KR102267818B1 - 오버플로우 연속 반응기 - Google Patents

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Abstract

오버플로우 연속 반응기는 반응기 본체, 복수의 교반기, 복수의 기포 방출기, 및 복수의 배플을 포함한다. 반응기 본체는 제1 방향을 따라 연속 배열된 복수의 격벽에 의해 내부 공간이 복수의 반응실로 구획된다. 복수의 교반기는 복수의 반응실 각각에 설치되며, 회전 날개를 이용하여 유체를 교반시킨다. 복수의 기포 방출기는 복수의 반응실 각각의 하측에 설치되며, 유체를 향해 상방으로 기포를 방출한다. 복수의 배플은 복수의 격벽 각각의 전면과 후면에 설치된 제1 배플과, 복수의 반응실 각각의 내벽에 설치된 제2 배플을 구비하며, 유체 흐름을 분산시킨다.

Description

오버플로우 연속 반응기 {OVERFLOW CONTINUOUS REACTOR}
본 발명은 오버플로우 연속 반응기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 염수에서 리튬을 추출하는 공정에 적용 가능한 오버플로우 연속 반응기에 관한 것이다.
염수에서 리튬을 추출하는 방법에는 자연 증발법과 화학적 처리법이 있다. 자연 증발법은 시간이 오래 걸리고 넓은 폰드 부지를 확보해야 하는 문제가 있다. 화학적 처리법은 시간과 공간을 줄일 수 있는 장점이 있어 미래 리튬 생산법으로 주목을 받고 있다.
화학적 처리법은 염수에서 Ca, Mg 등의 성분을 제거하는 불순물 제거 공정과, 용액에서 LiPO4를 추출하는 리튬 추출 공정과, 용액에서 P 성분을 제거하는 P 회수 공정을 포함할 수 있다. 종래의 화학적 처리법에서는 분순물의 ppm 단위 관리와 순도 유지를 위해, 회분식 반응기에서 각각의 공정을 수행하고 있으며, 복수의 회분식 반응기가 배관에 의해 연결되어 연속 반응기를 구성한다.
그런데 회분식 반응기는 공정 특성상 흐름이 불연속적이므로 고상 물질이 침전되거나 NaCl 등의 결정이 성장하여 배관 막힘이 발생하기 쉽다. 또한, 배관들이 많아서 플러깅(plugging) 발생의 위험이 있으며, 염수와 부원료 슬러리의 혼합 효율이 낮아 반응기의 대형화를 초래하고 있다.
본 발명은 염수와 부원료 슬러리의 혼합 효율을 극대화하여 리튬 추출 효율을 높이면서 반응기 전체를 소형화할 수 있고, 고상 물질의 침전과 결정 성장을 억제하여 정비 주기를 늘림으로써 운영 비용을 낮출 수 있는 오버플로우 연속 반응기를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 오버플로우 연속 반응기는 반응기 본체, 복수의 교반기, 복수의 기포 방출기, 및 복수의 배플을 포함한다. 반응기 본체는 서로간 거리를 두고 제1 방향을 따라 연속 배열된 복수의 격벽에 의해 내부 공간이 복수의 반응실로 구획된다. 복수의 교반기는 복수의 반응실 각각에 설치되며, 회전 날개를 이용하여 유체를 교반시킨다. 복수의 기포 방출기는 복수의 반응실 각각의 하측에 설치되며, 유체를 향해 상방으로 기포를 방출하여 슬러지 축적을 방지한다. 복수의 배플은 복수의 격벽 각각의 전면과 후면에 설치된 제1 배플과, 복수의 반응실 각각의 내벽에 설치된 제2 배플을 구비하여 유체 흐름을 분산시킨다.
복수의 격벽은 제1 방향을 따라 점진적으로 낮은 높이를 가질 수 있다. 복수의 격벽 각각의 상단은 좌측 또는 우측이 아래로 기울어진 사선 모양으로 형성될 수 있다. 복수의 반응실은, 제1 방향을 따라 가장 앞쪽에 위치하는 1단 반응실과, 1단 반응실의 후방에 위치하는 복수의 후속 반응실을 포함할 수 있다. 1단 반응실은 복수의 후속 반응실 각각보다 넓게 제작될 수 있다.
1단 반응실에 설치된 교반기의 개수는 복수의 후속 반응실 각각에 설치된 교반기의 개수보다 많을 수 있으며, 1단 반응실에서 복수의 교반기는 제1 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치할 수 있다. 반응기 본체의 상단에 제1 방향과 나란한 한 쌍의 가이드 레일이 설치될 수 있고, 복수의 교반기 각각은 지지판과 한 쌍의 브릿지로 구성된 지지부에 의해 한 쌍의 가이드 레일에 결합되어 제1 방향을 따라 이동할 수 있다.
복수의 기포 방출기 각각은 스파저 형태의 산기관으로 구성될 수 있다. 1단 반응실에 설치된 기포 방출기의 개수는 복수의 후속 반응실 각각에 설치된 기포 방출기의 개수보다 많을 수 있다.
제1 배플은 격벽의 중앙에 위치하는 하나의 수직 바와, 수직 바의 좌우측에 연결되며 수직 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바를 포함할 수 있다. 복수의 후속 반응실 중 최후단 반응실에서 제1 방향을 따라 격벽과 마주하는 내벽에 제1 배플이 추가 설치될 수 있다. 제2 배플은 복수의 반응실 각각의 내부를 향해 뾰족하면서 수직 방향과 나란한 삼각 기둥형으로 이루어질 수 있다. 복수의 반응실 각각에서 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 한 쌍의 제2 배플이 서로 마주하도록 위치할 수 있다.
1단 반응실에 설치된 제2 배플의 개수는 복수의 후속 반응실 각각에 설치된 제2 배플의 개수보다 많을 수 있다. 1단 반응실에서 제1 방향을 따라 격벽과 마주하는 내벽 중앙에 제2 배플이 추가 설치될 수 있다.
오버플로우 연속 반응기는 복수의 탑 위어를 더 포함할 수 있다. 복수의 탑 위어는 반응기 본체에 착탈식으로 결합될 수 있고, 복수의 후속 반응실 각각에서 격벽과 교반기 사이에 위치할 수 있으며, 반응기 본체의 바닥과 이격될 수 있다. 반응기 본체의 상단에 제1 방향과 나란한 한 쌍의 가이드 레일이 설치될 수 있고, 복수의 탑 위어 각각은 한 쌍의 가이드 레일에 결합되어 제1 방향을 따라 이동할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따른 오버플로우 연속 반응기는 반응기 본체, 복수의 교반기, 복수의 탑 위어, 복수의 기포 방출기, 및 복수의 배플을 포함한다. 반응기 본체는 서로간 거리를 두고 제1 방향을 따라 연속 배열된 복수의 격벽에 의해 내부 공간이 1단 반응실과 복수의 후속 반응실로 구획된다. 복수의 교반기는 1단 반응실과 복수의 후속 반응실 각각에 설치되며, 회전 날개를 이용하여 유체를 교반시킨다. 복수의 탑 위어는 복수의 후속 반응실 각각에서 격벽과 교반기 사이에 위치하고, 반응기 본체의 바닥과 이격된다. 복수의 기포 방출기는 1단 반응실과 복수의 후속 반응실 각각의 하측에 설치되며, 유체를 향해 상방으로 기포를 방출한다. 복수의 배플은 복수의 격벽 각각의 전면과 후면에 설치된 제1 배플과, 1단 반응실과 복수의 후속 반응실 각각의 내벽에 설치된 제2 배플과, 복수의 탑 위어 각각의 후면에 설치된 제3 배플을 구비하여 유체 흐름을 분산시킨다.
1단 반응실은 복수의 후속 반응실 각각보다 넓게 제작될 수 있다. 1단 반응실에 설치된 교반기와 기포 방출기 및 제2 격벽의 개수는 후속 반응실 각각에 설치된 교반기와 기포 방출기 및 제2 격벽의 개수보다 많을 수 있다.
제1 배플과 제3 배플 각각은, 하나의 수직 바와, 수직 바의 좌우측에 연결되며 수직 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바를 포함할 수 있다. 복수의 후속 반응실 중 최후단 반응실에서 제1 방향을 따라 격벽과 마주하는 내벽에 제1 배플이 추가 설치될 수 있다.
제2 배플은 1단 반응실과 복수의 후속 반응실 각각의 내부를 향해 뾰족하면서 수직 방향과 나란한 삼각 기둥형으로 이루어질 수 있다. 1단 반응실에서 제1 방향을 따라 격벽과 마주하는 내벽 중앙에 제2 배플이 추가 설치될 수 있다.
오버플로우 연속 반응기는 복수의 탑 위어 각각의 전면에 설치된 제4 배플을 더 포함할 수 있다. 제4 배플은 하나의 수직 바와, 수직 바의 좌우측에 연결되며 수직 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바를 포함할 수 있다.
반응기 본체의 상단에 제1 방향과 나란한 한 쌍의 가이드 레일이 설치될 수 있고, 복수의 교반기와 복수의 탑 위어 각각은 한 쌍의 가이드 레일에 결합되어 제1 방향을 따라 이동할 수 있다. 반응기 본체는 염수와 부원료 슬러리의 혼합물을 공급받을 수 있으며, 염수로부터 리튬을 추출하는 공정에 사용될 수 있다.
본 발명에 따르면, 복수의 반응실이 배관으로 연결되지 않고 격벽에 의해 구획되어 있으므로 종래의 배관 막힘 현상이 없다. 또한, 교반기와 기포 방출기 및 배플을 이용하여 유체의 혼합 효율을 높일 수 있고, 반응기 전체를 소형화할 수 있다. 또한, 고상 물질의 침전과 결정 성장을 억제하여 정비 주기를 늘림으로써 운영 비용을 낮출 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 오버플로우 연속 반응기의 길이 방향 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기의 폭 방향 단면도이다.
도 3은 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기의 평면도이다.
도 4는 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기의 작동 상태를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 5는 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기 중 격벽과 측벽 일부를 나타낸 사시도이다.
도 6은 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기 중 격벽의 변형예를 나타낸 측면도이다.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 오버플로우 연속 반응기의 길이 방향 단면도이다.
도 8은 도 7에 도시한 오버플로우 연속 반응기 중 탑 위어의 후면을 나타낸 우측면도이다.
도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 오버플로우 연속 반응기의 길이 방향 단면도이다.
도 10은 도 9에 도시한 오버플로우 연속 반응기 중 탑 위어의 전면을 나타낸 좌측면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 오버플로우 연속 반응기의 길이 방향 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기의 폭 방향 단면도이다. 도 3은 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기의 평면도이고, 도 4는 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기의 작동 상태를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 1 내지 도 4를 참고하면, 제1 실시예의 오버플로우 연속 반응기(100)는 유체 수용을 위한 내부 공간을 가지는 반응기 본체(10)와, 반응기 본체(10)의 내부를 복수의 반응실(S1~S5)로 구획하는 복수의 격벽(20)과, 복수의 반응실(S1~S5) 각각에 연결 설치된 교반기(30)와 기포 방출기(40) 및 배플(50, 60)을 포함한다.
반응기 본체(10)는 바닥판(11)과, 바닥판(11)의 가장자리에 연결된 측벽(12)을 포함한다. 바닥판(11)은 제1 방향(x 방향)을 따라 긴 장방형으로 이루어진다. 제1 방향(x 방향)은 반응기 본체(10)의 길이 방향이며, 유체의 흐름 방향과 나란하다. 제2 방향(y 방향)은 제1 방향(x 방향)과 교차하는 반응기 본체(10)의 폭 방향이다. 염수에서 리튬을 추출하는 공정들은 상압에서 진행되므로, 반응기 본체(10)의 상부는 대기 중으로 개방될 수 있다.
복수의 격벽(20)은 제1 방향(x 방향)을 따라 서로간 거리를 두고 바닥판(11)과 측벽(12)에 수직 방향(z 방향)으로 고정 설치되며, 격벽(20)에 의해 구획된 복수의 반응실(S1~S5)이 제1 방향(x 방향)을 따라 일렬로 위치한다. 유체가 반응기 본체(10) 밖으로 흘러내리지 않도록 복수의 격벽(20)은 측벽(12)보다 낮은 높이로 제공된다.
반응기 본체(10)는 적어도 세 개의 반응실로 구획될 수 있다. 도 1과 도 3에서는 다섯 개의 반응실(S1~S5)로 구획된 반응기 본체를 예로 들어 도시하였으나, 반응실의 개수는 도시한 예시로 한정되지 않는다.
복수의 반응실(S1~S5)은 제1 방향(x 방향)을 따라 가장 앞쪽에 위치하는 1단 반응실(S1)과, 1단 반응실(S1)의 후방에 위치하는 복수의 후속 반응실(S2~S5)로 이루어진다. 도 1 내지 도 4의 예시에서, 복수의 후속 반응실(S2~S5)은 2단 반응실(S2), 3단 반응실(S3), 4단 반응실(S4), 및 5단 반응실(S5)로 구성된다.
유체 공급관(71)은 1단 반응실(S1)에 연결 설치되어 1단 반응실(S1)로 유체(예를 들어, 염수와 부원료 슬러리의 혼합물)를 공급한다. 이때 유체는 1단 반응실(S1)의 하부쪽에서 위로 차오르도록 공급되며, 이를 위해 유체 공급관(71)의 단부는 바닥판(11)과 일정 거리를 두고 바닥판(11)에 가깝게 위치할 수 있다.
복수의 격벽(20)은 제1 방향(x 방향)을 따라 점진적으로 낮은 높이로 설치되어 유체의 오버플로우 흐름을 가능하게 한다. 오버플로우 흐름은 유체가 격벽(20)의 상단을 타고 넘어 후속 반응실로 이동하는 흐름을 의미한다. 복수의 후속 반응실(S2~S5) 중 가장 뒤쪽에 위치하는 5단 반응실(S5)에 유체 배출관(72)이 접속되어 반응이 완료된 유체를 배출한다. 유체는 중력에 의해 배출될 수 있다.
교반기(30)는 복수의 반응실(S1~S5) 각각에 설치되어 각 반응실(S1~S5)에 제공된 유체를 교반한다. 교반기(30)는 수직 방향(z 방향)과 나란한 교반축(31)과, 교반축(31)에 결합되어 교반축(31)을 회전시키는 구동 모터(32)와, 교반축(31)에 고정된 교반 날개(33)를 포함할 수 있다. 교반 날개(33)는 상단 날개와 하단 날개를 포함하는 2단 이상의 날개로 이루어져 교반력을 높일 수 있다.
교반기(30)는, 제2 방향(y 방향) 단면에서 보았을 때 반응기 본체(10)의 중앙에 위치할 수 있고, 제1 방향(x 방향)을 따라 위치가 변할 수 있다. 교반기(30)의 위치 이동을 위해 측벽(12)의 상단과 교반기(30) 사이에 슬라이딩 기구가 제공될 수 있다. 슬라이딩 기구는 측벽(12)의 상단에 설치된 한 쌍의 가이드 레일(81)과, 교반기(30)를 지지하며 한 쌍의 가이드 레일(81)을 따라 움직이는 지지부(82)를 포함할 수 있다.
한 쌍의 가이드 레일(81)은 측벽(12)의 상단에서 제1 방향(x 방향)과 나란하게 위치한다. 지지부(82)는 교반기(30)에 결합된 지지판(83)과, 지지판(83)으로부터 한 쌍의 가이드 레일(81)을 향해 확장되며 양측 단부가 한 쌍의 가이드 레일(81)에 결합된 한 쌍의 브릿지(84)를 포함할 수 있다.
구동 모터(32)는 지지판(83) 위에 설치될 수 있고, 교반축(31)은 반응실(S1~S5)에 위치하도록 지지판(83)을 관통할 수 있다. 한 쌍의 브릿지(84)는 제2 방향(y 방향)과 나란할 수 있으며, 교반기(30)는 지지부(82)에 의해 한 쌍의 가이드 레일(81) 위에 얹혀지는 형태로 반응기 본체(10)에 설치될 수 있다. 슬라이딩 기구는 전술한 예시로 한정되지 않으며, 다양하게 변형 가능하다.
유체가 처음 공급되는 1단 반응실(S1)에는 염수와 부원료의 교반 효율을 높이기 위하여 두 대의 교반기(30)가 배치될 수 있고, 복수의 후속 반응식(S2~S5) 각각에는 한 대의 교반기(30)가 배치될 수 있다.
1단 반응실(S1)은 복수의 후속 반응실(S2~S5) 각각보다 넓게 제작될 수 있으며, 1단 반응실(S1)에 배치된 두 개의 교반기(30)는 제1 방향(x 방향)을 따라 나란하게 위치할 수 있다. 예를 들어, 복수의 후속 반응실(S2~S5)은 같은 넓이로 제작될 수 있고, 1단 반응실(S1)은 복수의 후속 반응실(S2~S5) 각각보다 1.5배 내지 2.5배 넓게 제작될 수 있다.
기포 방출기(40)는 복수의 반응실(S1~S5) 각각의 바닥판(11)에 설치되며, 유체를 향해 상방으로 기포를 방출한다. 기포 방출기(40)는 스파저(spager) 형태의 산기관으로 구성될 수 있다. 교반기(30)가 교반 날개(33)에 의해 유체를 좌우로 회전 교반시키는 반면, 기포 방출기(40)는 유체의 아래쪽에서 위를 향해 기포를 방출함으로써 유체를 상하 방향으로 교반시킨다.
리튬 추출 공정의 경우, 유체는 고상 물질이 많이 함유된 슬러리 상태이므로 상하 교반이 중요한 요소가 되며, 정체 응력이 발생하는 곳에는 반드시 고상 물질이 쌓이는 적체가 일어난다. 기포 방출기(40)는 유체의 상하 교반력을 높임으로써 정체 응력을 줄여 고상 물질이 쌓이는 현상을 방지한다.
교반 효율을 높이기 위하여 1단 반응실(S1)에 두 대의 기포 방출기(40)가 설치될 수 있고, 복수의 후속 반응실(S2~S5) 각각에는 한 대의 기포 방출기(40)가 설치될 수 있다. 기포 방출기(40)는 제2 방향(y 방향) 단면에서 보았을 때 반응기 본체(10)의 중앙에 위치할 수 있다. 기포 방출기(40)는 교반축(31) 바로 아래에 위치하거나, 제1 방향(x 방향)을 따라 교반축(31)과 어긋나게 위치할 수 있다.
배플(50, 60)은 유체의 흐름 방향을 바꾸는 방해판으로서, 각 반응실(S1~S5) 내에서 유체의 혼합 상태를 개선한다. 배플(50, 60)은 복수의 격벽(20) 각각의 전면과 후면에 설치된 제1 배플(50)과, 각 반응실(S1~S5)의 좌우측 내벽(측벽(12)의 안쪽면)에 설치된 제2 배플(60)을 포함한다.
제1 배플(50)은 유체의 흐름 방향과 마주하여 교반력을 높이는 배플이고, 제2 배플(60)은 유속 저하를 최소화하면서 교반을 돕는 배플이다. 도 5는 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기 중 격벽과 측벽 일부를 나타낸 사시도이다.
도 5를 참고하면, 제1 배플(50)은 수직 방향(z 방향)을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바(horizontal bar)(51)와, 복수의 수평 바(51)와 접하는 하나의 수직 바(vertical bar)(52)로 구성될 수 있다.
복수의 수평 바(51)는 등간격으로 배치될 수 있고, 수직 바(52)는 복수의 수평 바(51)의 중앙에 위치할 수 있다. 격벽(20)에 대한 수직 바(52)의 돌출 높이는 격벽(20)에 대한 수평 바(51)의 돌출 높이보다 클 수 있으나, 이러한 예시로 한정되지 않는다.
수직 바(52)는 격벽(20)에 부딪힌 유체의 흐름을 좌우 두 방향의 흐름으로 바꾸고, 복수의 수평 바(51)는 유체의 흐름을 다시 상하 두 방향의 작은 흐름으로 바꾸는 작용을 한다. 이와 같이 유체의 흐름 방향과 마주하는 제1 배플(50)은 격벽(20)에 부딪힌 유체의 흐름 방향을 잘게 분산시켜 유체의 교반 효율을 극대화한다.
도 3과 도 5를 참고하면, 제2 배플(60)은 수직 방향으로 설치된 쐐기형 기둥으로 이루어진다. 제2 배플(60)은 반응실(S1~S5) 내부를 향해 뾰족한 삼각 기둥일 수 있고, 한 쌍의 제2 배플(60)이 제2 방향(y 방향)을 따라 서로 마주할 수 있다. 제2 배플(60)의 상단은 측벽(12)의 상단과 접할 수 있고, 제2 배플(60)의 하단은 바닥판(11)과 소정의 거리를 두고 떨어져 위치할 수 있다.
1단 반응실(S1)에는 두 쌍의 제2 배플(60)이 제1 방향(x 방향)을 따라 거리를 두고 위치할 수 있고, 복수의 후속 반응실(S2~S5) 각각에는 한 쌍의 제2 배플(60)이 위치할 수 있다. 그리고 1단 반응실(S1) 중 제1 방향(x 방향)을 따라 격벽(20)과 마주하는 내벽 중앙에 하나의 제2 배플(60)이 위치할 수 있다.
교반기(30)는 제2 방향(y 방향)을 따라 한 쌍의 제2 배플(60) 사이에 위치하거나, 제1 방향(x 방향)을 따라 한 쌍의 제2 배플(60)과 어긋나게 위치할 수 있다. 제2 배플(60)은 유속 저하를 최소화하면서 각 반응실(S1~S5)의 좌우측 내벽과 접하는 유체의 교반을 돕는다.
다시 도 1 내지 도 4를 참고하면, 제1 배플(50)은 5단 반응실(S5)에서 제1 방향(x 방향)을 따라 격벽(20)과 마주하는 내벽(측벽(12)의 안쪽면)에 추가로 설치되어 5단 반응실(S5)에서 유체의 교반 효율을 높일 수 있다.
오버플로우 연속 반응기(100)는 착탈식으로 반응기 본체(10)에 결합되는 복수의 탑 위어(top weir)(90)를 포함할 수 있다. 복수의 탑 위어(90) 각각은 수직판 형태로 이루어지며, 1단 반응실(S1)을 제외한 복수의 후속 반응실(S2~S5) 각각에서 격벽(20)과 교반기(30) 사이에 위치한다. 탑 위어(90)는 유체 흐름이 가능하도록 바닥판(11)과 소정의 거리를 두고 위치한다.
각 반응실에서 유체의 상하 교반이 충분하지 않은 경우 화학반응이 충분히 진행되지 않은 반응실 상측의 유체가 격벽을 타고 다음 반응실로 이동할 수 있다. 탑 위어(90)는 이전 반응실에서 이동한 유체가 다음 반응실의 하부로 공급되게 함으로써 유체의 상하 교반 효율을 높인다.
복수의 탑 위어(90)는 유체의 상하 교반력을 높임과 동시에 유체의 이송 경로를 길게 하여 체류 시간을 늘림으로써 화학반응 효율을 향상시킨다. 복수의 탑 위어(90)는 유체의 상하 교반력을 높여야 할 필요가 있을 때 반응기 본체(10)에 선택적으로 설치될 수 있다.
예를 들어, 복수의 탑 위어(90) 각각은 한 쌍의 가이드 레일(81)에 착탈식으로 결합될 수 있고, 한 쌍의 가이드 레일(81)을 따라 전후진 이동하여 격벽(20)과의 거리 조정이 가능하다.
다음으로, 도 4를 참조하여 전술한 구성의 오버플로우 연속 반응기의 작용에 대해 설명한다.
오버플로우 연속 반응기(100)는 염수로부터 리튬을 추출하는 공정에 사용될 수 있다. 구체적으로, 염수로부터 리튬을 추출하는 화학적 처리법은 염수에서 Ca, Mg 등의 성분을 제거하는 불순물 제거 공정과, 용액에서 LiPO4를 추출하는 리튬 추출 공정과, 용액에서 P 성분을 제거하는 P 회수 공정을 포함할 수 있다.
불순물 제거 공정과 리튬 추출 공정 및 P 회수 공정 각각에 대해 전술한 구성의 오버플로우 연속 반응기(100)가 제공될 수 있으며, 세 대의 오버플로우 연속 반응기(100)가 직렬로 연결되어 리튬 생산 설비를 구성할 수 있다.
전술한 세가지 공정 각각에서, 유체(염수와 부원료 슬러리의 혼합물)는 유체 공급관(71)을 통해 1단 반응실(S1)의 하부쪽에서 위로 차오르며 공급된다. 1단 반응실(S1)에 투입된 유체는 두 대의 교반기(30)에 의해 수평 방향으로 회전 교반되면서 두 대의 기포 방출기(40)에서 방출된 기포에 의해 상하 방향으로 교반된다.
또한, 격벽(20)과 좌우측 내벽에 부딪힌 유체는 제1 배플(50)과 제2 배플(60)에 의해 흐름 방향이 바뀌면서 교반력이 강화된다. 유체를 가장 먼저 공급받는 1단 반응실(S1)은 복수의 후속 반응실(S2~S5) 각각보다 크게 제작될 수 있으며, 두 대의 교반기(30)와 두 대의 기포 방출기(40)가 구비됨에 따라 교반 효율을 높이면서 슬러리 적체를 방지할 수 있다.
1단 반응실(S1)에서 교반된 유체는 격벽(20)을 타고 넘어 2단 반응실(S2)로 유입된다. 이때 탑 위어(90)가 1단 반응실(S1)에서 넘어온 유체를 2단 반응실(S2)의 하측으로 공급함으로써 상하 교반 효율을 높이고, 유체의 이동 경로를 길게 하여 체류 시간을 늘린다.
2단 반응실(S2)로 넘어온 유체는 교반기(30)에 의한 회전 교반과, 기포 방출기(40)에서 방출된 기포에 의한 상하 교반과, 제1 배플(50)과 제2 배플(60)에 의한 교반 작용이 복합적으로 진행되면서 효과적으로 교반된다. 2단 반응실(S2)에서 교반된 유체는 3단 반응실(S3)과 4단 반응실(S4) 및 5단 반응실(S5)로 차례로 이동하고, 2단 반응실(S2)과 같은 작용으로 교반되며, 반응이 완료된 유체는 유체 배출관(72)을 통해 5단 반응실(S5)에서 배출된다.
도 6은 도 1에 도시한 오버플로우 연속 반응기 중 격벽의 변형예를 나타낸 측면도이다.
도 6을 참고하면, 격벽(20)의 상단은 좌측 또는 우측이 아래로 기울어진 사선 모양일 수 있다. 이 경우, 격벽(20)의 상단이 수평 방향과 나란한 경우와 비교할 때, 체류 시간을 충분히 가지지 못하고 후속 반응실로 넘어가는 바이패스 현상을 억제할 수 있다.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 오버플로우 연속 반응기의 길이 방향 단면도이고, 도 8은 도 7에 도시한 오버플로우 연속 반응기 중 탑 위어의 후면을 나타낸 우측면도이다.
도 7과 도 8을 참고하면, 제2 실시예의 오버플로우 연속 반응기(200)는 복수의 탑 위어(90) 각각의 후면에 배치된 제3 배플(55)을 더 포함한다. 제3 배플(55)은 탑 위어(90)의 후면 중 유체에 잠기는 부분에 설치되며, 수직 방향(z 방향)을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바(56)와, 복수의 수평 바(56)와 접하는 하나의 수직 바(57)로 구성될 수 있다. 제3 배플(55)은 전술한 제1 배플(50)과 같은 형상으로 이루어질 수 있다.
탑 위어(90)의 후면은 교반기(30)와 마주하는 면이며, 각 후속 반응실(S2~S5)에서 유체의 실질적인 교반은 교반기(30)를 사이에 두고 위치하는 탑 위어(90)와 격벽(20) 사이에서 발생한다. 제3 배플(55)은 제1 방향(x 방향)을 따라 마주하는 격벽(20)의 제1 배플(50)과 함께 유체의 흐름을 잘게 분산시키는 작용을 한다. 따라서 제2 실시예의 오버플로우 연속 반응기(200)는 복수의 후속 반응실(S2~S5) 각각에서 유체의 교반 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.
제2 실시예의 오버플로우 연속 반응기(200)는 제3 배플(55)이 추가된 것을 제외하고 전술한 제1 실시예와 같은 구성으로 이루어지며, 중복되는 설명은 생략한다.
도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 오버플로우 연속 반응기의 길이 방향 단면도이고, 도 10은 도 9에 도시한 오버플로우 연속 반응기 중 탑 위어의 전면을 나타낸 좌측면도이다.
도 9와 도 10을 참고하면, 제3 실시예의 오버플로우 연속 반응기(300)는 복수의 탑 위어(90) 각각의 전면에 배치된 제4 배플(65)을 더 포함한다. 제4 배플(65)은 탑 위어(90)의 전면 중 유체에 잠기는 부분에 설치되며, 수직 방향(z 방향)을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바(66)와, 복수의 수평 바(66)와 접하는 하나의 수직 바(67)로 구성될 수 있다. 제4 배플(65)은 전술한 제1 배플(50)과 같은 형상으로 이루어질 수 있다.
탑 위어(90)의 전면은 격벽(20)과 마주하는 면이며, 격벽(20)과 탑 위어(90)의 사이의 공간은 이전 반응실에서 넘어온 유체를 해당 반응실의 하부로 이동시키는 공간이다. 이 공간에는 교반기(30)와 기포 방출기(40)에 따른 교반력이 강하게 미치지 않지만, 격벽(20)의 제1 배플(50)과 탑 위어(90)의 제4 배플(65)이 이동 중인 유체의 흐름을 잘게 분산시키는 작용을 한다.
따라서 제3 실시예의 오버플로우 연속 반응기(300)는 격벽(20)과 탑 위어(90) 사이를 이동 중인 유체에도 교반 작용을 일으켜 복수의 후속 반응실(S2~S5) 각각에서 유체의 교반 효율을 높일 수 있다. 제3 실시예의 오버플로우 연속 반응기(300)는 제4 배플(65)이 추가된 것을 제외하고 전술한 제2 실시예와 같은 구성으로 이루어지며, 중복되는 설명은 생략한다.
전술한 제1 내지 제3 실시예의 오버플로우 연속 반응기(100, 200, 300)는 복수의 반응실(S1~S5)이 배관으로 연결되지 않고 격벽(20)에 의해 구획되어 있으므로 종래의 배관 막힘 현상이 없다. 또한, 교반기(30)와 기포 방출기(40) 및 배플(50, 55, 60, 65)을 이용하여 유체의 혼합 효율을 높일 수 있고, 반응기 전체를 소형화할 수 있다. 또한, 고상 물질의 침전과 결정 성장을 억제하여 정비 주기를 늘림으로써 운영 비용을 낮출 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
100, 200, 300: 오버플로우 연속 반응기
10: 반응기 본체 11: 바닥판
12: 측벽 20: 격벽
30: 교반기 40: 기포 방출기
50: 제1 배플 60: 제2 배플
55: 제3 배플 65: 제4 배플
71: 유체 공급관 72: 유체 배출관
81: 가이드 레일 82: 지지부
90: 탑 위어

Claims (19)

  1. 서로간 거리를 두고 제1 방향을 따라 연속 배열된 복수의 격벽에 의해 내부 공간이 복수의 반응실로 구획되는 반응기 본체;
    상기 복수의 반응실 각각에 설치되며, 회전 날개를 이용하여 유체를 교반시키는 복수의 교반기;
    상기 복수의 반응실 각각의 하측에 설치되며, 스파저 형태의 산기관으로 구성되고, 유체를 향해 상방으로 기포를 방출하여 유체를 상하 방향으로 교반함과 동시에 슬러지 축적을 방지하는 복수의 기포 방출기;
    상기 복수의 격벽 각각의 전면과 후면에 설치된 제1 배플과, 상기 복수의 반응실 각각의 내벽에 설치된 제2 배플을 구비하여 유체 흐름을 분산시키는 복수의 배플; 및
    상기 반응기 본체의 상단에서 상기 제1 방향과 나란하게 설치된 한 쌍의 가이드 레일을 포함하고,
    상기 복수의 교반기 각각은 상기 한 쌍의 가이드 레일에 결합되어 상기 제1 방향을 따라 이동 가능한 오버플로우 연속 반응기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 격벽은 상기 제1 방향을 따라 점진적으로 낮은 높이를 가지는 오버플로우 연속 반응기.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 복수의 격벽 각각의 상단은 좌측 또는 우측이 아래로 기울어진 사선 모양으로 형성되는 오버플로우 연속 반응기.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 반응실은, 상기 제1 방향을 따라 가장 앞쪽에 위치하는 1단 반응실과, 1단 반응실의 후방에 위치하는 복수의 후속 반응실을 포함하고,
    상기 1단 반응실은 상기 복수의 후속 반응실 각각보다 넓게 제작되는 오버플로우 연속 반응기.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 1단 반응실에 설치된 상기 교반기의 개수는 상기 복수의 후속 반응실 각각에 설치된 상기 교반기의 개수보다 많으며,
    상기 1단 반응실에서 상기 복수의 교반기는 상기 제1 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 오버플로우 연속 반응기.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 복수의 교반기 각각은 지지판과 한 쌍의 브릿지로 구성된 지지부에 의해 상기 한 쌍의 가이드 레일에 결합되는 오버플로우 연속 반응기.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 1단 반응실에 설치된 상기 기포 방출기의 개수는 상기 복수의 후속 반응실 각각에 설치된 상기 기포 방출기의 개수보다 많은 오버플로우 연속 반응기.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제1 배플은 상기 격벽의 중앙에 위치하는 하나의 수직 바와, 수직 바의 좌우측에 연결되며 수직 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바를 포함하고,
    상기 복수의 후속 반응실 중 최후단 반응실에서 상기 제1 방향을 따라 상기 격벽과 마주하는 내벽에 상기 제1 배플이 추가 설치되는 오버플로우 연속 반응기.
  9. 제4항에 있어서,
    상기 제2 배플은 상기 복수의 반응실 각각의 내부를 향해 뾰족하면서 수직 방향과 나란한 삼각 기둥형으로 이루어지고,
    상기 복수의 반응실 각각에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 상기 제2 배플이 한 쌍을 이루어 서로 마주하도록 위치하는 오버플로우 연속 반응기.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 1단 반응실에 설치된 상기 제2 배플의 개수는 상기 복수의 후속 반응실 각각에 설치된 상기 제2 배플의 개수보다 많으며,
    상기 1단 반응실에서 상기 제1 방향을 따라 상기 격벽과 마주하는 내벽 중앙에 상기 제2 배플이 추가 설치되는 오버플로우 연속 반응기.
  11. 제4항에 있어서,
    상기 반응기 본체에 착탈식으로 결합되고, 상기 복수의 후속 반응실 각각에서 상기 격벽과 상기 교반기 사이에 위치하며, 상기 반응기 본체의 바닥과 이격된 복수의 탑 위어를 더 포함하는 오버플로우 연속 반응기.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 복수의 탑 위어 각각은 상기 한 쌍의 가이드 레일에 결합되어 상기 제1 방향을 따라 이동 가능한 오버플로우 연속 반응기.
  13. 서로간 거리를 두고 제1 방향을 따라 연속 배열된 복수의 격벽에 의해 내부 공간이 1단 반응실과 복수의 후속 반응실로 구획되는 반응기 본체;
    상기 1단 반응실과 상기 복수의 후속 반응실 각각에 설치되며, 회전 날개를 이용하여 유체를 교반시키는 복수의 교반기;
    상기 복수의 후속 반응실 각각에서 상기 격벽과 상기 교반기 사이에 위치하고, 상기 반응기 본체의 바닥과 이격된 복수의 탑 위어;
    상기 1단 반응실과 상기 복수의 후속 반응실 각각의 하측에 설치되며, 스파저 형태의 산기관으로 구성되고, 유체를 향해 상방으로 기포를 방출하여 유체를 상하 방향으로 교반함과 동시에 슬러지 축적을 방지하는 복수의 기포 방출기;
    상기 복수의 격벽 각각의 전면과 후면에 설치된 제1 배플과, 상기 1단 반응실과 상기 복수의 후속 반응실 각각의 내벽에 설치된 제2 배플과, 상기 복수의 탑 위어 각각의 후면에 설치된 제3 배플을 구비하여 유체 흐름을 분산시키는 복수의 배플; 및
    상기 반응기 본체의 상단에서 상기 제1 방향과 나란하게 설치된 한 쌍의 가이드 레일을 포함하고,
    상기 복수의 교반기와 상기 복수의 탑 위어 각각은 상기 한 쌍의 가이드 레일에 결합되어 상기 제1 방향을 따라 이동 가능한 오버플로우 연속 반응기.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 1단 반응실은 상기 복수의 후속 반응실 각각보다 넓게 제작되고,
    상기 1단 반응실에 설치된 상기 교반기와 상기 기포 방출기 및 상기 제2 배플의 개수는 상기 후속 반응실 각각에 설치된 상기 교반기와 상기 기포 방출기 및 상기 제2 배플의 개수보다 많은 오버플로우 연속 반응기.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 제1 배플과 상기 제3 배플 각각은, 하나의 수직 바와, 수직 바의 좌우측에 연결되며 수직 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바를 포함하고,
    상기 복수의 후속 반응실 중 최후단 반응실에서 상기 제1 방향을 따라 상기 격벽과 마주하는 내벽에 상기 제1 배플이 추가 설치되는 오버플로우 연속 반응기.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제2 배플은 상기 1단 반응실과 상기 복수의 후속 반응실 각각의 내부를 향해 뾰족하면서 수직 방향과 나란한 삼각 기둥형으로 이루어지고,
    상기 1단 반응실에서 상기 제1 방향을 따라 상기 격벽과 마주하는 내벽 중앙에 상기 제2 배플이 추가 설치되는 오버플로우 연속 반응기.
  17. 제13항에 있어서,
    상기 복수의 탑 위어 각각의 전면에 설치된 제4 배플을 더 포함하며,
    상기 제4 배플은 하나의 수직 바와, 수직 바의 좌우측에 연결되며 수직 방향을 따라 서로간 거리를 두고 위치하는 복수의 수평 바를 포함하는 오버플로우 연속 반응기.
  18. 삭제
  19. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반응기 본체는 염수와 부원료 슬러리의 혼합물을 공급받으며, 염수로부터 리튬을 추출하는 공정에 사용되는 오버플로우 연속 반응기.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3362052B2 (ja) * 1990-07-20 2003-01-07 ザ ダウ ケミカル カンパニー 連続式反応器および方法
JP2013215733A (ja) * 2013-07-22 2013-10-24 Imacs Kk 撹拌方法及び循環型ミキサ

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101572126B1 (ko) * 2014-01-02 2015-11-26 한화케미칼 주식회사 배플을 구비한 회분식 반응기
RU2667519C2 (ru) * 2014-06-19 2018-09-21 Сабик Глобал Текнолоджис Б.В. Улучшенные реакторные системы, катализируемые гомогенными катализаторами
KR101898236B1 (ko) * 2016-12-15 2018-10-04 주식회사 포스코 염수를 이용한 탄산리튬의 제조 방법
KR101975469B1 (ko) * 2016-12-15 2019-05-07 주식회사 포스코 염수 슬러리의 고액 분리 장치 및 고액 분리 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3362052B2 (ja) * 1990-07-20 2003-01-07 ザ ダウ ケミカル カンパニー 連続式反応器および方法
JP2013215733A (ja) * 2013-07-22 2013-10-24 Imacs Kk 撹拌方法及び循環型ミキサ

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