KR102125160B1 - Coated wire - Google Patents

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KR102125160B1
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진 즈히 리아오
시 즈항
아비토 다닐라 바야라스
수레쉬쿠마르 비노바지
예 원 림
체 웨이 톡
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헤라우스 매터리얼즈 싱가포르 피티이 엘티디
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Abstract

표면을 갖는 와이어 코어를 포함하는 와이어로서, 와이어 코어는, 자체의 표면 상에 중첩되는 코팅 층을 구비하고, 와이어 코어 자체는:
(a) 0.1 내지 0.3 중량%의 양의 은,
(b) 99.64 내지 99.9 중량%의 범위 내의 양의 구리,
(c) 0 내지 100 중량 ppm의 범위 내의 양의 인, 및
(d) 0 내지 500 중량 ppm의 범위 내의 양의 추가적 성분들(은, 구리 및 인과 상이한 성분들),
을 포함하며,
임의의 추가적 성분의 개별적인 양은, 30 중량 ppm 미만이고,
중량% 및 중량 ppm 단위의 모든 양들은, 코어의 총 중량에 기초하며, 그리고
코팅 층은, 팔라듐의 내측 층 및 금의 인접한 외측 층을 포함하는 이중-층이고,
내측 팔라듐 층의 중량은, 와이어 코어의 중량과 비교하여, 1.5 내지 2.5 중량%의 범위 이내이며, 그리고
외측 금 층의 중량은, 와이어 코어의 중량과 비교하여, 0.09 내지 0.18 중량%의 범위 이내인 것인, 와이어가 제공된다.
A wire comprising a wire core having a surface, the wire core having a coating layer superimposed on its surface, the wire core itself:
(a) silver in an amount of 0.1 to 0.3% by weight,
(b) copper in an amount in the range of 99.64 to 99.9% by weight,
(c) phosphorus in an amount ranging from 0 to 100 ppm by weight, and
(d) additional components in amounts ranging from 0 to 500 ppm by weight (different components from silver, copper and phosphorus),
It includes,
The individual amount of any additional component is less than 30 ppm by weight,
All amounts in weight percent and ppm by weight are based on the total weight of the core, and
The coating layer is a double-layer comprising an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold,
The weight of the inner palladium layer is within the range of 1.5 to 2.5% by weight, compared to the weight of the wire core, and
A wire is provided, wherein the weight of the outer gold layer is within the range of 0.09 to 0.18% by weight, compared to the weight of the wire core.

Description

코팅된 와이어Coated wire

본 발명은, 구리-계열 코어 및 코어의 표면에 중첩되는 코팅 층을 포함하는 코팅된 와이어에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 그러한 코팅된 와이어를 제조하기 위한 공정에 관한 것이다.The present invention relates to a coated wire comprising a copper-based core and a coating layer superimposed on the surface of the core. The invention also relates to a process for making such coated wire.

전자 및 미세전자 적용들에서의 본딩 와이어들의 사용은, 잘 알려진 종래기술이다. 본딩 와이어들은 초기에 금으로 제조되었던 가운데, 요즘은, 구리, 구리 합금들, 은 및 은 합금들과 같은, 덜 비싼 재료들이 사용된다. 그러한 와이어들은, 금속 코팅을 구비할 수 있을 것이다. The use of bonding wires in electronic and microelectronic applications is a well-known prior art. Bonding wires were initially made of gold, but nowadays, less expensive materials such as copper, copper alloys, silver and silver alloys are used. Such wires may be provided with a metal coating.

와이어 기하형상에 대하여, 가장 일반적인 것은, 원형 단면의 본딩 와이어들 및 대략 직사각형 단면을 구비하는 본딩 리본들이다. 양 유형의 와이어 기하형상들은, 특정 적용을 위해 유용하도록 하는 그들의 이점들을 구비한다.For wire geometries, the most common are bonding wires of circular cross section and bonding ribbons having a substantially rectangular cross section. Both types of wire geometries have their advantages making them useful for a particular application.

본 발명의 목적은, 와이어 본딩 적용에서의 사용에 적합한 코팅된 구리 합금 와이어로서, 와이어는 특히, 무 공기 볼(free air ball: FAB), 내식성, OCB(오프 센터 볼), 제2 본드 윈도우의 형태에 관해 개선되지만, 예를 들어 FAB 등에서의 코팅 재료들의 분포를 포함하는 와이어 및 와이어의 본딩 적용들에 관련되는 전반적으로 잘 균형 잡힌 특성 스펙트럼을 또한 나타내는 것인, 코팅된 구리 합금 와이어를 제공하는 것이다.The object of the present invention is a coated copper alloy wire suitable for use in wire bonding applications, wherein the wire is, inter alia, of free air ball (FAB), corrosion resistance, OCB (off center ball), second bond window. To provide a coated copper alloy wire that is improved in morphology but also exhibits a generally well balanced property spectrum related to the wire and bonding applications of the wire, including, for example, distribution of coating materials in FAB, etc. will be.

상기 목적의 해결책에 대한 기여가, 카테고리 형성 청구항들의 대상에 의해 제공된다. 카테고리 형성 청구항들의 종속적 하위 청구항들은, 본 발명의 바람직한 실시예들을 나타내며, 그의 대상은 또한 이상에 언급된 목적을 해결하는데 기여한다.The contribution to the solution of the above object is provided by the subject matter of the category forming claims. The dependent sub-claims of the category-forming claims represent preferred embodiments of the invention, the subject of which also contributes to solving the object mentioned above.

제1 양태에서, 본 발명은, 표면을 갖는 와이어 코어(이하에서 또한 짧게 "코어"로 지칭됨)를 포함하는 와이어로서, 와이어 코어는, 자체의 표면 상에 중첩되는 코팅 층을 구비하고, 와이어 코어 자체는:In a first aspect, the present invention is a wire comprising a wire core having a surface (hereinafter also referred to as "core" for short), the wire core having a coating layer superimposed on its surface, and the wire The core itself is:

(a) 0.1 내지 0.3 중량%의, 바람직하게 0.2 중량%의, 양의 은,(a) 0.1 to 0.3% by weight, preferably 0.2% by weight, of positive silver,

(b) 99.64 내지 99.9 중량%의, 바람직하게 99.7 내지 99.9 중량%의, 또는 더욱 더 바람직하게 99.75 내지 99.85 중량%의, 범위 내의 양의 구리,(b) 99.64 to 99.9% by weight, preferably 99.7 to 99.9% by weight, or even more preferably 99.75 to 99.85% by weight, copper in an amount within the range,

(c) 0 내지 100 중량 ppm의, 바람직하게 50 내지 100 중량 ppm, 더욱 바람직하게 70 내지 80 중량 ppm의, 범위 내의, 특히 75 중량 ppm의 양의 인, 및 (c) phosphorus in an amount of 0 to 100 ppm by weight, preferably 50 to 100 ppm by weight, more preferably 70 to 80 ppm by weight, in particular in the range of 75 ppm by weight, and

(d) 0 내지 500 중량 ppm의, 바람직하게 0 내지 100 중량 ppm의, 범위 내의 양의 추가적 성분들(은, 구리 및 인과 상이한 성분들),(d) 0 to 500 ppm by weight, preferably 0 to 100 ppm by weight, of additional components in the range (components different from silver, copper and phosphorus),

을 포함하며,It includes,

임의의 추가적 성분의 개별적인 양은, 30 중량 ppm 미만이고,The individual amount of any additional component is less than 30 ppm by weight,

중량% 및 중량 ppm 단위의 모든 양들은, 코어의 총 중량에 기초하며, 그리고All amounts in weight percent and ppm by weight are based on the total weight of the core, and

코팅 층은, 팔라듐의 내측 층(하부 층) 및 금의 인접한 외측 층(상부 층)을 포함하는 이중-층이고,The coating layer is a double-layer comprising an inner layer of palladium (lower layer) and an adjacent outer layer of gold (upper layer),

내측 팔라듐 층의 중량은, 와이어 코어의 중량과 비교하여, 1.5 내지 2.5 중량%의 범위 이내이며, 그리고The weight of the inner palladium layer is within the range of 1.5 to 2.5% by weight, compared to the weight of the wire core, and

외측 금 층의 중량은, 와이어 코어의 중량과 비교하여, 0.09 내지 0.18 중량%의 범위 이내인 것인, 와이어에 관한 것이다.The weight of the outer gold layer relates to the wire, which is within the range of 0.09 to 0.18% by weight, compared to the weight of the wire core.

뒤따르는 표는, 와이어 코어의 조성에 대한 일부 바람직한 실시예들을 열거한다:The table that follows lists some preferred embodiments of the composition of the wire core:

Figure 112018077864870-pct00001
Figure 112018077864870-pct00001

본 발명의 와이어는 바람직하게, 마이크로일렉트로닉스에서의 본딩을 위한 본딩 와이어이다. 이는 바람직하게, 단일 조각 물체이다. 수많은 형상들이 공지되며 그리고 본 발명의 와이어들에 대해 유용하다. 바람직한 형상들은, 단면도에서, 원형, 타원형 및 직사각형이다. 발명을 위해, 용어 "본딩 와이어"는, 비록 원형 단면 및 얇은 직경들을 갖는 본딩 와이어들이 바람직하지만, 모든 형상의 단면들 및 모든 사용 가능한 와이어 직경을 포함한다. 평균 단면적은, 예를 들어, 50 내지 5024 ㎛2 또는 바람직하게 113 내지 2375 ㎛2의 범위 이내이고; 그에 따라, 바람직한 원형 단면의 경우에, 평균 직경은, 예를 들어, 8 내지 80 ㎛ 또는 바람직하게 12 내지 55 ㎛의 범위 이내이다. The wire of the present invention is preferably a bonding wire for bonding in microelectronics. It is preferably a single piece object. Numerous shapes are known and are useful for the wires of the present invention. Preferred shapes are circular, elliptical and rectangular in cross section. For the purposes of the invention, the term "bonding wire" includes all shapes of cross-sections and all available wire diameters, although bonding wires with circular cross-sections and thin diameters are preferred. The average cross-sectional area is, for example, in the range of 50 to 5024 μm 2 or preferably 113 to 2375 μm 2 ; Thus, in the case of a preferred circular cross section, the average diameter is, for example, within the range of 8 to 80 μm or preferably 12 to 55 μm.

와이어 또는 와이어 코어의 평균 직경 또는, 간단히 기술하면, 직경은, "크기 결정 방법"에 의해 달성될 수 있다. 이러한 방법에 따라, 한정된 길이에 대한 와이어의 물리적 중량이 결정된다. 이러한 중량에 기초하여, 와이어 또는 와이어 코어의 직경이, 와이어 재료의 밀도를 사용하여 계산된다. 직경은, 특정 와이어의 5개의 절편에 관한 5개의 측정값의 산술 평균으로서 계산된다.The average diameter of a wire or wire core, or simply stated, the diameter can be achieved by a “sizing method”. In this way, the physical weight of the wire for a defined length is determined. Based on this weight, the diameter of the wire or wire core is calculated using the density of the wire material. The diameter is calculated as the arithmetic mean of five measurements for five sections of a particular wire.

상기한 바와 같이, 와이어 코어는, 상기한 비례 비율의, (a) 은, (b) 구리 및 (c) 인을 포함한다. 그러나, 본 발명의 코팅된 와이어의 은 합금된 구리 코어는, (d) 0 내지 500 중량 ppm의, 바람직하게 0 내지 100 중량 ppm의 총량의 추가적 성분들을 포함할 수 있을 것이다. 제시된 맥락에서, 흔히 "불가피한 불순물들"로도 지칭되는, 추가적 성분들은, 미소 양들의, 사용되는 원재료들 내에 존재하는 불순물들로부터 또는 와이어 제조 공정으로부터 유래되는, 화학적 원소들 및/또는 화합물들이며, 즉, (d) 유형의 추가적 성분들의 존재는, 예를 들어, 은 및/또는 구리에 내재하는 불순물들로부터 유래된다. 그러한 추가적 성분들의 예들은, Au, Ni, Pd, Pt, Fe, Si, Mn, Cr, Ce, Mg, La, Al, B, Zr, Ti, S, 등이다. 추가적 성분들(d)의 0 내지 500 중량 ppm 또는 심지어 0 내지 100 중량 ppm의 낮은 총량은, 와이어 특성들의 우수한 재현성을 보장한다. 코어 내에 존재하는 추가적 성분들(d)은, 일반적으로 별개로 부가되지 않는다. 각각의 개별적인 추가적 성분은, 와이어 코어의 총 중량에 기초하여, 30 중량 ppm 미만의 양으로 포함된다.As described above, the wire core includes (a) silver, (b) copper, and (c) phosphorus in the proportions described above. However, the silver alloyed copper core of the coated wire of the present invention may comprise (d) 0 to 500 ppm by weight, preferably 0 to 100 ppm by weight of additional components. In the presented context, additional components, often also referred to as "inevitable impurities", are chemical elements and/or compounds, derived from the wires in the raw materials used or from impurities present in the raw materials used, or chemical compounds, ie The presence of additional components of type (d), for example, is derived from impurities inherent in silver and/or copper. Examples of such additional components are Au, Ni, Pd, Pt, Fe, Si, Mn, Cr, Ce, Mg, La, Al, B, Zr, Ti, S, etc. The low total amount of 0 to 500 ppm by weight or even 0 to 100 ppm by weight of the additional components (d) ensures good reproducibility of the wire properties. The additional components (d) present in the core are generally not added separately. Each individual additional component is included in an amount of less than 30 ppm by weight, based on the total weight of the wire core.

와이어의 코어는, 벌크 재료의 균질 영역이다. 임의의 벌크 재료는 항상 어느 정도까지 상이한 특성들을 보일 수 있는 표면 영역을 구비할 수 있기 때문에, 와이어의 코어의 특성들은, 벌크 재료의 균질 영역의 특성들로서 이해된다. 벌크 재료 영역의 표면은, 형태(morphology), 조성(예를 들어, 황, 염소 및/또는 산소 함량) 및 다른 특징들의 관점에서, 상이할 수 있다. 표면은, 와이어 코어와 와이어 코어 상에 중첩되는 코팅 층 사이의 계면 영역이다. 전형적으로, 코팅 층은, 와이어 코어의 표면 상에 완전히 중첩된다. 와이어 코어와 그 위에 중첩되는 코팅 층 사이의 와이어의 영역에서, 코어 및 코팅 층 양자 모두의 재료들의 조합이, 존재할 수 있다.The core of the wire is a homogeneous region of bulk material. Since any bulk material can always have a surface area that can exhibit to some extent different properties, the properties of the core of the wire are understood as the properties of the homogeneous area of the bulk material. The surface of the bulk material region may be different in terms of morphology, composition (eg, sulfur, chlorine and/or oxygen content) and other features. The surface is the interface region between the wire core and the coating layer superimposed on the wire core. Typically, the coating layer completely overlaps the surface of the wire core. In the region of the wire between the wire core and the overlying coating layer, a combination of materials of both the core and the coating layer may be present.

와이어의 표면 상에 중첩되는 코팅 층은, 팔라듐의 내측 층 및 금의 인접한 외측 층을 포함하는 이중-층이다. 내측 팔라듐 층의 중량은, 와이어 코어의 중량과 비교하여, 1.5 내지 2.5 중량%의 범위 이내이며, 그리고 외측 금 층의 중량은, 와이어 코어의 중량과 비교하여, 0.09 내지 0.18 중량%의 범위 이내이다. 내측 팔라듐 층뿐만 아니라 외측 금 층 양자 모두, 얇은 층들이다. 이러한 맥락에서, 용어 "얇은", "두꺼운" 또는 "코팅 층 두께"는, 코어의 종방향 축에 수직인 방향으로의 코팅 층의 크기를 의미한다. 50 내지 5024 ㎛2의 상기한 예시적 범위 내의 평균 단면적을 갖는 와이어들에 대해, 또는 8 내지 80 ㎛의 상기한 예시적 범위 내의 평균 직경을 갖는 원형 와이어들에 대해, 내측 팔라듐 층은, 예를 들어, 20 내지 350 nm, 바람직하게 30 내지 340 nm의 범위 내의 두께를 가질 수 있으며, 그리고 외측 금 층의 두께는, 예를 들어, 1 내지 25 nm, 바람직하게 2 내지 20 nm의 범위 이내일 수 있을 것이다. 18 ㎛의 직경을 갖는 원형 와이어의 예시적인 실시예에서, 내측 팔라듐 층은, 예를 들어, 60 내지 90 nm의 범위 내의 두께를 가질 수 있으며, 그리고 외측 금 층의 두께는, 예를 들어, 1 내지 10 nm, 바람직하게 2 내지 6 nm의 범위 이내일 수 있을 것이다.The coating layer superimposed on the surface of the wire is a double-layer comprising an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold. The weight of the inner palladium layer is within the range of 1.5 to 2.5% by weight, compared to the weight of the wire core, and the weight of the outer gold layer is within the range of 0.09 to 0.18% by weight, compared to the weight of the wire core. . Both the inner palladium layer as well as the outer gold layer are thin layers. In this context, the terms “thin”, “thick” or “coating layer thickness” refer to the size of the coating layer in a direction perpendicular to the longitudinal axis of the core. For wires having an average cross-sectional area within the above-described exemplary range of 50 to 5024 μm 2 , or for circular wires having an average diameter within the above-described exemplary range of 8 to 80 μm, the inner palladium layer is, for example For example, it may have a thickness in the range of 20 to 350 nm, preferably 30 to 340 nm, and the thickness of the outer gold layer may be, for example, within the range of 1 to 25 nm, preferably 2 to 20 nm. There will be. In an exemplary embodiment of a circular wire having a diameter of 18 μm, the inner palladium layer can have a thickness in the range of, for example, 60 to 90 nm, and the thickness of the outer gold layer, for example, 1 To 10 nm, preferably 2 to 6 nm.

상기 이중-층의 조성과 관련하여, 이중-층의 내측 층의 팔라듐 함량은, 예를 들어, 내측 코팅 층의 총 중량에 기초하여, 적어도 50 중량%, 바람직하게 적어도 95 중량%이다. 특히 바람직하게, 내측 코팅 층은, 순수 팔라듐으로 이루어진다. 순수 팔라듐은, 일반적으로, 내측 코팅 층의 총 중량에 기초하여, 1 중량% 미만의 추가적 성분들(팔라듐과 상이한 성분)을 갖는다. 인접한 외측 금 층의 금 함량은, 예를 들어, 외측 코팅 층의 총 중량에 기초하여, 적어도 50 중량%, 바람직하게 적어도 95 중량%이다. 특히 바람직하게, 외측 코팅 층은, 순수 금으로 이루어진다. 순수 금은, 일반적으로, 외측 코팅 층의 총 중량에 기초하여, 1 중량% 미만의 추가적 성분들(금과 상이한 성분)을 갖는다.With respect to the composition of the double-layer, the palladium content of the inner layer of the double-layer is, for example, at least 50% by weight, preferably at least 95% by weight, based on the total weight of the inner coating layer. Especially preferably, the inner coating layer is made of pure palladium. Pure palladium generally has less than 1% by weight of additional components (different from palladium), based on the total weight of the inner coating layer. The gold content of the adjacent outer gold layer is, for example, at least 50% by weight, preferably at least 95% by weight, based on the total weight of the outer coating layer. Particularly preferably, the outer coating layer is made of pure gold. Pure gold generally has less than 1% by weight of additional components (components different from gold), based on the total weight of the outer coating layer.

실시예에서, 본 발명의 와이어의 코어는, 적어도 뒤따르는 고유 특성들 (i) 내지 (iii) 중의 하나에 의해 특징지어진다(이하에 설명되는 바와 같은 "시험 방법 A"를 참조): In an embodiment, the core of the wire of the present invention is characterized by at least one of the following intrinsic properties (i) to (iii) (see "Test Method A" as described below):

(i) 종단 방향(와이어 코어의 종단 방향)에서 측정되는, 평균 와이어 입자 크기(평균 입자 크기)는, 3 내지 6 ㎛이고, (i) The average wire particle size (average particle size), measured in the longitudinal direction (the longitudinal direction of the wire core), is 3 to 6 µm,

(ii) 종단 방향에서 측정되는 평균 입자 크기와 와이어 코어의 직경의 비율은, 0.05 내지 0.25, 바람직하게 0.1 내지 0.20의 범위 이내이며,(ii) The ratio of the average particle size and the diameter of the wire core measured in the longitudinal direction is within the range of 0.05 to 0.25, preferably 0.1 to 0.20,

(iii) 종단 방향에서 측정되는 코어의 평균 입자 크기에 대한 평균 입자 크기의 표준 편차 비율(RSD)은, 0.1 내지 0.4의 범위 이내이다.(iii) The standard deviation ratio (RSD) of the average particle size to the average particle size of the core measured in the longitudinal direction is within a range of 0.1 to 0.4.

용어 "고유 특성"은, 본 명세서에서 와이어 코어에 관해 사용된다. 고유 특성들은, (다른 인자들과 무관하게) 와이어 코어 자체가 갖는, 특성들을 의미한다. 고유 특성에 반대되는 외적 특성들은, 사용되는 측정 조건 및/또는 측정 방법과 같은, 다른 인자들과의 와이어 코어의 관계에 의존한다.The term "unique property" is used herein for a wire core. Intrinsic properties refer to the properties of the wire core itself (regardless of other factors). External properties as opposed to intrinsic properties depend on the relationship of the wire core with other factors, such as the measurement conditions and/or measurement method used.

다른 양태에서, 본 발명은 또한, 이하에 개시되는 실시예들 중의 임의의 것에서의 본 발명의 코팅된 와이어의 제조를 위한 공정에 관련된다. 공정은 적어도, 뒤따르는 단계 (1) 내지 단계 (5)를 포함한다:In another aspect, the invention also relates to a process for the manufacture of the coated wire of the invention in any of the embodiments disclosed below. The process includes at least steps (1) to (5) that follow:

(1) 요구되는 조성의 전구체 물체를 제공하는 단계로서, 즉(1) providing a precursor object of the desired composition, i.e.

(a) 0.1 내지 0.3 중량%의, 바람직하게 0.2 중량%의, 양의 은,(a) 0.1 to 0.3% by weight, preferably 0.2% by weight, of positive silver,

(b) 99.64 내지 99.9 중량%의, 바람직하게 99.7 내지 99.9 중량%의, 또는 더욱 더 바람직하게 99.75 내지 99.85 중량%의, 범위 내의 양의 구리,(b) 99.64 to 99.9% by weight, preferably 99.7 to 99.9% by weight, or even more preferably 99.75 to 99.85% by weight, copper in an amount within the range,

(c) 0 내지 100 중량 ppm의, 바람직하게 50 내지 100 중량 ppm, 더욱 바람직하게 70 내지 80 중량 ppm의, 범위 내의, 특히 75 중량 ppm의 양의 인, 및 (c) phosphorus in an amount of 0 to 100 ppm by weight, preferably 50 to 100 ppm by weight, more preferably 70 to 80 ppm by weight, in particular in the range of 75 ppm by weight, and

(d) 0 내지 500 중량 ppm의, 바람직하게 0 내지 100 중량 ppm의, 범위 내의 양의 추가적 성분들(은, 구리 및 인과 상이한 성분들)로 이루어지며,(d) 0 to 500 ppm by weight, preferably 0 to 100 ppm by weight, in an amount in the range consisting of additional components (components different from silver, copper and phosphorus),

임의의 추가적 성분의 개별적인 양은, 30 중량 ppm 미만이고,The individual amount of any additional component is less than 30 ppm by weight,

여기서 중량% 및 중량 ppm 단위의 모든 양들은, 전구체 물체의 총중량에 기초하는 것인, 전구체 물체를 제공하는 단계;Wherein all amounts in weight percent and ppm by weight are based on the total weight of the precursor object, providing a precursor object;

(2) 5024 내지 70650 ㎛2의 범위 내의 중간 단면적 및 80 내지 300 ㎛의, 바람직하게 130 내지 230 ㎛의 범위 내의 중간 직경이, 달성될 때까지, 신장된 전구체 물체를 형성하기 위해 전구체 물체를 신장시키는 단계,(2) stretching the precursor object to form an elongated precursor object, until an intermediate cross-sectional area in the range of 5024 to 70650 μm 2 and an intermediate diameter in the range of 80 to 300 μm, preferably in the range of 130 to 230 μm, is achieved Prescribing steps,

(3) 공정 단계 (2)의 완료 이후에 획득되는 신장된 전구체 물체의 표면 상에, 팔라듐의 내측 층(하부 층) 및 금의 인접한 외측 층(상부 층)의 이중-층 코팅을 성막하는 단계,(3) depositing a double-layer coating of the inner layer of palladium (lower layer) and the adjacent outer layer of gold (upper layer) on the surface of the elongated precursor object obtained after completion of process step (2). ,

(4) 요구되는 최종 단면적 또는 직경이 달성될 때까지, 공정 단계 (3)의 완료 이후에 획득되는 코팅된 전구체 물체를 추가로 신장시키는 단계, 및(4) further stretching the coated precursor object obtained after completion of process step (3) until the required final cross-sectional area or diameter is achieved, and

(5) 공정 단계 (4)의 완료 이후에 획득되는 코팅된 전구체를, 코팅된 와이어를 형성하기 위해 0.1 내지 3초의 범위 이내의 노출 시간 동안 450 내지 650 ℃의 범위 내의 오븐 설정 온도에서, 최종적으로 가닥 어닐링(strand annealing)하는 단계.(5) The coated precursor obtained after completion of the process step (4), finally at an oven set temperature in the range of 450 to 650° C. for an exposure time within the range of 0.1 to 3 seconds to form a coated wire, finally Strand annealing.

용어 "가닥 어닐링"이 본 명세서에서 사용된다. "일괄 어닐링(batch annealing)"과 반대되는 것으로서, 이는, 높은 재현성을 갖는 와이어의 고속 생산을 허용하는 연속적 공정이다. 본 발명의 맥락에서, 가닥 어닐링은, 어닐링이, 어닐링될 코팅된 전구체가 통상적인 어닐링 오븐을 통해 당겨지거나 이동되며 그리고 어닐링 오븐을 떠난 이후에 릴(reel) 상에 감기게 되는 가운데, 동적으로 실행된다는 것을 의미한다. 여기서, 어닐링 오븐은 전형적으로, 주어진 길이의 원통형 튜브의 형태이다. 예를 들어, 10 내지 60 미터/분의 범위 내에서 선택될 수 있는 주어진 어닐링 속도에서의 자체의 규정된 온도 윤곽과 더불어, 어닐링 시간/오븐 온도 파라미터들이, 규정되고 설정될 수 있다.The term "strand annealing" is used herein. As opposed to "batch annealing," this is a continuous process that allows high-speed production of wires with high reproducibility. In the context of the present invention, strand annealing is performed dynamically, while annealing is wound on a reel after the coated precursor to be annealed is pulled or moved through a conventional annealing oven and after leaving the annealing oven. It means Here, the annealing oven is typically in the form of a cylindrical tube of a given length. For example, annealing time/oven temperature parameters can be defined and set, along with their defined temperature profile at a given annealing speed, which can be selected within a range of 10 to 60 meters/minute.

용어 "오븐 설정 온도"가 본 명세서에서 사용된다. 이는, 어닐링 오븐의 온도 컨트롤러에서 고정되는 온도를 의미한다. The term "oven set temperature" is used herein. This means the temperature fixed by the temperature controller of the annealing oven.

어닐링 오븐은, (일괄 어닐링의 경우에서) 챔버 노 유형 오븐(chamber furnace type oven) 또는 (가닥 어닐링의 경우에서) 튜브형 어닐링 오븐일 수 있을 것이다.The annealing oven may be a chamber furnace type oven (in the case of collective annealing) or a tubular annealing oven (in the case of strand annealing).

본 개시는, 전구체 물체, 신장된 전구체 물체, 코팅된 전구체 물체, 코팅된 전구체 및 코팅된 와이어를 구별한다. 용어 "전구체 물체"는, 와이어 코어의 요구되는 최종 단면적 또는 최종 직경에 도달하지 못한 그러한 와이어 사전 단계들에 대해 사용되는 가운데, 용어 "전구체"는 요구되는 최종 단면적 또는 요구되는 최종 직경에서의 와이어 사전 단계에 대해 사용된다. 공정 단계 (5)의 완료 이후에, 즉 요구되는 최종 단면적 또는 요구되는 최종 직경에서의 코팅된 전구체의 최종 가닥 어닐링 이후에, 본 발명의 의미에서의 코팅된 와이어가 획득된다.This disclosure distinguishes precursor objects, elongated precursor objects, coated precursor objects, coated precursors and coated wires. The term “precursor object” is used for those wire pre-steps where the required final cross-sectional area or final diameter of the wire core has not been reached, while the term “precursor” is the wire dictionary at the final cross-sectional area required or final diameter required. Used for steps. After completion of process step (5), i.e. after final strand annealing of the coated precursor at the required final cross-sectional area or final diameter required, a coated wire in the sense of the present invention is obtained.

공정 단계 (1)에서 제공되는 바와 같은 전구체 물체가, 요구되는 양의 은으로 그리고, 선택적이지만 바람직하게 또한 적절한 양의 인으로, 구리를 합금함/도핑함에 의해 획득될 수 있다. 구리 합금 자체는, 금속 합금의 분야의 당업자에게 공지된 통상적인 공정들에 의해, 예를 들어, 요구되는 비율의 구리, 은, 및 선택적인 인을 함께 용융시킴에 의해, 준비될 수 있다. 그렇게 함으로써, 모합금(master alloy)을 사용하는 것이 가능하다. 용융 공정은, 예를 들어, 유도로(induction furnace)를 사용하여 실행될 수 있으며, 그리고 이는 진공 하에서 또는 불활성 기체 분위기 하에서 작업하는 것이 적절하다. 사용되는 재료들은, 예를 들어, 99.99 중량% 및 그보다 위의 순도 등급을 구비할 수 있다. 그렇게 생성된 용융물은, 구리 기반 전구체 물체의 균질 조각을 형성하기 위해 냉각될 수 있다. 전형적으로, 그러한 전구체 물체는, 예를 들어, 2 내지 25 mm의 직경, 및 예를 들어, 2 내지 100 m의 길이를 갖는, 막대의 형태이다. 그러한 막대는, 적절한 금형 내에서 상기 구리 합금 용융물을 주조함에 의해, 그에 뒤따라 냉각 및 고화시킴에 의해, 제작될 수 있다.The precursor object as provided in process step (1) can be obtained by alloying/doping copper with the required amount of silver and, optionally but preferably also with an appropriate amount of phosphorus. The copper alloy itself can be prepared by conventional processes known to those skilled in the art of metal alloying, for example by melting together the required proportions of copper, silver, and optional phosphorus. In doing so, it is possible to use a master alloy. The melting process can be carried out, for example, using an induction furnace, which is suitable to work under vacuum or under an inert gas atmosphere. The materials used may have a purity rating of 99.99% by weight and above, for example. The resulting melt can be cooled to form a homogeneous piece of copper-based precursor object. Typically, such precursor objects are in the form of rods, for example with a diameter of 2 to 25 mm, and a length of, for example, 2 to 100 m. Such rods can be fabricated by casting the copper alloy melt in an appropriate mold, followed by cooling and solidifying.

공정 단계 (2)에서, 전구체 물체는, 5024 내지 70650 ㎛2의 범위 내의 중간 단면적 및 80 내지 300 ㎛의, 바람직하게 130 내지 230 ㎛의 범위 내의 중간 직경이, 달성될 때까지, 신장된 전구체 물체를 형성하기 위해 신장된다. 전구체 물체를 신장시키기 위한 기법들이, 공지되며, 그리고 본 발명의 맥락에서 유용하다. 바람직한 기법들은, 압연, 스웨이징(swaging), 다이 인발(die drawing) 또는 이와 유사한 것이며, 그들 중 다이 인발이 특히 바람직하다.In process step (2), the precursor object is elongated precursor object until an intermediate cross-sectional area in the range of 5024 to 70650 μm 2 and an intermediate diameter in the range of 80 to 300 μm, preferably in the range of 130 to 230 μm are achieved. It is stretched to form. Techniques for stretching a precursor object are known, and are useful in the context of the present invention. Preferred techniques are rolling, swaging, die drawing or the like, among which die drawing is particularly preferred.

후자의 경우에서, 전구체 물체는, 요구되는 중간 단면적 또는 요구되는 중간 직경이 도달될 때까지, 여러 공정 단계들에서 인발된다. 그러한 와이어 다이 인발 공정은, 당업자에게 잘 알려져 있다. 통상적인 텅스텐 탄화물 및 다이아몬드 인발 다이들(drawing dies)이, 사용될 수 있으며 그리고 통상적인 인발 윤활제들이 인발을 지지하기 위해 사용될 수 있을 것이다.In the latter case, the precursor object is drawn in various process steps until the required intermediate cross-sectional area or required intermediate diameter is reached. Such a wire die drawing process is well known to those skilled in the art. Conventional tungsten carbide and diamond drawing dies can be used and conventional drawing lubricants can be used to support the drawing.

본 발명의 공정의 단계 (2)는, 신장된 전구체 물체의 중간 어닐링에 대한 하나 이상의 부속 단계를 포함할 수 있을 것이다. 그러한 중간 어닐링은, 예를 들어, 0.5 내지 1 초의 노출 시간 동안, 예를 들어, 200 내지 650 ℃의 범위 이내의 오븐 설정 온도에서, 수행될 수 있을 것이다. 그러한 중간 어닐링은, 일반적으로, 가닥 어닐링 방법에 의해 실행된다.Step (2) of the process of the present invention may include one or more accessory steps for intermediate annealing of the elongated precursor object. Such intermediate annealing may be performed, for example, for an exposure time of 0.5 to 1 second, for example at an oven set temperature within the range of 200 to 650 °C. Such intermediate annealing is generally performed by a strand annealing method.

공정 단계 (3)에서, 팔라듐의 내측 층 및 금의 인접한 외측 층을 포함하는 이중-층 코팅이, 공정 단계 (2)의 종료 이후에 획득되는 신장된 전구체 물체의 표면 상에, 상기 표면 위에 코팅을 중첩시키도록, 성막된다. 당업자는, 내측 팔라듐 층 및 외측 금 층이, 내측 팔라듐 층의 중량이 신장된 전구체 물체의 중량과 비교하여 1.5 내지 2.5 중량%의 범위 내에 놓이도록, 그리고 외측 금 층의 중량이 신장된 전구체 물체의 중량과 비교하여 0.09 내지 0.18 중량%의 범위 내에 놓이도록, 성막된다는 것을, 이해할 것이다.In process step (3), a double-layer coating comprising an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold is coated over the surface, on the surface of the elongated precursor object obtained after the end of process step (2) It is formed, so as to overlap. Those skilled in the art will ensure that the inner palladium layer and the outer gold layer are within a range of 1.5 to 2.5% by weight compared to the weight of the inner palladium layer and the weight of the outer palladium layer, and It will be understood that the film is deposited so as to fall within the range of 0.09 to 0.18% by weight compared to the weight.

당업자는, 즉, 코팅된 전구체 물체를 최종적으로 신장시킨 이후에, 와이어의 실시예들에 대해 개시된 층 두께의 코팅을 최종적으로 획득하기 위한, 신장된 전구체 물체 상의 그러한 코팅의 두께를 어떻게 계산하는지를 안다. 당업자는, 구리 합금 표면 상에 실시예들에 따른 재료의 코팅 층을 형성하기 위한, 수많은 기법들을 안다. 바람직한 기법들이, 전해 도금 및 무전해 도금과 같은 도금, 스퍼터링, 이온 도금, 진공 증착 및 물리적 기상 증착과 같은 가스 상의 재료의 성막, 및 용융 재료의 성막이다. 본 발명의 맥락에서, 전해 도금이 바람직한 기법이다.One skilled in the art knows how to calculate the thickness of such a coating on an elongated precursor object, that is, after finally stretching the coated precursor object, to finally obtain a coating of the layer thickness disclosed for embodiments of the wire. . One skilled in the art knows numerous techniques for forming a coating layer of material according to embodiments on a copper alloy surface. Preferred techniques are plating such as electrolytic plating and electroless plating, sputtering, ion plating, deposition of gaseous materials such as vacuum deposition and physical vapor deposition, and deposition of molten materials. In the context of the present invention, electrolytic plating is the preferred technique.

공정 단계 (4)에서, 공정 단계 (3)의 완료 이후에 획득되는 코팅된 전구체 물체는, 와이어의 요구되는 최종 단면적 또는 직경이 달성될 때까지, 추가로 신장된다. 코팅된 전구체 물체를 신장시키기 위한 기법들은, 공정 단계 (2)의 개시에 관해 이상에 언급된 것과 같은, 동일한 신장 기법들이다.In process step (4), the coated precursor object obtained after completion of process step (3) is further stretched until the required final cross-sectional area or diameter of the wire is achieved. Techniques for stretching the coated precursor object are the same stretching techniques, as mentioned above for the initiation of process step (2).

공정 단계 (5)에서, 공정 단계 (4)의 완료 이후에 획득되는 코팅된 전구체는, 예를 들어, 0.3 내지 1초의 노출 시간 동안 450 내지 650 ℃의 범위 내의 오븐 설정 온도에서, 또는 바람직한 실시예에서, 0.3 내지 1초 동안 500 내지 600 ℃에서, 최종적으로 가닥 어닐링된다. 예시적인 실시예에서, 특히 약 18 ㎛의 직경을 갖는 와이어의 예시적인 실시예에서, 최종 가닥 어닐링은, 0.8초의 노출 시간 동안 530 ℃의 오븐 설정 온도에서, 실행될 수 있을 것이다. In process step (5), the coated precursor obtained after completion of process step (4) is, for example, at an oven set temperature in the range of 450 to 650° C. for an exposure time of 0.3 to 1 second, or a preferred embodiment At, 500 to 600° C. for 0.3 to 1 second, finally strand annealed. In an exemplary embodiment, particularly in an exemplary embodiment of a wire having a diameter of about 18 μm, final strand annealing may be performed at an oven set temperature of 530° C. for an exposure time of 0.8 seconds.

바람직한 실시예에서, 최종적으로 가닥 어닐링된 코팅된 전구체, 즉 여전히 뜨거운 코팅된 와이어는, 실시예에서, 하나 이상의 첨가물들을, 예를 들어 0 내지 1000 중량 ppm의 첨가물(들)을 함유할 수 있는, 물 내에서 담금질된다. 물 내에서의 담금질은, 즉각적으로 또는 신속하게, 즉 0.2 내지 0.6초 이내에, 최종적으로 가닥 어닐링된 코팅된 전구체를, 예를 들어 침지(dipping) 또는 적하(dripping)에 의해 공정 단계 (5)에서 경험한 온도로부터 실온까지, 냉각하는 것을 의미한다.In a preferred embodiment, the finally strand annealed coated precursor, ie the still hot coated wire, in an embodiment, may contain one or more additives, for example 0 to 1000 ppm by weight of additive(s), It is quenched in water. Quenching in water is performed immediately or quickly, i.e. within 0.2 to 0.6 seconds, and finally the strand annealed coated precursor is processed in process step (5), for example by dipping or dripping. It means cooling from the experienced temperature to room temperature.

공정 단계 (2)의 선택적 부속 단계 중간 어닐링 뿐만 아니라 공정 단계 (5)의 최종 가닥 어닐링도, 불활성 또는 환원 분위기에서 실행될 수 있을 것이다. 수많은 유형의 불활성 분위기들뿐만 아니라 환원 분위기들이, 당해 기술 분야에 공지되며 그리고 어닐링 오븐을 청소하기 위해 사용된다. 공지된 불활성 분위기들 중의, 질소 또는 아르곤이, 바람직하다. 공지된 환원 분위기들 중의, 수소가, 바람직하다. 다른 바람직한 환원 분위기가, 수소와 질소의 혼합물이다. 바람직한 수소와 질소의 혼합물은, 90 내지 98 체적%의 질소 및 그에 따른 2 내지 10 체적%의 수소이며, 여기서 체적%는 총 100 체적%이다. 바람직한 질소/수소의 혼합물은, 각각 혼합물의 총 체적에 기초하여, 93/7, 95/5 및 97/3 체적%/체적%이다. The optional sub-step intermediate annealing of process step (2) as well as the final strand annealing of process step (5) may be carried out in an inert or reducing atmosphere. A number of types of inert atmospheres as well as reducing atmospheres are known in the art and are used to clean the annealing oven. Of the known inert atmospheres, nitrogen or argon is preferred. Of the known reducing atmospheres, hydrogen is preferred. Another preferred reducing atmosphere is a mixture of hydrogen and nitrogen. Preferred mixtures of hydrogen and nitrogen are 90 to 98 volume percent nitrogen and thus 2 to 10 volume percent hydrogen, where the volume percent is a total of 100 volume percent. Preferred mixtures of nitrogen/hydrogen are 93/7, 95/5 and 97/3 volume%/volume%, respectively, based on the total volume of the mixture.

상기 유형들의 불활성 또는 환원 가스에 의한 청소(Purging)는 바람직하게, 10 내지 125 min-1의, 더욱 바람직하게 15 내지 90 min-1의, 가장 바람직하게 20 내지 50 min-1의, 범위 내에 놓이는, 가스 교환율(= 가스 유량[liter/min]: 내측 오븐 용적[liter])에서 실행된다.Purging with these types of inert or reducing gas preferably lies within the range of 10 to 125 min -1 , more preferably 15 to 90 min -1 , most preferably 20 to 50 min -1 , Gas exchange rate (= gas flow rate [liter/min]: inside oven volume [liter]).

공정 단계 (5) 그리고 선택적인 담금질의 완료 이후에, 본 발명의 코팅된 와이어가 완성된다. 그의 특성들로부터 완전히 이익을 얻기 위해, 와이어 본딩 적용들을 위해 즉시, 즉 지연 없이, 예를 들어 공정 단계 (5)의 완료 이후에 60일의 방치 시간 이내에, 사용하는 것이 적절하다. 대안적으로, 와이어의 넓은 와이어 본딩 공정 윈도우 특성을 유지하기 위해 그리고 산화 또는 다른 화학적 공격으로부터 와이어를 보호하기 위해, 완성된 와이어는 전형적으로, 공정 단계 (5)의 완료 이후에 즉시, 즉 지연 없이, 예를 들어 공정 단계 (5)의 완료 이후에 1 시간 미만 내지 5시간 이내에, 감기게 되고 진공 밀봉되며, 그리고 이어서 본딩 와이어로서의 추가적 사용을 위해 저장된다. 진공 밀봉 상태에서의 저장은, 6개월을 초과하지 않아야 한다. 진공 밀봉을 개방한 이후에, 와이어는, 60일 이내에 와이어 본딩을 위해 사용되어야만 한다.After process step (5) and optional quenching is completed, the coated wire of the present invention is completed. In order to fully benefit from its properties, it is suitable for wire bonding applications to use immediately, ie without delay, for example within 60 days of standing time after completion of process step (5). Alternatively, to maintain the wide wire bonding process window properties of the wire and to protect the wire from oxidation or other chemical attack, the finished wire is typically immediately after completion of process step (5), ie without delay. , For example, less than 1 hour to 5 hours after completion of process step (5), coiled and vacuum sealed, and then stored for further use as a bonding wire. Storage in a vacuum sealed state should not exceed 6 months. After opening the vacuum seal, the wire must be used for wire bonding within 60 days.

공정 단계 (1) 내지 (5) 모두, 뿐만 아니라 감기 및 진공 밀봉도, 클린룸 조건(US FED STD 209E 클린룸 표준들, 1k 표준) 하에서 수행되는 것이 바람직하다.It is preferred that both process steps (1) to (5), as well as cold and vacuum sealing, are performed under clean room conditions (US FED STD 209E clean room standards, 1k standard).

본 발명의 제3 양태가, 본 발명의 임의의 실시예에 따른 앞서 개시된 공정에 의해 획득 가능한, 코팅된 와이어이다. 본 발명의 코팅된 와이어는, 와이어 본딩 적용들에서의 본딩 와이어로서의 사용에 잘 어울린다는 것이 확인된 바 있다. 와이어 본딩 기술은 당업자에게 잘 알려져 있다. 와이어 본딩의 과정에서, 볼 접합(제1 접합) 및 스티치 접합(제2 접합, 웨지 접합)이 형성된다. 접합 형성 도중에, 문지르기 진폭(scrub amplitude)(전형적으로 ㎛ 단위로 측정됨)의 인가에 의해 지지되거나 또는 초음파 에너지(전형적으로 mA 단위로 측정됨)의 인가에 의해 지지되는, 특정 힘(전형적으로 그램 단위로 측정됨)이, 가해진다. 와이어 본딩 공정에서의, 가해진 힘의 상한과 하한 사이의 차이와 인가된 문지르기 진폭의 상한과 하한 사이의 차이의 수학적 곱셈, 또는 가해진 힘의 상한과 하한 사이의 차이와 인가된 초음파 에너지의 상한과 하한 사이의 차이의 수학적 곱셈은, 와이어 본딩 공정 윈도우를 규정한다:A third aspect of the invention is a coated wire obtainable by the previously disclosed process according to any embodiment of the invention. It has been found that the coated wire of the present invention is well suited for use as a bonding wire in wire bonding applications. Wire bonding techniques are well known to those skilled in the art. In the process of wire bonding, ball bonding (first bonding) and stitch bonding (second bonding, wedge bonding) are formed. During junction formation, a specific force (typically) supported by the application of scrub amplitude (typically measured in μm) or by the application of ultrasonic energy (typically measured in mA) (Measured in grams). In the wire bonding process, a mathematical multiplication of the difference between the upper and lower limits of the applied force and the upper and lower limits of the applied rubbing amplitude, or the difference between the upper and lower limits of the applied force and the upper and lower limits of the applied ultrasonic energy. The mathematical multiplication of the difference between the lower bounds defines the wire bonding process window:

(가해지는 힘의 상한 - 가해지는 힘의 하한) · (인가되는 문지르기 진폭의 상한 - 인가되는 문지르기 진폭의 하한) = 와이어 본딩 공정 윈도우.(Upper limit of applied force-Lower limit of applied force) · (Upper limit of applied rubbing amplitude-Lower limit of applied rubbing amplitude) = Wire bonding process window.

또는or

(가해지는 힘의 상한 - 가해지는 힘의 하한) · (인가되는 초음파 에너지의 상한 - 인가되는 초음파 에너지의 하한) = 와이어 본딩 공정 윈도우.(Upper limit of applied force-Lower limit of applied force) · (Upper limit of applied ultrasonic energy-Lower limit of applied ultrasonic energy) = Wire bonding process window.

와이어 본딩 공정 윈도우는, 사양을 만족시키는, 즉 단지 몇 가지만 말하자면, 통상적인 인장 시험, 볼 전단 시험(ball shear test) 및 볼 인장 시험(ball pull test)과 같은 통상적인 시험들을 통과하는, 와이어 접합의 형성을 허용하는, 힘/문지르기 진폭 조합들 또는 힘/초음파 에너지 조합들의 영역을 규정한다.The wire bonding process window satisfies the specification, ie passes the conventional tests such as the conventional tensile test, ball shear test and ball pull test, to name a few. Defines a region of force/rubbing amplitude combinations or force/ultrasonic energy combinations, allowing for the formation of.

달리 표현하면, 제1 접합(볼 접합) 공정 윈도우 영역은, 접합에 사용되는 힘의 상한과 하한 사이의 차이 및 인가되는 문지르기 진폭의 상한과 하한 사이의 차이의 곱이거나, 또는 접합에 사용되는 힘의 상한과 하한 사이의 차이 및 인가되는 초음파 에너지의 상한과 하한 사이의 차이의 곱이며, 결과적으로 생성되는 접합은, 특정 볼 전단 시험 사양을, 예를 들어, 0.0085 g/㎛2의 볼 전단, 본딩 패드 상에서 점착성 없지 않음 등을, 만족시켜야만 하는 가운데, 제2 접합(스티치 접합) 공정 윈도우 영역은, 접합에 사용되는 힘의 상한과 하한 사이의 차이 및 인가되는 문지르기 진폭의 상한과 하한 사이의 차이의 곱이거나, 또는 접합에 사용되는 힘의 상한과 하한 사이의 차이 및 인가되는 초음파 에너지의 상한과 하한 사이의 차이의 곱이며, 결과적으로 생성되는 접합은, 특정 인장 시험 사양을, 예를 들어, 2.5g의 인장력, 리드 상에서 점착성 없지 않음 등을, 만족시켜야만 한다.In other words, the first junction (ball junction) process window region is the product of the difference between the upper and lower limits of the force used for the junction and the difference between the upper and lower limits of the applied rubbing amplitude, or used for the junction. It is the product of the difference between the upper and lower limits of the force and the difference between the upper and lower limits of the applied ultrasonic energy, and the resulting bonds have specific ball shear test specifications, for example, a ball shear of 0.0085 g/μm 2 The second bonding (stitch bonding) process window region, while having to satisfy, for example, no tackiness on the bonding pad, is between the upper and lower limits of the difference between the upper and lower limits of the force used for bonding and the applied rubbing amplitude. Is the product of the difference, or the product of the difference between the upper and lower limits of the force used for the bonding and the difference between the upper and lower limits of the applied ultrasonic energy, and the resulting bonding, for example For example, a tensile force of 2.5 g, no stickiness on the lead, etc. must be satisfied.

산업적 적용을 위해, 와이어 본딩 공정 견고성을 이유로, 넓은 와이어 본딩 공정 윈도우(g 단위의 힘 대 ㎛ 단위의 문지르기 진폭 또는 g 단위의 힘 대 mA 단위의 초음파 에너지)를 구비하는 것이, 바람직하다. 본 발명의 와이어는, 상당히 넓은 와이어 본딩 공정 윈도우를 보인다. For industrial applications, for reasons of robustness of the wire bonding process, it is desirable to have a wide wire bonding process window (force in g versus rub amplitude in μm or force in g versus ultrasonic energy in mA). The wire of the present invention shows a fairly wide wire bonding process window.

뒤따르는 비-제한적인 예들은, 본 발명을 예시한다. 이러한 예들은, 본 발명에 대한 예시적인 설명으로서 역할을 하며, 어떤 식으로도 본 발명 또는 청구항들의 범위를 제한할 의도가 아니다.The following non-limiting examples illustrate the invention. These examples serve as illustrative descriptions of the invention, and are not intended to limit the scope of the invention or claims in any way.

예들Examples

무 공기 볼(FAB)의 준비:Preparation of the airless ball (FAB):

FAB를 위한 KNS 공정 사용자 가이드[쿨릭케 & 소파 인더스트리즈 인크(Kulicke & Soffa Industries Inc.), 포트 워싱턴, PA, USA, 2002, 2009년 5월 31일]에 설명된 절차에 따라, FAB가 가공되었다. FAB는, 표준 굽기(standard firing)(95 체적% 질소/5 체적% 수소 분위기 하에서의, 단일 단계, 17.8 ㎛ 와이어, 50mA의 EFO 전류, EFO 시간 200μs)에 의한 통상적인 전기적 화염 차단(electric flame-off: EFO) 굽기를 실행함으로써 준비되었다.FAB is processed according to the procedures described in the KNS Process User Guide for FAB [Kulicke & Soffa Industries Inc., Port Washington, PA, USA, 2002, May 31, 2009] Became. FAB is a conventional electric flame-off by standard firing (95 vol% nitrogen/5 vol% hydrogen atmosphere, single step, 17.8 μm wire, 50 mA EFO current, EFO time 200 μs). : EFO) It was prepared by performing burning.

시험 방법들 A. 내지 F.Test methods A. to F.

모든 시험 및 측정은, T = 20 ℃ 및 상대 습도 RH = 50 %에서 수행되었다.All tests and measurements were performed at T = 20 °C and relative humidity RH = 50%.

A. 선형 절편 방법 (Linear Intercept Method)A. Linear Intercept Method

와이어들은, 먼저 냉간-장착 에폭시 수지를 사용하여 매립되었으며, 그리고 이어서 표준 금속 조직학적 기술에 의해 연마(단면-처리)되었다. 멀티 프렙(multi-prep) 반자동 연마기가, 샘플 표면 상에 최소 변형 스트레인을 갖는 샘플을 연삭 및 연마하기 위해 낮은 힘 및 최적 속도를 동반하는 가운데로 사용되었다. 마지막으로, 연마된 샘플이, 입계를 드러내도록 하기 위해 염화 제이철을 사용하여 화학적으로 에칭되었다. 평균 입자 크기는, ASTM E112-12 표준에 따라, 1000의 배율을 갖는 광학 현미경 하에서, 선형 절편 방법을 사용하여 측정되었다.The wires were first buried using a cold-mounted epoxy resin, and then polished (cross-treated) by standard metallographic techniques. A multi-prep semi-automatic grinder was used with a low force and optimum speed to grind and polish samples with minimal strain on the sample surface. Finally, the polished sample was chemically etched using ferric chloride to reveal grain boundaries. The average particle size was measured using a linear sectioning method, under an optical microscope with a magnification of 1000, according to the ASTM E112-12 standard.

B. FAB 형태B. FAB form

형성된 FAB은, 1000의 배율을 갖는 주사 전자현미경(SEM)에 의해 검사되었다. The formed FAB was examined by a scanning electron microscope (SEM) having a magnification of 1000.

평가:evaluation:

++, 매우 우수(둥근 볼)++, very good (round ball)

+, 우수(둥근 볼);+, excellent (round ball);

0, 용인 가능(완벽하게 둥글지는 않지만, FAB 표면 상에 명백한 평탄부 없음);0, acceptable (not perfectly round, but no apparent flats on the FAB surface);

-, 복숭아형 볼-, Peach-shaped balls

--, 심각한 복숭아형 볼--, serious peach ball

여기에서 사용되는 용어 "복숭아형 볼(peach ball)"은, FAB 끝단에 뚜렷한 반구를 갖는 두 개의 평탄부의 형성을 의미한다.As used herein, the term "peach ball" means the formation of two flats with distinct hemispheres at the ends of the FAB.

C. 접합된 볼 형상C. Bonded ball shape

형성된 FAB은, 사전 규정된 높이(203.2 ㎛의 팁) 및 속도(접촉 속도 of 6.4 ㎛/sec)로부터 Al-0.5중량% Cu 본딩 패드로 하강했다. 본딩 패드에 접촉 시, 정의된 본딩 파라미터들(100 g의 접합력, 95 mA의 초음파 에너지 및 15 ms의 접합 시간)의 세트가, FAB를 변형시키도록 영향을 미쳤으며, 그리고 접합된 볼을 형성하였다. 볼을 형성한 이후에, 모세관은, 루프(loop)를 형성하기 위해, 사전 규정된 높이(152.4 ㎛의 꼬임 높이(kink height) 및 254 ㎛의 루프 높이)로 상승했다. 루프를 형성한 이후에, 모세관은, 스티치(stitch)를 형성하기 위해 리드(lead)로 하강했다. 스티치를 형성한 이후에, 모세관은 상승했으며, 그리고 와이어 클램프는, 사전 규정된 테일 길이(tail length)(254 ㎛의 테일 길이 연장)를 만들도록 와이어를 절단하기 위해 폐쇄되었다. 각각의 샘플에 대해, 5개의 접합된 와이어가, 1000의 배율을 갖는 현미경을 사용하여 광학적으로 검사되었다. The formed FAB was lowered from the predefined height (203.2 μm tip) and speed (contact speed of 6.4 μm/sec) to an Al-0.5 wt% Cu bonding pad. Upon contact with the bonding pad, a set of defined bonding parameters (100 g bonding force, 95 mA ultrasonic energy and 15 ms bonding time) affected the FAB to deform, and formed a bonded ball. . After forming the ball, the capillaries were raised to a predefined height (kink height of 152.4 μm and loop height of 254 μm) to form a loop. After forming the loop, the capillary tube descended into a lead to form a stitch. After forming the stitch, the capillary rose and the wire clamp was closed to cut the wire to create a predefined tail length (tail length extension of 254 μm). For each sample, 5 bonded wires were optically inspected using a microscope with a magnification of 1000.

평가:evaluation:

+, 원형;+, circular;

0, 용인 가능;0, acceptable;

-, 꽃 모양.-, flower shape.

D. 오프 센터 볼(OCB)D. Off Center Ball (OCB)

방법 C에서 설명한 것과 동일한 방법이 적용되었지만, 볼의 진원도를 검사하는 대신, 볼의 중심성(centricity)이, 결정되었다. 각각의 샘플에 대해, 5개의 접합된 와이어가, 광학적으로 검사되었다.The same method as described in Method C was applied, but instead of checking the roundness of the ball, the centricity of the ball was determined. For each sample, 5 bonded wires were optically inspected.

평가:evaluation:

++, 완벽히 중심에 놓임;++, perfectly centered;

+, 중심에 놓임;+, centered;

0, 용인 가능하게 편심됨;0, tolerable eccentricity;

-, 편심됨;-, eccentric;

--, 매우 편심됨.--, very eccentric.

E. FAB 상의 Pd 분포E. Pd distribution on FAB

FAB는, 먼저 냉간-장착 에폭시를 사용하여 매립되었고, 표준 금속 조직학적 기술에 의해 단면-처리되었다. 멀티 프렙 반자동 연마기가, 샘플 표면 상에 최소 변형 스트레인을 갖는 샘플을 연삭 및 연마하기 위해 낮은 힘 및 최적 속도를 동반하는 가운데로 사용되었다. 마지막으로, 연마된 샘플이, 1000의 배율을 갖는 고출력 현미경 아래에서 검사되었다. 각각의 샘플에 대해, 5개의 FAB이, 광학적으로 검사되었다.FAB was first embedded using cold-mounted epoxy, and cross-treated by standard metallographic techniques. A multi-prep semi-automatic polishing machine was used in the middle with low force and optimum speed to grind and polish samples with minimal strain on the sample surface. Finally, the polished sample was inspected under a high power microscope with a magnification of 1000. For each sample, 5 FABs were optically inspected.

시각적 평가: Visual evaluation:

++, Pd은 FAB 높이의 80 % 이상의 Pd 커버리지를 갖도록 매우 균일하게 FAB 외피를 덮음;++, Pd covers the FAB sheath very uniformly to have a Pd coverage of 80% or more of the FAB height;

+, Pd은 FAB 높이의 70 % 이상의 Pd 커버리지를 갖도록 균일하게 FAB 외피를 덮음;+, Pd evenly covers the FAB envelope to have a Pd coverage of 70% or more of the FAB height;

0, Pd은 FAB 높이의 50내지 70 % 사이의 Pd 커버리지를 갖도록 FAB 외피를 부분적으로 덮고, 부분적으로 볼 내로 확산됨;0, Pd partially covers the FAB sheath to have Pd coverage between 50 and 70% of the FAB height, and partially diffuses into the ball;

-, FAB 높이의 50 % 이하의 Pd 커버리지를 갖도록, Cu-Pd 합금의 형성과 더불어, 볼 내로 Pd의 대부분 확산;-Most of the diffusion of Pd into the ball, with the formation of Cu-Pd alloy, to have Pd coverage of 50% or less of FAB height;

-- FAB 높이의 30 % 이하의 Pd 커버리지를 갖도록, Cu-Pd 합금의 형성과 더불어, 볼 내로 Pd의 대부분 확산.- Most of the diffusion of Pd into the ball, with the formation of Cu-Pd alloy, to have a Pd coverage of 30% or less of the FAB height.

F. 내식성:F. Corrosion resistance:

와이어들이, Al-0.5중량% Cu 본딩 패드들에 볼 접합되었다. 그렇게 접합된 와이어들과 함께 시험 장치들이, 매우 가속된 응력 시험(highly accelerated stress test: HAST) 챔버 내에, 130 ℃의 온도, 85 % 상대 습도(RH)에서, 96시간 동안 저장되었으며, 그리고 나중에, 100X 배율의 저출력 현미경(니콘 MM-40) 하에서 리프팅된 볼(lifted ball)의 개수에 대해 검사되었다. 더 많은 수의 리프팅된 볼의 관찰은, 심한 계면 갈바니 부식을 지시했다. 순위의 관점에서 평가가 이루어졌다:The wires were ball bonded to Al-0.5 wt% Cu bonding pads. The test devices, with the wires so joined, were stored in a highly accelerated stress test (HAST) chamber at a temperature of 130° C., 85% relative humidity (RH) for 96 hours, and later, The number of lifted balls under a low power microscope at 100X magnification (Nikon MM-40) was examined. Observation of a larger number of lifted balls indicated severe interfacial galvanic corrosion. Evaluation was made in terms of ranking:

++, 가장 적게 리프팅된 볼들;++, least lifted balls;

+, 적게 리프팅된 볼들;+, less lifted balls;

0, 중간 리프팅된 볼들;0, middle lifted balls;

-, 많이 리프팅된 볼들;-, many lifted balls;

-- 가장 많이 리프팅된 볼들;- The most lifted balls;

예 1: Example 1: 와이어wire 샘플 1 내지 8 Samples 1 to 8

각각 적어도 99.99 % 순도("4N")의 정해진 양의 구리, 은 및 인이, 약 1200℃의 진공 오븐 내의 도가니 내에서 용융되었다. 이어서, 8 mm의 막대들의 형태의 와이어 코어 전구체 물체가, 용융물로부터 연속으로 주조되었다. 막대들은 이어서, 200 ㎛의 직경과 함께 원형 단면을 갖는 와이어 코어 전구체를 형성하기 위해 여러 인발 단계들에서 인발되었다. 와이어 코어 전구체는, 840 nm 두께의 내측 팔라듐 층 및 45 nm 두께의 외측 금 층으로 이루어지는 이중 층 코팅을 갖도록 전해도금되었으며, 그리고 그 후 75 nm의 최종 팔라듐 코팅 층 두께 및 4 nm의 최종 금 코팅 층 두께를 갖도록 17.8 ㎛의 최종 직경으로 추가로 인발되었고, 0.8초의 노출 시간 동안 530 ℃의 오븐 설정 온도에서의 최종 가닥 어닐링이 뒤따랐으며, 바로 뒤따라 그렇게 획득된 코팅된 와이어들을 500 중량 ppm의 계면 활성제를 함유하는 물 내에서 급냉시켰다. A defined amount of copper, silver and phosphorus, each of at least 99.99% purity (“4N”), was melted in a crucible in a vacuum oven at about 1200°C. Subsequently, a wire core precursor object in the form of rods of 8 mm was continuously cast from the melt. The rods were then drawn in several drawing steps to form a wire core precursor having a circular cross section with a diameter of 200 μm. The wire core precursor was electroplated to have a double layer coating consisting of an 840 nm thick inner palladium layer and a 45 nm thick outer gold layer, and then a 75 nm final palladium coating layer thickness and a 4 nm final gold coating layer. It was further drawn to a final diameter of 17.8 μm to have a thickness, followed by final strand annealing at an oven set temperature of 530° C. for an exposure time of 0.8 seconds, followed immediately by so obtained coated wires at 500 ppm by weight of surfactant. It was quenched in water containing.

이러한 절차에 의해, 팔라듐 및 금 코팅된 구리-계열 와이어의 여러 상이한 발명 샘플들 및 비교 샘플 1 내지 9가, 제조되었다. 표 1은, 와이어 코어들의 조성을 보여준다. By this procedure, several different inventive samples and comparative samples 1 to 9 of palladium and gold coated copper-based wire were prepared. Table 1 shows the composition of the wire cores.

샘플:Sample: 와이어 코어 조성:Wire core composition: 1(비교예)1 (comparative example) 75 중량 ppm의 P으로 도핑된 CuCu doped with 75 weight ppm P 2(발명)2 (invention) 0.1 중량% Ag과 함께 합금되고 75 중량 ppm의 P으로 도핑된 CuCu alloyed with 0.1 wt% Ag and doped with 75 wtppm P 3(발명)3 (invention) 0.2 중량% Ag과 함께 합금되고 P으로 도핑되지 않은 CuCu alloyed with 0.2% by weight Ag and not doped with P 4(발명)4 (invention) 0.2 중량% Ag과 함께 합금되고 40 중량 ppm의 P으로 도핑된 CuCu alloyed with 0.2 wt% Ag and doped with 40 wtppm P 5(발명)5 (invention) 0.2 중량% Ag과 함께 합금되고 75 중량 ppm의 P으로 도핑된 CuCu alloyed with 0.2 wt% Ag and doped with 75 wtppm P 6(발명)6 (invention) 0.3 중량% Ag과 함께 합금되고 75 중량 ppm의 P으로 도핑된 CuCu alloyed with 0.3 wt% Ag and doped with 75 wtppm P 7(비교예)7 (comparative example) 0.4 중량% Ag과 함께 합금되고 75 중량 ppm의 P으로 도핑된 CuCu alloyed with 0.4% by weight Ag and doped with 75% by weight P 8(비교예)8 (comparative example) 0.5 중량% Ag과 함께 합금되고 75 중량 ppm의 P으로 도핑된 CuCu alloyed with 0.5% by weight Ag and doped with 75% by weight P

Yes 2: 와이어2: wire 샘플 9 내지 10 Samples 9 to 10

와이어 샘플은 예 1의 샘플 5와 유사하게 가공되었지만, 내측 팔라듐 코팅 및 외측 금 코팅의 층 두께는, 표 2에 기록된 바와 같이, 변화되었다.The wire sample was processed similarly to Sample 5 in Example 1, but the layer thickness of the inner palladium coating and the outer gold coating was changed, as reported in Table 2.

샘플Sample 내측 팔라듐 층 두께(nm)Inner palladium layer thickness (nm) 외측 금 층 두께(nm)Outer gold layer thickness (nm) 9(발명)9 (invention) 7575 2.32.3 10(발명)10 (invention) 6868 2.32.3

아래의 표 3은, 특정 시험 결과를 나타낸다. Table 3 below shows the specific test results.

샘플:Sample: 1One 22 33 44 55 66 77 88 99 1010 FAB 형태FAB form ++ 00 -- -- 00 -- --- --- 00 ++ 접합된 볼 형상Bonded ball shape ++ ++ ++ ++ ++ ++ ++ ++ ++ ++ OCBOCB ++ ++ ++ ++ ++ -- -- -- -- --- FAB 상에서의 Pd 분포Pd distribution on FAB -- -- ++ ++ ++ ++ ++++ ++++ ++ 00 내식성Corrosion resistance -- 00 ++ ++ ++ ++ ++++ ++++ ++ 00

Claims (14)

표면을 갖는 와이어 코어를 포함하는 코팅된 와이어로서, 와이어 코어는, 자체의 표면 상에 중첩되는 코팅 층을 구비하고, 와이어 코어 자체는:
(a) 0.1 내지 0.3 중량%의 양의 은,
(b) 99.64 내지 99.8825 중량%의 범위 내의 양의 구리,
(c) 0 내지 100 중량 ppm의 범위 내의 양의 인, 및
(d) 0 내지 500 중량 ppm의 범위 내의 양의 추가적 성분들(은, 구리 및 인과 상이한 성분들)
을 포함하며,
임의의 추가적 성분의 개별적인 양은, 30 중량 ppm 미만이고,
중량% 및 중량 ppm 단위의 모든 양들은, 코어의 총 중량에 기초하며, 그리고
코팅 층은, 팔라듐의 내측 층 및 금의 인접한 외측 층을 포함하는 이중-층이고,
내측 팔라듐 층의 중량은, 와이어 코어의 중량과 비교하여, 1.5 내지 2.5 중량%의 범위 이내이며, 그리고
외측 금 층의 중량은, 와이어 코어의 중량과 비교하여, 0.09 내지 0.18 중량%의 범위 이내인 것인, 코팅된 와이어.
A coated wire comprising a wire core having a surface, the wire core having a coating layer superimposed on its surface, the wire core itself:
(a) silver in an amount of 0.1 to 0.3% by weight,
(b) copper in an amount in the range of 99.64 to 99.8825% by weight,
(c) phosphorus in an amount ranging from 0 to 100 ppm by weight, and
(d) Additional components in amounts ranging from 0 to 500 ppm by weight (different components from silver, copper and phosphorus)
It includes,
The individual amount of any additional component is less than 30 ppm by weight,
All amounts in weight percent and ppm by weight are based on the total weight of the core, and
The coating layer is a double-layer comprising an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold,
The weight of the inner palladium layer is within the range of 1.5 to 2.5% by weight, compared to the weight of the wire core, and
The weight of the outer gold layer is in the range of 0.09 to 0.18% by weight, compared to the weight of the wire core, the coated wire.
제 1항에 있어서,
은의 양은 0.2 중량%인 것인, 코팅된 와이어.
According to claim 1,
The amount of silver is 0.2% by weight, coated wire.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
인의 양은, 50 내지 100, 또는 70 내지 80 중량 ppm인 것인, 코팅된 와이어.
The method according to claim 1 or 2,
The amount of phosphorus is 50 to 100, or 70 to 80 ppm by weight of the coated wire.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
추가적 성분들의 양은, 0 내지 100 중량 ppm인 것인, 코팅된 와이어.
The method according to claim 1 or 2,
The amount of additional components is 0 to 100 ppm by weight, coated wire.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
50 내지 5024 ㎛2의 범위 내의 평균 단면적을 갖는 것인, 코팅된 와이어.
The method according to claim 1 or 2,
Coated wire having an average cross-sectional area in the range of 50 to 5024 μm 2 .
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
8 내지 80 ㎛의 범위 내의 평균 직경을 갖는 원형 단면을 구비하는 것인, 코팅된 와이어.
The method according to claim 1 or 2,
Coated wire having a circular cross section having an average diameter in the range of 8 to 80 ㎛.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,
와이어 코어는,
(i) 종단 방향에서 측정되는, 평균 와이어 입자 크기는, 3 내지 6 ㎛인 것,
(ii) 종단 방향에서 측정되는 평균 입자 크기와 와이어 코어의 직경의 비율은, 0.05 내지 0.25의 범위 이내인 것,
(iii) 종단 방향에서 측정되는 코어의 평균 입자 크기에 대한 평균 입자 크기의 표준 편차 비율(RSD)은, 0.1 내지 0.4의 범위 이내인 것,
의 고유 특성들 중 적어도 하나에 의해 특정지어지는 것인, 코팅된 와이어.
The method according to claim 1 or 2,
Wire core,
(i) the average wire particle size measured in the longitudinal direction is 3 to 6 µm,
(ii) the ratio of the average particle size and the diameter of the wire core measured in the longitudinal direction is within the range of 0.05 to 0.25,
(iii) The standard deviation ratio (RSD) of the average particle size to the average particle size of the core measured in the longitudinal direction is within a range of 0.1 to 0.4,
The coated wire, characterized by at least one of the intrinsic properties of.
제 1항 또는 제 2항의 코팅된 와이어의 제조 공정으로서, 적어도,
(1) 요구되는 조성의 전구체 물체를 제공하는 단계로서, 상기 전구체 물체는 0.1 내지 0.3 중량%의 양의 은, 99.64 내지 99.8825 중량%의 범위 내의 양의 구리, 0 내지 100 중량 ppm의 범위 내의 양의 인, 및 0 내지 500 중량 ppm의 범위 내의 양의 추가적 성분들(은, 구리 및 인과 상이한 성분들)을 포함하며, 임의의 추가적 성분의 개별적인 양은 30 중량 ppm 미만이고, 중량% 및 중량 ppm 단위의 모든 양들은, 전구체 물체의 총 중량을 기초로 하는 것인 전구체 물체를 제공하는 단계,
(2) 5024 내지 70650 ㎛2의 범위 내의 중간 단면적 및 80 내지 300 ㎛의 범위 내의 중간 직경이, 달성될 때까지, 신장된 전구체 물체를 형성하기 위해 전구체 물체를 신장시키는 단계,
(3) 공정 단계 (2)의 완료 이후에 획득되는 신장된 전구체 물체의 표면 상에, 팔라듐의 내측 층 및 금의 인접한 외측 층의 이중-층 코팅을 성막하는 단계로서, 내측 팔라듐 층의 중량이 신장된 전구체 물체의 중량과 비교하여 1.5 내지 2.5 중량%의 범위 내에 놓이도록, 그리고 외측 금 층의 중량이 신장된 전구체 물체의 중량과 비교하여 0.09 내지 0.18 중량%의 범위 내에 놓이도록, 이중-층 코팅을 성막하는 단계,
(4) 요구되는 최종 단면적 또는 직경이 달성될 때까지, 공정 단계 (3)의 완료 이후에 획득되는 코팅된 전구체 물체를 추가로 신장시키는 단계, 및
(5) 공정 단계 (4)의 완료 이후에 획득되는 코팅된 전구체를, 코팅된 와이어를 형성하기 위해 0.1 내지 3초의 범위 이내의 노출 시간 동안 450 내지 650 ℃의 범위 내의 오븐 설정 온도에서, 최종적으로 가닥 어닐링(strand annealing)하는 단계,
를 포함하는 것인 코팅된 와이어의 제조 공정.
A process for manufacturing the coated wire of claim 1 or 2, at least:
(1) providing a precursor object of the desired composition, the precursor object comprising: silver in an amount of 0.1 to 0.3% by weight, copper in an amount in a range of 99.64 to 99.8825% by weight, an amount in a range of 0 to 100 ppm by weight Of phosphorus, and additional components in amounts ranging from 0 to 500 ppm by weight (different components from silver, copper and phosphorus), the individual amounts of any additional components being less than 30 ppm by weight, in weight percent and ppm by weight Providing a precursor object, all amounts of which are based on the total weight of the precursor object,
(2) stretching the precursor object to form an elongated precursor object until an intermediate cross-sectional area in the range of 5024 to 70650 μm 2 and an intermediate diameter in the range of 80 to 300 μm are achieved,
(3) depositing a double-layer coating of the inner layer of palladium and the adjacent outer layer of gold on the surface of the elongated precursor object obtained after completion of the process step (2), wherein the weight of the inner palladium layer is Double-layer, such that it lies within the range of 1.5 to 2.5% by weight compared to the weight of the stretched precursor object, and the weight of the outer gold layer lies within the range of 0.09 to 0.18% by weight compared to the weight of the stretched precursor object. Depositing a coating,
(4) further stretching the coated precursor object obtained after completion of process step (3) until the required final cross-sectional area or diameter is achieved, and
(5) The coated precursor obtained after completion of the process step (4), finally at an oven set temperature in the range of 450 to 650° C. for an exposure time within the range of 0.1 to 3 seconds to form a coated wire, finally Strand annealing,
Manufacturing process of the coated wire comprising a.
제 8항에 있어서,
상기 단계 (2)는, 신장된 전구체 물체의 중간 어닐링에 대한 하나 이상의 부속 단계를 포함하는 것인, 코팅된 와이어 제조 공정.
The method of claim 8,
The step (2) comprises one or more accessory steps for intermediate annealing of the stretched precursor object, the coated wire manufacturing process.
제 8항에 있어서,
최종 가닥 어닐링은, 0.3 내지 1초의 노출 시간 동안 500 내지 600 ℃의 오븐 설정 온도에서, 실행되는 것인, 코팅된 와이어 제조 공정.
The method of claim 8,
The final strand annealing is performed at an oven set temperature of 500 to 600° C. for an exposure time of 0.3 to 1 second, the coated wire manufacturing process.
제 8항에 있어서,
최종적으로 가닥 어닐링된 코팅된 전구체는, 하나 이상의 첨가물을 함유할 수 있는 물 내에서 담금질되는 것인, 코팅된 와이어 제조 공정.
The method of claim 8,
The finally strand annealed coated precursor is immersed in water that may contain one or more additives, the coated wire manufacturing process.
제 8항에 있어서,
공정 단계 (5)의 최종 가닥 어닐링은, 불활성 또는 환원 분위기 하에서 실행되는 것인, 코팅된 와이어 제조 공정.
The method of claim 8,
The final strand annealing of process step (5) is performed under an inert or reducing atmosphere, the coated wire manufacturing process.
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