KR102173657B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마스크를 이용하여 기판에 미리 설정된 패턴의 증착, 식각 등의 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은, 밀폐된 처리공간(S)을 형성하며 마스크(160)를 이용하여 기판처리를 수행하는 공정챔버(100)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 직사각형 기판(10)을 지지하는 기판지지부(140)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160)를 지지하는 복수의 마스크지지부재(170)를 포함하는 마스크지지부와; 상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 어느 하나에 결합되어 상기 마스크(160) 및 상기 기판(10)의 상대 수평위치를 얼라인하는 얼라인부(200)와; 상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 적어도 하나의 진동을 저감하는 진동저감부(300)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.

Description

기판처리장치 {Substrate processing apparatus}
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 마스크를 이용하여 기판에 미리 설정된 패턴의 증착, 식각 등의 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다.
비전 얼라인은, 피정렬체의 특정 포인트를 인식하여 피정렬체를 정확한 위치에 얼라인하기 위한 기술로, 반도체 등의 기판처리장치에서 마스크 및 기판 사이의 정확한 위치에 정렬시키기 위해 사용된다.
한편, LCD(Liquid crystal display), OLED(Organic light emitting diode), 태양전지 및 반도체 등의 기판은, 대형화되는 추세로 그에 따라 기판처리장치 또한 대형화되고 있다.
이에 따라 마스크 및 기판 정렬시 위치에 따른 정렬오차의 발생가능성이 증가하고 있으며, 마스크 및 기판을 지지하는 지지부에 외부의 진동이 전달되는 경우 지지된 마스크 또는 기판에 대한 미세한 정렬오차가 발생되는 문제점이 있다.
즉, 종래의 기판처리장치는, 마스크 또는 기판을 지지하는 지지부에 전달된 진동의 영향으로 마스크 및 기판의 얼라인을 위한 영상 수집단계에서 마스크 및 기판의 정확한 위치좌표를 얻을 수 없고 이에 따라 오정렬을 발생시킬 수 있는 문제점이 있다.
이러한 진동문제는, 기판이 대형화될수록 얼라인의 정확도에 미치는 영향이 커지므로 정확한 얼라인을 위해 마스크, 기판에 가해지는 진동을 저감할 수 있는 기술이 요구되고 있다.
본 발명의 목적은, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 마스크지지부재 및 기판지지포스트 중 적어도 하나의 진동을 저감하여 진동이 마스크 및 기판의 얼라인에 영향을 주는 것을 최소화할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 밀폐된 처리공간(S)을 형성하며 마스크(160)를 이용하여 기판처리를 수행하는 공정챔버(100)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 직사각형 기판(10)을 지지하는 기판지지부(140)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160)를 지지하는 복수의 마스크지지부재(170)를 포함하는 마스크지지부와; 상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 어느 하나에 결합되어 상기 마스크(160) 및 상기 기판(10)의 상대 수평위치를 얼라인하는 얼라인부(200)와; 상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 적어도 하나의 진동을 저감하는 진동저감부(300)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.
상기 진동저감부(300)는, 상기 마스크지지부재(170) 중 마스크(160)를 지지하는 끝단 및 상기 공정챔버(100)의 내측면 사이에 상기 마스크지지부재(170)에 대하여 가압상태를 유지하는 하나 이상의 가압부재(400)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
상기 진동저감부(300)는, 상기 마스크지지부재(170) 중 마스크(160)를 지지하는 끝단 및 상기 공정챔버(100)의 내측면 사이에 상기 얼라인부(200)에 의한 얼라인시 상기 마스크지지부재(170)에 대하여 가압상태를 유지하고, 상기 마스크지지부재(170)의 상하이동시 가압상태를 해제하는 하나 이상의 가압부재(400)와, 상기 가압부재(400)를 선형이동 및 회전이동 중 적어도 하나의 이동에 의하여 상기 마스크지지부재(170)에 대한 가압상태의 유지 및 해제를 수행하는 가압부재이동부(700)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
상기 가압부재(400)는, 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)가 일단에 설치되는 몸체부(500)와, 상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(514)를 포함할 수 있다.
상기 가압부재(400)는, 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향을 중심축으로 하여 원주방향을 따라서 등각으로 복수개로 배치될 수 있다.
상기 가압부재이동부(700)는, 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향을 중심으로 하여 반경방향으로 상기 가압부재(400)를 선형이동시키는 선형이동부재를 포함할 수 있다.
상기 가압부재이동부(700)는, 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향과 평행한 회전축을 중심으로 하여 상기 가압부재(400)를 회전이동시키는 회전이동부재를 포함할 수 있다.
상기 가압부재(400)는, 상기 가압부재(400) 회전이동의 중심축이 되며 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향으로 설치되는 힌지핀(800)이 삽입되도록 길이방향으로 슬롯(524)이 형성된 몸체부(500)와; 상기 몸체부(500)의 일단에 결합되어 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와; 상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(526)를 포함하고, 상기 몸체부(500)는, 상기 가압부재(400)의 회전이동에 따라 상기 힌지핀(800)이 상기 슬롯(524)를 따라 상대이동하며 그 길이가 가변될 수 있다.
상기 회전이동부재는, 회전구동력을 제공하는 구동원(712)과; 상기 구동원(712)과 연결되어 회전하는 구동기어(710)와; 상기 구동기어(710)와 나사결합되어 상기 구동기어(710)의 회전에 따라 상기 몸체부(500)의 일단을 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향을 회전축으로 하여 회전이동시켜 상기 몸체부(500)를 상기 힌지핀(800)을 중심으로 회전이동시켜 상기 마스크지지부재(170)에 대한 상기 가압부재(400)의 가압 및 가압해제를 수행하는 종동기어(720)를 포함할 수 있다.
상기 가압부재이동부(700)는, 상기 마스크지지부재(170)를 중심으로 한 원주방향과 접하는 접선을 회전축으로 하여 상기 가압부재(400)를 회전이동시키는 회전이동부재를 포함할 수 있다.
상기 가압부재(400)는, 상기 가압부재(400) 회전이동의 중심축이 되며 상기 마스크지지부재(170)를 중심으로 한 원주방향과 접하는 힌지핀(900)이 삽입되도록 길이방향으로 슬롯(536)이 형성된 몸체부(500)와; 상기 몸체부(500)의 일단에 결합되어 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와; 상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(533)를 포함하고, 상기 몸체부(500)는, 상기 가압부재(400)의 회전이동에 따라 상기 힌지핀(900)이 상기 슬롯(536)를 따라 상대이동하며 그 길이가 가변될 수 있다.
상기 회전이동부재는, 상기 몸체부(500)의 타단과 힌지결합되어 상기 몸체부(500)의 타단을 상하로 이동시킴으로써, 상기 힌지핀(900)을 회전축으로 하여 상기 가압부재(400)를 회전이동시키는 상하이동부를 포함할 수 있다.
상기 기판지지부(140)는, 상기 공정챔버(100)를 관통하는 하나 이상의 기판지지포스트(141)를 포함하며, 상기 진동저감부(300)는, 상기 기판지지포스트(141)에 대하여 가압상태를 유지하는 하나 이상의 가압부재(400)를 포함할 수 있다.
상기 진동저감부(300)는, 상기 기판지지포스트(141) 중 기판(10)을 지지하는 끝단 및 상기 공정챔버(100)의 내측면 사이에 상기 얼라인부(200)에 의한 얼라인시 상기 기판지지포스트(141)에 대하여 가압상태를 유지하고 상기 상기 기판지지포스트(141)의 상하이동시 가압상태를 해제하는 하나 이상의 가압부재(400)와, 상기 가압부재(400)를 선형이동 및 회전이동 중 적어도 하나의 이동에 의하여 상기 기판지지포스트(141)에 대한 가압상태의 유지 및 해제를 수행하는 가압부재이동부(700)를 포함할 수 있다.
상기 가압부재(400)는, 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)가 일단에 설치되는 몸체부(500)와, 상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 기판지지포스트(141)에 가압될 때 상기 기판지지포스트(141)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(514)를 포함할 수 있다.
상기 접촉부재(600)는, 상기 마스크지지부재(170)와 접촉한 상태로 회전할 수 있는 롤러 또는 볼에 해당할 수 있다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 마스크지지부재 및 기판지지부 중 적어도 하나의 진동을 저감하는 진동저감부를 추가로 포함함으로써, 외부진동이 마스크 및 기판의 얼라인에 영향을 주는 것을 최소화하여 마스크 및 기판 사이의 보다 정확한 얼라인을 가능하게 하는 이점이 있다.
특히 본 발명에 따른 기판처리장치는, 마스크지지부재의 길이방향을 중심축으로 원주방향으로 배치된 복수의 가압부재가 마스크지지부재의 외면을 가압함으로써 외부에서 공정챔버에 가해지는 외부진동이 마스크지지부재로 전달되는 것을 효과적으로 저감하고 그에 따라 마스크 및 기판 사이의 얼라인의 정확도를 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 마스크 및 기판 얼라인시 가압부재에 의하여 가압함으로써 외부진동의 전달을 저감하고, 얼라인 전 또는 후 상기 마스크지지부재(170) 또는 기판지지포스트(141)의 상하이동시 마스크지지부재에 대한 가압부재의 가압을 해제함으로써 마스크지지부재가 상승 또는 하강할 때 마스크지지부재와 가압부재 사이의 마찰에 의해 발생할 수 있는 파티클 문제를 방지할 수 있는 이점이 있다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 종단면도이다.
도 2는, 도 1의 기판처리장치를 보여주는 평단면도이다.
도 3은, 진동저감부를 보여주는 도면으로서, 도 2에서 A부분을 확대한 일부 확대도이다.
도 4는, 도 3에서 -방향의 단면도이다.
도 5는, 도 1의 기판처리장치에 설치되는 진동저감부의 다른 예를 보여주는 일부 평면도이다.
도 6은, 도 5에서 -방향에서 본 단면도이다.
도 7a 및 도 7b는, 도 5의 진도저감부의 구성 일부의 작동 상태를 보여주는 개념도이다.
도 8은, 도 1의 기판처리장치에 설치되는 진동저감부의 또 다른 예를 보여주는 일부 단면도이다.
이하 본 발명에 따른 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 도 1 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 밀폐된 처리공간(S)을 형성하며 마스크(160)를 이용하여 기판처리를 수행하는 공정챔버(100)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 직사각형 기판(10)을 지지하는 기판지지부(140)와; 상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160)를 지지하는 복수의 마스크지지부재(170)를 포함하는 마스크지지부와; 상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 어느 하나에 결합되어 상기 마스크(160) 및 상기 기판(10)의 상대 수평위치를 얼라인하는 얼라인부(200)를 포함한다.
여기서 처리대상인 기판(10)은, 마스크(160)를 이용하여 증착, 식각 등 기판처리를 수행하는 기판으로서, LCD 제조용 기판, OLED 제조용 기판, 태양전지 제조용 기판 등 평면형상이 직사각형 형상을 가지는 기판이면 어떠한 기판도 가능하다.
그리고 본 발명에 따른 기판처리장치에 의하여 수행되는 기판처리는, 밀폐된 처리공간(S) 내에서 마스크(160)를 이용하여 증착, 식각 등 기판처리를 수행하는 기판처리공정이면 PECVD 공정, 증발증착공정 등 어떠한 공정도 가능하다.
한편, 상기 마스크(160)는, 설정된 패턴으로 증착, 식각 등의 기판처리의 수행을 위하여 기판(10)과 밀착되거나 간격을 두고 설치되는 구성으로서, 미리 설정된 패턴의 개구들이 형성되는 등 다양한 구성이 가능하다.
여기서 상기 마스크(160)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 직사각형 기판(10)의 평면형상에 대응되어 평면형상이 직사각형 형상을 가짐이 바람직하다.
또한, 상기 마스크(160)는, 후술하는 복수의 마스크지지부재(170)에 의해 안정적으로 지지되기 위해 후술하는 복수의 마스크지지부재(170)의 끝단 일부가 삽입되는 요홈(161)이 형성될 수 있다.
상기 요홈(161)은, 복수의 마스크지지부재(170)들 각각에 대응되는 위치에 형성되어 마스크지지부재(170)의 끝단 일부가 삽입됨으로써 마스크(160)의 안정적인 지지 및 마스크(160)의 지지위치가 미리 설정된 위치에 위치시키는 구성으로 다양한 형상이 가능하다.
상기 공정챔버(100)는, 기판처리를 위한 밀폐된 처리공간(S)를 형성하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 공정챔버(100)는, 상측에 개구가 형성된 챔버본체와, 챔버본체의 개구에 탈착가능하게 결합되어 챔버본체와 함께 밀폐된 처리공간을 형성하는 상부리드를 포함하여 구성될 수 있다.
그리고 상기 공정챔버(100)는, 측면에 형성된 기판(10)의 도입 및 배출을 위한 하나 이상의 게이트(101)가 형성될 수 있다.
또한, 상기 공정챔버(100)는, 수행되는 기판처리의 종류에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 기판처리의 수행을 위한 처리가스의 공급을 위한 가스공급부(130), 기판처리 수행을 위한 전원인가시스템, 처리공간(S)의 압력 제어 및 배기를 위한 배기시스템 등이 연결 또는 설치될 수 있다.
한편, 상기 공정챔버(100)는, 공정챔버(100)의 하부에 배치된 지지프레임(110)을 통해 지지되어 클린룸 등의 지면으로부터 미리 설정된 간격을 두고 설치된다.
상기 지지프레임(110)은, 공정챔버(100)를 지지하여 공정챔버(100)가 클린룸 등의 지면으로부터 이격되어 설치되도록 함으로써, 기판지지부(140)의 상하이동, 후술하는 얼라인부(200) 등 부대설비가 설치될 수 있도록 한다.
상기 지지프레임(110)은, 공정챔버(100)를 지지할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하며, 하나 이상의 프레임부재로 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.
또한, 상기 공정챔버(100)는, 일면(121)에서 기판(10)을 지지하기 위한 서셉터(120)가 추가로 설치될 수 있다.
상기 서셉터(120)는, 기판(10)과 마스크(160)의 얼라인 과정에서 기판(10)을 지지하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 서셉터(120)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160) 및 기판(10)의 얼라인 수행시 직사각형 기판(10)을 지지하는 지지면(121)과 지지면(121)과 연결된 지지대(122)로 구성될 수 있다.
상기 기판지지부(140)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 공정챔버(100)에 설치되어 기판(10)을 지지하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 기판지지부(140)는, 일단에서 기판(10)의 가장자리를 지지하는 복수의 지지로드(143), 지지로드(143)의 타단과 연결된 기판지지포스트(141) 및 기판(10)을 상하강 시키기 위해 지지로드(143) 및 기판지지포스트(141)를 상승 또는 하강시키는 상하구동부(144)로 구성될 수 있다.
상기 복수의 지지로드(143)는, 마스크(160) 및 기판(10)의 얼라인시 기판(10)의 가장자리를 지지하며, 기판지지포스트(141)와 연결되어 상하이동될 수 있다.
상기 기판지지포스트(141)는, 복수의 지지로드(143)와 연결되어 공정챔버(100)에 설치되는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 기판지지포스트(141)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 공정챔버(100)의 하측 면을 관통하여 공정챔버(100)에 설치될 수 있다.
상기 상하구동부(144)는, 후술하는 얼라인부(200)의 얼라인 수행 전 또는 후에 기판지지포스트(141)를 상하 구동할 수 있는 구성으로 다양한 구성이 가능하다. 예로서, 상기 상하구동부(144)는, 공정챔버(100)의 저면 및 지지프레임(110)에 의해 형성된 공간에 설치된 구조물에 설치되는 등 다양한 구성이 가능하다.
상기 공정챔버(100) 저면(기판지지포스트(141)의 설치면)과 상하구동부(144) 사이에는, 기판지지포스트(141)의 승하강 중에도 처리공간(S)을 진공상태로 유지할 수 있도록 벨로우즈(142)가 추가로 설치될 수 있다.
한편 상기 기판지지포스트(141)는, 기판처리의 종류에 따라서 다양한 구성이 가능하다.
상기 기판지지포스트(141)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 공정챔버(100)의 하측 저면에 설치될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 기판지지포스트(141)는, 공정챔버(100)의 하측에 설치되는 실시예 이외에도 공정챔버(100)의 상측에 설치되는 등 다양한 구성이 가능함을 물론이다.
예로서, 상기 기판지지포스트(141)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 공정챔버(100)의 하측 면을 관통하여 공정챔버(100)에 설치될 수 있다.
상기 마스크지지부는, 직사각형 기판(10)의 꼭지점에 대응되어 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160)를 지지하는 복수의 마스크지지부재(170)를 포함하는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.
여기서 상기 마스크지지부는, 마스크(160)의 지지방식 및 구조에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 공정챔버(100)의 하측에 설치되는 실시예 이외에도 공정챔버(100)의 상측에 설치되는 등 다양한 구성이 가능함을 물론이다.
일예로서, 상기 마스크지지부는, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(10)의 4개의 꼭지점에 대응되어 직사각형 기판(10)의 꼭지점에 대응되어 4개의 마스크지지부재(170)를 포함할 수 있다.
상기 4개의 마스크지지부재(170) 각각은, 일단에서 마스크(160)를 지지하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 마스크지지부재(170)는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 일단이 마스크(160)의 저면에 형성된 4개의 요홈(161)와 접하여 마스크(160)을 지지할 수 있는 로드로 구성되는 등 다양한 구성이 가능하다.
이때, 상기 마스크지지부재(170)는, 공정챔버(100)의 하측 면을 관통하여 공정챔버(100)에 설치될 수 있다.
또한, 상기 4개의 마스크지지부재(170)는, 각각 타단이 마스크지지부재(170)를 상하방향, 즉 Z축 방향으로 이동시킬 수 있는 상하구동부(174)와 결합될 수 있다.
상기 상하구동부(174)는, 후술하는 얼라인부(200)의 얼라인 수행 전 또는 후에 마스크지지부재(170)를 상하 구동할 수 있는 구성으로 다양한 구성이 가능하다. 예로서, 상기 상하구동부(174)는, 공정챔버(100)의 저면 및 지지프레임(110)에 의해 형성된 공간에 설치된 구조물에 설치되는 등 다양한 구성이 가능하다.
상기 공정챔버(100) 저면과 상하구동부(174) 사이에는, 마스크지지부재(170)의 승하강 중에도 처리공간(S)을 진공상태로 유지할 수 있도록 벨로우즈(172)가 추가로 설치될 수 있다.
상기 얼라인부(200)는, 기판지지부(140) 및 마스크지지부 중 어느 하나에 결합되어 마스크(160) 및 기판(10)의 상대 수평위치를 얼라인하는 구성으로서, 얼라인방식 및 설치위치에 따라서 다양한 구성이 가능하다.
일 예로서, 상기 얼라인부(200)는, 4개의 마스크지지부재(170) 중 적어도 2개 이상, 보다 바람직하게는 서로 대각선 방향에 위치된 2개의 마스크지지부재(170)에 결합되어 마스크(160) 및 기판(10)의 상대수평위치를 얼라인하도록 구성될 수 있다.
이때, 상기 얼라인부(200)는, 상기 마스크지지부재(170)를 X축 및 Y축 중 적어도 하나의 방향으로 이동시킬 수 있는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
한편, 상기 기판처리장치는, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 얼라인부(200)에 의한 얼라인을 수행하기 위하여 마스크(160) 및 기판(10) 사이의 상대 위치를 획득할 수 있는 카메라부(190)를 포함할 수 있다.
그리고 상기 카메라부(190)는, 마스크(160)에 표시된 얼라인 마크(미도시)에 대한 영상을 수집하여 얼라인을 위한 위치좌표를 획득하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
이때, 종래 기판처리장치는, 얼라인을 위한 영상 수집단계에서 외부진동으로 인해 얼라인을 위한 위치좌표에 오차를 발생시켜 결과적으로 마스크(160) 및 기판(10)의 상대 수평위치에 미스 얼라인을 발생시킬 수 있다.
특히 기판처리공정이 정밀화되면서 미세진동에 의한 측정오차는, 기판처리의 불량의 원인으로서 작용할 수 있다.
양호한 기판처리의 수행을 위해서는 공정챔버(100)에 가해지는 외부진동이 기판지지부(140) 및 마스크지지부 중 적어도 하나에 전달되는 것을 최소화할 필요가 있다.
이에, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 공정챔버(100)에 가해지는 외부진동이 기판지지부(140) 및 마스크지지부 중 적어도 하나에 전달되는 것을 저감하는 진동저감부(300)를 추가로 포함한다.
상기 진동저감부(300)는, 도 1 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 기판지지부(140) 및 마스크지지부 중 적어도 하나의 진동을 저감하는 구성이 가능하다.
상기 진동저감부(300)는, 마스크지지부재(170) 중 마스크(160)를 지지하는 끝단 및 공정챔버(100)의 내측면 사이 또는 상기 기판지지포스트(141) 중 기판(10)를 지지하는 끝단 및 상기 공정챔버(100)의 내측면 사이에 설치되어 기판지지부(140) 및 마스크지지부 중 적어도 하나의 진동을 저감하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
이하, 상기 진동저감부(300)가 마스크지지부재(170) 중 마스크(160)를 지지하는 끝단 및 공정챔버(100)의 내측면 사이에 설치되는 경우를 설명한다.
이는 설명의 편의를 위한 것으로 본 발명에서 설명되는 진동저감부(300)는, 마스크지지부재(170) 중 마스크(160)를 지지하는 끝단 및 공정챔버(100)의 내측면 사이뿐만 아니라 기판지지포스트(141) 중 기판(10)를 지지하는 끝단 및 상기 공정챔버(100)의 내측면 사이에도 설치될 수 있음은 물론이다.
상기 진동저감부(300)는, 상기 기판지지포스트(141) 또는 상기 마스크지지부(170)가 공정챔버(100)의 하측 면을 관통하는 위치에 설치됨이 바람직하다.
예로서, 상기 진동저감부(300)는, 마스크지지부재(170) 중 마스크(160)를 지지하는 끝단 및 공정챔버(100)의 내측면 사이에 마스크지지부재(170)에 대하여 가압상태를 유지하는 하나 이상의 가압부재(400)와, 상기 가압부재(300)를 수용하는 하우징(310)을 포함할 수 있다.
이때, 상기 가압부재(400)는, 마스크지지부재(170)의 길이방향을 중심축으로 하여 원주방향을 따라서 등각으로 복수개로 배치될 수 있다.
예로서, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 4개의 가압부재(400)를 마스크지지부재(170)의 길이방향을 중심축으로 하여 원주방향을 따라서 90°간격으로 배치될 수 있다.
상기와 같이, 상기 가압부재(400)가 마스크지지부재(170)의 길이방향을 중심축으로 하여 원주방향을 따라서 등각으로 복수개로 배치되면, 마스크지지부재(170)에 가해지는 외력에 평형이 이루어져, 마스크지지부재(170)에 대한 안정적인 지지가 가능하다.
상기 가압부재(400)는, 마스크지지부재(170) 중 마스크(160)를 지지하는 끝단 및 공정챔버(100)의 내측면 사이에 마스크지지부재(170)에 대하여 가압상태를 유지하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 가압부재(400)는, 마스크지지부재(170)의 지지영역에서 마스크지지부재(170)의 외면을 지속적으로 가압할 수 있도록, 고정식 구조로서 공정챔버(100)의 저면에 고정되어 설치될 수 있다.
다른 예로서, 상기 가압부재(400)는, 얼라인부(200)에 의한 얼라인시 마스크지지부재(170)에 대하여 가압상태를 유지하고 얼라인 전 또는 후 상기 마스크지지부재(170) 또는 기판지지포스트(141)의 상하이동시 상기 마스크지지부재(170)의 상하이동시 가압상태를 해제할 수 있도록, 이동식 구조로서 후술하는 가압부재이동부(700)에 이동되도록 설치될 수 있다.
상기 가압부재이동부(700)는, 마스크지지부재(170)에 대한 가압상태의 유지 및 해제를 수행하기 위해 가압부재(400)를 선형이동 및 회전이동 중 적어도 하나의 이동에 의하여 이동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
특히, 상기 가압부재이동부(700)는, 얼라인부(200)에 의한 얼라인 전 또는 후 상기 마스크지지부재(170) 또는 기판지지포스트(141)의 상하이동시 상기 마스크지지부재(170)의 상하이동시 마스크지지부재(170)에 대한 가압을 해제하여 마스크지지부재(170)가 승하강할 때 마스크지지부재(170)와 가압부재(400)사이의 마찰에 의해 파티클(Particle)이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
이하, 도 3 내지 도 8을 참조하여 본 발명에 따른 진동저감부(300) 및 가압부재이동부(700)를 실시예별로 자세히 설명한다.
일 실시예로서, 상기 가압부재(400)는, 고정식 구조로서, 마스크지지부재(170) 외면을 지속적으로 가압하기 위하여 공정챔버(100)의 저면에 고정되게 구성될 수 있다.
이때, 상기 가압부재(400)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 막대형상의 몸체부(500)와, 몸체부(500)의 일단에 결합되어 마스크지지부재(170)에 가압될 때 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와, 몸체부(500)에 설치되어 접촉부재(600)가 마스크지지부재(170)에 가압될 때 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(514)를 포함할 수 있다.
예로서, 상기 몸체부(500)는, 실린더부재(512)와, 실린더부재(512)의 길이방향으로 이동가능하게 실린더부재(512)에 결합되는 이동부재(513)를 포함할 수 있다.
이때 상기 몸체부(500)는, 탄성부재(514)가 내부에 설치되고 일단에 접촉부재(600)가 설치되는 구조로, 다양한 형상 및 구조가 가능하다.
상기 실린더부재(512)는, 이동부재(513)가 길이방향으로 이동할 수 있는 구성으로 다양한 형태가 가능하다.
마찬가지로, 상기 이동부재(513)는, 일단에서 탄성부재(514)와 연결되어 마스크지지부재(170)의 외면에 가해지는 압력의 크기에 따라 실린더부재(512) 내부에서 이동하는 구성으로 다양한 형태가 가능하다.
상기 탄성부재(514)는, 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하기 위한 탄성력을 형성하는 구성으로, 실린더부재(512)와 이동부재(513) 사이에 설치될 수 있다.
예로서, 상기 탄성부재(514)는, 일단이 실린더부재(512) 내부에 지지된 상태에서 타단이 이동부재(513)에 가압하도록 설치되어 신축되는 구성으로, 스프링 또는 유체 등 이동부재(513)에 탄성력을 가할 수 있는 것이라면 어떠한 구성도 가능하다.
상기 접촉부재(600)는, 마스크지지부재(170)와 접촉하는 부재로서, 접촉마찰력을 줄이기 위하여 접촉될 때 회전할 수 있는 롤러 또는 볼로 구성될 수 있다.
따라서, 상기 접촉부재(600)는, 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하는 과정에서 접촉부재(600)과 마스크지지부재(170)의 외면 사이의 마찰을 감소시켜 파티클의 발생을 최소화할 수 있다.
상기 접촉부재(600)는, 탄성이 있는 플라스틱 또는 세라믹 재질을 가지는 등 다양한 재질이 사용될 수 있다.
다른 일 실시예로서, 상기 가압부재(400)는, 도 3, 도 5 및 도 8에 도시된 바와 같이, 이동식 구조로서, 상기 얼라인부(200)에 의한 얼라인시 상기 마스크지지부재(170)에 대하여 가압상태를 유지하고 상기 얼라인 전 또는 후 상기 마스크지지부재(170) 또는 기판지지포스트(141)의 상하이동시 상기 마스크지지부재(170)의 상하이동시 가압상태를 해제하기 위하여 선형이동 및 회전이동 중 적어도 하나의 방식으로 이동하도록 구성될 수 있다.
먼저, 도 3을 참조하여, 상기 선형이동 방식의 가압부재(400) 및 가압부재이동부(700)를 자세히 설명한다.
도 4에 도시된 상기 가압부재(400)는, 고정식 구조에 관하여 설명하고 있으나, 도 3에 도시된 구조에도 적용될 수 있다.
상기 가압부재이동부(700)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 가압부재(400)를 상기 마스크지지부(170)의 길이방향에 수직한 반경반향 또는 중심방향으로 선형이동시킬 수 있는 구성으로 다양한 구성이 가능한다. 예로서, 상기 가압부재이동부(700)은, 상기 가압부재(400)를 선형이동 시킬 수 있는 선형이동부재와 리니어 가이드를 포함하여 구성될 수 있다.
다음으로, 도 5 내지 7을 참조하여, 상기 회전이동 방식에 따른 가압부재(400) 및 가압부재이동부(700)의 일 실시예를 자세히 설명한다.
도 5 내지 7에서, 상기 가압부재(400)는, 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향과 평행한 회전축을 중심으로 하여 회전이동 하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 가압부재(400)는, 도 4에 도시된 바와 같이, 몸체부(500)와, 몸체부(500)의 일단에 결합되어 마스크지지부재(170)에 가압될 때 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와, 몸체부(500)에 설치되어 접촉부재(600)가 마스크지지부재(170)에 가압될 때 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(526)를 포함할 수 있다.
여기서 상기 가압부재(400)는, 회전이동식 구조에 관하여 설명하고 있으나, 도 3 및 도 4에 도시된 구조에도 적용될 수 있음은 물론이다.
상기 몸체부(500)는, 막대형상으로 가압부재(400)의 본체를 이루는 구성으로서, 후술하는 가압부재이동부(700)의 이동구조에 따라서 다양한 구성이 가능하다.
여기서 상기 가압부재(400)는, 가압부재(400) 회전이동의 중심축이 되며 마스크지지부재(170)를 중심으로 한 원주방향과 접하는 힌지핀(800)이 삽입되도록 길이방향으로 슬롯(524)이 형성된 몸체부(500)와, 몸체부(500)의 일단에 결합되어 마스크지지부재(170)에 가압될 때 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와, 몸체부(500)에 설치되어 접촉부재(600)가 마스크지지부재(170)에 가압될 때 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(526)를 포함할 수 있다.
여기서 상기 몸체부(500)는, 가압부재(400)의 본체를 이루는 구성으로서, 후술하는 가압부재이동부(700)의 이동구조에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 가압부재(400)의 회전이동에 따라 힌지핀(800)이 슬롯(524)를 따라 상대이동하며 그 길이가 가변됨이 바람직하다.
예로서, 상기 몸체부(500)는, 실린더부재(528)와, 실린더부재(528)의 길이방향으로 이동가능하게 실린더부재(528)에 결합되는 이동부재(522)를 포함할 수 있다.
이때 상기 몸체부(500)는, 탄성부재(526)가 내부에 설치되고 일단에 접촉부재(600)가 설치되는 구조로, 다양한 형상 및 구조가 가능하다.
상기 실린더부재(528)는, 이동부재(522)가 길이방향으로 이동할 수 있는 구성으로 다양한 형태가 가능하다.
마찬가지로, 상기 이동부재(522)는, 일단에서 탄성부재(526)와 연결되어 마스크지지부재(170)의 외면에 가해지는 압력의 크기에 따라 실린더부재(528) 내부에서 이동하는 구성으로 다양한 형태가 가능하다.
상기 탄성부재(526)는, 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하기 위한 탄성력을 형성하는 구성으로, 실린더부재(528)와 이동부재(522)로 구성된 몸체부(500)에 설치될 수 있다.
예로서, 상기 탄성부재(526)는, 일단이 실린더부재(528) 내부에 지지된 상태에서 타단이 이동부재(522)에 가압하도록 설치되어 신축되는 구성으로, 스프링 또는 유체 등 이동부재(522)에 탄성력을 가할 수 있는 것이라면 어떠한 구성도 가능하다.
상기 접촉부재(600)는, 마스크지지부재(170)와 접촉하는 부재로서, 접촉마찰력을 줄이기 위하여 접촉될 때 회전할 수 있는 롤러 또는 볼로 구성될 수 있다.
따라서, 상기 접촉부재(600)는, 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하는 과정에서 접촉부재(600)과 마스크지지부재(170)의 외면 사이의 마찰을 감소시켜 파티클의 발생을 최소화할 수 있다.
상기 접촉부재(600)는, 탄성이 있는 플라스틱 또는 세라믹 재질을 가지는 등 다양한 재질이 사용될 수 있다.
다음으로, 도 5 및 도 6를 참조하여, 상기 가압부재(400)을 회전이동 시키는 가압부재이동부(700)를 자세히 설명한다.
상기 가압부재이동부(700)는, 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향과 평행한 회전축을 중심으로 하여 상기 가압부재(400)를 회전이동시키는 회전이동부재로 구성될 수 있다.
상기 회전이동부재는, 회전구동력을 제공하는 구동원(712)과, 상기 구동원(712)과 연결되어 회전하는 구동기어(710)와, 상기 구동기어(710)와 나사결합되어 상기 구동기어(710)의 회전에 따라 상기 몸체부(500)의 일단을 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향을 회전축으로 하여 회전이동시켜 상기 몸체부(500)를 상기 힌지핀(800)을 중심으로 회전이동시켜 상기 마스크지지부재(170)에 대한 상기 가압부재(400)의 가압 및 가압해제를 수행하는 종동기어(720)를 포함할 수 있다.
한편, 여기서 상기 회전이동부재는, 종동기어(720)를 통해 복수의 가압부재(400)를 연동하여 일체로 구동하는 방식이 적용된 경우를 중심으로 설명되나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 회전이동부재는, 복수의 가압부재(400)와 각각 연결되어 상기 가압부재(400)를 타 가압부재(400)와 독립적으로 이동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 구동원(712)는, 상기 가압부재(400)에 의한 상기 마스크지지부재(170) 가압상태에서 상기 가압을 해제하기 위해, 구동기어(710)를 시계방향으로 회전시킬 수 있다. 이러한 경우, 상기 구동기어(710)와 맞물려 결합된 상기 종동기어(720)는, 시계반대방향으로 회전하여 상기 실린더부재(528)의 일단(529)을 상기 마스크지지부재(170)의 X-Y 단면의 중심을 축으로 시계반대방향으로 이동시킬 수 있다. 따라서, 상기 가압부재(400)는, 상기 이동부재(522)와 결합된 힌지핀(800)을 축으로 시계반대방향으로 회전함으로써 상기 마스크지지부재(170)의 외면에 대한 가압을 해제할 수 있다.
마찬가지로, 상기 구동원(712)는, 상기 마스크지지부재(170) 가압 해제 상태에서 상기 가압부재(400)에 의한 가압을 수행하기 위해, 구동기어(710)을 시계반대방향으로 회전시킬 수 있다. 이러한 경우, 상기 구동기어(710)와 맞물려 결합된 상기 종동기어(720)는, 상기 마스크지지부재(170)의 X-Y 단면의 중심을 축으로 시계방향으로 회전하여 상기 실린더부재(528)의 일단(529)을 시계방향으로 이동시킬 수 있다. 따라서, 상기 가압부재(400)는, 상기 이동부재(522)와 결합된 힌지핀(800)을 축으로 시계방향으로 회전함으로써 상기 마스크지지부재(170)의 외면에 대한 가압을 수행할 수 있다.
다음으로, 도 7a 및 도 7b를 참조하여, 상기 가압부재(400)의 가압 수행 및 가압 해제 시 작동 상태를 설명한다.
먼저, 도 7a는, 상기 가압부재(400)가, 가압부재이동부(700)에 의해 상기 마스크지지부재(170)의 X-Y 단면의 중심을 축으로 시계방향으로 회전함으로써 상기 마스크지지부재(170)에 대한 가압을 수행하는 경우의 작동상태를 보여주는 도면이다.
이때, 상기 가압부재(400)의 탄성부재(526)는, 압축되어 상기 마스크지지부재(170)의 외면에 텐션을 가할 수 있다. 동시에, 상기 슬롯(524)이 형성된 이동부재(522)는, 상기 실린더부재(528) 및 상기 힌지핀(800)에 대해 왼쪽으로 상대이동 하게 된다.
다음으로, 도 7b는, 상기 가압부재(400)가, 가압부재이동부(700)에 의해 상기 마스크지지부재(170)의 X-Y 단면의 중심을 축으로 시계반대방향으로 회전함으로써 상기 마스크지지부재(170)에 대한 가압을 해제하는 경우의 작동상태를 보여주는 도면이다.
이때, 상기 가압부재(400)의 탄성부재(526)는, 상기 접촉부재(600)가 상기 마스크지지부재(170)의 외면에서 이격됨으로써, 압축상태가 복원될 수 있다. 동시에, 상기 슬롯(524)이 형성된 이동부재(522)는, 상기 실린더부재(528) 및 상기 힌지핀(800)에 대해 오른쪽으로 상대이동 하게 된다.
결과적으로, 상기 가압부재(400)는, 상기 마스크지지부재(170)에 대한 가압상태일 때(길이 K1) 상기 내부의 탄성부재(526)가 압축되어, 가압해제 상태일 때(길이 K2)보다 더 짧은 길이를 가지고, 복원력에 따른 텐션을 상기 마스크지지부재(170)의 외면에 가할 수 있다. 이때, 상기 마스크지지부재(170)에 대한 가압상태일 때의 상기 가압부재(400)의 길이 K1은, 상기 마스크지지부재(170)에 가해지는 텐션에 따라 가변되는 것으로 고정된 길이를 의미하는 것은 아니다.
마지막으로, 도 8을 참조하여, 상기 회전이동 방식에 따른 가압부재(400) 및 가압부재이동부(700)의 다른 일 실시예를 자세히 설명한다.
도 8에서, 상기 가압부재(400)는, 상기 마스크지지부재(170)을 중심으로 원주
방향과 접하는 접선을 회전축으로 하여 회전이동 하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 가압부재(400)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 막대형상의 몸체부(500)와, 몸체부(500)의 일단에 결합되어 마스크지지부재(170)에 가압될 때 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와, 몸체부(500)에 설치되어 접촉부재(600)가 마스크지지부재(170)에 가압될 때 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(533)를 포함할 수 있다.
예로서, 상기 가압부재(400)는, 상기 가압부재(400) 회전이동의 중심축이 되며 상기 마스크지지부재(170)를 중심으로 한 원주방향과 접하는 힌지핀(900)이 삽입되도록 길이방향으로 슬롯(536)이 형성된 몸체부(500)와, 상기 몸체부(500)의 일단에 결합되어 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와, 상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(533)를 포함할 수 있다.
여기서 상기 몸체부(500)는, 가압부재(400)의 본체를 이루는 구성으로서, 가압부재이동부(700)의 이동구조에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 가압부재(400)의 회전이동에 따라 힌지핀(900)이 슬롯(536)를 따라 상대이동하며 그 길이가 가변됨이 바람직하다.
예로서, 상기 몸체부(500)는, 실린더부재(534)와, 실린더부재(534)의 길이방향으로 이동가능하게 실린더부재(534)에 결합되는 이동부재(535)를 포함할 수 있다.
이때 상기 몸체부(500)는, 탄성부재(533)가 내부에 설치되고 일단에 접촉부재(600)가 설치되는 구조로, 다양한 형상 및 구조가 가능하다.
상기 실린더부재(534)는, 이동부재(535)가 길이방향으로 이동할 수 있는 구성으로 다양한 형태가 가능하다.
마찬가지로, 상기 이동부재(535)는, 일단에서 탄성부재(533)와 연결되어 마스크지지부재(170)의 외면에 가해지는 압력의 크기에 따라 실린더부재(535) 내부에서 이동하는 구성으로 다양한 형태가 가능하다.
상기 탄성부재(533)는, 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하기 위한 탄성력을 형성하는 구성으로, 실린더부재(534)와 이동부재(535)로 구성된 몸체부(500)에 설치될 수 있다.
예로서, 상기 탄성부재(533)는, 일단이 실린더부재(534) 내부에 지지된 상태에서 타단이 이동부재(535)에 가압하도록 설치되어 신축되는 구성으로, 스프링 또는 유체 등 이동부재(533)에 탄성력을 가할 수 있는 것이라면 어떠한 구성도 가능하다.
상기 접촉부재(600)는, 마스크지지부재(170)와 접촉하는 부재로서, 접촉마찰력을 줄이기 위하여 접촉될 때 회전할 수 있는 롤러 또는 볼로 구성될 수 있다.
따라서, 상기 접촉부재(600)는, 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하는 과정에서 접촉부재(600)과 마스크지지부재(170)의 외면 사이의 마찰을 감소시켜 파티클의 발생을 최소화할 수 있다.
상기 접촉부재(600)는, 탄성이 있는 플라스틱 또는 세라믹 재질을 가지는 등 다양한 재질이 사용될 수 있다.
상기 가압부재(400)와 연결된 가압부재이동부(700)는, 상기 마스크지지부재(170)을 중심으로 원주방향과 접하는 접선을 회전축으로 하여 상기 가압부재(400)를 회전이동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 가압부재이동부(700)는, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 몸체부(500)의 타단과 힌지결합되어 상기 몸체부(500)의 타단을 상하로 이동시킴으로써 상기 가압부재(400)를 상기 힌지핀(900)을 회전축으로 하여 회전이동시키는 상하이동부를 포함할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 상하이동부는, 상기 가압부재(400)에 의한 상기 마스크지지부재(170) 가압상태에서 상기 가압을 해제하기 위해, 상기 몸체부(500)의 타단(531)을 Z축에 대해 하방으로 이동시킬 수 있다. 이러한 경우, 상기 몸체부(500)는, 상기 힌지핀(900)에 대하여 상기 마스크지지부재(170)을 중심으로 원주방향과 접하는 접선을 회전축으로 회전함으로써 상기 마스크지지부재(170)의 외면에 대한 가압을 해제할 수 있다.
마찬가지로, 상기 상하이동부는, 상기 가압부재(400)에 의한 상기 마스크지지부재(170) 가압해제에서 가압을 수행하기 위해, 상기 몸체부(500)의 타단(531)을 Z축에 대해 상방으로 이동시킬 수 있다. 이러한 경우, 상기 몸체부(500)는, 상기 힌지핀(900)에 대하여 상기 마스크지지부재(170)을 중심으로 원주방향과 접하는 접선을 회전축으로 회전함으로써 상기 마스크지지부재(170)의 외면에 대한 가압을 해제할 수 있다.
여기서 상기 가압부재이동부(700)는, 복수의 가압부재(400) 각각에 연결되어 연결된 가압부재(400)를 타 가압부재(400)와 독립적으로 구동시키는 방식이 적용된 경우를 중심으로 설명되었으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 가압부재이동부(700)는, 도 8에 도시된 방식뿐만 아니라, 복수의 가압부재(400)를 연동하여 일체로 구동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능할 수 있음은 물론이다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
10 : 기판 100: 공정챔버
120: 서셉터 140: 기판지지부
160: 마스크 170: 마스크지지부재 190: 비전카메라 200: 얼라인부 300: 진동저감부 400: 가압부재 500: 본체부 600: 접촉부재 700: 가압부재이동부 800, 900: 힌지핀

Claims (16)

  1. 밀폐된 처리공간(S)을 형성하며 마스크(160)를 이용하여 기판처리를 수행하는 공정챔버(100)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 직사각형 기판(10)을 지지하는 기판지지부(140)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160)를 지지하는 복수의 마스크지지부재(170)를 포함하는 마스크지지부와;
    상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 어느 하나에 결합되어 상기 마스크(160) 및 상기 기판(10)의 상대 수평위치를 얼라인하는 얼라인부(200)와;
    상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 적어도 하나의 진동을 저감하는 진동저감부(300)를 포함하며,
    상기 진동저감부(300)는,
    상기 마스크지지부재(170) 중 마스크(160)를 지지하는 끝단 및 상기 공정챔버(100)의 내측면 사이에 상기 얼라인부(200)에 의한 얼라인시 상기 마스크지지부재(170)에 대하여 가압상태를 유지하고, 상기 마스크지지부재(170)의 상하이동시 가압상태를 해제하는 하나 이상의 가압부재(400)와,
    상기 가압부재(400)를 선형이동 및 회전이동 중 적어도 하나의 이동에 의하여 상기 마스크지지부재(170)에 대한 가압상태의 유지 및 해제를 수행하는 가압부재이동부(700)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 가압부재(400)는,
    상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)가 일단에 설치되는 몸체부(500)와,
    상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(514)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 가압부재(400)는,
    상기 마스크지지부재(170)의 길이방향을 중심축으로 하여 원주방향을 따라서 등각으로 복수개로 배치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 가압부재이동부(700)는,
    상기 마스크지지부재(170)의 길이방향을 중심으로 하여 반경방향으로 상기 가압부재(400)를 선형이동시키는 선형이동부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 가압부재이동부(700)는,
    상기 마스크지지부재(170)의 길이방향과 평행한 회전축을 중심으로 하여 상기 가압부재(400)를 회전이동시키는 회전이동부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 가압부재(400)는,
    상기 가압부재(400) 회전이동의 중심축이 되며 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향으로 설치되는 힌지핀(800)이 삽입되도록 길이방향으로 슬롯(524)이 형성된 몸체부(500)와;
    상기 몸체부(500)의 일단에 결합되어 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와;
    상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(526)를 포함하고,
    상기 몸체부(500)는, 상기 가압부재(400)의 회전이동에 따라 상기 힌지핀(800)이 상기 슬롯(524)를 따라 상대이동하며 그 길이가 가변되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 회전이동부재는,
    회전구동력을 제공하는 구동원(712)과;
    상기 구동원(712)과 연결되어 회전하는 구동기어(710)와;
    상기 구동기어(710)와 기어결합되어 상기 구동기어(710)의 회전에 따라 상기 몸체부(500)의 일단을 상기 마스크지지부재(170)의 길이방향을 회전축으로 하여 회전이동시켜 상기 몸체부(500)를 상기 힌지핀(800)을 중심으로 회전이동시켜 상기 마스크지지부재(170)에 대한 상기 가압부재(400)의 가압 및 가압해제를 수행하는 종동기어(720)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 가압부재이동부(700)는,
    상기 마스크지지부재(170)를 중심으로 한 원주방향과 접하는 접선을 회전축으로 하여 상기 가압부재(400)를 회전이동시키는 회전이동부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 가압부재(400)는,
    상기 가압부재(400) 회전이동의 중심축이 되며 상기 마스크지지부재(170)를 중심으로 한 원주방향과 접하는 힌지핀(900)이 삽입되도록 길이방향으로 슬롯(536)이 형성된 몸체부(500)와;
    상기 몸체부(500)의 일단에 결합되어 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)와;
    상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 마스크지지부재(170)에 가압될 때 상기 마스크지지부재(170)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(533)를 포함하고,
    상기 몸체부(500)는, 상기 가압부재(400)의 회전이동에 따라 상기 힌지핀(900)이 상기 슬롯(536)를 따라 상대이동하며 그 길이가 가변되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 회전이동부재는,
    상기 몸체부(500)의 타단과 힌지결합되어 상기 몸체부(500)의 타단을 상하로 이동시킴으로써, 상기 힌지핀(900)을 회전축으로 하여 상기 가압부재(400)를 회전이동시키는 상하이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  13. 삭제
  14. 밀폐된 처리공간(S)을 형성하며 마스크(160)를 이용하여 기판처리를 수행하는 공정챔버(100)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 직사각형 기판(10)을 지지하는 기판지지부(140)와;
    상기 공정챔버(100)에 설치되어 마스크(160)를 지지하는 복수의 마스크지지부재(170)를 포함하는 마스크지지부와;
    상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 어느 하나에 결합되어 상기 마스크(160) 및 상기 기판(10)의 상대 수평위치를 얼라인하는 얼라인부(200)와;
    상기 기판지지부(140) 및 상기 마스크지지부 중 적어도 하나의 진동을 저감하는 진동저감부(300)를 포함하며,
    상기 기판지지부(140)는, 상기 공정챔버(100)를 관통하는 하나 이상의 기판지지포스트(141)를 포함하며,
    상기 진동저감부(300)는,
    상기 기판지지포스트(141) 중 기판(10)을 지지하는 끝단 및 상기 공정챔버(100)의 내측면 사이에 상기 얼라인부(200)에 의한 얼라인시 상기 기판지지포스트(141)에 대하여 가압상태를 유지하고 상기 상기 기판지지포스트(141)의 상하이동시 가압상태를 해제하는 하나 이상의 가압부재(400)와,
    상기 가압부재(400)를 선형이동 및 회전이동 중 적어도 하나의 이동에 의하여 상기 기판지지포스트(141)에 대한 가압상태의 유지 및 해제를 수행하는 가압부재이동부(700)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 가압부재(400)는,
    상기 기판지지포스트(141)에 가압될 때 상기 기판지지포스트(141)의 외면과 접촉하는 접촉부재(600)가 일단에 설치되는 몸체부(500)와,
    상기 몸체부(500)에 설치되어 상기 접촉부재(600)가 상기 기판지지포스트(141)에 가압될 때 상기 기판지지포스트(141)의 외면을 가압하도록 상기 접촉부재(600)에 탄성력을 가하는 탄성부재(514)를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  16. 청구항 8 또는 청구항 11에 있어서,
    상기 접촉부재(600)는, 상기 마스크지지부재(170)와 접촉한 상태로 회전할 수 있는 롤러 또는 볼인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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