KR102139449B1

KR102139449B1 - 금속 가공처리에서 롤을 냉각시키기 위한 시스템 및 방법

Info

Publication number: KR102139449B1
Application number: KR1020207002701A
Authority: KR
Inventors: 데이비드 에드워드 간처; 티모시 에프. 스태니스트리트; 로버트 윌리암 말로리; 레나토 루피노 사비에르; 제임스 찰스 릭스; 프랑크 수; 데이비드 스킹글리 라이트
Original assignee: 노벨리스 인크.
Priority date: 2018-06-13
Filing date: 2019-06-13
Publication date: 2020-07-29
Also published as: US20190381546A1; WO2019241551A1; CN110914002B; ES2945811T3; CA3070014A1; RU2729794C1; CA3070014C; BR112020001891A2; JP2020526396A; EP3634659B1; EP3634659A1; JP6837599B2; US10814365B2; DE202019005931U1; KR20200016392A; CN110914002A; AU2019287520A1

Abstract

롤 또는 금속 스트립과 같은 롤 처리된 엔지니어링 재료를 냉각시키기 위해 도포되는 냉각제와 같은 점성 재료를 격납하기 위한 시스템 및 방법이 본원에 제공된다. 특히, 점성 재료 격납 시스템은 하우징, 점성 재료 전달 시스템, 복수의 가동 시일 및 복수의 가스 전달 장치를 포함할 수 있다. 롤을 냉각시키는 방법은 냉각제와 같은 점성 재료를 롤에 도포하는 단계 및 점성 재료 격납 시스템을 사용하여 롤 상에 점성 재료를 격납하는 단계를 포함할 수 있다. 일부 경우에, 점성 재료 격납 시스템은 롤로부터 점성 재료를 용이하게 제거하는 데 사용될 수 있다.

Description

금속 가공처리에서 롤을 냉각시키기 위한 시스템 및 방법

관련 출원에 대한 교차 참조

본 출원은 2018년 6월 13일에 출원된 미국 가특허 출원 제62/684,443호에 대한 우선권 및 출원 이익을 주장하며, 이는 그 전체가 본원에 참조로서 원용된다.

기술분야

본 개시내용은 일반적으로 야금에 관한 것으로, 보다 구체적으로 금속 제조에 관한 것이다.

본원에서 달리 지시되지 않는 한, 이 설명 부분에 기술된 재료는 본 출원의 청구범위에 대한 선행 기술이 아니며, 본 설명 부분에 포함됨으로써 선행 기술로 인정된다는 것은 아니다.

기존의 롤 냉각 시스템 및 방법은 승온에서 수행되는 가공처리 단계(예를 들어, 열간 압연, 냉간 압연, 및/또는 온간 압연) 동안 및/또는 후에 냉각제 도포 헤더를 사용하여 냉각제를 작업 롤에 공급할 수 있고 또한 별도의 와이퍼를 이용하여 작업 롤 및/또는 압연 금속 제품(예를 들어, 금속 물품)에 도포된 냉각제를 격납할 수 있다. 일부 양태에서, 기존의 롤 냉각 시스템 및 방법은 다양한 공정의 교차 오염을 초래할 수 있다(예를 들어, 냉각제는 윤활제를 오염시킬 수 있고 세정제는 전처리제를 오염시킬 수 있음 등). 추가 양태에서, 와이퍼는 롤 표면과 지속적으로 접촉하여, 작업 롤 및/또는 금속 물품 표면을 손상시킬 수 있는 잔해물을 포집할 위험이 있다. 또한, 냉각 후 작업 롤 및/또는 금속 물품으로부터 냉각제를 제거하는 데 진공 시스템이 이용될 수 있다. 비격납된 냉각제의 진공 청소는, 특히 가공처리가 중지되고 및/또는 역전될 때, 작업 롤 및/또는 금속 물품에서 냉각제를 제거하는 데 효과적이지 않을 수 있다.

구현예 및 이와 유사한 용어는 본 개시내용의 모든 기술요지 및 하기의 청구 범위를 광범위하게 지칭하도록 의도된다. 이러한 용어를 포함하여 기술된 내용은 여기서 설명하는 기술요지를 제한하지 않는 것으로 이해하거나 아래 청구항의 의미나 범위를 제한하지 않는 것으로 이해해야 한다. 본원에서 보호되는 본 개시내용의 구현예는 본 요약이 아닌 이하의 청구범위에 의해 정의된다. 본 요약은 본 개시내용의 다양한 양태에 대한 고도의 개요이며, 아래의 구체적인 내용 부분에서 더 기술되는 개념의 일부를 소개한다. 본 요약은 청구되는 기술요지의 핵심 또는 필수 특징을 식별하게 하려는 것도 아니고, 청구되는 기술요지의 범위를 결정하는 데 단독으로 이용하게 하려는 것도 아니다. 본 기술요지는 본 개시내용의 명세서 전체, 일부나 모든 도면 및 각 청구범위의 적절한 부분을 참고로 이해되어야 한다.

표면에 도포된 점성 재료를 격납하기 위한 시스템이 본원에 설명되고, 시스템은 하우징, 점성 재료 전달 장치, 제1 위치와 제2 위치 사이에서 이동 가능한 복수의 시일로서, 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지는 제1 위치에서 표면과 접촉하며 제2 위치에서 갭에 의해 표면으로부터 분리되고, 표면은 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일을 향해 점성 재료를 운반하는, 복수의 시일, 및 복수의 가스 전달 장치를 포함하되, 복수의 가스 전달 장치 각각은 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일의 접촉 에지를 향해 가스를 공급하여 적어도 하나의 시일을 제1 위치에서 제2 위치로 이동시키도록 구성되고, 적어도 하나의 시일의 접촉 에지는 갭에 의해 표면으로부터 분리되고, 복수의 시일 각각이 제2 위치에 있을 때 복수의 가스 전달 장치에 의해 공급된 가스는 비접촉 시일로서 작용하여 점성 재료가 하우징에서 유출하는 것을 방지한다. 일부 경우에, 점성 재료는 액체, 겔, 졸-겔, 유리, 또는 이들의 임의의 조합(예를 들어, 세정제, 윤활제, 처리제, 전처리제, 심미적 코팅제, 냉각제, 또는 이들의 임의의 조합)일 수 있다. 일부 양태에서, 표면은 이동 표면(예를 들어, 롤 또는 롤 처리된 엔지니어링 재료)이다. 일부 양태에서, 이동 표면은 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일을 향해 점성 재료를 운반한다. 일부 비제한적인 실시예에서, 롤은 작업 롤, 백업 롤, 또는 중간 롤일 수 있으며, 롤 처리된 엔지니어링 재료는 금속, 중합체, 복합재, 또는 이들의 임의의 조합일 수 있다.

일부 실시예에서, 하우징은 상부, 하부, 제1 측부, 제1 측부와 대향하는 제2 측부, 후방부, 및 후방부와 대향하는 전방부를 포함하고, 전방부는 적어도 롤을 향하고, 상부, 하부, 제1 측부, 제2 측부, 및 후방부는 솔리드 패널일 수 있다. 일부 경우에, 후방부는 벤트를 더 포함할 수 있고, 전방부는 개방되어 있을 수 있다. 일부 비제한적인 실시예에서, 표면이 롤 처리된 엔지니어링 재료인 경우, 전방부는 실질적인 평면에 적어도 부분적으로 부합하도록 형성된다. 따라서, 전방부의 형상은 상부의 전방 에지, 하부의 전방 에지, 제1 측부의 전방 에지, 및 제2 측부의 전방 에지에 의해 결정된다(예를 들어, 상부의 전방 에지 및 하부의 전방 에지는 직선이며 평행할 수 있고 제1 측부의 전방 에지 및 제2 측부의 전방 에지는 직선임). 일부 추가의 비제한적인 실시예에서, 표면이 롤인 경우, 제1 측부의 전방 에지 및 제2 측부의 전방 에지는 롤의 곡률에 부합하도록 만곡될 수 있다. 일부 경우에, 전방부는 복수의 원형 롤에 대해 적어도 부분적으로 부합하도록 형성될 수 있다(예를 들어, 상부의 전방 에지 및 하부의 전방 에지는 직선이며 평행할 수 있고, 제1 측부의 전방 에지 및 제2 측부의 전방 에지는 적어도 제1 롤의 곡률, 제2 롤의 곡률, 및 닙 영역에 부합하도록 형성될 수 있음). 일부 양태에서, 하부와 후방부의 교차부는 드레인을 형성할 수 있다.

일부 비제한적인 실시예에서, 점성 재료 전달 장치는 하우징 내에 배치될 수 있다(예를 들어, 벤트를 통해 삽입되거나, 하우징의 제1 측부, 제2 측부, 상부, 또는 하부에 배치된 포트를 통해 삽입됨). 점성 재료 전달 장치는 제1 측부, 제2 측부, 상부, 또는 하부에 배치된 점성 재료 입구 포트, 및 점성 재료 입구 포트의 반대편에 배치된 점성 재료 출구 포트를 더 포함할 수 있다. 일부 경우에, 점성 재료 전달 장치는 하우징의 전방부를 향하는 복수의 노즐을 더 포함한다. 또한, 시스템은 정적 브러시 또는 가동 브러시(예를 들어, 회전 브러시, 요동 브러시, 또는 진동 브러시)일 수 있는 잔해물 제거 브러시를 포함할 수 있다.

일부 비제한적인 실시예에서, 복수의 시일은 상부의 전방 에지에 부착된 상부 시일, 하부의 전방 에지에 부착된 하부 시일, 제1 측부의 전방 에지에 부착된 제1 측부 시일, 및 제2 측부의 전방 에지에 부착된 제2 측부 시일을 포함한다. 일부 실시예에서, 복수의 시일의 각 시일은 시스템을 적어도 표면에 인접하게 위치시킴으로써 제1 위치에 유지된다. 일부 양태에서, 복수의 시일의 각 시일이 제1 위치에 있을 때, 각 시일은 적어도 표면에 실질적으로 평행하고 적어도 표면에 실질적으로 수직인 각도 사이에 있다. 일부 실시예에서, 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 복수의 시일의 각 시일을 제2 위치로 이동시키기에 충분한 속도로 가스를 공급하도록 구성된다. 일부 양태에서, 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 복수의 시일의 각 시일이 제2 위치에 있을 때 점성 재료가 갭을 통과하는 것을 방지하기에 충분한 속도로 가스를 공급하도록 구성된다. 일부 경우에, 공급된 가스가 없고, 복수의 시일의 각 시일이 제1 위치에 있을 때, 점성 재료는 복수의 시일의 시일들 중 적어도 하나의 시일 상으로, 하우징 내로, 하우징을 통과해, 드레인 내로 흐를 수 있다. 일부 추가 실시예에서, 포집 장치는 드레인의 출구에 배치될 수 있다(예를 들어, 채널, 진공 바, 또는 싱크).

일부 비제한적인 실시예에서, 시일은 가요성 시일(예를 들어, 중합체 시일, 폴리실리콘 시일, 또는 패브릭 시일)일 수 있다. 일부 경우에, 시일은 강성일 수 있다. 일부 추가 실시예에서, 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 강제 가스 전달 장치(예를 들어, 에어 나이프)이다.

또한, 본원에 설명된 것은 전술한 시스템을 이용하여 적어도 하나의 표면에 도포되는 점성 재료를 격납하는 방법으로서, 하우징을 표면에 인접하게 이동시키는 단계, 점성 재료를 표면에 전달하는 단계, 및 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지가 갭에 의해 표면으로부터 분리되는 제2 위치로 복수의 시일의 각 시일을 이동시키기 위해 복수의 가스 전달 장치로부터 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지를 향해 가스를 전달하는 단계를 포함하고, 가스의 속도는 표면 상의 점성 재료가 갭을 통과하는 것을 방지하기에 충분하다. 일부 양태에서, 하우징을 표면에 인접하게 이동시키는 단계는 하나의 표면과 접촉하도록 복수의 시일의 각 시일을 제1 위치로 이동시키는 단계를 포함하고, 복수의 시일의 각 시일은 가요성 시일 또는 강성 시일이다. 일부 비제한적인 실시예에서, 표면과 접촉하도록 복수의 시일을 제1 위치로 이동시키는 단계는 복수의 시일의 각 시일을 표면을 향해 바이어스시키는 단계를 더 포함한다.

일부 경우에, 복수의 가스 전달 장치에 의해 가스를 전달하는 단계는 복수의 강제 가스 전달 시스템(예를 들어, 에어 나이프)에 의해 수행된다. 일부 양태에서, 가스를 전달하면 복수의 시일의 각 시일을 제2 위치로 이동하도록 가압한다. 일부 추가 실시예에서, 본원에 기술된 방법은 표면으로부터 점성 재료를 제거하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 점성 재료가 각 갭을 통과하는 것을 방지하기 위해 가스를 전달함으로써 점성 재료를 복수의 시일의 시일들 중 적어도 하나의 시일 상으로 하우징 내로 흐르게 할 수 있다. 부가적으로, 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치를 비활성화하여 복수의 시일의 각 시일을 제1 위치로 이동시킴으로써, 점성 재료를, 예를 들어 하부 에지 시일 위에서, 하우징 내로 흐르게 할 수 있다. 그 후, 점성 재료는 하우징을 통과해 드레인 내로 흐를 수 있고, 드레인은 채널, 진공 바, 또는 싱크일 수 있는 포집 장치를 더 포함한다.

본 명세서는 아래 첨부되는 도면을 참고로 하고, 다른 도면에서 동일 또는 유사한 구성요소를 설명하는 데 있어 동일한 도면부호를 사용한다.
도 1은 본 개시내용의 특정 양태에 따른 냉각제 격납 시스템의 사시도이다.
도 2는 본 개시내용의 특정 양태에 따른 작업 롤에 인접하게 배치된 냉각제 격납 시스템의 사시도이다.
도 3은 본 개시내용의 특정 양태에 따른 작업 롤에 인접하게 배치된 냉각제 격납 시스템의 사시도이다.

본 개시내용의 특정 양태 및 특징은 점성 재료의 도포, 격납, 및/또는 제거에 관한 것이다. 특정 양태에서, 점성 재료는, 엔지니어링 재료(예를 들어, 압연 처리되는 금속 스트립과 같은 금속 물품)의 표면, 엔지니어링 재료를 처리하는 작업 롤의 표면, 또는 이동 물품을 처리하는 일환으로 점성 재료의 도포, 격납, 및/또는 제거를 필요로 하는 임의의 적절한 이동 물품의 표면에 도포되고, 격납되고, 그리고/또는 그로부터 제거된다. 본 개시내용의 추가 양태 및 특징은 열간 압연 모드, 냉간 압연 모드, 온간 압연 모드, 또는 이들의 임의의 조합에서 금속 물품을 압연하기 위한 압연기에 관한 것이다. 본 개시내용의 추가 양태 및 특징은 열간 압연, 냉간 압연, 또는 온간 압연 및/또는 압연되는 금속 물품에 관련된 롤을 냉각하는 시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 개시내용의 또 다른 추가 양태는 금속 물품의 표면을 손상시키지 않으면서 롤 및/또는 금속 물품에 도포된 냉각제를 격납하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.

본원에서 사용된 "발명", "상기 발명", "이 발명", 및 "본 발명"이란 용어는 본 특허 출원 및 하기의 청구범위의 모든 기술 요지를 광범위하게 나타내려고 의도된 것이다. 이 용어들을 포함하는 문구는 본원에 기재된 기술요지를 제한하지 않으며 하기의 특허청구범위의 의미 또는 범위를 제한하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

본원에서 사용되는, "일", "하나", 또는 "그"의 의미는 문맥상 명백하게 달리 지시하지 않는 한 단수 및 복수의 지시 대상을 포함한다.

본원에서 사용될 때, "상온"의 의미는 약 15℃ 내지 약 30℃, 예를 들어 약 15℃, 약 16℃, 약 17℃, 약 18℃, 약 19℃, 약 20℃, 약 21℃, 약 22℃, 약 23℃, 약 24℃, 약 25℃, 약 26℃, 약 27℃, 약 28℃, 약 29℃, 또는 약 30℃의 온도를 포함할 수 있다.

일부 비제한적인 실시예에서, 압연기는 적어도 하나의 작업 스탠드를 포함할 수 있고, 일부 실시예에서, 압연기는 다수의 스탠드를 포함할 수 있다. 예를 들어, 압연기는 2개의 스탠드, 3개의 스탠드, 4개의 스탠드, 5개의 스탠드, 6개의 스탠드, 또는 필요에 따라 또는 원하는 대로 임의의 다른 개수의 스탠드를 포함할 수 있다. 각 스탠드는 수직으로 정렬된 한 쌍의 작업 롤을 포함할 수 있다. 일부 경우에, 각 스탠드는 한 쌍의 작업 롤을 지지하는 한 쌍의 백업 롤을 포함한다. 일부 실시예에서, 각 스탠드는 또한 한 쌍의 중간 롤을 포함한다. 롤은 스테인리스 스틸, 스틸, 또는 임의의 적절한 재료로 이루어질 수 있다. 금속 물품을 압연하는 동안, 금속 물품은 작업 롤 사이에 형성된 롤 갭을 통과한다. 금속 물품을 압연하면 금속 물품의 두께를 원하는 두께로 감소시키고 금속 물품의 조성에 따라 금속 물품에 특정 특성을 부여한다. 최종 금속 제품에 대한 원하는 특성 또는 다른 고려 사항에 따라, 압연기는 열간 압연 모드, 냉간 압연 모드, 온간 압연 모드, 또는 이들의 임의의 조합에서 실행될 수 있다.

일부 실시예에서, 금속 물품은 알루미늄, 알루미늄 합금, 마그네슘, 마그네슘계 재료, 티타늄, 티타늄계 재료, 구리, 구리계 재료, 스틸, 스틸계 재료, 청동, 청동계 재료, 황동, 황동계 재료, 복합재, 복합재에 사용되는 시트, 또는 임의의 다른 적합한 금속 또는 재료의 조합이다. 물품은 모놀리식 재료뿐만 아니라, 롤-접합 재료, 클래드 재료, 복합 재료(예컨대, 비제한적 예로서, 탄소 섬유-함유 재료 등), 또는 다양한 다른 재료와 같은 비모놀리식 재료를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 금속 물품은 금속 코일, 금속 스트립, 금속 플레이트, 금속 시트, 금속 빌렛, 금속 잉곳 등이다. 일부 경우에, 본원에 기술된 시스템 및 방법은 비금속 물품에 사용될 수 있다.

열간 압연은 일반적으로 금속의 재결정 온도보다 높은 온도에서 일어난다. 예를 들어, 금속 물품이 알루미늄 또는 알루미늄 합금인 일부 경우에, 열간 압연은 약 250℃ 초과, 예를 들어 약 250℃ 내지 약 550℃의 온도에서 일어날 수 있다. 다른 실시예에서, 열간 압연을 위한 다양한 다른 온도가 사용될 수 있다.

열간 압연과 달리, 냉간 압연은 일반적으로 금속의 재결정 온도보다 낮은 온도에서 일어난다. 예를 들어, 금속 물품이 알루미늄 또는 알루미늄 합금인 일부 경우에, 냉간 압연은 약 200℃ 미만, 예를 들어 약 20℃ 내지 약 200℃의 온도에서 일어날 수 있다. 다른 실시예에서, 냉간 압연을 위한 다양한 다른 온도가 사용될 수 있다.

일부 경우에, 금속 물품은 금속의 재결정 온도보다 낮지만 냉간 압연 온도보다 높은 온도에서 일어나는 온간 압연 공정을 통해 압연될 수 있다. 예를 들어, 금속 물품이 알루미늄 또는 알루미늄 합금인 일부 경우에, 온간 압연은 약 200℃ 내지 약 250℃의 온도에서 일어날 수 있다. 다른 실시예에서, 온간 압연을 위한 다양한 다른 온도가 사용될 수 있다.

일부 실시예에서, 압연기는 냉각제 전달 장치 및 작업 롤 및/또는 백업 롤에 인접한 냉각제 격납 시스템을 포함하는 롤 냉각 시스템을 갖는다. 일부 실시예에서, 롤 냉각 시스템은 가공처리 동안 작업 롤 및/또는 백업 롤의 온도를 감소시키도록 구성된다. 다양한 실시예에서, 냉각제 전달 장치는 작업 롤 및/또는 백업 롤의 온도를 제어하기 위해 작업 롤 및/또는 백업 롤의 적어도 하나의 표면에 냉각제를 도포하도록 구성된다. 일부 실시예에서, 냉각제 격납 시스템은 냉각제를 작업 롤 및/또는 백업 롤 상의 원하는 영역에 격납하고, 냉각제를 제거하거나 작업 롤 및/또는 백업 롤을 건조시키도록 구성된다. 일부 경우에, 냉각제 격납 시스템은 냉각제가 금속 물품과 접촉하는 것을 방지하거나 최소화하는 데 도움이 된다. 다양한 실시예에서, 압연기의 구성에 따라, 임의의 개수의 냉각제 전달 장치 및 냉각제 격납 시스템이 이용될 수 있다. 롤 냉각 시스템은 압연기 내의 다양한 위치에, 예를 들어 상부 작업 롤에, 하부 작업 롤에, 상부 백업 롤에, 하부 백업 롤에, 이들의 조합에, 또는 냉각이 요망되는 임의의 적합한 임의의 위치에 제공될 수 있다.

이러한 설명은 액체 냉각제와 관련해서 제공되지만, 본원에 기술된 시스템 및 방법은 냉각제, 세정제, 처리제, 전처리제, 심미적 코팅제, 윤활제(예를 들어, 겔, 졸-겔, 및 특정 유리) 등, 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 임의의 점성 재료에 대해 사용될 수 있다.

일부 비제한적인 실시예에서, 롤 냉각 시스템은 하우징, 냉각제 전달 시스템, 냉각제, 및 냉각제 격납 시스템을 포함할 수 있다. 개시된 냉각 시스템은 종래의 롤 냉각 시스템에 비해 소형 냉각 시스템일 수 있어서, 압연기의 임의의 지점에서 기존의 압연기에 개시된 냉각 시스템의 재장착을 포함하는 구현을 가능하게 한다.

일부 실시예에서, 개시된 냉각 시스템의 하우징은 복수의 시일 및 복수의 가스 전달 장치를 더 포함할 수 있다. 복수의 시일은 가요성 시일 또는 강성 시일일 수 있다. 가요성인 경우, 복수의 시일은 복수의 중합체 시일일 수 있다. 중합체 시일에 사용하기 위한 중합체는, 예를 들어 합성 고무(스티렌-부타디엔), 천연 고무, 엘라스토머, 셀룰로오스 등, 또는 이들의 임의의 조합을 포함한다. 일부 실시예에서, 시일은 폴리실리콘 시일, 브러시, 패브릭 시일, 또는 작업 롤과 접촉할 때 작업 롤을 손상시키지 않거나 또는, 예를 들어 금속 물품을 냉각하는 데 이용되는 경우에 금속 물품과 접촉할 때 금속 물품을 손상시키지 않을 임의의 적합한 재료로 이루어진 시일일 수 있다. 일부 경우에, 시일은 작업 롤 및/또는 백업 롤과 접촉할 때 작업 롤 및/또는 백업 롤을 손상시키지 않을 임의의 적합한 재료로 이루어진 강성 시일일 수 있다. 일부 비제한적인 실시예에서, 복수의 가스 전달 시스템은 복수의 강제 가스 전달 시스템이다. 일부 경우에, 복수의 강제 가스 전달 시스템은 복수의 에어 나이프이다.

일부 양태에서, 롤 냉각 시스템은 회전 롤에 인접하게 위치될 수 있다. 일부 경우에, 회전 롤(예를 들어, 작업 롤 및/또는 백업 롤)은 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일을 향해 냉각제를 운반하는 방향으로 회전한다.

일부 실시예에서, 압연기는 부가적으로 또는 대안적으로 금속 물품의 외면에 냉각제를 도포하여 금속 물품의 온도를 제어하도록 구성된 금속 물품 냉각 시스템을 포함한다. 일부 비제한적인 실시예에서, 냉각제는 물, 오일, 겔, 또는 임의의 적합한 열전달 매체이다. 일부 경우에, 냉각제는 유기 열전달 매체, 실리콘 유체 열전달 매체, 또는 글리콜계 열전달 매체(예를 들어, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 임의의 다른 폴리알킬렌 글리콜, 또는 이들의 임의의 조합), 등이다.

일부 경우에, 압연기는 다양한 점성 재료를, 예를 들어 금속 물품 및 작업 롤에 동시에 도포할 수 있는 하나 이상의 시스템을 포함한다. 일부 비제한적인 실시예에서, 롤 냉각 시스템 및 금속 물품 윤활 시스템이 동시에 이용될 수 있다. 이러한 시나리오에서, 롤 냉각 시스템에 의해 도포된 액체 냉각제 및 금속 물품 윤활 시스템에 의해 도포된 액체 윤활제는 교차 오염되지 않아야 하며, 더 나아가 액체 윤활제로부터 액체 냉각제의 격리를 필요로 한다. 일부 비제한적인 실시예에서, 롤 냉각 시스템은 롤에 대한 액체 냉각제를 격납할 수 있으며 금속 물품 윤활 시스템은 금속 물품에 대한 액체 윤활제를 격납할 수 있어서, 액체 윤활제로부터 액체 냉각제를 격리시킨다.

일부 실시예에서, 복수의 시일 및 복수의 가스 전달 장치를 포함하면 냉각제와 같은 점성 재료가 격납될 수 있는 주변을 형성할 수 있다. 간략하게, 이하에서 상세히 설명될 바와 같이, 복수의 시일 및 복수의 가스 전달 장치는 시일과, 예를 들어 작업 롤 및/또는 백업 롤의 표면 사이에서 전파되는 가스가 점성 재료 및/또는 잔해물을 원하는 위치에 유지시킬 수 있는(즉, 점성 재료 및/또는 잔해물은 시일을 통과할 수 없음) 비접촉 시일을 생성할 수 있다. 일부 비제한적인 실시예에서, 이러한 비접촉 시일을 생성하면 잔해물이 시일과 작업 롤 및/또는 백업 롤 사이에 갇혀서 작업 롤 및/또는 백업 롤, 및/또는 시일을 손상시킬 위험 없이 점성 재료 및/또는 잔해물 격납을 제공할 수 있다. 일부 양태에서, 복수의 시일 및 복수의 가스 전달 장치는 격납 영역을 형성하도록 구성될 수 있다. 격납 영역은 그 내부에 격납된 임의의 점성 재료 및/또는 잔해물을 작업 롤 및/또는 백업 롤로부터 하우징으로 전환되도록 더 구성될 수 있다. 일부 경우에, 하우징은 롤 냉각 시스템으로부터 점성 재료 및/또는 잔해물을 배출하도록 구성될 수 있다. 일부 비제한적인 실시예에서, 점성 재료(예를 들어, 냉각제)는 세정, 재활용, 및/또는 재사용될 수 있다.

이러한 예시적인 실시예는 독자에게 여기서 설명되는 전반적인 기술요지를 소개하고자 함이며 또한 개시된 개념의 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다. 아래에서는 동일한 구성요소를 동일한 도면부호 표시하는 도면을 참고로 하여 추가적인 다양한 특징 및 예를 기술하며, 방향 설명들이 예시되는 구현예를 설명하는데 이용되지만, 상기 예시적인 구현예와 마찬가지로, 본 개시내용을 제한하는 데 이용해서는 안 된다. 본원의 도면에 포함되는 구성요소는 축척에 맞지 않게 도시될 수 있다.

도 1은 본원에 기술된 바와 같이 점성 재료 격납 시스템(100)의 사시도이다. 점성 재료 격납 시스템(100)은 하나 이상의 롤을 냉각하는 데 이용될 수 있고, 하나 이상의 롤에 도포된 임의의 액체 냉각제를 격납하도록 구성될 수 있고, 및/또는 냉각 동안 롤 상에 축적되는 오염물 및 잔해물(예를 들어, 가스 냉각제로 냉각 시 롤 주위에서 교반되는 잔해물 및/또는 액체 냉각제로 냉각 시 롤로부터 상승되는 잔해물)을 격납하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 점성 재료 격납 시스템(100)은 하나 이상의 롤에 도포된 냉각제가 작업 스탠드를 통과하는 금속 물품과 접촉하는 것을 방지하거나 이를 최소화하도록 구성될 수 있다. 점성 재료 격납 시스템(100)은 하부(115), 상부(120), 후방부(125), 제1 측부(130) 및 제2 측부(135)를 포함할 수 있는 하우징(110)을 포함한다. 일부 비제한적인 실시예에서, 제1 측부(130) 및 제2 측부(135)는 하우징(110)이 점성 재료 격납 시스템(100)을 이용하여 냉각되는 롤(예를 들어, 작업 롤)의 형상에 부합할 수 있는 형상을 가질 수 있다. 일부 추가의 비제한적인 실시예에서, 제1 측부(130) 및 제2 측부(135)는 하우징(110)이 한 쌍의 롤(예를 들어, 작업 롤 및 백업 롤)의 형상에 부합할 수 있는 형상을 가질 수 있다. 또 다른 추가의 비제한적인 실시예에서, 제1 측부(130) 및 제2 측부(135)는 하우징(110)이 실질적인 평면 재료 물품(예를 들어, 금속 물품, 중합체 필름, 또는 점성 재료의 도포, 격납, 및 제거를 필요로 하는 임의의 적합한 물품)의 형상에 부합할 수 있는 형상을 가질 수 있고, 점성 재료 격납 시스템(100)은 하나 이상의 롤 대신에 또는 그 외에 재료 물품을 냉각하는 데 사용될 수 있다. 일부 양태에서, 하우징(110)의 전방부(140)는 하부(115), 상부(120), 제1 측부(130) 및 제2 측부(135)에 의해 형성된 개구일 수 있다. 일부 실시예에서, 전방부(140)의 적어도 일부는 하우징(110)의 전방부(140)가 롤 및/또는 한 쌍의 롤에 부합할 수 있도록 하부(115), 상부(120), 제1 측부(130), 및/또는 제2 측부(135)에 의해 형성된 바와 같은 볼록한 형상을 가질 수 있다.

도 1에 도시된 바와 같이, 점성 재료 격납 시스템(100)의 하우징(110)은 하우징(110)의 전방부(140) 주위에 배치된 복수의 가요성 시일을 더 포함할 수 있고, 하우징(110)은 복수의 가요성 시일에 인접하게 배치된 복수의 가스 전달 장치를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 하부(115)는 하부 에지 시일(117)을 포함할 수 있고, 상부(120)는 상부 에지 시일(122)을 포함할 수 있다. 하부(115) 및 상부(120)는 각각 하부 에지 가스 전달 장치(119) 및 상부 에지 가스 전달 장치(124)를 더 포함할 수 있다. 하부 에지 시일(117) 및 상부 에지 시일(122)은 가요성 또는 강성일 수 있고 임의의 적합한 재료로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 하부 에지 시일(117) 및 상부 에지 시일(122)은 중합체 시일일 수 있다. 중합체 시일에 사용하기 위한 예시적인 중합체는, 예를 들어 합성 고무(스티렌-부타디엔), 천연 고무, 엘라스토머, 셀룰로오스 등, 또는 이들의 임의의 조합을 포함한다. 일부 실시예에서, 시일은 폴리실리콘 시일, 브러시, 패브릭 시일, 또는 롤 또는 한 쌍의 롤을 손상시키지 않을 임의의 적합한 재료로 이루어진 시일일 수 있다.

하우징(110)은 또한 제1 측부(130)의 전방 에지에 부착된 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부(135)의 전방 에지에 부착된 제2 측부 에지 시일(137)을 가질 수 있다. 제1 측부(130) 및 제2 측부(135)는 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)에 인접하게 배치된 복수의 가스 전달 장치(145)를 더 포함할 수 있다. 일부 비제한적인 실시예에서, 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)은 제1 측부(130)의 형상 및 제2 측부(135)의 형상에 부합할 수 있는 가요성 시일이어서, 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)은 롤에 더 부합할 수 있다.

일부 비제한적인 실시예에서, 적어도 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)은 브러시일 수 있다. 일부 경우에, 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137) 중 하나 이상은 브러시일 수 있다. 따라서, 점성 재료 격납 시스템(100)이 제1 위치에 있을 때, 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)을 생성하는 브러시는 복수의 강모를 통해 작업 롤과 접촉할 수 있다. 일부 실시예에서, 복수의 강모는 작업 롤 및/또는 백업 롤을 손상시키지 않을 임의의 적합한 재료일 수 있다. 예를 들어, 강모는 중합체 강모일 수 있다. 중합체 강모에 사용하기 위한 예시적인 중합체는, 예를 들어 합성 고무(스티렌-부타디엔), 천연 고무, 엘라스토머, 셀룰로오스 등, 또는 이들의 임의의 조합을 포함한다. 일부 실시예에서, 강모는 폴리실리콘 강모, 패브릭 강모, 또는 롤 및/또는 재료 물품과 접촉할 때 롤 및/또는 재료 물품을 손상시키지 않을 임의의 적합한 재료로 이루어진 강모일 수 있다.

후방부(125)는 하우징(110)의 세정, 냉각제 도포기의 삽입, 롤 세정 브러시의 삽입, 유지 보수를 위한 접근 등을 가능하게 할 수 있는 벤트(150)를 포함할 수 있다. 점성 재료 격납 시스템(100)은 점성 재료 전달 장치(160)를 더 포함할 수 있다. 점성 재료 전달 장치(160)는 적어도 하나의 노즐(165)을 포함할 수 있고, 더 나아가 복수의 노즐(165)을 포함할 수 있다. 점성 재료 전달 장치(160)는 점성 재료 전달 장치(160)를 제1 측부(130)에 배치된 입구 포트(170)를 통해 그리고 선택적으로 제2 측부(135)에 배치된 출구 포트(175)를 통해 통과시키는 것을 포함하여, 임의의 적절한 방식으로 하우징(110) 내에 배치될 수 있다. 선택적으로, 점성 재료 전달 장치(160)는 후방부(125)에 배치된 벤트(150)를 통해 하우징(110)에 삽입될 수 있다.

점성 재료 격납 시스템(100)은 도 2에 도시된 바와 같이 롤(예를 들어, 작업 롤, 백업 롤, 및/또는 중간 롤), 한 쌍의 롤(예를 들어, 작업 롤 및 백업 롤)에, 또는 금속 물품 등에 인접하게 위치될 수 있다. 점성 재료 격납 시스템(100)은 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132)(도 1 참조) 및 제2 측부 에지 시일(137)(도 1 참조)이 제1 위치에 있도록 작업 롤(210)에 인접하게 위치될 수 있다. 제1 위치에 있을 때, 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137) 각각은 작업 롤(210)과 접촉하고, 상부 에지 시일(122)은 백업 롤(215)과 접촉한다. 일부 비제한적인 실시예에서, 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)은 전술한 바와 같이 격납 영역을 형성한다.

일부 비제한적인 실시예에서, 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)은, 점성 재료 격납 시스템(100)이 롤, 한 쌍의 롤, 또는 금속 물품 등에 인접하게 위치될 때 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)의 탄성이 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)을 롤, 한 쌍의 롤, 또는 금속 물품 등(즉, 표면)과 접촉한 상태로 유지시킬 정도로, 충분한 탄성을 갖는다. 예를 들어, 점성 재료 격납 시스템(100)은 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)이 표면과 접촉하는 위치로 이동될 수 있다. 그 후, 점성 재료 격납 시스템(100)은 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)이 표면과 접촉하면서 굴곡되도록 표면을 향해 추가로 구동될 수 있다. 그 후, 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)의 탄성은 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)을 표면과 더 접촉하도록 바이어스시켜, 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132), 및 제2 측부 에지 시일(137)을 비굴곡된 구성으로 복귀시킨다.

부가적으로 또는 대안적으로, 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)은 스프링식 장치, 액추에이터, 텐셔너, 또는 임의의 적절한 가동 바이어싱 기구에 의해 작업 롤(210)과 접촉하도록 바이어스될 수 있다. 상부 에지 시일(122)은 스프링식 장치, 액추에이터, 텐셔너, 또는 임의의 적절한 가동 바이어싱 기구에 의해 백업 롤(215)과 접촉하도록 바이어스될 수 있다. 하나 이상의 바이어싱 기구는 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)에 압력을 가하여 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)을 작업 롤(210)과 접촉하게 가압하도록 구성될 수 있다. 하나 이상의 바이어싱 기구는 상부 에지 시일(122)에 압력을 가하여 백업 롤(215)과 접촉하도록 구성될 수 있다. 일부 경우에, 상부 에지 시일(122)은 백업 롤(215) 대신에 작업 롤(210)과 접촉한다. 바이어싱 기구로부터 압력을 가하는 것은 (예를 들어, 나비 나사를 사용하여) 수동 제어되거나, (예를 들어, 서보 구동 액추에이터를 사용하여) 컴퓨터 제어되거나, 또는 (예를 들어, 압력이 가해질 수는 있지만 조정되지는 않도록) 미제어될 수 있다. 일부 비제한적인 실시예에서, 작업 롤(210)은 시간이 지남에 따라 직경이 줄어들 수 있기 때문에 바이어싱 기구는 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)을 작업 롤(210)과 접촉하게 유지할 수 있다. 일부 비제한적인 실시예에서, 백업 롤(215)은 시간이 지남에 따라 직경이 줄어들 수 있기 때문에 바이어싱 기구는 상부 에지 시일(122)을 백업 롤(215)과 접촉하게 유지할 수 있다.

하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)은 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)이 작업 롤(210)과 접촉하지 않는 제2 위치로 이동될 수 있다. 마찬가지로, 상부 에지 시일(122)은 상부 에지 시일(122)이 백업 롤(215)과 접촉하지 않는 제2 위치로 이동될 수 있다. 특히, 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)의 접촉 종 방향 에지는 갭에 의해 작업 롤(210)로부터 분리되고, 상부 에지 시일(122)은 갭에 의해 백업 롤(215)로부터 분리된다. 에어 나이프 또는 다른 강제 가스 전달 장치일 수 있는 하부 에지 가스 전달 장치(119), 상부 에지 가스 전달 장치(124), 및 복수의 가스 전달 장치(145)는 가스 스트림을 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)의 접촉 종 방향 에지를 향해 전달하도록 구성될 수 있다. 하부 에지 가스 전달 장치(119), 상부 에지 가스 전달 장치(124), 및 복수의 가스 전달 장치(145)로부터 가스 스트림을 전달하면 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)을 제1 위치로부터 제2 위치로 이동시켜, 작업 롤(210)과 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137) 사이의 갭, 및 상부 에지 시일(122)과 백업 롤(215) 사이의 갭을 생성할 수 있다. 갭은 약 0.1 밀리미터(mm) 내지 약 3.0 mm 또는 그 이상의 폭과 같은 임의의 적합한 치수를 가질 수 있다. 예를 들어, 갭은 약 0.1 mm, 약 0.15 mm, 약 0.2 mm, 약 0.25 mm, 약 0.3 mm, 약 0.35 mm, 약 0.4 mm, 약 0.45 mm, 약 0.5 mm, 약 0.55 mm, 약 0.6 mm, 약 0.65 mm, 약 0.7 mm, 약 0.75 mm, 약 0.8 mm, 약 0.85 mm, 약 0.9 mm, 약 0.95 mm, 약 1.0 mm, 약 1.1 mm, 약 1.2 mm, 약 1.3 mm, 약 1.4 mm, 약 1.5 mm, 약 1.6 mm, 약 1.7 mm, 약 1.8 mm, 약 1.9 mm, 약 2.0 mm, 약 2.1 mm, 약 2.2 mm, 약 2.3 mm, 약 2.4 mm, 약 2.5 mm, 약 2.6 mm, 약 2.7 mm, 약 2.8 mm, 약 2.9 mm, 또는 약 3.0 mm, 또는 그 사이의 임의의 치수일 수 있다.

하부 에지 가스 전달 장치(119), 상부 에지 가스 전달 장치(124), 및 복수의 가스 전달 장치(145)로부터의 가스 스트림은 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)이 접촉 종 방향 에지와 함께 작업 롤(210)과 접촉하고 상부 에지 시일(122)이 접촉 종 방향 에지와 함께 백업 롤(215)과 접촉하는 위치에 가스가 집중되는 방향으로 지향된다. 가스 스트림을 전달함으로써 가해지는 힘은 하부 에지 시일(117), 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)을 제2 위치로 이동시켜, 작업 롤(210)과 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137) 사이의 갭, 및 상부 에지 시일(122)과 백업 롤(215) 사이의 갭을 생성할 수 있다.

가스 스트림은 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)과 작업 롤(210) 사이의 갭, 및 상부 에지 시일(122)과 백업 롤(215) 사이의 갭을 통해 임의의 적절한 속도로 전파될 수 있다. 그 속도는 가스 스트림의 유량, 및 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)과 작업 롤(210) 사이의 갭의 크기 및 상부 에지 시일(122)과 백업 롤(215) 사이의 갭의 크기에 의해 결정될 수 있다. 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)과 작업 롤(210) 사이의 갭의 크기 및 상부 에지 시일(122)과 백업 롤(215) 사이의 갭의 크기는 바이어싱 기구에 의해 가해지는 압력에 의해 결정될 수 있다. 바이어싱 기구에 의해 가해지는 압력은 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)이 제1 위치에 있을 때, 또는 가스 스트림이 비활성화되어 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)이 제2 위치에서 제1 위치로 이동할 때, 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)이 작업 롤(210)을 손상시키지 않는 임의의 압력일 수 있다. 마찬가지로, 바이어싱 기구에 의해 가해지는 압력은 상부 에지 시일(122)이 제1 위치에 있을 때, 또는 가스 스트림이 비활성화되어 상부 에지 시일(122)이 제2 위치에서 제1 위치로 이동할 때, 상부 에지 시일(122)이 백업 롤(215)을 손상시키지 않는 임의의 압력일 수 있다. 가스 스트림의 속도는 액체 냉각제가 작업 롤(210) 상에 생성된 갭 또는 백업 롤(215) 상에 생성된 갭에 유입될 수 없도록 액체 냉각제와 같은 임의의 점성 재료를 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)의 표면 상의 위치에 유지시키는 데 충분할 수 있다. 일부 추가 실시예에서, 액체 냉각제와 같은 점성 재료는 시일이 제2 위치에 있을 때 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)과 작업 롤(210) 사이의 갭 및/또는 상부 에지 시일(122)과 백업 롤(215) 사이의 갭을 통해 이동할 수 없다(즉, 그래서 점성 재료는 작업 롤(210) 및/또는 백업 롤(215) 위로 통과함으로써 갭을 통해 금속 물품 상으로 이동할 수 없음).

선택적으로, 보조 가스 전달 장치(200)는 제1 측부(130)의 외면에 인접하게 및/또는 하우징(110)의 제2 측부(135)의 외면에 인접하게 위치될 수 있다(도 2 참조). 보조 가스 전달 장치(200)는 가스가 점성 재료 격납 시스템(100), 작업 롤(210) 및 백업 롤(215) 사이의 닙 영역(220)으로 전달되도록 위치될 수 있다. 보조 가스 전달 장치(200)는 닙 영역(220) 내의 임의의 액체가 닙 영역(220) 내에 격납될 수 있고 궁극적으로 점성 재료 격납 시스템(100)에 의해 격납될 수 있도록, 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)의 외부 에지로부터 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)의 종 방향 중심을 향해 가스를 전달하도록 구성될 수 있다. 선택적으로, 대향 가스 전달 시스템(230)은 점성 재료 격납 시스템(100), 작업 롤(210) 및 백업 롤(215) 사이의 닙 영역(220) 반대편의 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)의 측면 상의 닙 영역(225)에 위치될 수 있다. 대향 가스 전달 시스템(230)은 또한 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)의 종 방향 중심에 대하여 위치될 수 있다. 대향 가스 전달 시스템(230)은 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)의 종 방향 중심으로부터 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)의 외부 에지를 향하는 방향으로 가스를 전달하도록 구성될 수 있다(예를 들어, 작업 롤(210)과 백업 롤(215) 사이를 통과하려는 임의의 점성 재료가 점성 재료 격납 시스템(100), 작업 롤(210) 및 백업 롤(215) 사이의 닙 영역(220)으로 다시 강제되어, 점성 재료 격납 시스템(100) 및 제1 측부(130)의 외면에 인접하게 및/또는 하우징(110)의 제2 측부(135)의 외면에 인접하게 위치되는 보조 가스 전달 장치(200)에 의해 격납되도록 가스가 전달됨). 대향 가스 전달 시스템(230)으로부터 가스를 전달하면 임의의 점성 재료 및/또는 잔해물이 작업 롤(210)과 백업 롤(215) 사이를 통과한 후에 압연되는 금속 물품 상에 증착되는 것을 방지할 수 있다.

선택적으로, 본원에 기술된 점성 재료 격납 시스템(100)은 롤(예를 들어, 작업 롤, 백업 롤, 및/또는 중간 롤)에 점착될 수 있는 오염물 및 잔해물을 제거하기 위해 잔해물 제거 브러시를 더 포함할 수 있다. 잔해물 제거 브러시는 점성 재료 격납 시스템(100)이 작업 롤(210) 및/또는 백업 롤(215)과 접촉할 때 브러시가 작업 롤(210) 및/또는 백업 롤(215)과 접촉할 수 있도록, 점성 재료 전달 장치(160)에 인접한 하우징(110) 내에 위치될 수 있다. 잔해물 제거 브러시는 정적 브러시 또는 가동 브러시(예를 들어, 회전 브러시, 요동 브러시, 또는 진동 브러시)일 수 있다.

정적 잔해물 제거 브러시는 점성 재료 격납 시스템(100)이 제1 위치에 있을 때 정적 잔해물 제거 브러시가 복수의 강모를 통해 작업 롤(210)과 접촉하도록 하우징(110) 내에 위치될 수 있다. 따라서, 작업 롤(210)이 회전할 때, 정적 잔해물 제거 브러시는 복수의 강모를 통과하는 임의의 잔해물을 제거할 수 있다. 다른 실시예에서, 가동 잔해물 제거 브러시는 점성 재료 격납 시스템(100)이 제1 위치에 있을 때, 가동 잔해물 제거 브러시가 복수의 강모를 통해 작업 롤(210)과 접촉하도록 하우징(110) 내에 위치될 수 있다. 또한, 예를 들어, 회전 브러시를 이용하는 경우, 구동 기구가 하우징(110)에 추가로 삽입되어 회전 브러시와 맞물릴 수 있다. 일부 실시예에서, 롤에 점착된 잔해물을 제거하기에 충분한 복수의 강모는 작업 롤(210) 및/또는 백업 롤(215)을 손상시키지 않을 임의의 적합한 재료일 수 있다. 예를 들어, 강모는 중합체 강모일 수 있다. 중합체 강모에 사용하기 위한 예시적인 중합체는, 예를 들어 합성 고무(스티렌-부타디엔), 천연 고무, 엘라스토머, 셀룰로오스 등, 또는 이들의 임의의 조합을 포함한다. 일부 실시예에서, 강모는 폴리실리콘 강모, 패브릭 강모, 또는 롤 및/또는 재료 물품과 접촉할 때 롤 및/또는 재료 물품을 손상시키지 않을 임의의 적합한 재료로 이루어진 강모일 수 있다. 일부 비제한적인 실시예에서, 잔해물 제거 브러시는 작업 롤(210)로부터 오염물 및/또는 잔해물을 제거하여 오염물 및/또는 잔해물을 점성 재료 격납 시스템(100)으로 강제할 수 있다. 그 후, 오염물 및/또는 잔해물이 드레인(240)을 통해 유동하고 및/또는 벤트(150)를 통해 제거함으로써 점성 재료 격납 시스템(100)으로부터 제거될 수 있다.

일부 비제한적인 실시예에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 하우징(110)은 임의의 포집된 점성 재료 및/또는 잔해물을 드레인(240)을 통해 배출하도록 구성될 수 있다. 드레인(240)은 임의의 포집된 점성 재료 및/또는 잔해물을 진공 시스템, 포집 채널, 싱크, 또는 임의의 적합한 포집 장치로 배출할 수 있다. 일부 경우에, 포집된 점성 재료 및/또는 잔해물은 시스템을 통해 여과, 재활용, 및/또는 재순환될 수 있다.

일부 비제한적인 실시예에서, 복수의 가스 전달 장치가 비활성화될 때, 복수의 시일은 제1 위치로 복귀할 수 있으며, 이 경우 복수의 시일은 복수의 시일의 각 시일의 접촉 종 방향 에지를 통해 롤과 접촉한다. 복수의 시일을 롤에 접촉시키면 롤 상의 임의의 점성 재료를 제거하는 데 도움이 될 수 있다. 예를 들어, 일부 경우에, 점성 재료(예를 들어, 냉각제)는 롤에 전달되어 하우징(110)의 상부 에지 시일(122), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)에 의해 격납될 수 있다. 그 후, 점성 재료는 롤 위에서 흘러내릴 수 있고 하부 에지 시일(117)의 접촉 종 방향 에지 위에서 더 흘러내릴 수 있다. 하부 에지 시일(117)은 냉각제를 하우징(110)으로 안내할 수 있고, 하우징(110)은 점성 재료를 드레인(240)으로 안내할 수 있다. 일부 양태에서, 드레인(240)은 포집기 트레이, 진공 회수 시스템(예를 들어, 진공 바, 진공 라인), 싱크, 또는 임의의 적합한 점성 재료 포집 장치에 연결될 수 있다. 그 후, 점성 재료는 원하는 경우 재활용 및/또는 재순환될 수 있다.

점성 재료 격납 시스템(100)은 기존의 냉각 및 냉각제 격납 시스템에 비해 소형 시스템일 수 있다. 감소된 크기로 인해, 점성 재료 격납 시스템(100)은 통상적인 점성 재료 도포 및/또는 격납 시스템을 수용하기에 충분한 공간을 갖고 있지 않는 압연기에 재장착될 수 있다. 일부 실시예에서, 점성 재료 격납 시스템(100)은 압연기에서 임의의 롤 또는 한 쌍의 롤에 인접하게 위치될 수 있다. 일부 양태에서, 점성 재료 격납 시스템(100)은 도포된 점성 재료의 격납을 필요로 하는 임의의 롤에 인접하게 위치될 수 있다. 점성 재료 격납 시스템(100)은 상부 작업 롤, 하부 작업 롤, 상부 백업 롤, 하부 백업 롤, 수직 압연기 내의 제1 작업 롤, 수직 압연기 내의 제2 작업 롤, 수직 압연기 내의 제1 백업 롤, 수직 압연기 내의 제2 백업 롤, 또는 액체 냉각제를 사용한 냉각을 필요로 하는 롤, 또는 이들의 임의의 적절한 조합에 인접하게 배치될 수 있다. 일부 실시예에서, 점성 재료는 일반적인 점성 재료 공급 시스템에 의해 공급될 수 있는 데, 본원에 기술된 바와 같은 소형 시스템에는 이송 라인을 통해 점성 재료가 공급되어 저장 탱크를 필요로 하지 않으므로, 점성 재료 격납 시스템(100)의 소형화를 유지한다. 일부 양태에서, 이송 라인을 통해 점성 재료를 공급함으로써 점성 재료 격납 시스템(100)은 롤 윤활, 롤 세정, 롤 처리된 엔지니어링 재료 냉각, 롤 처리된 엔지니어링 재료 윤활, 롤 처리된 엔지니어링 재료 세정, 롤 처리된 엔지니어링 재료 전처리, 또는 점성 재료의 도포, 격납, 및 제거를 필요로 하는 임의의 적절한 공정을 포함하는 적용 분야에 적합할 수 있다.

도 3은 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)에 인접하게 배치된 점성 재료 격납 시스템(100)의 사시도를 나타낸 개략도이다. 가스 출력 매니폴드(231)가 작업 롤(210) 및 백업 롤(215)의 종 방향 중심에 위치되도록 배치된 대향 가스 전달 시스템(230)이 또한 도시되어 있다. 점성 재료 격납 시스템(100)은 하부 에지 시일(117), 제1 측부 에지 시일(132) 및 제2 측부 에지 시일(137)(도 1 참조)이 작업 롤(210)과 접촉하고 상부 에지 시일(122)(도 1 참조)이 백업 롤(215)과 접촉하도록 위치될 수 있다. 점성 재료 전달 장치(160)는 외부 점성 재료 공급 시스템에 연결될 수 있어, 점성 재료 격납 시스템(100)은 점성 재료의 도포, 격납, 및 제거를 필요로 하는 임의의 롤 및/또는 한 쌍의 롤에 인접하게 배치될 수 있다(예를 들어, 점성 재료 격납 시스템(100)은 더 큰 시스템을 생성하는 점성 재료 저장 용기를 포함하지 않음). 또한, 드레인(240)은 임의의 적합한 외부 점성 재료 포집 장치(예를 들어, 채널, 진공 바, 진공 라인, 또는 싱크)에 부착될 수 있다. 더 나아가, 외부 점성 재료 포집 장치를 이용하면 작은 공간을 점유하는 시스템을 제공하여, 점성 재료 격납 시스템(100)은 점성 재료의 도포, 격납, 및 제거를 필요로 하는 임의의 롤 및/또는 한 쌍의 롤에 인접하게 배치될 수 있다.

아래에 사용된 바와 같이, 일련의 실시예에 대한 어떠한 참조도 그 실시예 각각에 대해 개별적인 참조로 이해되어야 한다(예를 들어, "실시예 1-4"는 "실시예 1, 2, 3, 또는 4"로 이해되어야 함).

실시예 1은 표면에 도포된 점성 재료를 격납하기 위한 시스템으로서, 하우징; 점성 재료 전달 장치; 제1 위치와 제2 위치 사이에서 이동 가능한 복수의 시일로서, 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지는 제1 위치에서 표면과 접촉하며 제2 위치에서 갭에 의해 표면으로부터 분리되고, 표면은 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일을 향해 점성 재료를 운반하는, 복수의 시일; 및 복수의 가스 전달 장치를 포함하되, 복수의 가스 전달 장치 각각은 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일의 접촉 에지를 향해 가스를 공급하여 적어도 하나의 시일을 제1 위치에서 제2 위치로 이동시키도록 구성되고, 적어도 하나의 시일의 접촉 에지는 갭에 의해 표면으로부터 분리되고, 복수의 시일 각각이 제2 위치에 있을 때 복수의 가스 전달 장치에 의해 공급된 가스는 비접촉 시일로서 작용하여 점성 재료가 하우징에서 유출하는 것을 방지한다.

실시예 2는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 점성 재료는 액체, 겔, 졸-겔, 유리, 또는 이들의 임의의 조합을 포함한다.

실시예 3은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 점성 재료는 세정제, 윤활제, 처리제, 전처리제, 심미적 코팅제, 냉각제, 또는 이들의 임의의 조합을 더 포함한다.

실시예 4는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 표면은 이동 표면을 포함한다.

실시예 5는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 이동 표면은 롤 또는 롤 처리된 엔지니어링 재료를 포함한다.

실시예 6은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 롤은 작업 롤, 백업 롤, 또는 중간 롤을 포함한다.

실시예 7은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 롤 처리된 엔지니어링 재료는 금속 스트립, 중합체, 복합재, 또는 이들의 임의의 조합을 포함한다.

실시예 8은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 하우징은 상부, 하부, 제1 측부, 제1 측부의 반대편에 배치된 제2 측부, 후방부, 및 후방부와 대향하는 전방부를 포함하고, 전방부는 표면을 향한다.

실시예 9는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 상부, 하부, 제1 측부, 제2 측부, 및 후방부는 솔리드 패널이다.

실시예 10은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 후방부는 벤트를 더 포함한다.

실시예 11은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 전방부는 개방되어 있다.

실시예 12는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 표면이 롤 처리된 엔지니어링 재료인 경우, 전방부는 실질적인 평면에 적어도 부분적으로 부합하도록 형성된다.

실시예 13은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 전방부의 형상은 상부의 전방 에지, 하부의 전방 에지, 제1 측부의 전방 에지, 및 제2 측부의 전방 에지에 의해 결정된다.

실시예 14는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 상부의 전방 에지 및 하부의 전방 에지는 직선이다.

실시예 15는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 상부의 전방 에지와 하부의 전방 에지는 평행하다.

실시예 16은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 제1 측부의 전방 에지 및 제2 측부의 전방 에지는 직선이다.

실시예 17은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 제1 측부의 전방 에지와 제2 측부의 전방 에지는 평행하다.

실시예 18은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 표면이 롤인 경우, 제1 측부의 전방 에지 및 제2 측부의 전방 에지는 롤의 곡률에 부합하도록 만곡된다.

실시예 19는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 전방부는 복수의 원형 롤에 대해 적어도 부분적으로 부합하도록 형성된다.

실시예 20은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 상부의 전방 에지 및 하부의 전방 에지는 직선이다.

실시예 21은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 상부의 전방 에지와 하부의 전방 에지는 평행하다.

실시예 22는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 제1 측부의 전방 에지 및 제2 측부의 전방 에지는 적어도 제1 롤의 곡률, 제2 롤의 곡률, 및 닙 영역에 부합하도록 형성된다.

실시예 23은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 하부와 후방부의 교차부는 드레인을 형성한다.

실시예 24는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 점성 재료 전달 장치는 하우징 내에 배치된다.

실시예 25는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 점성 재료 전달 장치는 벤트를 통해 삽입된다.

실시예 26은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 점성 재료 전달 장치는 하우징의 제1 측부, 제2 측부, 상부, 또는 하부에 배치된 포트를 통해 삽입된다.

실시예 27은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 점성 재료 전달 장치는 제1 측부, 제2 측부, 상부, 또는 하부에 배치된 점성 재료 입구 포트; 및 점성 재료 입구 포트의 반대편에 배치된 점성 재료 출구 포트를 포함한다.

실시예 28은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 점성 재료 전달 장치는 복수의 노즐을 더 포함한다.

실시예 29는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 복수의 노즐 각각은 하우징의 전방부를 향한다.

실시예 30은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 잔해물 제거 브러시를 더 포함한다.

실시예 31은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 잔해물 제거 브러시는 정적 브러시 또는 가동 브러시이다.

실시예 32는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 가동 브러시는 회전 브러시, 요동 브러시, 또는 진동 브러시를 포함한다.

실시예 33은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 복수의 시일은 상부의 전방 에지에 부착된 상부 시일, 하부의 전방 에지에 부착된 하부 시일, 제1 측부의 전방 에지에 부착된 제1 측부 시일, 및 제2 측부의 전방 에지에 부착된 제2 측부 시일을 포함한다.

실시예 34는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 복수의 시일의 각 시일이 제1 위치에 있을 때, 각 시일은 표면에 실질적으로 평행하고 실질적으로 수직인 각도 사이에 있다.

실시예 35는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 복수의 시일의 각 시일을 제2 위치로 이동시키기에 충분한 속도로 가스를 공급하도록 구성된다.

실시예 36은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 복수의 시일의 각 시일이 제2 위치에 있을 때 점성 재료가 갭을 통과하는 것을 방지하기에 충분한 속도로 가스를 공급하도록 구성된다.

실시예 37은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 공급된 가스가 없을 때, 복수의 시일의 각 시일은 제1 위치에 있고 점성 재료는 복수의 시일의 시일들 중 적어도 하나의 시일 상으로, 하우징 내로, 하우징을 통과해, 드레인 내로 흐를 수 있다.

실시예 38은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 포집 장치를 더 포함하고, 포집 장치는 드레인의 출구에 배치된다.

실시예 39는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 포집 장치는 채널, 진공 바, 또는 싱크이다.

실시예 40은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 복수의 시일의 각 시일은 가요성 시일이다.

실시예 41은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 가요성 시일은 중합체 시일, 폴리실리콘 시일, 또는 패브릭 시일을 포함한다.

실시예 42는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 복수의 시일의 각 시일은 강성이다.

실시예 43은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 강제 가스 전달 장치이다.

실시예 44는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 시스템으로서, 강제 가스 전달 장치는 에어 나이프이다.

실시예 45는 임의의 선행 또는 후속 실시예 중 어느 하나의 시스템을 이용하여 적어도 하나의 표면에 도포되는 점성 재료를 격납하는 방법으로서, 하우징을 적어도 하나의 표면에 인접하게 이동시키는 단계; 점성 재료를 적어도 하나의 표면에 전달하는 단계; 및 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지가 갭에 의해 적어도 하나의 표면으로부터 분리되는 제2 위치로 복수의 시일의 각 시일을 이동시키기 위해 복수의 가스 전달 장치로부터 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지를 향해 가스를 전달하는 단계를 포함하고, 가스의 속도는 적어도 하나의 표면 상의 점성 재료가 갭을 통과하는 것을 방지하기에 충분하다.

실시예 46은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 하우징을 적어도 하나의 표면에 인접하게 이동시키는 단계는 적어도 하나의 표면과 접촉하도록 복수의 시일의 각 시일을 제1 위치로 이동시키는 단계를 포함하고, 복수의 시일의 각 시일은 가요성 시일이다.

실시예 47은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 하우징을 적어도 하나의 표면에 인접하게 이동시키는 단계는 적어도 하나의 표면과 접촉하도록 복수의 시일의 각 시일을 제1 위치로 이동시키는 단계를 포함하고, 복수의 시일의 각 시일은 강성 시일이다.

실시예 48은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 복수의 시일을 적어도 하나의 표면과 접촉하도록 제1 위치로 이동시키는 단계는 복수의 시일의 각 시일을 적어도 하나의 표면을 향해 바이어스하는 단계를 더 포함한다.

실시예 49는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 복수의 가스 전달 장치에 의해 가스를 전달하는 단계는 복수의 강제 가스 전달 시스템에 의해 수행된다.

실시예 50은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 복수의 강제 가스 전달 장치에 의해 가스를 전달하는 단계는 복수의 에어 나이프에 의해 수행된다.

실시예 51은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 가스를 전달하면 복수의 시일의 각 시일을 제2 위치로 이동하도록 가압한다.

실시예 52는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 적어도 하나의 표면으로부터 점성 재료를 제거하는 단계를 더 포함하고, 표면은 이동 표면이고, 이동 표면은 점성 재료를 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일을 향해 운반한다.

실시예 53은 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 점성 재료가 각 갭을 통과하는 것을 방지하기 위해 가스를 전달함으로써 점성 재료가 복수의 시일의 각 시일 중 적어도 하나 상으로 하우징 내로 흐를 수 있다.

실시예 54는 임의의 선행 또는 후속 실시예의 방법으로서, 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치를 비활성화하여 복수의 시일의 각 시일을 제1 위치로 이동시키는 단계를 더 포함하고, 제1 위치에서 점성 재료는 하우징 하부의 시일 위에서 하우징 내로 흐를 수 있다.

실시예 55는 임의의 선행 실시예의 방법으로서, 점성 재료는 하우징을 통과해 드레인으로 흐르고, 드레인은 채널, 진공 바, 또는 싱크인 포집 장치를 더 포함한다.

도시된 구현예를 포함하는 구현예에 대한 상기 설명은 예시 및 설명의 목적으로만 주어진 것이지, 포괄적이거나 또는 개시된 정확한 형태에 한정하려는 것이 아니다. 이에 대한 많은 수정, 변경, 및 사용이 당업자에게는 자명할 것이다.

Claims

표면에 도포되는 점성 재료를 격납하기 위한 시스템으로서,
하우징;
점성 재료 전달 장치;
제1 위치와 제2 위치 사이에서 이동 가능한 복수의 시일로서, 상기 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지는 상기 제1 위치에서 상기 표면과 접촉하며 상기 제2 위치에서 갭에 의해 상기 표면으로부터 분리되고, 상기 표면은 상기 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일을 향해 상기 점성 재료를 운반하는, 복수의 시일; 및
복수의 가스 전달 장치를 포함하되, 상기 복수의 가스 전달 장치 각각은 상기 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일의 접촉 에지를 향해 가스를 공급하여 상기 적어도 하나의 시일을 상기 제1 위치에서 상기 제2 위치로 이동시키도록 구성되고, 상기 적어도 하나의 시일의 접촉 에지는 상기 갭에 의해 상기 표면으로부터 분리되고,
상기 복수의 시일 각각이 상기 제2 위치에 있을 때, 상기 복수의 가스 전달 장치에 의해 공급된 가스는 상기 하우징과 상기 표면 사이에서 비접촉 시일로서 작용하여 상기 하우징 내에 상기 점성 재료를 유지시키도록 구성되는, 표면에 도포되는 점성 재료를 격납하기 위한 시스템.
제1항에 있어서, 상기 점성 재료는 액체, 겔, 졸-겔, 유리, 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는, 시스템.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 점성 재료는 세정제, 윤활제, 심미적 코팅제, 냉각제, 또는 이들의 임의의 조합을 더 포함하는, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 표면은 이동 표면을 포함하는, 시스템.
제4항에 있어서, 상기 이동 표면은 롤 또는 롤 처리된 엔지니어링 재료를 포함하는, 시스템.
제5항에 있어서, 상기 롤은 작업 롤, 백업 롤, 또는 중간 롤을 포함하는, 시스템.
제5항에 있어서, 상기 롤 처리된 엔지니어링 재료는 금속 스트립, 중합체, 복합재, 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 하우징은 상부, 하부, 제1 측부, 상기 제1 측부의 반대편에 배치된 제2 측부, 후방부, 및 상기 후방부와 대향하는 전방부를 포함하고, 상기 전방부는 상기 표면을 향하는, 시스템.
제8항에 있어서, 상기 상부, 상기 하부, 상기 제1 측부, 상기 제2 측부, 및 상기 후방부는 솔리드 패널인, 시스템.
제8항에 있어서, 상기 후방부는 벤트를 더 포함하는, 시스템.
제8항에 있어서, 상기 전방부는 개방되어 있는, 시스템.
제8항에 있어서, 상기 표면이 롤 처리된 엔지니어링 재료인 경우, 상기 전방부는 평면에 적어도 부분적으로 부합하도록 형성되는, 시스템.
제12항에 있어서, 상기 전방부의 형상은 상기 상부의 전방 에지, 상기 하부의 전방 에지, 상기 제1 측부의 전방 에지, 및 상기 제2 측부의 전방 에지에 의해 결정되는, 시스템.
제13항에 있어서, 상기 상부의 전방 에지 및 상기 하부의 전방 에지는 직선인, 시스템.
제14항에 있어서, 상기 상부의 전방 에지와 상기 하부의 전방 에지는 평행한, 시스템.
제13항에 있어서, 상기 제1 측부의 전방 에지 및 상기 제2 측부의 전방 에지는 직선인, 시스템.
제16항에 있어서, 상기 제1 측부의 전방 에지와 상기 제2 측부의 전방 에지는 평행한, 시스템.
제8항에 있어서, 상기 표면이 롤인 경우, 상기 제1 측부의 전방 에지 및 상기 제2 측부의 전방 에지는 상기 롤의 곡률과 부합하도록 만곡된, 시스템.
제18항에 있어서, 상기 전방부는 복수의 원형 롤에 대해 적어도 부분적으로 부합하도록 형성되는, 시스템.
제19항에 있어서, 상기 상부의 전방 에지 및 상기 하부의 전방 에지는 직선인, 시스템.
제20항에 있어서, 상기 상부의 전방 에지와 상기 하부의 전방 에지는 평행한, 시스템.
제18항에 있어서, 상기 제1 측부의 전방 에지 및 상기 제2 측부의 전방 에지는 적어도 제1 롤의 곡률, 제2 롤의 곡률, 및 닙 영역과 부합하도록 형성되는, 시스템.
제8항에 있어서, 상기 하부와 상기 후방부의 교차부는 드레인을 형성하는, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 점성 재료 전달 장치는 상기 하우징 내에 배치되는, 시스템.
제24항에 있어서, 상기 점성 재료 전달 장치는 벤트를 통해 삽입되는, 시스템.
제24항에 있어서, 상기 점성 재료 전달 장치는 상기 하우징의 제1 측부, 제2 측부, 상부, 또는 하부에 배치된 포트를 통해 삽입되는, 시스템.
제26항에 있어서, 상기 점성 재료 전달 장치는,
상기 제1 측부, 상기 제2 측부, 상기 상부, 또는 상기 하부에 배치된 점성 재료 입구 포트; 및
상기 점성 재료 입구 포트의 반대편에 배치된 점성 재료 출구 포트를 더 포함하는, 시스템.
제24항에 있어서, 상기 점성 재료 전달 장치는 복수의 노즐을 더 포함하는, 시스템.
제28항에 있어서, 상기 복수의 노즐 각각은 상기 하우징의 전방부를 향하는, 시스템.
제1항에 있어서, 잔해물 제거 브러시를 더 포함하는, 시스템.
제30항에 있어서, 상기 잔해물 제거 브러시는 정적 브러시 또는 가동 브러시인, 시스템.
제31항에 있어서, 상기 가동 브러시는 회전 브러시, 요동 브러시, 또는 진동 브러시를 포함하는, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 복수의 시일은 상부의 전방 에지에 부착된 상부 시일, 하부의 전방 에지에 부착된 하부 시일, 제1 측부의 전방 에지에 부착된 제1 측부 시일, 및 제2 측부의 전방 에지에 부착된 제2 측부 시일을 포함하는, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 복수의 시일의 각 시일이 상기 제1 위치에 있을 때, 각 시일은 상기 표면에 평행하고 수직인 각도 사이에 있는, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 상기 복수의 시일의 각 시일을 상기 제2 위치로 이동시키는 속도로 상기 가스를 공급하도록 구성되는, 시스템.
제35항에 있어서, 상기 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 상기 복수의 시일의 각 시일이 상기 제2 위치에 있을 때 점성 재료가 상기 갭을 통과하는 것을 방지하는 속도로 상기 가스를 공급하도록 구성되는, 시스템.
제34항에 있어서, 공급된 가스가 없을 때, 상기 복수의 시일의 각 시일은 상기 제1 위치에 있고 상기 점성 재료는 상기 복수의 시일의 시일들 중 적어도 하나의 시일 상으로, 상기 하우징 내로, 상기 하우징을 통과해, 드레인 내로 흐를 수 있는, 시스템.
제37항에 있어서, 포집 장치를 더 포함하고, 상기 포집 장치는 상기 드레인의 출구에 배치되는, 시스템.
제38항에 있어서, 상기 포집 장치는 채널, 진공 바, 또는 싱크인, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 복수의 시일의 각 시일은 가요성 시일인, 시스템.
제40항에 있어서, 상기 가요성 시일은 중합체 시일, 폴리실리콘 시일, 또는 패브릭 시일을 포함하는, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 복수의 시일의 각 시일은 강성인, 시스템.
제1항에 있어서, 상기 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치는 강제 가스 전달 장치인, 시스템.
제43항에 있어서, 상기 강제 가스 전달 장치는 에어 나이프인, 시스템.
제1항, 제2항, 및 제4항 내지 제44항 중 어느 한 항의 시스템을 이용하여 적어도 하나의 표면에 도포되는 점성 재료를 격납하는 방법으로서,
상기 하우징을 상기 적어도 하나의 표면에 인접하게 이동시키는 단계;
상기 점성 재료를 상기 적어도 하나의 표면에 전달하는 단계; 및
상기 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지가 상기 갭에 의해 상기 적어도 하나의 표면으로부터 분리되는 상기 제2 위치로 상기 복수의 시일의 각 시일을 이동시키기 위해 상기 복수의 가스 전달 장치로부터 상기 복수의 시일의 각 시일의 접촉 에지를 향해 상기 가스를 전달하는 단계를 포함하고,
상기 가스의 속도는 상기 적어도 하나의 표면 상의 상기 점성 재료가 상기 갭을 통과하는 것을 방지하는 속도인,
적어도 하나의 표면에 도포되는 점성 재료를 격납하는 방법.
제45항에 있어서, 상기 하우징을 상기 적어도 하나의 표면에 인접하게 이동시키는 단계는 상기 복수의 시일의 각 시일을 상기 제1 위치로 이동시켜 상기 적어도 하나의 표면과 접촉하게 하는 단계를 포함하고, 상기 복수의 시일의 각 시일은 가요성 시일인, 방법.
제45항에 있어서, 상기 하우징을 상기 적어도 하나의 표면에 인접하게 이동시키는 단계는 상기 복수의 시일의 각 시일을 상기 제1 위치로 이동시켜 상기 적어도 하나의 표면과 접촉하게 하는 단계를 포함하고, 상기 복수의 시일의 각 시일은 강성 시일인, 방법.
제46항에 있어서, 상기 복수의 시일을 상기 적어도 하나의 표면과 접촉하도록 상기 제1 위치로 이동시키는 단계는 상기 복수의 시일의 각 시일을 상기 적어도 하나의 표면을 향해 바이어스하는 단계를 더 포함하는, 방법.
제45항에 있어서, 상기 복수의 가스 전달 장치에 의해 상기 가스를 전달하는 단계는 복수의 강제 가스 전달 시스템에 의해 수행되는, 방법.
제49항에 있어서, 상기 복수의 강제 가스 전달 장치에 의해 상기 가스를 전달하는 단계는 복수의 에어 나이프에 의해 수행되는, 방법.
제45항에 있어서, 상기 가스를 전달하면 상기 복수의 시일의 각 시일을 상기 제2 위치로 이동하도록 가압하는, 방법.
제45항에 있어서, 상기 적어도 하나의 표면으로부터 상기 점성 재료를 제거하는 단계를 더 포함하고, 상기 적어도 하나의 표면은 이동 표면이고, 상기 이동 표면은 상기 점성 재료를 상기 복수의 시일 중 적어도 하나의 시일을 향해 운반하는, 방법.
제45항에 있어서, 상기 점성 재료가 각 갭을 통과하는 것을 방지하기 위해 상기 가스를 전달함으로써 상기 점성 재료는 상기 복수의 시일의 각 시일의 적어도 하나 상으로 상기 하우징 내로 흐를 수 있는, 방법.
제45항에 있어서, 상기 복수의 가스 전달 장치의 각 가스 전달 장치를 비활성화하여 상기 복수의 시일의 각 시일을 상기 제1 위치로 이동시키는 단계를 더 포함하고, 상기 제1 위치에서 상기 점성 재료는 상기 하우징의 하부의 시일 위에서 상기 하우징 내로 흐를 수 있는, 방법.
제45항에 있어서, 상기 점성 재료는 상기 하우징을 통과해 상기 드레인 내로 흐르고, 상기 드레인은 채널, 진공 바, 또는 싱크인 포집 장치를 더 포함하는, 방법.