KR102258506B1 - High frequency induction heating device - Google Patents

High frequency induction heating device Download PDF

Info

Publication number
KR102258506B1
KR102258506B1 KR1020190116582A KR20190116582A KR102258506B1 KR 102258506 B1 KR102258506 B1 KR 102258506B1 KR 1020190116582 A KR1020190116582 A KR 1020190116582A KR 20190116582 A KR20190116582 A KR 20190116582A KR 102258506 B1 KR102258506 B1 KR 102258506B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
crucible
induction heating
frequency induction
high frequency
housing
Prior art date
Application number
KR1020190116582A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210034811A (en
Inventor
김기수
이시현
Original Assignee
(주)에스브이엠테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)에스브이엠테크 filed Critical (주)에스브이엠테크
Priority to KR1020190116582A priority Critical patent/KR102258506B1/en
Publication of KR20210034811A publication Critical patent/KR20210034811A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102258506B1 publication Critical patent/KR102258506B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • H01L51/001
    • H01L51/56
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B6/00Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
    • H05B6/02Induction heating
    • H05B6/10Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications
    • H05B6/105Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications using a susceptor
    • H05B6/108Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications using a susceptor for heating a fluid
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/164Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using vacuum deposition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 고주파 유도가열 장치를 개시한다. 개시된 고주파 유도가열 장치는 증착을 위한 물질을 수용하는 크루시블 본체와, 크루시블 본체의 외부에 구비되며, 고주파를 발생하여 크루시블 본체를 가열하는 유도가열부재를 구비하며, 상기 크루시블 본체는, 이종 재질에 의해 적어도 2중 벽 이상의 구조를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 한다. 따라서 본 발명은 유기발광다이오드(OLED) 제조공정에서 액상의 증착 물질을 가열하여 기화시킬 때 불순물에 의해 증착 물질이 오염되는 것을 방지할 수 있고, 증착 물질의 가열시 열효율을 향상시킬 수 있으며, 크루시블 본체를 분리 가능하게 형성하여 세정하여 재사용을 할 수 있다.The present invention discloses a high-frequency induction heating device. The disclosed high-frequency induction heating device includes a crucible body accommodating a material for deposition, an induction heating member provided outside the crucible body, and heating the crucible body by generating a high frequency, the crucible The block body is characterized in that it is formed to have a structure of at least a double wall or more by a different material. Therefore, the present invention can prevent the deposition material from being contaminated by impurities when heating and vaporizing the liquid deposition material in the organic light emitting diode (OLED) manufacturing process, and can improve the thermal efficiency when heating the deposition material, and It can be reused by cleaning the sieble body by forming a detachable body.

Description

고주파 유도가열 장치{HIGH FREQUENCY INDUCTION HEATING DEVICE}High-frequency induction heating device {HIGH FREQUENCY INDUCTION HEATING DEVICE}

본 발명은 고주파 유도가열 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유기발광다이오드(OLED) 제조공정에서 액상의 증착 물질을 가열하여 기화시킬 때 불순물에 의해 증착 물질이 오염되는 것을 방지할 수 있고, 증착 물질의 가열시 열효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 크루시블 본체를 분리 가능하게 형성하여 세정하여 재사용을 할 수 있도록 하는 고주파 유도가열 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a high-frequency induction heating device, and more particularly, it is possible to prevent contamination of the deposition material by impurities when heating and vaporizing the liquid deposition material in an organic light emitting diode (OLED) manufacturing process, and the deposition material It relates to a high-frequency induction heating device that can not only improve thermal efficiency during heating of the device, but also make the crucible body detachably and can be cleaned and reused.

일반적으로, 어떤 물질을 용융시키기 위한 방법으로서는 용융 대상 물질이 수용된 도가니를 가열시키는 간접 가열 방법 및 용융 대상 물질 자체를 가열시키는 직접 가열 방법이 있다.In general, as a method for melting a certain substance, there are an indirect heating method of heating a crucible in which the molten substance is accommodated, and a direct heating method of heating the molten substance itself.

간접 가열 방법은, 용융시키고자 하는 물질보다 용융온도가 훨씬 높은 도가니를 유도 가열시켜 용융 대상물질을 간접적 가열하는 방식이다. 이러한 방법은 용융하고자 하는 물질보다 용융점이 훨씬 높은 도가니를 사용하여야 하므로 도가니와 고온 용융물이 서로 화학 반응하여 용융물에 불순물이 생성되고, 도가니를 취약하게 만드는 단점이 있다.The indirect heating method is a method of indirectly heating a material to be melted by induction heating a crucible having a melting temperature much higher than that of the material to be melted. In this method, since a crucible having a much higher melting point than the material to be melted must be used, the crucible and the high-temperature melt chemically react with each other to generate impurities in the melt, which makes the crucible weak.

직접 가열 방법은, 용융 대상 물질 자체를 유도시켜 가열하는 방법이다. 이 용융 방법은 용융물의 순도를 높게 유지할 수 있기 때문에 고순도의 결정성장을 위해 사용되는 방법 중의 하나이다. 특히, 용융점이 3000K 이상인 물질을 용융하고자 하는 경우 이 용융 방법은 매우 효율적이라 할 수 있다.The direct heating method is a method of heating the material to be melted by inducing itself. This melting method is one of the methods used for high-purity crystal growth because it can maintain a high purity of the melt. In particular, this melting method can be said to be very efficient when it is desired to melt a material having a melting point of 3000K or higher.

이처럼 용융 온도가 높은 금속을 가열하여 제련하는 수단, 다양한 금속 물질들을 배합하기 위하여 가열하는 수단 등에 크루시블이 이용되어 왔다.Crucible has been used as a means for heating and smelting a metal having a high melting temperature, a means for heating to mix various metal materials, and the like.

한편, OLED는 포스트 엘시디(Post LCD) 디스플레이로서 뿐만 아니라 고해상도 디스플레이용 자체 면발광 장치로서 그 에너지성과 시장성이 입증되어 세계적으로 각광받고 있다. 특히 최근 들어서, VR(virtual reality)시장이 커지면서, VR 제품에 사용되는 고해상도의 OLED의 필요성도 부각되고 있고, 이로 인하여 OLED의 유기박막의 패턴을 더욱 미세하게 제조하는 기술이 필요하다.On the other hand, OLED is receiving worldwide spotlight as its energy and marketability have been proven not only as a post LCD display but also as a surface light emitting device for high-resolution displays. In particular, in recent years, as the VR (virtual reality) market grows, the need for high-resolution OLEDs used in VR products has also been highlighted, and for this reason, a technique for manufacturing organic thin film patterns of OLEDs is required more finely.

또한 OLED 제조공정 중의 하나로 유기물 발광 재료를 고진공 상태에서 기체로 증발하여 실리콘 웨이퍼(기판) 상에 유기물을 증착하는 열 증발 증착 공정(thermal evaporation deposition)이 주로 사용되고 있는데, 이러한 열 증발 증착 공정은 유기물 분사구가 점형 또는 선형으로 제작되어 대면적 OLED소자를 제작하는 데에 많은 시간이 소요되고 있다.Also, as one of the OLED manufacturing processes, thermal evaporation deposition, in which an organic material is evaporated into a gas in a high vacuum to deposit an organic material on a silicon wafer (substrate), is mainly used. is produced in a dotted or linear shape, so it takes a lot of time to manufacture a large-area OLED device.

최근에 크루시블(CRUCIBLE)은 OLED을 이용한 디스플레이 제조공정에서 디스플레이 패널 등을 생산할 때 패널의 표면에 증착되는 증착 물질이 공급되도록 증착 물질을 가열을 통해 상태 변화시키고, 기체 상태의 증착 물질을 패널의 표면으로 전달하기 위한 수단으로도 활용되고 있다.Recently, Crucible (CRUCIBLE) changes the state of the deposition material through heating so that the deposition material deposited on the surface of the panel is supplied when the display panel is produced in the display manufacturing process using OLED, and the gaseous deposition material is converted into a panel. It is also used as a means to transfer to the surface of

그런데, 상기와 같은 종래 기술의 크루시블은, 증착 물질을 가열하는 과정에서 벽체 등에서 불순물이 유입되어 증착 물질이 오염되고, 열효율이 저하될 뿐만 아니라, 특정 주기로 교체가 이루어지므로 운용 비용이 증가하는 문제점이 있다.However, in the crucible of the prior art as described above, impurities are introduced from the wall, etc. in the process of heating the deposition material, thereby contamination of the deposition material, thermal efficiency is lowered, and operation cost is increased because replacement is made at a specific cycle. There is a problem.

따라서, 이를 개선할 필요성이 요청된다.Therefore, there is a need to improve this.

한편, 국내 등록특허 제10-1968819호(등록일:2019.04.08)에는 "크루시블 및 이를 포함하는 가열어셈블리"이 개시되어 있다.
On the other hand, domestic registration patent No. 10-1968819 (registration date: April 8, 2019) discloses "a crucible and a heating assembly including the same".

본 발명은 상기와 같은 필요성에 의해 창출된 것으로서, 유기발광다이오드(OLED) 제조공정에서 액상의 증착 물질을 가열하여 기화시킬 때 불순물에 의해 증착 물질이 오염되는 것을 방지하고, 증착 물질의 가열시 열손실을 줄이면서 빠르게 가열하여 열효율을 향상시고, 사용 후 세정하여 재사용이 가능한 고주파 유도가열 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
The present invention was created by the above necessity, and prevents contamination of the deposition material by impurities when heating and vaporizing the liquid deposition material in the organic light emitting diode (OLED) manufacturing process, and heats the deposition material during heating. An object of the present invention is to provide a high-frequency induction heating device that improves thermal efficiency by heating quickly while reducing loss, and can be washed and reused after use.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 측면에 따른 고주파 유도가열 장치는, 증착을 위한 물질을 수용하는 크루시블 본체와, 상기 크루시블 본체의 외부에 구비되며, 고주파를 발생하여 상기 크루시블 본체를 가열하는 유도가열부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a high-frequency induction heating device according to an aspect of the present invention includes a crucible body accommodating a material for deposition, and is provided outside of the crucible body, and generates a high frequency to generate the crucible. It is characterized in that it comprises an induction heating member for heating the sieve body.

본 발명에서 상기 크루시블 본체는, 동일재질 또는 이종 재질에 의해 적어도 2중 벽 이상의 구조를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the crucible body is characterized in that it is formed to have a structure of at least a double wall or more by the same material or different materials.

본 발명에서 상기 크루시블 본체는, 상기 유도가열부재에 의해 가열되는 크루시블 하우징과, 상기 크루시블 하우징의 내부에 설치되어 상기 증착 물질을 수용하며, 상기 크루시블 하우징과 동일재질 또는 다른 재질에 의해 형성되는 이너 크루시블을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the crucible body includes a crucible housing heated by the induction heating member, and is installed inside the crucible housing to accommodate the deposition material, and is made of the same material as the crucible housing or It is characterized in that it includes an inner crucible formed by a different material.

본 발명에서 상기 크루시블 하우징은, 세라믹류인 석영(Quartz), 흑연(Graphite) 및 복합재(Composite), 금속류인 알루미나(Alumina), 티탄, 탄탈 중 어느 하나 이상에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the crucible housing is characterized in that it is formed of any one or more of ceramics, such as quartz, graphite, and composites, and metals, alumina, titanium, and tantalum.

본 발명에서 상기 이너 크루시블은, 세라믹 및 금속에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the inner crucible is formed of ceramic and metal.

본 발명에서 상기 크루시블 하우징은, 외부 라이너와, 상기 이너 크루시블이 안착되도록 상기 이너 크루시블과 상기 외부 라이너 사이에 구비되며, 상기 외부 라이너와 동일재질 또는 다른 재질에 의해 형성되어 열전도를 통해 상기 이너 크루시블을 가열하는 열전도히터를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the crucible housing is provided between an outer liner and the inner crucible so that the inner crucible is seated, and is formed of the same material or a different material as the outer liner to conduct heat. It characterized in that it comprises a heat conduction heater for heating the inner crucible through.

본 발명에서 상기 크루시블 하우징은, 상기 외부 라이너가 석영에 의해 형성되고, 상기 열전도히터가 세라믹, 흑연 및 금속에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the crucible housing is characterized in that the outer liner is formed of quartz, and the heat conduction heater is formed of ceramic, graphite and metal.

본 발명에서 상기 크루시블 본체는, 상기 이너 크루시블이 상기 크루시블 하우징에 분리 가능하게 삽입되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the crucible body is characterized in that the inner crucible is detachably inserted into the crucible housing.

본 발명에서 상기 크루시블 하우징은, 상기 이너 크루시블을 분리 및 삽입할 수 있도록 탈착 개구부를 구비하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the crucible housing is characterized in that it has a detachable opening so that the inner crucible can be separated and inserted.

본 발명에서 상기 크루시블 하우징은, 상기 이너 크루시블을 분리 및 삽입할 수 있도록 상면이 개방되어 상기 탈착 개구부를 형성하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the crucible housing is characterized in that the upper surface is opened so that the inner crucible can be separated and inserted to form the detachable opening.

본 발명에서 상기 이너 크루시블은, 상기 증착 물질을 수용하는 용기부와, 상기 용기부에 결합되어 상기 용기부를 밀폐하며, 상기 증착 물질이 기화되어 배출되는 배출관을 구비하는 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the inner crucible includes a container part for accommodating the deposition material, and a nozzle part coupled to the container part to seal the container part, and having a discharge pipe through which the deposition material is vaporized and discharged. do it with

본 발명에서 상기 노즐부는, 상기 배출관이 이격되게 복수개 형성되어 상기 용기부의 중앙부에서 양측면으로 갈수록 등간격 또는 다른 이격 거리를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the nozzle part is characterized in that the discharge pipe is formed to be spaced apart from each other so as to have an equal distance or different distance from the central part of the container part toward both sides.

본 발명에서 상기 조즐부는, 상기 배출관이 중앙부에서 양측으로 갈수록 이격거리가 점진적으로 짧아지게 형성되는 것을 특징으로 한다.
In the present invention, the jozzle part is characterized in that the separation distance is gradually shortened as the discharge pipe goes from the central part to both sides.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 일 측면에 따른 고주파 유도가열 장치는 종래 기술과는 달리 유기발광다이오드(OLED) 제조공정에서 액상의 증착 물질을 가열하여 기화시키는 크루시블 본체체가 2중 벽 구조를 가지므로, 증착 물질이 이물질에 의해 오염되는 것을 방지 할 수 있는 효과를 가진다.As described above, the high-frequency induction heating device according to one aspect of the present invention has a double-wall structure in which the crucible body heats and vaporizes the liquid deposition material in the organic light emitting diode (OLED) manufacturing process, unlike the prior art. Therefore, it has the effect of preventing the deposition material from being contaminated by foreign substances.

또한 본 발명에 따른 고주파 유도가열 장치는 외부 라이너가 석영에 의해 형성되고, 열전도히터가 흑연에 의해 제작되고, 이너 크루시블이 금속에 의해 형성되므로, 증착 물질의 가열시 열손실을 줄이면서 빠르게 가열하고, 가열된 상태의 온도를 적정하게 유지할 수 있어 열효율을 향상시킬 있는 효과를 가진다.In addition, in the high frequency induction heating device according to the present invention, since the outer liner is formed of quartz, the heat conduction heater is made of graphite, and the inner crucible is formed of metal, the heat loss is reduced while heating the deposition material. It is heated and the temperature of the heated state can be properly maintained, so that it has the effect of improving the thermal efficiency.

또한 본 발명에 따른 고주파 유도가열 장치는 금속에 의해 제작되는 이너 크루시블을 크루시블 하우징에서 분리할 수 있으므로, 증착 물질의 변경에 따라 사용 후 세정하여 재사용이 가능하여 호환성을 향상시킬 수 있는 효과를 가진다.
In addition, the high frequency induction heating device according to the present invention can separate the inner crucible made of metal from the crucible housing, so it can be reused by cleaning after use according to the change of the deposition material to improve compatibility have an effect

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 결합 사시도이다.
도 3은 도 2의 정면도이다.
도 4는 도 2의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 도 3의 A-A선 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 도 4의 B-B선 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 사시도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
1 is an exploded perspective view for explaining a high frequency induction heating apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a combined perspective view for explaining a high frequency induction heating apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a front view of FIG. 2.
4 is a plan view of FIG. 2.
5 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 3 for explaining a high frequency induction heating apparatus according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG. 4 for explaining a high frequency induction heating apparatus according to an embodiment of the present invention.
7 is a perspective view for explaining a high frequency induction heating apparatus according to another embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view for explaining a high frequency induction heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 고주파 유도가열 장치의 바람직한 실시예를 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다.Hereinafter, a preferred embodiment of a high frequency induction heating apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thickness of the lines or the size of components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description.

또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
In addition, terms to be described later are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to the intention or custom of users or operators. Therefore, definitions of these terms should be made based on the contents throughout the present specification.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 분해 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 결합 사시도이고, 도 3은 도 2의 정면도이고, 도 4는 도 2의 평면도이다.1 is an exploded perspective view for explaining a high frequency induction heating device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a combined perspective view for explaining a high frequency induction heating device according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is 2 is a front view, and FIG. 4 is a plan view of FIG. 2 .

또한, 도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 도 3의 A-A선 단면도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 도 4의 B-B선 단면도이다.In addition, FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 3 for explaining a high frequency induction heating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is FIG. 4 for explaining a high frequency induction heating apparatus according to an embodiment of the present invention. is a cross-sectional view of the BB line.

또한, 도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 사시도이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 단면도이다.
In addition, FIG. 7 is a perspective view for explaining a high frequency induction heating apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining a high frequency induction heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 6을 참조하여 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 상세하게 설명한다.A high frequency induction heating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 6 .

도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는, 유기발광다이오드(OLED) 제조공정에서 표면처리 또는 박막 형성을 위하여 액상의 증착 물질을 가열하여 기화시키는 습식 증착 기술에 적용된다.1 to 6 , the high frequency induction heating apparatus 100 according to an embodiment of the present invention heats a liquid deposition material for surface treatment or thin film formation in an organic light emitting diode (OLED) manufacturing process. It is applied to the wet deposition technique that vaporizes it.

또한, 본 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 고진공 상태에서 사용되며, 액상의 증착 물질이 기화되어 발생하는 기체 상태의 처리 대상물로 배출하게 된다.In addition, the high-frequency induction heating apparatus 100 according to the present embodiment is used in a high vacuum state, and the liquid deposition material is vaporized and discharged as a gaseous object to be treated.

이를 위하여 본 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 증착을 위한 물질이 수용되는 크루시블 본체(110)와, 크루시블 본체(110)를 가열하기 위한 유도가열부재(120)를 포함한다.To this end, the high frequency induction heating apparatus 100 according to the present embodiment includes a crucible body 110 in which a material for deposition is accommodated, and an induction heating member 120 for heating the crucible body 110 . do.

이러한 본 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 유도가열부재(120)에 의해 크루시블 본체(110)가 가열되어 온도가 상승하게 되면 크루시블 본체(110)에 수용되어 있는 증착 물질도 가열되면서 기체 상태로 상 변화가 이루어지고, 기체 상태 변화된 물질이 크루시블 본체(110)의 외부로 배출되어 처리 대상물로 공급된다.In the high frequency induction heating apparatus 100 according to this embodiment, when the crucible body 110 is heated by the induction heating member 120 and the temperature rises, the deposition material accommodated in the crucible body 110 . A phase change is made to a gaseous state while also being heated, and the gaseous state-changed material is discharged to the outside of the crucible body 110 and supplied as a processing target.

본 실시 예에서는 고주파 유도가열 장치(100)가 액상의 증착 물질을 가열하여 기화시키는 것을 예를 들어 설명하고 있지만, 고체 상태의 증착 물질을 가열하여 기화시킬 수도 있고, 유기발광다이오드(OLED) 제조공정은 물론 다양한 표면 처리 기술분야에 적용될 수 있다.In this embodiment, the high-frequency induction heating apparatus 100 heats and vaporizes the liquid deposition material as an example, but the solid state deposition material may be heated and vaporized, and organic light emitting diode (OLED) manufacturing process Of course, it can be applied to various surface treatment technology fields.

증착 물질을 수용하는 크루시블 본체(110)는, 직육면체 형상으로 형성될 수 있으며, 열효율이 향상되도록 이종 재질에 의해 적어도 2중 벽 이상의 구조를 가지도록 형성된다.The crucible body 110 for accommodating the deposition material may be formed in a rectangular parallelepiped shape, and is formed to have at least a double-walled structure by different materials to improve thermal efficiency.

이러한 본 실시 예에 따른 크루시블 본체(110)는 이종 재질의 격벽 구조를 가지므로, 유도가열부재(120)에 의한 신속한 유도 가열이 가능하여 증착 물질의 가열시간을 줄일 수 있을 뿐만 아니라, 가열된 상태를 적정하게 오래 유지시킬 수 있게 된다. 따라서 고주파 유도가열 장치(100)의 열효율을 향상시킬 수 있다.Since the crucible body 110 according to this embodiment has a barrier rib structure made of a heterogeneous material, rapid induction heating by the induction heating member 120 is possible, thereby reducing the heating time of the deposition material and heating It is possible to maintain the condition for a reasonable long time. Therefore, the thermal efficiency of the high frequency induction heating apparatus 100 can be improved.

특히, 본 실시 예에 따른 크루시블 본체(110)는 유도가열부재(120)가 외부에 배치되는 크루시블 하우징(111)과, 이 크루시블 하우징(111)의 내부에 분리 가능하게 장착되어 증착 물질을 수용하는 이너 크루시블(113)을 구비한다. 이때, 크루시블 본체(110)는 크루시블 하우징(111)과 이너 크루시블(113)이 서로 다른 물질에 의해 형성된다.In particular, the crucible body 110 according to this embodiment is detachably mounted inside the crucible housing 111 in which the induction heating member 120 is disposed outside, and the crucible housing 111 . and an inner crucible 113 for accommodating the deposition material. In this case, the crucible body 110 is formed of a material different from the crucible housing 111 and the inner crucible 113 .

예를 들어 본 실시 예에 따른 크루시블 본체(110)는 크루시블 하우징(111)이 내열성과 전기절연성 및 보온성이 우수한 석영(Quartz), 흑연계열(Graphite 계열), 탄탈럼(Tantalum), 티타늄 (Titanium), 알루미나(Alumina) 중 어느 하나 이상에 의해 형성될 수 있으며, 이너 크루시블(113)이 열전도가 우수하고 불순물의 발생이 적은 금속에 의해 제작될 수 있다.For example, in the crucible body 110 according to the present embodiment, the crucible housing 111 has excellent heat resistance, electrical insulation, and heat retention. Quartz, graphite, tantalum, It may be formed of any one or more of titanium and alumina, and the inner crucible 113 may be made of a metal having excellent thermal conductivity and less generation of impurities.

이를 통해 본 실시 예에 따른 크루시블 본체(110)는 증착 물질을 신속하게 가열하여 기화시킬 수 있을 뿐만 아니라, 증착 물질을 가열하여 기화시키는 과정에서 이너 크루시블(113)에서 불순물이 발생하지 않아 증착 물질이 불순물에 의해 오염되는 것을 방지할 수 있게 된다.Through this, the crucible body 110 according to the present embodiment can not only rapidly heat and vaporize the deposition material, but also do not generate impurities in the inner crucible 113 in the process of heating and vaporizing the deposition material. Therefore, it is possible to prevent the deposition material from being contaminated by impurities.

또한, 본 실시 예에 따른 크루시블 본체(110)는, 열효율을 더욱 향상시킴은 전기 전도도를 적정하게 유지시킬 수 있도록 크루시블 하우징(111)이 다른 물질에 의해 2중 구조로 형성된다.In addition, in the crucible body 110 according to the present embodiment, the crucible housing 111 is formed in a double structure by different materials so as to properly maintain electrical conductivity to further improve thermal efficiency.

구체적으로 크루시블 하우징(111)은 외측에 유도가열부재(120)가 배치되는 외부 라이너(111a)와, 이너 크루시블(113)이 안착되도록 외부 라이너(111a)의 내부에 결합되는 열전도히터(111b)를 포함하며, 유도가열부재(120)에서 발생하는 열을 통해 가열된다.Specifically, the crucible housing 111 includes an outer liner 111a on which the induction heating member 120 is disposed on the outside, and a heat conduction heater coupled to the inside of the outer liner 111a so that the inner crucible 113 is seated. (111b), and is heated through the heat generated by the induction heating member (120).

이때 크루시블 하우징(111)은 이너 크루시블(113)을 삽입 또는 분리할 수 있도록 상면이 개구되어 탈착 개구부(111c)가 형성된다.At this time, the crucible housing 111 has an upper surface opened so that the inner crucible 113 can be inserted or separated to form a detachable opening 111c.

본 실시 예에 따른 크루시블 하우징(111)은 석영(Quartz), 흑연계열(Graphite 계열), 탄탈럼(Tantalum), 티타늄 (Titanium), 알루미나(Alumina) 중 어느 하나 이상에 의해 형성될 수 있다.The crucible housing 111 according to this embodiment may be formed of any one or more of quartz, graphite-based, tantalum, titanium, and alumina. .

예를 들어 크루시블 하우징(111)은 외부 라이너(111a)가 석영에 의해 제작될 수 있고, 열전도히터(111b)가 흑연에 의해 제작될 수 있다.For example, in the crucible housing 111 , the outer liner 111a may be made of quartz, and the heat conduction heater 111b may be made of graphite.

이처럼 크루시블 하우징(111)은 외부 라이너(111a)와 열전도히터(111b)가 물리적 특성이 다른 재질에 의해 형성되므로, 외부 라이너(111a)에 의한 빠른 가열이 가능하고, 열전도히터(111b)를 통해 이너 크루시블(113)로 신속한 열전도가 가능하다. 또한, 설정 온도까지 가열된 후에는 열전도히터(111b)에 의해 크루시블 본체(110)의 온도를 적정하게 유지할 수 있어 열효율이 향상된다.As such, in the crucible housing 111, since the outer liner 111a and the heat conduction heater 111b are formed of materials having different physical properties, rapid heating by the outer liner 111a is possible, and the heat conduction heater 111b Through the inner crucible 113, it is possible to quickly conduct heat. In addition, after being heated to a set temperature, the temperature of the crucible body 110 can be appropriately maintained by the heat conduction heater 111b, thereby improving thermal efficiency.

증착 물질을 수용하는 이너 크루시블(113)은 열전도히터(111b)의 내부에 안착 또는 분리 가능하게 삽입되며, 크루시블 하우징(111)의 열전도를 통해 가열되면서 증착 물질을 히팅하여 기화시킨다.The inner crucible 113 accommodating the deposition material is seated or detachably inserted into the heat conduction heater 111b, and heated through the heat conduction of the crucible housing 111 to heat and vaporize the deposition material.

이러한 본 실시 예에 따른 이너 크루시블(113)은 증착 물질을 수용하는 용기부(113a)와, 기화 증착물을 배출하도록 용기부(113a)를 밀폐하는 노즐부(113b)를 포함한다. 이때 이너 크루시블(113)은 증착 물질을 가열하는 과정에서 불순물이 배출되어 증착 물질이 오염되는 것을 방지할 수 있도록 금속재질에 의해 형성된다.The inner crucible 113 according to this embodiment includes a container part 113a for accommodating a deposition material, and a nozzle part 113b for sealing the container part 113a to discharge the vaporized deposits. At this time, the inner crucible 113 is formed of a metal material to prevent the deposition material from being contaminated due to the discharge of impurities in the process of heating the deposition material.

이와 같은 이너 크루시블(113)은 크루시블 하우징(111)에서 분리가 가능하므로, 특정 성분의 증착 물질의 사용이 완료된 후, 세정하여 다른 증착 물질을 증착하는데 사용할 수 있게 된다.Since such an inner crucible 113 can be separated from the crucible housing 111, after the use of a deposition material of a specific component is completed, it can be cleaned and used to deposit another deposition material.

즉 증착 물질의 변경에 따라 크루시블 본체(110) 전체를 바꿀 필요없이 이너 크루시블(113)을 세정하여 재사용할 수 있으므로, 호환성을 향상시킬 수 있다.That is, since the inner crucible 113 can be cleaned and reused without changing the entire crucible body 110 according to the change of the deposition material, compatibility can be improved.

노즐부(113b)는 용기부(113a)에서 기화되는 증착 물질을 배출할 도록 복수의 배출관(113c)을 구비한다. 이때 노즐부(113b)는 기화 증착물의 배출이 원활하게 이루어지도록 배출관(113c)이 중앙부에서 양측면으로 갈수록 그 이격 거리(L)가 점진적으로 짧아지도록 형성된다.The nozzle unit 113b includes a plurality of discharge pipes 113c to discharge the deposition material vaporized in the container unit 113a. At this time, the nozzle portion 113b is formed such that the separation distance L is gradually shortened from the central portion toward both sides of the discharge pipe 113c so that the vaporized deposits are smoothly discharged.

예를 들어 본 실시 예에 따른 이너 크루시블(113)은 직사각 형상으로 형성되므로, 양측 모서리부위의 영역에서 증착 물질의 기화가 약간 빠르게 진행된다. 따라서 이너 크루시블(113)은 간격이 점진적으로 짧게 형성되는 배출관(113c)을 통해 모든 영역에서 기화 증착물을 원활하게 배출된다.For example, since the inner crucible 113 according to the present embodiment is formed in a rectangular shape, the vaporization of the deposition material proceeds slightly faster in the region of both corners. Therefore, the inner crucible 113 is smoothly discharged from vaporized deposits in all areas through the discharge pipe 113c which is gradually formed with a shorter interval.

본 실시 예에 따른 유도가열부재(120)는 외부 라이너(111a)의 외부에 구비되며, 고주파를 발생하여 크루시블 본체(110)를 가열한다. 이러한 유도가열부재(120)는 외부 라이너(111a)의 상단부 외면을 감싸도록 코일 형태로 제공된다.The induction heating member 120 according to this embodiment is provided outside the outer liner 111a, and generates a high frequency to heat the crucible body 110 . The induction heating member 120 is provided in the form of a coil to surround the outer surface of the upper end of the outer liner (111a).

상기와 같이 구성되는 본 발명의 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치의 작용을 설명한다.The operation of the high frequency induction heating apparatus according to an embodiment of the present invention configured as described above will be described.

외부의 변류기 또는 변압기 등과 같은 전력원으로부터 유도가열부재(120)로 전류가 인가되면 유도가열부재(120)에서 고주파를 발진하고, 고주파에 의해 크루시블 본체(110)가 가열되면서 크루시블 본체(110)의 온도가 상승한다.When a current is applied to the induction heating member 120 from a power source such as an external current transformer or transformer, the induction heating member 120 oscillates a high frequency, and as the crucible body 110 is heated by the high frequency, the crucible body (110) the temperature rises.

그리고 크루시블 본체(110)의 온도가 설정온도까지 가열되면 이너 크루시블(113)에 수용되는 액상의 증착 물질이 가열되면서 기화된다.And when the temperature of the crucible body 110 is heated to a set temperature, the liquid deposition material accommodated in the inner crucible 113 is heated and vaporized.

이때 크루시블 본체(110)의 온도는 유도가열부재(120)로 인가되는 전류의 세기를 제어하여 조절하게 된다. 예를 들어 유도가열부재(120)에 인가하는 전류의 세기가 강할수록 크루시블 본체(110)의 온도가 높아진다.At this time, the temperature of the crucible body 110 is adjusted by controlling the intensity of the current applied to the induction heating member 120 . For example, the stronger the intensity of the current applied to the induction heating member 120, the higher the temperature of the crucible body (110).

그리고 이너 크루시블(113)에서 기화되는 기화 증착물은 배출관(113c)을 통해 증착 설비로 공급된다.And the vaporized deposit vaporized in the inner crucible 113 is supplied to the deposition facility through the discharge pipe (113c).

이와 같은 본 발명에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 액상의 증착 물질을 수용하는 이너 크루시블(113)과 이 이너 크루시블(113)을 가열하기 위한 크루시블 하우징(111)이 서로 다른 재질에 의해 제작되어 2중 구조로 설치되므로, 열손실을 줄이면서 이너 크루시블(113)을 빠르게 가열할 수 있게 된다.The high frequency induction heating apparatus 100 according to the present invention as described above includes an inner crucible 113 for accommodating a liquid deposition material and a crucible housing 111 for heating the inner crucible 113 with each other. Since it is made of a different material and installed in a double structure, it is possible to quickly heat the inner crucible 113 while reducing heat loss.

또한 본 발명에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 증착 물질을 수용하는 이너 크루시블(113)이 금속에 의해 형성되므로, 증착 물질의 가열시 이물질에 의해 증착 물질이 오염되는 것을 방지할 수 있게 된다.In addition, in the high frequency induction heating apparatus 100 according to the present invention, since the inner crucible 113 for accommodating the deposition material is formed of metal, it is possible to prevent the deposition material from being contaminated by foreign substances when the deposition material is heated. do.

정리하면 본 발명에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 외부 라이너(111a)가 석영에 의해 형성되고, 열전도히터(111b)가 흑연에 의해 제작되고, 이너 크루시블(113)이 금속에 의해 형성되는 3중 구조를 가지므로, 열손실을 줄이면서 증착 물질의 가열시간을 단축할 수 있을 뿐만 아니라, 크루시블 본체(110)의 가열된 상태의 온도를 적정하게 유지할 수 있어 열효율을 향상시킬 있다.In summary, in the high frequency induction heating apparatus 100 according to the present invention, the outer liner 111a is made of quartz, the heat conduction heater 111b is made of graphite, and the inner crucible 113 is made of metal. Since it has a triple structure, it is possible to not only shorten the heating time of the deposition material while reducing heat loss, but also to properly maintain the temperature of the heated state of the crucible body 110, thereby improving thermal efficiency. .

특히, 본 발명에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 금속에 의해 제작되는 이너 크루시블(113)을 크루시블 하우징(111)에 탈착할 수 있으므로, 증착 물질의 변경시 이너 크루시블(113)을 분리하여 세정한 후, 재사용할 수 있다.
In particular, in the high frequency induction heating apparatus 100 according to the present invention, since the inner crucible 113 made of metal can be detached from the crucible housing 111, when the deposition material is changed, the inner crucible ( 113) can be separated and washed, and then reused.

다음으로, 도 7 및 도 8을 참조하여 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명한다.Next, a high frequency induction heating apparatus according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8 .

도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 사시도이고, 도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명하기 위한 단면도이다.7 is a perspective view illustrating a high frequency induction heating apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a high frequency induction heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치를 설명함에 있어 일 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치와 동일 유사한 구성에 대해서는 도일한 도면부호를 사용하며 그 구체적인 설명은 생략하기로 한다.In describing the high frequency induction heating apparatus according to another embodiment of the present invention, the same reference numerals are used for the same and similar components as the high frequency induction heating apparatus according to the embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 크루시블 본체(110) 및 이 크루시블 본체(110)를 가열하는 유도가열부재(120)를 분할 형성된다.The high frequency induction heating apparatus 100 according to another embodiment of the present invention is formed by dividing the crucible body 110 and the induction heating member 120 for heating the crucible body 110 .

예를 들어 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 3개로 분할된 제1크루시블 어셈블리(130), 제2크루시블 어셈블리(140) 및 제3크루시블 어셈블리(140)를 포함하며, 제1크루시블 어셈블리(130)의 양측에 제2크루시블 어셈블리(140) 및 제3크루시블 어셈블리(140)가 각각 배치된다.For example, the high frequency induction heating apparatus 100 according to another embodiment of the present invention is a first crucible assembly 130, a second crucible assembly 140 and a third crucible assembly ( 140), and the second crucible assembly 140 and the third crucible assembly 140 are disposed on both sides of the first crucible assembly 130, respectively.

또한, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 고주파 유도가열 장치(100)는 3개로 분할된 제1크루시블 어셈블리(130), 제2크루시블 어셈블리(140) 및 제3크루시블 어셈블리(140) 사이에 차폐판(160)이 각각 구비된다.In addition, the high frequency induction heating apparatus 100 according to another embodiment of the present invention is divided into three first crucible assembly 130 , second crucible assembly 140 , and third crucible assembly 140 . ), a shielding plate 160 is provided between each.

이와 같이 제1크루시블 어셈블리(130), 제2크루시블 어셈블리(140) 및 제3크루시블 어셈블리(140)의 분할 배치되는 증착 물질의 증착을 보다 균일하게 진행하기 위함이다. 이때, 제1크루시블 어셈블리(130), 제2크루시블 어셈블리(140) 및 제3크루시블 어셈블리(140)는 열전도히터(111b) 없이 외부 라이너(111a)에 이너 크루시블(113)을 바로 설치할 수 있다.As described above, this is to more uniformly deposit the deposition materials dividedly arranged in the first crucible assembly 130 , the second crucible assembly 140 , and the third crucible assembly 140 . At this time, the first crucible assembly 130 , the second crucible assembly 140 , and the third crucible assembly 140 are attached to the inner crucible 113 on the outer liner 111a without the heat conduction heater 111b. ) can be installed directly.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is only illustrative, and those of ordinary skill in the field to which the technology pertains, various modifications and other equivalent embodiments are possible. I will understand.

따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.
Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the claims.

100 : 고주파 유도가열 장치 110 : 크루시블 본체
111 : 크루시블 하우징 111a : 외부 라이너
111b : 열전도히터 113 : 이너 크루시블
113a : 용기부 113b : 노즐부
113c : 배출관 120 : 유도가열부재
130 : 제1크루시블 어셈블리 140 : 제2크루시블 어셈블리
150 : 제1크루시블 어셈블리 160 : 차폐판
100: high frequency induction heating device 110: crucible body
111: crucible housing 111a: outer liner
111b: heat conduction heater 113: inner crucible
113a: container part 113b: nozzle part
113c: discharge pipe 120: induction heating member
130: first crucible assembly 140: second crucible assembly
150: first crucible assembly 160: shielding plate

Claims (10)

증착을 위한 물질을 수용하는 크루시블 본체; 및 상기 크루시블 본체의 외부에 구비되며, 고주파를 발생하여 상기 크루시블 본체를 가열하는 유도가열부재;를 포함하며, 상기 크루시블 본체는, 동일재질 또는 이종 재질에 의해 적어도 2중 벽 이상의 구조를 가지도록 형성되고,
상기 크루시블 본체는, 세라믹류인 석영(Quartz), 흑연(Graphite) 및 복합재(Composite), 금속류인 알루미나(Alumina), 티탄, 탄탈 중 어느 하나 이상에 의해 형성되며, 상기 유도가열부재에 의해 가열되는 크루시블 하우징; 및 상기 크루시블 하우징과 동일재질 또는 다른 재질에 의해 형성되도록 세라믹 및 금속에 의해 형성되며, 상기 크루시블 하우징의 내부에 설치되어 증착 물질을 수용하는 이너 크루시블;을 포함하여 상기 이너 크루시블이 상기 크루시블 하우징에 분리 가능하게 삽입되고,
상기 이너 크루시블은, 상기 증착 물질을 수용하는 용기부; 및 상기 용기부에 결합되어 상기 용기부를 밀폐하며, 상기 증착 물질이 기화되어 배출되는 배출관을 구비하는 노즐부;를 포함하고,
상기 노즐부는, 상기 배출관이 이격되게 복수개 형성되어 상기 용기부의 중앙부에서 양측면으로 갈수록 이격 거리가 점진적으로 짧아지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 고주파 유도가열 장치.
a crucible body accommodating a material for deposition; and an induction heating member provided on the outside of the crucible body and heating the crucible body by generating a high frequency, wherein the crucible body has at least a double wall made of the same material or different materials Formed to have the above structure,
The crucible body is formed of any one or more of ceramics, such as quartz, graphite, and composite, and metals, alumina, titanium, and tantalum, and heated by the induction heating member a crucible housing; and an inner crucible that is formed of ceramic and metal so as to be made of the same material or a different material as that of the crucible housing, and is installed inside the crucible housing to accommodate the deposition material; A sieble is detachably inserted into the crucible housing,
The inner crucible may include a container unit accommodating the deposition material; and a nozzle part coupled to the container part to seal the container part, and having a discharge pipe through which the deposition material is vaporized and discharged.
The nozzle unit, the high frequency induction heating apparatus, characterized in that the discharge pipe is formed to be spaced apart from each other so that the separation distance is gradually shortened from the central portion of the container portion toward both sides.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 크루시블 하우징은, 외부 라이너; 및
상기 이너 크루시블이 안착되도록 상기 이너 크루시블과 상기 외부 라이너 사이에 구비되며, 상기 외부 라이너와 동일재질 또는 다른 재질에 의해 형성되어 열전도를 통해 상기 이너 크루시블을 가열하는 열전도히터;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 고주파 유도가열 장치.
The method of claim 1,
The crucible housing may include an outer liner; and
a heat conduction heater provided between the inner crucible and the outer liner so that the inner crucible is seated, and formed of the same material or a different material as the outer liner to heat the inner crucible through heat conduction;
High frequency induction heating device comprising a.
제 4 항에 있어서,
상기 크루시블 하우징은, 상기 외부 라이너가 석영에 의해 형성되고, 상기 열전도히터가 세라믹, 흑연 및 금속 중 어느 하나에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 고주파 유도가열 장치.
The method of claim 4,
In the crucible housing, the outer liner is formed of quartz, and the heat conduction heater is formed of any one of ceramic, graphite, and metal.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 크루시블 하우징은, 상기 이너 크루시블을 분리 및 삽입할 수 있도록 탈착 개구부를 구비하는 것을 특징으로 하는 고주파 유도가열 장치.
The method of claim 1,
The crucible housing, high-frequency induction heating device, characterized in that provided with a detachable opening so that the inner crucible can be separated and inserted.
제 1 항에 있어서,
상기 크루시블 하우징은, 상기 이너 크루시블을 분리 및 삽입할 수 있도록 상면이 개방되어 탈착 개구부가 형성되는 것을 특징으로 하는 고주파 유도가열 장치.
The method of claim 1,
The crucible housing is a high frequency induction heating device, characterized in that the upper surface is opened so that the inner crucible can be separated and inserted, and a detachable opening is formed.
삭제delete 삭제delete
KR1020190116582A 2019-09-23 2019-09-23 High frequency induction heating device KR102258506B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190116582A KR102258506B1 (en) 2019-09-23 2019-09-23 High frequency induction heating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190116582A KR102258506B1 (en) 2019-09-23 2019-09-23 High frequency induction heating device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210034811A KR20210034811A (en) 2021-03-31
KR102258506B1 true KR102258506B1 (en) 2021-06-01

Family

ID=75238041

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190116582A KR102258506B1 (en) 2019-09-23 2019-09-23 High frequency induction heating device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102258506B1 (en)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07278799A (en) * 1994-04-07 1995-10-24 Ibiden Co Ltd Graphite crucible device
KR20180067186A (en) * 2016-12-12 2018-06-20 선문대학교 산학협력단 A copper thick film deposition apparatus using high??frequency induction heating and heat sink for oled lighting comprising the copper thick film manufactured thereby
KR101968819B1 (en) * 2017-05-31 2019-04-12 주식회사 파인에바 Crucible and heating assembly including the same
KR102381054B1 (en) * 2017-07-11 2022-03-31 엘지전자 주식회사 Deposition apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210034811A (en) 2021-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2411138B1 (en) Plasma reactor for the synthesis of nanopowders and materials processing
EP0271351B1 (en) Vacuum evaporating apparatus
KR101084333B1 (en) Deposition source for manufacturing organic electroluminescence display panel and deposition apparatus having the same
WO2017128471A1 (en) Heating device for vacuum deposition
TW200904999A (en) Evaporation crucible and evaporation apparatus with adapted evaporation characteristic
KR100767036B1 (en) Evaporator having a nozzle part
EP1354979A1 (en) Method and device for producing organic el elements
KR102258506B1 (en) High frequency induction heating device
KR101114223B1 (en) Sublimation purifying apparatus
KR102258507B1 (en) Vertical type evaporation device by induction heating
KR102505422B1 (en) Vertical type evaporation device by induction heating
JP4435523B2 (en) Deposition method
KR102509628B1 (en) High frequency induction heating device
KR101365467B1 (en) Thin Film Deposition Apparatus and Thin Film Deposition Method
CN205501403U (en) A lining pot for coating film
CN100516284C (en) Equipment of coating by vaporization
US10801101B2 (en) Vapor evaporation source
CN219637321U (en) Evaporation table
KR100583044B1 (en) Apparatus for linearly heating deposition source material
JPH03158478A (en) Method and device for coating substrate
CN108130513A (en) Evaporation coating device and evaporation coating method
KR101006952B1 (en) A vacuum effusion cell for forming a thin film
JP2005307354A (en) Method and device for producing organic el element
JPS60152670A (en) Vapor source using high frequency induction heating
KR101456549B1 (en) Plassma Enhanced Chemical Vapour Deposition Apparatus And Plassma Enhanced Chemical Vapour Deposition Method

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant