KR102301171B1 - 반도체용 포토마스크 취급 장치 - Google Patents

반도체용 포토마스크 취급 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 SMIF 포드 내의 기판을 이송하고 위치를 조정하는 장치로서, 상기 포드의 커버를 베이스에 고정하는 록커를 풀고, 커버를 리프팅하는 리프터; 상기 포드의 내부에 구비된 이너박스의 커버를 양쪽에서 접근하여 여는 커버 그립퍼; 상기 이너박스에 올려져 있는 상기 기판을 양쪽에서 접근하여 홀딩하는 한 쌍의 기판 그립퍼; 상기 포드 및 기판을 자동 인식하고 single pod와 Dual Pod를 혼용하여 사용할 수 있도록 상기 기판 및 상기 취급 장치 상태를 검사하는 센서가 구비된 상태 검사 유닛; 상기 상태 검사 유닛을 통한 검사 상태에 따라 상기 포드 내의 상기 기판 상태를 수정하는 기판 수정 유닛; 및 상기 리프터, 상기 커버 그립퍼, 상기 기판 그립퍼, 상기 상태 검사 유닛 및 상기 기판 수정 유닛에 각각 연결되어 상기 리프터, 상기 커버 그립퍼, 상기 기판 그립퍼, 상기 상태 검사 유닛 및 상기 기판 수정 유닛의 작동을 제어하는 컨트롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

반도체용 포토마스크 취급 장치{SEMICONDUCTOR PHOTOMASK HANDLING DEVICE}
본 발명은 반도체용 기판 취급 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체용 photomask(또는 Reticle, Mask, EUV(극자외선, Extreme Ultra Violet) mask)를 자동 취급하기 위한 반도체용 포토마스크 취급 장치에 관한 것이다.
일반적인 로더장치는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼(Wafer) 또는 레티클(Reticle) 등의 자재 반송과 관련된 자동화 장비로서, 세계 반도체 협회의 하나인 SEMI(Semiconductor Equipment and Meterials Interials International)에서 권고하는 표준안 중 SMIF(Standard Mechanical Interface)시스템을 구성하는 장비에 포함된다.
SMIF는 국부 청정에 관한 것으로 웨이퍼 제조 공정 중 발생 가능한 공기 중의 미세 오염물질인 파티클(미세먼지 입자)의 차단을 위해 밀폐된 저장 용기인 POD(레티클 저장 용기), 국부적인 공간만을 청정상태로 유지하는 공정장비 간의 인터페이스를 위한 장치에 대해 최소한의 공통규격을 제안하고 있다.
SMIF 시스템 중에서 본 발명의 로더장치는 파드에 수납된 웨이퍼, 레티클 등의 반도체 자재를 다음 공정으로 넘겨주는 인터페이스 장치이다.
그러나, 종래의 SMIF 시스템의 경우, 공정과정에서 작업자 또는 기계적 결속으로 인하여 발생된 파티클이 레티클 또는 웨이퍼 상에 부유됨에 따라 불량이 발생되어 왔다.
또한, 반도체 기판의 자동 취급을 위해 기판에 적합한 기판 보관 및 취급 Pod를 갖으며 이를 표준화하여 사용한다. 표준화된 Pod에 담긴 반도체 기판을 취급하기 위해 Pod Opener라는 Pod open을 위한 별도의 장치를 구성하고 이를 이용하여 Pod내의 기판을 취급한다.
반도체용 기판이 이물 등으로부터 보호받기 위해 Pod내의 기판을 외부의 환경(공기)과 격리되도록 다양한 방법으로 장치를 구성한다. 또한 SMIF Pod안의 기판을 꺼내기 좋은 상태를 만들기 위해 커버를 Pod 하부 Base에서 분리하여 위로 이동시킬 때 Mask가 제 위치에 있는 지 Index(Photo diode와 sensor를 통해 기판의 위치 측정 센서)를 통해 기판의 상태를 검사하고 이상이 있으면 Alarm(경고) 신호를 보내어 장치의 동작이 진행되지 않도록 관리하고 있다.
상기와 같은 종래의 기술은 장치의 내 외부를 분리하며, 내부 기압이 외부보다 크게 하여 청정한 장치 내부의 공기가 외부로 누출될 수 있으나, 외부의 오염된 공기가 유입되지 않도록 되어 있어야 한다.
장치내부의 공기 흐름을 원활히 하기 위해 FAN 또는 음압의 배기구를 통해 공기 흐름을 강제하고 있다. 그러나, 장치의 Door를 여닫는 상황에서 균형이 깨지고 와류 발생하여 이물이 기판에 떨어지는 현상이 발생한다.
또한, 기판을 초기에 Pod에 올려놓았을 때 방향이 규정과 다르게 놓였거나 이동 중에 이탈할 경우 사람이 육안 확인 하여 검출하는 방법 이외에는 이를 검출할 방법이 없으며, 또한 이를 올바르게 수정할 방법 또한 없는 상태이기에 기판 불량이 발생하고 있다.
대한민국 등록특허 제10-1583610호 대한민국 공개특허 제10-2005-0070706호
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 해결하고자 하는 과제는 서로 다른 Mask 종류나 Mask가 뒤집혀 있거나, Single Pod와 Dual Pod의 사용이 혼재하거나, Mask가 회전 또는 이탈되어 있는 상태를 검사하고, Mask의 이동에 따른 공압 등의 변화를 검사하여, 올바른 상태로 회복하기 위한 장치로 구성되어 고품질의 기판(블랭크, 마스크, 레티클 등) 공급이 가능하도록 구성된 반도체용 포토마스크 취급 장치를 제공하는 것이다.
다만, 본 발명에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 개선하기 위하여 창출된 것으로, SMIF 포드 내의 기판을 이송하고 위치를 조정하는 장치로서, 상기 포드의 커버를 베이스에 고정하는 록커를 풀고, 커버를 리프팅하는 리프터; 상기 포드의 내부에 구비된 이너박스의 커버를 양쪽에서 접근하여 여는 커버 그립퍼; 상기 이너박스에 올려져 있는 상기 기판을 양쪽에서 접근하여 홀딩하는 한 쌍의 기판 그립퍼; 상기 포드 및 기판을 자동 인식하고 single pod와 Dual Pod를 혼용하여 사용할 수 있도록 상기 기판 및 상기 취급 장치 상태를 검사하는 센서가 구비된 상태 검사 유닛; 상기 상태 검사 유닛을 통한 검사 상태에 따라 상기 포드 내의 상기 기판 상태를 수정하는 기판 수정 유닛; 및 상기 리프터, 상기 커버 그립퍼, 상기 기판 그립퍼, 상기 상태 검사 유닛 및 상기 기판 수정 유닛에 각각 연결되어 상기 리프터, 상기 커버 그립퍼, 상기 기판 그립퍼, 상기 상태 검사 유닛 및 상기 기판 수정 유닛의 작동을 제어하는 컨트롤러;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 기판 수정 유닛은, 상기 포드에서 이송된 상기 기판이 놓여지는 공간을 제공하는 이동 스테이지; 상기 이동 스테이지에 연결되어 상기 이동 스테이지를 설정된 위치로 이송하는 이송부재; 상기 이동 스테이지와 상기 이송부재에 연결되어 상기 이동 스테이지를 승강시키는 승강부재; 및 상기 기판을 잡고 위치를 조정하거나 뒤집는 플립 및 로딩스테이지;를 포함할 수 있다.
또한, 상기 기판 수정 유닛은, 상기 이송부재의 하부에 연결되며 상기 컨트롤러의 제어에 의해 상기 이송부재를 회전시키는 회전유닛;을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 컨트롤러에 구비된 프로그램에 의해 상기 기판 그립퍼는 상기 리프터와 연계하여 상기 이너박스 커버를 열고 상기 기판을 잡아 올릴 수 있다.
또한, 상기 상태 검사 유닛은, 복수의 렌즈, 복수의 이미지 센서, 광학 센서, 위치 센서 및 압력 센서로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 컨트롤러에 연결되며 상기 상태 검사 유닛을 통해서 측정된 상기 취급 장치 내외부의 압력차를 설정된 수준으로 유지하도록 일부분에 설치된 팬(미도시)의 속도나 배기구(미도시)의 개폐를 제어할 수 있다.
또한, 상기 컨트롤러의 제어에 의해 상기 상태 검사 유닛과 상기 기판 수정 유닛을 연동하여 상기 기판을 설정된 상태를 유지할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따르면, 컨트롤러의 제어에 의해 취급 장치의 상태(기판의 회전, 뒤집힘, 이탈, 이물 존재)를 검사할 센서로 이루어진 상태 검사 유닛을 설치하고, 또한, 컨트롤러의 제어에 의해 설정된 상태로 기판의 회전, 뒤집힘을 수행할 기판 수정 유닛을 일부분에 설치하여 상태 검사 유닛에서 수집된 정보에 따라 동작 수정이 가능하여 기판이 설정된 상태로 유지되도록 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 컨트롤러의 제어에 의해 취급 장치의 공압 상태를 검사하는 상태 검사 유닛을 취급 장치의 내외부에 설치하고, 공압의 변화에 따라 배기구를 연동하여 공기압의 차이 및 양압의 유지가 가능하도록 프로그램 된 방법으로 배기하여 취급 장치 상태를 설정된 상태로 유지할 수 있다.
다만, 본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 명세서에서 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어서 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체용 포토마스크 취급 장치의 SMIF를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체용 포토마스크 취급 장치의 구성 블록도이다.
도 3은 상기 취급 장치의 개념을 나타낸 측면도이다.
도 4는 상기 취급 장치의 개념을 나타낸 평면도이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명에 관한 설명은 구조적 내지 기능적 설명을 위한 실시 예에 불과하므로, 본 발명의 권리범위는 본문에 설명된 실시 예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 즉, 실시 예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 본 발명의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 발명에서 제시된 목적 또는 효과는 특정 실시예가 이를 전부 포함하여야 한다거나 그러한 효과만을 포함하여야 한다는 의미는 아니므로, 본 발명의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.
본 발명에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.
"제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이며, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체용 포토마스크 취급 장치의 SMIF를 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체용 포토마스크 취급 장치의 구성 블록도이며, 도 3은 상기 취급 장치의 개념을 나타낸 측면도이고, 도 4는 상기 취급 장치의 개념을 나타낸 평면도이다.
도 1내지 도 4에 도시된 바와 같이, SMIF 포드 내의 기판을 이송하고 위치를 조정하는 장치로서, 구체적으로, EUV Dual SMIF(Standard Mechanical Interface, 표준 기계 인터페이스) 포드(30) 내의 기판(Mask)(50)를 취급하기 위해 포드(Pod)(30))의 커버를 여는 자동화 장치(SMIF Opener)에 있어서, 본 발명은 리프터(100), 커버 그립퍼(200), 기판 그립퍼(300), 상태 검사 유닛(400), 기판 수정 유닛(500) 및 컨트롤러(600)를 포함할 수 있다.
리프터(100)는 포드(30)의 커버를 베이스에 고정하는 록커를 풀고, 커버를 리프팅할 수 있다.
커버 그립퍼(200)는 포드(30)의 내부에 구비된 이너박스의 커버를 양쪽에서 접근하여 열 수 있다.
기판 그립퍼(300)는 한 쌍으로 구성되어 이너박스에 올려져 있는 기판(50)(Mask)을 양쪽에서 접근하여 홀딩할 수 있다.
상태 검사 유닛(400)은 포드(Pod)(30) 및 기판(50)을 자동 인식하고 일반 single pod와 Dual Pod를 혼용하여 사용할 수 있도록 기판(50) 및 취급 장치(10)의 상태를 검사하는 센서가 구비될 수 있다.
상태 검사 유닛(400)은, 복수의 렌즈, 복수의 이미지 센서, 광학 센서, 위치 센서 및 압력 센서로 이루어질 수 있다.
기판 수정 유닛(500)은 상태 검사 유닛(400)을 통한 검사 상태에 따라 포드(30) 내의 기판(50) 상태를 수정할 수 있다.
기판 수정 유닛(500)은 이동 스테이지(510), 이송부재(520), 승강부재(530) 및 플립 및 로딩스테이지(540)를 포함할 수 있다.
이동 스테이지(510)는 포드(30)에서 이송된 기판(50)이 놓여지는 공간을 제공할 수 있다.
이송부재(520)는 이동 스테이지(510)에 연결되어 이동 스테이지(510)를 설정된 위치로 이송할 수 있다. 구체적으로, 이송부재(520)는 트랜스퍼라고도 하는데, 왕복 운동시키면서 설정된 위치로의 이동이 가능하다. linear Motor와 LM 가이드 또는 Ball Screw와 LM 가이드를 이용하거나, 2개 이상의 모터를 이용하여 복수의 위치를 이동하게 하는 운송 장치이다.
승강부재(530)는 이동 스테이지(510)와 이송부재(520)에 연결되어 이동 스테이지(510)를 승강시킬 수 있다. 구체적으로, 승강부재(530)의 예로는 공기압실린더(pneumatic cylinder), 유압실린더(hydraulic cylinder) 방식이 주로 사용되는데, 구체적으로 공기압실린더란 압축공기실린더라고도 불리며, 압축공기가 갖는 에너지를 기계적인 왕복 직선 운동으로 변환하는 장치이다.
유압실린더란 유압을 이용하여 큰 출력, 추력의 직선운동을 실현하는 기계이며, 공작기계나 토목, 건설기계에 흔히 쓰인다. 공기압실린더나 유압실린 더는 펌프나 컨트롤벌브 등과 조합되어 사용한다. 상기와 같은 이유로 유압실린더는 각종 산업분야에 쓰이는 크레인 등에 많이 사용되고 있다.
플립 및 로딩스테이지(540)(Flip 및 Loading Stage로)는 기판(50)을 잡고 위치를 조정하거나 뒤집을 수 있다. 구체적으로, 플립 및 로딩스테이지(540)는 Flip과 Load/Unload stage로 사용되는데, 플립(540)은 다관절이 구비된 일종의 로봇팔의 역할을 하는 장치로서 컨트롤러(600)의 제어에 의해 기판(50)의 일부분을 홀딩하여 위치를 설정된 곳으로 올바르게 조정하거나 기판(50)을 뒤집으면서 정위치나 설정된 방향으로 위치시킬 수 있다.
컨트롤러(600)는 리프터(100), 커버 그립퍼(200), 기판 그립퍼(300), 상태 검사 유닛(400) 및 기판 수정 유닛(500)에 각각 연결되어 리프터(100), 커버 그립퍼(200), 기판 그립퍼(300), 상태 검사 유닛(400) 및 기판 수정 유닛(500)의 작동을 제어할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 반도체용 포토마스크 취급 장치(10)는 컨트롤러(600)에 구비된 프로그램에 의해 기판 그립퍼(300)는 리프터(100)와 연계하여 이너박스 커버를 열고 기판(50)을 잡아 올릴 수 있다.
또한, 컨트롤러(600)에 연결되며 상태 검사 유닛(400)을 통해서 측정된 취급 장치(10) 내외부의 압력차를 설정된 수준으로 유지하도록 일부분에 설치된 팬(미도시)의 속도나 배기구(미도시)의 개폐를 제어할 수 있다.
또한, 컨트롤러(600)의 제어에 의해 상태 검사 유닛(400)과 기판 수정 유닛(500)을 연동하여 기판(50)을 설정된 상태를 유지할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 반도체용 포토마스크 취급 장치(10)는, 회전유닛(700)을 더 포함할 수 있다.
회전유닛(700)은 이송부재(520)의 하부에 연결되며 컨트롤러(600)의 제어에 의해 이송부재(520)를 회전시킬 수 있다. 구체적으로, 회전유닛(700)은 이송부재의 중심부에 연결되어 이송부재를 회전시키는 회전부재와 회전부재에 연결되어 회전부재에 동력을 제공하는 모터를 포함하여 이송부재(520)를 회전시키면서 기판(50)의 위치를 변화시킬 수 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 반도체용 포토마스크 취급 장치(10)는 주로 유선으로 연동되나, 모바일 단말기 등과 와이파이 통신모듈, 블루트스 통신모듈 및 지그비 통신모듈 중에서 어느 하나로 연동된 컨트롤러(600)를 통해서도 작동이 가능하다.
즉, 작업자는 취급 장치(10)를 블루투스 통신모듈, 와이파이 통신모듈 및 지그비 통신모듈 중에서 어느 하나인 방식을 채택하여 사용이 가능하나 상기의 방식에만 국한하지 않고 최선의 방식을 선택하여 사용이 가능하다.
본 발명의 일실시예에 따르면, 컨트롤러의 제어에 의해 취급 장치(10)의 상태(기판(50)의 회전, 뒤집힘, 이탈, 이물 존재)를 검사할 센서로 이루어진 상태 검사 유닛(400)을 설치하고, 또한, 컨트롤러(500)의 제어에 의해 설정된 상태로 기판(50)의 회전, 뒤집힘을 수행할 기판 수정 유닛(500)을 일부분에 설치하여 상태 검사 유닛(400)에서 수집된 정보에 따라 동작 수정이 가능하여 기판(50)이 설정된 상태로 유지되도록 할 수 있다.
또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 컨트롤러(600)의 제어에 의해 취급 장치(10)의 공기압 상태를 검사하는 상태 검사 유닛(400)을 취급 장치(10)의 내외부에 설치하고, 공기압의 변화에 따라 배기구를 연동하여 공기압의 차이 및 양압의 유지가 가능하도록 프로그램 된 방법으로 배기하여 취급 장치(10) 상태를 설정된 상태로 유지할 수 있다.
상술한 바와 같이 개시된 본 발명의 바람직한 실시예들에 대한 상세한 설명은 당업자가 본 발명을 구현하고 실시할 수 있도록 제공되었다. 상기에서는 본 발명의 바람직한 실시 예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 본 발명의 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 예를 들어, 당업자는 상술한 실시 예들에 기재된 각 구성을 서로 조합하는 방식으로 이용할 수 있다. 따라서, 본 발명은 여기에 나타난 실시형태들에 제한되려는 것이 아니라, 여기서 개시된 원리들 및 신규한 특징들과 일치하는 최광의 범위를 부여하려는 것이다.
본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있다. 따라서, 상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니 되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다. 본 발명은 여기에 나타난 실시형태들에 제한되려는 것이 아니라, 여기서 개시된 원리들 및 신규한 특징들과 일치하는 최광의 범위를 부여하려는 것이다. 또한, 특허청구범위에서 명시적인 인용 관계가 있지 않은 청구항들을 결합하여 실시 예를 구성하거나 출원 후의 보정에 의해 새로운 청구항으로 포함할 수 있다.
10 : 취급 장치
30 : 포드
50 : 기판
100 : 리프터
200 : 커버 그립퍼
300 : 기판 그립퍼
400 : 상태 검사 유닛
500 : 기판 수정 유닛
510 : 이동 스테이지
520 : 이송부재
530 : 승강부재
540 : 플립 및 로딩스테이지
600 : 컨트롤러
700 : 회전유닛

Claims (7)

  1. SMIF 포드 내의 기판을 이송하고 위치를 조정하는 장치로서,
    상기 포드의 커버를 상기 포드의 하부에 구비된 베이스에 고정하는 록커를 풀고, 커버를 상기 베이스에서 분리하여 리프팅하는 리프터;
    상기 리프터에 의해 개방된 상기 포드의 내부에 구비된 이너박스의 커버를 양쪽에서 접근하여 여는 커버 그립퍼;
    상기 커버 그립퍼에 의해 개방된 이너박스에 올려져 있는 상기 기판을 양쪽에서 접근한 후 홀딩하여 리프팅하는 한 쌍의 기판 그립퍼;
    상기 포드 및 기판을 자동 인식하고 싱글 포드와 듀얼 포드(single pod와 Dual Pod)를 혼용하여 사용할 수 있도록 상기 기판의 회전, 뒤집힘, 이탈, 이물 존재를 포함하는 기판 상태를 검사하는 센서가 구비된 상태 검사 유닛;
    상기 상태 검사 유닛을 통한 검사 상태에 따라 상기 포드 내의 상기 기판 상태를 수정하는 기판 수정 유닛; 및
    상기 리프터, 상기 커버 그립퍼, 상기 기판 그립퍼, 상기 상태 검사 유닛 및 상기 기판 수정 유닛에 각각 연결되어 상기 리프터, 상기 커버 그립퍼, 상기 기판 그립퍼, 상기 상태 검사 유닛 및 상기 기판 수정 유닛의 작동을 제어하는 컨트롤러;를 포함하고,
    상기 기판 수정 유닛은,
    상기 포드에서 이송된 상기 기판이 놓여지는 공간을 제공하는 이동 스테이지;
    상기 이동 스테이지에 연결되어 상기 이동 스테이지를 설정된 위치로 이송하는 이송부재;
    상기 이동 스테이지와 상기 이송부재에 연결되어 상기 이동 스테이지를 승강시키는 승강부재; 및
    상기 기판을 잡고 위치를 조정하거나 뒤집는 플립 및 로딩스테이지;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체용 포토마스크 취급 장치.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판 수정 유닛은,
    상기 이송부재의 하부에 연결되며 상기 컨트롤러의 제어에 의해 상기 이송부재를 회전시키는 회전유닛;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체용 포토마스크 취급 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 컨트롤러에 구비된 프로그램에 의해 상기 기판 그립퍼는 상기 리프터와 연계하여 상기 기판을 잡아 올리는 것을 특징으로 하는 반도체용 포토마스크 취급 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 상태 검사 유닛은, 복수의 렌즈, 복수의 이미지 센서, 광학 센서, 위치 센서 및 압력 센서로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체용 포토마스크 취급 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 컨트롤러의 제어에 의해 상기 상태 검사 유닛을 통해서 측정된 취급 장치 내외부의 압력차를 설정된 수준으로 유지하도록 일부분에 설치된 팬의 속도나 배기구의 개폐를 제어하는 것을 특징으로 하는 반도체용 포토마스크 취급 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 컨트롤러의 제어에 의해 상기 상태 검사 유닛과 상기 기판 수정 유닛을 연동하여 상기 기판을 설정된 상태를 유지하는 것을 특징으로 하는 반도체용 포토마스크 취급 장치.
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