KR102180634B1 - 내오염성 및 논슬립성이 우수한 바닥재 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 내오염성 및 논슬립성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상기 바닥재는 제조 시 장사슬의 알킬기를 갖는 아크릴 모노머를 함유하는 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여, 표면에 소수성을 구현하면서 방사형 표면 굴곡 구조를 갖는 경화층을 구비함으로써 내오염성 및 논슬립성이 우수할 뿐만 아니라 60° 글로스-미터(60° Gloss-Meter) 기준에서 낮은 표면 광택을 구현할 수 있으므로 심미적 효과가 우수한 이점이 있다.

Description

내오염성 및 논슬립성이 우수한 바닥재{Floorings having excellent anti pollution and non-slip property}
본 발명은 내오염성 및 논슬립성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상세하게는 소수성이 구현된 표면에 방사형 굴곡 구조를 유도하여 내오염성 및 논슬립성이 뛰어난 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 바닥재는 시멘트 바닥으로부터 먼지 및 냉기를 차단하여 위생적인 공간을 제공하고, 다양한 색상의 미려한 무늬가 인쇄되어 있어 고객 취향에 따라 실내분위기를 아늑하게 바꿔주는 등 장식효과도 가진다. 이러한 종래의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제가 있다.
이러한 문제점을 극복하기 위해, 바닥재의 최상층에 표면처리층을 형성시킴으로써 내스크래치성은 물론 내오염성을 부여하게 된다.
그러나, 이 경우 표면처리층으로 인해 바닥재 표면이 매끄러워져 논슬립성이 저하되므로 보행자의 안전성이 현저히 낮아지는 문제가 있다. 또한, 종래 바닥재의 경우 광택이 낮을수록 내오염성이 감소하여 청소 등의 기능이 현저히 감소되므로 높은 내오염성을 유지하면서 자연소재와 같은 자연광택을 부여하는 것은 어려운 한계가 있다. 구체적으로 기존의 내오염성을 부여한 바닥재는 유성매직 및 기타 오염물질에 의해 오염되었을 경우 광택이 60도 글로스-미터(60도 Gloss-Meter)로 일정 수준 이상에서는 지워지지만 그 밑에서는 내오염성을 발휘할 수 없고, 바닥재의 표면을 처리하는 자외선 경화 표면처리제에 포함된 실리콘의 마모로 인해 내오염성이 급격히 감소하는 문제가 있다. 또한, 종래의 자외선 경화 표면처리제는 처리된 바닥재의 광택을 낮추기 위해 소광제로서 실리카의 함량을 전체 중량에 대하여 10 중량% 내외로 포함하지만, 실리카는 다공질로서 겉보기 비중이 매우 낮으므로, 함량이 증가할수록 미세먼지, 습기, 기름때 등의 흡착이 용이하게 되어 내오염성이 급격하게 감소하고, 손, 발 땀자국 등의 자국이 표면 처리된 바닥재의 표면에 남게 되어, 그 외관이 안개가 낀 것과 같이 뿌옇게 되는 현상이 발생하게 된다.
따라서, 무기 입자 등을 포함하는 소광제를 배제하거나 매우 소량을 사용하면서 바닥재의 저광택을 구현하고, 동시에 표면 조도를 제어하여 오염물이 바닥재 표면에 용이하게 부착되지 않도록 내오염성을 개선하는 한편 논슬립성을 향상시켜 보행자의 안전성이 향상된 바닥재의 개발이 절실히 요구되고 있다.
대한민국 공개특허 제2010-0071599호 대한민국 공개특허 제2014-0089074호
본 발명의 목적은 바닥재의 저광택을 구현하고, 동시에 표면에 소수성을 유도하고 표면 조도를 제어함으로써 내오염성을 개선하는 한편 논슬립성이 향상된 바닥재를 제공하는데 있다.
이에, 본 발명은 하나의 실시예에서,
발포층, 기재층 및 아크릴 수지 조성물의 경화층을 포함하고,
상기 경화층은 표면에는 한 점을 중심부로 하며, 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 포함하고,
표면 조도(Rz)가 평균 5㎛ 내지 40㎛이며,
평균 정적 물 접촉각(static water contact angle)이 80° 내지 120°인 바닥재를 제공한다.
또한, 본 발명은 하나의 실시예에서,
아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 상기 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;
활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및
1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시키는 제3 광 조사 단계를 포함하고,
제1 광 조사 단계의 광 조사량이 25 mJ/㎠ 내지 75 mJ/㎠인 바닥재의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 바닥재는 제조 시 장사슬의 알킬기를 갖는 아크릴 모노머를 함유하는 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여, 표면에 소수성을 구현하면서 방사형 표면 굴곡 구조를 갖는 경화층을 구비함으로써 내오염성 및 논슬립성이 우수할 뿐만 아니라 60° 글로스-미터(60° Gloss-Meter) 기준에서 현저히 낮은 표면 광택을 구현할 수 있으므로 심미적 효과가 우수한 이점이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 경화층의 제조 시 사용되는 광 경화장치의 일례를 도시한 구조도이다.
도 2 및 3은 본 발명에 따른 실시예 1 및 비교예 1의 경화층의 표면을 주사 전자현미경(SEM) 촬영한 이미지이다.
도 4는 본 발명에 따른 비교예 6의 경화층의 표면을 주사 전자현미경(SEM) 촬영한 이미지이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다.
그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또한, 본 발명에서 첨부된 도면은 설명의 편의를 위하여 확대 또는 축소하여 도시된 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 대하여 도면을 참고하여 상세하게 설명하고, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
본 발명에서, "표면 조도(surface profile)"는 표면에 존재하는 미세한 요철의 정도를 나타내는 것으로, "Rz"로 표현될 수 있다. 여기서, "Rz"은 표면의 단면 곡선으로 기준길이 L을 취하여 굴곡 구조의 높은쪽부터 5번째까지의 봉우리와 깊이가 깊은쪽에서 5번째까지의 계곡 사이의 간격을 측정하여 그 편차를 나타낸 것으로서, "10점 평균 거칠기 (ten point average roughness)"라고도 한다.
아울러, 본 발명에서, "T"는 바닥재에 구비된 각 층 또는 시트의 두께를 나타내는 단위로서, 단위 "mm"와 동일할 수 있다.
본 발명은 내오염성 및 논슬립성이 우수한 바닥재 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
기존의 바닥재는 그 표면이 오염물질로 더럽혀진 경우 사용자가 오염물질의 흔적을 쉽게 지울 수 없기 때문에 오염물질 흔적을 가진 바닥재는 그 기본 기능을 다할 수 없게 되는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 극복하기 위해, 바닥재의 최상층에 표면처리층을 형성시킴으로써 바닥재의 내스크래치성은 물론 내오염성을 부여하게 된다.
그러나, 이 경우 표면처리층으로 인해 바닥재 표면이 매끄러워져 논슬립성이 저하되므로 보행자의 안전성이 현저히 낮아지는 문제가 있다. 또한, 종래 바닥재의 경우 광택이 낮을수록 내오염성이 감소하여 청소 등의 기능이 현저히 감소되므로 높은 내오염성을 유지하면서 자연소재와 같은 자연광택을 부여하는 것은 어려운 한계가 있다. 구체적으로 기존의 내오염성을 부여한 바닥재는 유성매직 및 기타 오염물질에 의해 오염되었을 경우 광택이 60도 글로스-미터(60도 Gloss-Meter)로 일정 수준 이하(예컨대, 5 이상)에서는 내오염성을 발휘할 수 없고, 바닥재의 표면을 처리하는 자외선 경화 표면처리제에 포함된 실리콘의 마모로 인해 내오염성이 급격히 감소하는 문제가 있다. 또한, 종래의 자외선 경화 표면처리제는 처리된 바닥재의 광택을 낮추기 위해 소광제로서 실리카의 함량을 전체 중량에 대하여 10 중량% 내외로 포함하지만, 상기 실리카는 다공질로서 겉보기 비중이 매우 낮으므로, 함량이 증가할수록 미세먼지, 습기, 기름때 등의 흡착이 용이하게 되어 내오염성이 급격하게 감소하고, 손, 발 땀자국 등의 자국이 표면 처리된 바닥재의 표면에 남게 되어, 그 외관이 안개가 낀 것과 같이 뿌옇게 되는 현상이 발생하게 된다.
이에, 본 발명은 표면에 방사형 굴곡 구조를 갖는 저광택의 바닥재 및 이의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 바닥재는 제조 시 장사슬의 알킬기를 갖는 아크릴 모노머를 함유하는 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용하여, 표면에 소수성을 구현하면서 방사형 표면 굴곡 구조를 갖는 경화층을 구비함으로써 내오염성 및 논슬립성이 우수할 뿐만 아니라 60° 글로스-미터(60° Gloss-Meter) 기준에서 낮은 표면 광택을 구현할 수 있으므로 심미적 효과가 우수한 이점이 있다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
바닥재
본 발명은 일실시예에서,
발포층, 기재층 및 아크릴 수지 조성물의 경화층을 포함하고,
상기 경화층은 표면에는 한 점을 중심부로 하고 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 포함하는 바닥재를 제공한다.
본 발명에 따른 바닥재는 가정이나 사무실 등에서 사용되는 실내용 바닥재로서, 발포층, 기재층 및 경화층을 포함한다. 여기서, 상기 경화층은 아크릴 수지 조성물의 경화층으로서 바닥재의 최외각층에 위치하며, 그 표면에는 일정한 표면 조도와 형태를 갖는 미세한 굴곡 구조를 갖는다. 구체적으로, 상기 굴곡 구조는 경화층 표면에 존재하는 임의의 한 점을 중심부로 하며, 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가되 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 방사형의 요철이 랜덤하게 분산된 구조를 갖는다. 예를 들어, 상기 방사형 굴곡 구조는 경화층 표면의 임의의 한 점을 중심부로 하는 수지상 구조(arborescence structure)나 덴드라이트 구조(dendrite structure)가 랜덤하게 분산된 구조를 포함할 수 있다.
또한, 상기 방사형 굴곡 구조는 그 높이나 크기에 의해 표면 물성, 예를 들어 표면 광택도, 내오염성, 논슬립성 등이 조절될 수 있으며, 이를 위하여 상기 방사형 굴곡 구조는 일정한 높이, 즉 표면 조도를 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 경화층은 표면에 존재하는 방사형 굴곡 구조의 표면조도 "Rz"의 평균값은 5㎛ 내지 40㎛㎛일 수 있으며, 보다 구체적으로는 5㎛ 내지 35㎛, 5㎛ 내지 30㎛, 5㎛ 내지 25㎛, 15㎛ 내지 40㎛, 20㎛ 내지 40㎛, 25㎛ 내지 40㎛, 15㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 18㎛ 내지 30㎛, 18㎛ 내지 25㎛, 15㎛ 내지 24㎛, 18㎛ 내지 24㎛, 19㎛ 내지 23㎛, 10㎛ 내지 20㎛, 10㎛ 내지 18㎛, 11㎛ 내지 19㎛, 12㎛ 내지 16㎛, 8㎛ 내지 14㎛ 또는 13㎛ 내지 17㎛일 수 있다.
아울러, 상기 경화층은 평균 직경이 특정 범위를 갖도록 제어될 수 있다. 구체적으로, 방사형 굴곡 구조의 평균 직경은 경화층 표면에 존재하는 개별 방사형 굴곡 구조의 평균 크기를 나타내는 것으로서, 상기 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛일 수 있으며, 보다 구체적으로는 5㎛ 내지 450㎛, 5㎛ 내지 400㎛, 5㎛ 내지 350㎛, 5㎛ 내지 300㎛, 5㎛ 내지 250㎛, 5㎛ 내지 200㎛, 5㎛ 내지 150㎛, 5㎛ 내지 100㎛, 5㎛ 내지 50㎛, 50㎛ 내지 200㎛, 50㎛ 내지 100㎛, 100㎛ 내지 500㎛, 100㎛ 내지 300㎛, 100㎛ 내지 200㎛, 80㎛ 내지 150㎛, 20㎛ 내지 100㎛, 25㎛ 내지 60㎛, 40㎛ 내지 80㎛, 80㎛ 내지 120㎛, 90㎛ 내지 110㎛, 5㎛ 내지 40㎛, 5㎛ 내지 30㎛, 5㎛ 내지 25㎛, 5㎛ 내지 20㎛, 5㎛ 내지 15㎛, 5㎛ 내지 10㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 30㎛, 15㎛ 내지 25㎛, 20㎛ 내지 30㎛, 1㎛ 내지 10㎛, 2㎛ 내지 10㎛, 4㎛ 내지 10㎛, 5㎛ 내지 10㎛, 7.5㎛ 내지 10㎛, 8㎛ 내지 10㎛¸0.5㎛ 내지 7.5㎛, 0.5㎛ 내지 5㎛, 0.5㎛ 내지 3㎛, 0.5㎛ 내지 2㎛, 0.5㎛ 내지 1㎛, 1㎛ 내지 5㎛¸1㎛ 내지 3㎛, 1㎛ 내지 2㎛, 2㎛ 내지 5㎛, 2㎛ 내지 3.5㎛, 4㎛ 내지 8㎛, 4㎛ 내지 6㎛, 5㎛ 내지 8㎛, 5㎛ 내지 6.5㎛, 6㎛ 내지 9㎛, 6㎛ 내지 8㎛, 7㎛ 내지 9㎛ 또는 3㎛ 내지 5㎛일 수 있다.
이와 더불어, 상기 방사형 굴곡 구조는 단위 면적에 일정한 빈도, 예컨대 일정한 개수로 형성될 수 있고, 방사형 굴곡 구조의 개수는 단위 면적에 존재하는 방사형 굴곡 구조의 중심부 개수와 동일할 수 있다. 예를 들어, 상기 방사형 굴곡 구조는 경화층 표면의 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 80 내지 400개 존재할 수 있으며, 구체적으로는 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 80 내지 350개, 80 내지 300개, 80 내지 250개, 80 내지 200개, 80 내지 150개, 100 내지 400개, 100 내지 350개, 100 내지 200개, 150 내지 350개, 250 내지 350개, 200 내지 400개, 300 내지 400개, 80 내지 180개, 80 내지 150개, 80 내지 120개, 80 내지 100개, 80 내지 120개, 140 내지 180개, 130 내지 240개, 150 내지 210개, 140 내지 180개, 250 내지 400개, 205 내지 250개, 110 내지 220개, 130 내지 170개, 150 내지 280개, 220 내지 290개, 260 내지 330개, 340 내기 390개, 120 내지 160개, 150 내지 170개, 또는 135 내지 165개 존재할 수 있다.
하나의 예로서, 상기 경화층은 평균 직경이 40 내지 60㎛이고, 표면 조도 (Rz) 13 내지 15㎛인 덴드라이트 형상을 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 120 내지 170개일 수 있다.
본 발명에 따른 바닥재는 상기와 같은 형태와 빈도를 갖는 방사형 굴곡 구조를 표면에 포함하는 경화층을 최외각층으로 구비함으로써 내오염성, 논슬립성, 표면 광택도 등의 물성을 보다 용이하게 조절할 수 있다.
하나의 예로서, 본 발명에 따른 바닥재는 표면에 소수성이 구현되고, 미세한 방사형 굴곡 구조가 구비된 경화층을 최외각층으로 구비하여 내오염성이 뛰어날 수 있다. 예를 들어, 상기 경화층은 표면에 소수성이 구현되어 물에 대한 친화도를 나타내는 평균 정적 물 접촉각(static water contact angle) 측정 시 80° 내지 120°일 수 있고, 구체적으로는 80° 내지 115°, 80° 내지 110°, 80° 내지 105°, 80° 내지 100°, 85° 내지 100°, 85° 내지 105°, 85° 내지 110°, 85° 내지 115°, 85° 내지 120°, 90° 내지 120°, 90° 내지 110°, 90° 내지 100°, 90° 내지 98°, 90° 내지 95°, 90° 내지 93°, 93° 내지 100°, 95° 내지 100°, 95° 내지 98°, 90° 내지 92° 또는 88° 내지 94°일 수 있다.
아울러, 본 발명에 따른 바닥재는 표면의 내오염성이 향상되어 KS M 3802에 따라 오염물로서 유성 매직을 사용하는 깔끄미 시험 시 오염도는 4등급 이상일 수 있다. 구체적으로는 본 발명에 따른 바닥재를 대상으로 유성 매직으로 오염시키고, 30초가 경과하면 킴와이프스로 유성 매직을 닦아내고, 바닥재의 표면 손상 정도를 육안으로 확인하는 경우, 상기 바닥재의 오염도는 4 등급(최초 오염면적 기준 오염물 잔류 면적: 5% 이상 20% 미만) 내지 5 등급(최초 오염면적 기준 오염물 잔류 면적: 5% 미만)의 범위를 가질 수 있고, 구체적으로는 5 등급일 수 있다.
이는 경화층 제조 시 사용되는 아크릴 수지 조성물에 장사슬의 알킬기를 갖는 아크릴 모노머를 사용하여 표면에 소수성을 구현함으로써 오염물의 표면 젖음성을 최소화함과 동시에, 상기 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 조사하여 표면에 미세한 방사형 굴곡 구조를 유도함으로써 불순물 흡착 시 경화층 표면과 불순물 사이에 에어 포켓을 형성하여 경화층 표면과 불순물의 접촉 면적을 최소화하고 불순물의 제거를 용이하게 할 수 있음을 나타낸다.
다른 하나의 예로서, 본 발명에 따른 바닥재는 경화층 표면에 형성된 방사형 굴곡 구조를 통해 표면에 입사되는 광의 산란을 유도함으로써 경화층에 소광제를 매우 소량을 포함하거나 경우에 따라서는 포함하지 않고도 현저히 낮은 광택을 구현할 수 있다. 구체적으로, 상기 바닥재는 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용한 60° 광택도(글로스 60 ° 조건) 를 측정 시 표면 광택도가 5 미만일 수 있고, 보다 구체적으로, 상한가가 4.5 이하, 4 이하, 3.5 이하, 3 이하, 2.5 이하 또는 2.3 이하이고, 하한가가 0.1 이상, 0.5 이상, 1 이상, 또는 1.1 이상 또는 2 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 바닥재의 평균 표면 광택도는 0.1 내지 4.8, 0.1 내지 4.5, 0.1 내지 4, 0.1 내지 3.5, 0.1 내지 3, 0.1 내지 2.8, 0.1 내지 2.4, 0.5 내지 1.8, 3.2 내지 4.7, 0.1 내지 0.4, 0.5 내지 4, 0.5 내지 3, 1 내지 2.5, 1 내지 2.2, 1.7 내지 2.9, 0.8 내지 1.9, 1.3 내지 2.2, 1.2 내지 1.7, 1.8 내지 2.2 또는 1.3 내지 2.4일 수 있다.
또 다른 하나의 예로서, 본 발명에 따른 바닥재는 논슬립(non-slip)성이 향상되어 DIN 51130에 따른 램프(ramp) 시험 시 미끄러짐이 발생되는 경사각의 등급이 R10 이상일 수 있고, 구체적으로는 R11 이상, 또는 R10 내지 R11일 수 있다. 여기서, R10은 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 10° 이상 19° 미만인 경우를 나타내고, R11은 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 19° 이상 27° 미만인 경우를 나타낸다.
나아가, 다른 하나의 예로서, 본 발명에 따른 바닥재는 경화층의 저온 파단 강도가 우수하여 저온에서도 내구성이 뛰어날 수 있다. 구체적으로, 상기 바닥재는 저온에서의 내구성이 우수하여 2.5kgf 중량의 낙하체를 표면에 떨어뜨릴 경우 -20℃ 부근에서는 바닥재의 표면 손상이 발생되지 않으며, 이보다 낮은 온도, 예를 들어, -30℃ 내지 -21℃, -30℃ 내지 -23℃, -30℃ 내지 -25℃, -30℃ 내지 -27℃, -28℃ 내지 -21℃, -25℃ 내지 -21℃, -23℃ 내지 -21℃, -27℃ 내지 -22℃, 또는 -26℃ 내지 -24℃에서 잔금, 깨짐, 핀홀 등의 표면 손상이 발생될 수 있다. 이는 최외각층인 경화층에 유리전이온도(Tg)가 낮은 장사슬의 알킬기를 갖는 아크릴 모노머로부터 유래되는 반복단위를 포함하여 경화층의 유연성이 증가하므로 저온에서의 경화층의 파단 강도를 증가시킴을 의미한다.
이러한 상기 경화층은 내구성에 영향을 미치지 않는 적절한 범위의 평균 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 경화층은 외부 자극에 찢어지거나 손실되지 않도록 5㎛ 내지 30㎛의 평균 두께를 가질 수 있고, 보다 구체적으로는 5㎛ 내지 30㎛, 5㎛ 내지 15㎛, 10㎛ 내지 20㎛, 10㎛ 내지 30㎛, 20㎛ 내지 30㎛, 8㎛ 내지 17㎛, 11㎛ 내지 20㎛ 또는 12㎛ 내지 18㎛일 수 있다. 본 발명에서 언급되는 경화층의 평균 두께는 도 1에 나타낸 바와 같이 덴드라이트의 높이를 배제한 경화층의 평균 두께 (Taver)를 의미할 수 있고, 경우에 따라서는 덴드라이트의 높이가 배제된 경화층의 평균 두께 (Taver)와 덴드라이트의 평균 최대 높이 (Rmax)의 1/2 값을 포함하는 두께를 의미할 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 바닥재는 발포층, 기재층 및 경화층 이외에 별도의 층을 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 바닥재는 발포층과 기재층 사이에 인쇄층 및 치수 안정층 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 바닥재는 발포층, 인쇄층, 기재층 및 경화층이 순차적으로 적층된 구조를 갖거나, 또는 발포층, 치수 안정층, 인쇄층, 기재층 및 경화층이 순차적으로 적층된 구조를 가질 수 있다.
여기서, 상기 기재층, 인쇄층, 치수 안정층 및 발포층은 예를 들어, 바인더 수지, 개시제, 경화제, 기타 첨가제 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 각각의 조성물을 광경화 또는 열경화시켜 형성하거나, 압출 방법, 카렌더링 방법 등을 사용하여 필름 또는 시트로서 형성할 수 있다. 또한, 상기 각각의 조성물은 각각의 층의 성질 및 기능에 따라 이에 포함된 성분들의 종류 및 함량을 적절히 조절할 수 있고, 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로, 상기 바닥재는 어느 한 층의 일면에 소정의 조성물을 도포한 후 광경화 또는 열 경화시켜 형성하거나, 또는 각각의 층을 필름 또는 시트로서 형성한 후 이들을 이 기술분야에서 공지된 합판 공정 등을 사용하여 형성할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 아울러, 상기 바인더 수지는 합성 수지, 바이오 수지 또는 이들 모두를 포함할 수 있고, 예를 들어, 폴리염화비닐(PVC)계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리유산계 수지, 폴리올레핀 수지 등을 포함할 수 있다.
또한, 상기 기재층은 투명 또는 반투명 폴리염화비닐(PVC)층으로서 약 0.05mm 내지 약 2.0mm의 두께를 가질 수 있고, 상기 범위 내의 두께를 가짐으로써 바닥재의 총 두께를 지나치게 증가시키지 않으면서 후술하는 바와 같이 하부에 적층되는 인쇄층의 무늬나 패턴을 충분히 보호할 수 있다.
아울러, 상기 인쇄층은 베이스를 형성하는 백색층과 무늬를 구현하는 전사층을 포함할 수 있으며, 예를 들어, 전사 인쇄, 그라비어 인쇄, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 로터리 인쇄 또는 플렉소 인쇄 등의 다양한 방식으로 무늬를 부여함으로써 형성될 수 있다. 이때, 인쇄층은 약 1㎛ 내지 약 10㎛의 평균 두께를 가질 수 있다.
이와 더불어, 상기 치수 안정층은 바인더 수지에 유리섬유가 함침된 복합재로 형성될 수 있다. 이렇게 형성된 치수 안정층은 고온 고습 조건에서도 치수 변형률을 감소시켜 우수한 치수 안정성을 구현하면서도 상부 및 하부에 적층되는 다른 층들과의 접착력을 높은 수준으로 유지하여 뛰어난 내구성을 구현할 수 있다. 이때, 상기 치수 안정층의 평균 두께는 약 0.1 mm 내지 약 2.0 mm일 수 있다.
나아가, 상기 발포층은 바닥재의 최하부에 위치하는 층으로서 상부의 경화층, 기재층, 인쇄층, 치수 안정층 등을 지지하는 한편, 일정한 크기의 기공을 포함하여 상부나 하부의 충격 및 소음을 흡수하는 기능을 갖는다. 이때, 상기 기공의 평균 크기는 100 내지 900 ㎛일 수 있고, 구체적으로는 100 내지 800 ㎛, 100 내지 700 ㎛, 100 내지 600 ㎛, 100 내지 500 ㎛, 200 내지 900 ㎛, 300 내지 900 ㎛, 400 내지 900 ㎛, 500 내지 900 ㎛, 600 내지 900 ㎛, 200 내지 800 ㎛, 500 내지 800 ㎛, 600 내지 700 ㎛, 200 내지 400 ㎛ 또는 750 내지 900 ㎛일 수 있다. 또한, 상기 발포층의 평균 두께는 0.5 내지 10T일 수 있으며, 보다 구체적으로는 0.5 내지 8T, 0.5 내지 6T, 0.5 내지 4T, 4 내지 10 T, 6 내지 10 T, 8 내지 10T, 3 내지 6T, 4 내지 7T, 7 내지 9T, 2 내지 3T, 0.5 내지 1.5T일 수 있다. 또한, 상기 발포층은 그 성분이 특별히 제한되는 것은 아니나, 폴리염화비닐(PVC), 열가소성 폴리우레탄(thermoplastic polyurethane, TPU), 니트릴부타디엔 고무(nitrile-butadiene rubber, NBR), 폴리비닐에테르(polyvinylether, PVE), 에틸렌비닐아세테이트(ethylene vinylacetate, EVA), 폴리우레탄(polyurethane, PU) 등을 포함할 수 있다.
바닥재의 제조방법
또한, 본 발명은 일실시예에서,
아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;
활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및
1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시키는 제3 광 조사 단계를 포함하는 바닥재의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 바닥재의 제조방법은 아크릴 수지 조성물에 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 3 단계로 조사하여 경화시키는 단계를 갖는다.
구체적으로, 제1 광 조사 단계는 기재층 상에 도포된 아크릴 수지 조성물에 광을 조사하는 첫 번째 단계로서, 조사된 광에 의해 발생된 엑시머(excimer)가 도포된 아크릴 수지 조성물 및/또는 이의 경화물 표면을 수축시켜 주름을 형성함으로써 표면에 입사되는 빛의 산란율을 증가시키는 단계이다. 본 발명은 엑시머를 이용하여 아크릴 수지 조성물 및/또는 이의 경화물의 표면을 상술된 방사형 굴곡 구조로 수축시킴으로써 빛의 산란율을 증가시킬 수 있으므로 소광제를 극소량 사용하거나 경우에 따라서는 사용하지 않고도 경화층의 광택도를 감소시킬 수 있다. 이를 위해 상기 제1 광 조사 단계는 고에너지를 갖는 300㎚ 미만, 구체적으로는 100 내지 200㎚ 또는 150 내지 195㎚의 파장을 광을 사용하여 산소(O2)를 소량 포함하는 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다. 구체적으로, 제1 광 조사 단계에서 질소(N2)에 포함된 산소(O2)의 농도는 10 내지 30,000ppm일 수 있고, 구체적으로는 10 내지 20,000ppm, 10 내지 5,000ppm, 1,000 내지 2,000ppm, 2,000 내지 3,000ppm, 3,000 내지 4,000ppm, 4,000 내지 5,000ppm, 10 내지 2,000ppm, 10 내지 1,000ppm, 10 내지 500ppm, 100 내지 300ppm, 10 내지 200ppm, 50 내지 150ppm, 80 내지 120pp, 4,000 내지 6,000 ppm, 4,500 내지 5,500 ppm 또는 4,800 내지 5,200ppm일 수 있다. 또한, 제1 광 조사 단계에서 아크릴 수지 조성물과 광원의 거리는 5~100㎜일 수 있고, 구체적으로는 5~80㎜, 5~60㎜, 5~40㎜, 10~70㎜, 10~50㎜, 10~30㎜, 20~80㎜, 20~60㎜, 20~50㎜, 20~30㎜, 25~75㎜, 50~80㎜, 40~60㎜ 또는 45~55㎜일 수 있다.
아울러, 상기 제1 광 조사 단계에서 광 조사량은 25 mJ/㎠ 내지 75 mJ/㎠일 수 있고, 구체적으로는 25 mJ/㎠ 내지 70 mJ/㎠¸25 mJ/㎠ 내지 50 mJ/㎠, 50 mJ/㎠ 내지 75 mJ/㎠, 40 mJ/㎠ 내지 60 mJ/㎠, 25 mJ/㎠ 내지 45 mJ/㎠, 35 mJ/㎠ 내지 45 mJ/㎠ 또는 38 mJ/㎠ 내지 43 mJ/㎠일 수 있다.
하나의 예로서, 상기 제1 광 조사 단계는 아크릴 수지 조성물 내에 엑시머를 형성하기 위하여 조성물에 172±2㎚ 파장을 갖는 광을 100ppm의 산소(O2)를 포함하는 질소(N2) 조건에서 37~44 mJ/㎠의 광량 (즉, 광 조사량)으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있다.
본 발명은 제1 광 조사 단계 수행 시 가스 조건, 조성물과 광원의 거리 및/또는 광 조사량을 상기 범위로 제어함으로써 경화층의 표면에 형성되는 랜덤 방사형의 미세 굴곡 구조의 평균 직경, 높이 및/또는 빈도를 용이하게 제어할 수 있고, 경화층의 경화 밀도가 과도하게 증가하여 낮은 온도에서 쉽게 파단되는 것을 방지할 수 있다.
이와 더불어, 기재 상에 조성물을 도포하는 방법은 기술분야에서 공지된 방법에 의해 수행될 수 있으며, 예를 들어, 메이어(Mayer), 디-바(D-bar), 고무롤(rubber roll), G/V 롤(G/V roll), 에어나이프(air knife), 슬롯다이(slot die), 마이크로그라비아 등을 이용하여 수행될 수 있다.
또한, 제2 광 조사 단계는 표면이 수축된 조성물 및/또는 경화층에 자외선(UV) 에너지를 가하여 가경화시키는 단계로서, 200 내지 400㎚ 이상의 파장, 구체적으로는 250 내지 380㎚, 280 내지 380㎚, 250 내지 350㎚, 또는 280 내지 320㎚ 파장의 광을 공기(air) 조건에서 조사하여 수행될 수 있다. 이때, 가경화된 조성물 및/또는 경화층의 표면 온도는 20 내지 90℃, 구체적으로는 20 내지 80℃ 또는 30 내지 70℃일 수 있다.
하나의 예로서, 상기 제2 광 조사 단계는 조성물 및/또는 경화층에 300±5㎚ 파장을 갖는 광을 공기 조건에서 20~800 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있고, 이때 조성물 및/또는 경화층과 광원 사이의 거리는 0.5 내지 10㎜일 수 있다.
이와 더불어, 제3 광 조사 단계는 가경화된 조성물 및/또는 경화층에 자외선(UV)을 추가적으로 조사하여 진경화를 수행하는 단계로서, 400㎚ 이하의 파장, 구체적으로는 100 내지 400㎚, 200 내지 400㎚, 200 내지 300㎚, 300 내지 400㎚, 150 내지 300㎚, 200 내지 250㎚ 또는 270 내지 320㎚의 파장을 광을 사용하여 산소(O2)를 소량 포함하는 질소(N2) 분위기에서 수행될 수 있다. 여기서, 질소(N2)에 포함된 산소(O2)의 농도는 10 내지 30,000ppm일 수 있고, 구체적으로는 10 내지 5,000ppm, 1,000 내지 2,000ppm, 2,000 내지 3,000ppm, 3,000 내지 4,000ppm, 4,000 내지 5,000ppm, 100 내지 1,000ppm, 100 내지 500ppm, 100 내지 200ppm, 10 내지 2,000ppm, 10 내지 1,000ppm, 10 내지 500ppm, 100 내지 300ppm, 10 내지 200ppm, 50 내지 150ppm, 80 내지 120ppm, 15,000 내지 25,000 ppm, 17,000 내지 23,000 ppm, 19,000 내지 21,000 ppm, 또는 19,500 내지 20,500 ppm일 수 있다. 본 발명은 진경화가 수행되는 제3 광 조사 단계에서 산소(O2)의 농도를 상기 범위로 제어함으로써 조성물 및/또는 경화층의 경화율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 산소 분자(O2)의 오존(O3) 전환을 통해 경화층의 표면을 세정하는 효과를 유도할 수 있다.
하나의 예로서, 상기 제3 광 조사 단계는 조성물 및/또는 경화층에 300±5㎚ 파장을 갖는 광을 100~3,000 mJ/㎠의 광량으로 1~2초의 매우 짧은 시간 동안 조사하여 수행될 수 있고, 이때 조성물 및/또는 경화층과 광원 사이의 거리는 50±10㎜일 수 있다.
본 발명에서 조사되는 광은 각 단계에서 요구되는 파장의 광을 조사할 수 있는 공지된 방법에 따라 조사될 수 있다. 예를 들어, UV 영역인 400㎚ 이하의 파장을 갖는 광은 수은 또는 메탈 할라이드 램프 등을 이용하여 조사될 수 있다.
또한, 본 발명에서 광이 조사되는 시간은 1~2초의 매우 짧은 시간일 수 있고, 이러한 광 조사 시간은 광 조사 시 조성물이 이동하는 속도, 예컨대 기재 상에 코팅된 조성물의 이동 속도에 의해 제어될 수 있다. 예를 들어, 상기 조성물 및/또는 조성물이 코팅된 기재의 이동 속도는 1 내지 50 m/min일 수 있고, 구체적으로는 5 내지 40 m/min, 10 내지 40 m/min, 20 내지 40 m/min, 30 내지 40 m/min, 15 내지 25 m/min, 5 내지 15 m/min, 15 내지 20 m/min, 35 내지 40 m/min 또는 18 내지 22 m/min일 수 있다.
본 발명은 조성물의 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 사용함으로써 개시제를 상기 범위로 소량 포함하여도 높은 경화율을 나타낼 수 있다.
한편, 상기 경화층에 형성하는 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머, 및 탄소수 6 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아크릴 모노머를 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 아크릴계 올리고머는 아크릴기를 포함하는 모노머를 이용하여 얻어지는 올리고머로서, 알킬(메트)아크릴레이트로부터 유도되는 알킬(메트)아크릴레이트 올리고머는 물론 우레탄기나 에폭시기를 내부에 포함하는 우레탄 아크릴레이트나 에폭시 아크릴레이트를 사용할 수 있고, 에폭시 아크릴레이트의 경우 내오염성은 우수하나 벤젠링에 기인한 황변에 대한 취약하다는 점을 고려한다면 우레탄 아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 우레탄 아크릴레이트는 광개시제의 개시반응에 의한 라디칼 중합반응이 빠르게 일어나고, 탄성, 강인성이 우수한 도막(塗膜)을 제공하며, 특히 염화비닐수지(PVC)를 포함하는 기재층에 대한 밀착력이 우수하다.
이러한 우레탄 아크릴레이트는 폴리이소시아네이트, 폴리올, 하이드록시 (hydroxy)기를 가진 아크릴레이트 화합물로 합성하는데, 이때 폴리이소시아네이트로는 5-이소시아네이트-1-(이소시아네이트메틸)-1,3,3-트리메틸씨클로헥산, 4,4-디씨클로헥실메탄디이소시아네이트, 1,6-디이소시아네이트헥산, 1,6-디이소시아네이트헥산 유도체 등을 사용할 수 있고, 폴리올로는 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카보네이트폴리올 등을 사용할 수 있으며, 하이드록시기를 가진 아크릴레이트 화합물로는 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. 또한, 상기 우레탄 아크릴레이트는 중합 가능한 관능기를 2 이상 포함하는 다관능성 올리고머일 수 있으며, 구체적으로는 2 관능성 올리고머, 3 관능성 올리고머, 4 관능성 올리고머 및 6 관능성 올리고머 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 아울러, 상기 우레탄 아크릴레이트는 식물에서 추출되는 바이오 올리고머일 수 있다. 본 발명에 따른 아크릴 수지 조성물은 식물에서 추출된 바이오 올리고머를 더 포함함으로써 기존의 석유계 합성 수지가 가질 때 구현되는 경화층의 물성을 만족시키면서, 제조 시 이산화탄소나 휘발성 유기화합물(Volatile organic compounds, VOC) 등의 발생을 저감시키고 유해한 화합물의 냄새를 유발하지 않으므로 친환경적이고, 재생가공을 통해 다른 용도로의 재활용이 가능한 이점이 있다.
상기 바이오 올리고머는 식물에서 추출된 지방산(바이오 오일)을 포함하고, 상기 지방산은 탄화수소 사슬간의 화학결합을 통하여 긴 탄화수소 사슬을 갖는 이산성 화합물을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 이산성 화합물은 말단에 아크릴레이트, 메타크릴레이트 등의 단관능 아크릴레이트 및 다관능 아크릴레이트 중 1종 이상이 치환된 구조를 가질 수 있다. 즉, 상기 바이오 올리고머는 식물로부터 유래된 지방산 간의 화학 결합을 통해 탄화수소 사슬을 연장한 후 탄화수소 사슬말단에 반응성 관능기인 아크릴레이트를 도입한 것일 수 있다. 또한, 상기 바이오 올리고머는 우레탄 아크릴레이트 전체 100 중량부 중에서 50 내지 90 중량부로 포함될 수 있고, 구체적으로는 우레탄 아크릴레이트 전체 100 중량부 중에서 60 내지 90 중량부, 70 내지 90 중량부, 80 내지 90 중량부, 50 내지 80 중량부, 50 내지 70 중량부, 60 내지 80 중량부, 70 내지 80 중량부, 65 내지 85 중량부, 55 내지 75 중량부, 70 내지 85 중량부, 72 내지 83 중량부, 74 내지 80 중량부 또는 75 내지 80 중량부로 포함될 수 있다.
아울러, 상기 식물에서 추출된 지방산은 유채꽃유, 아보카도유, 동백유, 타톨유, 마카데미아넛유, 옥수수유, 해바라기유, 밍크유, 올리브유, 평지씨유, 난황유, 참기름, 퍼식 오일, 밀배아유, 애기동백유, 피마자유, 아마인유, 잇꽃유, 포도씨유, 면실유, 들기름, 대두유, 낙화생유, 티오일, 비자오일, 쌀겨 기름, 유동오일, 일본유동 오일, 호호바유, 배아유, 달맞이꽃유, 카카오 기름 및 야자유 중 1 종 이상으로부터 추출된 것을 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
한편, 본 발명에 따른 아크릴 수지 조성물에 사용되는 우레탄 아크릴레이트는 평균 중량평균분자량은 100 내지 50,000일 수 있고, 보다 구체적으로는 500 내지 30,000, 1,000 내지 20,000, 1,500 내지 20,000, 1,000 내지 10,000, 5,000 내지 8,000, 8,000 내지 12,000, 10,000 내지 15,000, 15,000 내지 20,000, 1,000 내지 5,000 또는 1,500 내지 3,500일 수 있다. 본 발명은 아크릴계 올리고머의 중량평균 분자량을 상기 범위로 조절함으로써 경화층의 내구성을 보다 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에서 사용되는 아크릴 수지 조성물은 탄소수 6 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아크릴 모노머를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 아크릴 모노머는 탄소수 6 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬기와 아크릴기를 포함하는 화합물로서, 예를 들어, 헥실(메트)아크릴레이트(hexyl(meth)acrylate, 탄소수 6~7의 알킬기 포함), 헵틸(메트)아크릴레이트(heptyl(meth)acrylate, 탄소수 7~8의 알킬기 포함), 옥틸(메트)아크릴레이트(octyl(meth)acrylate, 탄소수 8~9의 알킬기 포함), 운데실(메트)아크릴레이트(undecyl(meth)acrylate, 탄소수 10~11의 알킬기 포함), 이소데실(메트)아크릴레이트(isodecyl(meth)acrylate, 탄소수 10~11의 알킬기 포함), 라우릴(메트)아크릴레이트(lauryl(meth)acrylate, 탄소수 12~13의 알킬기 포함), 트리데실(메트)아크릴레이트(tridecyl(meth)acrylate, 탄소수 13~14의 알킬기 포함), 미리스틸(메트)아크릴레이트(myristyl(meth)acrylate, 탄소수 14~15의 알킬기 포함), 팔미틸(메트)아크릴레이트(palmic(meth)acrylate, 탄소수 17~18의 알킬기 포함), 스테아릴(메트)아크릴레이트(steayl(meth)acrylate, 탄소수 18~19의 알킬기 포함), 옥틸데실(메트)아크릴레이트(octyldecyl(meth)acrylate, 탄소수 19~20의 알킬기 포함), 노나데실(메트)아크릴레이트(nonacecan(meth)acrylate, 탄소수 18~19의 알킬기 포함) 및 라우릴테트라데실 메타크릴레이트 (lauryl testradecyl (meth)acrylate, 탄소수 12~13의 2개 알킬기 포함)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.
본 발명은 상기와 같이 탄소수 6 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아크릴 모노머를 포함하여 아크릴 수지 조성물의 표면 장력을 낮출 수 있으며, 이에 따라 아크릴 수지 조성물을 경화시킨 경화층의 소수성을 구현할 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 아크릴 모노머를 포함함으로써 경화층의 저온 파단 강도를 증가시킬 수 있으므로, 이를 포함하는 바닥재의 저온 내구성을 향상시킬 수 있다.
아울러, 본 발명에서 사용되는 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머와 함께 규소 함유 작용기를 포함하는 올리고머를 더 포함할 수 있다. 규소 함유 작용기를 포함하는 올리고머는 수지 조성물의 표면 장력을 낮추는 기능을 하며, 이렇게 표면 장력이 감소된 아크릴 수지 조성물은 경화 시 표면 에너지가 낮은 경화물을 형성할 수 있다. 표면 에너지가 낮은 경화물은 내오염성이 우수하므로 미세먼지, 습기, 기름때 등의 오염물이 표면에 흡착하기 어려운 이점이 있다.
이러한 규소 함유 작용기를 포함하는 올리고머는 알킬아크릴레이트, 알킬(메트)아크릴레이트 등의 아크릴 모노머와 규소(Si) 함유 작용기를 갖는 3-메타크릴로프로필티리메톡시실란(3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, MPTS) 등의 알콕시 실란계 아크릴 모노머를 중합한 올리고머나, 우레탄 아크릴레이트 중합체나 폴리에스테르 아크릴레이트를 규소(Si)로 변성시킨 실리콘 우레탄 아크릴레이트 중합체 또는 실리콘 폴리에스테르 아크릴레이트 중합체일 수 있다. 또한, 상기 규소 함유 작용기를 포함하는 올리고머는 중합 가능한 관능기를 2 이상 포함하는 다관능성 올리고머일 수 있으며, 구체적으로는 2 관능성 올리고머, 3 관능성 올리고머, 4관능성 올리고머 및 6관능성 올리고머 중 1종 이상을 포함할 수 있으며, 이때 규소 함유 작용기를 포함하는 올리고머의 평균 중량평균분자량(Mw)은 500 내지 20,000일 수 있고, 구체적으로는 500 내지 30,000, 1,000 내지 20,000, 1,000 내지 10,000, 1,000 내지 5,000, 1,500 내지 3,500 또는 1,000 내지 2,000일 수 있다.
본 발명에 따른 아크릴 수지 조성물은 앞서 언급된 각 성분들을 일정 함량으로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머 100 중량부; 규소 함유 작용기를 갖는 올리고머 0 내지 40 중량부; 및 탄소수 6 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아크릴 모노머 10 내지 50 중량부를 포함할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 올리고머 100 중량부에 대하여; 5 내지 40 중량부, 10 내지 20 중량부, 20 내지 30 중량부, 30 내지 40 중량부, 5 내지 40 중량부, 15 내지 40 중량부, 25 내지 40 중량부, 20 내지 35 중량부, 15 내지 37 중량부, 19 내지 25 중량부, 31 내지 35 중량부, 21 내지 34 중량부로 규소 함유 작용기를 갖는 올리고머를 포함하거나 포함하지 않고; 10 내지 50 중량부, 20 내지 50 중량부, 30 내지 50 중량부, 40 내지 50 중량부, 10 내지 40 중량부, 10 내지 30 중량부, 10 내지 20 중량부, 15 내지 40 중량부, 20 내지 40 중량부, 25 내지 35 중량부, 30 내지 45 중량부, 27 내지 36 중량부, 30 내지 40 중량부, 또는 31 내지 36 중량부로 탄소수 6 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아크릴 모노머를 포함할 수 있다.
하나의 예로서, 상기 아크릴 수지 조성물은 아크릴계 오릴고머 100 중량부; 규소 함유 작용기를 갖는 올리고머 21 내지 24 중량부; 및 탄소수 6 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아크릴 모노머 29 내지 35 중량부를 포함할 수 있다.
나아가, 본 발명에 따른 아크릴 수지 조성물은 반응성 관능기를 갖는 아크릴 모노머를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 반응성 관능기를 갖는 아크릴 모노머는 (메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트 또는 2-하이드록시프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시아세트산, 3-(메트)아크릴로일옥시프로필산, 4-(메트)아크릴로일옥시부틸산, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레산, 카프로락톤 변성 하이드록시아크릴레이트(caprolactone modified hydroxyl acrylate, CHA), 테트라에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판에톡시트리아크릴레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트(Mw=100~600)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.
상기 반응성 관능기를 갖는 아크릴 모노머는 아크릴 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 50 중량부로 포함될 수 있고, 구체적으로는 아크릴 수지 조성물 100 중량부에 대하여 10 내지 50 중량부, 15 내지 40 중량부, 15 내지 35 중량부, 10 내지 20 중량부, 20 내지 40 중량부, 30 내지 50 중량부, 22 내지 40 중량부, 25 내지 37 중량부 또는 28 내지 32 중량부로 포함될 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 조성물은 경화층 표면에 형성된 덴드라이트 형상의 씨드(seed) 역할을 일부 수행하면서 내구성을 향상시키기 위하여 강도가 높은 필러를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 필러로는 조성물의 경화 후 경화층의 광택에 영향을 미치지 않으면서 표면강도를 향상시킬 수 있는 것을 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 필러로서 콜로이달 실리카, 알루미나, 글래스 비드, 유기물 비드(고분자 입자 등) 등을 사용할 수 있으며, 이들의 평균 직경은 1 ㎛ 내지 30 ㎛일 수 있고, 보다 구체적으로는 1 ㎛ 내지 25 ㎛, 1 ㎛ 내지 20 ㎛, 1 ㎛ 내지 15 ㎛, 10 ㎛ 내지 30 ㎛, 15 ㎛ 내지 30 ㎛, 20 ㎛ 내지 30 ㎛, 1 ㎛ 내지 12 ㎛, 1 ㎛ 내지 10 ㎛, 2 ㎛ 내지 13 ㎛, 3 ㎛ 내지 10 ㎛, 3 ㎛ 내지 7 ㎛, 9 ㎛ 내지 12 ㎛, 11 ㎛ 내지 15 ㎛, 4 ㎛ 내지 11 ㎛ 또는 6 ㎛ 내지 9 ㎛일 수 있다. 본 발명은 필러의 평균 직경을 상기 범위로 제어함으로써 경화층의 광택에 영향을 미치지 않으면서 경화층의 크랙 발생을 방지하고 경화층과 다른 층간의 접착력을 증가시켜 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 필러는 경화층의 광택도와 내오염성을 저해하지 않도록 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 미만로 포함될 수 있다. 예를 들어, 상기 필러는 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 이하를 포함할 수 있고, 보다 구체적으로 상기 필러의 함량은 상한가가 10 중량부 미만, 9 중량부 미만, 8 중량부 미만, 7 중량부 미만, 6 중량부 미만, 5 중량부 미만 또는 4 중량부 미만일 수 있고, 하한가가 0.01 중량부 이상, 0.05 중량부 이상, 0.1 중량부 이상, 0.5 중량부 이상, 또는 1 중량부 이상일 수 있다. 하나의 예로서, 상기 필러는 0.1 내지 3 중량부, 0.1 내지 2.5 중량부, 0.5 내지 2.5 중량부, 1 내지 3 중량부, 1.5 내지 3 중량부, 2.5 내지 3 중량부, 1.5 내지 2 중량부, 2 내지 2.5 중량부, 또는 2.2 내지 2.7 중량부로 포함될 수 있다.
또한, 본 발명에서 사용되는 조성물은 점도가 낮은 탄소수 6 내지 20의 알킬기를 포함하는 아크릴 모노머를 포함하여 기존의 조성물과 대비하여 경화층의 광택 저감을 위한 소광제를 극소량 포함하거나 포함하지 않아 25℃에서 100 내지 800 cps, 구체적으로는 100 내지 600 cps, 100 내지 500 cps, 100 내지 400 cps, 150 내지 350 cps, 170 내지 330 cps, 200 내지 300 cps, 240 내지 290 cps, 180 내지 220 cps, 또는 280 내지 320 cps의 낮은 점도를 가질 수 있으며, 경화층의 내구성 향상을 위하여 필러를 더 포함하여도 350 cps 이하의 낮은 점도를 나타낼 수 있다. 상기 조성물은 350 cps 이하의 낮은 점도를 가짐으로써 작업성이 우수한 이점을 갖는다.
이하, 본 발명을 실시예 및 실험예에 의해 보다 상세히 설명한다.
단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예 및 실험예에 한정되는 것은 아니다.
제조예 1 내지 3. 아크릴 수지 조성물의 제조
제1 아크릴 올리고머 (3관능 올리고머, Mw: 7,000±10), 제2 우레탄 아크릴레이트 (바이오 올리고머, Mw: 1,500±10), 규소 함유 작용기를 갖는 올리고머 (Mw: 3,000±10), 라우릴테트라데실 메타크릴레이트(M1241), 하이드록시프로필 아크릴레이트(HPA), 폴리에틸렌글리콜 200 디메타크릴레이트(PEG200DA), 필러로서 콜로이달 실리카 (평균 직경: 5~10 ㎛) 및 분산제를 개시제인 이가큐어 754(Irgacure 754)와 함께 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 혼합하여 무용제 타입의 아크릴 수지 조성물을 제조하였다.
제조예 1 제조예 2 제조예 3
제1 아크릴 올리고머 35 35 35
제2 아크릴 올리고머 10 10 10
규소 함유 작용기를 갖는 올리고머 0 10 15
M1241 15 15 0
HPA 15 10 15
PEG200DA 15 10 15
콜로이달 실리카 5 5 5
분산제 1 1 1
Irgacure 754 4 4 4
점도 (25±0.5℃) 250±5 cps 300±5 cps 400±5 cps
실시예 1 내지 2.
각각 크기가 10 ㎝ X 세로 10 ㎝인 폴리염화비닐(PVC) 발포시트 (평균 두께: 1T, 평균 기공 크기: 300~400 ㎛) 및 투명 폴리염화비닐(PVC) 기재를 적층하고, 투명 폴리염화비닐(PVC) 기재 상에 상기 제조예 1 및 2에서 제조된 아크릴 수지 조성물을 각각 도포하고 도 1에 나타낸 것과 같은 구조의 광 경화장치에 고정시켰다. 그 후 하기 표 3에 나타낸 바와 같이 20±1 m/min의 이동속도로 기재를 이동시키면서 단계적으로 광 조사를 수행하여 바닥재 시편을 제조하였다. 이때, 상기 경화층의 평균 두께는 15±1㎛이였다.
실시예 1 실시예 2
아크릴 조성물 종류 제조예 1의 조성물 제조예 2의 조성물
경화 조건 1
제1 광 조사 파장범위 172±5 ㎚
조사량 40±2 mJ/㎠
광원과의 거리 50±1㎜
가스 조건 N2 조건 (O2 1,000 ppm)
제2 광 조사 파장 범위 250~400 ㎚
조사량 300±5 mJ/㎠
광원과의 거리 100±1㎜
가스 조건 공기 조건
제3 광 조사 파장 범위 250~400 ㎚
조사량 600±10 mJ/㎠
광원과의 거리 100±1㎜
가스 조건 N2 조건 (O2 1,000 ppm)
비교예 1 내지 6.
하기 표 4 및 5와 같은 경화조건으로 조성물을 경화하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일한 방법으로 수행하여 바닥재 시편을 제조하였다. 이때, 상기 경화층의 평균 두께는 15±1㎛이였다.
비교예 1 비교예 2 비교예 3 비교예 4 비교예 5 비교예 6
아크릴 조성물 종류 제조예 1의 조성물 제조예 2의 조성물 제조예 3의 조성물 제조예 3의 조성물 제조예 1의 조성물 제조예 1의 조성물
경화조건 경화조건 2 경화조건 2 경화조건 1 경화조건 2 경화조건 3 경화조건 4
경화조건 2 경화조건 3 경화조건 4
제1 광 조사 파장범위 172±5 ㎚ - 172±5 ㎚
조사량 20±2 mJ/㎠ - 120±2 mJ/㎠
광원과의 거리 50±1㎜ - 50±1㎜
가스 조건 N2 조건(O2 1,000 ppm) - N2 조건
(O2 1,000 ppm)
제2 광 조사 파장 범위 250~400 ㎚ 250~400 ㎚ 250~400 ㎚
조사량 300±5 mJ/㎠ 300±5 mJ/㎠ 300±5 mJ/㎠
광원과의 거리 100±1㎜ 100±1㎜ 100±1㎜
가스 조건 공기 조건 공기 조건 공기 조건
제3 광 조사 파장 범위 250~400 ㎚ 250~400 ㎚ 250~400 ㎚
조사량 600±10 mJ/㎠ 600±10 mJ/㎠ 600±10 mJ/㎠
광원과의 거리 100±1㎜ 100±1㎜ 100±1㎜
가스 조건 N2 조건
(O2 1,000 ppm)		 N2 조건
(O2 1,000 ppm)		 N2 조건
(O2 1,000 ppm)
실험예 1
본 발명에 따른 바닥재의 최외각층인 경화층의 표면 구조를 확인하기 위하여 실시예 1과 비교예 1, 5 및 6에서 제조된 바닥재 시편을 대상으로 주사 전자현미경(SEM) 분석을 수행하였으며, 그 결과는 도 2 내지 4에 나타내었다.
도 2 및 3을 살펴보면, 본 발명에 따른 실시예 1의 시편은 표면에 일정 크기와 빈도로 방사형 굴곡 구조를 포함하는 것으로 나타났으며, 상기 방사형 굴곡 구조는 중심부에서 주변부로 갈수록 높이가 낮아지는 구조를 갖는 것을 알 수 있다.
또한, 실시예 1과 비교예 1의 적층 필름을 살펴보면, 적층 필름의 경화층은 제1 광 경화 단계에서의 광 조사량이 강해질수록 미세 굴곡이 강하게 형성되면서 표면에 형성된 랜덤 방사형의 미세굴곡 구조의 크기(즉, 직경)은 작아지고, 중심부의 높이와 빈도는 증가하는 것으로 확인되었다. 구체적으로, 실시예 1의 경우 방사형 굴곡 구조의 평균 크기는 50±2 ㎛이고, 중심부의 높이는 16±1 ㎛이며, 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 140 내지 165개의 덴드라이트 형상을 포함하고, 비교예 1의 경우 방사형 굴곡 구조의 평균 크기는 70±2 ㎛이고, 중심부의 높이는 12±1 ㎛이며, 단위 면적(1㎜ X 1㎜)당 40 내지 60개를 포함하는 것으로 나타났다.
이와 비교하여, 제1 광 경화 단계를 수행하지 않은 비교예 5의 시편은 표면에 미세 굴곡 구조를 갖지 않는 것으로 나타났다. 또한, 도 4를 살펴보면, 제1 광 경화 단계를 수행하였으나 광의 조사량이 현저히 많은 비교예 6의 시편은 표면에 굴곡 구조를 포함하나 굴곡 정도가 커 중심부를 포함하지 않으므로 방사형의 미세 굴곡 구조를 갖지 않는 것으로 확인되었다.
이러한 결과로부터, 200 ㎚ 미만 파장의 광을 조사하는 제1 광 조사 단계는 엑시머를 발생시키고, 발생된 엑시머는 단파장 UV를 발생시켜 조성물 및/또는 경화층의 표면 경화를 빠르게 촉진시키며, 이에 따라 조성물 및/또는 경화층의 표면은 수축이 발생되어 미세한 굴곡 구조를 형성됨을 알 수 있다. 다시 말해, 본 발명에 따른 제1 광 조사 단계의 수행 조건을 특정 조건으로 조절함으로써 미세 굴곡 구조의 형태를 제어할 수 있음을 알 수 있다.
실험예 2.
본 발명에 따른 바닥재의 광택성, 내오염성, 논슬립성 및 저온 내구성을 평가하기 위하여 실시예 1 내지 4와 비교예 1 내지 3에서 제조된 시편을 대상으로 표면조도, 광택도, 요오드 오염에 따른 색좌표 편차, 논슬립성 시험 및 저온 파단 강도를 측정하였다. 구체적인 측정방법은 다음과 같으며, 측정된 결과는 하기 표 6에 나타내었다:
가) 표면 조도 평가
표면조도 측정기(모델명: 178-560-02K Model, 제조사: Mistutoyo社)를 이용하여 ISO 4287에 따른 표면 조도(Rz)를 측정하였다.
나) 광택도 평가
실시예 및 비교예의 시편들을 대상으로 광택 측정기(Gloss Meter)를 이용하여 60° 광택도(글로스 60° 조건) 를 측정하였다.
다) 정적 물 접촉각 평가
실시예 및 비교예의 시편들을 대상으로 접촉각 측정기(모델명: SmartDrop, 제조사: Femtofab Co. Ltd)를 이용하여 정적 물 접촉각(static water contact angle, static WCA)을 측정하였다. 이때, 각 측정은 매 측정 시마다 10㎕의 증류수 한 방울을 표면에 떨어뜨려 수행하였으며, 3회씩 반복 수행하여 그 평균값을 도출하였다.
라) 내오염성 (깔끄미) 평가
KS M 3802에 따라 시험을 수행하되, 오염 재료로서 유성 매직을 사용하여 표면에 약 10 cm의 선을 긋고 이후 30초가 경과하면 킴와이프스로 그어진 선을 문질러 제거하여 최초 오염면적 기준으로 지워지지 않고 잔류하는 면적 (예컨대, 흔적이나 번짐)을 육안으로 확인하였으며, 그 결과를 하기의 기준에 따라 분류하였다:
- 1등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 90% 이상
- 2등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 60% 이상 90% 미만
- 3등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 20% 이상 60% 미만
- 4등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 5% 이상 20% 미만
- 5등급: 최초 오염면적 기준 잔류하는 면적이 5% 미만
마) 논슬립 평가
DIN 51130에 따른 Ramp 시험을 수행하여 미끄러짐이 발생되는 경사각을 측정하였으며, 측정된 경사각을 하기 기준에 따라 분류하여 논슬립 등급을 정하였다:
- R9: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 6° 이상 10° 미만
- R10: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 10° 이상 19° 미만
- R11: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 19° 이상 27° 미만
- R12: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 27° 이상 35° 미만
- R13: 미끄러짐이 발생되는 경사각의 각도가 35° 이상
바) 저온 파단강도 평가
실시예 및 비교예의 시편에서, 폭 20mm 및 길이 100 mm의 시험편을 세로방향 및 가로방향에서 각각 5개 제단하고, 시험편의 표면을 외측으로 하여 길이방향의 양끝을 겹쳐서 그 한쪽 끝의 약 5 mm 부분을 내한시험 장치의 클램프에 고정하였다. 그 후 고정된 시험편을 저온의 메탄올 수조에 침지시키고, 시험편 위로 약 50 mm 위치에 낙하체(중량: 2.5 kgf (≒24.5N))준비하였다. 시험편을 고정 및 침지시키고, 5분이 경과하면 낙하체를 시험편 표면에 낙하시키고, 낙하체가 떨어진 시험편을 수조에서 꺼내어 표면 손상 여부, 구체적으로 잔금, 깨짐, 핀홀 등의 발생 여부를 육안으로 확인하였다. 여기서, 메탄올 수조의 온도는 각각 -30℃, -25℃ 및 -20℃로 조절되었으며, 시험편 표면에 손상이 발생 시의 온도를 저온 파단강도 결과로 측정하였다.
표면 조도 (Rz) 광택도 물 접촉각 평가 깔끄미 평가 논슬립성 파단 온도
실시예 1 13±0.5 ㎛ 2±0.01 91.2° 5등급 R10 -25℃
실시예 2 15±0.5 ㎛ 1.5±0.01 91.7° 5등급 R10 -25℃
비교예 1 5±0.5 ㎛ 7±0.1 96.5° 5등급 R9 -25℃
비교예 2 5±0.5 ㎛ 6±0.1 98.2° 5등급 R9 -25℃
비교예 3 15±0.5 ㎛ 1.5±0.1 38.0° 1등급 R10 -25℃
비교예 4 6±0.5 ㎛ 6±0.05 42.5° 5등급 R19 -25℃
비교예 5 3±0.5 ㎛ 10±1 100.5 5등급 R9 -25℃
비교예 6 15±0.5 ㎛ 1.5±1 97.2 5등급 R10 -15℃
상기 표 6에 나타낸 바와 같이 본 발명에 따른 바닥재는 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 조사하여 경화시킴으로써 우수한 표면 물성을 나타내는 것을 알 수 있다.
구체적으로, 실시예 1 및 2의 바닥재 시편들은 소광제를 소량 사용하여도 글로스 60° 조건에서의 광택도가 5 미만이고, 내오염성이 뛰어나 유성 매직 오염 및 세척 후 오염 면적이 5% 미만인 것으로 나타났다. 또한, 상기 실시예 1 및 2의 시편들은 19° 미만의 경사각에서는 미끄러짐이 발생하지 않고, 낙하체(2.5 kgf)의 낙하 시, -25℃ 이상의 온도에서는 표면 손상이 발생하지 않는 것으로 확인되었다.
이러한 결과로부터 조성물의 광 경화 시 특정 범위의 단파장 광을 서로 다른 조건 하에서 단계적으로 조사하여 경화하는 경우 조성물의 경화율이 향상될 뿐만 아니라 경화층의 광택도가 감소하고 내오염성, 및 논슬립성이 동시에 향상될 뿐만 아니라 저온에서의 내구성이 개선됨을 알 수 있다. 나아가, 상기 경화층들은 표면에 구현된 방사형 굴곡 구조의 평균 크기, 중심부의 높이 및 단위 면적당 빈도가 증가할수록 광택이 낮아지는 경향을 보였다. 이는 상기 방사형 굴곡 구조가 경화층의 표면 물성에 영향을 미침을 의미한다.
100: 광 경화장치
110: 광 조사실
111: 제1 광 조사기 (UV 조사기)
112: 제2 광 조사기 (UV 조사기)
113: 제3 광 조사기 (UV 조사기)
120: 조사된 광
130: 컨베이어 벨트
140: 가스 격막
150: 시편
200: 바닥재의 단면구조
210: 경화층
220: 기재층
211: 덴드라이트

Claims (13)

  1. 발포층, 기재층 및 아크릴 수지 조성물의 경화층을 포함하고,
    상기 경화층은 표면에는 한 점을 중심부로 하고 상기 중심부에서 주변부로 뻗어나가는 방사형의 굴곡 구조인 덴드라이트 형상을 포함하며,
    표면 조도(Rz)가 평균 5㎛ 내지 40㎛이고,
    평균 정적 물 접촉각(static water contact angle)이 80° 내지 120°인 바닥재.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 방사형 굴곡 구조의 평균 직경은 5㎛ 내지 500㎛인 바닥재.
  3. 제1항에 있어서,
    방사형 굴곡 구조는 표면의 단위 면적 (1㎜ X 1㎜)당 80 내지 400개 존재하는 바닥재.
  4. 제1항에 있어서,
    바닥재는, 2.5kgf의 낙하체에 대한 파단이 발생되는 온도가 -30℃ 내지 -20℃인 바닥재.
  5. 제1항에 있어서,
    표면 광택도가 글로스(Gloss) 60° 조건 하에서 5 미만인 바닥재.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 경화층은 DIN 51130에 따른 램프 시험 시 미끄러짐이 발생되는 경사각 등급은 R10 이상인 바닥재.
  7. 제1항에 있어서,
    경화층의 평균 두께는 5㎛ 내지 30㎛인 바닥재.
  8. 아크릴 수지 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 300㎚ 미만 파장의 광을 조사하여 상기 조성물을 활성화시키는 제1 광 조사 단계;
    활성화된 조성물에, 공기(air) 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 1차 광 경화시키는 제2 광 조사 단계; 및
    1차 경화된 조성물에, 불활성 기체 조건 하에서 200㎚ 내지 400㎚ 파장의 광을 조사하여 조성물을 2차 광 경화시키는 제3 광 조사 단계를 포함하고,
    제1 광 조사 단계의 광 조사량이 25 mJ/㎠ 내지 75 mJ/㎠인 바닥재의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서,
    제1 광 조사 단계 및 제3 광 조사 단계는, 산소(O2)의 농도가 10 ppm 내지 30,000 ppm인 질소(N2) 조건 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 바닥재의 제조방법.
  10. 제8항에 있어서,
    아크릴 수지 조성물은,
    아크릴계 올리고머 100 중량부;
    규소 함유 작용기를 포함하는 올리고머 0 내지 40 중량부; 및
    탄소수 6 내지 20의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 갖는 아크릴 모노머 10 내지 50 중량부를 포함하는 바닥재의 제조방법.
  11. 제8항에 있어서,
    아크릴 수지 조성물은 실리카, 알루미나, 글래스 비드 및 유기물 비드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 필러를 더 포함하는 바닥재의 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    필러의 평균 직경은 1 ㎛ 내지 30 ㎛인 바닥재의 제조방법.
  13. 제11항에 있어서,
    필러의 함량은 조성물 100 중량부에 대하여 10 중량부 미만인 바닥재의 제조방법.
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