KR102595696B1 - coated wire - Google Patents

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예안 미 푼
웨이 치흐 판
무랄리 사랑가파니
친 예웅 웡
실비아 스티오노
단 스
뮤 완 로
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Abstract

표면을 갖는 와이어 코어를 포함하는 와이어로서, 와이어 코어는 그 표면 상에 중첩된 코팅 층을 가지며, 와이어 코어 자체는 은 와이어 코어 또는 은계 와이어 코어이고, 코팅 층은 1 내지 1000 ㎚ 두께인 금의 단일-층이거나, 1 내지 100 ㎚ 두께인 팔라듐의 내부 층 및 1 내지 250 ㎚ 두께인 인접한 금의 외부 층으로 구성된 이중-층이며, 금 층은 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재를, 와이어의 중량을 기준으로 10 내지 100 중량ppm 범위의 총 비율로 포함하는 것을 특징으로 한다.A wire comprising a wire core having a surface, the wire core having a coating layer superimposed on its surface, the wire core itself being a silver wire core or a silver-based wire core, the coating layer being a single layer of gold having a thickness of 1 to 1000 nm. -layer or a bi-layer consisting of an inner layer of palladium having a thickness of 1 to 100 nm and an adjacent outer layer of gold having a thickness of 1 to 250 nm, the gold layer being at least selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium. It is characterized in that it contains one member in a total proportion ranging from 10 to 100 ppm by weight, based on the weight of the wire.

Description

코팅 와이어coated wire

본 발명은 은 또는 은계 와이어 코어, 및 와이어 코어의 표면 상에 중첩된 코팅 층을 포함하는 코팅 와이어에 관한 것이다. 본 발명은 또한 그러한 코팅 와이어를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a coated wire comprising a silver or silver-based wire core and a coating layer superimposed on the surface of the wire core. The invention also relates to a method for manufacturing such coated wire.

전자공학 및 마이크로 전자공학 응용에서 본딩 와이어의 사용은 잘 알려진 최신 기술이다. 처음에는 본딩 와이어가 금으로 제조되었지만, 오늘날에는 구리, 구리 합금, 은 및 은 합금과 같은 저렴한 재료가 사용된다. 그러한 와이어는 금속 코팅을 가질 수 있다.The use of bonding wires in electronics and microelectronics applications is a well-known, state-of-the-art technology. Initially bonding wires were made of gold, but today cheaper materials such as copper, copper alloys, silver and silver alloys are used. Such wires may have a metallic coating.

와이어 기하형상과 관련하여, 원형 단면의 본딩 와이어 및 다소 직사각형 단면을 갖는 본딩 리본이 가장 일반적인 것이다. 와이어 기하형상의 두 가지 유형 모두는 이들을 특정 응용에 유용하게 하는 이점을 갖고 있다.With regard to wire geometry, bonding wires of circular cross-section and bonding ribbons with a more or less rectangular cross-section are the most common. Both types of wire geometry have advantages that make them useful for certain applications.

본 발명의 목적은 와이어 본딩 응용에 사용하기에 적합한 코팅된 은 또는 은계 와이어를 제공하는 것이며, 와이어는 특히 구형 FAB(free air ball) 형성에 탁월하다. 제공될 코팅된 은 또는 은계 와이어는 볼 본딩 동안에 OCB(off-centered ball) 현상의 발생을 효과적으로 억제하는 것을 가능하게 해야 한다.It is an object of the present invention to provide a coated silver or silver-based wire suitable for use in wire bonding applications, the wire being particularly excellent for forming spherical free air balls (FABs). The coated silver or silver-based wire to be provided should make it possible to effectively suppress the occurrence of the off-centered ball (OCB) phenomenon during ball bonding.

상기 목적의 해결에 대한 기여는 범주-형성 청구범위의 주제에 의해 제공된다. 범주-형성 청구범위의 종속 청구항은 본 발명의 바람직한 실시예를 나타내며, 그 주제는 또한 상기에서 언급된 목적을 해결하는 데 기여한다.A contribution to the solution of the above object is provided by the subject matter of the category-forming claims. The dependent claims of the category-forming claims represent preferred embodiments of the invention, the subject matter of which also contributes to solving the above-mentioned objectives.

제1 양태에서, 본 발명은, 표면을 갖는 와이어 코어(이하, 줄여서 "코어"라고도 함)를 포함하는 와이어로서, 와이어 코어는 그 표면 상에 중첩된 코팅 층을 가지며, 와이어 코어 자체는 은 와이어 코어 또는 은계 와이어 코어이고, 코팅 층은 1 내지 1000 ㎚ 두께인 금의 단일-층이거나, 1 내지 100 ㎚ 두께인 팔라듐의 내부 층 및 1 내지 250 ㎚ 두께인 인접한 금의 외부 층으로 구성된 이중-층인 것인, 와이어에 관한 것이며, 금 층은 안티몬(antimony), 비스무트(bismuth), 비소(arsenic) 및 텔루륨(tellurium)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재를, 와이어의 중량을 기준으로 10 내지 100 중량ppm(weight-ppm), 바람직하게는 10 내지 40 중량ppm 범위의 총 비율로 포함하는 것을 특징으로 한다. 동시에, 일 실시예에서, 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재의 총 비율은 금 층의 금 중량을 기준으로 300 내지 3500 중량ppm, 바람직하게는 300 내지 2000 중량ppm, 가장 바람직하게는 600 내지 1000 중량ppm의 범위일 수 있다.In a first aspect, the present invention provides a wire comprising a wire core (hereinafter also referred to as “core” for short) having a surface, wherein the wire core has a coating layer superimposed on its surface, and the wire core itself is a silver wire. core or a silver-based wire core, and the coating layer is a single-layer of gold from 1 to 1000 nm thick or a double-layer consisting of an inner layer of palladium from 1 to 100 nm thick and an adjacent outer layer of gold from 1 to 250 nm thick. The present invention relates to a wire, wherein the gold layer contains at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium, in an amount of 10 to 10% based on the weight of the wire. It is characterized in that it is contained in a total ratio of 100 ppm by weight (ppm by weight), preferably in the range of 10 to 40 ppm by weight. At the same time, in one embodiment, the total proportion of at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium is 300 to 3500 ppm by weight, preferably 300 to 2000 ppm by weight, based on the weight of gold in the gold layer. , most preferably in the range of 600 to 1000 ppm by weight.

본 발명의 와이어는 바람직하게는 마이크로 전자장치에서 본딩을 위한 본딩 와이어이다. 와이어는 바람직하게는 일체형 물체이다. 수많은 형상이 알려져 있고, 본 발명의 와이어에 유용한 것으로 보인다. 바람직한 형상은 (단면도에서) 원형, 타원체 및 직사각형 형상이다. 본 발명의 경우, 용어 "본딩 와이어"는 모든 단면 형상 및 모든 통상의 와이어 직경을 포함하지만, 원형 단면 및 얇은 직경을 갖는 본딩 와이어가 바람직하다. 평균 단면적은 예를 들어 50 내지 5024 ㎛2, 또는 바람직하게는 110 내지 2400 ㎛2의 범위이고; 따라서 바람직한 원형 단면의 경우에, 평균 직경은 예를 들어 8 내지 80 ㎛, 또는 바람직하게는 12 내지 55 ㎛의 범위이다.The wire of the present invention is preferably a bonding wire for bonding in microelectronic devices. The wire is preferably a one-piece object. Numerous shapes are known and appear to be useful for the wire of the present invention. Preferred shapes are (in cross-section) circular, ellipsoidal and rectangular shapes. For the present invention, the term “bonding wire” includes all cross-sectional shapes and all conventional wire diameters, but bonding wires with circular cross-sections and thin diameters are preferred. The average cross-sectional area ranges for example from 50 to 5024 μm 2 , or preferably from 110 to 2400 μm 2 ; Therefore, in the case of a preferred circular cross-section, the average diameter ranges for example from 8 to 80 μm, or preferably from 12 to 55 μm.

와이어 또는 와이어 코어의 평균 직경, 또는 간단히 말해서 직경은 "사이징 방법(sizing method)"에 의해 얻어질 수 있다. 이러한 방법에 따르면, 규정된 길이에 대한 와이어의 물리적 중량이 결정된다. 이러한 중량에 기초하여, 와이어 또는 와이어 코어의 직경은 와이어 재료의 밀도를 사용하여 계산된다. 직경은 특정 와이어의 5 개의 절단부에 대한 5 회의 측정치의 산술 평균으로서 계산된다.The average diameter, or simply the diameter, of the wire or wire core can be obtained by the “sizing method”. According to this method, the physical weight of the wire for a specified length is determined. Based on this weight, the diameter of the wire or wire core is calculated using the density of the wire material. The diameter is calculated as the arithmetic mean of five measurements on five cuts of a particular wire.

와이어 코어는 은 와이어 코어이거나, 은계이며; 즉, 와이어 코어는 (a) 은, 즉 순은으로 이루어지거나, (b) 도핑된 은, (c) 은 합금 또는 (d) 도핑된 은 합금 형태의 은계 재료로 이루어진다.The wire core is a silver wire core or is silver-based; That is, the wire core is made of (a) silver, that is, pure silver, or is made of a silver-based material in the form of (b) doped silver, (c) silver alloy, or (d) doped silver alloy.

본원에 사용된 용어 "순은(pure sliver)"은, (a1) 99.99 내지 100 중량%(weight-%) 범위의 양인 은, 및 (a2) 0 내지 100 중량ppm의 총량인 추가 성분(은 이외의 성분)으로 이루어진 순은을 의미한다.As used herein, the term "pure silver" means (a1) silver in an amount ranging from 99.99 to 100 weight-%, and (a2) additional components (other than silver) in a total amount of 0 to 100 ppm by weight. refers to pure silver composed of (components)

본원에 사용된 용어 "도핑된 은(doped sliver)"은, (b1) > 99.49 내지 99.997 중량% 범위의 양인 은, (b2) 30 내지 < 5000 중량ppm의 총량인 은 이외의 적어도 하나의 도핑 원소, 및 (b3) 0 내지 100 중량ppm의 총량인 추가 성분(은 및 적어도 하나의 도핑 원소 이외의 성분)으로 이루어진 은계 재료를 의미한다. 바람직한 실시예에서, 본원에 사용된 용어 "도핑된 은"은, (b1) > 99.49 내지 99.997 중량% 범위의 양인 은, (b2) 칼슘, 니켈, 백금, 팔라듐, 금, 구리, 로듐 및 루테늄으로 이루어진 그룹으로부터 선택되고 30 내지 < 5000 중량ppm의 총량인 적어도 하나의 도핑 원소, 및 (b3) 0 내지 100 중량ppm의 총량인 추가 성분(은, 칼슘, 니켈, 백금, 팔라듐, 금, 구리, 로듐 및 루테늄 이외의 성분)으로 이루어진 도핑된 은을 의미한다.As used herein, the term "doped silver (doped sliver)" means (b1) silver in an amount ranging from >99.49 to 99.997% by weight, (b2) at least one doping element other than silver in a total amount of 30 to <5000 ppm by weight. , and (b3) additional components (components other than silver and at least one doping element) in a total amount of 0 to 100 ppm by weight. In a preferred embodiment, the term "doped silver" as used herein means (b1) silver in an amount ranging from > 99.49 to 99.997% by weight, (b2) calcium, nickel, platinum, palladium, gold, copper, rhodium and ruthenium. at least one doping element selected from the group consisting of and in a total amount of 30 to <5000 ppm by weight, and (b3) further components (silver, calcium, nickel, platinum, palladium, gold, copper, rhodium) in a total amount of 0 to 100 ppm by weight. and components other than ruthenium).

본원에 사용된 용어 "은 합금"은, (c1) 89.99 내지 99.5 중량%, 바람직하게는 97.99 내지 99.5 중량% 범위의 양인 은, (c2) 0.5 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 2 중량% 범위의 총량인 적어도 하나의 합금 원소, 및 (c3) 0 내지 100 중량ppm의 총량인 추가 성분(은 및 적어도 하나의 합금 원소 이외의 성분)으로 이루어진 은계 재료를 의미한다. 바람직한 실시예에서, 본원에 사용된 용어 "은 합금"은, (c1) 89.99 내지 99.5 중량%, 바람직하게는 97.99 내지 99.5 중량% 범위의 양인 은, (c2) 니켈, 백금, 팔라듐, 금, 구리, 로듐 및 루테늄으로 이루어진 그룹으로부터 선택되고 0.5 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 2 중량% 범위의 총량인 적어도 하나의 합금 원소, 및 (c3) 0 내지 100 중량ppm의 총량인 추가 성분(은, 니켈, 백금, 팔라듐, 금, 구리, 로듐 및 루테늄 이외의 성분)으로 이루어진 은 합금을 의미한다.As used herein, the term "silver alloy" means silver in an amount ranging from (c1) 89.99 to 99.5% by weight, preferably 97.99 to 99.5% by weight, (c2) 0.5 to 10% by weight, preferably 0.5 to 2% by weight. means a silver-based material consisting of at least one alloying element in a total amount ranging from (c3) 0 to 100 ppm by weight of additional components (components other than silver and at least one alloying element) in a total amount ranging from 0 to 100 ppm by weight. In a preferred embodiment, the term "silver alloy" as used herein means (c1) silver in an amount ranging from 89.99 to 99.5% by weight, preferably 97.99 to 99.5% by weight, (c2) nickel, platinum, palladium, gold, copper. , at least one alloying element selected from the group consisting of rhodium and ruthenium and in a total amount ranging from 0.5 to 10% by weight, preferably in the range from 0.5 to 2% by weight, and (c3) a further component (silver) in a total amount from 0 to 100 ppm by weight. , refers to a silver alloy composed of ingredients other than nickel, platinum, palladium, gold, copper, rhodium, and ruthenium).

본원에 사용된 용어 "도핑된 은 합금"은, (d1) > 89.49 내지 99.497 중량%, 바람직하게는 97.49 내지 99.497 중량% 범위의 양인 은, (d2) 30 내지 < 5000 중량ppm의 총량인 적어도 하나의 도핑 원소, (d3) 0.5 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 2 중량% 범위의 총량인 적어도 하나의 합금 원소, 및 (d4) 0 내지 100 중량ppm의 총량인 추가 성분(은, 적어도 하나의 도핑 원소 및 적어도 하나의 합금 원소 이외의 성분)으로 이루어진 은계 재료를 의미하며, 적어도 하나의 도핑 원소(d2)는 적어도 하나의 합금 원소(d3)와 다르다. 바람직한 실시예에서, 본원에 사용된 용어 "도핑된 은 합금"은, (d1) > 89.49 내지 99.497 중량%, 바람직하게는 97.49 내지 99.497 중량% 범위의 양인 은, (d2) 칼슘, 니켈, 백금, 팔라듐, 금, 구리, 로듐 및 루테늄으로 이루어진 그룹으로부터 선택되고 30 내지 < 5000 중량ppm의 총량인 적어도 하나의 도핑 원소, (d3) 니켈, 백금, 팔라듐, 금, 구리, 로듐 및 루테늄으로 이루어진 그룹으로부터 선택되고 0.5 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 2 중량% 범위의 총량인 적어도 하나의 합금 원소, 및 (d4) 0 내지 100 중량ppm의 총량인 추가 성분(은, 칼슘, 니켈, 백금, 팔라듐, 금, 구리, 로듐 및 루테늄 이외의 성분)으로 이루어진 도핑된 은 합금을 의미하며, 적어도 하나의 도핑 원소(d2)는 적어도 하나의 합금 원소(d3)와 다르다.As used herein, the term "doped silver alloy" means (d1) silver in an amount ranging from >89.49 to 99.497% by weight, preferably 97.49 to 99.497% by weight, (d2) at least one silver in a total amount of 30 to <5000 ppm by weight. doping elements, (d3) at least one alloying element in a total amount ranging from 0.5 to 10% by weight, preferably in the range from 0.5 to 2% by weight, and (d4) at least one additional component (silver) in a total amount ranging from 0 to 100 ppm by weight. refers to a silver-based material consisting of a component other than a doping element and at least one alloy element), and at least one doping element (d2) is different from at least one alloy element (d3). In a preferred embodiment, the term "doped silver alloy" as used herein means silver, (d2) calcium, nickel, platinum, in an amount ranging from (d1) > 89.49 to 99.497 wt%, preferably in the range from 97.49 to 99.497 wt%. at least one doping element selected from the group consisting of palladium, gold, copper, rhodium and ruthenium and in a total amount of 30 to <5000 ppm by weight, (d3) from the group consisting of nickel, platinum, palladium, gold, copper, rhodium and ruthenium at least one alloying element selected and in a total amount ranging from 0.5 to 10% by weight, preferably in the range from 0.5 to 2% by weight, and (d4) further components (silver, calcium, nickel, platinum, palladium) in a total amount ranging from 0 to 100 ppm by weight , elements other than gold, copper, rhodium and ruthenium), and at least one doping element (d2) is different from at least one alloying element (d3).

본 개시는 "추가 성분" 및 "도핑 원소"를 언급한다. 임의의 추가 성분의 개별 양은 30 중량ppm 미만이다. 임의의 도핑 원소의 개별 양은 적어도 30 중량ppm이다. 중량% 및 중량ppm의 모든 양은 코어 또는 그 전구체 물품 또는 연신된 전구체 물품의 총 중량을 기준으로 한다.This disclosure refers to “additional components” and “doping elements.” The individual amount of any additional ingredient is less than 30 ppm by weight. The individual amount of any doping element is at least 30 ppm by weight. All amounts in weight percent and weight ppm are based on the total weight of the core or its precursor article or drawn precursor article.

본 발명의 와이어의 코어는 0 내지 100 중량ppm, 예를 들어 10 내지 100 중량ppm 범위의 총량인 소위 추가 성분을 포함할 수 있다. 본 맥락에서, 종종 "필연적인 불순물"로도 지칭되는 추가 성분은 사용된 원료에 존재하는 불순물 또는 와이어 코어 제조 프로세스에서 유래하는 소량의 화학 원소 및/또는 화합물이다. 추가 성분의 0 내지 100 중량ppm의 낮은 총량은 와이어 특성의 양호한 재현성을 보장한다. 코어에 존재하는 추가 성분은 통상적으로 별도로 추가되지 않는다. 각각의 개별 추가 성분은 와이어 코어의 총 중량을 기준으로 30 중량ppm 미만의 양으로 포함된다.The core of the wire of the invention may comprise so-called additional components in a total amount ranging from 0 to 100 ppm by weight, for example from 10 to 100 ppm by weight. In this context, additional components, sometimes also referred to as “inevitable impurities”, are impurities present in the raw materials used or small amounts of chemical elements and/or compounds originating from the wire core manufacturing process. Low total amounts of additional components of 0 to 100 ppm by weight ensure good reproducibility of wire properties. Additional components present in the core are typically not added separately. Each individual additional ingredient is included in an amount of less than 30 ppm by weight, based on the total weight of the wire core.

와이어의 코어는 벌크 재료의 균질한 영역이다. 임의의 벌크 재료는 항상 어느 정도 상이한 특성을 나타낼 수 있는 표면 영역을 갖기 때문에, 와이어의 코어의 특성은 벌크 재료의 균질한 영역의 특성으로서 이해된다. 벌크 재료 영역의 표면은 형태(morphology), 조성(예를 들어, 황, 염소 및/또는 산소 함량) 및 다른 특징 측면에서 상이할 수 있다. 표면은 와이어 코어와 와이어 코어 상에 중첩된 코팅 층 사이의 인터페이스 영역이다. 전형적으로, 코팅 층은 와이어 코어의 표면 상에 완전히 중첩된다. 와이어의 코어와 그 위에 중첩된 코팅 층 사이의 와이어의 영역에서, 코어 및 코팅 층 모두의 재료 조합이 존재할 수 있다.The core of the wire is a homogeneous region of bulk material. Since any bulk material always has surface areas that may exhibit somewhat different properties, the properties of the core of the wire are understood as properties of homogeneous regions of the bulk material. The surfaces of bulk material regions may differ in terms of morphology, composition (eg, sulfur, chlorine, and/or oxygen content), and other characteristics. The surface is the interface area between the wire core and the coating layer superimposed on the wire core. Typically, the coating layer completely overlaps the surface of the wire core. In the area of the wire between the core of the wire and the coating layer superimposed thereon, combinations of materials of both core and coating layers may be present.

와이어 코어의 표면 상에 중첩된 코팅 층은 1 내지 1000 ㎚ 두께, 바람직하게는 20 내지 300 ㎚ 두께인 금 단일-층이거나, 1 내지 100 ㎚ 두께, 바람직하게는 1 내지 30 ㎚ 두께인 팔라듐의 내부 층, 및 1 내지 250 ㎚ 두께, 바람직하게는 20 내지 200 ㎚ 두께인 인접한 금의 외부 층으로 구성된 이중-층이다. 이러한 맥락에서, 용어 "두께" 또는 "코팅 층 두께"는 코어의 종축에 수직인 방향으로의 코팅 층의 크기를 의미한다.The coating layer superimposed on the surface of the wire core is a single-layer of gold 1 to 1000 nm thick, preferably 20 to 300 nm thick, or an internal layer of palladium 1 to 100 nm thick, preferably 1 to 30 nm thick. layer, and an adjacent outer layer of gold that is 1 to 250 nm thick, preferably 20 to 200 nm thick. In this context, the term “thickness” or “coating layer thickness” means the size of the coating layer in the direction perpendicular to the longitudinal axis of the core.

단일 또는 외부 금 층은 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재를, 와이어(와이어 코어 + 코팅 층)의 중량을 기준으로 10 내지 100 중량ppm, 바람직하게는 10 내지 40 중량ppm 범위의 총 비율로 포함한다. 동시에, 일 실시예에서, 상기 적어도 하나의 부재의 총 비율은 금 층의 금의 중량을 기준으로 300 내지 3500 중량ppm, 바람직하게는 300 내지 2000 중량ppm, 가장 바람직하게는 600 내지 1000 중량ppm의 범위일 수 있다.The single or outer gold layer contains at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium in an amount of 10 to 100 ppm by weight, preferably 10 to 40 ppm, based on the weight of the wire (wire core + coating layer). Included as a total percentage in the weight ppm range. At the same time, in one embodiment, the total proportion of said at least one member is 300 to 3500 ppm by weight, preferably 300 to 2000 ppm by weight, most preferably 600 to 1000 ppm by weight, based on the weight of gold in the gold layer. It may be a range.

안티몬이 금 층 내에 존재하는 것이 바람직하다. 안티몬이 금 층 내에 단독으로 존재하는 것, 즉 비스무트, 비소 및 텔루륨이 동시에 존재하지 않는 것이 훨씬 더 바람직하다. 다시 말해서, 바람직한 실시예에서, 금 층은 비스무트, 비소 및 텔루륨이 금 층 내에 존재하지 않고 와이어(와이어 코어 + 코팅 층)의 중량을 기준으로 10 내지 100 중량ppm, 바람직하게는 10 내지 40 중량ppm 범위의 비율로 안티몬을 포함하며; 동시에, 훨씬 더 바람직한 실시예에서, 안티몬의 비율은 금 층의 금의 중량을 기준으로 300 내지 3500 중량ppm, 바람직하게는 300 내지 2000 중량ppm, 가장 바람직하게는 600 내지 1000 중량ppm의 범위일 수 있다.It is preferred that antimony is present in the gold layer. It is much more desirable for antimony to be present alone in the gold layer, i.e. without bismuth, arsenic and tellurium present simultaneously. In other words, in a preferred embodiment, the gold layer is free of bismuth, arsenic and tellurium and contains 10 to 100 ppm by weight, preferably 10 to 40 ppm, based on the weight of the wire (wire core + coating layer). Contains antimony in proportions in the ppm range; At the same time, in an even more preferred embodiment, the proportion of antimony may range from 300 to 3500 ppm by weight, preferably from 300 to 2000 ppm by weight, most preferably from 600 to 1000 ppm by weight, based on the weight of gold in the gold layer. there is.

일 실시예에서, 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재는 금 층 내에서 농도 구배를 나타낼 수 있으며, 상기 구배는 와이어 코어를 향한 방향, 즉 와이어 코어의 종축에 수직인 방향으로 증가한다.In one embodiment, at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic, and tellurium may exhibit a concentration gradient within the gold layer, the gradient being oriented toward the wire core, i.e., perpendicular to the longitudinal axis of the wire core. increases in the direction of

본 출원인은 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재가 금 층 내에 존재하는 것이 다수의 놀랍고 유리한 효과를 수반한다는 것을 발견하였다. 예를 들어, 금 층은 밝고 반짝이는 황색 금 외관을 나타내는 것에 의해 구별되며; 구형 및 축대칭 FAB의 형성이 가능해지고, 본 발명의 코팅 와이어를 볼 본딩할 때, OCB 현상의 발생이 억제되거나 심지어 방지될 수도 있다. 상기 적어도 하나의 부재가 어떤 화학적 형태로 또는 어떤 화학종으로 금 층에 존재하는지, 즉 금 층에 원소 형태로 존재하는지 또는 화합물의 형태로 존재하는지 여부는 알려져 있지 않다.The applicant has discovered that the presence in the gold layer of at least one element selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium is accompanied by a number of surprising and advantageous effects. For example, the gold layer is distinguished by having a bright, shiny yellow gold appearance; The formation of spherical and axisymmetric FABs becomes possible, and when ball bonding the coated wire of the present invention, the occurrence of the OCB phenomenon can be suppressed or even prevented. It is not known in what chemical form or species the at least one member is present in the gold layer, that is, whether it is present in the gold layer in elemental form or in the form of a compound.

다른 양태에서, 본 발명은 또한 상기에 개시된 임의의 실시예에 있어서의 본 발명의 코팅 와이어의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 방법은,In another aspect, the invention also relates to a method of making the coated wire of the invention in any of the embodiments disclosed above. The above method is,

(1) 은 전구체 물품 또는 은계 전구체 물품을 제공하는 단계,(1) providing a silver precursor article or silver-based precursor article,

(2) 706 내지 31400 ㎛2 범위의 중간 단면적 또는 30 내지 200 ㎛ 범위의 중간 직경이 얻어질 때까지, 전구체 물품을 연신시켜서 연신된 전구체 물품을 형성하는 단계,(2) stretching the precursor article to form a stretched precursor article until a median cross-sectional area ranging from 706 to 31400 μm 2 or a median diameter ranging from 30 to 200 μm is obtained,

(3) 방법 단계 (2)의 완료 후에 얻어진 연신된 전구체 물품의 표면 상에 금의 단일-층, 또는 팔라듐의 내부 층 및 인접한 금의 외부 층의 이중-층 코팅을 적용하는 단계,(3) applying a single-layer of gold, or a double-layer coating of an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold, on the surface of the stretched precursor article obtained after completion of method step (2),

(4) 원하는 최종 단면적 또는 직경, 그리고 1 내지 1000 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 금의 단일-층, 또는 1 내지 100 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 팔라듐의 내부 층 및 1 내지 200 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 인접한 금의 외부 층으로 구성된 이중-층이 얻어질 때까지, 방법 단계 (3)의 완료 후에 얻어진 코팅된 전구체 물품을 추가로 연신시키는 단계, 및(4) a single-layer of gold having the desired final cross-sectional area or diameter and a desired final thickness ranging from 1 to 1000 nm, or an inner layer of palladium having a desired final thickness ranging from 1 to 100 nm and a desired final thickness ranging from 1 to 200 nm. further stretching the coated precursor article obtained after completion of method step (3) until a bi-layer consisting of adjacent outer layers of gold having the desired final thickness is obtained, and

(5) 방법 단계 (4)의 완료 후에 얻어진 코팅된 전구체를 0.4 내지 0.8 초 범위의 노출 시간 동안 200 내지 600 ℃ 범위의 오븐 설정 온도로 최종 스트랜드 어닐링하여 코팅 와이어를 형성하는 단계를 적어도 포함하며,(5) final strand annealing of the coated precursor obtained after completion of method step (4) at an oven set temperature ranging from 200 to 600° C. for an exposure time ranging from 0.4 to 0.8 seconds to form a coated wire,

단계 (2)는 50 내지 150 분 범위의 노출 시간 동안 400 내지 800 ℃의 오븐 설정 온도로 전구체 물품을 중간 배치 어닐링(batch annealing)하는 하나 이상의 하위-단계를 포함할 수 있고,Step (2) may include one or more sub-steps of intermediate batch annealing of the precursor article at an oven set temperature of 400 to 800° C. for an exposure time ranging from 50 to 150 minutes,

단계 (3)에서 금 층의 적용은, 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재 및 금을 포함하는 금 전기도금 배스(gold electroplating bath)로부터 금 층을 전기도금함으로써 수행된다.The application of the gold layer in step (3) is carried out by electroplating the gold layer from a gold electroplating bath comprising gold and at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium. do.

용어 "스트랜드 어닐링(strand annealing)"이 본원에 사용된다. 이것은 높은 재현성을 갖는 와이어를 신속하게 생산할 수 있게 하는 연속 프로세스이다. 본 발명의 맥락에서, 스트랜드 어닐링은 어닐링될 코팅된 전구체가 통상적인 어닐링 오븐을 통해 당겨지거나 이동되고 어닐링 오븐을 떠난 후에 릴(reel) 상에 스풀링(spooling)되는 동안에 동적으로 어닐링이 수행되는 것을 의미한다. 여기서, 어닐링 오븐은 전형적으로 주어진 길이의 원통형 튜브 형태이다. 예를 들어 10 내지 60 미터/분의 범위에서 선택될 수 있는 주어진 어닐링 속도에서 규정된 온도 프로파일에 따라, 어닐링 시간/오븐 온도 파라미터가 규정 및 설정될 수 있다.The term “strand annealing” is used herein. This is a continuous process that allows the rapid production of wire with high reproducibility. In the context of the present invention, strand annealing means that the annealing is carried out dynamically while the coated precursor to be annealed is pulled or moved through a conventional annealing oven and, after leaving the annealing oven, spooling onto a reel. do. Here, the annealing oven is typically in the form of a cylindrical tube of a given length. Annealing time/oven temperature parameters can be defined and set according to a defined temperature profile at a given annealing rate, which can for example be selected in the range of 10 to 60 meters/minute.

용어 "오븐 설정 온도"가 본원에 사용된다. 이것은 어닐링 오븐의 온도 제어기에 고정된 온도를 의미한다. 어닐링 오븐은 챔버로(chamber furnace) 유형 오븐(배치 어닐링의 경우) 또는 관형 어닐링 오븐(스트랜드 어닐링의 경우)일 수 있다.The term “oven set temperature” is used herein. This refers to the temperature fixed in the temperature controller of the annealing oven. The annealing oven may be a chamber furnace type oven (for batch annealing) or a tubular annealing oven (for strand annealing).

본 개시는 전구체 물품, 연신된 전구체 물품, 코팅된 전구체 물품, 코팅된 전구체 및 코팅 와이어를 구별한다. 용어 "전구체 물품(precursor)"은 와이어 코어의 원하는 최종 단면적 또는 최종 직경에 도달하지 않은 와이어 전단계에 사용되는 한편, 용어 "전구체"는 원하는 최종 단면적 또는 원하는 최종 직경의 와이어 전단계에 사용된다. 방법 단계 (5)의 완료 후에, 즉 원하는 최종 단면적 또는 원하는 최종 직경의 코팅된 전구체의 최종 스크랜드 어닐링 후에, 본 발명의 의미에서의 코팅 와이어가 얻어진다.The present disclosure distinguishes between precursor articles, drawn precursor articles, coated precursor articles, coated precursors, and coated wires. The term “precursor” is used for wire precursors that have not reached the desired final cross-sectional area or final diameter of the wire core, while the term “precursor” is used for wire precursors that have the desired final cross-sectional area or desired final diameter. After completion of method step (5), i.e. after final strand annealing of the coated precursor of the desired final cross-sectional area or desired final diameter, a coated wire in the sense of the invention is obtained.

방법 단계 (1)에서 제공되는 전구체 물품은 은 전구체 물품이거나 은계이며; 즉, 전구체 물품은 (a) 은, 즉 순은, (b) 도핑된 은, (c) 은 합금, 또는 (d) 도핑된 은 합금으로 이루어진다. 용어 "순은", "도핑된 은", "은 합금" 및 "도핑된 은 합금"의 의미와 관련하여, 전술한 개시가 참조된다.The precursor article provided in method step (1) is a silver precursor article or is silver-based; That is, the precursor article is comprised of (a) silver, i.e. pure silver, (b) doped silver, (c) a silver alloy, or (d) a doped silver alloy. With regard to the meaning of the terms “pure silver”, “doped silver”, “silver alloy” and “doped silver alloy”, reference is made to the foregoing disclosure.

은 전구체 물품의 실시예에서, 은 전구체 물품은 전형적으로 예를 들어 2 내지 25 ㎜의 직경 및 예를 들어 2 내지 100 m의 길이를 갖는 로드(rod) 형태이다. 그러한 은 로드는 적절한 몰드를 사용하여 은을 연속 주조한 후에 냉각 및 응고시킴으로써 제조될 수 있다.In an embodiment of the silver precursor article, the silver precursor article is typically in the form of a rod having a diameter of, for example, 2 to 25 mm and a length, for example, of 2 to 100 m. Such silver rods can be manufactured by continuously casting silver using a suitable mold followed by cooling and solidification.

은계 전구체 물품의 실시예에서, 은계 전구체 물품은 필요한 성분의 원하는 양으로 은을 합금화, 도핑, 또는 합금화 및 도핑함으로써 얻어질 수 있다. 도핑된 은 또는 은 합금 또는 도핑된 은 합금은 금속 합금 분야의 당업자에게 알려진 통상적인 방법에 의해, 예를 들어 원하는 비례 비율로 성분들을 함께 용융시킴으로써 준비될 수 있다. 그렇게 함으로써, 하나 이상의 통상적인 마스터 합금(master alloy)을 사용하는 것이 가능하다. 용융 프로세스는 예를 들어 유도로를 사용하여 수행될 수 있으며, 진공 하에서, 또는 불활성 가스 분위기 하에서 작업하는 것이 편리하다. 사용된 재료는 예를 들어 99.99 중량% 이상의 순도 등급을 가질 수 있다. 이렇게 생성된 용융물은 냉각되어 은계 전구체 물품의 균질한 피스(homogeneous piece)를 형성할 수 있다. 전형적으로, 그러한 전구체 물품은 예를 들어 2 내지 25 ㎜의 직경 및 예를 들어 2 내지 100 m의 길이를 갖는 로드 형태이다. 그러한 로드는 적절한 몰드를 사용하여 은계 용융물을 연속 주조한 후에 냉각 및 응고시킴으로써 제조될 수 있다.In embodiments of the silver-based precursor article, the silver-based precursor article may be obtained by alloying, doping, or alloying and doping silver with the desired amount of the required component. Doped silver or silver alloys or doped silver alloys can be prepared by conventional methods known to those skilled in the art of metal alloys, for example by melting the components together in the desired proportional proportions. In so doing, it is possible to use one or more conventional master alloys. The melting process can be carried out, for example, using an induction furnace, and it is convenient to work under vacuum or under an inert gas atmosphere. The materials used may have a purity rating of, for example, 99.99% by weight or higher. The resulting melt can be cooled to form a homogeneous piece of silver-based precursor article. Typically, such precursor articles are in the form of rods with a diameter of eg 2 to 25 mm and a length of eg 2 to 100 m. Such rods can be manufactured by continuously casting a silver-based melt using a suitable mold followed by cooling and solidification.

방법 단계 (2)에서, 706 내지 31400 ㎛2 범위의 중간 단면적 또는 30 내지 200 ㎛ 범위의 중간 직경이 얻어질 때까지, 전구체 물품이 연신되어 연신된 전구체 물품을 형성한다. 전구체 물품을 연신시키는 기술은 알려져 있으며, 본 발명의 맥락에서 유용한 것으로 보인다. 바람직한 기술은 압연, 스웨이징(swaging), 다이 드로잉(die drawing) 등이며, 이들 중에서 다이 드로잉이 특히 바람직하다. 다이 드로잉의 경우, 전구체 물품은 원하는 중간 단면적 또는 원하는 중간 직경에 도달할 때까지 여러 프로세스 단계에서 드로잉된다. 그러한 와이어 다이 드로잉 프로세스는 당업자에게 잘 알려져 있다. 통상적인 탄화텅스텐 및 다이아몬드 드로잉 다이가 이용될 수 있으며, 드로잉을 지원하기 위해 통상적인 드로잉 윤활제가 이용될 수 있다.In method step (2), the precursor article is stretched until a median cross-sectional area ranging from 706 to 31400 μm 2 or a median diameter ranging from 30 to 200 μm is obtained, forming a stretched precursor article. Techniques for stretching precursor articles are known and appear to be useful in the context of the present invention. Preferred techniques include rolling, swaging, die drawing, etc., of which die drawing is particularly preferred. For die drawing, the precursor article is drawn in several process steps until the desired intermediate cross-sectional area or desired intermediate diameter is reached. Such wire die drawing processes are well known to those skilled in the art. Conventional tungsten carbide and diamond drawing dies can be used, and conventional drawing lubricants can be used to assist in drawing.

본 발명의 방법의 단계 (2)는 50 내지 150 분 범위의 노출 시간 동안 400 내지 800 ℃ 범위의 오븐 설정 온도로 연신된 전구체 물품을 중간 배치 어닐링하는 하나 이상의 하위-단계를 포함할 수 있다. 상기의 선택적인 중간 배치 어닐링은 로드가 예를 들어 2 ㎜의 직경까지 드로잉되고 드럼 상에 감겨지는 것으로 수행될 수 있다.Step (2) of the method of the present invention may include one or more sub-steps of intermediate batch annealing of the stretched precursor article at an oven set temperature ranging from 400 to 800° C. for an exposure time ranging from 50 to 150 minutes. The above optional intermediate batch annealing can be carried out with rods drawn to a diameter of, for example, 2 mm and wound on a drum.

방법 단계 (2)의 선택적인 중간 배치 어닐링은 불활성 또는 환원 분위기 하에서 수행될 수 있다. 수많은 유형의 불활성 분위기 및 환원 분위기가 당업계에 알려져 있으며, 어닐링 오븐을 퍼지하는 데 사용된다. 알려진 불활성 분위기 중에서, 질소 또는 아르곤이 바람직하다. 알려진 환원 분위기 중에서, 수소가 바람직하다. 다른 바람직한 환원 분위기는 수소와 질소의 혼합물이다. 수소 및 질소의 바람직한 혼합물은 90 내지 98 체적%의 질소 및 그에 따라 2 내지 10 체적%의 수소이며, 체적%는 총 100 체적%이다. 질소/수소의 바람직한 혼합물은 각각 혼합물의 총 체적을 기준으로 93/7, 95/5 및 97/3 체적%/체적%와 동일하다.The optional intermediate batch annealing of method step (2) may be performed under an inert or reducing atmosphere. Numerous types of inert atmospheres and reducing atmospheres are known in the art and used to purge annealing ovens. Among known inert atmospheres, nitrogen or argon are preferred. Among known reducing atmospheres, hydrogen is preferred. Another preferred reducing atmosphere is a mixture of hydrogen and nitrogen. A preferred mixture of hydrogen and nitrogen is 90 to 98 volume percent nitrogen and thus 2 to 10 volume percent hydrogen, with the volume percent totaling 100 volume percent. Preferred mixtures of nitrogen/hydrogen are equal to 93/7, 95/5 and 97/3 volume%/vol%, respectively, based on the total volume of the mixture.

방법 단계 (3)에서, 금의 단일-층, 또는 팔라듐의 내부 층과 인접한 금의 외부 층의 이중-층 코팅 형태의 코팅이 방법 단계 (2)의 완료 후에 얻어진 연신된 전구체 물품의 표면 상에 적용되어 상기 표면 위에 코팅을 중첩시킨다.In method step (3), a coating in the form of a single-layer of gold, or a double-layer coating of an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold, is applied on the surface of the drawn precursor article obtained after completion of method step (2). is applied to superimpose a coating on the surface.

당업자는 연신된 전구체 물품 상의 그러한 코팅의 두께를 계산하여 와이어의 실시예에 대해 개시된 층 두께, 즉 코팅된 전구체 물품을 최종적으로 연신시킨 후의 층 두께의 코팅을 최종적으로 얻는 방법을 알고 있다. 당업자는 은 또는 은계 표면 상에 실시예에 따른 재료의 코팅 층을 형성하기 위한 수많은 기술을 알고 있다. 바람직한 기술은 전기도금 및 무전해 도금과 같은 도금과, 스퍼터링, 이온 도금, 진공 증착 및 물리적 기상 증착과 같은 기상으로부터의 재료의 퇴적과, 용융물로부터의 재료의 퇴적이다. 내부 팔라듐 층과 외측 금 층으로 구성된 상기 이중-층을 적용하는 경우, 전기도금에 의해 팔라듐 층을 적용하는 것이 바람직하다.A person skilled in the art knows how to calculate the thickness of such a coating on the stretched precursor article to finally obtain a coating of the layer thickness disclosed for the embodiment of the wire, i.e. the layer thickness after the coated precursor article has been finally stretched. Those skilled in the art are aware of numerous techniques for forming coating layers of materials according to embodiments on silver or silver-based surfaces. Preferred techniques are plating, such as electroplating and electroless plating, deposition of material from the vapor phase, such as sputtering, ion plating, vacuum deposition and physical vapor deposition, and deposition of material from a melt. When applying the double-layer consisting of an inner palladium layer and an outer gold layer, it is preferred to apply the palladium layer by electroplating.

금 층은 전기도금에 의해 적용된다. 금 전기도금은 금 전기도금 배스, 즉 은 또는 은계 또는 팔라듐 캐소드 표면이 금으로 전기도금될 수 있게 하는 전기도금 배스를 사용하여 수행된다. 다시 말해서, 금 전기도금 배스는 캐소드로서 배선된 은 또는 은계 또는 팔라듐 표면 상에 원소 금속 형태의 금을 직접 적용할 수 있게 하는 조성물이다. 금 전기도금 배스는 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재 및 금을 포함하며; 따라서, 금 전기도금 배스는 원소 금을 퇴적시킬 수 있게 할 뿐만 아니라, 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 상기 적어도 하나의 부재를 금 층 내에 퇴적시킬 수 있게 하는 조성물이다. 적어도 하나의 부재가 어떤 화학종인지, 즉 금 층에 원소 형태로 존재하는지 화합물로서 존재하는지 여부는 알려져 있지 않다. 금 전기도금 배스는 용해된 염 또는 용해된 염들로서 금을 함유하는 수성 조성물에 적합한 화학적 형태의 상기 적어도 하나의 부재를 첨가함으로써 제조될 수 있다. 적어도 하나의 부재가 첨가될 수 있는 그러한 수성 조성물의 예는 Atotech에 의해 제조된 Aurocor® K 24 HF 및 Umicore에 의해 제조된 Auruna® 558 및 Auruna® 559이다. 대안적으로, 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재를 이미 포함하는 금 전기도금 배스, 예를 들어 Metalor에 의해 제조된 MetGold Pure ATF가 사용될 수 있다. 금 전기도금 배스에서의 금의 농도는 예를 들어 8 내지 40 g/l(그램/리터), 바람직하게는 10 내지 20 g/l의 범위일 수 있다. 금 전기도금 배스에서의 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재의 농도는 예를 들어 15 내지 50 중량ppm, 바람직하게는 15 내지 35 중량ppm의 범위일 수 있다.The gold layer is applied by electroplating. Gold electroplating is performed using a gold electroplating bath, that is, an electroplating bath that allows a silver or silver-based or palladium cathode surface to be electroplated with gold. In other words, a gold electroplating bath is a composition that allows direct application of gold in elemental metallic form onto a silver or silver-based or palladium surface wired as a cathode. The gold electroplating bath includes gold and at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic, and tellurium; Accordingly, the gold electroplating bath is a composition that allows not only to deposit elemental gold, but also to deposit said at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium within a gold layer. It is not known what chemical species the at least one member is, i.e. whether it exists in elemental form or as a compound in the gold layer. A gold electroplating bath can be prepared by adding the at least one member in a suitable chemical form to an aqueous composition containing gold as a dissolved salt or dissolved salts. Examples of such aqueous compositions to which at least one member may be added are Aurocor® K 24 HF manufactured by Atotech and Auruna® 558 and Auruna® 559 manufactured by Umicore. Alternatively, a gold electroplating bath may be used, for example MetGold Pure ATF manufactured by Metalor, which already contains at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium. The concentration of gold in the gold electroplating bath may range, for example, from 8 to 40 g/l (grams per liter), preferably from 10 to 20 g/l. The concentration of at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium in the gold electroplating bath may for example range from 15 to 50 ppm by weight, preferably from 15 to 35 ppm by weight.

금 층의 전기도금 적용은 캐소드로서 배선된 코팅되지 않은 연신된 전구체 물품 또는 팔라듐-코팅된 연신된 전구체 물품을 금 전기도금 배스를 통해 안내함으로써 수행된다. 금 전기도금 배스를 빠져나가는 이렇게 얻어진 금-코팅된 전구체 물품은 방법 단계 (4)가 수행되기 전에 헹구고 건조될 수 있다. 헹굼 매체로서 물을 사용하는 것이 편리하며, 알코올 및 알코올/물 혼합물이 헹굼 매체의 다른 예이다. 금 전기도금 배스를 통과하는 코팅되지 않은 연신된 전구체 물품 또는 팔라듐-코팅된 연신된 전구체 물품의 금 전기도금은, 예를 들어 0.2 내지 20 V 범위의 직류 전압에서 예를 들어 0.001 내지 5 A, 특히 0.001 내지 1 A 또는 0.001 내지 0.2 A 범위의 전류로 일어날 수 있다. 전형적인 접촉 시간은 예를 들어 0.1 내지 30 초, 바람직하게는 2 내지 8 초의 범위일 수 있다. 이러한 맥락에서 사용되는 전류 밀도는 예를 들어 0.01 내지 150 A/dm2의 범위에 있을 수 있다. 금 전기도금 배스는 예를 들어 45 내지 75 ℃, 바람직하게는 55 내지 65 ℃ 범위의 온도를 가질 수 있다.Electroplating application of the gold layer is performed by guiding an uncoated or palladium-coated stretched precursor article wired as a cathode through a gold electroplating bath. The gold-coated precursor article thus obtained exiting the gold electroplating bath may be rinsed and dried before method step (4) is performed. It is convenient to use water as the rinsing medium; alcohol and alcohol/water mixtures are other examples of rinsing media. Gold electroplating of an uncoated stretched precursor article or a palladium-coated stretched precursor article passing through a gold electroplating bath can be carried out at a direct current voltage in the range of for example 0.2 to 20 V, for example from 0.001 to 5 A, especially This can occur with currents ranging from 0.001 to 1 A or 0.001 to 0.2 A. Typical contact times may range for example from 0.1 to 30 seconds, preferably from 2 to 8 seconds. The current density used in this context may for example range from 0.01 to 150 A/dm 2 . The gold electroplating bath may have a temperature ranging for example from 45 to 75°C, preferably from 55 to 65°C.

금 코팅 층의 두께는 본질적으로 하기의 파라미터를 통해 소망에 따라 조정될 수 있다: 금 전기도금 배스의 화학적 조성, 연신된 전구체 물품과 금 전기도금 배스의 접촉 시간, 전류 밀도. 이러한 맥락에서, 금 층의 두께는 일반적으로 금 전기도금 배스 내의 금의 농도를 증가시키고, 캐소드로서 배선된 연신된 전구체 물품과 금 전기도금 배스의 접촉 시간을 증가시키며, 전류 밀도를 증가시킴으로써 증가될 수 있다.The thickness of the gold coating layer can be adjusted as desired essentially through the following parameters: chemical composition of the gold electroplating bath, contact time of the stretched precursor article with the gold electroplating bath, and current density. In this context, the thickness of the gold layer can generally be increased by increasing the concentration of gold in the gold electroplating bath, increasing the contact time of the gold electroplating bath with the stretched precursor article wired as the cathode, and increasing the current density. You can.

본 출원인은 전술한 유익한 효과가 금 전기도금 배스에 상기 적어도 하나의 부재의 존재로 인한 것인지 여부, 또는 금 층 내에의 그것의 단순한 존재가 핵심인지 여부를 알지는 못한다.The applicant does not know whether the beneficial effects described above are due to the presence of said at least one member in the gold electroplating bath, or whether its mere presence in the gold layer is key.

방법 단계 (4)에서, 방법 단계 (3)의 완료 후에 얻어진 코팅된 전구체 물품은, 1 내지 1000 ㎚, 바람직하게는 20 내지 300 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 금의 단일-층, 또는 1 내지 100 ㎚, 바람직하게는 1 내지 30 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 팔라듐의 내부 층 및 1 내지 250 ㎚, 바람직하게는 20 내지 200 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 인접한 금의 외부 층으로 구성된 이중-층을 갖는 와이어의 원하는 최종 단면적 또는 직경이 얻어질 때까지, 추가로 연신된다. 코팅된 전구체 물품을 연신시키는 기술은 방법 단계 (2)의 개시에서 상기에 언급된 것과 동일한 연신 기술이다.In method step (4), the coated precursor article obtained after completion of method step (3) is a single-layer of gold having a desired final thickness ranging from 1 to 1000 nm, preferably from 20 to 300 nm, or from 1 to 300 nm. Bi-layer consisting of an inner layer of palladium having a desired final thickness ranging from 100 nm, preferably 1 to 30 nm, and an adjacent outer layer of gold having a desired final thickness ranging from 1 to 250 nm, preferably 20 to 200 nm. It is further drawn until the desired final cross-sectional area or diameter of the layered wire is obtained. The technique for stretching the coated precursor article is the same stretching technique as mentioned above at the start of method step (2).

방법 단계 (5)에서, 방법 단계 (4)의 완료 후에 얻어진 코팅된 전구체는 0.4 내지 0.8 초 범위의 노출 시간 동안 200 내지 600 ℃, 바람직하게는 350 내지 500 ℃ 범위의 오븐 설정 온도로 최종 스트랜드 어닐링되어, 코팅 와이어를 형성한다.In method step (5), the coated precursor obtained after completion of method step (4) is subjected to final strand annealing at an oven set temperature ranging from 200 to 600° C., preferably from 350 to 500° C., for an exposure time ranging from 0.4 to 0.8 seconds. This forms a coated wire.

바람직한 실시예에서, 최종 스트랜드 어닐링된 코팅된 전구체, 즉 여전히 고온의 코팅 와이어는 일 실시예에서 하나 이상의 첨가제, 예를 들어 0.01 내지 0.2 체적%의 첨가제(들)를 함유할 수 있는 수중에서 담금질된다. 수중 담금질은, 예를 들어 침지(dipping) 또는 적하(dripping)를 통해, 최종 스트랜드 어닐링된 코팅된 전구체를 방법 단계 (5)에서 직면한 온도로부터 실온으로 즉시 또는 신속하게, 즉 0.2 내지 0.6 초 이내에 냉각시키는 것을 의미한다.In a preferred embodiment, the final strand annealed coated precursor, i.e. the still hot coated wire, is quenched in water which in one embodiment may contain one or more additives, for example 0.01 to 0.2% by volume of the additive(s). . Submerged quenching immediately or rapidly, i.e., within 0.2 to 0.6 seconds, brings the final strand annealed coated precursor from the temperature encountered in method step (5) to room temperature, for example by dipping or dripping. It means cooling.

방법 단계 (5)의 완료 및 선택적인 담금질 후에, 본 발명의 코팅 와이어가 완성된다. 그 특성의 이점을 충분히 향유하기 위해, 와이어 본딩 응용에 코팅 와이어를 즉시 사용하는 것, 즉 지연 없이, 예를 들어 방법 단계 (5) 완료 후 28 일 이내에 사용하는 것이 편리하다. 대안적으로, 와이어의 넓은 와이어 본딩 프로세스 윈도우(wire bonding process window) 특성을 유지하고 산화 또는 다른 화학적 공격을 방지하기 위해, 완성된 와이어는 전형적으로 프로세스 단계 (5) 완료 직후, 즉 지연 없이, 예를 들어 방법 단계 (5) 완료 후 < 1 내지 5 시간 이내에 스풀링되고 진공 밀봉되며, 다음에 본딩 와이어로서의 추가 사용을 위해 보관된다. 진공 밀봉 상태로의 보관은 12 개월을 초과하지 않아야 한다. 진공 시일을 개봉한 후에, 와이어는 28 일 이내에 와이어 본딩에 사용되어야 한다.After completion of method step (5) and optional quenching, the coated wire of the present invention is complete. In order to fully enjoy the benefits of its properties, it is convenient to use the coated wire in wire bonding applications immediately, i.e. without delay, for example within 28 days after completion of method step (5). Alternatively, in order to maintain the wide wire bonding process window properties of the wire and prevent oxidation or other chemical attack, the finished wire is typically produced immediately after completion of process step (5), i.e. without delay, e.g. For example, within <1 to 5 hours after completing method step (5), it is spooled and vacuum sealed, and then stored for further use as a bonding wire. Storage under vacuum seal should not exceed 12 months. After opening the vacuum seal, the wire must be used for wire bonding within 28 days.

모든 방법 단계 (1) 내지 (5)뿐만 아니라, 스풀링 및 진공 밀봉은 클린룸 조건(US FED STD 209E 클린룸 표준, 1k 표준) 하에서 수행되는 것이 바람직하다.All method steps (1) to (5), as well as spooling and vacuum sealing, are preferably performed under cleanroom conditions (US FED STD 209E cleanroom standard, 1k standard).

본 발명의 제3 양태는 임의의 실시예에 따른 상기에 개시된 방법에 의해 얻을 수 있는 코팅된 와이어이다. 본 발명의 코팅 와이어는 와이어 본딩 응용에서 본딩 와이어로서 사용하기에 매우 적합하다는 것이 밝혀졌다. 와이어 본딩 기술은 당업자에게 잘 알려져 있다. 와이어 본딩 과정에서, 볼 본드부(ball bond)(제1 본드부) 및 스티치 본드부(stitch bond)(제2 본드부, 웨지 본드부(wedge bond))가 형성되는 것이 전형적이다. 본드부 형성 동안에, 초음파 에너지(전형적으로 mA로 측정됨)의 인가에 의해 지원되는 특정 힘(전형적으로 그램으로 측정됨)이 인가된다. 와이어 본딩 프로세스에서 인가된 힘의 상한과 하한 사이의 차이와 인가된 초음파 에너지의 상한 및 하한 사이의 차이의 수학적 곱은 와이어 본딩 프로세스 윈도우를 규정한다:A third aspect of the invention is a coated wire obtainable by the method disclosed above according to any of the embodiments. It has been found that the coated wire of the present invention is well suited for use as a bonding wire in wire bonding applications. Wire bonding techniques are well known to those skilled in the art. In the wire bonding process, a ball bond (first bond) and a stitch bond (second bond, wedge bond) are typically formed. During bond formation, a specific force (typically measured in grams) is applied supported by the application of ultrasonic energy (typically measured in mA). In a wire bonding process, the mathematical product of the difference between the upper and lower limits of the applied force and the difference between the upper and lower limits of the applied ultrasonic energy defines the wire bonding process window:

(인가된 힘의 상한 - 인가된 힘의 하한)·(인가된 초음파 에너지의 상한 - 인가된 초음파 에너지의 하한) = 와이어 본딩 프로세스 윈도우. (Upper limit of applied force - Lower limit of applied force)·(Upper limit of applied ultrasonic energy - Lower limit of applied ultrasonic energy) = Wire bonding process window .

와이어 본딩 프로세스 윈도우는 사양을 충족하는 와이어 본드부의 형성을 허용하는, 즉, 몇 가지만 예로 들자면 통상적인 인장 테스트, 볼 전단 테스트 및 볼 인장 테스트와 같은 통상적인 테스트를 통과하는, 힘/초음파 에너지 조합의 영역을 규정한다.The wire bonding process window determines the force/ultrasonic energy combination that allows the formation of a wire bond that meets specifications, i.e., passes conventional tests such as conventional tensile testing, ball shear testing, and ball tensile testing, to name a few. Define the area.

yes

FAB의 준비:Preparation of FAB:

FAB에 대한 KNS Process User Guide(Kulicke & Soffa Industries Inc, Fort Washington, PA, USA, 2002, 31 May 2009)에 설명된 절차에 따라 주변 분위기 하에서 작업되었다. FAB는 통상적인 전기 플레임-오프(electric flame-off; EFO) 소성을 표준 소성(단일 단계, 17.5 ㎛ 와이어, 50 mA의 EFO 전류, EFO 시간 125 ㎲)에 의해 수행함으로써 준비되었다.It was operated under ambient conditions according to the procedures described in the KNS Process User Guide for FAB (Kulicke & Soffa Industries Inc, Fort Washington, PA, USA, 2002, 31 May 2009). FAB was prepared by performing conventional electric flame-off (EFO) firing by standard firing (single step, 17.5 μm wire, EFO current of 50 mA, EFO time 125 μs).

테스트 방법 A 및 B:Test methods A and B:

모든 테스트 및 측정은 T = 20 ℃ 및 상대 습도 RH = 50%에서 수행되었다.All tests and measurements were performed at T = 20 °C and relative humidity RH = 50%.

A. FAB 형태A. FAB form

형성된 FAB가 1000배의 주사 전자 현미경(SEM)에 의해 조사되었다.The formed FAB was examined by scanning electron microscopy (SEM) at 1000× magnification.

평가:evaluation:

++++ = 우수(구형의 축대칭 볼)++++ = Excellent (spherical, axisymmetric ball)

+++ = 양호(구형의 축대칭 볼)+++ = Good (spherical, axisymmetric ball)

++ = 만족(볼이 완전히 원형은 아니지만, 와이어 축에 대한 뚜렷한 경사(< 2 도) 없음)++ = Satisfactory (ball is not perfectly round, but has no significant inclination (< 2 degrees) about the wire axis)

+ = 열등(볼이 완전히 원형은 아니지만, FAB 표면 상에 뚜렷한 플라토(plateau)가 없고, 와이어 축에 대해 5 내지 10 도 경사짐)+ = Inferior (ball is not perfectly circular, but has no apparent plateau on the FAB surface and is inclined at 5 to 10 degrees to the wire axis)

B. OCB 발생B. Occurrence of OCB

형성된 FAB는 사전규정된 높이(203.2 ㎛의 팁) 및 속도(6.4 ㎛/초의 접촉 속도)로부터 Al-0.5중량%Cu 본드 패드(bond pad)까지 하강하였다. 본드 패드와 접촉할 때, 규정된 본딩 파라미터 세트(100 g의 본드력, 95 mA의 초음파 에너지 및 15 ㎳의 본드 시간)가 FAB를 변형시키도록 실행되고 본딩된 볼을 형성하였다. 볼을 형성한 후에, 모세관은 사전규정된 높이(152.4 ㎛의 킹크(kink) 높이 및 254 ㎛의 루프 높이)로 상승하여 루프를 형성하였다. 루프를 형성한 후에, 모세관이 리드(lead)까지 하강하여 스티치를 형성하였다. 스티치를 형성한 후에, 모세관이 상승하고 와이어 클램프가 사전규정된 테일 길이(254 ㎛의 테일 길이 연장부)를 형성하기 위해 와이어를 절단하도록 폐쇄된다. 각각의 샘플에 대해, 2500 개의 본딩된 와이어의 유의미한 수가 1000배의 현미경을 사용하여 광학적으로 검사되었다. 결함의 백분율이 결정되었다.The formed FAB was lowered from a predefined height (tip of 203.2 μm) and speed (contact speed of 6.4 μm/sec) to an Al-0.5 wt% Cu bond pad. Upon contact with the bond pad, a defined set of bonding parameters (bond force of 100 g, ultrasonic energy of 95 mA and bond time of 15 ms) were implemented to deform the FAB and form a bonded ball. After forming the ball, the capillary was raised to a predefined height (kink height of 152.4 μm and loop height of 254 μm) to form a loop. After forming the loop, the capillary was lowered to the lead to form a stitch. After forming the stitch, the capillary is raised and the wire clamp is closed to cut the wire to form a predefined tail length (tail length extension of 254 μm). For each sample, a significant number of 2500 bonded wires were optically inspected using a microscope at 1000× magnification. The percentage of defects was determined.

와이어 예wire example

각각의 경우에 적어도 99.99% 순도("4N")인 소정량의 은(Ag), 및 선택적으로 팔라듐(Pd) 또는 팔라듐(Pd) 및 금(Au)이 도가니에서 용융되었다. 다음에, 8 ㎜ 로드 형태의 와이어 코어 전구체 물품이 용융물로부터 연속 주조되었다. 다음에, 로드가 여러 드로잉 단계에서 드로잉되어, 2 ㎜의 직경을 갖는 원형 단면을 가지는 와이어 코어 전구체를 형성하였다. 와이어 코어 전구체는 60 분의 노출 시간 동안 500 ℃의 오븐 설정 온도로 중간 배치 어닐링되었다. 로드가 여러 드로잉 단계에서 추가로 드로잉되어, 46 ㎛의 직경을 갖는 원형 단면을 가지는 와이어 코어 전구체를 형성하였다. 다음에, 와이어 코어 전구체가 금의 단일-층으로 전기도금되거나, 팔라듐의 내부 층 및 인접한 금의 외부 층의 이중-층 코팅으로 전기도금되었다. 이러한 목적을 위해, 캐소드로서 배선된 동안 와이어 코어 전구체가 61 ℃의 따뜻한 금 전기도금 배스, 또는 53 ℃의 따뜻한 팔라듐 전기도금 배스를 통해 이동되고, 이어서, 61 ℃의 따뜻한 금 전기도금 배스를 통해 이동되었다.A quantity of silver (Ag), in each case at least 99.99% pure (“4N”), and optionally palladium (Pd) or palladium (Pd) and gold (Au) were melted in a crucible. Next, wire core precursor articles in the form of 8 mm rods were continuously cast from the melt. Next, the rod was drawn in several drawing steps to form a wire core precursor with a circular cross-section with a diameter of 2 mm. The wire core precursor was medium batch annealed with an oven set temperature of 500 °C for an exposure time of 60 min. The rod was further drawn in several drawing steps to form a wire core precursor with a circular cross-section with a diameter of 46 μm. Next, the wire core precursor was electroplated with a single-layer of gold or a double-layer coating of an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold. For this purpose, the wire core precursor, while wired as a cathode, is moved through a warm gold electroplating bath at 61° C., or a warm palladium electroplating bath at 53° C., and then through a warm gold electroplating bath at 61° C. It has been done.

팔라듐 전기도금 배스([Pd(NH3)4]Cl2 기반, pH7의 완충액을 가짐)는 1.45 g/l(그램/리터)의 팔라듐 함량을 가졌다.The palladium electroplating bath (based on [Pd(NH 3 ) 4 ]Cl 2 , with buffer at pH 7) had a palladium content of 1.45 g/l (grams per liter).

안티몬, 비스무트, 비소 또는 텔루륨을 함유하는 4 개의 상이한 금 전기도금 배스가 준비되었다.Four different gold electroplating baths containing antimony, bismuth, arsenic or tellurium were prepared.

안티몬(Sb)을 포함하는 금 전기도금 배스(Metalor로부터의 MetGold Pure ATF 기반)는 13.2 g/l의 금 함량 및 20 중량ppm의 안티몬 함량을 가졌다.The gold electroplating bath with antimony (Sb) (based on MetGold Pure ATF from Metalor) had a gold content of 13.2 g/l and an antimony content of 20 ppm by weight.

비스무트(Bi)를 포함하는 금 전기도금 배스(KAu(CN)2 기반, pH5의 완충액을 가짐; BiPO4 첨가)는 13.2 g/l의 금 함량 및 25 중량ppm의 비스무트 함량을 가졌다.The gold electroplating bath with bismuth (Bi) (based on KAu(CN) 2 with buffer at pH 5; BiPO 4 added) had a gold content of 13.2 g/l and a bismuth content of 25 ppm by weight.

비소(As)를 포함하는 금 전기도금 배스(KAu(CN)2 기반, pH5의 완충액을 가짐; As2O3 첨가)는 13.2 g/l의 금 함량 및 25 중량ppm의 비소 함량을 가졌다.The gold electroplating bath containing arsenic (As) (based on KAu(CN) 2 , with buffer at pH 5; As 2 O 3 added) had a gold content of 13.2 g/l and an arsenic content of 25 ppm by weight.

텔루륨(Te)을 포함하는 금 전기도금 배스(KAu(CN)2 기반, pH5의 완충액을 가짐; TeO2 첨가)는 13.2 g/l의 금 함량 및 25 중량ppm의 텔루륨 함량을 가졌다.The gold electroplating bath containing tellurium (Te) (based on KAu(CN) 2 , with buffer at pH 5; added TeO 2 ) had a gold content of 13.2 g/l and a tellurium content of 25 ppm by weight.

그 후에, 코팅된 와이어 전구체가 17.5 ㎛의 최종 직경까지 추가로 드로잉된 후에, 0.6 초의 노출 시간 동안 220 ℃의 오븐 설정 온도로 최종 스트랜드 어닐링된 직후에, 그렇게 얻어진 코팅 와이어를 0.07 체적%의 계면활성제를 함유하는 수중에서 담금질하였다.Thereafter, the coated wire precursor was further drawn to a final diameter of 17.5 μm, immediately after the final strand annealing with an oven set temperature of 220° C. for an exposure time of 0.6 s, and then the coated wire so obtained was coated with 0.07 volume% of surfactant. It was quenched in water containing .

이러한 절차에 의해, 팔라듐 및 금 코팅된 은 및 은계 와이어와, 4N 순도의 코팅되지 않은 참고 은 와이어(참고)의 몇 개의 상이한 샘플 1 내지 26이 제조되었다.By this procedure, several different samples 1 to 26 of palladium and gold coated silver and silver-based wires and an uncoated reference silver wire of 4N purity (reference) were prepared.

하기 표 1은 코팅되지 않은 와이어 및 코팅 와이어의 조성을 나타낸다.Table 1 below shows the composition of the uncoated and coated wires.

Sb, Bi, As, Te, Au, Pd의 존재는 ICP(Inductively Coupled Plasma)에 의해 결정되었다. 층 두께는 STEM(Scanning Transmission Electron Microscopy)에 의해 단면에 대해 측정되었다.The presence of Sb, Bi, As, Te, Au, and Pd was determined by ICP (Inductively Coupled Plasma). Layer thickness was measured on cross sections by Scanning Transmission Electron Microscopy (STEM).

하기의 표 2는 특정 테스트 결과를 나타낸다.Table 2 below shows specific test results.

"가스 퍼지 하에서 형성"은 FAB가 그 형성 동안에 95/5 체적%/체적%의 질소/수소로 퍼지되었다는 것을 의미하는 반면, "대기 하에서"는 FAB 형성이 공기 분위기 하에서 수행되었다는 것을 의미한다.“Formed under gas purge” means that the FAB was purged with 95/5 vol%/vol% nitrogen/hydrogen during its formation, while “under atmospheric air” means that the FAB formation was carried out under an air atmosphere.

Claims (9)

표면을 갖는 와이어 코어를 포함하는 와이어로서, 상기 와이어 코어는 그 표면 상에 중첩된 코팅 층을 가지며, 상기 와이어 코어 자체는 은 와이어 코어 또는 은계 와이어 코어이고, 상기 코팅 층은 1 내지 1000 ㎚ 두께인 금의 단일-층이거나, 1 내지 100 ㎚ 두께인 팔라듐의 내부 층 및 1 내지 250 ㎚ 두께인 인접한 금의 외부 층으로 구성된 이중-층인 것인, 와이어에 있어서,
상기 금 층은, 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재를, 상기 와이어의 중량을 기준으로 10 내지 100 중량ppm 범위의 총 비율로 포함하고, 상기 적어도 하나의 부재의 총 비율은 상기 금 층의 금 중량을 기준으로 300 내지 3500 중량ppm 범위 인 것을 특징으로 하는 와이어.
A wire comprising a wire core having a surface, the wire core having a coating layer superimposed on its surface, the wire core itself being a silver wire core or a silver-based wire core, the coating layer having a thickness of 1 to 1000 nm. A wire, which is either a single-layer of gold or a double-layer consisting of an inner layer of palladium from 1 to 100 nm thick and an adjacent outer layer of gold from 1 to 250 nm thick,
The gold layer comprises at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium in a total proportion ranging from 10 to 100 ppm by weight based on the weight of the wire, and the at least one member Wire, characterized in that the total ratio ranges from 300 to 3500 ppm by weight based on the weight of gold in the gold layer.
제1항에 있어서,
50 내지 5024 ㎛2 범위의 평균 단면적을 갖는 와이어.
According to paragraph 1,
A wire with an average cross-sectional area ranging from 50 to 5024 μm 2 .
제1항에 있어서,
8 내지 80 ㎛ 범위의 평균 직경을 갖는 원형 단면을 가지는 와이어.
According to paragraph 1,
A wire having a circular cross-section with an average diameter ranging from 8 to 80 μm.
제1항에 있어서,
안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 상기 적어도 하나의 부재는, 상기 금 층 내에서 농도 구배를 나타내고, 상기 농도 구배는 상기 와이어 코어의 종축에 수직인 방향으로 증가하는 것인 와이어.
According to paragraph 1,
wherein the at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium exhibits a concentration gradient within the gold layer, the concentration gradient increasing in a direction perpendicular to the longitudinal axis of the wire core.
제1항에 있어서,
상기 금 층 내에 안티몬이 존재하는 것인 와이어.
According to paragraph 1,
A wire wherein antimony is present in the gold layer.
제5항에 있어서,
상기 금 층 내에 비스무트, 비소 및 텔루륨이 동시에 존재하지 않는 것인 와이어.
According to clause 5,
A wire wherein bismuth, arsenic and tellurium are not present simultaneously in the gold layer.
제1항의 코팅 와이어의 제조 방법에 있어서,
(1) 은 전구체 물품 또는 은계 전구체 물품을 제공하는 단계,
(2) 706 내지 31400 ㎛2 범위의 중간 단면적 또는 30 내지 200 ㎛ 범위의 중간 직경이 얻어질 때까지, 상기 전구체 물품을 연신시켜서 연신된 전구체 물품을 형성하는 단계,
(3) 방법 단계 (2)의 완료 후에 얻어진 상기 연신된 전구체 물품의 표면 상에 금의 단일-층, 또는 팔라듐의 내부 층 및 인접한 금의 외부 층의 이중-층 코팅을 적용하는 단계,
(4) 원하는 최종 단면적 또는 직경, 그리고 1 내지 1000 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 금의 단일-층, 또는 1 내지 100 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 팔라듐의 내부 층 및 1 내지 200 ㎚ 범위의 원하는 최종 두께를 갖는 인접한 금의 외부 층으로 구성된 이중-층이 얻어질 때까지, 방법 단계 (3)의 완료 후에 얻어진 코팅된 전구체 물품을 추가로 연신시키는 단계, 및
(5) 방법 단계 (4)의 완료 후에 얻어진 코팅된 전구체를 0.4 내지 0.8 초 범위의 노출 시간 동안 200 내지 600 ℃ 범위의 오븐 설정 온도로 최종 스트랜드 어닐링(strand annealing)하여 상기 코팅 와이어를 형성하는 단계
를 적어도 포함하며,
단계 (2)는 50 내지 150 분 범위의 노출 시간 동안 400 내지 800 ℃의 오븐 설정 온도로 상기 전구체 물품을 중간 배치 어닐링(batch annealing)하는 하나 이상의 하위-단계를 포함할 수 있고,
단계 (3)에서 상기 금 층의 적용은, 안티몬, 비스무트, 비소 및 텔루륨으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 부재 및 금을 포함하는 금 전기도금 배스로부터 상기 금 층을 전기도금함으로써 수행되는 것인 방법.
In the method of manufacturing the coated wire of claim 1,
(1) providing a silver precursor article or silver-based precursor article,
(2) forming a stretched precursor article by stretching the precursor article until a median cross-sectional area ranging from 706 to 31400 μm 2 or a median diameter ranging from 30 to 200 μm is obtained,
(3) applying a single-layer of gold, or a double-layer coating of an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold, on the surface of the stretched precursor article obtained after completion of method step (2),
(4) a single-layer of gold having the desired final cross-sectional area or diameter and a desired final thickness ranging from 1 to 1000 nm, or an inner layer of palladium having a desired final thickness ranging from 1 to 100 nm and a desired final thickness ranging from 1 to 200 nm. further stretching the coated precursor article obtained after completion of method step (3) until a bi-layer consisting of adjacent outer layers of gold having the desired final thickness is obtained, and
(5) final strand annealing of the coated precursor obtained after completion of method step (4) at an oven setting temperature ranging from 200 to 600° C. for an exposure time ranging from 0.4 to 0.8 seconds to form the coated wire.
Includes at least
Step (2) may include one or more sub-steps of batch annealing the precursor article at an oven set temperature of 400 to 800° C. for an exposure time ranging from 50 to 150 minutes,
The application of the gold layer in step (3) is carried out by electroplating the gold layer from a gold electroplating bath comprising gold and at least one member selected from the group consisting of antimony, bismuth, arsenic and tellurium. method.
제7항에 있어서,
상기 팔라듐 층이 전기도금에 의해 적용되는 것인 방법.
In clause 7,
The method of claim 1, wherein the palladium layer is applied by electroplating.
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