KR102257748B1 - 소스 콜렉터 장치, 리소그래피 장치 및 방법 - Google Patents

소스 콜렉터 장치, 리소그래피 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

리소그래피 장치에 사용하기 위한 소스 콜렉터 장치는 연료 액적 발생기(4)를 포함하며, 연료 액적 발생기는 사용 시에 연료 액적 발생기의 배출구로부터 플라즈마 형성 위치(7)를 향하여 지향되는 연료 액적(6)의 스트림을 발생하도록 구성된다. 위성 액적이 플라즈마 형성과 간섭하는 것을 방지하기 위해, 임의의 위성 액적을 연료 액적 스트림의 밖으로 편향시키는 가스의 흐름(A)을 제공하는 가스 공급장치가 제공된다. 이에 부가하여, 액적의 병합이 발생하는 포인트를 결정함으로써 연료 액적 스트림에 존재할 위성 액적의 가능성에 대한 지시를 제공하기 위해 쉬라우드(5)의 일부분으로서 검출 장치가 제공될 수 있다.

Description

소스 콜렉터 장치, 리소그래피 장치 및 방법{SOURCE COLLECTOR APPARATUS, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD}
관련 출원에 대한 상호 참조
본 출원은 2013년 4월 5일자로 출원된 미국 가특허 출원 번호 61/809,027의 이점을 주장하며, 이 특허 출원은 그 전체 내용이 원용에 의해 본 명세서에 통합되어 있다.
발명의 분야
본 발명은 특히 리소그래피 장치에 사용하기 위한 소스 콜렉터 장치와, 연료 액적 스트림(fuel droplet stream)에서의 위성 액적(satellite droplet)의 잠재적인 악영향을 감소시키기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.
리소그래피 장치는 기판 상에 통상적으로는 기판의 타겟 영역 상에 원하는 패턴을 부여하는 장치이다. 리소그래피 장치는 예컨대 집적회로(IC)의 제조시에 사용될 수 있다. 그 상황에서, 마스크 또는 레티클(reticle)로도 지칭되는 패터닝 장치가 집적회로의 개개의 층 상에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있으며, 이 패턴은 방사선 감응 재료(레지스트)의 층을 갖는 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼) 상의 타겟 영역(예컨대, 하나의 다이(die)의 일부분, 하나의 다이, 또는 여러 개의 다이를 포함) 상으로 이미징(imaging)될 수 있다. 일반적으로, 단일 기판은 연속적으로 노광되는 인접한 타겟 영역들의 네트워크를 포함할 것이다. 공지의 리소그래피 장치는, 타겟 영역 상에 전체 패턴을 한 번에 노광함으로써 각각의 타겟 영역을 조사(照射)하는 소위 스테퍼(stepper), 및 소정의 방향("스캐닝"-방향)의 방사선 빔을 통해 패턴을 스캐닝하는 동시에 이 방향과 평행한 방향(동일 방향으로 평행한 방향) 또는 역-평행 방향(반대 방향으로 평행한 방향)으로 기판을 스캐닝함으로써 각각의 타겟 영역을 조사하는 소위 스캐너를 포함한다. 또한, 기판 상에 패턴을 임프린트(imprint)함으로써 패터닝 장치로부터 기판으로 패턴을 전사할 수도 있다.
리소그래피는 집적회로 및 기타 소자 및/또는 구조체의 제조에서 핵심적인 단계 중의 하나로서 널리 인식되어 있다. 그러나, 리소그래피를 이용하여 이루어지는 특징부의 치수가 더욱 소형화됨에 따라, 리소그래피는 소형 집적회로 또는 기타 소자 및/또는 구조물이 제조될 수 있도록 하기 위한 더욱 중요한 요소가 되고 있다.
패턴 프린팅의 한계치의 이론적인 근사치는 수식 (1)에 나타낸 바와 같이 분해능에 대한 Rayleigh 기준에 의해 제공될 수 있다:
Figure 112015105951708-pct00001
(1)
여기서, λ는 사용된 방사선의 파장이며, NA는 패턴을 인쇄하기 위해 사용되는 투영 시스템의 개구도(numerical aperture)이며, k1은 Rayleigh 상수로도 지칭되는 프로세스 종속 조정 계수이며, CD는 인쇄된 특징부의 특징부 크기(또는 임계 치수)이다. 수식 (1)로부터, 특징부의 최소의 인쇄 가능한 크기의 감소는 3가지의 방법, 즉 노광 파장 λ를 짧게 하거나, 개구도 NA를 증가시키거나, 또는 k1의 값을 감소시킴으로써 달성될 수 있다는 것을 알 수 있다.
노광 파장을 단축시키고 그에 따라 최소 인쇄 가능한 크기를 감소시키기 위해, 극자외(EUV) 방사선 소스를 이용하는 것이 제안되어 있다. EUV 방사선은 5-20 nm 범위 내의, 예컨대 13-14 nm 범위 내의, 예컨대 6.7 nm 또는 6.8 nm와 같은 5-10 nm 범위 내의 파장을 갖는 전자기 방사선이다. 가능한 소스는 예컨대 레이저 생성 플라즈마 소스, 방전 플라즈마 소스, 또는 전자 축적 링(electron storage ring)에 의해 제공된 싱크로트론 방사선(synchrotron radiation)을 기반으로 하는 소스를 포함한다.
EUV 방사선은 플라즈마를 이용하여 발생될 수도 있다. EUV 방사선을 발생하기 위한 방사선 시스템은, 플라즈마를 제공하기 위해 연료(fuel)를 여기하기 위한 레이저와, 플라즈마를 담고 있기 위한 소스 콜렉터 모듈을 포함할 수 있다. 플라즈마는 예컨대 적합한 재료(예컨대, 주석)의 액적, 또는 Xe 가스 또는 Li 증기와 같은 적합한 가스 또는 증기의 스트림과 같은 연료에 레이저 빔을 지향시킴으로써 생성될 수 있다. 그 결과의 플라즈마는 방사선 콜렉터를 이용하여 수집되는 예컨대 EUV 방사선과 같은 출력 방사선을 방출한다. 방사선 콜렉터는 방사선을 수신하고 방사선을 빔으로 포커싱하는 미러형 수직 입사 방사선 콜렉터이어도 된다. 소스 콜렉터 모듈은 플라즈마를 지원하기 위해 진공 환경을 제공하도록 배치된 감쌈 구조물 또는 챔버(enclosing structure or chamber)를 포함할 수 있다. 이러한 방사선 시스템은 통상적으로 레이저 생성 플라즈마(laser produced plasma, LPP) 소스로 지칭된다.
연료 액적은 연료 액적 발생기를 통해 발생된다. 예컨대, 연료 액적은 압전 요소의 제어 하에서 모세관으로부터 방출될 수 있다. 최적의 성능을 위해, 연료 액적이 플라즈마 형성을 위한 정확한 크기의 액적으로 병합하는 것이 중요하며, 한 가지 알려진 문제점은 최적화되지 못한 액적 병합의 결과로 소형 액적 위성도 형성될 수 있다는 점이다. 전형적으로, 연료 액적은 대략 30 미크론의 직경을 가질 수 있는 반면 위성 액적은 대략 6 nm의 직경을 가질 수 있다. 이들 크기는 당연히 달라질 수도 있지만, 정규의 연료 액적과 원하지 않는 위성 액적의 상대적인 크기에 대한 지시를 제공한다. 이러한 위성 액적의 존재는 EUV 방사선의 발생을 방해할 수 있고, EUV 소스의 성능을 감소시킬 수 있다. 이러한 위성 액적의 존재의 추가의 단점은 EUV 소스가 마스터 오실레이터 파워(master oscillator power, MOPA) 구성으로 레이저를 포함한다면 위성 액적이 액적들 간의 착화(firing)에 의해 원하지 않는 EUV 발생을 야기할 수도 있다는 것이다.
위성 액적의 형성을 최소화하기 위해서는, 연료 액적 발생기의 작동 파라미터를 세밀하게 제어하여야 한다. 그러나, 작동 동안 연료 액적 발생기의 필요한 파라미터를 조정하는 것은 시간이 매우 많이 소요되는 공정인 것으로 판명되었다. 더욱이, 연료 액적 발생기의 파라미터를 조정하기 위한 필요성은 성능의 저하가 이미 발생한 때에서야 드러나게 될 수 있으며, 웨이퍼는 부적절한 노광으로 인해 이미 사용 불가능하게 되버린 상태이다.
본 발명의 양태에 따라, 예컨대 리소그래피 장치에 사용되도록 구성된 소스 콜렉터 장치를 제공하며, 상기 소스 콜렉터 장치는 연료 액적 발생기(fuel droplet generator) 및 가스 공급장치를 포함하며, 상기 연료 액적 발생기는 상기 연료 액적 발생기의 배출구로부터 플라즈마 형성 위치를 향하여 지향되는 연료 액적의 스트림을 발생하도록 구성되며, 상기 가스 공급장치는, 상기 연료 액적의 스트림을 향하여 지향되어 위성 액적을 연료 액적 스트림에서 멀어지게 편향시키는 가스의 흐름을 제공하도록 구성된다.
본 발명의 일실시예에서, 상기 소스 콜렉터 장치는 상기 연료 액적 스트림에 전반적으로 평행하게 연장되는 쉬라우드(shroud)를 더 포함하며, 상기 가스의 흐름은 상기 쉬라우드에 제공되거나 또는 상기 쉬라우드 가까이에 제공된 배출구로부터 연장된다.
상기 가스의 흐름은 단일 가스 스트림으로서 형성될 수 있거나 또는 복수의 개별 가스 스트림으로 형성될 수도 있다. 바람직하게는, 상기 가스의 흐름은 평면에 놓이며, 상기 연료 액적 스트림이 상기 평면에 전반적으로 수직을 이룬다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 가스의 흐름은, 사용 시에 임의의 상기 위성 액적이 연료 액적으로부터 플라즈마를 발생하기 위해 사용되는 레이저 빔을 통과하지 않도록 사용 시에 상기 위성 액적을 편향시키도록 구성된다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 소스 콜렉터 장치는 상기 연료 액적 스트림에서 상기 연료 액적의 병합(coalescence)을 검출하도록 구성 및 배열된 검출 장치를 더 포함한다. 상기 검출 장치는 예컨대 광학 검출 장치 또는 전자기 검출 장치이어도 된다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 검출 장치는 상기 쉬라우드의 일부분으로서 형성된다. 예컨대, 상기 검출 장치는, 상기 연료 액적 스트림의 제1 측면 쪽에 배치된 복수의 광원과, 상기 연료 액적 스트림의 반대측 제2 측면 쪽에 배치된 대응하는 복수의 검출기를 포함할 수 있다. 이와 달리, 상기 검출 장치는 상기 연료 액적 스트림 주위에 배치된 제1 및 제2 전자기 센서를 포함할 수도 있다. 상기 센서는 상기 쉬라우드의 일부분으로서 형성될 수도 있다.
본 발명의 또 다른 양태에 따라, 예컨대 리소그래피 장치에 사용되도록 구성된 소스 콜렉터 장치를 제공하며, 상기 소스 콜렉터 장치는 연료 액적 발생기, 쉬라우드, 및 검출 장치를 포함하며, 상기 연료 액적 발생기는 상기 연료 액적 발생기의 배출구로부터 플라즈마 형성 위치를 향하여 지향되는 연료 액적의 스트림을 발생하도록 구성되며, 상기 쉬라우드는 상기 연료 액적의 스트림을 보호하도록 구성 및 배열되며, 상기 검출 장치는 상기 연료 액적 스트림이 상기 쉬라우드를 따라 통과하는 때에 상기 연료 액적 스트림에서의 연료 액적의 병합을 검출하도록 구성 및 배열된다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 검출 장치는 상기 쉬라우드에 통합된다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 검출 장치는 광학 검출 장치 또는 전자기 검출 장치이다. 예컨대, 상기 검출 장치는, 상기 연료 액적 스트림의 제1 측면 쪽에 배치된 복수의 광원과, 상기 연료 액적 스트림의 반대측 제2 측면 쪽에 배치된 대응하는 복수의 검출기를 포함할 수 있다. 또 다른 실시예에서, 상기 검출 장치는 상기 연료 액적 스트림 주위에 배치된 제1 및 제2 전자기 센서를 포함할 수도 있다.
본 발명의 또 다른 양태에 따라, 전술한 바와 같은 소스 콜렉터 장치를 포함하는 리소그래피 장치가 제공되며, 상기 리소그래피 장치는, 방사선 빔을 조절하도록 구성된 조명 시스템, 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하여 패터닝된 방사선 빔을 형성할 수 있는 패터닝 장치를 지지하도록 구성된 지지체, 기판을 유지하도록 구성된 기판 테이블, 및 패터닝된 방사선 빔을 기판의 타겟 영역 상으로 투영하도록 구성된 투영 시스템을 더 포함한다.
본 발명의 다른 양태에 따라, 소스 콜렉터 장치의 연료 액적 스트림으로부터 위성 액적을 제거하는 방법으로서, 상기 연료 액적 스트림이 제1 방향으로 연장하며, 상기 방법은, 연료 액적에 비하여 제2 방향으로 위성 액적에 차동 속도(differential velocity)를 부여하기 위해 상기 연료 액적 스트림을 향하여 가스의 흐름을 지향시키는 단계를 포함하는, 연료 액적 스트림으로부터 위성 액적을 제거하는 방법을 제공한다.
본 발명의 다른 양태에 따라, 소스 콜렉터 장치의 연료 액적 스트림에서의 위성 액적의 형성을 검출하는 방법으로서, 상기 연료 액적 스트림이 연료 액적 발생기에 의해 발생되고, 상기 연료 액적 스트림이 쉬라우드에 의해 보호되며, 상기 방법은, 연료 액적의 병합이 발생하는 상기 쉬라우드에서의 위치를 검출하기 위한 장치를 제공하는 단계를 포함하는, 연료 액적 스트림에서의 위성 액적의 형성을 검출하는 방법을 제공한다.
본 발명의 하나 이상의 양태는, 당업자에게 적절한 경우에는, 본 명세서에 개시된 하나 이상의 다른 양태 및/또는 본 명세서에 개시된 임의의 하나 이상의 특징과 조합될 수도 있다.
본 발명의 추가의 특징 및 장점과 본 발명의 다양한 실시예의 구조 및 동작은 첨부 도면을 참조하여 이하에서 더욱 상세하게 설명되어 있다. 본 발명은 본 명세서에 개시된 구체적인 실시예로 한정되지 않는다는 것에 유의하기 바란다. 이러한 실시예는 본 명세서에서는 단지 예시를 위해서 제공된 것이다. 본 명세서에 포함된 교시에 기초하여 추가의 실시예가 가능하다는 것은 당업자에게는 명백할 것이다.
이하에서는, 본 발명의 실시예를 대응하는 부분에 대응하는 도면 부호가 부여되어 있는 첨부된 개략 도면을 참조하여 단지 예시를 목적으로 설명할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시하고 있다.
도 2는 리소그래피 장치의 보다 상세한 개략도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예의 개략도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예의 개략도이다.
도 5의 (a)와 (b)는 각각 본 발명의 다른 실시예의 개략도와 검출된 신호의 예를 도시하고 있다.
본 발명의 특징 및 장점은 도면 전반에 걸쳐 동일한 도면 부호가 대응하는 구성요소를 나타내고 있는 첨부 도면을 참조하여 이하의 상세한 설명으로부터 더욱 명백하게 될 것이다. 도면에서, 동일한 유사한 도면 부호는 일반적으로 동일하거나, 기능적으로 유사하거나, 및/또는 구조적으로 유사한 구성요소를 나타낸다. 해당 도면 부호의 가장 좌측의 숫자는 그 구성요소가 최초로 도시되고 있는 도면을 나타낸다.
본 명세서는 본 발명의 특징을 통합하고 있는 하나 이상의 실시예를 개시하고 있다. 개시된 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이다. 본 발명의 범위는 개시된 실시예로 한정되지 않으며, 본 발명은 본 명세서에 첨부된 청구항들에 의해 정해진다.
개시된 실시예 및 본 명세서에서의 "일실시예", "실시예", "일례의 실시예" 등으로의 지칭은 개시된 실시예가 특정한 특징, 구조 또는 특성을 포함할 수 있지만, 모든 실시예가 이러한 특정한 특징, 구조 또는 특성을 반드시 포함할 필요는 없다는 것을 나타낸다. 더욱이, 이러한 표현은 반드시 동일한 실시예를 지칭하는 것은 아니다. 또한, 특정한 특징, 구조 또는 특성이 실시예에 관련하여 설명되는 때에, 명시적으로 설명되어 있는지의 여부에 상관없이 다른 실시예와 관련하여 이러한 특징, 구조 또는 특성이 이루어지도록 하는 것은 당업자의 지식 내에 있다는 것을 이해할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 소스 콜렉터 장치(SO)를 포함하는 리소그래피 장치(100)를 개략적으로 도시하고 있다. 본 리소그래피 장치는 이하의 구성요소를 포함한다:
방사선 빔(B, EUV 방사선)을 조절하도록 구성된 조명 시스템(조명기)(IL);
패터닝 장치(예컨대, 마스크 또는 레티클)(MA)를 지지하도록 구성되고, 또한 패터닝 장치(MA)를 정확히 위치시키도록 구성된 제1 위치 설정기(PM)에 연결된 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT);
기판(예컨대, 레지스트가 코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 구성되고, 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제2 위치 설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(예컨대, 웨이퍼 테이블)(WT); 및
패터닝 장치(MA)에 의해 방사선 빔(B)에 부여한 패턴을, 기판(W)의 타겟 영역(C)(예컨대, 하나 이상의 다이를 포함하는) 상에 투영하도록 구성된 투영 시스템(예컨대, 반사 투영 시스템)(PS).
조명 시스템은 방사선을 지향, 성형 또는 제어하기 위한 굴절식, 반사식, 자기식, 전자기식, 정전식, 다른 형태의 광학 요소, 또는 이들의 임의의 조합과 같은 다양한 형태의 광학 요소들을 포함할 수 있다.
지지 구조체(MT)는 패터닝 장치의 배향, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예컨대 패터닝 장치가 진공 분위기에 유지되는지의 여부와 같은 기타 조건들에 좌우되는 방식으로 패터닝 장치(MA)를 유지한다. 지지 구조체(MT)는 패터닝 장치를 유지하기 위해 기계식, 진공식, 정전식, 또는 기타 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 지지 구조체(MT)는 예컨대 필요에 따라 고정되거나 이동시킬 수 있는 프레임(frame) 또는 테이블일 수도 있다. 지지 구조체는 패터닝 장치가 예컨대 투영 시스템에 대하여 요구된 위치에 있도록 할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "패터닝 장치"라는 용어는, 기판의 타겟 영역에 패턴을 생성하기 위하여 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하기 위해 사용될 수 있는 모든 디바이스를 지칭하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적회로와 같은 타겟 영역 내에 생성되고 있는 디바이스에서의 특정 기능층에 대응할 것이다.
패터닝 장치는 투과형 또는 반사형 모두 가능하다. 패터닝 장치의 예로는 마스크, 프로그래머블 미러 어레이, 및 프로그래머블 LCD 패널을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리형, 교번 위상 반전형 및 감쇠 위상 반전형과 같은 마스크 타입뿐만 아니라 다양한 하이브리드 마스크 타입들을 포함한다. 프로그래머블 미러 어레이의 예는 소형 미러들의 매트릭스 배열을 채용하며, 그 각각의 미러들은 인입되는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 경사지는 것이 가능하다. 경사진 미러들은 미러 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.
투영 시스템은, 조명 시스템과 마찬가지로, 이용되고 있는 노광 방사선에 대하여 적합하거나 또는 진공의 사용과 같은 다른 요인들에 대하여 적합하다면, 굴절식, 반사식, 자기식, 전자기식, 정전식 또는 다른 형태의 광학 요소, 또는 이들의 임의의 조합과 같은 다양한 형태의 광학 요소를 포함할 수 있다. 다른 가스들이 너무 많은 방사선을 흡수할 수도 있으므로 EUV 방사선을 위한 진공을 이용하는 것이 요망될 수도 있다. 따라서, 진공 벽부 및 진공 펌프를 이용하여 전체 빔 경로에 진공 분위기가 제공될 수도 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 리소그래피 장치는 반사형의 것(예컨대, 반사형 마스크를 채용함)이다.
리소그래피 장치는 예컨대 2개(듀얼 스테이지) 또는 그보다 많은 기판 테이블(및/또는 2개 이상의 마스크 테이블)을 갖는 타입의 것이어도 된다. 이러한 "복수 스테이지" 기계에서는, 추가의 테이블을 병행하여 사용할 수 있거나, 또는 하나 이상의 테이블 상에서 예비 단계를 수행하면서 다른 하나 이상의 테이블을 노광용으로 사용하는 것이 가능하다.
도 1을 참조하면, 조명기(IL)는 소스 콜렉터 장치(SO)로부터 극자외 방사선 빔을 수광한다. EUV 방사선을 발생하는 방법은, 반드시 이러한 것으로 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 크세논, 리튬 또는 주석 등의 적어도 하나의 원소를 갖는 재료를 EUV 범위의 하나 이상의 방출선(emission line)으로 플라즈마 상태로 변환하는 단계를 포함한다. 레이저 생성 플라즈마(laser produced plasma, LPP)로 지칭되기도 하는 한 가지 이러한 방법에서, 원하는 플라즈마는 예컨대 원하는 선-발광 원소(line-emitting element)를 갖는 재료의 액적(droplet), 스트림 또는 클러스터와 같은 연료(fuel)를 레이저 빔으로 조사함으로써 발생될 수 있다. 소스 콜렉터 장치(SO)는 연료를 여기하기 위한 레이저 빔을 제공하기 위해, 도 1에 도시되지 않은, 레이저를 포함하는 EUV 방사선 시스템의 일부분이어도 된다. 그 결과의 플라즈마는 소스 콜렉터 장치에 배치된 방사선 콜렉터를 이용하여 수집되는 예컨대 EUV 방사선과 같은 출력 방사선을 방출한다. 레이저 및 소스 콜렉터 장치는 예컨대 연료 여기를 위한 레이저 빔을 제공하기 위해 CO2 레이저가 사용되는 때에는 별도의 구성요소일 수도 있다.
이러한 경우, 레이저는 리소그래피 장치의 일부를 형성하는 것으로 간주되지 않으며, 레이저 빔은 예컨대 적합한 지향 미러 및/또는 빔 확장기를 포함하는 빔 전달 시스템을 이용하여 레이저로부터 소스 콜렉터 장치로 통과된다.
조명기(IL)는 방사선 빔의 각도 세기 분포(angular intensity distribution)를 조정하도록 구성된 조정기를 포함할 수 있다. 일반적으로, 조명기의 퓨필 평면(pupil plane) 내의 세기 분포의 적어도 외측 반경 및/또는 내측 반경 범위(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 조명기(IL)는 퍼싯 필드 및 퓨필 미러 장치(facetted field and pupil mirror device)와 같은 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수 있다. 조명기는 방사선 빔의 단면에서 요구된 균일성 및 세기 분포를 갖도록 방사선 빔을 조절하는데 사용될 수 있다.
방사선 빔(B)은 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT) 상에 유지되어 있는 패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA) 상에 입사되며, 패터닝 장치(MA)에 의해 패터닝된다. 패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA)로부터 반사된 후, 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하고, 투영 시스템(PS)은 방사선 빔을 기판(W)의 타겟 영역(C) 상에 집속시킨다. 제2 위치 설정기(PW) 및 위치 센서(PS2)(예컨대, 간섭계 디바이스, 선형 인코더, 또는 용량형 센서)를 이용하여, 예컨대 방사선 빔(B)의 경로 내에 상이한 타겟 영역(C)을 위치시키기 위해 기판 테이블(WT)을 정확하게 이동시킬 수 있다. 마찬가지로, 제1 위치 설정기(PM) 및 또 다른 위치 센서(PS1)를 이용하여 방사선 빔(B)의 경로에 대하여 패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA)를 정확히 위치시키는 것이 가능하다. 패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA) 및 기판(W)은 마스크 정렬 마크(M1, M2) 및 기판 정렬 마크(P1, P2)를 이용하여 정렬될 수 있다.
도시된 장치는 다음 모드들 중 하나 이상의 모드로 사용될 수 있다:
1. 스텝 모드에서는, 지지 구조체(에컨대, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WT)을 기본적으로 정지 상태로 유지한 채로, 방사선 빔(B)에 부여한 패턴 전체를 한 번에 타겟 영역(C) 상에 투영한다(즉, 단일 정지 노광). 그리고나서, 상이한 타겟 영역(C)이 노광될 수 있도록 기판 테이블(WT)을 X 방향 및/또는 Y 방향으로 이동시킨다.
2. 스캔 모드에서는, 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT) 및 기판 테이블(WT)을 동기적으로 스캐닝하면서, 방사선 빔(B)에 부여한 패턴을 타겟 영역(C) 상에 투영한다(즉, 단일 동적 노광). 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT)에 대한 기판 테이블(WT)의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대율(축소율) 및 상 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다.
3. 또 다른 모드에서는, 프로그래머블 패터닝 장치를 유지한 채로 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT)를 기본적으로 정지 상태로 하고, 또한 기판 테이블(WT)을 이동시키거나 스캐닝하면서, 방사선 빔에 부여한 패턴을 타겟 영역(C) 상에 투영한다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스 방사선 소스가 채용되며, 프로그래머블 패터닝 장치는 기판 테이블(WT)의 각각의 이동 후에 또는 스캔 동안의 연속적인 방사선 펄스의 사이에서 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급한 바와 같은 타입의 프로그래머블 미러 어레이와 같은 프로그래머블 패터닝 장치를 이용하는 마스크 없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.
또한, 전술한 사용 모드들 또는 전혀 다른 사용 모드들의 조합 및/또는 변형이 채용될 수도 있다.
도 2는 소스 콜렉터 모듈(SO), 조명 시스템(IL), 및 투영 시스템(PS)을 포함하는 장치(100)를 보다 상세하게 도시하고 있다. 소스 콜렉터 모듈(SO)은 소스 콜렉터 모듈(SO)의 감쌈 구조물(220)에 진공 분위기가 유지될 수 있도록 구성되고 배치된다. EUV 방사선 방출 플라즈마(210)가 레이저 생성 플라즈마(LPP) 소스에 의해 형성될 수 있다. EUV 방사선은 온도가 매우 높은 플라즈마(210)가 전자기 스펙트럼의 EUV 범위에서 방사선을 방출하기 위해 생성되는 예컨대 Xe 가스, Li 증기 또는 Sn 증기와 같은 가스 또는 증기에 의해 발생될 수 있다. 아래에 더욱 상세하게 논의되는 바와 같이, 레이저 생성 플라즈마(LPP) 소스의 경우에, 온도가 매우 높은 플라즈마(210)는 레이저(LA)를 레이저 방사선의 빔(205)을 방출하도록 구성함으로써 생성되며, 이 레이저 방사선의 빔은 제1 연료 공급장치로부터 예컨대 주석(Sn)의 액적과 같은 제1 연료가 공급되는 타겟 영역(211) 상에 포커싱된다. 레이저는 본 기술 분야에 공지된 바와 같이 EUV 방사선을 방출하는 Sn 증기의 플라즈마를 발생한다.
소스 콜렉터 모듈(SO)은 또한 발생된 EUV 방사선을 수집하고 EUV 방사선을 가상 소스 포인트(IF)에 포커싱하는 방사선 콜렉터(CO)를 포함한다. 가상 소스 포인트(IF)는 흔히 중간 포커스로서 지칭되며, 소스 콜렉터 모듈은 중간 포커스(IF)가 감쌈 구조물(220)의 개구부(221)에 위치되거나 또는 개구부(221) 가까이에 위치되도록 배열된다. 가상 소스 포인트(IF)는 방사선 방출 플라즈마(210)의 상(image)이다.
후속하여, 방사선은 조명 시스템(IL)을 가로지르며, 조명 시스템(IL)은 패터닝 장치(MA)에서의 방사선 빔(21)의 요구된 각도 분포뿐만 아니라 패터닝 장치(MA)에서의 방사선 세기의 요구된 균일성을 제공하도록 배열된 퍼싯 필드 미러 장치(facetted field mirror device)(22) 및 퍼싯 퓨필 미러 장치(facetted pupil mirror device)(24)를 포함할 수 있다. 지지 구조체(MT)에 의해 유지된 패터닝 장치(MA)에서의 방사선 빔(21)의 반사 시에, 패터닝된 빔(26)이 형성되고, 패터닝된 빔(26)이 투영 시스템(PS)에 의해 반사성 요소(28, 30)를 거쳐 웨이퍼 스테이지 또는 기판 테이블(WT)에 의해 유지된 기판(W) 상으로 이미징된다.
도 3을 참조하면, 연료 액적 발생기(4) 및 쉬라우드(shroud)(5)를 포함하는 방사선 소스(SO)의 부분이 보다 상세하게 도시되어 있다. 연료 액적 발생기(4)는 플라즈마 형성 포인트(7)를 향해 지향되는 연료 액적(6)(예컨대, 용융된 주석의 액적)의 스트림을 발생하도록 구성되며, 이 플라즈마 형성 포인트(7)는 펄스 레이저 빔(8)의 초점에 있고, 이 곳에서 연료 액적이 EUV-발생 플라즈마를 형성하도록 펄스 레이저 빔(8)에 의해 증발된다.
연료 액적(6)과 함께, 연료 액적의 불완전한 병합으로 발생되는 위성 액적으로서 알려진 매우 작은 연료 단편(fuel fragment)이 발생될 수도 있다. 일례로서, 연료 액적은 약 30 미크론의 전형적인 직경을 가질 수 있는 반면, 위성 액적은 단지 6 미크론의 전형적인 직경을 가질 수 있다. 이러한 위성 액적의 존재는EUV 발생에 악영향을 가지며, 위성 액적의 발생이 작동 파라미터의 조정에 의해 최소화될 수도 있지만, 액적 발생기 파라미터를 조정하여야만 하는 요구는 전술한 바와 같이 불편할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 적어도 하나의 배출구(9)를 갖는 가스(예컨대, 수소 가스)의 공급장치가 쉬라우드(5)에 제공되며, 이 배출구로부터 가스가 액적 스트림을 향하여 화살표 A로 나타낸 방향으로 지향된다. 도 3의 실시예에서, 수소는 쉬라우드의 말단부로부터 레이저 빔의 축에 전반적으로 평행한 Z 방향으로 공급된다. 수소 가스의 작용은 도 3에 도시된 바와 같이 연료 액적 스트림을 편향시키는 것이며, 특히 수소 가스가 더 낮은 질량의 위성 액적에 대해 더 큰 변위 작용을 가질 것이기 때문에 더 작은 위성 액적이 더 큰 거리로 변위될 것이다. 그러므로, 위성 액적이 레이저 빔을 여전히 교차하더라도, 위성 액적은 플라즈마 형성 위치에서는 레이저 빔을 교차하지 않을 것이며, 플라즈마 형성 및 EUV 발생을 방해하지 않을 것이거나 또는 훨씬 더 적은 정도로만 방해할 것이라는 것을 이해할 것이다. 또한, 수소는 예컨대 레이저 빔의 축에 대해 직각인 y축과 같이 상이한 방향으로 흐르도록 제공되고, 이에 의해 위성 액적의 편향은 위성 액적이 레이저 빔을 전혀 통과하지 않도록 이루어질 수 있다는 것을 이해할 것이다.
도 3의 실시예에서, 수소 가스는 연료 액적 발생기로부터 떨어져 있는 쉬라우드의 말단부에 제공된 배출구로부터 공급된다. 그러나, 배출구는 쉬라우드의 길이를 따라 어느 위치에도 제공될 수 있고, 실제로 하나보다 많은 배출구가 제공될 수 있거나, 쉬라우드의 길이를 따라 연장하는 슬릿형 배출구(slit-like outlet)가 제공될 수도 있다는 것을 이해할 것이다.
수소 흐름 속도는 위성 액적이 EUV 발생을 방해하지 않도록 하기에 충분한 범위만큼 연료 액적에 대하여 변위되도록 하기 위한 정도이어야 한다. 이 거리는 위성 액적이 완전히 레이저 빔 밖으로(즉, y 방향으로) 변위되는지 아니면 레이저 빔을 따라(즉, z 방향으로) 변위되는지의 여부에 따라 변할 수도 있지만, 전형적으로는 200 미크론 정도의 거리가 적합할 것이다. 이것은 예컨대 20 cm의 거리에 걸쳐 약 1 m/s의 연료 액적에 대한 차동 속도(differential velocity)를 위성 액적에 가함으로써 달성될 수 있다.
또한, 위성 액적은 액적 조명 모듈(droplet illumination module) 또는 액적 검출 모듈을 이용하여 더 낮은 세기 신호로서(또는 추가의 쿼드 검출기(quad detector)를 이용함으로써) 위성 액적과 연료 액적 스트림 간의 오프셋을 검출함으로써 검출될 수 있다는 것에 유의하기 바란다. 이러한 방식에서, 위성 액적이 충분한 거리로 편향되었다는 것이 확인될 수 있다.
도 3의 실시예에서, 어떠한 위성 액적의 영향도 차동 속도를 적용하여 위성 액적을 연료 액적 스트림으로부터 변위시킴으로써 최소화된다. 그러나, 위성 액적의 존재를 검출하기 위한 장치를 제공하여, 연료 액적 발생기의 작동 파라미터를 위성 액적 형성을 최소화하도록 조정할 수 있는 것이 바람직할 수도 있다. 이러한 검출 장치는 예컨대 광학 기술 및 전자기 기술을 포함한 연료 액적 스트림을 검출하고 특징화하기 위한 어떠한 적합한 기술도 사용할 수 있다. 이러한 실시예의 예가 도 4에 도시되어 있다.
도 4의 실시예에서, 쉬라우드(5)의 길이를 따라 액적의 병합을 모니터링하기 위한 장치가 통합되어 있다. 연료 액적이 더 앞쪽의 스테이지에서 병합되는 때에, 위성 액적의 최소의 생성으로 연료 액적 스트림의 안정성이 더 좋아지는 반면, 연료 액적 병합이 나중에 발생하면, 위성 액적이 형성될 가능성이 더 커진다. 따라서, 쉬라우드를 따라 어느 포인트에서 병합이 발생할지에 대한 결정은 위성 액적이 형성될 가능성에 대한 양호한 지시를 제공한다.
도 4의 실시예에서, 쉬라우드(5)는 연료 액적 스트림을 사이에 두고 서로 마주보고 있는 2개의 표면을 갖는다. 따라서, 쉬라우드(5)는 연료 액적 스트림을 완전하게 둘러싸는 관형 쉬라우드(tubular shroud)일 수 있거나, 또는 3개의 면을 갖는 C자형 쉬라우드일 수도 있다. 쉬라우드(5)의 한 면을 따라 LED 레이저(10)의 어레이가 제공되는 한편, 반대쪽 면을 따라서는 검출기(11)의 대응하는 어레이가 제공된다. 연료 액적 스트림의 존재 및 특징은 연료 액적 스트림이 LED 레이저로부터 방출된 방사선의 검출을 가로막는 타이밍 및 양상에 의해 검출될 수 있다는 것을 이해할 것이다. "양호한" 연료 액적 스트림은 연료 액적이 스트림에서 일찍, 즉 연료 액적 발생기의 배출구 노즐에 근접하여, 병합하는 경우의 연료 액적 스트림일 것이다. "좋지 않은" 연료 액적 스트림은 연료 액적이 연료 액적 발생기의 노즐 배출구로부터 훨씬 더 하류측에서 유일하게 병합하는 경우의 연료 액적 스트림일 것이다. 연료 액적이 노즐 배출구로부터 하류측에 있는 쉬라우드의 말단부에 근접하여 유일하게 병합하는 것으로 검출 장치가 검출하면, 연료 액적 발생기의 작동 파라미터가 그에 따라 조정될 수 있다.
도 5의 (a) 및 (b)는 위성 액적의 존재를 검출하기 위해 전자기 유도가 이용되는 본 발명의 실시예를 도시하고 있다. 관형 쉬라우드(5)의 단면을 보여주고 있는 도 5의 (a)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 이 실시예에서는, 2개의 전자기 센서(20, 21)가 서로 90°의 각도(이 특정 각도는 필수적인 것은 아니며, 다른 각도가 선택될 수도 있음)로 배향되어 있다. 센서(20, 21) 사이의 연료 액적의 존재는 검출되는 전자기장을 변화시키며, 그러므로 센서(20, 21)에 의해 출력된 신호는 연료 액적의 존재를 검출하기 위해 이용될 수 있다. 센서(20, 21)는 쉬라우드를 따라 어떠한 포인트에도 제공될 수 있거나, 실제로 복수의 쌍의 센서가 쉬라우드를 따라 상이한 위치에 제공될 수도 있다는 것을 이해할 것이다. 이 실시예의 특별한 장점은, 연료 액적 병합에 관한 정보를 제공한다는 것에 부가하여, 센서가 또한 도 5의 (b)에 도시된 일례의 검출 신호에 의해 나타낸 바와 같이 연료 액적 및 임의의 단편적인 위성 액적의 위치에 관한 정보를 제공할 수 있다는 점이다. 도면의 좌측편으로부터, 4개의 예의 신호는, 각각 양호한 병합을 갖는 연료 액적, Z 또는 Y 방향으로 변위된 평행한 단편, X 방향으로 위성 액적을 갖는 연료 액적, 및 Y 방향으로 시프트된 액적을 보여준다.
도 4 및 도 5의 실시예에서, 연료 액적 병합을 검출하기 위한 장치가 쉬라우드의 일부분으로서 형성되어 있지만, 이것은 특히 예컨대 C자형 횡단면을 갖는 쉬라우드와 같이 쉬라우드가 적어도 부분적으로 개방되면 반드시 그러할 필요는 없으며, 그 경우 연료 액적이 병합하는 쉬라우드를 따른 위치를 검출하기 위해 액적 검출 모듈이 사용될 수 있다는 것을 이해할 것이다.
연료 액적 스트림으로부터 떨어져 있는 위성 액적을 검출하는 것과 연료 액적 스트림에서 연료 액적 병합이 발생하는 때를 결정하는 것은 조합하여 채용될 수도 있고 또는 독립적으로 채용될 수도 있다는 것을 이해할 것이다.
본 명세서에서는, 집적회로(IC)의 제조에 있어서 리소그래피 장치의 사용예에 대해 특정하게 언급하였지만, 본 명세서에서 설명된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리(magnetic domain memory)용 유도 및 검출 패턴, 평판 디스플레이, 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드 등의 제조와 같은 기타 응용예들을 가질 수 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 다른 응용예의 맥락에서, 본 명세서에서 사용된 "웨이퍼" 또는 "다이"라는 용어의 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟 영역"과 같은 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은, 노광 전후에, 예컨대 트랙(전형적으로 기판에 레지스트층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 장치), 계측 장비, 및/또는 검사 장비에서 처리될 수 있다. 적용 가능한 곳에서는, 상기한 기판 처리 장치와 여타 기판 처리 장치에 본 명세서의 개시 내용을 적용할 수 있다. 또한, 예컨대 다층 집적회로를 생성하기 위하여 기판이 복수 회 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 여러 번 처리된 층들을 이미 포함하고 있는 기판을 지칭할 수도 있다.
위에서는 광학 리소그래피의 맥락에서 본 발명의 실시예를 이용하는 것을 구체적으로 언급하였을 수도 있지만, 본 발명은 예컨대 임프린트 리소그래피와 같은 다른 어플리케이션에도 이용될 수 있으며, 문맥이 허용하는 곳에서는 광학 리소그래피로 한정되지 않는다는 것을 이해할 것이다. 임프린트 리소그래피에서는, 패터닝 장치에서의 토포그래피는 기판 상에 생성되는 패턴을 규정한다. 패터닝 장치의 토포그래피는 기판에 공급되는 레지스트의 층으로 프레스될 수 있으며, 그러므로 이 레지스트가 전자기 방사선, 열, 압력 또는 이들의 조합을 가함으로써 경화된다. 패터닝 장치가 레지스트에서 멀어지게 이동됨에 따라 레지스트에 패턴이 잔류하게 되며, 그 후 레지스트가 경화된다.
본 명세서에서는 리소그래피 장치에서의 정전 클램프의 사용을 구체적으로 참조하였지만, 본 명세서에 설명된 정전 클램프는 마스크 검사 장치, 웨이퍼 검사 장치, 공간 이미지 계측 장치(aerial image metrology apparatus), 및 보다 일반적으로는 예컨대 플라즈마 에칭 장치 또는 증착 장치에서와 같은 진공 또는 주변(비진공) 상태 중의 하나에서 웨이퍼(또는 기타 기판) 또는 마스크(또는 기타 패터닝 장치)와 같은 물체를 측정하거나 처리하는 임의의 장치에서 사용하는 것과 같은 기타 응용예를 가질 수 있다.
본 명세서에 사용된 "방사선" 및 "빔"이라는 용어는, 이온 빔 또는 전자 빔과 같은 하전 입자의 빔뿐만 아니라 자외(UV) 방사선(예컨대, 365, 355, 248, 193, 157 또는 126 nm의 파장 또는 그 부근의 파장을 가짐) 및 극자외(EUV) 방사선(예컨대, 5-20 nm 범위의 파장을 가짐)을 포함하는 모든 형태의 전자기 방사선을 포괄한다.
문맥이 허용하는 곳에서의 "렌즈"라는 용어는 굴절식, 반사식, 자기식, 전자기식, 및 정전식 광학 요소들을 포함하는 다양한 타입의 광학 요소들 중 어느 하나 또는 그 조합을 지칭할 수도 있다.
이상에서 본 발명의 특정 실시예들이 설명되었지만, 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 본 명세서 내의 개시 내용은 본 발명을 한정하려는 것이 아니다.

Claims (14)

  1. 소스 콜렉터 장치로서,
    연료 액적 발생기(fuel droplet generator) 및 가스 공급장치를 포함하며,
    상기 연료 액적 발생기는 상기 연료 액적 발생기의 배출구로부터 플라즈마 형성 위치를 향하여 지향되는 연료 액적의 스트림을 발생시키도록 구성되며,
    상기 가스 공급장치는 상기 연료 액적의 스트림을 향하여 지향되는 가스의 흐름을 제공하도록 구성되어, 연료 액적 스트림 내의 완전 병합된 연료 액적이 제1 변위량으로 편향되는 반면 연료 액적 스트림 내에서 보다 작은 직경을 갖는 위성 액적(satellite droplet)은 제1 변위량보다 큰 제2 변위량으로 편향됨으로써, 위성 액적이 연료 액적 스트림으로부터 벗어나도록 편향되는, 소스 콜렉터 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 연료 액적 스트림에 전반적으로 평행하게 연장되는 쉬라우드(shroud)를 더 포함하며,
    상기 가스의 흐름은 상기 쉬라우드에 제공되거나 또는 상기 쉬라우드 가까이에 제공된 배출구로부터 연장되는,
    소스 콜렉터 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 가스의 흐름은 복수의 개별 가스 스트림으로 형성되는, 소스 콜렉터 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 가스의 흐름은 평면에 놓이며, 상기 연료 액적 스트림이 상기 평면에 전반적으로 수직을 이루는, 소스 콜렉터 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 가스의 흐름은, 연료 액적으로부터 플라즈마를 발생시키기 위해 사용되는 레이저 빔의 사용 시에 임의의 위성 액적이 상기 레이저 빔을 통과하지 않도록 상기 위성 액적이 편향되게 하도록 구성되는, 소스 콜렉터 장치.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 연료 액적 스트림에서 상기 연료 액적의 병합(coalescence) 정도를 검출하도록 구성 및 배열된 검출 장치를 더 포함하는, 소스 콜렉터 장치.
  7. 연료 액적 발생기, 쉬라우드, 및 검출 장치를 포함하며,
    상기 연료 액적 발생기는 상기 연료 액적 발생기의 배출구로부터 플라즈마 형성 위치를 향하여 지향되는 연료 액적의 스트림을 발생시키도록 구성되며,
    상기 쉬라우드는 상기 연료 액적의 스트림을 보호하도록 구성 및 배열되며,
    상기 검출 장치는 상기 연료 액적 스트림이 상기 쉬라우드를 따라 통과할 때에 상기 연료 액적 스트림에서의 연료 액적의 병합 정도 및 위성 액적의 존재를 검출하도록 구성 및 배열되는,
    소스 콜렉터 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 검출 장치는 상기 쉬라우드에 통합되는, 소스 콜렉터 장치.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    상기 검출 장치는 광학 검출 장치 또는 전자기 검출 장치인, 소스 콜렉터 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 검출 장치는, 상기 연료 액적 스트림의 제1 측면 쪽에 배치된 복수의 광원과, 상기 연료 액적 스트림의 반대측 제2 측면 쪽에 배치된 대응하는 복수의 검출기를 포함하는, 소스 콜렉터 장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 검출 장치는 상기 연료 액적 스트림 주위에 배치된 제1 및 제2 전자기 센서를 포함하는, 소스 콜렉터 장치.
  12. 제1항, 제2항, 제4항, 제5항, 제7항 또는 제8항의 소스 콜렉터 장치를 포함하는 리소그래피 장치.
  13. 소스 콜렉터 장치의 연료 액적 스트림으로부터 위성 액적을 제거하는 방법으로서, 상기 연료 액적 스트림이 제1 방향으로 연장되며,
    상기 방법은, 연료 액적에 비하여 제2 방향으로 위성 액적에 차동 속도(differential velocity)를 부여하기 위해 상기 연료 액적 스트림을 향하여 가스의 흐름을 지향시켜, 연료 액적 스트림 내의 완전 병합된 연료 액적이 제1 변위량으로 편향되는 반면 연료 액적 스트림 내에서 보다 작은 직경을 갖는 위성 액적은 제1 변위량보다 큰 제2 변위량으로 편향되도록 함으로써, 위성 액적이 연료 액적 스트림으로부터 벗어나도록 편향되게 하는 단계를 포함하는, 연료 액적 스트림으로부터 위성 액적을 제거하는 방법.
  14. 소스 콜렉터 장치의 연료 액적 스트림에서의 위성 액적의 형성을 검출하는 방법으로서, 상기 연료 액적 스트림이 연료 액적 발생기에 의해 발생되고, 상기 연료 액적 스트림이 쉬라우드에 의해 보호되며,
    상기 방법은, 연료 액적의 병합이 발생하는 상기 쉬라우드에서의 위치 및 위성 액적의 존재를 검출하기 위한 장치를 제공하는 단계를 포함하되, 상기 검출하기 위한 장치는 쉬라우드를 따라 연료 액적 스트림이 연장되는 방향으로 배열된 복수의 검출기를 포함하는, 연료 액적 스트림에서의 위성 액적의 형성을 검출하는 방법.
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