KR102172665B1 - Driving Apparatus For Non Contact Vertical Typed Developing System For Board - Google Patents

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Abstract

본 발명은 인쇄회로기판 등의 기판을 액자형 지그로써 파지한 상태에서 수직이동시키면서 표면처리작업을 수행하는 시스템에 있어서 상기 지그를 이송시키기 위한 기판의 비접촉식 수직 현상상스템의 지그 이송장치에 관한 것이다. 구 구성은; 지그의 저면을 지지한 상태에서 회전 구동하는 구동롤러; 상기 구동롤러가 상기 메인챔버의 길이방향을 따라서 그의 바닥판 위에 고정 설치되도록 하는 구동롤러 받침대; 상기 메인챔버의 길이방향을 따라 그의 바닥판위에 고정 설치되는 전동축; 상기 전동축의 연장방향을 따라 상기 구동롤러가 설치된 위치마다 설치되는 것으로서 상기 종동마그네틱롤을 구동시키기 위하여 자신의 원주방향을 따라서 자석이 설치되어 있는 구동마그네틱롤; 상기 전동축을 지지하기 위하여 상기 메인챔버의 바닥판에 설치되는 전동축 받침대; 상기 전동축에 회전력을 공급하기 위한 전동축 구동부; 및 상기 지그받침롤 위에 얹어진 지그가 좌우로 유동하는 것을 방지하기 위한 지그가이드수단;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a jig transfer device for a non-contact vertical developing stem of a substrate for transferring the jig in a system that performs a surface treatment operation while vertically moving a substrate such as a printed circuit board with a frame type jig. The sphere composition is; A driving roller that rotates while supporting the bottom of the jig; A driving roller support for fixing the driving roller on its bottom plate along the longitudinal direction of the main chamber; A transmission shaft fixedly installed on the bottom plate thereof along the longitudinal direction of the main chamber; A driving magnetic roll installed at each position in which the driving roller is installed along the extending direction of the transmission shaft and having a magnet installed along its circumferential direction to drive the driven magnetic roll; A transmission shaft support installed on the bottom plate of the main chamber to support the transmission shaft; A transmission shaft drive unit for supplying rotational force to the transmission shaft; And a jig guide means for preventing the jig placed on the jig support roll from flowing left and right.

Description

기판의 비접촉식 수직 처리시스템의 지그 이송장치{Driving Apparatus For Non Contact Vertical Typed Developing System For Board}Jig transfer device for non-contact vertical processing system of substrate{Driving Apparatus For Non Contact Vertical Typed Developing System For Board}

본 발명은 기판의 수직 처리시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 인쇄회로기판 등의 기판을 액자형 지그로써 파지한 상태에서 수직이동시키면서 에칭, 박리 또는 전처리 등의 각종 작업을 수행하는 시스템에 있어서 상기 지그를 이송시키기 위한 기판의 비접촉식 수직 처리시스템의 지그 이송장치에 관한 것이다. The present invention relates to a system for vertical processing of substrates, and more specifically, in a system for performing various operations such as etching, peeling or pretreatment while vertically moving a substrate such as a printed circuit board while holding it with a frame-shaped jig. It relates to a jig transfer device of the non-contact vertical processing system of the substrate for transferring the material.

기판을 처리하기 위한 여러 작업내용과 이 작업을 수행하는 여러 시스템이 있다. 기판이라 함은 각종 전자제품에 사용되는 인쇄회로기판이 대표적이다. 인쇄회로기판은 기술의 발달로 초박형화 및 대형화되는 추세에 있다. 기판을 처리한다는 것은 도금, 에칭, 현상 등의 작업을 의미한다. There are several tasks for processing substrates and several systems to do this. The substrate is a typical printed circuit board used in various electronic products. Printed circuit boards tend to become ultra-thin and large due to the development of technology. Processing a substrate means plating, etching, and development.

특히 현상이란 포토리소그라피(photolithography) 기술의 일부로서 해당 분야의 기술발전과 더불어 갈수록 복잡해지고 난이도도 높아지고 있다. 인쇄회로기판의 처리공정 중 패턴 노광에서 폴리머로 변화되지 않은 미경화 부분을 화학약품을 이용하여 벗겨냄으로써 인쇄회로기판의 동박상에 필요한 영상을 1차로 재현하는 작업을 말한다. In particular, the phenomenon is a part of photolithography technology, and it is becoming more and more complicated and more difficult with the development of technology in the field. It refers to the work of firstly reproducing the image required on the copper foil of the printed circuit board by peeling off the uncured part of the printed circuit board that has not been changed to a polymer in the pattern exposure by using chemicals.

현상작업은 노광공정을 거친 제품의 투입, 세정, 건조, 화학처리, 수차례의 수세와 건조(또는 액절), 산세와 건조(또는 액절), 가열 건조, 배출 등의 세부 작업으로 구성된다. 현상액은 탄산나트륨이 일반적으로 사용되며, 수세액은 사용제품에 따라 공업용수 또는 전해수가 사용될 수 있다. The development work consists of detailed operations such as inputting, cleaning, drying, chemical treatment, washing and drying (or cutting liquid) several times, pickling and drying (or cutting liquid), heating drying, and discharging the product that has gone through the exposure process. Sodium carbonate is generally used as the developer, and industrial water or electrolyzed water may be used as the washing solution depending on the product used.

본 발명은 기존의 기판 현상시스템을 개선하여 작업효율을 높이고 설치 및 운영상 더욱 경제적인 시스템을 구축하기 위한 것이다. The present invention is to improve the existing substrate development system to increase work efficiency and to build a more economical system for installation and operation.

종래의 기판 현상시스템에서는 박형 기판을 파지하기 위하여 액자 형태로 된 지그가 사용되어 왔다. 지그는 사각의 프레임으로 되어 있으며 그의 상단과 하단에는 기판의 상하단을 각각 클램핑하기 위한 클램프가 설치되어 있다. 기판 현상시스템은 지그를 연속적으로 이송시키기 위한 지그 이송장치를 가지고 있다. 지그 이송장치는 컨베이어와 유사하게 지그를 연속적으로 구동시킨다. 특히 지그 이송장치는 지그를 수직으로 세워서 이동시키는데, 체인 또는 벨트와 같은 전동수단이 채용되어 왔었다. 그러나 이들 구동장치는 마모가 진행되므로 내구성이 좋지 못하며 이물질이 생길 우려가 있으며 소음이 발생한다는 문제점을 갖고 있다. In a conventional substrate developing system, a jig in the form of a frame has been used to hold a thin substrate. The jig is made of a square frame, and clamps for clamping the upper and lower ends of the substrate are installed at the top and bottom of the jig. The substrate developing system has a jig transfer device for continuously transferring the jig. The jig transfer device continuously drives the jig similar to a conveyor. In particular, the jig transfer device moves the jig vertically, and a transmission means such as a chain or belt has been employed. However, since these driving devices are worn, durability is not good, there is a concern that foreign substances may be generated, and noise is generated.

그리고 이 시스템은 비단 현상뿐만 아니라 기판을 처리하는 각종 작업에 응용될 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 발명의 명칭에 기재된 바와 같이 기판을 수직으로 세워 처리하는 각종 시스템에 적용될 수 있다. In addition, this system can be applied not only to development but also to various tasks for processing substrates. Therefore, the scope of the present invention can be applied to various systems that process the substrate vertically as described in the name of the invention.

대한민국 특허출원 제10-2011-0104225호Korean Patent Application No. 10-2011-0104225 대한민국 특허출원 제10-2007-0088002호Korean Patent Application No. 10-2007-0088002

본 발명의 목적은 인쇄회로기판 등의 기판을 액자형 지그로써 파지한 상태에서 수직이동시키면서 표면처리작업을 수행하는 시스템에 있어서, 상기 지그를 이송시키기 위한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치를 제공하는 것에 있다. 본 발명의 구체적인 목적은, 기계적 접촉이 적어 마모가 적고 내구성이 좋으며, 소음과 진동이 거의 발생하지 않으며, 이물질의 발생우려가 없는, 기판의 비접촉식 수직 처리시스템의 지그 이송장치를 제공하는 것에 있다.An object of the present invention is to provide a jig transfer device of a non-contact vertical developing system of a substrate for transferring the jig in a system for performing surface treatment while vertically moving a substrate such as a printed circuit board with a frame type jig It is in doing. A specific object of the present invention is to provide a jig transfer device for a non-contact vertical processing system of a substrate, with little mechanical contact, low wear, good durability, little noise and vibration, and no fear of foreign matter generation.

위와 같은 목적은, The above purpose is,

기판을 수직으로 세운 상태에서 메인챔버의 연장방향을 따라 이송시키면서 그 내부에서 표면처리작업이 이루어지도록 하는 비접촉식 수직 처리시스템에 있어서; A non-contact vertical processing system for performing surface treatment within the substrate while being transported along an extension direction of a main chamber in a vertical state;

일직선 형태로 길게 연장되어 있는 상기 메인챔버의 바닥판에 일렬로 설치되는 것으로서 회전축이 지그의 이송방향과 직각을 이루도록 설치되는 구동롤러; 상기 구동롤러가 상기 메인챔버의 길이방향을 따라서 그의 바닥판 위에 고정 설치되도록 하는 구동롤러 받침대; 상기 메인챔버의 길이방향을 따라 그의 바닥판 위에 고정 설치되는 전동축; 상기 전동축의 연장방향을 따라 상기 구동롤러가 설치된 위치마다 설치되는 것으로서 종동마그네틱롤을 구동시키기 위하여 자신의 원주방향을 따라서 자석이 설치되어 있는 구동마그네틱롤; 상기 전동축을 지지하기 위하여 상기 메인챔버의 바닥판에 설치되는 전동축 받침대; 상기 전동축에 회전력을 공급하기 위한 전동축 구동부; 및 상기 지그받침롤 위에 얹어진 지그가 좌우로 유동하는 것을 방지하기 위한 지그가이드수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치에 의해 달성된다. Drive rollers which are installed in a row on the bottom plate of the main chamber extending in a straight line and have a rotating shaft at a right angle to the transfer direction of the jig; A driving roller support for fixing the driving roller on its bottom plate along the longitudinal direction of the main chamber; A transmission shaft fixedly installed on the bottom plate thereof along the longitudinal direction of the main chamber; A driving magnetic roll installed at each position in which the driving roller is installed along the extension direction of the transmission shaft and having a magnet installed along its circumferential direction to drive the driven magnetic roll; A transmission shaft support installed on the bottom plate of the main chamber to support the transmission shaft; A transmission shaft drive unit for supplying rotational force to the transmission shaft; And a jig guide means for preventing a jig placed on the jig support roll from flowing left and right. A jig transfer device of a non-contact vertical developing system for a substrate comprising:

본 발명의 특징에 의하면, 상기 구동롤러는; 중심축과, 상기 중심축의 일측에 결합되는 지그받침롤과, 상기 중심축의 타측에 결합되는 것으로 원주방향을 따라 자석이 설치되어 있는 종동마그네틱롤로 구성되는 것을 특징으로 한다. According to a feature of the present invention, the drive roller; It is characterized in that it consists of a central axis, a jig support roll coupled to one side of the central axis, and a driven magnetic roll coupled to the other side of the central axis and having a magnet installed along the circumferential direction.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 지그가이드수단은 상기 지그의 하단부 양측면에 인접되게끔 상기 구동롤러 받침대 위에 설치되는 하부가이드바; 상기 지그의 상단부 양측면에 인접되게끔 상기 메인프레임의 천장에 설치되는 상부가이드바;를 포함할 수 있다. According to another feature of the present invention, the jig guide means includes a lower guide bar installed on the driving roller support so as to be adjacent to both sides of the lower end of the jig; It may include an upper guide bar installed on the ceiling of the main frame to be adjacent to both sides of the upper end of the jig.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 지그받침롤의 상기 지그와의 접촉면에는 고무, 우레탄 또는 실리콘 등의 탄성소재로 된 원통 형상의 논슬립링이 미끄럼방지를 위해 씌워져 고정될 수 있다. According to another feature of the present invention, a cylindrical non-slip ring made of an elastic material such as rubber, urethane or silicone may be covered and fixed to prevent slipping on the contact surface of the jig support roll with the jig.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 중심축과 종동마그네틱롤 본체 사이에는, 이송 중에 있는 상기 지그에 어느 정도 이상의 저항이 가해질 때, 상기 종동마그네틱롤 본체는 상기 구동마그네틱롤에 의해 회전하되, 상기 중심축 및 그에 결합해있는 지그받침롤은 회전되지 않도록 하기 위한 차동기구가 설치될 수 있다. According to another feature of the present invention, when a certain amount of resistance is applied to the jig during transfer between the central axis and the driven magnetic roll body, the driven magnetic roll body rotates by the driving magnetic roll, the A differential mechanism for preventing rotation of the central shaft and the jig support roll coupled thereto may be installed.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 표면처리부, 세정부, 건조부, 기판회수부의 이송경로를 따라 이송하는 기판(P)의 이송속도는 2종 이상으로 조합 구성되어 있을 수 있다. According to another feature of the present invention, the transfer speed of the substrate P transferred along the transfer path of the surface treatment unit, the cleaning unit, the drying unit, and the substrate recovery unit may be a combination of two or more.

본 발명에 따르면, 인쇄회로기판 등의 기판을 액자형 지그로써 파지한 상태에서 수직이동시키면서 표면처리작업을 수행하는 시스템에서 지그를 이송시키기 위한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치가 제공된다. 좀 더 구체적으로는, 회전력 전달을 위하여 자력(磁力)을 이용하고 있기 때문에 기계적 접촉이 적어 마모가 적고 내구성이 좋으며, 회전력 전달요소 간의 간극을 둘 수 있어서 소음과 진동이 거의 발생하지 않으며, 마찰에 따라 생길 수 있는 이물질의 발생우려가 없는, 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치가 제공된다.According to the present invention, a jig transfer device of a non-contact vertical developing system of a substrate for transferring a jig in a system that performs a surface treatment operation while vertically moving a substrate such as a printed circuit board with a frame type jig is provided. More specifically, since magnetic force is used to transmit rotational force, there is little mechanical contact, so wear is low and durability is good, and noise and vibration hardly occur due to the gap between the rotational force transmission elements. There is provided a jig transfer device for a non-contact vertical developing system of a substrate, without the possibility of generation of foreign matters that may occur.

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 전체 평면구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 전체 정면구성도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 기판 이송장치의 구성도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 기판 이송장치의 사시도이다.
도 5는 도 4의 A-A선을 따라 취한 개략 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 의한 도 5의 B-B 선을 따라 취한 구동롤러의 단면도이다. 1 is an overall plan configuration diagram of a non-contact vertical developing system for a substrate according to an embodiment of the present invention.
2 is an overall front configuration diagram of a non-contact vertical developing system for a substrate according to an embodiment of the present invention.
3 is a block diagram of a substrate transfer apparatus of a non-contact vertical developing system of a substrate according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a substrate transfer apparatus of a non-contact vertical developing system of a substrate according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view taken along line AA of FIG. 4.
6 is a cross-sectional view of a driving roller taken along line BB of FIG. 5 according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 내용을 상세하게 설명한다. 도 1, 2를 기본적으로 참조하겠으며, 나머지 도면은 필요한 곳에서 인용하기로 한다.Hereinafter, specific contents of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Basic reference will be made to Figs. 1 and 2, and the remaining drawings will be referred to where necessary.

우선 본 발명에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치(이하, '지그 이송장치'라 한다)가 적용되는 판의 비접촉식 수직 현상시스템을 도 1과 도 2를 참조하여 간단히 설명한다. First, a non-contact vertical development system of a plate to which a jig transfer device (hereinafter, referred to as a “jig transfer device”) of a non-contact vertical development system of a substrate according to the present invention is applied will be briefly described with reference to FIGS. 1 and 2.

일직선 형태로 연속되어 있는 작업공간이 마련되도록 박스 형태로 메인챔버(1)가 설치된다. 기판공급부(3)는 메인챔버(1)의 일측 내부로 기판을 공급한다. 복수 개의 지그(5, 도 2 참조)는 박형으로 된 기판(P)의 가장자리를 클램프로 파지하여 팽팽하게 유지한 상태에서 작업이 이루어질 수 있도록 한다. 표면처리부(7)는 메인챔버(1) 내부에서 이송되는 기판(P)의 표면에 표면처리액(L)을 분사한다. 세정부(9)와 건조부(11)는 표면처리부(5)를 통과한 기판의 표면에 세정수 및 에어를 분사 공급하여 세정과 건조를 수행한다. 지그반송부(13)는 처리가 완료된 기판(P)을 파지하고 있는 지그를 상기 기판공급부(3)를 향하여 반송하며, 기판회수부(15)는 지그(5)에서 기판을 회수하여 후속공정으로 넘긴다. The main chamber 1 is installed in the form of a box so as to provide a continuous working space in a straight line. The substrate supply unit 3 supplies a substrate into one side of the main chamber 1. The plurality of jigs 5 (refer to FIG. 2) grips the edge of the thin substrate P with a clamp so that the work can be performed in a state where it is held taut. The surface treatment unit 7 sprays the surface treatment liquid L onto the surface of the substrate P transferred inside the main chamber 1. The cleaning unit 9 and the drying unit 11 perform cleaning and drying by spraying and supplying cleaning water and air to the surface of the substrate that has passed through the surface treatment unit 5. The jig transfer unit 13 transports the jig holding the processed substrate P toward the substrate supply unit 3, and the substrate recovery unit 15 recovers the substrate from the jig 5 and proceeds to a subsequent process. Pass over.

본 발명의 지그 이송장치는 지그를 메인챔버(1) 내에서 연속적으로 이송시키기 위한 장치이다. 이하 이 지그 이송장치(17)를 설명한다. The jig transfer device of the present invention is a device for continuously transferring a jig within the main chamber 1. Hereinafter, this jig transfer device 17 will be described.

지그이송장치(17)는 메인챔버(1) 내부에 설치된다. 지그이송장치(17)는 기판을 파지하고 있는 지그(5)를 수직으로 세운 상태에서 연속적으로 이송시킨다. 지그이송장치(17)는 지그(5)의 하단과 상단만을 파지 또는 가이드한 상태에서 지그(5)를 이송시키는 구성을 가진다. The jig transfer device 17 is installed inside the main chamber 1. The jig transfer device 17 continuously transfers the jig 5 holding the substrate while standing vertically. The jig transfer device 17 has a configuration for transferring the jig 5 while holding or guiding only the lower end and the upper end of the jig 5.

일직선 형태로 길게 연장되어 있는 메인챔버의 바닥판(19)에는 메인챔버의 길이방향을 따라 전체 구간에 걸쳐 일정한 간격으로 구동롤러(21)가 일렬로 설치된다. 구동롤러는 회전축이 지그의 이송방향(W) 및 반송방향(W')과 직각을 이루도록 회전 가능하게 설치된다. 구동롤러(21)는 메인챔버(1)의 바닥판(1a)에 고정 설치된 안착대(23) 위에 베어링(25)을 매개로 설치된다. 안착대(23)는 "

Figure 112019029760895-pat00001
"의 단면 형태를 가진다. Drive rollers 21 are installed in a row at regular intervals over the entire section along the length direction of the main chamber on the bottom plate 19 of the main chamber extending in a straight line. The drive roller is rotatably installed so that the rotating shaft is perpendicular to the conveying direction (W) and the conveying direction (W') of the jig. The driving roller 21 is installed on a mounting table 23 fixedly installed on the bottom plate 1a of the main chamber 1 via a bearing 25. The seating platform (23) is "
Figure 112019029760895-pat00001
Has a cross-sectional shape of ".

이하, 도 3 내지 도 5를 더 참조하여 설명한다. Hereinafter, it will be described with further reference to FIGS. 3 to 5.

구동롤러(21)는 중심축(27)과, 이 중심축(27)의 일측에 결합 고정되는 지그받침롤(29)과, 중심축(27)의 타측에 결합 고정되는 종동마그네틱롤(31)을 포함한다. 종동마그네틱롤(31)에는 자신의 원주방향을 따라 자석(31b)이 설치되어 있다. The driving roller 21 includes a central shaft 27, a jig support roll 29 coupled and fixed to one side of the central shaft 27, and a driven magnetic roll 31 coupled and fixed to the other side of the central shaft 27. Includes. The driven magnetic roll 31 is provided with a magnet 31b along its circumferential direction.

전동축(33)이 메인챔버(1)의 길이방향을 따라 그의 바닥판(1a) 위에 고정 설치된다. 구동마그네틱롤(35)이 전동축(33)의 연장방향을 따라 중심축(27)이 설치된 위치마다 설치된다. 구동마그네틱롤(35)에는 종동마그네틱롤(31)을 자력(磁力)으로써 구동시키기 위하여 자신의 원주방향을 따라서 자석이 설치되어 있다. The transmission shaft 33 is fixedly installed on the bottom plate 1a thereof along the longitudinal direction of the main chamber 1. The driving magnetic roll 35 is installed at each location in which the central shaft 27 is installed along the extending direction of the transmission shaft 33. The driving magnetic roll 35 is provided with a magnet along its circumferential direction in order to drive the driven magnetic roll 31 by magnetic force.

전동축(33)은 전동축 받침대(37) 위에 베어링을 매개로 축회전 가능하게 안착된다. 전동축 구동부(39)는 전동축(33)에 회전력을 공급하며 구동모터, 감속기 및 전동(傳動)수단을 포함한다. The transmission shaft 33 is mounted on the transmission shaft support 37 so as to be axially rotated through a bearing. The transmission shaft drive unit 39 supplies rotational force to the transmission shaft 33 and includes a drive motor, a speed reducer, and a transmission means.

지그가이드수단이 지그받침롤(29) 위에 얹어진 지그(5)가 좌우로 유동하는 것을 방지한다. The jig guide means prevents the jig 5 placed on the jig support roll 29 from flowing left and right.

지그가이드수단은 지그(5)의 하단부 양측면에 인접되게끔 안착대(23) 위에 설치되는 하부가이드바(41)와, 지그(5)의 상단부 양측면에 인접되게끔 메인챔버(1)의 천장(1b)에 설치되는 상부가이드바(43)를 포함할 수 있다. 하부가이드바(41)와 상부가이드바(43)는 내화학성을 갖는 합성수지 소재로 되어 있을 수 있으며, 지그(5)와 저촉되는 면은 접촉면적을 줄일 수 있도록 둥글게 만곡되어 있을 수 있다. The jig guide means includes a lower guide bar 41 installed on the mounting table 23 so as to be adjacent to both sides of the lower end of the jig 5, and the ceiling of the main chamber 1 so as to be adjacent to both sides of the upper end of the jig 5 It may include an upper guide bar 43 installed in 1b). The lower guide bar 41 and the upper guide bar 43 may be made of a synthetic resin material having chemical resistance, and a surface in contact with the jig 5 may be curved to reduce the contact area.

본 발명의 실시예에 의하면 하부가이드바는 안착대(23)의 상판(42)위에 고정 설치된다. 상판(42)에는 지그가 끼워질 수 있는 지그끼움홈(42a)이 그루브 형태로 마련되어 있으며, 지그받침롤(29)의 상부가 위치될 수 있는 지그받침롤끼움홈(42b)이 마련되어 있다. According to an embodiment of the present invention, the lower guide bar is fixedly installed on the upper plate 42 of the mounting table 23. The upper plate 42 is provided with a jig fitting groove 42a into which a jig can be fitted, and a jig support roll fitting groove 42b in which an upper portion of the jig support roll 29 can be positioned is provided.

지그가이드수단은 경우에 따라 수직축을 축심으로 회전 가능하게 설치되는 다수의 아이들롤러로 대체될 수 있다. The jig guide means may be replaced by a plurality of idle rollers that are rotatably installed about the vertical axis as the case may be.

또한 본 발명의 실시예에 의하면 지그받침롤(29)의 지그(5)와의 접촉면에는 고무(특히 EPDM), 우레탄 또는 실리콘 등의 탄성소재로 된 원통 형상의 논슬립링(45)이 미끄럼방지를 위해 씌워져 고정될 수 있다. 논슬립링(45)은 요철식으로 지그받침롤 본체(29a)에 결합될 수 있으며 두께(T)는 2 ~5mm 가 될 수 있다. In addition, according to an embodiment of the present invention, a cylindrical non-slip ring 45 made of an elastic material such as rubber (especially EPDM), urethane or silicone is provided on the contact surface of the jig support roll 29 with the jig 5 to prevent slipping. Can be covered and fixed. The non-slip ring 45 may be coupled to the jig support roll body 29a in an uneven manner, and the thickness T may be 2 ~ 5mm.

본 발명에 의하면, 자력(磁力)을 이용하여 구동력을 전달하는 것이기 때문에구동마그네틱롤(35)과 종동마그네틱롤(31) 사이에는 약간의 간격이 있을 수 있다. 그러므로 기계적 마찰에 의한 마모와 소음이 없으며, 마찰에 의한 이물질이 생기지 않게 된다. According to the present invention, since the driving force is transmitted using magnetic force, there may be a slight gap between the driving magnetic roll 35 and the driven magnetic roll 31. Therefore, there is no wear and noise due to mechanical friction, and no foreign substances are generated by friction.

이하, 도 6을 참조하여 본 발명의 다른 실시예를 설명한다. Hereinafter, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 6.

본 실시예는 구동롤러(21)의 다른 실시예로서 슬립식 구동롤러(21')를 도시한다. This embodiment shows a slip type drive roller 21' as another embodiment of the drive roller 21.

중심축(27)과 종동마그네틱롤(31, 특히 그의 본체(31a). 이하 같음) 사이에는 차동기구(47)가 설치된다. 차동기구(47)는 지그에 어느 정도 이상의 저항이 가해질 때 구동롤러가 헛돌도록 하기 위한 것이다. 즉 사용자 등이 이송중인 지그를 잡았을 때 또는 이송중인 지그가 기타 경위로 순간적으로 정지했을 때, 종동마그네틱롤(31)은 구동마그네틱롤(35)에 의해 계속 회전하고, 센터축 및 이에 결합되어 있는 지그받침롤(29)은 지그와 함께 멈출 수 있도록 하기 위한 것이다. A differential mechanism 47 is provided between the central shaft 27 and the driven magnetic roll 31 (especially its main body 31a, hereinafter the same). The differential mechanism 47 is for causing the drive roller to spin idle when a certain amount of resistance is applied to the jig. That is, when a user, etc. grabs the jig being transferred or when the jig being transferred is momentarily stopped due to other reasons, the driven magnetic roll 31 continues to rotate by the driving magnetic roll 35, and the center axis and the connected The jig support roll 29 is intended to be stopped together with the jig.

차동기구(47)는 중심축(27) 외부에 끼워져 고정되는 것으로서 볼안착홈(49a)이 원주 방향을 따라 복수 개 마련되어 있는 슬리브(49)와, 볼안착홈(49a)에 자신의 직경에 대해 1/10~ 1/5 깊이로 안착되는 볼(51)과, 일단은 볼(51)에 지지되고 타단은 종동마그네틱롤 본체(31a)에 지지되는 스프링(53)을 포함한다. The differential mechanism 47 is fitted to the outside of the central shaft 27 and is fixed. The sleeve 49 in which a plurality of ball seating grooves 49a are provided along the circumferential direction, and the ball seating groove 49a with respect to their diameter The ball 51 is seated at a depth of 1/10 to 1/5, and one end is supported by the ball 51 and the other end includes a spring 53 supported by the driven magnetic roll body 31a.

중심축(27)이 회전될 수 없는 상황에서 차동기구(47)에 회전력이 가해지면 볼(51)이 탄성력을 이기고 볼안착홈(49a)에서 이탈하게 되고 따라서 종동마그네틱롤(31)은 회전을 하게 된다. 즉 구동롤러(21') 자체에서 슬립(slip)이 생기게 된다. When a rotational force is applied to the differential mechanism 47 in a situation where the central shaft 27 cannot be rotated, the ball 51 overcomes the elastic force and deviates from the ball seating groove 49a, and thus the driven magnetic roll 31 rotates. Is done. That is, a slip occurs in the drive roller 21' itself.

이하, 도 7을 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 의한 차동기구를 설명한다. 도 7은 도 5의 C-C선을 따라 취한 단면도이다. 본 실시예에 의하면, 중심축(27)의 외경보다 지그받침롤(29)의 내경이 미세하게 크게 되어 있다. 중심축(27)의 외경보다 지그받침롤(29)은 상대적 유동을 허용하도록 고정되어 있지 않다. 즉 이들 사이에 유격(C)이 생기게 되며, 지그받침롤(29)에 지그에 의한 하중(F)이 가해질 경우 이 하중에 비례하는 마찰력이 회전전달력이 된다. 따라서 마찰력보다 큰 저항이 지그에 가해지게 되면, 중심축(27)은 공회전되며, 지그받침롤(29)은 회전되지 않는다. 이것은 작업자가 손으로 지그를 잡는다거나 소정의 기구를 이용하여 지그(5)를 멈출 수 있다는 것을 의미한다. 중심축(27)과 지그받침롤(29) 사이의 마찰력을 조정함으로써 이 기구는 감속수단으로 사용될 수 있다. 지그받침롤(29)의 내주면(29b)을 어떠한 소재로 사용하는가에 따라 마찰력을 낮출 수 있다. 예를 들어 테프론 라이닝을 내주면(29b)에 설치하는 경우 마찰력을 크게 낮출 수 있게 된다. 그리고 이러한 구성의 감속구간은 건조부의 마지막 구간(11a)에 마련될 수 있다. Hereinafter, a differential mechanism according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 7. 7 is a cross-sectional view taken along line C-C of FIG. 5. According to this embodiment, the inner diameter of the jig support roll 29 is slightly larger than the outer diameter of the central shaft 27. The jig support roll 29 is not fixed to allow relative flow than the outer diameter of the central shaft 27. That is, a clearance (C) is created between them, and when a load (F) by the jig is applied to the jig support roll 29, a frictional force proportional to the load becomes a rotational transmission force. Therefore, when resistance greater than the frictional force is applied to the jig, the central shaft 27 is idle, and the jig support roll 29 is not rotated. This means that the operator can hold the jig by hand or stop the jig 5 by using a predetermined mechanism. By adjusting the frictional force between the central shaft 27 and the jig support roll 29, this mechanism can be used as a deceleration means. The friction force can be lowered according to the material used for the inner peripheral surface 29b of the jig support roll 29. For example, when the Teflon lining is installed on the inner peripheral surface 29b, the frictional force can be greatly reduced. And the deceleration section of this configuration may be provided in the last section (11a) of the drying unit.

본 발명의 또 다른 다른 특징에 의하면, 표면처리부(7), 세정부(9), 건조부(11) 및 기판회수부(15)의 이송경로, 즉 메인챔버(1)를 따라 이송하는 기판(P)의 이송속도는 2종 이상으로 조합 구성될 수 있다. 즉 이송장치는 기판(P)을 신속하게 이송시키는 곳과 느리게 이송시키는 곳으로 구분하여 운영되는 것이다. 이것은 하나의 처리시스템에 기판 복수 개의 이송장치가 마련되고 이들은 각자 독립적으로 운전될 수 있는 것을 의미한다. 감속구간은 기판의 방향이 바뀌는 곳에 설치될 수 있다. According to yet another feature of the present invention, the substrate transferred along the transfer path of the surface treatment unit 7, the cleaning unit 9, the drying unit 11 and the substrate recovery unit 15, that is, the main chamber 1 ( The feed speed of P) can be composed of two or more types. That is, the transfer device is operated by dividing the substrate P into a place that transfers quickly and a place that transfers slowly. This means that a plurality of substrate transfer devices are provided in one processing system, and each of them can be operated independently. The deceleration section may be installed where the direction of the substrate changes.

위에 도시 및 설명된 구성은 본 발명의 기술적 사상에 근거한 바람직한 실시예에 지나지 아니한다. 당업자는 통상의 기술적 상식을 바탕으로 다양한 변경실시를 할 수 있을 것이지만 이는 본 발명의 보호범위에 포함될 수 있음을 주지해야 할 것이다. The configuration shown and described above is only a preferred embodiment based on the technical idea of the present invention. Those skilled in the art will be able to implement various modifications based on common technical knowledge, but it should be noted that this may be included in the protection scope of the present invention.

1 : 메인챔버 3 : 기판공급부
5 : 지그 7 : 표면처리부
9 : 세정부 11 : 건조부
13 : 지그반송부 15 : 기판회수부
17 : 지그 이송장치 19 : 바닥판
21 : 구동롤러 23 : 안착대
25 : 베어링 27 : 중심축
29 : 지그받침롤 31 : 종동마그네틱롤
33 : 전동축 35 : 구동마그네틱롤
37 : 전동축받침대 39 : 전동축구동부
41 : 하부가이드바 43 : 상부가이드바
45 : 논슬립링 47 : 차동기구
49 : 슬리브 51 : 볼(ball)
53 : 스프링
P : 기판 1: main chamber 3: substrate supply unit
5: jig 7: surface treatment part
9: washing unit 11: drying unit
13: jig transfer unit 15: substrate recovery unit
17: jig transfer device 19: bottom plate
21: drive roller 23: seat
25: bearing 27: central shaft
29: jig support roll 31: driven magnetic roll
33: transmission shaft 35: driving magnetic roll
37: electric shaft support 39: electric shaft drive unit
41: lower guide bar 43: upper guide bar
45: non-slip ring 47: differential mechanism
49: sleeve 51: ball
53: spring
P: substrate

Claims (6)

기판을 수직으로 세운 상태에서 메인챔버의 연장방향을 따라 이송시키면서 그 내부에서 표면처리작업이 이루어지도록 하는 비접촉식 수직 처리시스템에 있어서;
일직선 형태로 길게 연장되어 있는 상기 메인챔버의 바닥판에 일렬로 설치되는 것으로서 회전축이 지그의 이송방향과 직각을 이루도록 설치되되, 상기 지그의 저면을 지지한 상태에서 회전 구동하는 구동롤러;
상기 구동롤러가 상기 메인챔버의 길이방향을 따라서 그의 바닥판 위에 고정 설치되도록 하는 구동롤러 받침대;
상기 메인챔버의 길이방향을 따라 그의 바닥판위에 고정 설치되는 전동축;
상기 전동축의 연장방향을 따라 상기 구동롤러가 설치된 위치마다 설치되는 것으로서 자신의 원주방향을 따라서 자석이 설치되어 있는 구동마그네틱롤;
상기 전동축을 지지하기 위하여 상기 메인챔버의 바닥판에 설치되는 전동축 받침대;
상기 전동축에 회전력을 공급하기 위한 전동축 구동부; 및
상기 지그가 좌우로 유동하는 것을 방지하기 위한 지그가이드수단을 포함하되;
상기 구동롤러는;
중심축(27)과, 상기 중심축(27)의 일측에 결합되는 지그받침롤(29)과, 상기 중심축(27)의 타측에 결합되는 것으로서 상기 구동마그네틱롤에 의해 회전될 수 있도록 자신의 원주방향을 따라 자석이 설치되어 있는 종동마그네틱롤로 구성되며;
상기 중심축(27)과 종동마그네틱롤 사이에는, 이송 중에 있는 상기 지그에 어느 정도 이상의 저항이 가해질 때, 상기 종동마그네틱롤은 상기 구동마그네틱롤에 의해 회전하되, 상기 중심축(27) 및 그에 결합해 있는 지그받침롤은 회전되지 않도록 하기 위한 차동기구가 설치되는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치.
A non-contact vertical processing system for performing surface treatment within the substrate while being transported along an extension direction of a main chamber in a vertical state;
Drive rollers which are installed in a row on the bottom plate of the main chamber extending in a straight line and have a rotation shaft perpendicular to the transfer direction of the jig, and rotate while supporting the bottom surface of the jig;
A driving roller support for fixing the driving roller on its bottom plate along the longitudinal direction of the main chamber;
A transmission shaft fixedly installed on the bottom plate thereof along the longitudinal direction of the main chamber;
A driving magnetic roll installed at each position in which the driving roller is installed along the extending direction of the transmission shaft and having a magnet installed along its circumferential direction;
A transmission shaft support installed on the bottom plate of the main chamber to support the transmission shaft;
A transmission shaft drive unit for supplying rotational force to the transmission shaft; And
And a jig guide means for preventing the jig from flowing left and right;
The driving roller is;
A central shaft 27, a jig support roll 29 coupled to one side of the central shaft 27, and a jig support roll 29 coupled to the other side of the central shaft 27, so that they can be rotated by the driving magnetic roll. It is composed of a driven magnetic roll in which magnets are installed along the circumferential direction;
Between the central shaft 27 and the driven magnetic roll, when a certain amount of resistance is applied to the jig during transfer, the driven magnetic roll rotates by the driving magnetic roll, but is coupled to the central shaft 27 and the driven magnetic roll. A jig transfer device of a non-contact vertical developing system of a substrate, characterized in that a differential mechanism for preventing rotation of the jig support roll is installed.
 제1항에 있어서, 상기 차동기구는;
상기 중심축(27)의 외경보다 지그받침롤(29)의 내경을 크게 하고, 상대적 유동을 허용하도록 고정하지 않음으로써, 상기 중심축(27)과 지그받침롤(29) 사이에 유격(C)이 생기도록 하는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치.
The method of claim 1, wherein the differential mechanism;
By making the inner diameter of the jig support roll 29 larger than the outer diameter of the central axis 27 and not fixing to allow relative flow, the clearance (C) between the central axis 27 and the jig support roll 29 A jig transfer device of a non-contact vertical developing system of a substrate, characterized in that to generate.
 제1항에 있어서, 상기 지그가이드수단은,
상기 지그의 하단부 양측면에 인접되게끔 상기 구동롤러 받침대 위에 설치되는 하부가이드바; 및
상기 지그의 상단부 양측면에 인접되게끔 상기 메인챔버의 천장에 설치되는 상부가이드바;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치.
The method of claim 1, wherein the jig guide means,
A lower guide bar installed on the drive roller support to be adjacent to both sides of the lower end of the jig; And
And an upper guide bar installed on the ceiling of the main chamber so as to be adjacent to both side surfaces of the upper end of the jig.
 제1항에 있어서,
상기 지그받침롤(29)의 상기 지그와의 접촉면에는 고무, 우레탄 또는 실리콘 등의 탄성소재로 된 원통 형상의 논슬립링이 미끄럼방지를 위해 씌워져 고정되는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치.
The method of claim 1,
A jig of a non-contact vertical developing system of a substrate, characterized in that a cylindrical non-slip ring made of an elastic material such as rubber, urethane, or silicone is covered and fixed to the surface of the jig support roll 29 in contact with the jig Transfer device.
 제1항에 있어서, 상기 차동기구는 ;
상기 중심축(27) 외부에 끼워져 고정되는 것으로서 볼안착홈(49a)이 원주 방향을 따라 복수 개 마련되어 있는 슬리브(49)와, 상기 볼안착홈(49a)에 자신의 직경에 대해 1/10~ 1/5 깊이로 안착되는 볼(51)과, 일단은 상기 볼(51)에 지지되고 타단은 상기 종동마그네틱롤 본체(31a)에 지지되는 스프링(53)을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 지그 이송장치.
The method of claim 1, wherein the differential mechanism;
A sleeve 49 having a plurality of ball seating grooves 49a provided along the circumferential direction as being fitted and fixed to the outside of the central shaft 27, and 1/10 to its diameter in the ball seating groove 49a A non-contact type of substrate, characterized in that it comprises a ball 51 seated to a depth of 1/5, and a spring 53 supported at one end of the ball 51 and the other end supported by the driven magnetic roll body 31a. Jig transfer device of vertical developing system.
 제1항에 있어서,
상기 메인챔버를 따라 이송하는 기판(P)의 이송속도는 2종 이상으로 조합 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 처리시스템의 지그 이송장치. The method of claim 1,
A jig transfer device for a non-contact vertical processing system of a substrate, characterized in that the transfer speed of the substrate P transferred along the main chamber is composed of two or more kinds.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100265104B1 (en) * 1997-04-07 2000-11-01 이시다 아키라 Method and system for treating substrate
KR100874819B1 (en) * 2007-10-02 2008-12-19 박선규 A conveyor apparatus for an etching of flat panel display
KR101342616B1 (en) * 2013-04-26 2013-12-20 창성 주식회사 Vertical substrate detachment system

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100758022B1 (en) 2006-02-24 2007-09-12 한국지질자원연구원 Photocatalyst Oxidization Process and Module Type Photocatalyst Reactor for Waste Water
KR101082134B1 (en) 2010-03-16 2011-11-09 삼성모바일디스플레이주식회사 Method for manufacturing a touch screen panel using the dry etching apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100265104B1 (en) * 1997-04-07 2000-11-01 이시다 아키라 Method and system for treating substrate
KR100874819B1 (en) * 2007-10-02 2008-12-19 박선규 A conveyor apparatus for an etching of flat panel display
KR101342616B1 (en) * 2013-04-26 2013-12-20 창성 주식회사 Vertical substrate detachment system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102326935B1 (en) 2021-01-15 2021-11-15 한민석 Processing apparatus for PCB board with jig device

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