KR102144783B1 - Depositon appratus and in line deposition system coprising the same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착장치에 관한 것으로, 글라스에 증착물질을 증착시키도록 노즐들이 상호 이격되어 상부에 배치되는 리니어 바모듈; 증착물질을 공급하도록 리니어 바모듈에 연결되며, 리니어 바모듈에 대한 증착물질의 레벨이 일정하게 유지되도록 높이가 조절되는 내부 도가니를 구비하는 소스공급모듈; 및 증착물질의 레벨이 일정하게 유지되도록 내부 도가니의 높이를 조절하는 오토레벨모듈을 포함함으로써, 리니어 바모듈로부터 증발이 일어나는 증착물질까지 열전달 거리가 일정하도록 증착물질의 레벨을 유지하여, 리니어 바모듈로 증착물질을 일정하게 공급할 수 있을 뿐만 아니라, 글라스에 대해서 증착물질의 공급을 일정하게 유지할 수 있다.The present invention relates to a linear evaporation source and a deposition apparatus including the same, comprising: a linear bar module in which nozzles are spaced apart from each other so as to deposit a deposition material on glass; A source supply module connected to the linear bar module to supply the deposition material and having an inner crucible whose height is adjusted to maintain a constant level of the deposition material with respect to the linear bar module; And an auto level module that adjusts the height of the inner crucible so that the level of the deposition material is kept constant, thereby maintaining the level of the deposition material so that the heat transfer distance from the linear bar module to the deposition material where evaporation occurs is constant. Not only can the deposition material be supplied constantly, but also the supply of the deposition material to the glass can be kept constant.
Description
본 발명은 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 글라스의 표면에 증착 물질을 증착시키는 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착장치에 관한 것이다.The present invention relates to a linear evaporation source and a deposition apparatus including the same, and more particularly, to a linear evaporation source for depositing a deposition material on the surface of a glass, and a deposition apparatus including the same.
평판 디스플레이(FPD, Flat Panel Display)로 통칭되는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), OLED(Organic Light Emitting Diodes) 외에, 태양광 패널 등에 사용되는 기판은 그 재질이 주로 유리로서, 기판 자체를 통상 글라스라 지칭하기도 한다.In addition to LCD (Liquid Crystal Display), PDP (Plasma Display Panel), OLED (Organic Light Emitting Diodes), which are commonly referred to as flat panel displays (FPD), substrates used for solar panels are mainly made of glass. The substrate itself is also commonly referred to as glass.
이러한 글라스는 제품화를 위해 물리적/화학적인 일련의 공정을 거칠 수 있는데, 해당 공정은 진행을 위한 최적의 환경이 조성된 다수의 프로세스 챔버 유닛(process chamber unit)과 챔버유닛 사이에 밸브유닛이 배치된 인라인 진공장치에서 수행될 수 있다. Such glass can go through a series of physical/chemical processes for commercialization, in which a valve unit is disposed between a plurality of process chamber units and chamber units in which an optimal environment for the process is established. It can be performed in an in-line vacuum device.
이러한 증착공정 중 물리적 증착공정은, 일반적으로 진공챔버 내에 기판을 장착한 후, 증착될 물질(이하 '증착물질'이라 함)을 담은 가열 용기를 가열하여 그 내부의 증착될 물질을 증발 또는 승화시키며, 기체 상태의 증착물질을 글라스에 박막으로 코팅하는 프로세스를 포함한다. Among these deposition processes, in the physical deposition process, in general, after mounting a substrate in a vacuum chamber, heating a heating container containing a material to be deposited (hereinafter referred to as a'deposition material') to evaporate or sublimate the material to be deposited therein. , A process of coating a vapor deposition material on the glass with a thin film.
이를 위해 물리적 증착공정의 통상적인PVD(thermal physical vapor deposition) 장치는, 증착챔버(evaporation chamber) 내에 높은 열 저항 및 화학적 안정성을 갖는 도가니(crucible)가 마련되는 소스증착유닛을 포함한다.To this end, a conventional PVD (thermal physical vapor deposition) apparatus in a physical vapor deposition process includes a source deposition unit in which a crucible having high thermal resistance and chemical stability is provided in an evaporation chamber.
이러한 PVD 증착장치에서, 유기재료는 증발점(또는 승화점)까지 가열되고, 증발된 유기재료는 소스증착유닛으로부터 유동된 후 기판상에 고르게 코팅된다.In such a PVD deposition apparatus, an organic material is heated to an evaporation point (or sublimation point), and the evaporated organic material is evenly coated on a substrate after flowing from the source deposition unit.
이때 PVD 증착장치에서, PVD 증착공정의 진행 동안에, 증발 또는 승화가 이루어지는 도가니(crucible)로부터 증발 또는 승화된 증발물질은, 균일한 박막두께를 위해서 고르게 글라스로 공급되어야 한다.At this time, in the PVD deposition apparatus, the evaporation material evaporated or sublimated from the crucible where evaporation or sublimation is performed during the PVD deposition process must be evenly supplied to the glass for a uniform thin film thickness.
최근의 PVD 증착장치에서는 대면적 글라스에 대한 증착이 진행되어 한 번에 증착되는 증착 물질이 증가되었을 뿐만 아니라, 대면적의 박막을 고르게 형성하기 위해 스캔 방식으로 증착할 수 있도록 리니어 바모듈을 갖는 소스증착유닛이 사용된다.In recent PVD evaporation equipment, the deposition of large-area glass is in progress, increasing the amount of evaporation material deposited at one time, as well as a source with a linear bar module to be deposited in a scan method to evenly form a large-area thin film. A deposition unit is used.
이러한 소스증착유닛은, 글라스의 폭 방향으로 배치되어 글라스에 대해 상대 이동되면서 글라스에 증착물질을 고르게 분배하여 글라스에 대한 증착을 수행할 수 있다.Such a source deposition unit may be disposed in the width direction of the glass to move relative to the glass and evenly distribute the deposition material to the glass to perform deposition on the glass.
이러한 종래의 소스증착유닛은, 증착공정 시에 열전달 현상에 따른 히트플로우(flow)가 노즐 측으로부터 소스공급유닛 측으로 발생된다.In such a conventional source deposition unit, a heat flow according to a heat transfer phenomenon occurs from the nozzle side to the source supply unit side during the deposition process.
그런데, 소스공급유닛으로부터 증착물질이 소모되면서 증착물질의 표면과 노즐의 거리가 점차 증가되는 경우에는, 소스공급유닛에 대한 히팅 플로우가 점차 약화되어 소스공급유닛에 대한 열량이 줄어들게 되며, 증착물질의 증발속도가 감소되어서, 소스증착유닛에 대한 증착물질의 공급량이 점차 적어지는 문제점이 있었다.However, when the distance between the surface of the deposition material and the nozzle is gradually increased as the deposition material is consumed from the source supply unit, the heating flow to the source supply unit is gradually weakened and the amount of heat to the source supply unit decreases. As the evaporation rate is reduced, there is a problem that the amount of the deposition material supplied to the source deposition unit gradually decreases.
본 발명의 일 실시 예는, 증착물질을 유출하는 리니어 바모듈로부터 증발이 일어나는 증착물질까지 열전달 거리가 일정하도록 증착물질의 레벨을 유지하여, 리니어 바모듈로 증착물질을 일정하게 공급할 수 있을 뿐만 아니라, 글라스에 대해서 증착물질의 공급을 일정하게 유지할 수 있는 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착장치를 제공하고자 한다.According to an embodiment of the present invention, by maintaining the level of the deposition material so that the heat transfer distance from the linear bar module that discharges the deposition material to the deposition material where evaporation occurs is constant, it is possible to supply the deposition material to the linear bar module. , To provide a linear evaporation source and a deposition apparatus including the same, which can maintain a constant supply of a deposition material to the glass.
본 발명의 일 측면에 따르면, 글라스에 증착물질을 증착시키도록 노즐들이 상호 이격되어 상부에 배치되는 리니어 바모듈; 상기 증착물질을 공급하도록 상기 리니어 바모듈에 연결되며, 상기 리니어 바모듈에 대한 상기 증착물질의 레벨이 일정하게 유지되도록 높이가 조절되는 내부 도가니를 구비하는 소스공급모듈; 및 상기 증착물질의 레벨이 일정하게 유지되도록 상기 내부 도가니의 높이를 조절하는 오토레벨모듈을 포함하는 선형 증발원이 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a linear bar module in which nozzles are spaced apart from each other to deposit a deposition material on glass; A source supply module connected to the linear bar module to supply the deposition material and having an internal crucible whose height is adjusted to maintain a constant level of the deposition material with respect to the linear bar module; And a linear evaporation source including an auto level module for adjusting the height of the inner crucible so that the level of the deposition material is kept constant may be provided.
상기 소스공급모듈은, 상기 내부 도가니가 내부에 승강 가능하게 결합되되, 상기 리니어 바모듈에 결합되는 도가니 본체; 및 상기 내부 도가니를 가열하도록 상기 도가니 본체에 마련되는 복수의 히터부를 포함할 수 있다.The source supply module may include a crucible body in which the inner crucible is liftably coupled to the inside, and is coupled to the linear bar module; And a plurality of heaters provided in the crucible body to heat the inner crucible.
상기 오토레벨모듈은, 상기 리니어 바모듈에 배치되어 상기 글라스에 대한 상기 증착물질의 두께를 감지하는 두께측정센서; 및 상기 두께측정센서에 의해 측정되는 상기 증착물질의 두께를 기초로 상기 내부 도가니를 승강시키는 승강 작동부를 포함할 수 있다.The auto level module may include a thickness measuring sensor disposed on the linear bar module to detect a thickness of the deposition material on the glass; And an elevating operation unit for elevating the inner crucible based on the thickness of the deposition material measured by the thickness measurement sensor.
상기 승강 작동부는, 상기 내부 도가니를 승강시키도록 상기 내부 도가니에 연결되는 승강 구동부; 및 상기 글라스로부터 상기 증착물질의 두께를 수집하도록 상기 두께측정센서와 상호 통신하며, 수집된 상기 증착물질의 두께를 기초로 상기 승강구동부를 구동시키는 승강 제어부를 포함할 수 있다.The lifting operation unit, a lifting drive unit connected to the inner crucible to lift the inner crucible; And an elevation control unit that communicates with the thickness measurement sensor to collect the thickness of the deposition material from the glass, and drives the elevation drive unit based on the collected thickness of the deposition material.
상기 복수의 히터부는, 상기 도가니 본체의 상부에 배치되는 상부 히터부; 및 상기 도가니 본체의 하부에 배치되는 하부 히터부를 포함할 수 있다.The plurality of heaters may include an upper heater disposed on the crucible body; And a lower heater part disposed under the crucible body.
상기 도가니 본체의 하부에는, 상기 증착물질이 회수되도록 회수부가 마련될 수 있다.A recovery part may be provided under the crucible body to recover the deposition material.
상기 리니어 바모듈은, 상기 복수의 노즐이 상기 글라스의 이동방향에 교차하게 배치되는 리니어 바본체; 및 상기 소스공급모듈에 연결되도록 상기 리니어 바본체의 하부에 마련되는 소스통로부를 포함할 수 있다.The linear bar module includes: a linear bar body in which the plurality of nozzles are disposed to cross the moving direction of the glass; And a source passage part provided under the linear bar body to be connected to the source supply module.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 전술한 상기 선형 증발원; 및 상기 선형 증발원이 배치되되, 글라스에 대한 증착물질의 증착공정이 진공상태에서 진행되도록 마련되는 증착챔버유닛을 포함하는 증착장치가 제공될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the linear evaporation source described above; And a deposition chamber unit in which the linear evaporation source is disposed, and the deposition process of the deposition material on the glass proceeds in a vacuum state.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 리니어 바모듈로부터 증발이 일어나는 증착물질까지 열전달 거리가 일정하도록 증착물질의 레벨을 유지하여, 리니어 바모듈로 증착물질을 일정하게 공급할 수 있을 뿐만 아니라, 글라스에 대해서 증착물질의 공급을 일정하게 유지할 수 있는 선형 증발원 및 이를 포함하는 증착장치를 제공할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, by maintaining the level of the deposition material so that the heat transfer distance from the linear bar module to the deposition material where evaporation occurs is constant, it is possible to supply the deposition material to the linear bar module uniformly, as well as to the glass. It is possible to provide a linear evaporation source capable of maintaining a constant supply of a deposition material and a deposition apparatus including the same.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 선형 증발원에 대한 개략도이다.1 is a schematic diagram of a linear evaporation source according to an embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면에 도시된 특정 실시 예들에 의해 본 발명의 다양한 실시 예들을 설명한다. 후술되는 본 발명의 실시 예들에 차이는 상호 배타적이지 않은 사항으로 이해되어야 한다. 즉 본 발명의 기술 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서, 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은, 일 실시 예에 관련하여 다른 실시 예로 구현될 수 있으며, 각각의 개시된 실시 예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 변경될 수 있음이 이해되어야 하며, 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described with reference to specific embodiments shown in the accompanying drawings. Differences in the embodiments of the present invention to be described later should be understood as matters that are not mutually exclusive. That is, without departing from the spirit and scope of the present invention, specific shapes, structures, and characteristics described may be implemented in other embodiments in relation to one embodiment, and the location of individual components in each disclosed embodiment or It should be understood that the arrangement may be changed, and similar reference numerals in the drawings refer to the same or similar functions over various aspects, and the length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 선형 증발원에 대한 개략도이다.1 is a schematic diagram of a linear evaporation source according to an embodiment of the present invention.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시 예에 따른 선형 증발원(113)은, 글라스에 증착물질을 증착시키도록 노즐(116)들이 상호 이격되어 상부에 배치되는 리니어 바모듈(114)과, 증착물질을 공급하도록 리니어 바모듈(114)에 연결되며 리니어 바모듈(114)에 대한 증착물질의 레벨이 일정하게 유지되도록 높이가 조절되는 내부 도가니(124)를 구비하는 소스공급모듈(123)과, 증착물질의 레벨이 일정하게 유지되도록 내부 도가니(124)의 높이를 조절하는 오토레벨모듈(130)을 포함한다.As shown in FIG. 1, the
이러한 본 실시 예에 따르면, 리니어 바모듈(114)로부터 소스공급모듈(123)의 증발되는 증착물질까지 열전달 거리가 오토레벨모듈(130)에 의해 일정하게 유지되어, 소스공급모듈(123)로부터 리니어 바모듈(114)로 증착물질을 일정하게 공급할 수 있을 뿐만 아니라, 글라스에 대해 소스공급모듈(123)로부터 증착물질의 공급을 일정하게 유지할 수 있다.According to this embodiment, the heat transfer distance from the
본 실시 예에 따른 선형 증발원(113)은, 리니어 바모듈(114)의 노즐(116)로부터 기체 상태의 증착물질을 노즐(116) 상으로 배치되는 글라스에 대해 제공할 수 있다.The
이때 리니어 바모듈(114)로부터 소스공급모듈(123) 측으로 히트 플로우(heat flow, 열류)가 발생되는데, 이러한 히트 플로우는 증착물질을 가열하는 열로 작용한다.At this time, a heat flow (heat flow) is generated from the
그런데, 증착물질이 소스공급모듈(123)으로부터 소모되면서 증착물질의 레벨(수위)이 낮아지는 경우에는, 거리가 멀어져 히트 플로우에 의한 열 전달량이 감소될 수 있다.However, when the deposition material is consumed from the
이때 소스공급모듈(123)은, 내부 도가니(124)가 있는 이중구조로서, 내부 도가니(124)는 증착물질의 레벨이 낮아질 때, 증착물질의 히트 플로우에 의한 열 전달량이 유지되도록 오토레벨모듈(130)에 의해서 상승될 수 있다.At this time, the
이하 본 실시 예에 따른 선형 증발원(113)의 구성요소들을 좀더 상세하게 설명한다.Hereinafter, components of the
다시, 도 1을 참조하면, 소스공급모듈(123)은 내부 도가니(124)가 내부에 승강 가능하게 결합되되 리니어 바모듈(114)에 결합되는 도가니 본체(125)와, 내부 도가니(124)를 가열하도록 도가니 본체(125)에 마련되는 복수의 히터부(126, 127)를 포함할 수 있다.Again, referring to FIG. 1, the
본 실시 예에 따르면 도가니 본체(125)는, 리니어 바모듈(114)의 하부에 결합되며, 외부로 보이는 파이프 형상의 구조를 갖는다. 이때, 전술한 복수의 히터부(126, 127)는, 도가니 본체(125)의 상부에 배치되는 상부 히터부(126)와, 도가니 본체(125)의 하부에 배치되는 하부 히터부(127)를 포함할 수 있다. 또한 도가니 본체(125)의 하부에는, 증착물질이 회수되도록 회수부(128)가 마련될 수 있다.According to the present embodiment, the
이러한 도가니 본체(125)의 내부에 승강 가능하게 결합되는 내부 도가니(124)는, 도가니 본체(125)의 내벽부에 슬라이드 이동 가능하게 배치될 수 있다. 도시되진 않았으나, 도가니 본체(125)와 내부 도가니(124) 사이에는 승강 이동을 안내하는 구조가 마련될 수 있다.The
이러한 도가니 본체(125)에 대한 내부 도가니(124)의 승강 이동은, 오토레벨모듈(130)에 의해 수행될 수 있다. 내부 도가니(124)에 있는 증착물질의 소모에 따라 증착물질의 레벨이 줄어드는데, 오토레벨모듈(130)은 글라스에 대한 증착물질의 두께 정도를 감지하여 내부 도가니(124)를 승강시킬 수 있다.The lifting and lowering of the
즉 내부 도가니(124)에 있는 증착물질의 레벨이 상부 히터부(126)에서 하부 히터부(137) 측으로 내려가는 경우에는, 위쪽에 있는 리니어 바모듈(114)로부터 열 전달량이 줄어든다.That is, when the level of the deposition material in the
이때는 리니어 바모듈(114) 측으로부터 증착물질의 레벨까지 거리가 멀어져 히트 플로우의 도달 거리가 증가되며, 상부 히터부(126)로부터도 증착물질까지 열 전달 거리가 증가하게 된다. 이에 따라 오토레벨모듈(130)은, 내부 도가니(124)를 상승시켜 증착물질의 레벨을 일정하게 유지시킨다.In this case, the distance from the side of the
이러한 본 실시 예에 따른 오토레벨모듈(130)은, 리니어 바모듈(114)에 배치되어 글라스에 대한 증착물질의 두께를 감지하는 두께측정센서(131)와, 두께측정센서(131)에 의해 측정되는 증착물질의 두께를 기초로 내부 도가니(124)를 승강시키는 승강 작동부(132)를 포함할 수 있다.The
두께측정센서(131)는, 글라스에 증착되는 박막의 두께를 측정하기 위한 측정센서로서, 일 예로 쿼츠크리스탈 센서(Quartz Crystal Sensor)가 선택될 수 있다.The
이러한 쿼츠크리스탈 센서를 이용하여 박막의 두께를 측정하는 경우에는, 쿼츠크리스탈 센서의 전극 양단에 적당한 교류전압을 인가하고, 쿼츠크리스탈 센서의 진동수의 변동을 측정하는 방식으로 수행된다.In the case of measuring the thickness of a thin film using such a quartz crystal sensor, it is performed by applying an appropriate AC voltage to both ends of the electrode of the quartz crystal sensor and measuring the fluctuation of the frequency of the quartz crystal sensor.
즉 쿼츠크리스탈 센서의 표면에 증착물질이 증착되면 진동주파수가 변하게 되는데, 증착 시 실제 진동주파수가 고유 진동주파수로부터 벗어난 정도를 측정하여 증착두께를 계산한다.In other words, when the deposition material is deposited on the surface of the quartz crystal sensor, the vibration frequency changes. During deposition, the deposition thickness is calculated by measuring the degree to which the actual vibration frequency deviates from the natural vibration frequency.
이러한 두께측정센서(131)에 연동되는 승강 작동부(132)는, 내부 도가니(124)를 승강시키도록 내부 도가니(124)에 연결되는 승강 구동부(133)와, 글라스로부터 증착물질의 두께를 수집하도록 두께측정센서(131)와 상호 통신하며 수집된 증착물질의 두께를 기초로 승강 구동부(133)를 구동시키는 승강 제어부(134)를 포함할 수 있다.The
본 실시 예에 따르면, 두께측정센서(131)에 의해 글라스에 대한 증착물질의 두께가 측정되는데, 이러한 글라스의 두께가 일정하게 증가되지 않는 경우는, 글라스에 대한 증착물질의 공급이 원활하지 않는 경우이다.According to the present embodiment, the thickness of the evaporation material to the glass is measured by the
즉 소스공급모듈(123)로부터 증착물질의 증발 속도가 감소 또는 증가하는 경우인데, 본 실시 예에 따르면 증착물질의 레벨이 낮아지는 경우에 해당된다.That is, the evaporation rate of the deposition material from the
승강 제어부(134)는, 두께측정센서(131)로부터 감지되는 신호를 기초로 증착물질의 두께를 계산하며, 증착물질의 두께가 일정하게 증가되지 않는 경우로 감지되는 경우에는, 미리 설정되어 있는 증착물질의 두께 증가속도로 신호가 감지될 수 있도록 승강 구동부(133)를 구동시켜 내부 도가니(124)를 적절하게 상승시킬 수 있다.The elevating
이러한 승강 제어부(134)는, 자세하게 도시되진 않았으나 간단한 피드백 제어를 수행할 수 있는 컨트롤러뿐만 아니라, 승강 구동부(133)를 구동시킬 수 있는 모터 드라이버를 포함할 수 있다.Although not shown in detail, the
승강 구동부(133)는, 자세하게 도시된 않았으나, 모터에 의해 승강되는 요소들을 가질 수 있다. 이러한 승강 요소로는, 리드스크류 및 리니어가이드를 포함할 수 있다. 또한 승강 구동부(133)는, 모터 자체의 회전축이 리드스크류 구조로서 승강 가능하게 마련될 수 있다.The elevating
이러한 승강 작동부(132)의 작동을 위해서는, 전술한 두께측정센서(131) 측으로 증착물질이 공급되어야 한다.In order to operate the
이를 위해서 본 실시 예에 따른 리니어 바모듈(114)에는, 두께측정센서(131) 측으로 증착물질을 제공할 수 있도록 두께 측정관(135)이 마련된다. 이러한 두께 측정관(135)은, 리니어 바모듈(114)의 후술되는 리니어 바본체(115) 양측에 배치될 수 있으며, 두께측정센서(131)도 이에 대응하여 배치될 수 있다.To this end, in the
본 실시 예에 따른 리니어 바모듈(114)은, 복수의 노즐(116)이 글라스의 이동방향에 교차하게 배치되는 리니어 바본체(115)와, 소스공급모듈(123)에 연결되도록 리니어 바본체(115)의 하부에 마련되는 소스통로부(117)를 포함할 수 있다.The
이때 소스통로부(117)와 도가니 본체(125)는 탈착 가능하게 마련될 수 있다. 즉 도가니 본체(125)는 소스통로부(117)에 연결된 상태에서 분리될 수 있으며, 연결 시에는 증착물질의 누설이 방지되도록 연결구조가 마련될 수 있다.At this time, the
다시, 도 1을 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 전술한 선형 증발원(113)과, 선형 증발원(113)이 배치되되 글라스에 대한 증착물질의 증착공정이 진공상태에서 진행되도록 마련되는 증착챔버유닛(미도시)을 포함하는 증착장치(미도시)가 제공될 수 있다.Referring again to FIG. 1, according to another embodiment of the present invention, the above-described
이러한 다른 실시 예에 따르면, 리니어 바모듈(114)로부터 소스공급모듈(123)의 증발되는 증착물질까지 열전달 거리가 오토레벨모듈(130)에 의해 일정하게 유지되도록 하여, 소스공급모듈(123)로부터 리니어 바모듈(114)로 증착물질을 일정하게 공급할 수 있을 뿐만 아니라, 글라스에 대해 소스공급모듈(123)로부터 증착물질의 공급을 일정하게 유지할 수 있다.According to this other embodiment, the heat transfer distance from the
이러한 실시 예에 따른 리니어 바본체(115)는, 글라스의 이동방향에 교차하도록 길게 마련되며, 증착물질이 각각의 노즐(116)로 유동되도록 내부통로가 형성된 바 형상이다.The
노즐(116)은, 리니어 바본체(115)의 상단부에 일정 간격으로 배치되어 위로 통과하는 글라스의 저면부로 증착물질을 균일하게 제공할 수 있다. 이러한 리니어 바본체(115)는, 상대 이동되는 글라스에 대해 스캔 방식으로 증착물질을 증착시킬 수 있다. 이때, 글라스에 대한 패턴박막은, 여러 번의 증착공정을 거쳐 단계적으로 적층되는 증착물질에 의해 형성된다.The
이상과 같이 본 발명의 일 실시 예에 대하여 설명하였으나, 이를 기초로 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다 할 것이다.As described above, an embodiment of the present invention has been described, but based on this, if a person of ordinary skill in the relevant technical field does not depart from the spirit of the present invention described in the claims, addition, change, and Various modifications and changes may be made to the present invention by deletion or addition, and this will also be included within the scope of the present invention.
113: 선형 증발원
114: 리니어 바모듈 115 리니어 바본체
116: 노즐 117: 소스통로부
123: 소스공급모듈 124: 내부 도가니
125: 도가니 본체 126, 127: 복수의 히터부
126: 상부 히터부 127: 하부 히터부
128: 회수부 130: 오토레벨모듈
131: 두께측정센서 132: 승강 작동부
133: 승강 구동부 134: 승강 제어부
135: 두께 측정관113: linear evaporation source
114:
116: nozzle 117: source passage
123: source supply module 124: internal crucible
125: crucible
126: upper heater part 127: lower heater part
128: recovery unit 130: auto level module
131: thickness measurement sensor 132: lifting operation part
133: lifting drive unit 134: lifting control unit
135: thickness measuring tube
Claims (8)
상기 증착물질을 공급하도록 상기 리니어 바모듈에 연결되며, 상기 리니어 바모듈에 대한 상기 증착물질의 레벨이 일정하게 유지되도록 높이가 조절되는 내부 도가니를 구비하는 소스공급모듈; 및
상기 증착물질의 레벨이 일정하게 유지되도록 상기 내부 도가니의 높이를 조절하는 오토레벨모듈을 포함하고,
상기 소스공급모듈은,
상기 내부 도가니가 내부에 승강 가능하게 결합되되, 상기 리니어 바모듈에 결합되는 도가니 본체; 및
상기 내부 도가니를 가열하도록 상기 도가니 본체에 마련되는 복수의 히터부를 포함하고,
상기 오토레벨모듈은,
상기 리니어 바모듈에 배치되어 상기 글라스에 대한 상기 증착물질의 두께를 감지하는 두께측정센서; 및
상기 두께측정센서에 의해 측정되는 상기 증착물질의 두께를 기초로 상기 내부 도가니를 승강시키는 승강 작동부를 포함하고,
상기 복수의 히터부는,
상기 도가니 본체의 상부에 배치되는 상부 히터부; 및
상기 도가니 본체의 하부에 배치되는 하부 히터부를 포함하고,
상기 도가니 본체의 하부에는,
상기 도가니 본체 및 상기 내부 도가니와 동일한 중심축을 가지면서 상기 증착물질이 회수되도록 상기 내부 도가니 아래에 회수부가 마련되고,
상기 리니어 바모듈은,
상기 복수의 노즐이 상기 글라스의 이동방향에 교차하게 일 측에 배치되는 리니어 바본체; 및
상기 소스공급모듈에 연결되도록 상기 리니어 바본체의 하부에 마련되는 소스통로부를 포함하고,
상기 두께측정센서는,
상기 리니어 바본체의 타 측에 배치되는 두께 측정관과 마주하는 선형 증발원.A linear bar module in which nozzles are spaced apart from each other to deposit a deposition material on the glass and disposed thereon;
A source supply module connected to the linear bar module to supply the deposition material and having an inner crucible whose height is adjusted to maintain a constant level of the deposition material with respect to the linear bar module; And
An auto level module for adjusting the height of the inner crucible so that the level of the deposition material is kept constant,
The source supply module,
A crucible body in which the inner crucible is movably coupled to the inside, and is coupled to the linear bar module; And
It includes a plurality of heaters provided in the crucible body to heat the inner crucible,
The auto level module,
A thickness measurement sensor disposed on the linear bar module to detect a thickness of the deposition material on the glass; And
Including a lifting operation unit for lifting the inner crucible based on the thickness of the deposition material measured by the thickness measurement sensor,
The plurality of heater parts,
An upper heater part disposed above the crucible body; And
Including a lower heater disposed under the crucible body,
In the lower part of the crucible body,
A recovery part is provided under the inner crucible so that the deposition material is recovered while having the same central axis as the crucible body and the inner crucible,
The linear bar module,
A linear bar body in which the plurality of nozzles are disposed on one side to cross the moving direction of the glass; And
And a source passage part provided under the linear bar body to be connected to the source supply module,
The thickness measurement sensor,
A linear evaporation source facing the thickness measuring tube disposed on the other side of the linear bar body.
상기 승강 작동부는,
상기 내부 도가니를 승강시키도록 상기 내부 도가니에 연결되는 승강 구동부; 및
상기 글라스로부터 상기 증착물질의 두께를 수집하도록 상기 두께측정센서와 상호 통신하며, 수집된 상기 증착물질의 두께를 기초로 상기 승강구동부를 구동시키는 승강 제어부를 포함하는 선형 증발원.The method of claim 1,
The lifting operation unit,
An elevating driver connected to the inner crucible to elevate the inner crucible; And
A linear evaporation source including an elevation control unit that communicates with the thickness measurement sensor to collect the thickness of the deposition material from the glass, and drives the elevation drive unit based on the collected thickness of the deposition material.
상기 선형 증발원이 배치되되, 글라스에 대한 증착물질의 증착공정이 진공상태에서 진행되도록 마련되는 증착챔버유닛을 포함하는 증착장치.The linear evaporation source according to any one of claims 1 and 4; And
A deposition apparatus including a deposition chamber unit in which the linear evaporation source is disposed, and the deposition process of the deposition material on the glass proceeds in a vacuum state.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130120784A KR102144783B1 (en) | 2013-10-10 | 2013-10-10 | Depositon appratus and in line deposition system coprising the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130120784A KR102144783B1 (en) | 2013-10-10 | 2013-10-10 | Depositon appratus and in line deposition system coprising the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150042051A KR20150042051A (en) | 2015-04-20 |
KR102144783B1 true KR102144783B1 (en) | 2020-08-14 |
Family
ID=53035307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130120784A KR102144783B1 (en) | 2013-10-10 | 2013-10-10 | Depositon appratus and in line deposition system coprising the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102144783B1 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102381745B1 (en) | 2017-05-29 | 2022-04-04 | 주식회사 선익시스템 | Distribution-tube of evaporation source and deposition equipment with it |
CN112877645B (en) * | 2021-01-12 | 2023-06-16 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | Evaporation crucible and evaporation equipment with same |
KR102528282B1 (en) * | 2021-05-13 | 2023-05-03 | (주)데포랩 | Evaporating source |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100589237B1 (en) * | 2004-08-23 | 2006-06-14 | 세메스 주식회사 | Thermal evaporator having boat to decrease consumption of thin film source |
KR100805531B1 (en) * | 2006-06-13 | 2008-02-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | Evaporation source |
KR20090091564A (en) | 2008-02-25 | 2009-08-28 | 장준집 | Cartridge filter with prolonged water path |
KR101174874B1 (en) * | 2010-01-06 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | Deposition source, apparatus for thin layer deposition and method of manufacturing organic light emitting display apparatus |
KR20130105349A (en) * | 2012-03-12 | 2013-09-25 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | Evaporation source apparatus, vacuum deposition apparatus, and method of manufacturing organic el display device |
-
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- 2013-10-10 KR KR1020130120784A patent/KR102144783B1/en active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150042051A (en) | 2015-04-20 |
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