KR102141493B1 - 퍼지 장치 - Google Patents

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Abstract

퍼지 장치는 퍼지 유닛 및 배기 유닛을 포함한다. 퍼지 유닛은 대상물을 이송하는 포드(pod)를 제조 장치로 반입하기 위한 로드 포트(load port)로 퍼지 가스를 분사하여, 상기 포드로부터 발생된 이물질을 부유시킨다. 배기 유닛은 상기 퍼지 라인으로부터 분사된 상기 퍼지 가스에 의해 부유된 상기 이물질을 배기한다. 따라서, 이물질이 로드 포트의 틈새에 축적되는 것이 방지된다.

Description

퍼지 장치{PURGE APPARATUS}
본 발명은 퍼지 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 레티클을 반입하는 로드 포트(load port)의 이물질을 제거하기 위한 퍼지 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 레티클은 반도체 기판 상에 패턴을 형성하기 위해 사용된다. 따라서, 레티클에 파티클과 같은 이물질이 묻게 되면, 원하는 패턴을 형성할 수 없다.
관련 기술에 따르면, 레티클은 포드(pod)라는 고청정 환경을 유지하는 용기에 수납된 상태로 노광 장치로 이송된다. 또한, 로드 포트는 레티클이 수납된 포드를 노광 장치로 이송시키는 인터페이스 기능을 한다.
포드의 사용 회수가 증가함에 따라, 포드가 점진적으로 마모될 수 있다. 마모된 포드 부분으로부터 파티클이 발생될 수 있다. 파티클은 로드 포트의 틈새 사이에 축적된다. 축적된 파티클들이 노광 장치로 유입되어, 노광 공정에 심각한 악영향을 미치는 문제가 있다.
본 발명은 파티클과 같은 이물질이 로드 포트에 축적되는 것을 방지하는 퍼지 장치를 제공한다.
본 발명의 일 견지에 따른 퍼지 장치는 퍼지 유닛 및 배기 유닛을 포함한다. 퍼지 유닛은 대상물을 이송하는 포드(pod)를 제조 장치로 반입하기 위한 로드 포트(load port)로 퍼지 가스를 분사하여, 상기 포드로부터 발생된 이물질을 부유시킨다. 배기 유닛은 상기 퍼지 라인으로부터 분사된 상기 퍼지 가스에 의해 부유된 상기 이물질을 배기한다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 퍼지 유닛은 상기 로드 포트로 상기 퍼지 가스를 분사하는 퍼지 라인, 및 상기 퍼지 라인으로 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 공급원을 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 퍼지 라인은 상기 로드 포트가 갖는 틈새로 상기 퍼지 가스를 분사할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 퍼지 라인은 상기 틈새를 따라 배치될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 퍼지 가스는 질소를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 배기 유닛은 진공 펌프를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 퍼지 장치는 상기 로드 포트가 상기 포드를 상기 반도체 제조 장치로/로부터 로딩/언로딩하는 것을 감지하여 상기 로딩/언로딩 동작 중에 상기 퍼지 유닛과 상기 배기 유닛을 정지시키는 센서를 더 포함할 수 있다.
상기된 본 발명에 따르면, 퍼지 유닛이 로드 포트의 틈새로 퍼지 가스를 분사하여 이물질들을 부유시키고, 배기 유닛이 부유된 이물질을 배기한다. 따라서, 이물질이 로드 포트의 틈새에 축적되는 것이 방지된다. 또한, 로드 포트가 대상물을 로딩/언로딩하는 것을 센서가 감지하여 퍼지 유닛과 배기 유닛의 동작을 정지시킴으로써, 로딩/언로딩 동작 중에 퍼지 가스에 의해서 제조 장치의 내부 기류가 변화되는 것이 억제될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 퍼지 장치를 나타낸 단면도이다.
도 2는 도 1의 퍼지 장치를 나타낸 평면도이다.
도 3은 도 1의 장치의 센서가 포드가 반도체 제조 장치의 챔버로 반입되는 것을 감지하는 것을 나타낸 단면도이다.
도 4는 도 1의 장치의 센서가 포드가 반도체 제조 장치의 챔버로부터 반출되는 것을 감지하는 것을 나타낸 단면도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 퍼지 장치를 나타낸 단면도이고, 도 2는 도 1의 퍼지 장치를 나타낸 평면도이며, 도 3은 도 1의 장치의 센서가 포드가 노광 챔버로 반입되는 것을 감지하는 것을 나타낸 단면도이고, 도 4는 도 1의 장치의 센서가 포드가 노광 챔버로부터 반출되는 것을 감지하는 것을 나타낸 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 퍼지 장치(100)는 퍼지 유닛(110) 및 배기 유닛(120)을 포함한다.
본 실시예에서, 퍼지 장치(100)은 제조 장치에서 사용되는 대상물을 수용하는 포드(P)로부터 발생된 파티클과 같은 이물질을 제거하는데 사용된다. 포드(P)는 로드 포트(L)를 통해서 제조 장치로 반입된다. 또한, 포드(P)는 로드 포트(L)를 통해서 제조 장치로부터 반출된다. 포드(P)로부터 발생된 이물질은 로드 포트(L)에 축적된다. 특히, 이물질은 로드 포트(L)의 부품들 사이에 형성된 틈새 내에 축적될 수 있다.
또한, 본 실시예에서, 대상물은 반도체 기판 상에 패턴을 형성하는데 사용되는 레티클을 포함할 수 있다. 이러한 경우, 제조 장치는 반도체 노광 장치를 포함하게 된다. 다른 실시예로서, 포드(P)를 이용해서 운반되는 대상물은 반도체 기판 또는 다른 제조 공정들에서 사용되는 부품들을 포함할 수도 있다. 즉, 대상물은 고청정으로 유지될 것이 요구되는 여러 가지 부품들을 포함할 수도 있다.
퍼지 유닛(110)은 로드 포트(L)로 퍼지 가스를 분사하여, 로드 포트(L)에 묻은 이물질을 부유시킨다. 본 실시예에서, 퍼지 유닛(110)은 퍼지 라인(112) 및 퍼지 가스 공급원(114)을 포함한다. 퍼지 라인(112)은 로드 포트(L)에 연결된다. 특히, 퍼지 라인(112)은 로드 포트(L)의 틈새 양측에 배치된다. 퍼지 라인(112)은 로드 포트(L)의 틈새와 연통된 개구부를 갖는다. 퍼지 가스 공급원(114)은 퍼지 라인(112)에 연결되어, 퍼지 라인(112)으로 퍼지 가스를 공급한다. 본 실시예에서, 퍼지 가스는 질소 가스와 같은 비활성 가스를 포함할 수 있다.
배기 유닛(120)은 로드 포트(L)에 연결되어, 퍼지 가스에 의해 부유된 이물질을 배기시킨다. 본 실시예에서, 배기 유닛(120)은 로드 포트(L)로 진공을 제공하는 진공 펌프를 포함할 수 있다.
본 실시예에서와 같이, 퍼지 가스 공급원(114)이 퍼지 라인(112)으로 퍼지 가스를 공급한다. 퍼지 가스가 퍼지 라인(112)으로부터 로드 포트(L)의 틈새로 분사되어, 포드(P)로부터 발생된 이물질이 부유된다. 따라서, 이물질이 로드 포트(L)의 틈새 내에 축적되는 것이 방지된다. 배기 유닛(120)은 부유된 이물질을 진공으로 흡입하여, 로드 포트(L)의 외부로 배기시킨다.
부가적으로, 퍼지 장치(100)는 센서(130)를 더 포함할 수도 있다. 센서(130)는 포드(P)를 감지한다. 센서(130)는 포드(P)의 감지 여부에 따라 퍼지 유닛(110)과 배기 유닛(120)의 동작들을 선택적으로 제어한다.
도 3을 참조하면, 레티클이 수납된 포드(P)가 로드 포트(L)로부터 반도체 제조 장치의 챔버(C)로 반입되면, 센서(130)는 반입된 포드(P)를 감지하지 못한다. 이러한 반입 동작 중에, 센서(130)는 퍼지 유닛(110)과 배기 유닛(120)의 동작을 정지시킨다. 따라서, 반입 동작 중에, 개방된 노광 챔버(C) 내의 기류가 퍼지 유닛(110)과 배기 유닛(120)에 의해 변화되는 것이 방지된다. 또한, 반입 동작 중에, 퍼지 유닛(110)에 의해 부유된 이물질이 개방된 노광 챔버(C) 내로 유입되는 것도 방지된다. 본 실시예에서, 상기 챔버(C)는 노광 챔버를 포함할 수 있다.
도 4를 참조하면, 레티클이 수납된 포드(P)가 노광 챔버(C)로부터 로드 포트(L)로 반출되면, 센서(130)는 반출된 포드(P)를 감지한다. 이러한 반출 동작 중에, 센서(130)는 퍼지 유닛(110)과 배기 유닛(120)의 동작을 정지시킨다. 따라서, 반출 동작 중에, 개방된 노광 챔버(C) 내의 기류가 퍼지 유닛(110)과 배기 유닛(120)에 의해 변화되는 것이 방지된다. 또한, 반출 동작 중에, 퍼지 유닛(110)에 의해 부유된 이물질이 개방된 노광 챔버(C) 내로 유입되는 것도 방지된다.
한편, 본 실시예에서는, 퍼지 장치(100)가 노광 공정용 로드 포트(L)에 적용되는 것으로 예시하였다. 그러나, 퍼지 장치(100)는 다른 반도체 제조 공정들, 또는 표시 장치의 제조 공정들에 사용되는 로드 포드들용으로도 사용될 수 있다.
상술한 바와 같이 본 실시예들에 따르면, 퍼지 유닛이 로드 포트의 틈새로 퍼지 가스를 분사하여 이물질들을 부유시키고, 배기 유닛이 부유된 이물질을 배기한다. 따라서, 이물질이 로드 포트의 틈새에 축적되는 것이 방지된다. 또한, 로드 포트가 대상물을 로딩/언로딩하는 것을 센서가 감지하여 퍼지 유닛과 배기 유닛의 동작을 정지시킴으로써, 로딩/언로딩 동작 중에 퍼지 가스에 의해서 제조 장치의 내부 기류가 변화되는 것이 억제될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
110 ; 퍼지 유닛 112 ; 퍼지 라인
114 ; 퍼지 가스 공급원 120 ; 배기 유닛
130 ; 센서

Claims (8)

  1. 대상물을 이송하는 포드(pod)를 제조 장치로 반입하기 위한 로드 포트(load port)로 퍼지 가스를 분사하여, 상기 포드로부터 발생된 이물질을 제거하는 퍼지 유닛;
    상기 퍼지 유닛으로부터 분사된 상기 퍼지 가스에 의해 부유된 상기 이물질을 배기하기 위한 배기 유닛; 및
    상기 로드 포트가 상기 포드를 상기 제조 장치로/로부터 로딩/언로딩하는 것을 감지하여 상기 로딩/언로딩 동작 중에 상기 퍼지 유닛과 상기 배기 유닛을 정지시키는 센서를 포함하고,
    상기 퍼지 유닛은
    상기 로드 포트가 갖는 틈새를 따라 배치되어, 상기 틈새로 상기 퍼지 가스를 분사하는 퍼지 라인; 및
    상기 퍼지 라인으로 상기 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 공급원을 포함하는 퍼지 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 퍼지 가스는 질소를 포함하는 퍼지 장치.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 배기 유닛은 진공 펌프를 포함하는 퍼지 장치.
  7. 삭제
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 대상물은 레티클을 포함하는 퍼지 장치.
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