KR102132464B1 - 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 - Google Patents

발광 표시 장치 및 그 제조 방법 Download PDF

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Abstract

발광 표시 장치 및 발광 표시 장치의 제조 방법이 제공된다.
일례로, 발광 표시 장치는 화소 영역과 비화소 영역을 포함하는 표시 기판; 상기 표시 기판의 상부에 배치되는 봉지 부재; 및 상기 봉지 부재 상에 배치되며, 상기 화소 영역과 대응되는 광투과부와 상기 비화소 영역과 대응되는 광차단부를 포함하는 상쇄간섭부를 포함한다.

Description

발광 표시 장치 및 그 제조 방법{LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}
본 발명은 발광 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
근래에 표시 장치는 휴대가 가능한 박형의 표시 장치로 대체되는 추세이다. 표시 장치 중 유기 발광 표시 장치 또는 무기 발광 표시 장치는 자발광형 표시 장치로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답 속도가 빠르다는 장점이 있어 차세대 표시 장치로 주목 받고 있다.
표시 장치는 휴대가 가능하고 야외에서 사용 가능한 목적을 만족시키기 위해 경량이면서 박형으로 제조되는데, 이때 야외에서 표시 장치의 화상을 볼 때 햇빛과 같은 외광이 표시 장치로부터 반사되어 콘트라스트 및 시인성이 저하되는 현상이 발생되고 있다. 특히, 유기 발광 표시 장치의 경우 외광의 반사가 유기 발광 표시 장치 내부의 반사 금속층에 의해 발생되고 있다. 이에 따라, 유기 발광 표시 장치의 일면에 외광의 반사를 줄이는 원편광판이 배치되고 있다.
그런데, 원편광판은 선형 편광판, 1/4 파장 위상차판, 접착층, 보호층 등 여러장의 필름으로 구성되며 약 0.15~0.3mm의 두께를 가지므로, 박형의 표시 장치를 구현하는데 한계가 있으며 여러장의 필름을 라미네이팅 공정 등으로 부착하여 공정이 복잡한 문제가 있다.
이에, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 원편광 필름을 대체하면서 외광의 반사율을 줄일 수 있고 박형화를 구현하고 공정을 단순화할 수 있는 발광 표시 장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 원편광 필름을 대체하면서 박형화를 구현하고 공정을 단순화할 수 있는 발광 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치는 화소 영역과 비화소 영역을 포함하는 표시 기판; 상기 표시 기판의 상부에 배치되는 봉지 부재; 및 상기 봉지 부재 상에 배치되며, 상기 화소 영역과 대응되는 광투과부와 상기 비화소 영역과 대응되는 광차단부를 포함하는 상쇄간섭부를 포함한다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치는 화소 영역과 비화소 영역을 포함하는 표시 기판; 상기 표시 기판의 상부에 배치되는 봉지 부재; 및 상기 봉지 부재 상에 배치되는 상쇄간섭부를 포함하며, 상기 상쇄간섭부는 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층과 복수의 유전체층을 포함하되, 상기 비화소 영역에 대응되고 상기 봉지 부재로부터 가장 가깝거나 가장 멀게 배치된 차단층을 더 포함한다.
상기 다른 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법은 화소 영역과, 비화소 영역을 포함하는 표시 기판을 준비하는 단계; 및 상기 봉지 부재 상에 서로 교대로 적층되는 복수의 금속함유층과 복수의 유전체층을 포함하되, 상기 비화소 영역에 대응되고 상기 봉지 부재로부터 가장 가깝거나 가장 멀게 배치되는 차단층을 더 포함하는 상쇄간섭부를 형성하는 단계를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명의 실시예에 따른 발광 표시 장치는 봉지 부재 상에 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층과 복수의 유전체층, 및 차단층을 포함하는 상쇄간섭부를 형성하여, 원편광 필름을 대체하면서 외광의 반사율을 줄일 수 있고 박형화를 구현하고 공정을 단순화시킬 수 있다.
본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 단면도이다.
도 2는 임의의 물질에 대한 흡수율을 도시한 그래프이다.
도 3은 도 1의 상쇄간섭부의 광투과부를 도시한 확대 단면도이다.
도 4는 도 1의 상쇄간섭부의 광차단부를 도시한 확대 단면도이다.
도 5는 기존에 원편광판이 배치된 발광 표시 장치의 외광 반사율과, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 외광 반사율을 비교한 그래프이다.
도 6은 기존의 발광 표시 장치 중 원편광판의 투과율과, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치 중 상쇄간섭부의 투과율을 비교한 그래프이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법의 순서도이다.
도 8 내지 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 단면도이다.
도 16은 도 15의 상쇄간섭부의 광투과부를 도시한 확대 단면도이다.
도 17은 도 15의 상쇄간섭부의 광차단부를 도시한 확대 단면도이다.
도 18은 기존에 원편광판이 배치된 발광 표시 장치의 외광 반사율과, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 외광 반사율을 비교한 그래프이다.
도 19는 기존의 발광 표시 장치 중 원편광판의 투과율과, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치 중 상쇄간섭부의 투과율을 비교한 그래프이다.
도 20 내지 도 22는 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 23은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 단면도이다.
도 24는 도 23의 상쇄간섭부의 광투과부를 도시한 확대 단면도이다.
도 25는 도 23의 상쇄간섭부의 광차단부를 도시한 확대 단면도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 단면도이고, 도 2는 임의의 물질에 대한 흡수율을 도시한 그래프이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치(100)는 표시 기판(110), 봉지 부재(120) 및 상쇄간섭부(130)를 포함한다.
표시 기판(110)은 절연 기판을 포함할 수 있다. 상기 절연 기판은 투명한 SiO2를 주성분으로 하는 투명 재질의 글라스재로 형성될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 상기 절연 기판은 불투명 재질로 이루어지거나, 플라스틱 재질로 이루어질 수도 있다. 더 나아가, 상기 절연 기판은 가요성 기판일 수 있다.
표시 기판(110)은 화상을 표시하는 화소 영역(PX)과, 비화소 영역(NPX)을 포함할 수 있다. 또한, 표시 기판(110)은 상부에 화소 영역(PX)과 대응하는 영역에 형성되어 빛을 방출함으로써 화상이 표시되게 하는 발광층(111)을 포함할 수 있다. 발광 표시 장치(100)가 예를 들어 유기 발광 표시 장치일 경우, 발광층(111)은 유기물로 형성되는 유기 발광층일 수 있다.
도시하지는 않았지만, 기판(110)은 절연 기판 상에 형성된 다른 구조물들을 더 포함할 수 있다. 상기 다른 구조물들의 예로는 배선, 전극, 절연막 등을 들 수 있다. 몇몇 실시예에서, 기판(110)은 발광층(111)의 하부에 형성되는 제1 전극(예를 들어, 애노드 전극)과, 발광층(111)의 상부에 형성되는 제2 전극(예를 들어, 캐소드 전극)을 포함할 수 있다. 또다른 몇몇 실시예에서, 기판(110)은 절연 기판 상에 형성된 복수의 박막 트랜지스터를 포함할 수 있다. 복수의 박막 트랜지스터 중 적어도 일부의 드레인 전극은 상기 제1 전극과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 박막 트랜지스터는 비정질 실리콘, 다결정 실리콘, 또는 단결정 실리콘 등으로 이루어진 액티브 영역을 포함할 수 있다. 다른 실시예에서, 상기 박막 트랜지스터는 산화물 반도체로 형성되는 액티브 영역을 포함할 수 있다.
봉지 부재(120)는 표시 기판(110)의 상부에 배치되며 절연성 물질로 형성될 수 있다. 봉지 부재(120)는 표시 기판(110)에 결합되어 발광 표시 장치(100)의 외부의 수분이나 산소 등으로부터 발광층(111)을 보호한다. 봉지 부재(120)는 표시 기판(110)의 상부로부터 이격된 봉지 기판 또는 표시 기판(110)에 접촉하는 봉지막, 예를 들어 표시 기판(110)의 전체 구조물을 덮는 봉지막으로 구성될 수 있다.
상쇄간섭부(130)는 봉지 부재(120) 상에 형성되되, 봉지 부재(120)의 상부에 배치된다. 상쇄간섭부(130)는 크게 표시 기판(110)의 화소 영역(PX)과 대응되는 광투과부(LTP1)와, 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)과 대응되는 광차단부(LBP1)를 포함한다.
광투과부(LTP1)는 발광층(111)으로부터 방출되는 빛이 표시 기판(110)의 화소 영역(PX)과 대응하여 투과되도록 하여 화상이 상쇄간섭부(130)의 외부로 표시되도록 하며, 상쇄간섭부(130)의 외부에서 봉지 부재(120) 방향으로 입사되는 외광으로부터 반사되는 반사광에 대해 상쇄 간섭이 일어나도록 하여 외광의 반사율을 줄일 수 있다. 광차단부(LBP1)는 발광층(111)으로부터 방출되는 빛이 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)과 대응하여 투과되는 것을 방지하며, 상쇄간섭부(130)의 외부에서 봉지 부재(120) 방향으로 입사되는 외광으로부터 반사되는 반사광에 대해 상쇄 간섭이 일어나도록 하고 또한 외광을 흡수하여 외광의 반사율을 줄일 수 있다. 광투과부(LTP1)와 광차단부(LBP1)에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.
상쇄간섭부(130)는 봉지 부재(120) 상에 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층(131, 133)과 복수의 유전체층(132, 134), 및 차단층(135)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상쇄 간섭부(130)는 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133), 제2 유전체층(134), 및 차단층(135)을 포함할 수 있다. 도 1에서는 복수의 금속함유층(131, 133)과 복수의 유전체층(132, 134)의 적층 구조가 봉지 부재(120)로부터 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133) 및 제2 유전체층(134)이 순차적으로 적층되는 구조인 것으로 도시되었으나, 몇몇 실시예에서 복수의 금속함유층과 복수의 유전체층의 적층 구조가 봉지 부재로부터 제1 유전체층, 제1 금속함유층, 제2 유전체층 및 제2 금속함유층이 순차적으로 적층되는 구조일 수도 있다.
제1 금속함유층(131)은 봉지 부재(120) 상에 형성된다. 제1 금속함유층(131) 중 표시 기판(110)의 화소 영역(PX)과 대응되는 부분은 봉지 부재(120)의 상면에 접촉할 수 있으며, 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)과 대응되는 부분은 봉지 부재(120)로부터 상면으로부터 이격된 위치에 위치할 수 있다. 제1 금속함유층(131)은 상쇄간섭부(130)의 외부로부터 입사되는 외광의 일부를 흡수하여 외광의 반사량을 줄이도록 흡수율이 높은 물질, 예를 들어 흡수율이 약 30%이상인 금속함유 물질로 형성될 수 있다. 흡수율이 약 30%이상인 금속함유 물질은 도 2를 참조하면, 굴절률(n)이 약 1.5 내지 7 사이이고, 흡수 계수(k)가 약 1.5 내지 7 사이의 물질일 수 있다. 이에 따라, 제1 금속함유층(131)은 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 코발트(Co), 산화구리(CuO), 질화티타늄(TiNx) 및 황화니켈(NiS) 중 선택된 어느 하나로 형성될 수 있다. 도 2에서 각 물질의 굴절률(n)과 흡수 계수(k)는 각 물질이 10nm의 두께를 가지며 빛의 파장이 550nm인 경우에서 측정된 것이다.
제1 금속함유층(131)은 기존의 원편광 필름이 약 43% 이상의 투과율을 가지는 것과 유사하도록 약 40% 이상의 투과율을 가지는 두께(d1)로 형성될 수 있다. 즉, 제1 금속함유층(131)의 두께(d1)는 약 60% 이하의 흡수율을 가지는 두께로 설정될 수 있으며, 아래의 수학식 1을 만족하는 두께로 설정될 수 있다.
Figure 112013050694978-pat00001
수학식 1에서, d1은 제1 금속함유층(131)의 두께이며, λ는 외광의 파장이고, n1은 제1 금속함유층(131)의 굴절률이며, k1은 제1 금속함유층(131)의 흡수 계수이다.
예를 들어, 외광의 파장(λ)이 550nm 이고 제1 금속함유층(131)이 크롬(Cr)으로 형성되는 경우, 도 2에 도시된 바와 같이 제1 금속함유층(131)의 굴절률(n1)은 약 3.2이고 흡수계수(k1)는 약 3.3이다. 이때, 제1 금속함유층(131)의 두께(d1)는 수학식 1에 의해 약 4.97nm이하일 수 있다. 제1 금속함유층(131)의 두께는 외광의 파장(λ)이 550nm일 경우로 설정된 것을 예시하였으나, 다른 파장을 기준으로 설정될 수도 있다.
제1 유전체층(132)은 제1 금속함유층(131) 상에 형성된다. 구체적으로, 제1 유전체층(132)은 제1 금속함유층(131)의 상면에 접촉한다. 제1 유전체층(132)은 산화실리콘(SiO2), 산화티타늄(TiO2), 불소화리튬(LiF), 불화칼슘(CaF2), 불화마그네슘(MaF2), 질화실리콘(SiNx), 산화탄탈륨(Ta2O5), 산화나이오븀(Nb2O5), 실리콘카본나이트라이드(SiCN), 산화몰리브덴(MoOx), 산화철(FeOx) 및 산화크롬(CrOx) 중 선택된 어느 하나로 형성될 수 있다. 제1 유전체층(132)은 외광(Ambient light)이 제2 금속함유층(133)의 표면으로부터 반사되는 제1 반사광(①)의 위상과, 외광이 제2 금속함유층(133)과 제1 유전체층(132)을 투과하여 제1 금속함유층(133)의 표면으로부터 반사되고 제1 유전체층(132)과 제2 금속함유층(133)을 투과하여 제2 금속함유층(133)의 표면으로부터 반사되는 제2 반사광(②)의 위상의 차이가 약 180°가 되도록 위상 조정 역할을 하여 상쇄간섭부(130)로부터 외부로 반사되는 외광이 상쇄되게 할 수 있다.
제2 금속함유층(133)은 제1 유전체층(132) 상에 형성된다. 제2 금속함유층(133)은 제1 유전체층(132)의 상면에 접촉한다. 제2 금속함유층(133)도 상쇄간섭부(130)의 외부로부터 입사되는 외광의 반사량을 줄이도록 제1 금속함유층(131)을 형성하는 물질로 형성될 수 있다. 또한, 제2 금속함유층(133)의 두께(d1)도 기존의 원편광 필름이 약 43% 이상의 투과율을 가지는 것과 동등하도록 약 60% 이하의 흡수율을 가지는 두께로 설정될 수 있으며, 상기 수학식 1을 만족하는 두께로 설정될 수 있다.
한편, 제1 반사광(①)의 위상과 제2 반사광(②)의 위상의 차이가 약 180°가 되게 하기 위해, 제2 금속함유층(133)과 제1 유전체층(132)의 최적 광학적 두께는 상쇄간섭부(130)의 외부로부터 입사되는 외광이 제2 금속함유층(133)과 제1 유전체층(132)을 통과할 때의 위상이 약 90°도 변하게 하는 길이(λ/4)와 같게 수학식 2에 의해 설정될 수 있다. 이에 따라, 제1 유전체층(132)의 두께(d2)가 아래의 수학식 2에 의해 설정될 수 있다.
Figure 112013050694978-pat00002
수학식 2에서, d1은 제2 금속함유층(133)의 두께이며, d2는 제1 유전체층(132)의 두께이고, λ는 외광의 파장이고, n1은 제2 금속함유층(133)의 굴절률이며, n2는 제1 유전체층(132)의 굴절률이다
예를 들어, 외광의 파장(λ)이 550nm이고 제2 금속함유층(133)이 크롬(Cr)으로 형성되며 제1 유전체층(132)이 산화실리콘(SiO2)으로 형성되는 경우, 제2 금속함유층(133)의 굴절률(n1)은 약 3.2이고, 제2 금속함유층(133)의 두께(d1)는 약 4.97nm이며, 제1 유전체층(132)의 굴절률(n2)은 약 1.47일 수 있다. 이때, 제1 유전체층(132)의 두께(d2)는 수학식 2에 의해 약 82.72nm일 수 있다. 본 발명에서, 제2 금속함유층(133)의 두께(d1) 및 제1 유전체층(132)의 두께(d2)는 외광의 파장(λ)이 550nm일 경우로 설정된 것을 예시하였으나, 다른 파장을 기준으로 설정될 수도 있다.
제2 유전체층(134)은 제2 금속함유층(133) 상에 형성된다. 제2 유전체층(134)은 제1 유전체층(132)을 형성하는 물질로 형성될 수 있으며, 약 50nm 내지 120nm의 두께(d3)를 가질 수 있다. 제2 유전체층(134)은 제1 유전체층(134)에 의해서 외광의 전파장에서 반사되는 반사광의 위상차를 약 180°가 되게 하기 어렵기 때문에 외광의 파장에 따라서 반사광의 위상차가 180°를 벗어나는 것을 부분적으로 보정할 수 있다.
차단층(135)은 비화소 영역(NPX)과 대응되며 봉지 부재(120)로부터 가장 가깝게 배치된다. 즉, 차단층(135)은 봉지 부재(120)와 제1 금속함유층(131) 사이에서 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)과 대응되게 형성된다. 차단층(135)은 예를 들어, 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 은(Ag), 티타늄(Ti), 카본 블랙 및 산화구리(CuO) 중 선택된 어느 하나로 형성될 수 있다. 차단층(135)은 상쇄간섭부(130)의 외부에서 입사되는 외광이 발광층(111)으로 유입되지 못하도록 하는 두께, 예를 들어 약 50nm이상의 두께(d4)를 가질 수 있다.
상기와 같이 상쇄간섭부(130)는 상쇄간섭부(130)의 외부에서 입사되는 외광(Ambient light)이 제2 유전체층(134)을 투과하여 제2 금속함유층(133)의 표면에서 반사되어 외광으로부터 약 180°의 위상이 변화하는 제1 반사광(①)과, 외부에서 입사되는 외광이 제2 유전체층(134)을 투과하여 제2 금속함유층(133)과 제1 유전체층(132)을 지나면서 약 90°의 위상이 변화하고 제1 금속함유층(131)의 표면에서 반사되어 약 180°의 위상이 변화하고 제1 유전체층(132)과 제2 금속함유층(133)을 지나면서 약 90°의 위상이 변화하여 외광으로부터 약 360 °의 위상이 변화하는 제2 반사광(②)이 약 180°의 위상차를 가지게 하여 서로 상쇄 간섭되어 소멸되게 할 수 있다. 이에 따라, 상쇄간섭부(130)는 기존에 외광의 반사율을 줄이기 위해 사용된 원편광판을 대체할 수 있다.
또한, 상쇄간섭부(130)는 약 4.97nm의 두께를 가지는 제1 금속함유층(131), 약 82.72nm의 두께를 가지는 제1 유전체층(132), 약 4.97nm의 두께를 가지는 제2 금속함유층(133), 약 90nm의 두께를 가지는 제2 유전체층(134) 및 약 100nm의 두께를 가지는 차단층(135)을 포함하여 구성될 수 있어 약 282.7nm의 총 두께를 가질 수 있다. 이에 따라, 상쇄간섭부(130)는 기존에 약 150㎛ 총 두께를 가지는 원편광판을 적용하는 경우보다 더 얇아진 발광 표시 장치를 구현할 수 있다.
또한, 상쇄간섭부(130)는 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133), 제2 유전체층(134) 및 차단층(135)을 도포 방법 등으로 형성할 수 있어, 기존에 원편광판을 여러장의 필름을 라미네이팅 공정 등으로 부착하여 구성하는 경우보다 공정을 단순화할 수 있다.
이하에서는 광투과부(LTP1)와 광차단부(LBP1)에 대해 상세하게 설명하기로 한다.
도 3은 도 1의 상쇄간섭부의 광투과부를 도시한 확대 단면도이고, 도 4는 도 1의 상쇄간섭부의 광차단부를 도시한 확대 단면도이다.
도 3을 참조하면, 광투과부(LTP1)는 봉지 부재(120) 상에 형성되는 제1 광투과 금속함유층(131a), 제1 광투과 금속함유층(131a) 상에 형성되는 제1 광투과 유전체층(132a), 제1 광투과 유전체층(132a) 상에 형성되는 제2 광투과 금속함유층(133a), 및 제2 광투과 금속함유층(133a) 상에 되는 제2 광투과 유전체층(134a)을 포함한다.
제1 광투과 금속함유층(131a), 제1 광투과 유전체층(132a), 제2 광투과 금속함유층(133a) 및 제2 광투과 유전체층(134a) 각각은, 도 1의 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133) 및 제2 유전체층(134) 각각 중 표시 기판(110)의 화소 영역(PX)에 대응하는 부분이다. 이에 따라, 제1 광투과 금속함유층(131a), 제1 광투과 유전체층(132a), 제2 광투과 금속함유층(133a) 및 제2 광투과 유전체층(134a) 각각의 형성 물질 및 두께는 도 1의 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133) 및 제2 유전체층(134) 각각의 형성 물질 및 두께와 같다.
도 4를 참조하면, 광차단부(LBP1)는 봉지 부재(120) 상에 형성되되 이격되는 제1 광차단 금속함유층(131b), 제1 광차단 금속함유층(131b) 상에 형성되는 제1 광차단 유전체층(132b), 제1 광차단 유전체층(132b) 상에 형성되는 제2 광차단 금속함유층(133b), 제2 광차단 금속함유층(133b) 상에 형성되는 제2 광차단 유전체층(134b), 및 봉지 부재(120)와 제1 광차단 금속함유층(131b) 사이에 개재되는 차단층(135)을 포함한다.
제1 광차단 금속함유층(131b), 제1 광차단 유전체층(132b), 제2 광차단 금속함유층(133b) 및 제2 광차단 유전체층(134b) 각각은, 도 1의 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133) 및 제2 유전체층(134) 각각 중 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)에 대응하는 부분이다. 이에 따라, 제1 광차단 금속함유층(131b), 제1 광차단 유전체층(132b), 제2 광차단 금속함유층(133b) 및 제2 광차단 유전체층(134b) 각각의 형성 물질 및 두께는 도 1의 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133) 및 제2 유전체층(134) 각각의 형성 물질 및 두께와 같다.
차단층(135)은 봉지 부재(120)의 상면에서 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)에 대응하여 위치하므로, 봉지 부재(120)의 상면으로부터 돌출된 형태를 가질 수 있다.
상기와 같이 제1 광투과 금속함유층(131a), 제1 광투과 유전체층(132a), 제2 광투과 금속함유층(133a) 및 제2 광투과 유전체층(134a) 각각과, 제1 광차단 금속함유층(131b), 제1 광차단 유전체층(132b), 제2 광차단 금속함유층(133b) 및 제2 광차단 유전체층(134b) 각각은 도 1의 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133) 및 제2 유전체층(134) 각각의 일부이므로, 제1 광투과 금속함유층(131a), 제1 광투과 유전체층(132a), 제2 광투과 금속함유층(133a) 및 제2 광투과 유전체층(134a) 각각은, 제1 광차단 금속함유층(131b), 제1 광차단 유전체층(132b), 제2 광차단 금속함유층(133b) 및 제2 광차단 유전체층(134b) 각각과 동일한 두께를 가지며 동일한 물질로 형성될 수 있다. 다만, 광차단부(LBP1)의 전체 두께는 차단층(135)에 의해 광투과부(LTP1)의 전체 두께보다 두껍다.
다음은 기존에 원편광층이 배치된 발광 표시 장치의 외광 반사율과, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 외광 반사율을 실험을 통해 분석한 결과에 대해 살펴보기로 한다.
도 5는 기존에 원편광판이 배치된 발광 표시 장치의 외광 반사율과, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 외광 반사율을 비교한 그래프이다. 도 5에서, 발광 표시 장치로서 예를 들어 유기 발광 표시 장치가 이용되었다.
도 5를 참조하면, 기존에 원편광층이 배치된 발광 표시 장치(LED1)의 외광 반사율보다 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치(LED2, 도 1의 100)의 외광 반사율이 전파장에 걸쳐 대체적으로 낮다. 그리고, 기존에 원편광층이 배치된 발광 표시 장치(LED1)의 시감 반사율(luminous reflectance)은 4.6%로 측정되었으며, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치(LED2)의 시감 반사율은 2.7%로 측정되었다. 이로부터 봉지 부재(120) 상에 상쇄간섭부(130)를 배치한 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치(100)가 원편광판을 대체하여 콘트라스트를 크게 향상시킬 수 있음을 알 수 있다.
다음은 기존의 발광 표시 장치 중 원편광층의 투과율과, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치 중 상쇄간섭부의 투과율을 실험을 통해 분석한 결과에 대해 살펴보기로 한다.
도 6은 기존의 발광 표시 장치 중 원편광판의 투과율과, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치 중 상쇄간섭부의 투과율을 비교한 그래프이다. 도 6에서, 발광 표시 장치로서 예를 들어 유기 발광 표시 장치가 이용되었다.
도 6을 참조하면, 기존에 원편광층이 형성된 발광 표시 장치(LED1) 중 원편광층의 투과율보다 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치(LED2, 도 1의 100) 중 상쇄간섭부(도 1의 130)의 투과율이 전파장에 걸쳐 대체적으로 높다. 이로부터 봉지 부재(120) 상에 상쇄간섭부(130)를 배치한 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치(100)가 발광층(111)으로부터 방출되는 빛의 방출 효율을 향상시킬 수 있음을 알 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치(100)는 봉지 부재(120) 상에 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층(131, 133)과 복수의 유전체층(132, 134), 및 차단층(135)을 포함하는 상쇄간섭부(130)를 형성하여, 원편광 필름을 대체하면서 외광의 반사율을 줄일 수 있고 박형화를 구현하고 공정을 단순화시킬 수 있다.
다음은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법에 대해 설명하기로 한다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법의 순서도이고, 도 8 내지 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법은 표시 기판 준비 단계(S10)와, 상쇄간섭부 형성 단계(S20)를 포함할 수 있다.
도 8을 참조하면, 표시 기판 준비 단계(S10)는 화소 영역(PX)과 비화소 영역(NPX)을 포함하는 표시 기판(110)을 준비하는 단계이다. 표시 기판(110)은 상부에 화소 영역(PX)과 대응하는 영역에 발광층(111)을 포함할 수 있다. 표시 기판(110)에 대해서는 앞에서 상세히 설명하였으므로, 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도 9 내지 도 14를 참조하면, 상쇄간섭부 형성 단계(S20)는 봉지 기판(120) 상에 서로 교대로 적층되는 복수의 금속함유층(131, 133)과 복수의 유전체층(132, 134)을 포함하되, 비화소 영역(NPX)에 대응되고 봉지 부재(120)로부터 가장 가깝게 배치되는 차단층(135)을 더 포함하는 상쇄간섭부(130)를 형성하는 단계이다. 구체적으로, 봉지 부재(120) 상에 제1 금속함유층(131), 제1 유전체층(132), 제2 금속함유층(133), 제2 유전체층(134) 및 차단층(135)을 형성한다.
먼저, 도 9에 도시된 바와 같이 봉기 부재(120)의 상부에 차단 물질(135a)을 도포한다.
이어, 도 10에 도시된 바와 같이 차단 물질(135a)을 포토리소그래피 방법 등에 의해 패터닝하여, 봉지 부재(120) 중 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)과 대응하는 영역에 차단층(135)을 형성한다. 차단층(135)의 형성 물질 및 두께에 대해서는 앞에서 설명하였으므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
이어, 도 11에 도시된 바와 같이 차단층(135)을 덮도록 봉지 부재(120)의 상부에 전면적으로 제1 금속함유 물질을 도포하여 제1 금속함유층(131)을 형성한다. 상기 제1 금속함유 물질의 도포 방법은 증착, 코팅, 프린팅 방법 등에 의해 이루어질 수 있다. 제1 금속함유층(131)의 형성물질 및 두께에 대해서는 앞에서 설명하였으므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
이어, 도 12에 도시된 바와 같이 제1 금속함유층(131)의 상부에 전면적으로 제1 유전체 물질을 도포하여 제1 유전체층(132)을 형성한다. 상기 제1 유전체 물질의 도포 방법은 증착, 코팅, 프린팅 방법 등에 의해 이루어질 수 있다. 제1 유전체층(132)의 형성물질 및 두께에 대해서는 앞에서 설명하였으므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
이어, 도 13에 도시된 바와 같이 제1 유전체층(132)의 상부에 전면적으로 제2 금속함유 물질을 도포하여 제2 금속함유층(133)을 형성한다. 상기 제2 금속함유 물질의 도포 방법은 증착, 코팅, 프린팅 방법 등에 의해 이루어질 수 있다. 제2 금속함유층(133)의 형성물질 및 두께에 대해서는 앞에서 설명하였으므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
이어, 도 14에 도시된 바와 같이 제2 금속함유층(133)의 상부에 전면적으로 제2 유전체 물질을 도포하여 제2 유전체층(134)을 형성한다. 상기 제2 유전체 물질의 도포 방법은 증착, 코팅, 프린팅 방법 등에 의해 이루어질 수 있다. 제2 유전체층(134)의 형성물질 및 두께에 대해서는 앞에서 설명하였으므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도시하진 않았지만, 상쇄간섭층 형성 단계(S20) 후에는 표시 기판(110)과 봉지 부재(120)를 결합하는 단계가 이루어질 수 있다. 몇몇 실시예에서, 봉지 부재(120)가 봉지막으로 형성되는 경우 표시 기판(110)과 봉지 부재(120)를 결합하는 단계는 생략될 수 있다.
다음은 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치에 대해 설명하기로 한다.
도 15는 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 단면도이다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(200)는 도 1의 발광 표시 장치(100)와 비교하여 상쇄간섭부(230)만 다르며 동일한 구성을 가진다. 이에 따라, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(200)에서는 상쇄간섭부(230)에 대해 중점적으로 설명하기로 한다.
도 15를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(200)는 표시 기판(110), 봉지 부재(120) 및 상쇄간섭부(230)를 포함한다.
상쇄간섭부(230)는 봉지 부재(120) 상에 형성되되, 봉지 부재(120)의 하부에 배치된다. 상쇄간섭부(230)는 도 1의 상쇄간섭부(130)와 같이 크게 표시 기판(110)의 화소 영역(PX)과 대응되는 광투과부(LTP2)와, 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)과 대응되는 광차단부(LBP2)를 포함한다.
광투과부(LTP2)와 광차단부(LBP2)는 도 1의 광투과부(LTP1)와 광차단부(LBP1)와 동일한 역할을 한다. 광투과부(LTP2)와 광 차단부(LBP2)에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.
상쇄간섭부(230)는 봉지 부재(120) 상에 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층(231, 233)과 복수의 유전체층(232, 234), 및 차단층(235)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상쇄 간섭부(230)는 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233), 제2 유전체층(234) 및 차단층(235)을 포함할 수 있다.
제1 금속함유층(231)은 봉지 부재(120) 상에 형성된다. 구체적으로, 제1 금속함유층(231)은 봉지 부재(120)의 하면에 접촉할 수 있다. 제1 금속함유층(231)은 도 1의 제2 금속함유층(133)과 유사하며, 도 1의 제2 금속함유층(133)을 형성하는 물질로 형성될 수 있고, 도 1의 제2 금속함유층(133)과 같이 상기 수학식 1을 만족하는 두께(d1)를 가질 수 있다.
제1 유전체층(232)은 제1 금속함유층(231) 상에 형성된다. 구체적으로, 제1 유전체층(232)은 제1 금속함유층(231)의 하면에 접촉한다. 제1 유전체층(232)은 도 1의 제1 유전체층(132)과 유사하며, 도 1의 제1 유전체층(132)을 형성하는 물질로 형성될 수 있고, 도 1의 제1 유전체층(132)과 같이 상기 수학식 2를 만족하는 두께(d2)를 가질 수 있다. 제1 유전체층(232)은 외광(Ambient light)이 제1 금속함유층(231)의 표면으로부터 반사되는 제1 반사광(①)의 위상과, 외광이 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232)을 투과하여 제2 금속함유층(233)의 표면으로부터 반사되어 제1 유전체층(232)과 제1 금속함유층(231)을 투과하여 제1 금속함유층(231)의 표면으로부터 반사되는 제2 반사광(②)의 위상의 차이가 약 180°가 되도록 위상 조정 역할을 하여 상쇄간섭부(230)로부터 외부로 반사되는 외광이 상쇄되게 할 수 있다.
제2 금속함유층(233)은 제1 유전체층(232) 상에 형성된다. 구체적으로, 제2 금속함유층(233)은 제1 유전체층(232)의 하면에 접촉한다. 제2 금속함유층(233)은 도 1의 제1 금속함유층(131)과 유사하며, 도 1의 제1 금속함유층(131)을 형성하는 물질로 형성될 수 있고, 도 1의 제1 금속함유층(131)과 같이 상기 수학식 1을 만족하는 두께(d1)를 가질 수 있다.
제2 유전체층(234)은 제2 금속함유층(233) 상에 형성된다. 구체적으로, 제2 유전체층(234)은 제2 금속함유층(233)의 하면에 접촉한다. 제2 유전체층(234)은 도 1의 제2 유전체층(134)과 유사하며, 도 1의 제2 유전체층(134)을 형성하는 물질로 형성될 수 있고, 약 50nm 내지 120nm의 두께(d3)를 가질 수 있다.
차단층(235)은 비화소 영역(NPX)과 대응되며 봉지 부재(120)로부터 가장 멀게 배치된다. 즉, 차단층(235)은 제2 유전체층(234) 상에, 구체적으로 제2 유전체층(234)의 하면에 접촉하되 기판(110)의 비화소 영역(NPX)과 대응되는 위치에 위치한다. 차단층(235)은 도 1의 차단층(135)과 유사하며, 도 1의 차단층(135)을 형성하는 물질로 형성될 수 있고, 도 1의 차단층(135)과 같이 약 50nm이상의 두께를 가질 수 있다.
상기와 같이 상쇄간섭부(230)는 상쇄간섭부(230)의 외부에서 입사되는 외광(Ambient light)이 제1 금속함유층(231)의 표면에서 반사되어 외광(Ambient light)으로부터 약 180°의 위상이 변화하는 제1 반사광(①)과, 외부에서 입사되는 외광이 제1 금속함유층(231)을 투과하여 제1 유전체층(232)을 지나면서 약 90°의 위상이 변화하고 제2 금속함유층(233)의 표면에서 반사되어 약 180°의 위상이 변화하고 제1 유전체층(232)과 제1 금속함유층(231)을 지나면서 약 90°의 위상이 변화하여 외광으로부터 약 360 °의 위상이 변화하는 제2 반사광(②)이 약 180°의 위상차를 가지게 하여 서로 상쇄 간섭되어 소멸되게 할 수 있다. 이에 따라, 상쇄간섭부(230)는 기존에 외광의 반사율을 줄이기 위해 사용된 원편광판을 대체할 수 있다.
또한, 상쇄간섭부(230)도 약 4.97nm의 두께를 가지는 제1 금속함유층(231), 약 82.72nm의 두께를 가지는 제1 유전체층(232), 약 4.97nm의 두께를 가지는 제2 금속함유층(233), 약 90nm의 두께를 가지는 제2 유전체층(234) 및 약 100nm의 두께(d4)를 가지는 차단층(235)을 포함하여 구성될 수 있어 약 282.7nm의 총 두께를 가질 수 있다. 이에 따라, 상쇄간섭부(230)도 기존에 약 150㎛ 총두께를 가지는 원편광판을 적용하는 경우보다 더 얇아진 발광 표시 장치를 구현할 수 있다.
또한, 상쇄간섭부(230)도 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233), 제2 유전체층(234) 및 차단층(235)을 도포 방법 등으로 형성할 수 있어, 기존에 원편광판을 여러장의 필름을 라미네이팅 공정 등으로 부착하여 구성하는 경우보다 공정을 단순화할 수 있다.
이하에서는 광투과부(LTP2)와 광차단부(LBP2)에 대해 상세하게 설명하기로 한다.
도 16은 도 15의 상쇄간섭부의 광투과부를 도시한 확대 단면도이고, 도 17은 도 15의 상쇄간섭부의 광차단부를 도시한 확대 단면도이다.
도 16을 참조하면, 광투과부(LTP2)는 봉지 부재(120) 상에 형성되는 제1 광투과 금속함유층(231a), 제1 광투과 금속함유층(231a) 상에 형성되는 제1 광투과 유전체층(232a), 제1 광투과 유전체층(232a) 상에 형성되는 제2 광투과 금속함유층(233a), 및 제2 광투과 금속함유층(233a) 상에 형성되는 제2 광투과 유전체층(234a)을 포함한다.
제1 광투과 금속함유층(231a), 제1 광투과 유전체층(232a), 제2 광투과 금속함유층(233a) 및 제2 광투과 유전체층(234a) 각각은, 도 15의 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233) 및 제2 유전체층(234) 각각 중 표시 기판(110)의 화소 영역(PX)에 대응하는 부분이다. 이에 따라, 제1 광투과 금속함유층(231a), 제1 광투과 유전체층(232a), 제2 광투과 금속함유층(233a) 및 제2 광투과 유전체층(234a) 각각의 형성 물질 및 두께는 도 15의 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233) 및 제2 유전체층(234) 각각의 형성 물질 및 두께와 같다.
도 17을 참조하면, 광차단부(LBP2)는 봉지 부재(120) 상에 형성되는 제1 광차단 금속함유층(231b), 제1 광차단 금속함유층(231b) 상에 형성되는 제1 광차단 유전체층(232b), 제1 광차단 유전체층(232b) 상에 형성되는 제2 광차단 금속함유층(233b), 제2 광차단 금속함유층(233b) 상에 형성되는 제2 광차단 유전체층(234b), 및 제2 광차단 유전체층(234b) 상에 형성되는 차단층(235)을 포함한다.
제1 광차단 금속함유층(231b), 제1 광차단 유전체층(232b), 제2 광차단 금속함유층(233b) 및 제2 광차단 유전체층(234b) 각각은, 도 15의 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233) 및 제2 유전체층(234) 각각 중 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)에 대응하는 부분이다. 이에 따라, 제1 광차단 금속함유층(231b), 제1 광차단 유전체층(232b), 제2 광차단 금속함유층(233b) 및 제2 광차단 유전체층(234b) 각각의 형성 물질 및 두께는 도 15의 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233) 및 제2 유전체층(234) 각각의 형성 물질 및 두께와 같다.
차단층(235)은 봉지 부재(120)의 하면에서 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)에 대응하여 위치하므로, 봉지 부재(120)의 하면으로부터 돌출된 형태를 가질 수 있다.
상기와 같이 제1 광투과 금속함유층(231a), 제1 광투과 유전체층(232a), 제2 광투과 금속함유층(233a) 및 제2 광투과 유전체층(234a) 각각과, 제1 광차단 금속함유층(231b), 제1 광차단 유전체층(232b), 제2 광차단 금속함유층(233b) 및 제2 광차단 유전체층(234b) 각각은 도 15의 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233) 및 제2 유전체층(334) 각각의 일부이므로, 제1 광투과 금속함유층(231a), 제1 광투과 유전체층(232a), 제2 광투과 금속함유층(233a) 및 제2 광투과 유전체층(234a) 각각은, 제1 광차단 금속함유층(231b), 제1 광차단 유전체층(232b), 제2 광차단 금속함유층(233b) 및 제2 광차단 유전체층(234b) 각각과 동일한 두께를 가지며 동일한 두께로 형성될 수 있다. 다만, 광차단부(LBP2)의 전체 두께는 차단층(235)에 의해 광투과부(LTP2)의 전체 두께보다 두껍다.
다음은 기존에 원편광층이 배치된 발광 표시 장치의 외광 반사율과, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 외광 반사율을 실험을 통해 분석한 결과에 대해 살펴보기로 한다.
도 18은 기존에 원편광판이 배치된 발광 표시 장치의 외광 반사율과, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 외광 반사율을 비교한 그래프이다. 도 18에서, 발광 표시 장치로서 예를 들어 유기 발광 표시 장치가 이용되었다.
도 18을 참조하면, 기존에 원편광층이 배치된 발광 표시 장치(LED1)의 외광 반사율보다 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(LED3; 도 15의 200)의 외광 반사율이 전파장에 걸쳐 대체적으로 낮다. 그리고, 기존에 원편광층이 배치된 발광 표시 장치(LED1)의 시감 반사율(luminous reflectance)는 4.6%로 측정되었으며, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치(LED2)의 시감 반사율은 4.5%로 측정되었다. 이로부터 봉지 부재(120) 상에 상쇄간섭부(230)을 배치한 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(100)가 원편광판을 대체하여 콘트라스트를 향상시킬 수 있음을 알 수 있다.
다음은 기존의 발광 표시 장치 중 원편광층의 투과율과, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치 중 상쇄간섭부의 투과율을 실험을 통해 분석한 결과에 대해 살펴보기로 한다.
도 19는 기존의 발광 표시 장치 중 원편광층의 투과율과, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치 중 상쇄간섭부의 투과율을 비교한 그래프이다. 도 19에서, 발광 표시 장치로서 예를 들어 유기 발광 표시 장치가 이용되었다.
도 19를 참조하면, 기존에 원편광층이 배치된 발광 표시 장치(LED1) 중 원편광층의 투과율보다 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(LED3, 도 15의 200) 중 상쇄간섭부(도 15의 200)의 투과율이 전파장에 걸쳐 대체적으로 높다. 이로부터 봉지 부재(120) 상에 상쇄간섭부(230)를 배치한 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(200)가 발광층(111)으로부터 방출되는 빛의 방출 효율을 향상시킬 수 있음을 알 수 있다.
상기와 같이 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(200)는 봉지 부재(120) 상에 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층(231, 233)과 복수의 유전체층(232, 234), 및 차단층(235)을 포함하는 상쇄간섭부(230)를 형성하여, 원편광 필름을 대체하면서 외광의 반사율을 줄일 수 있고 박형화를 구현하고 공정을 단순화시킬 수 있다.
다음은 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법에 대해 설명하기로 한다.
도 20 내지 도 22는 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법과 비교하여 상쇄간섭부 형성 단계만 다르며 동일하다. 이에 따라, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 제조 방법에서는 상쇄간섭부 형성 단계에 대해 중점적으로 설명하기로 한다.
도 20 내지 도 22를 참조하면, 상쇄간섭부 형성 단계는 봉지 기판(120) 상에 서로 교대로 적층되는 복수의 금속함유층(231, 233)과 복수의 유전체층(232, 234)을 포함하되, 비화소 영역(NPX)에 대응되고 봉지 부재(120)로부터 가장 멀게 배치되는 차단층(235)을 더 포함하는 상쇄간섭부(230)를 형성하는 단계이다. 구체적으로, 봉지 기판(120) 상에 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233), 제4 상쇄 간섭층(234) 및 차단층(235)을 형성한다.
먼저, 도 20에 도시된 바와 같이 봉지 부재(120) 상에 전면적으로 제1 금속함유 물질을 도포하여 제1 금속함유층(231)을 형성하고, 제1 금속함유층(231) 상에 전면적으로 제1 유전체 물질을 도포하여 제1 유전체층(232)을 형성하며, 제1 유전체층(232) 상에 전면적으로 제2 금속함유 물질을 도포하여 제2 금속함유층(233)을 형성하고, 제2 금속함유층(233) 상에 전면적으로 제2 유전체 물질을 도포하여 제2 유전체층(234)을 형성한다. 제1 금속함유층(231)의 형성물질 및 두께, 제1 유전체층(232)의 형성물질 및 두께, 제2 금속함유층(233)의 형성물질 및 두께, 제2 유전체층(234)의 형성물질 및 두께에 대해서는 앞에서 설명하였으므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
이어, 도 21에 도시된 바와 같이 제2 유전체층(234) 상에 전면적으로 차단 물질(235a)을 도포한다.
이어, 도 22에 도시된 바와 같이 차단 물질(235a)을 포토리소그래피 방법 등에 의해 패터닝하여, 봉지 부재(120) 중 표시 기판(도 15의 110)의 비화소 영역(NPX)과 대응하는 영역에 차단층(235)을 형성한다. 차단층(235)의 형성 물질 및 두께에 대해서는 앞에서 설명하였으므로 중복된 설명은 생략하기로 한다.
도시하진 않았지만, 상쇄간섭층 형성 단계 후에는 표시 기판(110)과 봉지 부재(120)를 결합하는 단계가 이루어질 수 있다. 이때, 도 22의 봉지 부재(120)는 상하가 바뀐 상태로 표시 기판(110)과 결합될 수 있다.
다음은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치에 대해 설명하기로 한다.
도 23은 본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치의 단면도이다.
본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(300)는 도 15의 발광 표시 장치(200)와 비교하여 상쇄간섭부(330)만 다르며 동일한 구성을 가진다. 이에 따라, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(300)에서는 상쇄간섭부(330)에 대해 중점적으로 설명하기로 한다.
도 23을 참조하면, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(300)는 표시 기판(110), 봉지 부재(120) 및 상쇄간섭부(330)를 포함한다.
상쇄간섭부(330)는 봉지 부재(120) 상에 형성되되, 봉지 부재(120)의 하부에 배치된다. 상쇄간섭부(330)는 도 15의 상쇄간섭부(230)와 같이 크게 표시 기판(110)의 화소 영역(PX)과 대응되는 광투과부(LTP3)와, 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)과 대응되는 광차단부(LBP3)를 포함한다.
광투과부(LTP3)와 광차단부(LBP3)는 도 15의 광투과부(LTP2)와 광차단부(LBP2)와 동일한 역할을 한다. 광투과부(LTP3)와 광 차단부(LBP3)에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다.
상쇄간섭부(330)는 봉지 부재(120) 상에 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층(331, 333)과 복수의 유전체층(332, 334), 및 차단층(335)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상쇄간섭부(330)는 제1 금속함유층(331), 제1 유전체층(332), 제2 금속함유층(333), 제2 유전체층(334), 차단층(335) 및 제3 유전체층(336)을 포함할 수 있다.
제1 금속함유층(331), 제1 유전체층(332), 제2 금속함유층(333), 제2 유전체층(334) 및 차단층(335)은 도 15의 제1 금속함유층(231), 제1 유전체층(232), 제2 금속함유층(233), 제2 유전체층(234) 및 차단층(235)과 동일하다.
제3 유전체층(336)은 봉지 부재(120)와 제1 금속함유층(331) 사이에 개재된다. 제3 유전체층(336)은 제2 유전체층(334)과 유사하며, 제2 유전체층(334)을 형성하는 물질로 형성될 수 있고, 약 50nm 내지 120nm의 두께를 가질 수 있다. 제3 유전체층(336)은 상쇄간섭부(330)에 유전체층이 더 추가되게 하여, 제2 유전체층(334)과 더불어 외광의 파장에 따라서 반사광의 위상차가 180°를 벗어나는 것을 부분적으로 보정할 수 있다.
상기와 같이 상쇄간섭부(330)는 상쇄간섭부(330)의 외부에서 입사되는 외광(Ambient light)이 제1 금속함유층(331)의 표면에서 반사되어 외광으로부터 약 180°의 위상이 변화하는 제1 반사광(①)과, 외부에서 입사되는 외광이 제1 금속함유층(331)을 투과하여 제1 유전체층(332)을 지나면서 약 90°의 위상이 변화하고 제2 금속함유층(333)의 표면에서 반사되어 약 180°의 위상이 변화하고 제1 유전체층(332)과 제1 금속함유층(331)을 지나면서 약 90°의 위상이 변화하여 외광으로부터 약 360 °의 위상이 변화하는 제2 반사광(②)이 약 180°의 위상차를 가지게 하여 서로 상쇄 간섭되어 소멸되게 할 수 있다. 이에 따라, 상쇄간섭부(330)는 기존에 외광의 반사율을 줄이기 위해 사용된 원편광판을 대체할 수 있다.
또한, 상쇄간섭부(330)는 약 4.97nm의 두께를 가지는 제1 금속함유층(331), 약 82.72nm의 두께를 가지는 제1 유전체층(332), 약 4.97nm의 두께를 가지는 제2 금속함유층(333), 약 90nm의 두께를 가지는 제2 유전체층(334), 약 100nm의 두께를 가지는 차단층(235), 및 약 90nm의 두께를 가지는 제3 유전체층(336)을 포함하여 구성될 수 있어 약 372.7nm의 총 두께를 가질 수 있다. 이에 따라, 상쇄간섭부(330)도 기존에 약 150㎛ 총두께를 가지는 원편광판을 적용하는 경우보다 더 얇아진 발광 표시 장치를 구현할 수 있다.
또한, 상쇄간섭부(330)도 제1 금속함유층(331), 제1 유전체층(332), 제2 금속함유층(333), 제2 유전체층(334), 차단층(335) 및 제3 유전체층(336)을 도포 방법 등으로 형성할 수 있어, 기존에 원편광판을 여러장의 필름을 라미네이팅 공정 등으로 부착하여 구성하는 경우보다 공정을 단순화할 수 있다.
이하에서는 광투과부(LTP3)와 광차단부(LBP3)에 대해 상세하게 설명하기로 한다.
도 24는 도 23의 상쇄간섭부의 광투과부를 도시한 확대 단면도이고, 도 25는 도 23의 상쇄간섭부의 광차단부를 도시한 확대 단면도이다.
도 24를 참조하면, 광투과부(LTP3)는 봉지 부재(120) 상에 형성되는 제1 광투과 금속함유층(331a), 제1 광투과 금속함유층(331a) 상에 형성되는 제1 광투과 유전체층(332a), 제1 광투과 유전체층(332a) 상에 형성되는 제2 광투과 금속함유층(333a), 제2 광투과 금속함유층(333a) 상에 형성되는 제2 광투과 유전체층(334a), 및 봉지 부재(120)와 제1 광투과 금속함유층(331a) 사이에 개재되는 제3 광투과 유전체층(336a)을 포함한다.
제1 광투과 금속함유층(331a), 제1 광투과 유전체층(332a), 제2 광투과 금속함유층(333a), 제2 광투과 유전체층(334a) 및 제3 광투과 유전체층(336a) 각각은, 도 23의 제1 금속함유층(331), 제1 유전체층(332), 제2 금속함유층(333), 제2 유전체층(334) 및 제3 유전체층(336) 각각 중 표시 기판(110)의 화소 영역(PX)에 대응하는 부분이다. 이에 따라, 제1 광투과 금속함유층(331a), 제1 광투과 유전체층(332a), 제2 광투과 금속함유층(333a), 제2 광투과 유전체층(334a), 및 제3 광투과 유전체층(336a) 각각의 형성 물질 및 두께는 도 23의 제1 금속함유층(331), 제1 유전체층(332), 제2 금속함유층(333), 제2 유전체층(334) 및 제3 유전체층(336) 각각의 형성 물질 및 두께와 같다.
도 25를 참조하면, 광차단부(LBP3)는 봉지 부재(120) 상에 형성되는 제1 광차단 금속함유층(331b), 제1 광차단 금속함유층(331b) 상에 형성되는 제1 광차단 유전체층(332b), 제1 광차단 유전체층(332b) 상에 형성되는 제2 광차단 금속함유층(333b), 제2 광차단 금속함유층(333b) 상에 형성되는 제2 광차단 유전체층(334b), 제2 광차단 유전체층(334b) 상에 형성되는 차단층(335) 및 봉지 부재(120)와 제1 광차단 금속함유층(331b) 사이에 개재되는 제3 광차단 유전체층(336b)을 포함한다.
제1 광차단 금속함유층(331b), 제1 광차단 유전체층(332b), 제2 광차단 금속함유층(333b), 제2 광차단 유전체층(334b) 및 제3 광차단 유전체층(336b) 각각은, 도 23의 제1 금속함유층(331), 제1 유전체층(332), 제2 금속함유층(333), 제2 유전체층(334) 및 제3 유전체층(336) 각각 중 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)에 대응하는 부분이다. 이에 따라, 제1 광차단 금속함유층(331b), 제1 광차단 유전체층(332b), 제2 광차단 금속함유층(333b), 제2 광차단 유전체층(334b) 및 제3 광차단 유전체층(336b) 각각의 형성 물질 및 두께는 도 23의 제1 금속함유층(331), 제1 유전체층(332), 제2 금속함유층(333), 제2 유전체층(334) 및 제3 유전체층(336) 각각의 형성 물질 및 두께와 같다.
차단층(335)은 봉지 부재(120)의 하면에서 표시 기판(110)의 비화소 영역(NPX)에 대응하여 위치하므로, 봉지 부재(120)의 하면으로부터 돌출된 형태를 가질 수 있다.
상기와 같이 제1 광투과 금속함유층(331a), 제1 광투과 유전체층(332a), 제2 광투과 금속함유층(333a), 제2 광투과 유전체층(334a) 및 제3 광투과 유전체층(336a) 각각과, 제1 광차단 금속함유층(331b), 제1 광차단 유전체층(332b), 제2 광차단 금속함유층(333b), 제2 광차단 유전체층(334b) 및 제3 광차단 유전체층(336b) 각각은 도 23의 제1 금속함유층(331), 제1 유전체층(332), 제2 금속함유층(333), 제2 유전체층(334) 및 제3 유전체층(336) 각각의 일부이므로, 제1 광투과 금속함유층(331a), 제1 광투과 유전체층(332a), 제2 광투과 금속함유층(333a), 제2 광투과 유전체층(334a) 및 제3 광투과 유전체층(336a) 각각은, 제1 광차단 금속함유층(331b), 제1 광차단 유전체층(332b), 제2 광차단 금속함유층(333b), 제2 광차단 유전체층(334b) 및 제3 광차단 유전체층(336b) 각각과 동일한 두께를 가지며 동일한 두께로 형성될 수 있다. 다만, 광차단부(LBP3)의 전체 두께는 차단층(335)에 의해 광투과부(LTP3)의 전체 두께보다 두껍다.
상기와 같이 본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(300)는 봉지 부재(120) 상에 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층(331, 333)과 복수의 유전체층(332, 334, 336), 및 차단층(335)을 포함하는 상쇄간섭부(330)를 형성하여, 원편광 필름을 대체하면서 외광의 반사율을 줄일 수 있고 박형화를 구현하고 공정을 단순화시킬 수 있다.
본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(300)의 제조 방법은 발명의 다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(200)의 제조 방법과 비교하여 상쇄간섭부 형성 단계에서 제1 금속함유층(331)을 형성하기 전에 제3 유전체층(336)을 형성하는 과정이 더 추과되는 점만 제외하고 동일하다. 이에 따라, 본 발명의 또다른 실시예에 따른 발광 표시 장치(300)의 제조 방법에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
100, 200, 300: 발광 표시 장치 110: 표시 기판
111: 발광층 120: 봉지 부재
130, 230, 330: 상쇄간섭부

Claims (20)

  1. 화소 영역과 비화소 영역을 포함하는 표시 기판;
    상기 표시 기판의 상부에 배치되는 봉지 부재; 및
    상기 봉지 부재 상에 배치되며, 상기 화소 영역과 대응되는 광투과부와 상기 비화소 영역과 대응되는 광차단부를 포함하는 상쇄간섭부를 포함하고,
    상기 상쇄간섭부의 상기 광차단부는 상기 봉지 부재 상에 배치된 차단층을 더 포함하고,
    상기 상쇄 간섭부는 상기 상쇄 간섭부의 외부로부터 입사하는 외광으로부터 반사되는 반사광들을 서로 상쇄 간섭이 일어나도록 하여 소멸시키도록 구성되고,
    상기 차단층은 상기 상쇄 간섭부의 외부로부터 입사하는 주변 광을 흡수하도록 구성된 발광 표시 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 광투과부와 상기 광차단부 각각은 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층과 복수의 유전체층을 포함하되,
    상기 차단층은 상기 봉지 부재로부터 가장 가깝거나 가장 멀게 배치되며,
    상기 광차단부의 총 두께는 상기 광투과부의 총 두께보다 두꺼운 발광 표시 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 상쇄간섭부는 상기 봉지 부재의 상부 또는 하부에 배치되며,
    상기 광투과부는
    상기 봉지 부재 상에 형성되는 제1 광투과 금속함유층;
    상기 제1 광투과 금속함유층 상에 형성되는 제1 광투과 유전체층;
    상기 제1 광투과 유전체층 상에 형성되는 제2 광투과 금속함유층; 및
    상기 제2 광투과 금속함유층 상에 형성되는 제2 광투과 유전체층을 포함하는 발광 표시 장치.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 광차단부는
    상기 봉지 부재 상에 형성되는 제1 광차단 금속함유층;
    상기 제1 광차단 금속함유층 상에 형성되는 제1 광차단 유전체층;
    상기 제1 광차단 유전체층 상에 형성되는 제2 광차단 금속함유층; 및
    상기 제2 광차단 금속함유층 상에 형성되는 제2 광차단 유전체층을 더 포함하고,
    상기 차단층은 상기 상쇄간섭부가 상기 봉지 부재의 상부에 배치되는 경우 상기 봉지 부재와 상기 제1 광차단 금속함유층 사이에 개재되며, 상기 차단층은 상기 상쇄간섭부가 상기 봉지 부재의 하부에 배치되는 경우 제2 광차단 유전체층 상에 형성되는 발광 표시 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 제1 광투과 금속함유층, 제1 광투과 유전체층, 제2 광투과 금속함유층 및 제2 광투과 유전체층 각각과, 상기 제1 광차단 금속함유층, 제1 광차단 유전체층, 제2 광차단 금속함유층 및 제2 광차단 유전체층 각각은 동일한 두께를 가지며 동일한 물질로 형성되는 발광 표시 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 제1 광투과 금속함유층 및 제2 광투과 금속함유층 각각은 굴절률이 1.5 내지 7 사이이고, 흡수 계수가 1.5 내지 7 사이의 금속함유 물질로 형성되며,
    상기 제1 광투과 유전체층 및 제2 광투과 유전체층 각각은 산화실리콘(SiO2), 산화티타늄(TiO2), 불소화리튬(LiF), 불화칼슘(CaF2), 불화마그네슘(MaF2), 질화실리콘(SiNx), 산화탄탈륨(Ta2O5), 산화나이오븀(Nb2O5), 실리콘카본나이트라이드(SiCN), 산화몰리브덴(MoOx), 산화철(FeOx) 및 산화크롬(CrOx) 중 선택된 어느 하나로 형성되고,
    상기 제1 광투과 금속함유층 및 제2 광투과 금속함유층 각각의 두께는 하기 수학식 1을 만족하는 두께로 설정되는 발광 표시 장치.
    수학식 1: d1 ≤ 0.6λ/2πn1k1
    (단, d1은 상기 제1 광투과 금속함유층 및 제2 광투과 금속함유층 각각의 두께이며, λ는 외광의 파장이고, n1은 상기 제1 광투과 금속함유층 및 제2 광투과 금속함유층 각각의 굴절률이며, k1은 상기 제1 광투과 금속함유층 및 제2 광투과 금속함유층 각각의 흡수 계수이다.)
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 광투과 금속함유층 및 제2 광투과 금속함유층 각각은 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 코발트(Co), 산화구리(CuO), 질화티타늄(TiNx) 및 황화니켈(NiS) 중 선택된 어느 하나로 형성되는 발광 표시 장치.
  8. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 광투과 유전체층은 하기 수학식 2를 만족하는 두께를 가지는 발광 표시 장치.
    수학식 2: (n1d1)+(n2d2) = λ/4
    (단, 상기 상쇄간섭부가 상기 봉지 부재의 상부에 배치되는 경우 상기 수학식 2에서 n1은 상기 제2 광투과 금속함유층의 굴절률이고, n2는 상기 제1 광투과 유전체층의 굴절률이며, d1은 상기 제2 광투과 금속함유층의 두께이고, d2는 상기 제1 광투과 유전체층의 두께이며, λ는 외광의 파장이고, 상기 상쇄간섭부가 상기 봉지 부재의 하부에 배치되는 경우 상기 수학식 2에서 n1은 상기 제1 광투과 금속함유층의 굴절률이고, n2는 상기 제1 광투과 유전체층의 굴절률이며, d1은 상기 제1 광투과 금속함유층의 두께이고, d2는 상기 제1 광투과 유전체층의 두께이며, λ는 외광의 파장이다.)
  9. 제4 항에 있어서,
    상기 차단층은 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 은(Ag), 티타늄(Ti), 카본 블랙 및 산화구리(CuO) 중 선택된 어느 하나로 형성되며, 50nm 이상의 두께를 가지는 발광 표시 장치.
  10. 제4 항에 있어서,
    상기 상쇄간섭부가 상기 봉지 부재의 하부에 배치되는 경우 상기 봉지 부재와 제1 광투과 금속함유층 사이에 제3 광투과 유전체층이 형성되고, 상기 봉지 부재와 제1 광차단 금속함유층 사이에 제3 광차단 유전체층이 형성되며,
    상기 제3 광투과 유전체층과 제3 광차단 유전체층은 동일한 두께를 가지며 동일한 물질로 형성되는 발광 표시 장치.
  11. 화소 영역과 비화소 영역을 포함하는 표시 기판;
    상기 표시 기판의 상부에 배치되는 봉지 부재; 및
    상기 봉지 부재 상에 배치되는 상쇄간섭부를 포함하고,
    상기 상쇄간섭부는 상기 비화소 영역에 대응되고 상기 봉지 부재로부터 가장 가깝거나 가장 멀게 배치된 차단층을 더 포함하며,
    상기 상쇄간섭부는 서로 교대로 적층된 복수의 금속함유층과 복수의 유전체층을 포함하되, 상기 상쇄 간섭부의 외부로부터 입사하는 외광으로부터 반사되는 반사광들을 서로 상쇄 간섭이 일어나도록 하여 소멸시키도록 구성되고,
    상기 차단층은 상기 상쇄 간섭부의 외부로부터 입사하는 주변 광을 흡수하도록 구성된 발광 표시 장치.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 상쇄간섭부는
    상기 봉지 부재 상에 형성되는 제1 금속함유층;
    상기 제1 금속함유층 상에 형성되는 제1 유전체층;
    상기 제1 유전체층 상에 형성되는 제2 금속함유층;
    상기 제2 금속함유층 상에 형성되는 제2 유전체층; 및
    상기 차단층은 상기 봉지 부재와 상기 제1 금속함유층 사이 또는 상기 제2 유전체층 상에 형성되며, 상기 비화소 영역에 대응되는 발광 표시 장치.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 제1 금속함유층 및 제2 금속함유층 각각은 굴절률이 1.5 내지 7 사이이고, 흡수 계수가 1.5 내지 7 사이의 금속 함유 물질로 형성되며,
    상기 제1 유전체층 및 제2 유전체층 각각은 산화실리콘(SiO2), 산화티타늄(TiO2), 불소화리튬(LiF), 불화칼슘(CaF2), 불화마그네슘(MaF2), 질화실리콘(SiNx), 산화탄탈륨(Ta2O5), 산화나이오븀(Nb2O5), 실리콘카본나이트라이드(SiCN), 산화몰리브덴(MoOx), 산화철(FeOx) 및 산화크롬(CrOx) 중 선택된 어느 하나로 형성되고,
    상기 제1 금속함유층 및 제2 금속함유층 각각의 두께는 하기 수학식 1을 만족하는 두께로 설정되는 발광 표시 장치.
    수학식 1: d1 ≤ 0.6λ/2πn1k1
    (단, d1은 상기 제1 금속함유층 및 제2 금속함유층 각각의 두께이며, λ는 외광의 파장이고, n1은 상기 제1 금속함유층 및 제2 금속함유층 각각의 굴절률이며, k1은 상기 제1 금속함유층 및 제2 금속함유층 각각의 흡수 계수이다.)
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 제1 금속함유층 및 제2 금속함유층 각각은 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 코발트(Co), 산화구리(CuO), 질화티타늄(TiNx) 및 황화니켈(NiS) 중 선택된 어느 하나로 형성되는 발광 표시 장치.
  15. 제13 항에 있어서,
    상기 제1 유전체층은 하기 수학식 2를 만족하는 두께를 가지는 발광 표시 장치.
    수학식 2: (n1d1)+(n2d2) = λ/4
    (단, 상기 상쇄간섭부가 상기 봉지 부재의 상부에 배치되는 경우 상기 수학식 2에서 n1은 상기 제2 금속함유층의 굴절률이고, n2는 상기 제1 유전체층의 굴절률이며, d1은 상기 제2 금속함유층의 두께이고, d2는 상기 제1 유전체층의 두께이며, λ는 외광의 파장이고, 상기 상쇄간섭부가 상기 봉지 부재의 하부에 배치되는 경우 상기 수학식 2에서 n1은 상기 제1 금속함유층의 굴절률이고, n2는 상기 제1 유전체층의 굴절률이며, d1은 상기 제1 금속함유층의 두께이고, d2는 상기 제1 유전체층의 두께이며, λ는 외광의 파장이다.)
  16. 제12 항에 있어서,
    상기 차단층은 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 은(Ag), 티타늄(Ti), 카본 블랙 및 산화구리(CuO) 중 선택된 어느 하나로 형성되며, 50nm 이상의 두께를 가지는 발광 표시 장치.
  17. 제11 항에 있어서,
    상기 상쇄간섭부가 상기 봉지 부재의 하부에 배치되는 경우 상기 봉지 부재와 제1 금속함유층 사이에 제3 유전체층이 더 형성되는 발광 표시 장치.
  18. 화소 영역과, 비화소 영역을 포함하는 표시 기판을 준비하는 단계; 및
    봉지 부재 상에 서로 교대로 적층되는 복수의 금속함유층과 복수의 유전체층을 포함하되, 상기 비화소 영역에 대응되고 상기 봉지 부재로부터 가장 가깝거나 가장 멀게 배치되는 차단층을 더 포함하는 상쇄간섭부를 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 상쇄 간섭부는 상기 상쇄 간섭부의 외부로부터 입사하는 외광으로부터 반사되는 반사광들을 서로 상쇄 간섭이 일어나도록 하여 소멸시키도록 구성되고,
    상기 차단층은 상기 상쇄 간섭부의 외부로부터 입사하는 주변 광을 흡수하도록 구성된 발광 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 상쇄간섭부를 형성하는 단계는
    상기 봉지 부재 상에 제1 금속함유층과, 상기 제1 금속함유층 상에 제1 유전체층과, 상기 제1 유전체층 상에 제2 금속함유층과, 상기 제2 금속함유층 상에 형성되는 제2 유전체층과, 상기 봉지 부재와 상기 제1 금속함유층 사이 또는 상기 제2 유전체층 상에서 상기 비화소 영역에 대응하여 상기 차단층을 형성하는 과정을 포함하는 발광 표시 장치의 제조 방법.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 상쇄간섭부를 형성하는 단계는
    상기 봉지 부재와 상기 제1 금속함유층 사이에 상기 차단층을 형성하는 경우, 상기 봉지 부재의 상부에 전면적으로 차단 물질을 도포하고 패터닝하여 상기 차단층을 형성하는 과정과, 상기 차단층을 덮도록 상기 봉지 부재의 상부에 전면적으로 제1 금속함유 물질을 도포하여 상기 제1 금속함유층을 형성하는 과정을 포함하며,
    상기 제2 유전체층 상에 상기 차단층을 형성하는 경우, 상기 제2 유전체층의 하부에 전면적으로 상기 차단물질을 도포하고 패터닝하여 상기 차단층을 형성하는 과정을 포함하는 발광 표시 장치의 제조 방법.
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