있어서의 경화를 가능하게 한다. 또한, 광 조사 후의 경화는, 양이온 경화가 지배적이라고 생각된다.The generation of protons has a time lag from light irradiation. In addition, protons are stable compared to radicals, and protons can diffuse in the system. Therefore, hardening continues even after light irradiation of a photocurable resin composition, and also enables hardening in the area|region which light does not directly reach. In addition, as for hardening after light irradiation, it is thought that cationic hardening is dominant.

또한, 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제는, 카르보닐기에 인접하는 α 탄소가 수산기를 갖지 않지만, 카르보닐기에 인접한 결합이 α개열하는 점에서 공통되어 있다. 그 때문에, 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제를 사용한 경우에는, α개열하는 점은 동일하지만, 광 산 발생제에 전자가 이동한 후는 상기 스킴 1과는 상이한 메커니즘에 의해 프로톤을 생성하는 것이라고 생각된다.Moreover, the benzylmethyl ketal-type radical photo-radical initiator is common in that the α-carbon adjacent to the carbonyl group does not have a hydroxyl group, but the bond adjacent to the carbonyl group undergoes α-cleavage. Therefore, when a benzyl methyl ketal-type radical photoinitiator is used, although the point of α cleavage is the same, it is thought that protons are generated by a mechanism different from that of Scheme 1 after electrons are transferred to the photoacid generator. .

<라디칼 중합성기 함유 화합물><Radically polymerizable group-containing compound>

상기 라디칼 중합성기 함유 화합물(라디칼 중합 성분)로서는, 라디칼 중합성기를 갖는 화합물이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as said radically polymerizable group containing compound (radical polymerization component), if it is a compound which has a radically polymerizable group, According to the objective, it can select suitably.

상기 라디칼 중합성기로서는, 예를 들어, (메트)아크릴로일옥시기를 들 수 있다.As said radically polymerizable group, a (meth)acryloyloxy group is mentioned, for example.

여기서, (메트)아크릴로일옥시기란, 아크릴로일옥시기 또는 메타크릴로일옥시기를 의미한다.Here, the (meth)acryloyloxy group means an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group.

상기 라디칼 중합성기 함유 화합물이 갖는 라디칼 중합성기는 하나여도 되고, 2개 이상이어도 된다.The number of radically polymerizable groups which the said radically polymerizable group containing compound has may be one, and two or more may be sufficient as it.

상기 라디칼 중합성기 함유 화합물로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산에 수산기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는 에스테르 화합물, (메트)아크릴산과 에폭시 화합물을 반응시킴으로써 얻어지는 에폭시(메트)아크릴레이트, 이소시아네이트에 수산기를 갖는 (메트)아크릴산 유도체를 반응시킴으로써 얻어지는 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the radical polymerizable group-containing compound include an ester compound obtained by reacting (meth)acrylic acid with a compound having a hydroxyl group, an epoxy (meth)acrylate obtained by reacting (meth)acrylic acid with an epoxy compound, and a hydroxyl group in isocyanate The urethane (meth)acrylate etc. which are obtained by making the (meth)acrylic acid derivative which have been reacted are mentioned.

여기서, (메트)아크릴이란, 아크릴 또는 메타크릴을 의미하며, (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트를 의미한다.Here, (meth)acryl means acryl or methacryl, and (meth)acrylate means an acrylate or methacrylate.

하나의 라디칼 중합성기를 갖는 상기 라디칼 중합성기 함유 화합물로서는, 예를 들어 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸(메트)아크릴레이트, 2,2,3,3-테트라플루오로프로필(메트)아크릴레이트, 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트, 이미드(메트)아크릴레이트, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, 이소미리스틸(메트)아크릴레이트, 2-부톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 비시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸 숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸 헥사히드로 프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸2-히드록시프로필프탈레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸포스페이트 등을 들 수 있다.As said radically polymerizable group containing compound which has one radically polymerizable group, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, for example , 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) Acrylate, isobornyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylic Rate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene Glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate , 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, imide (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, propyl ( Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylic rate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, bicyclopentenyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-(meth)acryloyloxyethyl succinic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-(meth)acryloyloxyethyl 2-hydroxypropylphthalate, 2-(meth)acrylo yloxyethyl phosphate etc. are mentioned.

2개의 라디칼 중합성기를 갖는 상기 라디칼 중합성기 함유 화합물로서는, 예를 들어 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메트)아크릴레이트, 2-n-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜이디(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 부가 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 부가 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 부가 비스페놀 F디(메트)아크릴레이트, 디메틸올디시클로펜타디에닐디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 이소시아누르산 디(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-(메트)아크릴로일옥시프로필(메트)아크릴레이트, 카르보네이트디올디(메트)아크릴레이트, 폴리에테르디올디(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르디올디(메트)아크릴레이트, 폴리카프로락톤디올디(메트)아크릴레이트, 폴리부타디엔디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the radical polymerizable group-containing compound having two radical polymerizable groups include 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanedioldi( Meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, 2-n-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di (meth) ) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylic rate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, propylene oxide addition bisphenol A di(meth)acrylate, ethylene oxide addition bisphenol A di(meth)acrylate, ethylene oxide Addition bisphenol F di (meth) acrylate, dimethyloldicyclopentadienyl di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified isocyanuric acid di (meth) acrylate, 2-hydr Roxy-3-(meth)acryloyloxypropyl (meth)acrylate, carbonatediol di(meth)acrylate, polyetherdiol di(meth)acrylate, polyesterdiol di(meth)acrylate, poly Caprolactonediol di(meth)acrylate, polybutadienediol di(meth)acrylate, etc. are mentioned.

3개 이상의 라디칼 중합성기를 갖는 상기 라디칼 중합성기 함유 화합물로서는, 예를 들어 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 부가 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 부가 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 부가 이소시아누르산 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 글리세린 트리(메트)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 부가 글리세린 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(메트)아크릴로일옥시에틸포스페이트 등을 들 수 있다.As said radically polymerizable group containing compound which has 3 or more radically polymerizable groups, For example, pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylol propane tri(meth)acrylate, propylene oxide addition trimethylol propane tri(meth) Acrylate, ethylene oxide addition trimethylolpropane tri(meth)acrylate, caprolactone modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethylene oxide addition isocyanuric acid tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta (meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, glycerin tri(meth)acrylate, propylene oxide addition Glycerin tri(meth)acrylate, tris(meth)acryloyloxyethyl phosphate, etc. are mentioned.

상기 라디칼 중합성기 함유 화합물은, 소위 올리고머여도 된다.What is called an oligomer may be sufficient as the said radically polymerizable group containing compound.

상기 올리고머로서는, 예를 들어, (메트)아크릴레이트 올리고머를 들 수 있다.As said oligomer, a (meth)acrylate oligomer is mentioned, for example.

상기 (메트)아크릴레이트 올리고머로서는, 예를 들어 폴리우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머, 폴리이소프렌(메트)아크릴레이트 올리고머, 폴리부타디엔(메트)아크릴레이트 올리고머, 폴리에테르(메트)아크릴레이트 올리고머 등을 들 수 있다. 또한, 이하의 아크릴 중합체에 라디칼 중합성기를 부여시킨 것이어도 된다.As said (meth)acrylate oligomer, a polyurethane (meth)acrylate oligomer, polyisoprene (meth)acrylate oligomer, polybutadiene (meth)acrylate oligomer, polyether (meth)acrylate oligomer etc. are mentioned, for example. can Moreover, what provided the radically polymerizable group to the following acrylic polymers may be sufficient.

아크릴 중합체: 부틸아크릴레이트, 2-헥실아크릴레이트 및 아크릴산의 공중합체나, 시클로헥실아크릴레이트, 메타크릴산의 공중합체Acrylic polymer: a copolymer of butyl acrylate, 2-hexyl acrylate and acrylic acid, or a copolymer of cyclohexyl acrylate and methacrylic acid

상기 폴리우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머란, 주쇄에 폴리우레탄 골격을 갖는 폴리우레탄계(메트)아크릴레이트 올리고머이다. 구체예로서, 닛본 고세 가가꾸 고교 가부시키가이샤제의 UV-2000B, UV-2750B, UV-3000B, UV-3010B, UV-3200B, UV-3300B, UV-3700B, UV-6640B, UV-8630B, UV-7000B, UV-7610B, UV-1700B, UV-7630B, UV-6300B, UV-6640B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7630B, UV-7640B, UV-7650B, UT-5449, UT-5454 등을 들 수 있다.The polyurethane (meth)acrylate oligomer is a polyurethane-based (meth)acrylate oligomer having a polyurethane skeleton in the main chain. As specific examples, UV-2000B, UV-2750B, UV-3000B, UV-3010B, UV-3200B, UV-3300B, UV-3700B, UV-6640B, UV-8630B manufactured by Nippon Kosei Chemical Co., Ltd. UV-7000B, UV-7610B, UV-1700B, UV-7630B, UV-6300B, UV-6640B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7630B, UV-7640B, UV- 7650B, UT-5449, UT-5454, etc. are mentioned.

상기 폴리이소프렌(메트)아크릴레이트 올리고머란, 주쇄에 폴리이소프렌 골격을 갖는 폴리이소프렌계(메트)아크릴레이트 올리고머이다. 구체예로서, 폴리이소프렌 중합체의 무수 말레산 부가물과 2-히드록시에틸메타크릴레이트의 에스테르화물〔UC102(폴리스티렌 환산 분자량 17000), (주) 쿠라레; UC203(폴리스티렌 환산 분자량 35000), (주) 쿠라레〕 등을 들 수 있다.The polyisoprene (meth)acrylate oligomer is a polyisoprene-based (meth)acrylate oligomer having a polyisoprene skeleton in the main chain. As a specific example, the ester product of the addition product of maleic anhydride of a polyisoprene polymer and 2-hydroxyethyl methacrylate [UC102 (polystyrene conversion molecular weight 17000), Kuraray Co., Ltd.; UC203 (polystyrene conversion molecular weight 35000), Kuraray Co., Ltd.] etc. are mentioned.

상기 폴리부타디엔(메트)아크릴레이트 올리고머란, 주쇄에 폴리부타디엔 골격 또는 수소화폴리부타디엔 골격을 갖는 폴리부타디엔계(메트)아크릴레이트 올리고머이다. 구체예로서, 폴리부타디엔 중합체와 2-히드록시에틸메타크릴레이트의 에스테르화물〔EMA-3000(분자량3700), 닛본 소다(주)〕 등을 들 수 있다.The polybutadiene (meth)acrylate oligomer is a polybutadiene-based (meth)acrylate oligomer having a polybutadiene skeleton or a hydrogenated polybutadiene skeleton in the main chain. As a specific example, the ester of a polybutadiene polymer and 2-hydroxyethyl methacrylate [EMA-3000 (molecular weight 3700), Nippon Soda Co., Ltd.] etc. are mentioned.

상기 폴리에테르(메트)아크릴레이트 올리고머란, 주쇄에 폴리에틸렌글리콜이나 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리에테르 골격을 갖는 폴리에테르계(메트)아크릴레이트 올리고머이다. 구체예로서, 말단 아크릴 변성 폴리에테르〔UN-6202(분자량 6500), 네가미 고교(주); EBECRYL 230(분자량 5000), 다이셀·올넥스(주)〕 등을 들 수 있다.The said polyether (meth)acrylate oligomer is a polyether type (meth)acrylate oligomer which has polyether skeletons, such as polyethyleneglycol and polypropylene glycol, in a main chain. Specific examples include terminal acrylic modified polyether [UN-6202 (molecular weight 6500), Negami Kogyo Co., Ltd.; EBECRYL 230 (molecular weight 5000), Daicel Allnex Co., Ltd.] etc. are mentioned.

상기 올리고머의 중량 평균 분자량으로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 1,000 내지 100,000이 바람직하고, 2,000 내지 80,000이 보다 바람직하고, 5,000 내지 50,000이 특히 바람직하다. 상기 중량 평균 분자량은, 예를 들어 GPC(겔 침투 크로마토그래피)에 의해 측정된다.There is no restriction|limiting in particular as a weight average molecular weight of the said oligomer, Although it can select suitably according to the objective, 1,000-100,000 are preferable, 2,000-80,000 are more preferable, 5,000-50,000 are especially preferable. The said weight average molecular weight is measured by GPC (gel permeation chromatography), for example.

상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 라디칼 중합성기 함유 화합물의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 20질량% 내지 80질량%가 바람직하고, 30질량% 내지 70질량%가 보다 바람직하고, 40질량% 내지 60질량%가 특히 바람직하다. 또한, 상기 광 경화성 수지 조성물이 휘발분(예를 들어, 유기 용제)을 함유하는 경우, 본 명세서에서의 함유량은, 상기 광 경화성 수지 조성물의 불휘발분에 대한 함유량이다.There is no restriction|limiting in particular as content of the said radically polymerizable group containing compound in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 20 mass % - 80 mass % are preferable, 30 mass % - 70 mass % More preferably, 40 mass % - 60 mass % are especially preferable. In addition, when the said photocurable resin composition contains a volatile matter (for example, organic solvent), content in this specification is content with respect to the non-volatile matter of the said photocurable resin composition.

본 명세서에서 「내지」를 사용하여 나타낸 수치 범위는, 「내지」의 전후에 기재되는 수치를 각각 최솟값 및 최댓값으로서 포함하는 범위를 나타낸다. 즉, 20질량% 내지 80질량%는, 20질량% 이상 80질량% 이하를 의미한다.The numerical range shown using "to" in this specification represents the range which includes the numerical value described before and after "to" as a minimum value and a maximum value, respectively. That is, 20 mass % - 80 mass % means 20 mass % or more and 80 mass % or less.

상기 라디칼 중합성기 함유 화합물은, 상기 올리고머와, 상기 올리고머보다도 저분자량의 모노머를 병용하고 있어도 된다. 상기 모노머의 분자량으로는, 예를 들어 1,000 미만이 바람직하고, 500 이하가 보다 바람직하다.The said radically polymerizable group containing compound may use together the said oligomer and the monomer of lower molecular weight than the said oligomer. As molecular weight of the said monomer, less than 1,000 is preferable and 500 or less are more preferable, for example.

상기 라디칼 중합성기 함유 화합물이, 상기 올리고머와, 상기 모노머를 함유하는 경우, 상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 올리고머의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 20질량% 내지 70질량%가 바람직하고, 30질량% 내지 60질량%가 보다 바람직하다.When the said radically polymerizable group containing compound contains the said oligomer and the said monomer, there is no restriction|limiting in particular as content of the said oligomer in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 20 mass % - 70 mass % is preferable, and 30 mass % - 60 mass % are more preferable.

상기 라디칼 중합성기 함유 화합물이, 상기 올리고머와, 상기 모노머를 함유하는 경우, 상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 모노머의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 1질량% 내지 20질량%가 바람직하고, 3질량% 내지 15질량%가 보다 바람직하다.When the said radically polymerizable group containing compound contains the said oligomer and the said monomer, there is no restriction|limiting in particular as content of the said monomer in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 1 mass % - 20 mass % is preferable, and 3 mass % - 15 mass % are more preferable.

<양이온 중합성기 함유 화합물><Cationically polymerizable group-containing compound>

상기 양이온 중합성기 함유 화합물(양이온 중합 성분)로서는, 브뢴스테드산 유래 또는 루이스산의 작용에 의해 생성된 프로톤 또는 탄소 양이온과 반응하는 관능기(양이온 중합성기)를 갖고 있으면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The cationically polymerizable group-containing compound (cationically polymerizable component) is not particularly limited as long as it has a functional group (cationically polymerizable group) that reacts with protons or carbocations derived from Bronsted acid or generated by the action of Lewis acid (cationically polymerizable group). can be appropriately selected according to

상기 양이온 중합성기로서는, 예를 들어 알콕시실릴기, 에폭시기, 비닐에테르기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 알콕시실릴기, 및 에폭시기가 바람직하다.Examples of the cationically polymerizable group include an alkoxysilyl group, an epoxy group, a vinyl ether group, and an oxetanyl group. Among these, an alkoxysilyl group and an epoxy group are preferable.

상기 알콕시실릴기로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 하기 일반식 (1)로 표시되는 기가 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as said alkoxysilyl group, Although it can select suitably according to the objective, Group represented by the following general formula (1) is preferable.

Figure 112018131780496-pct00002
Figure 112018131780496-pct00002

단, 일반식 (1) 중, R1은, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 및 탄소수 1 내지 3의 알콕시기 중 어느 것을 나타낸다. R2, 및 R3은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 3의 알킬기를 나타낸다.However, in general formula (1), R<1> represents any of a C1-C3 alkyl group and a C1-C3 alkoxy group. R 2 and R 3 each independently represent an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

상기 알콕시실릴기로서는, 양이온 중합성이 우수한 점에서, 트리메톡시실릴기, 트리에톡시실릴기, 디메톡시메틸실릴기, 디에톡시메틸실릴기가 바람직하다.As said alkoxysilyl group, a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, a dimethoxymethylsilyl group, and a diethoxymethylsilyl group are preferable at the point excellent in cationic polymerizability.

상기 에폭시기는, 지환식 에폭시기여도 되고, 비지환식 에폭시기여도 된다. 상기 에폭시기로서는, 예를 들어 하기 일반식 (2), 하기 일반식 (3)으로 표시되는 기 등을 들 수 있다.An alicyclic epoxy group may be sufficient as the said epoxy group, and a non-alicyclic epoxy group may be sufficient as it. Examples of the epoxy group include groups represented by the following general formula (2) and the following general formula (3).

Figure 112018131780496-pct00003
Figure 112018131780496-pct00003

단, 일반식 (2) 중, R4는, 수소 원자, 및 메틸기 중 어느 것을 나타낸다.However, in general formula (2), R<4> represents any of a hydrogen atom and a methyl group.

상기 양이온 중합성기 함유 화합물은, 상기 광 경화성 수지 조성물 중의 원재료의 상용성을 양호하게 하며, 또한 상기 광 경화성 수지 조성물의 경화물 상분리를 방지할 수 있다는 점에서, 라디칼 중합성기를 추가로 갖는 것이 바람직하다.The cationically polymerizable group-containing compound preferably further has a radical polymerizable group from the viewpoint of improving the compatibility of the raw materials in the photocurable resin composition and preventing phase separation of the cured product of the photocurable resin composition. do.

또한, 본 발명에 있어서, 라디칼 중합성기를 갖는 상기 양이온 중합성기 함유 화합물은, 상기 라디칼 중합성기 함유 화합물에 속하는 것이 아니라, 상기 양이온 중합성기 함유 화합물에 속하는 것으로 한다.In addition, in this invention, the said cationically polymerizable group containing compound which has a radically polymerizable group shall not belong to the said radically polymerizable group containing compound, but shall belong to the said cationically polymerizable group containing compound.

상기 라디칼 중합성기를 갖는 상기 양이온 중합성기 함유 화합물로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 하기 일반식 (2)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as said cationically polymerizable group containing compound which has the said radically polymerizable group, According to the objective, it can select suitably, For example, the compound etc. which are represented by the following general formula (2) are mentioned.

Figure 112018131780496-pct00004
Figure 112018131780496-pct00004

단, 일반식 (4) 중, R은, 수소 원자 및 메틸기 중 어느 것을 나타내며, X는, 양이온 중합성기를 나타내고, Y는, 2가의 연결기를 나타낸다.However, in the general formula (4), R represents either a hydrogen atom or a methyl group, X represents a cationically polymerizable group, and Y represents a divalent linking group.

상기 X로서는, 예를 들어 상기 일반식 (1)로 표시되는 기, 상기 일반식 (2)로 표시되는 기, 상기 일반식 (3)으로 표시되는 기 등을 들 수 있다.As said X, group represented by the said General formula (1), group represented by the said General formula (2), group represented by the said General formula (3), etc. are mentioned, for example.

상기 Y로서는, 예를 들어 알킬렌기, 알킬렌 옥시알킬렌기 등을 들 수 있다. 상기 알킬렌기로서는, 예를 들어 C1∼ 6알킬렌기 등을 들 수 있다. 상기 알킬렌옥시알킬렌기로서는, 예를 들어 C1∼ 6알킬렌옥시C1 6알킬렌기 등을 들 수 있다. 여기서, C1∼6은, 탄소수가 1 내지 6을 나타낸다.As said Y, an alkylene group, an alkylene oxyalkylene group, etc. are mentioned, for example. Examples of the alkylene group include a C 1 to 6 alkylene group. Examples of the alkyleneoxy alkyl group, for example, and the like 1~ C 6 alkyleneoxy C 1 ~ 6 alkyl group. Here, C 1~6 shows a carbon number of 1 to 6.

상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 양이온 중합성 함유 화합물의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 0.5질량% 내지 30질량%가 바람직하고, 1질량% 내지 20질량%가 보다 바람직하고, 2질량% 내지 15질량%가 특히 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as content of the said cationically polymerizable containing compound in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 0.5 mass % - 30 mass % are preferable, 1 mass % - 20 mass % More preferably, 2 mass % - 15 mass % are especially preferable.

<광 라디칼 개시제><Photoradical Initiator>

상기 광 라디칼 개시제는, α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제, 및 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제 중 적어도 어느 것이다.The optical radical initiator is at least any one of an α-hydroxyalkylphenone-based optical radical initiator and a benzylmethyl ketal-based optical radical initiator.

상기 α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제로서는, 예를 들어 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸 프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-1-온, 올리고[2-히드록시-2-메틸-[1-(메틸비닐)페닐]프로파논] 등을 들 수 있다.Examples of the α-hydroxyalkylphenone-based photoradical initiator include 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1- One, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1-{4-[4-( 2-hydroxy-2-methyl propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-1-one, oligo[2-hydroxy-2-methyl-[1-(methylvinyl)phenyl]propanone], etc. can be heard

상기 α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제로서는, 적절히 합성한 것을 사용해도 되고, 시판품을 사용해도 된다. 상기 시판품으로서는, 이르가큐어184(1-히드록시시클로헥실페닐케톤, BASF사제), 이르가큐어1173(2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, BASF사제), 이르가큐어2959(1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, BASF사제), 이르가큐어127(2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸 프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-1-온, BASF사제), Esacureone(올리고[2-히드록시-2-메틸-[1-(메틸비닐)페닐]프로파논], Lamberti사제) 등을 들 수 있다. 이들은, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.As said (alpha)-hydroxyalkylphenone type|system|group optical radical initiator, what was synthesize|combined suitably may be used and a commercial item may be used. As said commercial item, Irgacure 184 (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, BASF company make), Irgacure 1173 (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, BASF company make), Irgacure Gacure 2959 (1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, manufactured by BASF), Irgacure 127 (2-hydroxyl) Roxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-1-one manufactured by BASF), Esacureone (oligo[2-hydroxy-2) -methyl-[1-(methylvinyl)phenyl]propanone], the Lamberti company make) etc. are mentioned. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

상기 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제로서는, 예를 들어 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다.As said benzylmethyl ketal type radical photo-radical initiator, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one etc. are mentioned, for example.

상기 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제로서는, 적절히 합성한 것을 사용해도 되고, 시판품을 사용해도 된다. 상기 시판품으로서는, 예를 들어 이르가큐어 651(2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, BASF사제) 등을 들 수 있다.As said benzyl methyl ketal-type radical photo-radical initiator, what was synthesize|combined suitably may be used and a commercial item may be used. Irgacure 651 (2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, BASF Corporation make) etc. are mentioned as said commercial item, for example.

상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 광 라디칼 개시제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 0.1질량% 이상이 바람직하고, 0.1질량% 내지 2.0질량%가 보다 바람직하고, 0.2질량% 내지 1.0질량%가 특히 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as content of the said radical photoinitiator in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 mass % or more is preferable, 0.1 mass % - 2.0 mass % are more preferable, 0.2 Mass % - 1.0 mass % are especially preferable.

<광 산 발생제><Light acid generator>

상기 광 산 발생제로서는, 광을 흡수하여 산을 발생하는 화합물이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 오늄염이 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as long as it is a compound which absorbs light and generate|occur|produces an acid as said photoacid generator, Although it can select suitably according to the objective, Onium salt is preferable.

상기 오늄염으로서는, 예를 들어 디아조늄염, 요오도늄염, 술포늄염 등을 들 수 있다. 이들은, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 중에서도 안정성의 관점에서, 요오도늄염 및 술포늄염이 바람직하다.As said onium salt, a diazonium salt, an iodonium salt, a sulfonium salt etc. are mentioned, for example. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these, an iodonium salt and a sulfonium salt are preferable from a stability viewpoint.

상기 디아조늄염으로서는, 예를 들어 벤젠디아조늄헥사플루오로안티모네이트, 벤젠디아조늄헥사플루오로포스페이트, 벤젠디아조늄헥사플루오로보레이트 등을 들 수 있다.Examples of the diazonium salt include benzenediazonium hexafluoroantimonate, benzenediazonium hexafluorophosphate, and benzenediazonium hexafluoroborate.

상기 요오도늄염으로서는, 예를 들어 디페닐요오도늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로포스페이트, 디페닐요오도늄헥사플루오로안티모네이트, 디(4-노닐페닐)요오도늄헥사플루오로포스페이트, 디(4-t-부틸페닐)요오도늄헥사플루오로포스페이트, 디(4-t-부틸페닐)요오도늄헥사플루오로안티모네이트, 트릴쿠밀요오도늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, (4-메틸페닐) [4-(2-메틸프로필)페닐]요오도늄헥사플루오로포스페이트 등을 들 수 있다.Examples of the iodonium salt include diphenyliodonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, and di(4- Nonylphenyl)iodonium hexafluorophosphate, di(4-t-butylphenyl)iodonium hexafluorophosphate, di(4-t-butylphenyl)iodonium hexafluoroantimonate, trilcumylio Donium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, (4-methylphenyl)[4-(2-methylpropyl)phenyl]iodonium hexafluorophosphate, etc. are mentioned.

상기 술포늄염으로서는, 예를 들어 트리페닐술포늄헥사플루오로포스페이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디페닐[4-(페닐티오)페닐]술포늄헥사플루오로안티모네이트, 4,4'-비스〔디페닐술포니오〕디페닐술피드 비스헥사플루오로포스페이트, 4,4'-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐술포니오〕디페닐술피드 비스헥사플루오로안티모네이트, 4,4'-비스〔디(β-히드록시에톡시)페닐술포니오〕디페닐술피드 비스헥사플루오로포스페이트, 7-〔디(p-톨루일)술포니오〕-2-이소프로필티오크산톤 헥사플루오로안티모네이트, 7-〔디(p-톨루일)술포니오〕-2-이소프로필티오크산톤 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 4-페닐 카르보닐-4'-디페닐술포니오-디페닐술피드 헥사플루오로포스페이트, 4-(p-tert-부틸페닐카르보닐)-4'-디페닐술포니오-디페닐술피드 헥사플루오로안티모네이트, 4-(p-tert-부틸페닐카르보닐)-4'-디(p-톨루일)술포니오-디페닐술피드테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 디페닐[4-(페닐티오)페닐]술포늄의 인산염 등을 들 수 있다.Examples of the sulfonium salt include triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate, and diphenyl[4-(phenylthio). )phenyl]sulfonium hexafluoroantimonate, 4,4'-bis[diphenylsulfonio]diphenylsulfide bishexafluorophosphate, 4,4'-bis[di(β-hydroxyethoxy) )phenylsulfonio]diphenylsulfide bishexafluoroantimonate, 4,4'-bis[di(β-hydroxyethoxy)phenylsulfonio]diphenylsulfide bishexafluorophosphate, 7 -[di(p-toluyl)sulfonio]-2-isopropylthioxanthone hexafluoroantimonate, 7-[di(p-toluyl)sulfonio]-2-isopropylthioxanthone Tetrakis(pentafluorophenyl)borate, 4-phenyl carbonyl-4'-diphenylsulfonio-diphenylsulfide hexafluorophosphate, 4-(p-tert-butylphenylcarbonyl)-4'- Diphenylsulfonio-diphenylsulfide hexafluoroantimonate, 4-(p-tert-butylphenylcarbonyl)-4'-di(p-toluyl)sulfonio-diphenylsulfidetetrakis (pentafluorophenyl) borate, the phosphate of diphenyl [4- (phenylthio) phenyl] sulfonium, etc. are mentioned.

상기 광 산 발생제로서는, 적절히 합성한 것을 사용해도 되고, 시판품을 사용해도 된다. 상기 시판품으로서는, 예를 들어 CPI-100P, 101A, 200K, 210S(트리아릴술포늄염, 산아프로 가부시키가이샤제), 카야래드(등록 상표)PCI-220, PCI-620(니혼 가야쿠 가부시키가이샤제), UVI-6990, UVI-6992(유니온카바이드사제), 아데카 옵토머 SP-150, SP-170(가부시키가이샤 아데카제), CI-5102(닛본 소다 가부시키가이샤제), CIT-1370, 1682, (닛본 소다 가부시키가이샤제), CIP-1866S, 2048S, 2064S, (닛본 소다 가부시키가이샤제), DPI-101, 102, 103, 105(미도리 가가꾸 가부시키가이샤제), MPI-103, 105(미도리 가가꾸 가부시키가이샤제), BBI-101, 102, 103, 105, 109, 201(미도리 가가꾸 가부시키가이샤제), TPS-101, 102, 103, 105(미도리 가가꾸 가부시키가이샤제), MDS-103, 105(미도리 가가꾸 가부시키가이샤제), DTS-102, 103, 2000(미도리 가가꾸 가부시키가이샤제), PI-2074(로디아 재팬 가부시키가이샤제), WPI-113, 116(와코 쥰야쿠 고교 가부시키가이샤제), 이르가큐어 250(BASF사제) 등을 들 수 있다.As said photoacid generator, what was synthesize|combined suitably may be used and a commercial item may be used. As said commercial item, For example, CPI-100P, 101A, 200K, 210S (triaryl sulfonium salt, San-Apro Co., Ltd. make), Kayarad (trademark) PCI-220, PCI-620 (Nippon Kayaku Co., Ltd.) ), UVI-6990, UVI-6992 (manufactured by Union Carbide), ADEKA OPTOMER SP-150, SP-170 (made by ADEKA Corporation), CI-5102 (made by Nippon Soda Corporation), CIT- 1370, 1682, (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), CIP-1866S, 2048S, 2064S, (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), DPI-101, 102, 103, 105 (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), MPI -103, 105 (Midori Chemical Co., Ltd.), BBI-101, 102, 103, 105, 109, 201 (Midori Chemical Co., Ltd.), TPS-101, 102, 103, 105 (Midori Chemical) Co., Ltd.), MDS-103, 105 (Midori Chemical Co., Ltd.), DTS-102, 103, 2000 (Midori Chemical Co., Ltd.), PI-2074 (Rodia Japan Co., Ltd.), WPI-113, 116 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), Irgacure 250 (manufactured by BASF), and the like.

상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 광 산 발생제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 0.01질량% 이상이 바람직하고, 0.01질량% 내지 2.0질량%가 보다 바람직하고, 0.01질량% 내지 1.0질량%가 특히 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as content of the said photo acid generator in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 0.01 mass % or more is preferable, 0.01 mass % - 2.0 mass % are more preferable, 0.01 mass % - 1.0 mass % are especially preferable.

상기 광 라디칼 개시제와, 상기 광 산 발생제의 질량 비율(광 라디칼 개시제/광 산 발생제)은, 0.5 내지 30이며, 1.0 내지 20이 바람직하다. 상기 질량 비율이, 0.5 미만이면 블리드를 발생하고, 30을 초과해도, 블리드를 발생한다.The mass ratio (optical radical initiator/photoacid generator) of the said radical photoinitiator and the said photoacid generator is 0.5-30, and 1.0-20 are preferable. If the said mass ratio is less than 0.5, bleed will generate|occur|produce, and even if it exceeds 30, bleed will generate|occur|produce.

상기 광 라디칼 개시제의 함유량과, 상기 광 산 발생제의 함유량의 합(광 라디칼 개시제+광 산 발생제)으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 상기 광 라디칼 개시제 및 상기 광 산 발생제의 함유량이 너무 많으면, 경화물의 변색이 생길 우려가 있다는 점에서, 4.0질량% 이하가 바람직하고, 2.5질량% 이하가 보다 바람직하고, 1.5질량% 이하가 특히 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as a sum (optical radical initiator + photoacid generator) of content of the said radical photoinitiator, and content of the said photoacid generator, Although it can select suitably according to the objective, The said radical photoinitiator and the said photoacid generator When there is too much content of a generator, since there exists a possibility that the discoloration of hardened|cured material may arise, 4.0 mass % or less is preferable, 2.5 mass % or less is more preferable, and 1.5 mass % or less is especially preferable.

<그 밖의 성분><Other ingredients>

상기 그 밖의 성분으로서는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 그 밖의 광 라디칼 개시제, 가소제, 점착 부여제, 증감제 등을 들 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as said other component unless the effect of this invention is impaired, According to the objective, it can select suitably, For example, other radical photoinitiators, a plasticizer, a tackifier, a sensitizer, etc. are mentioned. have.

<<그 밖의 광 라디칼 개시제>><<Other radical photoinitiators>>

상기 그 밖의 광 라디칼 개시제로서는, 예를 들어 아실포스핀옥시드계 광 라디칼 중합 개시제, 옥심에스테르계 광 라디칼 중합 개시제 등을 들 수 있다.As said other radical optical initiator, an acylphosphine oxide-type radical optical polymerization initiator, an oxime ester-type radical optical polymerization initiator, etc. are mentioned, for example.

상기 아실포스핀옥시드계 광 라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들어 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드(상품명 루시린 TPO, 루시린은 BASF사의 등록 상표), 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥시드(상품명 이르가큐어 819) 등을 들 수 있다.Examples of the acylphosphine oxide-based radical photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide (trade name: lucirin TPO, lucirin is a registered trademark of BASF), bis(2,4, 6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide (trade name: Irgacure 819), etc. are mentioned.

상기 옥심에스테르계 광 라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들어 (2E)-2-(벤조일옥시 이미노)-1-[4-(페닐티오)페닐]옥탄-1-온(상품명 이르가큐어 OXE-01) 등을 들 수 있다.As said oxime ester type radical photopolymerization initiator, (2E)-2-(benzoyloxyimino)-1-[4-(phenylthio)phenyl]octan-1-one (brand name Irgacure OXE-01), for example ) and the like.

상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 그 밖의 광 라디칼 개시제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 0.1질량% 이상이 바람직하고, 0.1질량% 내지 2.0질량%가 보다 바람직하고, 0.2질량% 내지 1.0질량%가 특히 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as content of the said other radical photoinitiator in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 0.1 mass % or more is preferable, 0.1 mass % - 2.0 mass % are more preferable, , 0.2 mass % - 1.0 mass % are especially preferable.

<<가소제>><<Plasticizer>>

상기 가소제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 가소제 성분으로서는, 라디칼 중합성기 및 양이온 중합성기를 분자 내에 갖지 않고, 자외선의 조사를 받아서 라디칼 중합 및 양이온 중합하지 않는 공지된 가소제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 프탈산에스테르계 가소제, 인산에스테르계 가소제, 아디프산에스테르계 가소제, 트리멜리트산에스테르계 가소제, 폴리에스테르계 가소제, 에폭시계 가소제, 세바스산에스테르계 가소제, 아젤라산에스테르계 가소제, 시트르산에스테르계 가소제, 글리콜산계 가소제, 리시놀레산계 가소제, 말레산에스테르계 가소제, 푸마르산에스테르계 가소제, 피로멜리트산에스테르계 가소제, 이타콘산에스테르계 가소제 및 시클로헥산디카르복실레이트계 가소제 등을 들 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as said plasticizer, According to the objective, it can select suitably, For example, as a plasticizer component, it does not have a radically polymerizable group and a cationically polymerizable group in a molecule|numerator, and is irradiated with ultraviolet rays and does not radically polymerize and cationic polymerization is known. plasticizers may be used. For example, phthalate ester plasticizer, phosphate ester plasticizer, adipic acid ester plasticizer, trimellitic acid ester plasticizer, polyester plasticizer, epoxy plasticizer, sebacate ester plasticizer, azelaic acid ester plasticizer, citric acid and ester plasticizers, glycolic acid plasticizers, ricinoleic acid plasticizers, maleic acid ester plasticizers, fumaric acid ester plasticizers, pyromellitic acid ester plasticizers, itaconic acid ester plasticizers, and cyclohexanedicarboxylate plasticizers. .

상기 가소제는, 경화 후의 경화물에 유연성을 부여하고, 또한 경화 수축률을 저감시키는 것이다.The said plasticizer provides flexibility to the hardened|cured material after hardening, and reduces the cure shrinkage rate.

상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 가소제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 10질량% 내지 50질량%가 바람직하고, 20질량% 내지 40질량%가 보다 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as content of the said plasticizer in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 10 mass % - 50 mass % are preferable, and 20 mass % - 40 mass % are more preferable.

<<점착 부여제>><<Tackifier>>

상기 점착 부여제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 테르펜계 수지(예를 들어, 테르펜 수지, 테르펜페놀 수지, 수소 첨가 테르펜 수지 등), 로진 수지(예를 들어, 천연 로진, 중합 로진, 로진 에스테르, 수소 첨가 로진 등), 석유 수지(예를 들어, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌 등) 등을 들 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as said tackifier, According to the objective, it can select suitably, For example, a terpene type resin (For example, a terpene resin, a terpene phenol resin, hydrogenated terpene resin, etc.), a rosin resin (for example, , natural rosin, polymerized rosin, rosin ester, hydrogenated rosin, etc.), and petroleum resins (eg, polybutadiene, polyisoprene, etc.).

또한, 상기 점착 부여제는, 광 라디칼 중합성(메트)아크릴레이트를 미리 폴리머화된 재료여도 된다. 그러한 폴리머화된 재료로서는, 부틸아크릴레이트, 2-헥실아크릴레이트, 및 아크릴산의 공중합체나, 시클로헥실아크릴레이트, 및 메타크릴산의 공중합체 등을 들 수 있다.Moreover, the material which polymerized the photo-radically polymerizable (meth)acrylate beforehand may be sufficient as the said tackifier. Examples of the polymerized material include a copolymer of butyl acrylate, 2-hexyl acrylate, and acrylic acid, a copolymer of cyclohexyl acrylate and methacrylic acid, and the like.

상기 점착 부여제는, 경화물에 점착성을 부여하고, 접착 강도를 높인다.The said tackifier provides adhesiveness to hardened|cured material, and raises adhesive strength.

상기 광 경화성 수지 조성물에 있어서의 상기 점착 부여제의 함유량으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 10질량% 내지 50질량%가 바람직하고, 20질량% 내지 40질량%가 보다 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as content of the said tackifier in the said photocurable resin composition, Although it can select suitably according to the objective, 10 mass % - 50 mass % are preferable, and 20 mass % - 40 mass % are more preferable. do.

<<증감제>><<sensitizer>>

상기 증감제로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 상기 광 라디칼 개시제를 증감시키는 증감제여도 되고, 상기 광 산 발생제를 증감시키는 증감제여도 된다.There is no restriction|limiting in particular as said sensitizer, According to the objective, it can select suitably, The sensitizer which sensitizes the said radical photoinitiator may be sufficient, and the sensitizer which sensitizes the said photoacid generator may be sufficient.

상기 증감제로서는, 예를 들어 벤조페논계 증감제, 안트라센계 증감제, 티오크산톤계 증감제, 카르바졸계 증감제 등을 들 수 있다.As said sensitizer, a benzophenone type sensitizer, an anthracene type sensitizer, a thioxanthone type sensitizer, a carbazole type sensitizer etc. are mentioned, for example.

(화상 표시 장치)(image display device)

본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 상기 광 경화성 수지 조성물의 경화물을 적어도 갖고, 바람직하게는 화상 표시 부재와, 광 투과성 커버 부재를 갖고, 필요에 따라, 그 밖의 부재를 추가로 갖는다.The image display apparatus of this invention has at least the hardened|cured material of the said photocurable resin composition of this invention, Preferably it has an image display member and a light transmissive cover member, and further has another member as needed.

상기 화상 표시 부재와, 상기 광 투과성 커버 부재는, 상기 광 경화성 수지 조성물의 상기 경화물을 사이에 두고 접착되어 있다.The image display member and the light transmissive cover member are adhered with the cured product of the photocurable resin composition interposed therebetween.

<화상 표시 부재><No image display>

상기 화상 표시 부재로서는, 예를 들어 액정 디스플레이(LCD) 패널, 유기 EL 디스플레이(OLED) 패널, 전계 발광 디스플레이(ELD) 패널, 전계 방출 디스플레이(FED) 패널, 플라스마 디스플레이(PDP)패널 등을 들 수 있다.Examples of the image display member include a liquid crystal display (LCD) panel, an organic EL display (OLED) panel, an electroluminescence display (ELD) panel, a field emission display (FED) panel, and a plasma display (PDP) panel. have.

<광 투과성 커버 부재><Light-transmitting cover member>

상기 광 투과성 커버 부재로서는, 상기 화상 표시 부재에 형성된 화상이 시인 가능하게 되는 광 투과성이 있으면 되고, 그 재질로서는, 예를 들어 유리, 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카르보네이트 등을 들 수 있다.The light-transmitting cover member should just have light transmittance which makes the image formed on the image display member visible, and as the material, glass, acrylic resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, etc. can be heard

상기 광 투과성 커버 부재의 형상으로서는, 예를 들어 판상 등을 들 수 있다.As a shape of the said light transmissive cover member, plate shape etc. are mentioned, for example.

상기 광 투과성 커버 부재에는, 편면 또는 양면 하드 코팅 처리, 반사 방지 처리 등을 실시할 수 있다.The light-transmitting cover member may be subjected to a single or double-sided hard coating treatment, an antireflection treatment, or the like.

상기 광 투과성 커버 부재의 평균 두께, 탄성 등의 물성은, 사용 목적에 따라 적절하게 결정할 수 있다.Physical properties such as average thickness and elasticity of the light-transmitting cover member may be appropriately determined according to the purpose of use.

상기 광 투과성 커버 부재는, 주연부에 차광층을 갖는다. 상기 차광층은, 예를 들어 표시 화상의 휘도, 콘트라스트, 의장성 등의 향상을 위하여 마련된다. 그 경우, 상기 광 투과성 커버 부재에 있어서, 상기 차광층을 갖는 면은, 상기 화상 표시 부재를 향하고 있다.The light-transmitting cover member has a light-shielding layer on its periphery. The light-shielding layer is provided, for example, to improve luminance, contrast, designability, and the like of a display image. In this case, in the light-transmitting cover member, the surface having the light-shielding layer faces the image display member.

상기 차광층은, 예를 들어 상기 광 투과성 커버 부재 위에 흑색 잉크를 소정의 영역에 도포하고, 건조시킴으로써 제작할 수 있다.The light-shielding layer can be produced, for example, by applying black ink to a predetermined area on the light-transmitting cover member and drying it.

상기 화상 표시 장치로서는, 예를 들어 텔레비전, 노트북 PC, 태블릿 퍼스널 컴퓨터, 카 내비게이션, 전자계산기, 휴대 전화, 스마트폰, 전자 수첩, PDA(Personal Digital Assistant) 등을 들 수 있다.Examples of the image display device include a television, a notebook PC, a tablet personal computer, a car navigation system, an electronic calculator, a mobile phone, a smart phone, an electronic notebook, and a PDA (Personal Digital Assistant).

(화상 표시 장치의 제조 방법)(Manufacturing method of image display device)

본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법은, 도포 공정과, 가경화 공정과, 접합 공정과, 본경화 공정을 적어도 포함하고, 추가로 필요에 따라, 그밖의 공정을 포함한다.The manufacturing method of the image display apparatus of this invention contains at least an application|coating process, a provisional hardening process, a bonding process, and a main hardening process, Furthermore, other processes are included as needed.

<도포 공정><Applying process>

상기 도포 공정으로서는, 주연부에 차광층을 갖는 광 투과성 커버 부재의 상기 차광층을 갖는 측의 면에, 본 발명의 상기 광 경화성 수지 조성물을 도포하고, 도포층을 얻는 도포 공정이라면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The application step is not particularly limited as long as it is an application step of applying the light-curable resin composition of the present invention to the surface of the light-transmitting cover member having the light-shielding layer on the periphery and obtaining the coating layer on the side having the light-shielding layer. , can be appropriately selected according to the purpose.

상기 도포 공정에 제공되는 상기 광 경화성 수지 조성물은, 예를 들어 액상이다.The said photocurable resin composition used for the said application|coating process is liquid, for example.

상기 광 투과성 커버 부재로서는, 예를 들어 본 발명의 상기 화상 표시 장치의 설명에 있어서 예시한 상기 광 투과성 커버 부재 등을 들 수 있다.As said light transmissive cover member, the said light transmissive cover member etc. which were illustrated in description of the said image display device of this invention are mentioned, for example.

상기 도포 공정에 있어서, 상기 광 경화성 수지 조성물은, 상기 차광층 위에도 도포되는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 차광층의 표면의 전체면에 도포되어도 되고, 일부에 도포되어도 된다.The said application|coating process WHEREIN: It is preferable that the said photocurable resin composition is apply|coated also on the said light-shielding layer. In this case, it may apply|coat to the whole surface of the surface of the said light shielding layer, and you may apply|coat to a part.

상기 도포 공정에 있어서는, 상기 차광층과 상기 광 투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면에 형성되는 단차가 상쇄되도록, 상기 광 경화성 수지 조성물을 도포하는 것이 바람직하다.In the application step, it is preferable to apply the photocurable resin composition so that the level difference formed on the light-shielding layer formation side surface of the light-shielding layer and the light-transmitting cover member is canceled out.

상기 도포층의 평균 두께로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 상기 차광층의 평균 두께보다도 두꺼운 것이 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as an average thickness of the said application layer, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable that it is thicker than the average thickness of the said light-shielding layer.

상기 도포층의 평균 두께는, 상기 차광층과 상기 광 투과성 커버 부재의 차광층 형성측 표면에 형성되는 단차가 상쇄되도록 하기 위하여, 상기 차광층의 평균 두께의 2.5배 내지 40배가 바람직하고, 2.5배 내지 10배가 보다 바람직하고, 2.5배 내지 4.0배가 특히 바람직하다.The average thickness of the coating layer is preferably 2.5 to 40 times the average thickness of the light blocking layer, and 2.5 times the average thickness of the light blocking layer in order to offset the step formed on the light blocking layer formation side surface of the light blocking layer and the light transmissive cover member -10 times are more preferable, and 2.5 times - 4.0 times are especially preferable.

상기 도포 공정에서의 도포 방법으로는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as a coating method in the said application|coating process, According to the objective, it can select suitably.

또한, 상기 광 경화성 수지 조성물의 도포는, 필요한 두께가 얻어지도록 복수회 행해도 된다.In addition, you may perform application|coating of the said photocurable resin composition multiple times so that a required thickness may be obtained.

<가경화 공정><Temporary hardening process>

상기 가경화 공정으로서는, 상기 도포층에, 상기 광 투과성 커버 부재측과 반대측으로부터 광을 조사하고, 상기 도포층을 가경화시켜, 가경화층을 얻는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The provisional curing step is not particularly limited as long as it is a step of irradiating the coating layer with light from the side opposite to the light-transmitting cover member side and temporarily curing the coating layer to obtain a provisional curing layer, and may be appropriately selected according to the purpose. can

상기 가경화 공정에 의해, 예를 들어 광 경화성 수지 조성물을 액상으로부터 유동하지 않는 상태로 한다. 그렇게 함으로써, 취급성이 향상된다. 또한, 본경화 공정에 의해 얻어지는 본경화층의 두께 균일성이 향상된다.According to the said temporary hardening process, let the photocurable resin composition be in the state which does not flow from a liquid phase, for example. By doing so, handleability improves. Moreover, the thickness uniformity of the main hardening layer obtained by a main hardening process improves.

상기 가경화층으로서는, 유동되지 않는 정도로 경화되어 있으면 되고, 경화율(겔 분율)로서는, 90% 이상이 바람직하고, 95% 이상이 보다 바람직하다.The temporary cured layer may be cured to such a degree that it does not flow, and the curing rate (gel fraction) is preferably 90% or more, and more preferably 95% or more.

상기 가경화 공정에 있어서 상기 도포층에 조사하는 광으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 자외선이 바람직하고, 근자외선이 보다 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as light irradiated to the said application layer in the said provisional hardening process, Although it can select suitably according to the objective, An ultraviolet-ray is preferable and near-ultraviolet rays are more preferable.

조사 시간으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as irradiation time, According to the objective, it can select suitably.

상기 근자외선을 조사하는 장치로서는, 예를 들어 고압 수은 램프, 저압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 형광 케미컬 램프, 형광 청색 램프, LED 램프 등을 들 수 있다. 또한, 근자외선의 파장 영역으로서는, 300㎚ 이상 500㎚ 이하인 것이 바람직하다.As an apparatus which irradiates the said near-ultraviolet-ray, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a fluorescent chemical lamp, a fluorescent blue lamp, an LED lamp etc. are mentioned, for example. Moreover, as a wavelength range of a near-ultraviolet ray, it is preferable that they are 300 nm or more and 500 nm or less.

상기 가경화 공정에 있어서 상기 도포층에 조사되는 광의 조사량은, 예를 들어 상기 본경화 공정에 있어서 상기 가경화층에 조사되는 광의 조사량보다도 적다.The irradiation amount of the light irradiated to the said coating layer in the said provisional hardening process is less than the irradiation amount of the light irradiated to the said provisional hardening layer in the said main hardening process, for example.

<접합 공정><Joining process>

상기 접합 공정으로서는, 상기 가경화층과, 화상 표시 부재를 접합하는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어 공지된 압착 장치를 사용하여, 10℃ 내지 80℃에서 가압함으로써 행할 수 있다.The bonding step is not particularly limited as long as it is a step of bonding the temporary cured layer and the image display member, and can be appropriately selected according to the purpose. can be done by

상기 화상 표시 부재로서는, 예를 들어 본 발명의 상기 화상 표시 부재의 설명에 있어서 예시된 상기 광 투과성 커버 부재 등을 들 수 있다.As said image display member, the said light transmissive cover member etc. which were illustrated in description of the said image display member of this invention are mentioned, for example.

<본경화 공정><Main curing process>

상기 본경화 공정으로서는, 상기 광 투과성 커버 부재측으로부터 상기 가경화층에 광을 조사하여, 상기 가경화층을 본경화시키고, 본경화층을 얻는 공정이면, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The main curing step is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the purpose, as long as it is a step of irradiating light to the temporary curing layer from the light-transmitting cover member side, curing the temporary curing layer, and obtaining the main curing layer. .

상기 본경화 공정에 있어서 상기 가경화층에 조사하는 광으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 자외선이 바람직하고, 근자외선이 보다 바람직하다.There is no restriction|limiting in particular as light irradiated to the said temporary hardening layer in the said main hardening process, Although it can select suitably according to the objective, An ultraviolet-ray is preferable and near-ultraviolet rays are more preferable.

조사 시간으로서는, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.There is no restriction|limiting in particular as irradiation time, According to the objective, it can select suitably.

상기 근자외선을 조사하는 장치로서는, 예를 들어 고압 수은 램프, 저압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 형광 케미컬 램프, 형광 청색 램프, LED 램프 등을 들 수 있다. 또한, 근자외선의 파장 영역으로서는, 300㎚ 이상 500㎚ 이하인 것이 바람직하다.As an apparatus which irradiates the said near-ultraviolet-ray, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a fluorescent chemical lamp, a fluorescent blue lamp, an LED lamp etc. are mentioned, for example. Moreover, as a wavelength range of a near-ultraviolet ray, it is preferable that they are 300 nm or more and 500 nm or less.

상기 가경화 공정에 있어서 사용되는 광원과, 상기 본경화 공정에 있어서 사용되는 광원과는 동일해도 되고, 상이해도 된다.The light source used in the said provisional hardening process and the light source used in the said main hardening process may be same or different.

얻어지는 상기 본경화층의 광 투과성으로서는, 상기 화상 표시 부재에 형성된 화상이 시인 가능하게 되는 광 투과성이면 된다.As light transmittance of the said main cured layer obtained, what is necessary is just the light transmittance by which the image formed in the said image display member can be visually recognized.

여기서, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법의 일례를, 도면을 사용하여 설명한다.Here, an example of the manufacturing method of the image display apparatus of this invention is demonstrated using drawings.

도 1의 (a) 내지 도 1의 (e)는, 본 발명의 화상 표시 장치의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 단면 모식도이다.1(a) to 1(e) are schematic cross-sectional views for explaining an example of a method for manufacturing an image display device of the present invention.

먼저, 편면의 주연부에 형성된 차광층(1A)을 갖는 광 투과성 커버 부재(1)를 준비한다(도 1의 (a)).First, the light-transmitting cover member 1 having the light-shielding layer 1A formed on the periphery of one side is prepared (Fig. 1(a)).

다음에, 광 투과성 커버 부재(1)의 표면에, 액상의 광 경화성 수지 조성물을, 차광층(1A)과 광 투과성 커버 부재(1)의 차광층 형성측 표면에 형성되는 단차가 상쇄되도록, 차광층(1A)의 두께보다 두껍게 도포하여, 도포층(2A)을 형성한다(도 1의 (b)).Next, a liquid photo-curable resin composition is applied to the surface of the light-transmitting cover member 1 to block the light so that the step formed on the light-shielding layer-forming surface of the light-shielding layer 1A and the light-transmissive cover member 1 is canceled out. The coating layer 2A is formed by coating to be thicker than the thickness of the layer 1A (FIG. 1(b)).

다음으로, 형성된 도포층(2A)에 대하여 광원(100)을 사용하여 자외선을 조사하여 가경화시킴으로써 가경화층(2B)을 형성한다(도 1의 (c)).Next, the provisional hardening layer 2B is formed by irradiating ultraviolet-ray using the light source 100 with respect to the formed coating layer 2A, and temporarily hardening (FIG. 1(c)).

이어서, 화상 표시 부재(3)에, 광 투과성 커버 부재(1)를 가경화층(2B)측으로부터 접합한다(도 1의 (d)).Next, the light-transmitting cover member 1 is bonded to the image display member 3 from the side of the temporary cured layer 2B (FIG. 1(d)).

다음에, 화상 표시 부재(3)와 광 투과성 커버 부재(1) 사이에 협지되어 있는 가경화층(2B)에 대하여 광원(200)을 사용하여 자외선을 조사하여 본경화시키고, 본경화층(2C)을 형성한다.Next, the temporary curing layer 2B sandwiched between the image display member 3 and the light-transmitting cover member 1 is irradiated with ultraviolet rays using the light source 200 to make the main curing layer 2C. to form

이에 의해, 화상 표시 부재(3)와 광 투과성 커버 부재(1)를 광 투과성의 본경화층(2C)을 사이에 두고 적층하여 화상 표시 장치를 얻는다.Thereby, the image display member 3 and the light transmissive cover member 1 are laminated|stacked with the light transmissive main hardened layer 2C interposed, and the image display apparatus is obtained.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예를 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 전혀 아니다.Hereinafter, although the Example of this invention is described, this invention is not limited to these Example at all.

(실시예 1 내지 27, 및 비교예 1 내지 10)(Examples 1 to 27, and Comparative Examples 1 to 10)

하기 표 1-1 내지 표 1-7에 나타내는 조성, 및 함유량의 광 경화성 수지 조성물을 제조했다. 구체적으로는, 라디칼 중합성기 함유 화합물, 양이온 중합성기 함유 화합물, 광 라디칼 개시제, 광 산 발생제, 증감제, 및 가소제를 혼합한 후, 고형분이 용해될 때까지 교반했다.The photocurable resin composition of the composition and content shown in following Table 1-1 - Table 1-7 was manufactured. After mixing a radically polymerizable group containing compound, a cationically polymerizable group containing compound, an optical radical initiator, a photoacid generator, a sensitizer, and a plasticizer specifically, it stirred until solid content melt|dissolved.

또한, 표 1-1 내지 표 1-7 중의 함유량의 단위는, 질량부이다.In addition, the unit of content in Table 1-1 - Table 1-7 is a mass part.

[표 1-1][Table 1-1]

Figure 112018131780496-pct00005
Figure 112018131780496-pct00005

[표 1-2][Table 1-2]

Figure 112018131780496-pct00006
Figure 112018131780496-pct00006

[표 1-3][Table 1-3]

Figure 112018131780496-pct00007
Figure 112018131780496-pct00007

[표 1-4][Table 1-4]

Figure 112018131780496-pct00008
Figure 112018131780496-pct00008

[표 1-5][Table 1-5]

Figure 112018131780496-pct00009
Figure 112018131780496-pct00009

[표 1-6][Table 1-6]

Figure 112018131780496-pct00010
Figure 112018131780496-pct00010

[표 1-7][Table 1-7]

Figure 112018131780496-pct00011
Figure 112018131780496-pct00011

표 1-1 내지 표 1-7 중의 각종 재료는 이하와 같다.Various materials in Tables 1-1 to 1-7 are as follows.

<<라디칼 중합성기 함유 화합물>><<Radically polymerizable group-containing compound>>

·UV-3700B: 닛폰 고세이 가가꾸 가부시키가이샤・UV-3700B: Nippon Kosei Chemical Co., Ltd.

우레탄아크릴레이트Urethane acrylate

·LA(라이트아크릴레이트): 교에이샤 가가꾸 가부시키가이샤・LA (light acrylate): Kyoeisha Chemical Co., Ltd.

라우릴아크릴레이트Lauryl Acrylate

·4HBA: 니혼 가세이 가부시키가이샤・4HBA: Nippon Kasei Co., Ltd.

4-히드록시부틸아크릴레이트4-hydroxybutyl acrylate

<<양이온 중합성기 함유 화합물>><<Cationically polymerizable group-containing compound>>

·KBM-5103: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시키가이샤・KBM-5103: Shin-Etsu Chemical High School Co., Ltd.

3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란3-Acryloxypropyltrimethoxysilane

Figure 112018131780496-pct00012
Figure 112018131780496-pct00012

·KBM-502: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시키가이샤・KBM-502: Shin-Etsu Chemical High School Co., Ltd.

3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane

Figure 112018131780496-pct00013
Figure 112018131780496-pct00013

·KBM-503: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시키가이샤・KBM-503: Shin-Etsu Chemical High School Co., Ltd.

3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란3-Methacryloxypropyltrimethoxysilane

Figure 112018131780496-pct00014
Figure 112018131780496-pct00014

·KBE-502: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시키가이샤・KBE-502: Shin-Etsu Chemical High School Co., Ltd.

3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란3-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane

Figure 112018131780496-pct00015
Figure 112018131780496-pct00015

·KBE-503: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시키가이샤・KBE-503: Shin-Etsu Chemical High School Co., Ltd.

3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란3-Methacryloxypropyltriethoxysilane

Figure 112018131780496-pct00016
Figure 112018131780496-pct00016

·4HBAGE: 니혼 가세이 가부시키가이샤・4HBAGE: Nihon Kasei Co., Ltd.

4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether

Figure 112018131780496-pct00017
Figure 112018131780496-pct00017

·M-100: 다이셀사・M-100: Daicel Corporation

3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트3,4-Epoxycyclohexylmethylmethacrylate

Figure 112018131780496-pct00018
Figure 112018131780496-pct00018

<<광 라디칼 개시제>><<Photoradical Initiator>>

·Irgacure 184: BASF사·Irgacure 184: BASF

1-히드록시시클로헥실페닐케톤1-Hydroxycyclohexylphenylketone

Figure 112018131780496-pct00019
Figure 112018131780496-pct00019

·Irgacure 1173: BASF사·Irgacure 1173: BASF

2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one

Figure 112018131780496-pct00020
Figure 112018131780496-pct00020

·Irgacure 651: BASF사·Irgacure 651: BASF

2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one

Figure 112018131780496-pct00021
Figure 112018131780496-pct00021

·Irgacure 2959: BASF사·Irgacure 2959: BASF

1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one

Figure 112018131780496-pct00022
Figure 112018131780496-pct00022

·Irgacure 127: BASF사·Irgacure 127: BASF

2-히드록시-1-{4-[4-(2-히드록시-2-메틸프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-1-온2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methylpropionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-1-one

Figure 112018131780496-pct00023
Figure 112018131780496-pct00023

·esacureone: Lamberti사·esacureone: Lamberti

올리고[2-히드록시-2-메틸-[1-(메틸비닐)페닐]프로파논Oligo[2-hydroxy-2-methyl-[1-(methylvinyl)phenyl]propanone

Figure 112018131780496-pct00024
Figure 112018131780496-pct00024

·Speed Cure TPO: Lamberti사·Speed Cure TPO: Lamberti

2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐포스핀옥사이드2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide

Figure 112018131780496-pct00025
Figure 112018131780496-pct00025

·OXE-01: BASF사·OXE-01: BASF

1.2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-, 2-(O-벤조일 옥심)]1.2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyl oxime)]

Figure 112018131780496-pct00026
Figure 112018131780496-pct00026

·DETX-S: 니혼 가야쿠 가부시키가이샤・DETX-S: Nihon Gayaku Co., Ltd.

2,4-디에틸티오크산톤2,4-diethylthioxanthone

Figure 112018131780496-pct00027
Figure 112018131780496-pct00027

·벤조페논: 도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤· Benzophenone: Tokyo Kasei High School Co., Ltd.

Figure 112018131780496-pct00028
Figure 112018131780496-pct00028

<<광 산 발생제>><<Light acid generator>>

·PI-2074: 로디아 재팬 가부시키가이샤・PI-2074: Rhodia Japan Co., Ltd.

Figure 112018131780496-pct00029
Figure 112018131780496-pct00029

·BBI-105: 미도리 가가꾸 가부시키가이샤・BBI-105: Midori Chemical Co., Ltd.

Figure 112018131780496-pct00030
Figure 112018131780496-pct00030

·BBI-109: 미도리 가가꾸 가부시키가이샤・BBI-109: Midori Chemical Co., Ltd.

Figure 112018131780496-pct00031
Figure 112018131780496-pct00031

·BBI-201: 미도리 가가꾸 가부시키가이샤・BBI-201: Midori Chemical Co., Ltd.

Figure 112018131780496-pct00032
Figure 112018131780496-pct00032

·DTS-2000: 미도리 가가꾸 가부시키가이샤・DTS-2000: Midori Chemical Co., Ltd.

Figure 112018131780496-pct00033
Figure 112018131780496-pct00033

<<증감제>><<sensitizer>>

·벤조페논・benzophenone

·esacureTZT: Lamberti사·esacureTZT: Lamberti

4-메틸벤조페논과 2,4,6-트리메틸벤조페논의 혼합물A mixture of 4-methylbenzophenone and 2,4,6-trimethylbenzophenone

<<가소제><<Plasticizer>

·Hexamoll DINCH: BASF사·Hexamoll DINCH: BASF

디이소노닐시클로헥산-1,2-디카르복실레이트Diisononylcyclohexane-1,2-dicarboxylate

(평가)(evaluation)

광 경화성 수지 조성물을 이하의 평가에 제공했다.The photocurable resin composition was used for the following evaluation.

<상용성><Compatibility>

광 경화성 수지 조성물에 백탁이 있는지에 대하여 눈으로 보아 관찰하고, 하기 평가 기준으로 평가했다. 결과를, 표 2-1 내지 표 2-7에 나타낸다.It visually observed whether the photocurable resin composition had cloudiness, and the following evaluation criteria evaluated it. A result is shown to Table 2-1 - Table 2-7.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○: 백탁이 없었다.(circle): There was no cloudiness.

×: 백탁이 있었다.x: There was cloudiness.

<후 경화><Post-curing>

얻어진 광 경화성 수지 조성물에 대하여 UV레오미터(MARS, HAKKE사제)를 사용하여, 하기 측정 조건 및 평가 기준에 의해 후 경화의 유무를 평가했다. 결과를, 표 2-1 내지 표 2-7에 나타낸다.About the obtained photocurable resin composition, using the UV rheometer (MARS, the HAKKE company make), the following measurement conditions and evaluation criteria evaluated the presence or absence of post-curing. A result is shown to Table 2-1 - Table 2-7.

-측정 조건--Measuring conditions-

광원: LED 365㎚Light source: LED 365nm

파장 365㎚에 있어서의 UV 조도: 200mW/㎠UV illuminance at a wavelength of 365 nm: 200 mW/cm 2

조사 시간: 60초간Irradiation Time: 60 seconds

온도: 25℃Temperature: 25℃

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○: 조사 종료 시로부터 360초간 경과 후의 G'값/조사 종료 직후의 G'값이, 1.10 초○: G' value after 360 seconds from the end of irradiation / G' value immediately after the end of irradiation is 1.10 seconds

×: 조사 종료 시로부터 360초간 경과 후의 G'값/조사 종료 직후의 G'값이, 1.10 이하x: G' value after 360 seconds from the end of irradiation / G' value immediately after the end of irradiation is 1.10 or less

또한, G'은, 저장 탄성률을 의미한다.In addition, G' means a storage elastic modulus.

[표 2-1][Table 2-1]

Figure 112018131780496-pct00034
Figure 112018131780496-pct00034

[표 2-2][Table 2-2]

Figure 112018131780496-pct00035
Figure 112018131780496-pct00035

[표 2-3][Table 2-3]

Figure 112018131780496-pct00036
Figure 112018131780496-pct00036

[표 2-4][Table 2-4]

Figure 112018131780496-pct00037
Figure 112018131780496-pct00037

[표 2-5][Table 2-5]

Figure 112018131780496-pct00038
Figure 112018131780496-pct00038

[표 2-6][Table 2-6]

Figure 112018131780496-pct00039
Figure 112018131780496-pct00039

[표 2-7][Table 2-7]

Figure 112018131780496-pct00040
Figure 112018131780496-pct00040

증감제를 함유하는 광 경화성 수지 조성물(실시예 18 및 실시예 19)에 대해서는, 조사하는 파장을 365㎚으로부터 보다 장파장측의 385㎚로 바꾼 경우에도, 조사하는 파장이 365㎚인 경우와 마찬가지로 후 경화하는 것을 확인할 수 있었다.About the photocurable resin composition (Example 18 and Example 19) containing a sensitizer, also when changing the wavelength to irradiate from 365 nm to 385 nm on the longer wavelength side, similarly to the case where the wavelength to irradiate is 365 nm later curing was confirmed.

<블리드 시험><Bleed Test>

-인쇄 및 노광--Print and Exposure-

하기 표 3에 나타내는 어느 기판 〔유리판 또는 PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)판〕 및 광원을 사용하여 인쇄 및 노광을 행하고, 모의 패널을 제작했다. 제작 수순을 도 2의 (a) 내지 도 2의 (e)를 사용하여 설명한다.Printing and exposure were performed using any of the substrates [a glass plate or a PMMA (polymethyl methacrylate) plate] shown in Table 3 below and a light source, and a simulation panel was produced. A manufacturing procedure is demonstrated using FIGS. 2(a) to 2(e).

외주로부터 1㎝의 지점을 중심으로 폭 3㎜, 두께 20㎛의 차광부(11A)를 갖는 5㎝ 사방의 기판(11)을 사용했다(도 2의 (a)).A 5 cm square substrate 11 having a light shielding portion 11A having a width of 3 mm and a thickness of 20 μm centered at a point 1 cm from the outer periphery was used (FIG. 2(a)).

기판(11)의 중심으로부터 4㎝ 사방에, 광 경화성 수지 조성물을 평균 두께가 100㎛가 되도록 인쇄하고, 도포층(12A)을 얻었다(도 2의 (b)).4 cm square from the center of the board|substrate 11, the photocurable resin composition was printed so that an average thickness might be set to 100 micrometers, and the application layer 12A was obtained (FIG.2(b)).

광 경화성 수지 조성물을 인쇄한 면측으로주터, 광원(100)을 사용하여 1회째의 노광을 행하여, 가경화층(12B)을 얻었다(도 2의 (c)).From the surface side on which the photocurable resin composition was printed, the 1st exposure was performed using the light source 100, and the provisional hardening layer 12B was obtained (FIG.2(c)).

이어서, 5㎝ 사방의 편광판(13)(스미토모 가가꾸사제)을 가경화층(12B)에 접합해(도 2의 (d)), 기판(1)측으로부터, 광원(200)을 사용하여 2회째의 노광을 행하여, 본경화층(12C)을 얻었다(도 2의 (e)).Next, a 5 cm square polarizing plate 13 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) is bonded to the temporary cured layer 12B (FIG. 2(d)), and from the substrate 1 side, the light source 200 is used for the second time. was exposed to obtain a main cured layer 12C (FIG. 2(e)).

이상에 의해, 모의 패널을 제작했다.As described above, a simulation panel was produced.

[표 3][Table 3]

Figure 112018131780496-pct00041
Figure 112018131780496-pct00041

-평가 방법--Assessment Methods-

제작된 모의 패널을, 95℃ 0% RH 하에 있어서 100시간 보관(보관 조건A) 하고, 또는 60℃ 90% RH 하에서 100시간 보관(보관 조건 B)하고, 광 경화성 수지 조성물의 경화물 블리드 유무를 눈으로 보아 관찰하고, 하기 평가 기준으로 평가했다. 결과를 표 4-1 내지 표 4-7에 나타낸다.The produced simulated panel was stored for 100 hours at 95°C under 0% RH (storage condition A), or stored at 60°C under 90% RH for 100 hours (storage condition B), and the presence or absence of bleed of the cured product of the photocurable resin composition was checked. It visually observed and evaluated by the following evaluation criteria. The results are shown in Tables 4-1 to 4-7.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○: 블리드가 없었다.(circle): There was no bleed.

×: 블리드가 있었다.x: There was bleed.

<황변><yellowing>

제작된 상기 모의 패널에 대하여, 자외선 페이드 미터(U48, 스가 시켕키 가부시키가이샤)를 사용하여 100시간 광 조사를 행하고, 광 조사 후의 황변의 유무를 눈으로 보아 관찰하고, 하기 평가 기준으로 평가했다. 결과를 표 4-1 내지 표 4-7에 나타낸다.The simulated panel produced was irradiated with light for 100 hours using an ultraviolet fade meter (U48, Suga Shikenki Co., Ltd.), and the presence or absence of yellowing after light irradiation was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. . The results are shown in Tables 4-1 to 4-7.

〔평가 기준〕〔Evaluation standard〕

○: 황변이 없었다.○: There was no yellowing.

×: 황변이 있었다.x: There was yellowing.

[표 4-1][Table 4-1]

Figure 112018131780496-pct00042
Figure 112018131780496-pct00042

[표 4-2][Table 4-2]

Figure 112018131780496-pct00043
Figure 112018131780496-pct00043

[표 4-3][Table 4-3]

Figure 112018131780496-pct00044
Figure 112018131780496-pct00044

[표 4-4][Table 4-4]

Figure 112018131780496-pct00045
Figure 112018131780496-pct00045

[표 4-5][Table 4-5]

Figure 112018131780496-pct00046
Figure 112018131780496-pct00046

[표 4-6][Table 4-6]

Figure 112018131780496-pct00047
Figure 112018131780496-pct00047

[표 4-7][Table 4-7]

Figure 112018131780496-pct00048
Figure 112018131780496-pct00048

프로세스 c, d에 대해서는, 실시예 1 내지 27의 광 경화성 수지 조성물을 대표하여, 실시예 19 및 21의 광 경화성 수지 조성물에 대하여, 행했다. 그 결과, 보관 조건 A 및 보관 조건 B 중의 어느 것에서도 블리드는 보이지 않았다.About the process c and d, it performed about the photocurable resin composition of Examples 19 and 21 on behalf of the photocurable resin composition of Examples 1-27. As a result, no bleed was observed in any of the storage conditions A and B.

본 발명의 광 경화성 수지 조성물은, 광 조사 후도 경화가 계속되며, 또한 광이 직접 미치지 않는 영역에서도 경화가 진행되기 때문에, 광이 직접 닿지 않는 영역의 경화 부족에 의한 블리드를 방지할 수 있었다. 또한, 경화물에 대하여, 장시간 자외선을 조사해도 황변이 생기지 않았다.In the photocurable resin composition of the present invention, curing continues even after light irradiation, and curing proceeds even in a region not directly exposed to light, so that bleed due to insufficient curing in a region not directly exposed to light can be prevented. Moreover, yellowing did not arise even if it irradiated with ultraviolet-ray for a long time with respect to hardened|cured material.

한편, 이하의 비교예 1 내지 10에서는, 후 경화가 생기지 않고, 또한 블리드가 생겼다.On the other hand, in the following Comparative Examples 1 to 10, post-curing did not arise, and bleed|bleeding arose.

비교예 1: 광 산 발생제를 함유하기는 하지만, 광 라디칼 개시제와 양이온 중합 성분을 함유하지 않는다.Comparative Example 1: Although the photo acid generator is contained, the photo radical initiator and the cationic polymerization component are not contained.

비교예 2: 광 산 발생제와 양이온 중합 성분을 함유하기는 하지만, 광 라디칼 개시제를 함유하지 않는다.Comparative Example 2: Although it contains a photo acid generator and a cationic polymerization component, it does not contain a photo radical initiator.

비교예 3: 광 산 발생제와 양이온 중합 성분을 함유하기는 하지만, 광 라디칼 개시제는 α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제, 또는 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제가 아니다.Comparative Example 3: Although it contains a photo acid generator and a cationic polymerization component, the photo-radical initiator is not an α-hydroxyalkylphenone-based photo-radical initiator or a benzylmethylketal-based photo-radical initiator.

비교예 4: 광 산 발생제를 함유하기는 하지만, 양이온 중합 성분을 함유하지 않는다.Comparative Example 4: Although the photo acid generator was contained, the cationic polymerization component was not contained.

비교예 5: 광 산 발생제와 양이온 중합 성분을 함유하지 않는다.Comparative Example 5: A photo acid generator and a cationic polymerization component were not contained.

비교예 6: 광 산 발생제와, 양이온 중합 성분을 함유하기는 하지만, 질량 비율(A/B)이, 30을 초과한다.Comparative Example 6: Although it contains a photo acid generator and a cationic polymerization component, the mass ratio (A/B) exceeds 30.

비교예 7: 광 산 발생제와, 양이온 중합 성분을 함유하기는 하지만, 질량 비율(A/B)이, 0.5 미만이다.Comparative example 7: Although it contains a photo acid generator and a cationic polymerization component, mass ratio (A/B) is less than 0.5.

비교예 8 내지 10: 광 산 발생제와 양이온 중합 성분을 함유하기는 하지만, 광 라디칼 개시제는 α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제, 또는 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제가 아니다.Comparative Examples 8 to 10: Although containing a photo acid generator and a cationic polymerization component, the photo radical initiator is not an α-hydroxyalkylphenone photo radical initiator or a benzylmethyl ketal photo radical initiator.

본 발명의 광 경화성 수지 조성물은, 광이 직접 닿지 않는 영역의 경화성을 양호하게 하여, 경화물의 블리드 아웃을 방지할 수 있기 때문에, 주연부에 차광층을 갖는 광 투과성 커버 부재와, 화상 표시 부재의 접착에 양호하게 사용할 수 있다.Since the photocurable resin composition of the present invention can prevent bleed-out of the cured product by improving curability in a region not directly hit by light, the light-transmitting cover member having a light-shielding layer on the periphery, and the image display member can be used well.

1: 광 투과성 커버 부재
1A: 차광층
2A: 도포층
2B: 가경화층
2C: 본경화층
3: 화상 표시 부재
11: 기판
11A: 차광부
12A: 도포층
12B: 가경화층
12C: 본경화층
13: 편광판
100: 광원
200: 광원
1: light transmissive cover member
1A: light blocking layer
2A: coating layer
2B: Temporarily hardened layer
2C: main cured layer
3: No image display
11: Substrate
11A: shading part
12A: coating layer
12B: temporary cured layer
12C: main cured layer
13: polarizer
100: light source
200: light source

Claims (9)

라디칼 중합성기 함유 화합물과, 양이온 중합성기 함유 화합물과, 광 라디칼 개시제와, 광 산 발생제를 함유하고,
상기 라디칼 중합성기 함유 화합물의 함유량이, 상기 양이온 중합성기 함유 화합물의 함유량보다도 많고,
상기 광 라디칼 개시제가, α-히드록시알킬페논계 광 라디칼 개시제, 벤질메틸케탈계 광 라디칼 개시제 또는 둘 다이며,
상기 광 라디칼 개시제와, 상기 광 산 발생제의 질량 비율(광 라디칼 개시제/광 산 발생제)이, 0.5 내지 30이고,
상기 광 라디칼 개시제의 함유량과, 상기 광 산 발생제의 함유량의 합(광 라디칼 개시제+광 산 발생제)이, 1.5질량% 이하인 것을 특징으로 하는 광 경화성 수지 조성물.
A radical polymerizable group-containing compound, a cationically polymerizable group-containing compound, a radical photoinitiator, and a photoacid generator are included;
Content of the said radically polymerizable group containing compound is more than content of the said cationically polymerizable group containing compound,
The photo-radical initiator is an α-hydroxyalkylphenone-based photoradical initiator, a benzylmethylketal-based photoradical initiator, or both;
A mass ratio of the radical photoinitiator and the photoacid generator (radical photoinitiator/photoacid generator) is 0.5 to 30;
The sum (optical radical initiator + photoacid generator) of content of the said radical photoinitiator and content of the said photoacid generator is 1.5 mass % or less, The photocurable resin composition characterized by the above-mentioned.
제1항에 있어서, 상기 양이온 중합성기 함유 화합물이, 라디칼 중합성기를 갖는 광 경화성 수지 조성물.The photocurable resin composition of Claim 1 in which the said cationically polymerizable group containing compound has a radically polymerizable group. 제1항에 있어서, 상기 양이온 중합성기 함유 화합물에 있어서의 양이온 중합성기가, 알콕시실릴기, 에폭시기 또는 둘 다인 광 경화성 수지 조성물.The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the cationically polymerizable group in the cationically polymerizable group-containing compound is an alkoxysilyl group, an epoxy group, or both. 제1항에 있어서, 상기 광 산 발생제의 함유량이, 0.01질량% 이상인 광 경화성 수지 조성물.The photocurable resin composition of Claim 1 whose content of the said photo acid generator is 0.01 mass % or more. 제1항에 있어서, 가소제를 추가로 함유하는 광 경화성 수지 조성물.The photocurable resin composition according to claim 1, further comprising a plasticizer. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 광 경화성 수지 조성물의 경화물을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.It has hardened|cured material of the photocurable resin composition in any one of Claims 1-5, The image display apparatus characterized by the above-mentioned. 제6항에 있어서, 화상 표시 부재와, 광 투과성 커버 부재를 갖고,
상기 화상 표시 부재와, 상기 광 투과성 커버 부재가, 상기 경화물을 사이에 두고 접착되어 있는 화상 표시 장치.
7. The method according to claim 6, comprising an image display member and a light-transmitting cover member;
The image display device in which the said image display member and the said light-transmitting cover member are adhere|attached with the said hardened|cured material interposed therebetween.
제7항에 있어서, 상기 광 투과성 커버 부재가, 주연부에 차광층을 갖고,
상기 광 투과성 커버 부재에 있어서, 상기 차광층을 갖는 면이, 상기 화상 표시 부재를 향하고 있는 화상 표시 장치.
The light-transmitting cover member according to claim 7, wherein the light-transmitting cover member has a light-shielding layer on its periphery;
In the light-transmitting cover member, the surface having the light-shielding layer faces the image display member.
주연부에 차광층을 갖는 광 투과성 커버 부재의 상기 차광층을 갖는 측의 면에, 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 광 경화성 수지 조성물을 도포하여, 도포층을 얻는 도포 공정과,
상기 도포층에, 상기 광 투과성 커버 부재측과 반대측으로부터 광을 조사하고, 상기 도포층을 가경화시켜, 가경화층을 얻는 가경화 공정과,
상기 가경화층과, 화상 표시 부재를 접합하는 접합 공정과,
상기 광 투과성 커버 부재측으로부터 상기 가경화층에 광을 조사하여, 상기 가경화층을 본경화시켜, 본경화층을 얻는 본경화 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치의 제조 방법.
A coating step of applying the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 5 to the surface of the light-transmitting cover member having the light-shielding layer on the periphery of the light-shielding layer to obtain an application layer;
a provisional curing step of irradiating the application layer with light from a side opposite to the light-transmitting cover member side, and temporarily curing the application layer to obtain a provisionally cured layer;
a bonding step of bonding the temporary cured layer and the image display member;
and a main curing step of irradiating light to the provisionally cured layer from the light-transmitting cover member side to cause the provisional cured layer to be cured to obtain a main cured layer.
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