KR102186935B1 - 고주파 전원 시스템에 설치되는 임피던스 정합장치 - Google Patents

고주파 전원 시스템에 설치되는 임피던스 정합장치 Download PDF

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아츠시 카츠야
켄타 나카무라
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가부시키가이샤 아도테쿠 프라즈마 테쿠노로지
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Abstract

부하의 임피던스가 연속적으로 변화되었을 경우에 있어서도, 고주파 전원과 부하 사이의 임피던스 부정합을 조기에 개선할 수 있는 임피던스 정합장치를 제공한다. 본 발명에 따른 임피던스 정합장치는 기계적으로 정수가 변경되는 정합기를 통해서 고주파 전원의 출력을 부하에 공급하도록 구성된 고주파 전원 시스템에 설치되고, 고주파 전원과 부하 사이에서의 정합상태를 나타내는 정합상태값을 취득하는 정합상태값 취득부와, 정합상태값에 의거해서 고주파 전원의 발진 주파수를 제어하는 제어부를 구비하고 있다. 제어부는 정합상태값이 정합상태의 악화를 나타내면, 정합상태가 개선하는 방향으로 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시켜 간 후, 제1 기울기보다도 완만한 제2 기울기로 발진 주파수를 원상태로 되돌려 간다.

Description

고주파 전원 시스템에 설치되는 임피던스 정합장치{MPEDANCE MATCHING DEVICE PROVIDED IN HIGH FREQUENCY POWER SYSTEM}
본 발명은 기계적으로 정수가 변경되는 정합기를 통해서 고주파 전원의 출력을 부하에 공급하도록 구성된 고주파 전원 시스템에 설치되는 임피던스 정합장치에 관한 것이다.
에칭이나 박막형성과 같은 반도체 제조공정에서는 플라즈마 처리장치와 그 플라즈마 처리장치에 필요한 전력을 공급하는 고주파 전원 시스템이 사용된다. 고주파 전원 시스템은 통상, 플라즈마 처리장치로의 전력 공급을 안정적이고 효율적으로 실시하기 위해서, 플라즈마 처리장치와의 임피던스 정합을 꾀하는 기능을 가지고 있다.
특허문헌 1에는 고주파 전원(101)과, 임피던스 정합장치(102)와, 정합기(103)를 구비한, 임피던스 정합 기능을 가지는 고주파 전원 시스템(100)이 개시되어 있다(도 11 참조). 임피던스 정합장치(102)는 고주파 전원(101)과 부하(20)(플라즈마 처리장치) 사이에서의 임피던스의 정합상태에 따라서, 고주파 전원(101)의 발진 주파수를 변경하도록 구성되어 있다. 또, 정합기(103)는 기계적으로 정수가 변경되는 수동 소자로 구성되어 있다.
이 고주파 전원 시스템(100)에 의하면, 정합 가능한 범위는 좁지만 정합 속도가 빠른 발진 주파수의 변경에 의한 임피던스 정합과, 정합 가능한 범위는 넓지만 정합 속도가 느린 정합기(103)에 의한 임피던스 정합을 협동시키는 것에　의해, 종래보다도 넓은 범위에서의 정합이 가능하게 된다는 것이다.
국제공개 제2013/132591호
그렇지만, 상기 종래의 고주파 전원 시스템(100)은 플라즈마가 착화한 후에 부하(20)의 임피던스가 연속적으로 변화되면, 이것에 의해 발생한 임피던스 부정합을 개선할 수 없고, 그 결과, 플라즈마가 불안정해지거나 실화되거나 하는 경우가 있었다.
본 발명은 상기 과제를 감안해서 이루어진 것으로서, 부하의 임피던스가 연속적으로 변화되었을 경우에 있어서도, 고주파 전원과 부하 사이의 임피던스 부정합을 조기에 개선할 수 있는 임피던스 정합장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명에 따른 임피던스 정합장치는 기계적으로 정수가 변경되는 정합기를 통해서 고주파 전원의 출력을 부하에 공급하도록 구성된 고주파 전원 시스템에 설치되는 것으로, 고주파 전원과 부하 사이에서의 정합상태를 나타내는 정합상태값을 취득하는 정합상태값 취득부와, 정합상태값에 의거해서 고주파 전원의 발진 주파수를 제어하는 제어부를 구비하고, 제어부는 정합상태값이 정합상태의 악화를 나타내면, 정합상태가 개선하는 방향으로 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시켜 간 후, 제1 기울기보다도 완만한 제2 기울기로 발진 주파수를 원상태로 되돌려 간다는 구성을 가지고 있다.
상기 임피던스 정합장치의 제어부는 미리 정해진 부정합 억제기간 동안, 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시켜 간다는 구성을 가지고 있을 수도 있다. 이 경우, 제어부는 부정합 억제기간이 종료하면, 정합상태값이 나타내는 정합상태의 여하에 관계없이, 제2 기울기로 발진 주파수를 원상태로 되돌리기 시작한다는 구성을 추가로 가지고 있을 수도 있다.
혹은, 상기 임피던스 정합장치의 제어부는 정합상태가 미리 정해진 정도에까지 개선한 것을 정합상태값이 나타내기 까지의 사이, 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시켜 간다는 구성을 가지고 있을 수도 있다.
또, 상기 임피던스 정합장치의 제어부는 정합상태값의 변화량이 미리 정해진 임계값을 상회하면, 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시키기 시작한다는 구성을 가지고 있을 수도 있다.
또, 상기 임피던스 정합장치로는 정합상태값으로서 반사파의 크기에 관한 값을 사용할 수 있다.
또, 상기 임피던스 정합장치의 부하는 예를 들면, 플라즈마 처리장치이다.
본 발명에 의하면, 부하의 임피던스가 연속적으로 변화되었을 경우에 있어서도, 고주파 전원과 부하 사이의 임피던스 부정합을 조기에 개선시킬 수 있는 임피던스 정합장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 임피던스 정합장치를 포함하는 고주파 전원 시스템의 개략적인 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 2는 정합기의 구체적인 구성을 나타내는 회로도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 임피던스 정합장치에 구비된 제어부의 동작을 나타내는 흐름도이다.
도 4는 제1 실시예에 따른 고주파 전원 시스템의 동작을 나타내는 도면이다.
도 5는 제1 실시예에 따른 고주파 전원 시스템의 다른 동작을 나타내는 도면이다.
도 6은 제1 실시예에 따른 고주파 전원 시스템의 또 다른 동작을 나타내는 도면이다.
도 7은 비교예에 따른 고주파 전원 시스템의 동작을 나타내는 도면이다.
도 8은 비교예에 따른 고주파 전원 시스템의 다른 동작을 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시예에 따른 임피던스 정합장치에 구비된 제어부의 동작을 나타내는 흐름도이다.
도 10은 제2 실시예에 따른 고주파 전원 시스템의 동작을 나타내는 도면이다.
도 11은 종래의 고주파 전원 시스템의 개략적인 구성을 나타내는 블럭도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하면서, 본 발명에 따른 임피던스 정합장치의 실시예에 대해서 설명한다.
[제1 실시예 ]
도 1에, 본 발명의 제1 실시예에 따른 임피던스 정합장치(12)를 포함하는 고주파 전원 시스템(10)을 나타낸다. 고주파 전원 시스템(10)은 부하(20)에 필요한 전력을 공급하기 위한 것으로, 동 도면에 나타내는 바와 같이 고주파 전원(11) 및 정합기(16)를 추가로 포함하고 있다.
고주파 전원(11)은 정합기(16)를 통해서 부하(20)에 고주파 전력을 출력한다. 고주파 전원(11)은 임피던스 정합장치(12)로부터의 지령에 따라서 발진 주파수(즉, 고주파 전력의 주파수)가 어느 정도의 범위(본 실시예에서는 13.56 MHz를 중심으로 한 ± 1.00 MHz의 범위)에서 조정될 수 있도록 구성되어 있다.
정합기(16)는 도 2의 (A)에 나타내는 바와 같이 정수(용량)이 변경될 수 있는 2개의 컨덴서와, 1개의 인덕터를 구비하고 있다. 컨덴서의 정수는 정합기(16)에 포함되는 미도시의 정합상태검지부 및 제어부에 의해, 고주파 전원(11)과 부하(20)사이의 임피던스 부정합이 개선되도록 변경된다. 단, 이 변경은 전동 액추에이터 등을 사용해서 기계적으로 실시되므로 매우 완만하다.
또, 정합기(16)의 회로구성은, 도 2의 (A)에 나타내고 있는 것에 한정되지 않고, 예를 들면, 동 도면의 (B)∼(D)에 나타내는 바와 같은 것일 수도 있다. 본 발명에서는 정합기(16)의 회로구성을 부하(20)의 구성 등에 따라서 적당하게 선택할 수 있다.
도 1로부터 분명하게 나타내는 바와 같이, 정합기(16)는 임피던스 정합장치(12)로부터 독립하고 있다. 따라서 임피던스 정합장치(12)로부터 보면, 정합기(16)에서의 정수의 변경은 자립적이라고 할 수 있다.
부하(20)는 에칭이나 박막형성과 같은 반도체 제조공정에서 사용되는 플라즈마 처리장치(더욱 구체적으로, 플라즈마 처리장치를 구성하는 플라즈마 챔버에 감긴 코일)이다. 부하(20)의 임피던스는 플라즈마 챔버 내로 도입되는 가스의 종별 및 양 등에 따라서 시시각각 변동한다.
임피던스 정합장치(12)는 정합상태값 취득부(13)와, 제어부(14)와, 설정 기억부(15)를 구비하고 있다. 임피던스 정합장치(12)는 그 전부가 고주파 전원(11) 또는 정합기(16)의 하우징에 수용될 수도 있고, 일부(예를 들면, 제어부(14)와 설정 기억부(15)) 만이 고주파 전원(11) 또는 정합기(16)의 하우징에 수용되어 있을 수도 있다. 혹은, 고주파 전원(11), 임피던스 정합장치(12) 및 정합기(16)의 전부가 1개의 하우징에 수용되어 있을 수도 있다.
정합상태값 취득부(13)는 고주파 전원(11)과 정합기(16)를 잇는 전력선에 설치된 방향성 결합기로 이루어진다. 정합상태값 취득부(13)는 고주파 전원(11)과 부하(20) 사이에서의 정합상태를 나타내는 정합상태값으로서, 반사파의 크기에 관한 값(반사 전력값)을 출력한다. 설정 기억부(15)는 휘발성 또는 비휘발성의 메모리로 이루어진다. 설정 기억부(15)는 사용자에 의해 입력된 제어부(14)의 동작에 관한 설정정보를 기억하고 있다. 제어부(14)는 연산처리 유닛 MPU(Micro-Processing Unit) 등으로 이루어진다. 제어부(14)는 정합상태값 취득부(13)로부터 출력된 정합상태값과, 설정 기억부(15)에 기억된 설정정보에 의거해서 고주파 전원(11)의 발진 주파수를 제어하기 위한 제어신호를 출력한다.
계속해서, 도 3∼도 5를 참조하면서, 제1 실시예에서의 제어부(14)의 동작예에 대해서 설명한다. 또, 이하에서는, 간단한 설명을 위해서, 플라즈마의 착화가 이미 완료하고, 고주파 전원(11)의 발진 주파수가 중심 주파수(F0)(=13.56 MHz)이며, 또 반사파가 발생하지 않고 있을 때에 부하(20)의 임피던스가 변동했을 경우에 대해서 설명한다.
우선, 제어부(14)는 설정 기억부(15)에 기억되어 있는 설정정보를 읽어 들인다(스텝(S1-1)). 설정정보에는 제1 기울기와, 제2 기울기와, 부정합 억제기간과, 임계값이 포함된다.
다음에, 제어부(14)는 정합상태값에 의거해서 정합상태가 급격하게 악화되었는 지의 여부를 판정한다(스텝(S1-2)). 더 구체적으로, 제어부(14)는 100㎲ 간격으로 정합상태값을 참조하고, 1개 전의 정합상태값으로부터 최신의 정합상태값으로의 변화량이 임계값(ΔRth)을 상회하면, 정합상태가 급격하게 악화되었다고 판정한다. 제어부(14)는 정합상태가 급격하게 악화될 때까지, 100㎲ 간격으로 스텝(S1-2)을 반복 실시한다.
정합상태가 급격하게 악화되면, 제어부(14)는 부정합 억제기간(T1) 동안, 정합상태가 개선하는 방향으로 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시켜 간다(스텝(S1-3)). 더 구체적으로, 제어부(14)는 100㎲ 간격으로 제1 기울기에 대응하는 양만큼 발진 주파수를 변화(도 4 및 도 5에 나타내는 동작예에서는 저하)시켜 간다.
본 실시예에서는 부정합 억제기간(T1)이 500㎲로 설정되어 있다. 이 때문에, 제어부(14)는 부정합 억제기간(T1) 동안에 발진 주파수를 5회 변화시킨다. 또, 본 실시예에서는 제1 기울기가 5 Hz/㎲로 설정되고 있다. 이 때문에, 제어부(14)는 100㎲ 간격으로 발진 주파수를 500 Hz 만큼 저하(또는 상승)시킨다.
부정합 억제기간(T1)이 경과하면, 제어부(14)는 제2 기울기로 발진 주파수를 중심 주파수(F0)로 되돌려 간다(스텝(S1-4)). 더 구체적으로, 제어부(14)는 100㎲ 간격으로 제2 기울기에 대응하는 양만큼 발진 주파수를 중심 주파수(F0)에 근접하는 방향에 변화(도 4 및 도 5에 나타내는 동작 예에서는, 상승)시켜 간다.
본 실시예에서는 제2 기울기가 2.5Hz/ms로 설정되어 있다. 즉, 본 실시예에서는 제2 기울기가 제1 기울기의 1/2000로 설정되어 있다. 이 때문에, 제어부(14)는 100㎲ 간격으로 발진 주파수를 0.25Hz 만큼 저하(또는 상승)시킨다.
또, 제어부(14)는 부정합 억제기간(T1) 동안에 부정합이 상당히 개선되었을 경우(도 4 참조)뿐만 아니라, 부정합 억제기간(T1) 동안에 부정합이 그다지 개선되지 않았을 경우(도 5 참조)도, 부정합 억제기간(T1)이 경과하면, 제1 기울기로 발진 주파수를 추가로 변화시키지 않고 스텝(S1-4)을 실시한다.
스텝(S1-3)에서 개선되지 않았던 부정합은 정합기(16)의 정수가 자립적으로 변경되는 것에 의해 천천히 개선되어 간다. 즉, 고주파 전원(11)의 발진 주파수가 제2 기울기로 중심 주파수(F0)로 되돌아가는 기간(T2)에서는 정수의 변경과 발진 주파수의 변경이 병행되어 실시되게 되지만, 전술한 바와 같이, 제2 기울기는 매우 완만하므로, 2개의 변경이 경합해서 헌팅이 발생하는 경우가 없다.
이렇게, 본 실시예에 따른 임피던스 정합장치(12)는 고주파 전원(11)의 발진 주파수를 변화시키는 것에 의해 부정합을 어느 정도까지 개선한 후에, 발진 주파수를 원래의 주파수로 되돌린다. 이 때문에, 본 실시예에 따른 임피던스 정합장치(12)에 의하면, 정합상태가 연속적으로 악화되어도, 발진 주파수를 상한 주파수(F1)(본 실시예에서는 14.56 MHz) 및 하한 주파수(F2)(본 실시예에서는 12.56 MHz)의 범위 내에서 변화시키는 것에　의해, 정합상태를 단기간에 개선시킬 수 있다(도 6 참조).
한편, 스텝(S1-3)의 후에, 스텝(S1-4)을 실시하지 않는 비교예(도 7 및 도 8 참조 )에서는 정합상태가 연속적으로 악화되면, 발진 주파수가 상한 주파수(F1) 및 하한 주파수(F2) 중 어느 하나(도 8에서는 하한 주파수(F2))에 도달하고, 그 이후에는, 발진 주파수를 변화시키는 것에 의한 정합상태의 개선을 실시할 수 없게 된다. 즉, 비교예에서는 정합상태가 연속적으로 악화되었을 때에, 정합상태를 단기간에 개선시킬 수 없다. 또, 상술한 특허문헌 1에 기재된 고주파 전원 시스템(100)은 스텝(S1-4)에 상당하는 동작을 실시하지 않는다는 점에서, 상기 비교예와 공통되고 있다.
[제2 실시예 ]
본 발명의 제2 실시예에 따른 임피던스 정합장치(12)는 제1 실시예와 동일하게, 정합상태값 취득부(13)와, 제어부(14)와, 설정 기억부(15)를 구비하고 있다. 단, 본 실시예에서의 제어부(14)는 제1 실시예에서의 제어부와는 다른 동작을 한다. 이하, 도 9 및 도 10을 참조하면서, 제2 실시예에서의 제어부(14)의 동작예에 대해서 설명한다.
우선, 제어부(14)는 설정 기억부(15)에 기억되어 있는 설정정보를 읽어 들인다(스텝(S2-1)). 설정정보에는 제1 기울기와, 제2 기울기와, 부정합 억제기간과, 임계값이 포함된다.
다음에, 제어부(14)는 제1 실시예의 스텝(S1-2)과 동일하게, 정합상태가 급격하게 악화되었는지의 여부를 판정한다(스텝(S2-2)). 제어부(14)는 정합상태가 급격하게 악화될 때까지, 100㎲ 간격으로 스텝(S2-2)을 반복 실시한다.
정합상태가 급격하게 악화되면, 제어부(14)는 정합상태가 개선하는 방향으로 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시키기 시작한다(스텝(S2-3)). 더 구체적으로, 제어부(14)는 100㎲ 간격으로 제1 기울기에 대응하는 양만큼 발진 주파수를 변화(도 10에 나타내는 동작예에서는 저하)시키기 시작한다. 제1 기울기는 제1 실시예와 같이 5 Hz/㎲로 설정되어 있다.
다음에, 제어부(14)는 발진 주파수를 변화시키기 시작하고 나서부터의 누적기간이 부정합 억제기간(T1)에 도달하였는지의 여부, 바꿔 말하면, 부정합 억제기간(T1)이 경과한 것인지의 여부를 판정한다(스텝(S2-4)).
부정합 억제기간(T1)이 경과했다는 판정이 이루어졌을 경우, 제어부(14)는 제1 실시예의 스텝(S1-4)과 동일하게, 제2 기울기로 발진 주파수를 중심 주파수(F0)로 되돌려 간다(스텝(S2-7)). 제2 기울기는 제1 실시예와 같이 2.5 Hz/ms로 설정되어 있다. 즉, 본 실시예에서도 제2 기울기는 제1 기울기의 1/2000이다.
한편, 부정합 억제기간(T1)이 경과해 있지 않다고 판정이 이루어졌을 경우, 제어부(14)는 스텝(S2-2)과 동일하게 해서, 정합상태가 다시 급격하게 악화되었는지의 여부를 판정한다(스텝(S2-5)).
정합상태가 다시 급격하게 악화되었다는 판정이 이루어졌을 경우, 제어부(14)는 발진 주파수를 변화시켜 시작하고 나서부터의 누적기간을 리셋하는 동시에(스텝(S2-6)), 정합상태가 개선하는 방향으로 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시키기 시작한다(스텝(S2-3)).
제어부(14)는 부정합 억제기간(T1)이 경과하거나, 부정합 억제기간(T1) 중에 정합상태가 급격하게 악화될 때까지, 스텝(S2-4) 및 스텝(S2-5)을 반복 실시한다.
이렇게, 본 실시예에 따른 임피던스 정합장치(12)는 부정합 억제기간(T1) 중에 정합상태가 다시 급격하게 악화되면, 그 악화를 시점으로 한 부정합 억제기간(T1) 동안의 제1 기울기로 발진 주파수를 계속해서 변화시킨다. 따라서 본 실시예에 따른 임피던스 정합장치(12)에 의하면, 정합상태가 매우 짧은 간격으로 연속적으로 악화되어도, 정합상태를 단기간에 개선시킬 수 있다.
[ 변형예 ]
또, 본 발명에 따른 임피던스 정합장치에는 이하에 예시하는 변형예가 있다.
제어부(14)는 정합상태가 급격하게 악화되었는지의 여부를 판정할 때에 참조하는 정합상태값으로서 반사파의 전력과 진행파의 전력으로부터 산출되는 전압 정재파 비(VSWR)(Voltage Standing Wave Ratio)를 사용할 수 있다.
설정 기억부(15)는 「제1 기울기」 및 「제2 기울기」로서 발진 주파수를 변화시키는 간격 및 1회당 변화시키는 양의 조합을 기억하고 있을 수도 있다. 이 경우, 설정 기억부(15)는 「부정합 억제기간」으로서 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시키는 횟수를 기억하고 있을 수도 있다.
설정 기억부(15)는 「제1 기울기」로서 발진 주파수를 변화시키는 간격과, 1회당 변화시키는 양을 정합상태값(반사파의 크기, 또는 VSWR)에 의거해서 결정하기 위한 룰을 기억하고 있을 수도 있다. 이 경우 제어부(14)는 최신의 정합상태값에 대응한 양만틈 발진 주파수를 변화시켜 간다. 또, 이 경우, 「제1 기울기」는 부정합 억제기간의 도중에 변화될 가능성이 있다. 이 구성에 의하면, 큰 부정합이 발생했을 경우에, 발진 주파수를 급변시키는 것에 의해 해당 부정합을 조기에 개선시킬 수 있다.
설정 기억부(15)는 「부정합 억제기간」의 대신에, 「목표 정합상태」를 기억하고 있을 수도 있다. 이 경우 제어부(14)는 정합상태가 「목표 정합상태」에까지 개선한 것을 정합상태값이 나타내는 까지의 동안은 제1 기울기로 발진 주파수를 변화시키고, 그 후에 제2 기울기로 발진 주파수를 변화시킬 수 있다.
부하(20)는 플라즈마 처리장치 이외의 것일 수도 있다.
제1 실시예 및 제2 실시예에서의 구체적인 수치는 단순한 일례이고, 적당하게 변경될 수 있다. 또, 헌팅을 방지한다는 관점에서는 제2 기울기는 작으면 작을수록 바람직하다. 단, 제2 기울기를 너무 작게하면, 기간(T2)의 동안(즉, 발진 주파수가 중심 주파수(F0)로 완전히 되돌아가기 전)에 다음 정합상태의 악화가 발생하고, 상한 주파수(F1) 및 하한 주파수(F2)의 범위 내에서 발진 주파수를 변화시키는 것에 의한 정합상태의 개선에 지장이 발생할 우려가 있다. 따라서 제2 기울기를 결정할 때는 상반하는 이것들의 사정을 고려할 필요가 있다.
10: 고주파 전원 시스템
11: 고주파 전원
12: 임피던스 정합장치
13: 정합상태값 취득부
14: 제어부
15: 설정 기억부
16: 정합기
20: 부하

Claims (7)

  1. 기계적으로 정수가 변경되는 정합기를 통해서 고주파 전원의 출력을 부하에 공급하도록 구성된 고주파 전원 시스템에 설치되는 임피던스 정합장치로서,
    상기 고주파 전원과 상기 부하 사이에서의 정합상태를 나타내는 정합상태값을 취득하는 정합상태값 취득부와,
    상기 정합상태값에 의거해서 상기 고주파 전원의 발진 주파수를 제어하는 제어부를 구비하고,
    상기 제어부는 상기 정합상태값의 변화량이 미리 정해진 임계값을 상회하면, 상기 정합상태를 개선하는 방향으로 상기 발진 주파수의 단위시간당 변화가 미리 설정된 제1 기울기를 갖도록 당해 발진 주파수를 변화시켜 간 후, 상기 발진 주파수의 단위시간당 변화가 미리 설정된 제2 기울기를 갖도록 당해 발진 주파수를 원상태로 되돌려 가되,
    상기 제2 기울기는 상기 제1 기울기보다 완만하며,
    상기 정합기는 상기 제어부가 상기 발진 주파수를 변화시키고 있는 동안에도 작동하고 있는 것을 특징으로 하는 임피던스 정합장치.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 제어부는 미리 정해진 부정합 억제기간 동안, 상기 제1 기울기로 상기 발진 주파수를 변화시켜 가는 것을 특징으로 하는 임피던스 정합장치.
  3. 제2 항에 있어서, 상기 제어부는 상기 부정합 억제기간이 종료하면, 상기 정합상태값이 나타내는 상기 정합상태의 여하에 관계없이, 상기 제2 기울기로 상기 발진 주파수를 원상태로 되돌리기 시작하는 것을 특징으로 하는 임피던스 정합장치.
  4. 제1 항에 있어서, 상기 제어부는 상기 정합상태가 미리 정해진 정도에까지 개선한 것을 상기 정합상태값을 나타내기 까지의 사이, 상기 제1 기울기로 상기 발진 주파수를 변화시켜 가는 임피던스 정합장치.
  5. 제1 항에 있어서, 상기 정합상태값은 반사파의 크기에 대한 값인 것을 특징으로 하는 임피던스 정합장치.
  6. 제1 항에 있어서, 상기 부하는 플라즈마 처리장치인 것을 특징으로 하는 임피던스 정합장치.
  7. 삭제
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