JP6622415B2 - Coated wire - Google Patents

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Description

本発明は銅系芯、及び芯の表面に重なる被覆層を含む被覆ワイヤに関する。本発明はさらにこの被覆ワイヤを製造するプロセスに関する。   The present invention relates to a coated wire including a copper-based core and a coating layer overlapping the surface of the core. The invention further relates to a process for producing this coated wire.

電子機器及びマイクロエレクトロニクス用途におけるボンディングワイヤの使用は周知の最先端技術である。ボンディングワイヤは初期には金で作られたが、現在では銅、銅合金、銀及び銀合金などのより安価な材料が用いられている。このようなワイヤは金属コーティングを有することがある。   The use of bonding wires in electronic and microelectronic applications is a well-known state of the art. Bonding wires were initially made of gold, but cheaper materials such as copper, copper alloys, silver and silver alloys are now used. Such wires may have a metal coating.

ワイヤ形状に関して、円形断面のボンディングワイヤ及びほぼ長方形の断面を有するボンディングリボンが最も一般的である。どちらのタイプのワイヤ形状も特定の用途に有用な利点を有している。   Regarding wire shape, bonding wires with a circular cross-section and bonding ribbons with a substantially rectangular cross-section are most common. Both types of wire shapes have useful advantages for specific applications.

本発明の目的は、ワイヤボンディング用途における使用に適当な被覆銅合金ワイヤを提供することである。このワイヤは特にフリーエアボール(FAB)形態、耐食性、OCB(偏心ボール)、第2ボンディングウィンドウが改善されるが、例えばFAB上の被覆材料の分布など、ワイヤ及びそのボンディング用途に関する全体的にバランスのとれた範囲の性質も示す。   It is an object of the present invention to provide a coated copper alloy wire suitable for use in wire bonding applications. This wire especially improves the free air ball (FAB) configuration, corrosion resistance, OCB (eccentric ball), and second bonding window, but the overall balance of the wire and its bonding application, such as the distribution of coating material on the FAB Also shows a range of properties.

該目的の解決手段はカテゴリ形成請求項の主題により提供される。カテゴリ形成請求項の従属請求項は本発明の好ましい実施形態を表し、その主題も上記目的を解決する一助となる。   The solution to this object is provided by the subject matter of the category claim. The dependent claims of the category forming claim represent preferred embodiments of the present invention, the subject matter of which also helps to solve the above object.

第一の態様において、本発明は表面を有するワイヤ芯(以降、略して「芯」とも言う)を含むワイヤに関し、このワイヤ芯はその表面に重なる被覆層を有し、このワイヤ芯自体は、
(a)0.1〜0.3wt%(重量%、重量パーセント)、好ましくは0.2wt%の量の銀と、
(b)99.64〜99.9wt%、好ましくは99.7〜99.9wt%、さらにより好ましくは99.75〜99.85wt%の範囲の量の銅と、
(c)0〜100wt ppm(重量ppm、重量パーツパーミリオン)、好ましくは50〜100wt ppm、より好ましくは70〜80wt ppmの範囲、特に75wt ppmの量のリンと、
(d)0〜500wt ppm、好ましくは0〜100wt ppmの範囲の量のさらなる成分(銀、銅及びリン以外の成分)と、からなり、
任意のさらなる成分の個別の量は30wt ppm未満であり、
wt%及びwt ppmのすべての量は芯の総重量に基づき、
被覆層はパラジウムの内層(基層)及び隣接する金の外層(最上層)で構成される二重層であり、
パラジウムの内層の重量は、ワイヤ芯重量に対して1.5〜2.5wt%の範囲であり、
金の外層の重量は、ワイヤ芯重量に対して0.09〜0.18wt%の範囲である。
In a first aspect, the present invention relates to a wire including a wire core having a surface (hereinafter also referred to as “core” for short), the wire core having a coating layer overlapping the surface,
(A) silver in an amount of 0.1 to 0.3 wt% (wt%, weight percent), preferably 0.2 wt%;
(B) copper in an amount ranging from 99.64 to 99.9 wt%, preferably 99.7 to 99.9 wt%, and even more preferably 99.75 to 99.85 wt%;
(C) 0-100 wt ppm (weight ppm, weight parts per million), preferably 50-100 wt ppm, more preferably 70-80 wt ppm, especially 75 wt ppm phosphorus;
(D) further components (components other than silver, copper and phosphorus) in an amount ranging from 0 to 500 wt ppm, preferably 0 to 100 wt ppm,
The individual amount of any further ingredients is less than 30 wt ppm;
All amounts in wt% and wt ppm are based on the total weight of the core,
The covering layer is a double layer composed of an inner layer (base layer) of palladium and an outer layer (top layer) of adjacent gold,
The weight of the inner layer of palladium ranges from 1.5 to 2.5 wt% with respect to the wire core weight,
The weight of the gold outer layer is in the range of 0.09 to 0.18 wt% with respect to the wire core weight.

以下の表はワイヤ芯組成のいくつかの好ましい実施形態をまとめたものである。   The following table summarizes some preferred embodiments of the wire core composition.

Figure 0006622415
Figure 0006622415

本発明のワイヤは好ましくはマイクロエレクトロニクスにおけるボンディング用ボンディングワイヤである。好ましくは一体型の物体である。多数の形状が公知であり、本発明のワイヤに有用であることは明白である。好ましい形状は断面図で、円、楕円及び長方形である。本発明について、「ボンディングワイヤ」という語はすべての断面形状及びすべての通常のワイヤ直径を含むが、円形断面及び細い直径を有するボンディングワイヤが好ましい。平均断面は例えば50〜5024μm、又は好ましくは113〜2375μmの範囲であり、従って好ましい円形断面の場合、平均直径は例えば8〜80μm、又は好ましくは12〜55μmの範囲である。 The wire of the present invention is preferably a bonding wire for bonding in microelectronics. An integrated object is preferable. Numerous shapes are known and are clearly useful for the wire of the present invention. Preferred shapes are cross-sectional views, which are circles, ellipses and rectangles. For the present invention, the term “bonding wire” includes all cross-sectional shapes and all normal wire diameters, but bonding wires having a circular cross-section and a narrow diameter are preferred. The average cross section is, for example, in the range of 50-5024 μm 2 , or preferably 113-2375 μm 2 , so for a preferred circular cross section, the average diameter is, for example, in the range of 8-80 μm, or preferably 12-55 μm.

平均直径、又は簡単に言うとワイヤもしくはワイヤ芯の直径は、「サイジング法」により得ることができる。この方法によれば、定義された長さのワイヤの物質重量が決定される。ワイヤ又はワイヤ芯の直径は、この重量を基にワイヤ材料の密度を用いて計算される。直径は特定ワイヤの5つの切片に関する5つの測定結果の算術平均として計算される。   The average diameter, or simply the diameter of the wire or wire core, can be obtained by the “sizing method”. According to this method, the material weight of a defined length of wire is determined. The diameter of the wire or wire core is calculated using the density of the wire material based on this weight. The diameter is calculated as the arithmetic average of five measurements for five sections of a particular wire.

上記に従い、ワイヤ芯は上で開示した相対比で(a)銀、(b)銅及び(c)リンを含む。しかし、本発明の被覆ワイヤの銀合金銅芯は、総量0〜500wt ppm、好ましくは0〜100wt ppmで(d)さらなる成分を含んでよい。この状況において、このさらなる成分は「不可避不純物」と呼ばれることも多く、使用する原料に存在する不純物、又はワイヤ製造プロセスから生じる少量の化学元素及び/又は化合物である。すなわち、(d)型のさらなる成分の存在は、例えば銀及び/又は銅に存在する不純物から生じることがある。このようなさらなる成分の例は、Au、Ni、Pd、Pt、Fe、Si、Mn、Cr、Ce、Mg、La、Al、B、Zr、Ti、Sなどである。さらなる成分(d)の0〜500wt ppm、又はさらに0〜100wt ppmという低い総量は、ワイヤ性質のすぐれた再現性を確実にする。芯に存在するさらなる成分(d)は、通常別々に添加されない。各個別のさらなる成分はワイヤ芯の総重量に基づき、30wt ppm未満の量で含まれる。   In accordance with the above, the wire core includes (a) silver, (b) copper and (c) phosphorus in the relative ratios disclosed above. However, the silver alloy copper core of the coated wire of the present invention may contain (d) additional components in a total amount of 0-500 wt ppm, preferably 0-100 wt ppm. In this situation, this additional component is often referred to as an “unavoidable impurity” and is an impurity present in the raw material used or a small amount of chemical elements and / or compounds resulting from the wire manufacturing process. That is, the presence of additional components of type (d) may result from impurities present in, for example, silver and / or copper. Examples of such further components are Au, Ni, Pd, Pt, Fe, Si, Mn, Cr, Ce, Mg, La, Al, B, Zr, Ti, S and the like. A low total amount of 0 to 500 wt ppm of additional component (d), or even 0 to 100 wt ppm, ensures excellent reproducibility of wire properties. The further component (d) present in the core is usually not added separately. Each individual additional component is included in an amount of less than 30 wt ppm, based on the total weight of the wire core.

ワイヤの芯はバルク材の均一領域である。ある程度異なる性質を示す表面領域をどのバルク材も常に有するため、ワイヤの芯の性質はバルク材の均一領域の性質として理解される。バルク材領域の表面は形態、組成(例えば、硫黄、塩素及び/又は酸素含有量)並びに他の特徴の点で異なっていてよい。この表面はワイヤ芯及びワイヤ芯に重なる被覆層間の界面領域である。通常、被覆層はワイヤ芯の表面に完全に重なる。ワイヤの芯及びそこに重なる被覆層間の領域において、芯及び被覆層である両方の材料の結合体が存在してよい。   The core of the wire is a uniform area of the bulk material. Since every bulk material always has a surface area that exhibits some different properties, the core nature of the wire is understood as the nature of the uniform area of the bulk material. The surface of the bulk material region may differ in terms of morphology, composition (eg, sulfur, chlorine and / or oxygen content) and other characteristics. This surface is the interface region between the wire core and the coating layer that overlaps the wire core. Usually, the coating layer completely overlaps the surface of the wire core. In the region of the core of the wire and the overlying coating layer, there may be a combination of both materials, the core and the coating layer.

ワイヤの表面に重なる被覆層はパラジウムの内層及び隣接する金の外層で構成される二重層である。パラジウムの内層の重量は、ワイヤ芯の重量に対して1.5〜2.5wt%の範囲であり、金の外層の重量はワイヤ芯重量に対して0.09〜0.18wt%の範囲である。パラジウムの内層並びに金の外層のどちらも薄層である。この状況において、「薄い」「厚い」又は「被覆層厚み」という語は、芯の縦軸に垂直方向の被覆層の寸法を意味する。上記例示的な50〜5024μmの範囲の平均断面を有するワイヤ、又は上記典型的な8〜80μmの範囲の平均直径を有する円形ワイヤについて、パラジウムの内層は例えば20〜350nm、好ましくは30〜340nmの範囲の厚みを有してよく、金の外層の厚みは例えば1〜25nm、好ましくは2〜20nmの範囲でよい。直径18μmを有する円形ワイヤの例示的実施形態において、パラジウムの内層は例えば60〜90nmの範囲の厚みを有してよく、金の外層の厚みは例えば1〜10nm、好ましくは2〜6nmの範囲でよい。 The coating layer overlying the wire surface is a double layer composed of an inner palladium layer and an adjacent outer gold layer. The weight of the inner layer of palladium ranges from 1.5 to 2.5 wt% with respect to the weight of the wire core, and the weight of the outer layer of gold ranges from 0.09 to 0.18 wt% with respect to the weight of the wire core. is there. Both the inner palladium layer and the outer gold layer are thin layers. In this context, the terms “thin”, “thick” or “coating layer thickness” mean the dimension of the coating layer in the direction perpendicular to the longitudinal axis of the core. For the exemplary wire having an average cross-section in the range of 50-5024 μm 2 or the circular wire having the average diameter in the range of 8-80 μm typical, the inner layer of palladium is, for example, 20-350 nm, preferably 30-340 nm. The thickness of the gold outer layer may be, for example, 1 to 25 nm, preferably 2 to 20 nm. In an exemplary embodiment of a round wire having a diameter of 18 μm, the inner palladium layer may have a thickness in the range of 60-90 nm, for example, and the outer gold layer has a thickness in the range of, for example, 1-10 nm, preferably 2-6 nm. Good.

該二重層の組成について、その内層のパラジウム含有量は内側被覆層の総重量に基づき、例えば少なくとも50wt%、好ましくは少なくとも95wt%である。特に好ましくは、内側被覆層は純粋なパラジウムからなる。純粋なパラジウムは、通常内側被覆層の総重量に基づき、1wt%未満のさらなる成分(パラジウム以外の成分)を有する。隣接する外側金層の金含有量は、外側被覆層の総重量に基づき、例えば少なくとも50wt%、好ましくは少なくとも95wt%である。特に好ましくは、外側被覆層は純粋な金からなる。純粋な金は通常外側被覆層の総重量に基づき、1wt%未満のさらなる成分(金以外の成分)を有する。   For the composition of the bilayer, the palladium content of the inner layer is, for example, at least 50 wt%, preferably at least 95 wt%, based on the total weight of the inner coating layer. Particularly preferably, the inner coating layer consists of pure palladium. Pure palladium usually has less than 1 wt% of additional components (components other than palladium) based on the total weight of the inner coating layer. The gold content of the adjacent outer gold layer is, for example, at least 50 wt%, preferably at least 95 wt%, based on the total weight of the outer coating layer. Particularly preferably, the outer covering layer consists of pure gold. Pure gold usually has less than 1 wt% of additional components (other than gold) based on the total weight of the outer coating layer.

一実施形態において、本発明のワイヤの芯は少なくとも以下の固有の性質(i)〜(iii)の1つにより特徴付けられる(下記「試験方法A」を参照のこと):
(i)平均ワイヤ粒度(平均粒度)は縦方向(ワイヤ芯の縦方向)に測定して、3〜6μmの範囲である、
(ii)縦方向に測定した平均粒度とワイヤ芯の直径の比は、0.05〜0.25、好ましくは0.1〜0.20の範囲である、
(iii)縦方向に測定した芯の平均粒度に対する平均粒度の標準偏差(RSD)の比は0.1〜0.4の範囲である。
In one embodiment, the core of the wire of the invention is characterized by at least one of the following intrinsic properties (i) to (iii) (see “Test Method A” below):
(I) Average wire particle size (average particle size) is measured in the vertical direction (longitudinal direction of the wire core) and is in the range of 3-6 μm.
(Ii) The ratio of the average particle size measured in the longitudinal direction to the diameter of the wire core is in the range of 0.05 to 0.25, preferably 0.1 to 0.20.
(Iii) The ratio of the standard deviation (RSD) of the average particle size to the average particle size of the core measured in the longitudinal direction is in the range of 0.1 to 0.4.

「固有の性質」という語は、本明細書でワイヤ芯に関して用いられる。固有の性質はワイヤ芯自体が(他の因子とは無関係に)有する性質を意味する。固有の性質とは対照的な外来的性質は、用いられる測定方法及び/又は測定条件のような他の因子とワイヤ芯の関係に依存する。   The term “inherent property” is used herein with respect to a wire core. The inherent property means the property that the wire core itself has (regardless of other factors). The extrinsic properties as opposed to the intrinsic properties depend on the relationship between the wire core and other factors such as the measurement method used and / or the measurement conditions.

別の態様において、本発明はまた、上で開示した実施形態のいずれかにおける本発明の被覆ワイヤを製造するプロセスに関する。このプロセスは少なくとも工程(1)〜(5):
(1)所望組成物の前駆物を提供する工程、すなわち
(a)0.1〜0.3wt%、好ましくは0.2wt%の量の銀と、
(b)99.64〜99.9wt%、好ましくは99.7〜99.9wt%、又はさらにより好ましくは99.75〜99.85wt%の範囲の量の銅と、
(c)0〜100wt ppm、好ましくは50〜100wt ppm、より好ましくは70〜80wt ppmの範囲、特に75wt ppmの量のリンと、
(d)0〜500wt ppm、好ましくは0〜100wt ppmの範囲の量のさらなる成分(銀、銅及びリン以外の成分)と、からなり、
任意のさらなる成分の個別の量は30wt ppm未満であり、
wt%及びwt ppmのすべての量は前駆物の総重量に基づく、
前駆物を提供する工程と、
(2)5024〜70650μmの範囲の中間断面、又は80〜300μm、好ましくは130〜230μmの範囲の中間直径が得られるまで、前駆物を引き伸ばして伸長前駆物を得る工程と、
(3)プロセス工程(2)終了後に得られた伸長前駆物の表面に、パラジウムの内層(基層)及び隣接する金の外層(最上層)の二重層コーティングを堆積させる工程と、
(4)所望の最終断面又は直径が得られるまで、プロセス工程(3)の終了後に得られた被覆前駆物をさらに引き伸ばす工程と、
(5)最終的にプロセス工程(4)の終了後に得られた被覆前駆体を450〜650℃の範囲の炉設定温度、0.1〜3秒の範囲の暴露時間でストランド焼鈍を行い、被覆ワイヤを形成する工程と、を含む。
In another aspect, the present invention also relates to a process for producing a coated wire of the present invention in any of the embodiments disclosed above. This process includes at least steps (1) to (5):
(1) providing a precursor of the desired composition, (a) silver in an amount of 0.1-0.3 wt%, preferably 0.2 wt%;
(B) copper in an amount ranging from 99.64 to 99.9 wt%, preferably 99.7 to 99.9 wt%, or even more preferably 99.75 to 99.85 wt%;
(C) phosphorus in the range of 0-100 wt ppm, preferably 50-100 wt ppm, more preferably 70-80 wt ppm, especially 75 wt ppm;
(D) further components (components other than silver, copper and phosphorus) in an amount ranging from 0 to 500 wt ppm, preferably 0 to 100 wt ppm,
The individual amount of any further ingredients is less than 30 wt ppm;
All amounts of wt% and wt ppm are based on the total weight of the precursor,
Providing a precursor; and
(2) stretching the precursor to obtain an elongated precursor until an intermediate cross section in the range of 5024 to 70650 μm 2 or an intermediate diameter in the range of 80 to 300 μm, preferably 130 to 230 μm, is obtained;
(3) depositing a double layer coating of an inner layer of palladium (base layer) and an adjacent outer layer of gold (top layer) on the surface of the elongated precursor obtained after completion of process step (2);
(4) further stretching the coating precursor obtained after completion of process step (3) until the desired final cross-section or diameter is obtained;
(5) Finally, the coating precursor obtained after the end of the process step (4) is subjected to strand annealing at a furnace set temperature in the range of 450 to 650 ° C. and an exposure time in the range of 0.1 to 3 seconds to coat Forming a wire.

「ストランド焼鈍」という語は本明細書で使用される。「バッチ焼鈍」とは対照的に、ストランド焼鈍は高い再現性でワイヤを早く作製することができる連続プロセスである。本発明に関して、ストランド焼鈍は焼鈍される被覆前駆体が従来の焼鈍炉を通過又は移動し、焼鈍炉から出た後、回転部に巻かれながら、焼鈍が動的に行われることを意味する。ここで、焼鈍炉は通常、所定の長さの円筒管状である。例えば10〜60メートル/分の範囲で選ぶことができる所定の焼鈍速度でその定義された温度プロファイルを用い、焼鈍時間/炉温度パラメータを定義し、設定することができる。   The term “strand annealing” is used herein. In contrast to “batch annealing”, strand annealing is a continuous process that can produce wires quickly with high reproducibility. In the context of the present invention, strand annealing means that annealing is performed dynamically while the coating precursor to be annealed passes or moves through a conventional annealing furnace, exits the annealing furnace and is then wound around a rotating part. Here, the annealing furnace is usually a cylindrical tube having a predetermined length. The annealing time / furnace temperature parameters can be defined and set using the defined temperature profile at a predetermined annealing speed that can be selected, for example, in the range of 10-60 meters / minute.

「炉設定温度」という語は本明細書で用いられ、焼鈍炉の温度調節器で固定した温度を意味する。   The term “furnace set temperature” is used herein to mean the temperature fixed by the temperature controller of the annealing furnace.

焼鈍炉は室炉式炉(バッチ焼鈍の場合)でよく、管状焼鈍炉(ストランド焼鈍の場合)でもよい。   The annealing furnace may be a chamber furnace (in the case of batch annealing) or a tubular annealing furnace (in the case of strand annealing).

本開示は前駆物、伸長前駆物、被覆前駆物、被覆前駆体及び被覆ワイヤを区別している。「前駆物」という語は所望の最終断面又はワイヤ芯の最終直径に達しないワイヤの前段階に用いられ、「前駆体」という語は所望の最終断面又は所望の最終直径のワイヤの前段階に用いられる。プロセス工程(5)終了後、すなわち所望の最終断面又は所望の最終直径での被覆前駆体の最終ストランド焼鈍後、本発明の意味の被覆ワイヤが得られる。   The present disclosure distinguishes between precursors, stretch precursors, coating precursors, coating precursors and coated wires. The term “precursor” is used in the previous stage of the wire that does not reach the desired final cross-section or wire core final diameter, and the term “precursor” is used in the previous stage of the desired final cross-section or wire of the desired final diameter Used. After the end of process step (5), i.e. after final strand annealing of the coating precursor with the desired final cross-section or the desired final diameter, a coated wire in the meaning of the invention is obtained.

プロセス工程(1)で提供されるような前駆物は、所望量の銀、及び任意であるが好ましくは適当量のリンも用いて銅を合金化する/銅にドープすることで得ることができる。銅合金自体は銅、銀及び任意のリンを所望の比率で一緒に溶融することなど、金属合金の当業者に公知の従来のプロセスにより調製することができる。こうすることで、マスター合金を使用することができる。溶融プロセスは例えば誘導炉を使用することにより実施することができ、真空又は不活性ガス雰囲気下で動作することが適切である。使用される材料は例えば99.99wt%およびそれを超える純度を有して良い。このように作製された溶融物は冷却されて、銅系前駆物の均一片を形成することができる。通常、このような前駆物は直径が例えば2〜25mm、長さが例えば2〜100mのロッド状である。このようなロッドは該銅合金溶融物を適当な鋳型で鋳造した後、冷却、固化することにより作製することができる。   The precursor as provided in process step (1) can be obtained by alloying / doping copper with the desired amount of silver, and optionally also with an appropriate amount of phosphorus. . The copper alloy itself can be prepared by conventional processes known to those skilled in the metal alloy art, such as melting copper, silver and any phosphorus together in the desired ratio. By doing so, a master alloy can be used. The melting process can be carried out, for example, by using an induction furnace, and it is appropriate to operate under a vacuum or an inert gas atmosphere. The material used may have a purity of, for example, 99.99 wt% and above. The melt thus produced can be cooled to form a uniform piece of copper-based precursor. Usually, such precursors are rod-shaped with a diameter of, for example, 2 to 25 mm and a length of, for example, 2 to 100 m. Such a rod can be produced by casting the copper alloy melt with an appropriate mold and then cooling and solidifying it.

プロセス工程(2)において、5024〜70650μmの範囲の中間断面又は80〜300μm、好ましくは130〜230μmの範囲の中間直径が得られるまで前駆物を引き伸ばして、伸長前駆物を形成する。前駆物を引き伸ばす技術は公知であり、本発明において有用であることは明白である。好ましい技術は圧延、スエージ加工、ダイ延伸などであり、ダイ延伸が特に好ましい。 In process step (2), the precursor is stretched to form an elongated precursor until an intermediate cross section in the range of 5024 to 70650 μm 2 or an intermediate diameter in the range of 80 to 300 μm, preferably 130 to 230 μm is obtained. Techniques for stretching the precursor are known and are clearly useful in the present invention. Preferred techniques are rolling, swaging, die drawing, etc., and die drawing is particularly preferred.

後者の場合、前駆物は、所望の中間断面又は所望の中間直径に達するまで、いくつかのプロセス工程で延伸される。このようなワイヤダイ延伸プロセスは当業者に周知である。従来の炭化タングステン及びダイヤモンド延伸ダイを利用することができ、延伸を支持するため、従来の引き抜き油を用いることができる。   In the latter case, the precursor is stretched in several process steps until the desired intermediate cross section or the desired intermediate diameter is reached. Such wire die drawing processes are well known to those skilled in the art. Conventional tungsten carbide and diamond drawing dies can be used and conventional drawing oils can be used to support the drawing.

本発明プロセスの工程(2)は伸長前駆物の中間焼鈍に関する一つ又は複数のサブ工程を含んでよい。このような中間焼鈍は例えば200〜650℃の範囲の炉設定温度、例えば0.5〜1秒の暴露時間で行うことができる。このような中間焼鈍は通常、ストランド焼鈍法により実施される。   Step (2) of the inventive process may comprise one or more sub-steps relating to the intermediate annealing of the stretch precursor. Such intermediate annealing can be performed at a furnace set temperature in the range of 200 to 650 ° C., for example, at an exposure time of 0.5 to 1 second. Such intermediate annealing is usually performed by a strand annealing method.

プロセス工程(3)において、パラジウムの内層及び隣接する金の外層で構成される二重層コーティングはプロセス工程(2)の終了後に得られる伸長前駆物の表面に堆積して、該表面にコーティングを重ねる。当業者はパラジウムの内層の重量が伸長前駆物の重量に対して1.5〜2.5wt%の範囲であり、金の外層の重量が伸長前駆物の重量に対して0.09〜0.18wt%の範囲であるように、パラジウムの内層及び金の外層が堆積されると理解するであろう。   In process step (3), a double layer coating composed of an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold is deposited on the surface of the elongated precursor obtained after the end of process step (2) and overlays the coating on the surface . Those skilled in the art will appreciate that the weight of the inner layer of palladium is in the range of 1.5 to 2.5 wt% with respect to the weight of the extension precursor, and the weight of the outer layer of gold is 0.09 to 0.000 with respect to the weight of the extension precursor. It will be understood that an inner layer of palladium and an outer layer of gold are deposited so as to be in the range of 18 wt%.

当業者は伸長前駆物上のこのようなコーティングの厚みを計算する方法を認識しており、ワイヤの実施形態で開示された層厚さ、すなわち被覆前駆物を最終的に引き伸ばした後の層厚さのコーティングが最終的に得られる。当業者は銅合金表面上に実施形態による材料の被覆層を形成する多数の技術を認識している。好ましい技術は電気めっき及び無電解めっきなどのめっき、スパッタリング、イオンめっき、真空蒸着及び物理蒸着などの気相からの材料の堆積、並びに溶融物からの材料の堆積である。本発明に関して、電気めっきは好ましい技術である。   Those skilled in the art are aware of how to calculate the thickness of such coatings on the stretch precursor, and the layer thickness disclosed in the wire embodiments, i.e., the layer thickness after the coating precursor has been finally stretched. The final coating is obtained. Those skilled in the art are aware of numerous techniques for forming a coating layer of a material according to embodiments on a copper alloy surface. Preferred techniques are plating such as electroplating and electroless plating, deposition of materials from the gas phase such as sputtering, ion plating, vacuum deposition and physical vapor deposition, and deposition of materials from the melt. In the context of the present invention, electroplating is a preferred technique.

プロセス工程(4)において、プロセス工程(3)の終了後に得られた被覆前駆物は、所望のワイヤの最終断面又は直径が得られるまでさらに引き伸ばされる。被覆前駆物を引き伸ばす技術はプロセス工程(2)の開示において上記した伸長技術と同じである。   In process step (4), the coating precursor obtained after completion of process step (3) is further stretched until the final cross section or diameter of the desired wire is obtained. The technique for stretching the coating precursor is the same as the stretching technique described above in the disclosure of process step (2).

プロセス工程(5)において、最終的にプロセス工程(4)の終了後に得られた被覆前駆体は、例えば450〜650℃の範囲の炉設定温度、0.1〜3秒の暴露時間、又は好ましい実施形態においては500〜600℃、0.3〜1秒でストランド焼鈍される。例示的実施形態、特に直径約18μmのワイヤに関する例示的実施形態において、最終ストランド焼鈍は、炉設定温度530℃、暴露時間0.8秒で実施することができる。   In process step (5), the coating precursor finally obtained after completion of process step (4) is preferably a furnace set temperature in the range of 450-650 ° C., an exposure time of 0.1-3 seconds, or preferred, for example. In the embodiment, strand annealing is performed at 500 to 600 ° C. for 0.3 to 1 second. In an exemplary embodiment, particularly an exemplary embodiment relating to a wire having a diameter of about 18 μm, the final strand annealing can be performed at a furnace set temperature of 530 ° C. and an exposure time of 0.8 seconds.

好ましい実施形態において、最終的にストランド焼鈍した被覆前駆体、すなわち依然として熱い被覆ワイヤは、ある実施形態においては、一つ又は複数の添加剤、例えば0〜1000wt ppmの添加剤を含有してよい水で急冷される。水での急冷は直ちに又は迅速に、すなわち0.2〜0.6秒以内に、例えば浸漬又は滴下により、最終的にストランド焼鈍した被覆前駆体をプロセス工程(5)で受けた温度から室温まで冷却することを意味する。   In preferred embodiments, the final strand annealed coating precursor, i.e., still hot coated wire, in certain embodiments, is water that may contain one or more additives, such as 0 to 1000 wt ppm additive. It is cooled rapidly. Quenching with water is immediate or rapid, i.e. within 0.2 to 0.6 seconds, e.g. by dipping or dripping, from the temperature at which the final strand annealed coating precursor was received in process step (5) to room temperature. Means cooling.

プロセス工程(2)の任意のサブ工程である中間焼鈍、並びにプロセス工程(5)の最終ストランド焼鈍は、不活性又は還元雰囲気下で実施してよい。多数の不活性雰囲気並びに還元雰囲気が当技術分野で公知であり、焼鈍炉をパージするために用いられる。公知の不活性雰囲気のうち、窒素又はアルゴンが好ましい。公知の還元雰囲気のうち、水素が好ましい。別の好ましい還元雰囲気は水素及び窒素の混合物である。水素及び窒素の好ましい混合物は、90〜98vol%窒素であり、従って2〜10vol%水素である。vol%は合計で100vol%である。好ましい窒素/水素の混合物は、混合物の総体積に基づき、それぞれ93/7、95/5及び97/3vol%/vol%に等しい。   Intermediate annealing, which is an optional sub-step of process step (2), and final strand annealing of process step (5) may be performed under an inert or reducing atmosphere. A number of inert and reducing atmospheres are known in the art and are used to purge the annealing furnace. Of the known inert atmospheres, nitrogen or argon is preferred. Of the known reducing atmospheres, hydrogen is preferred. Another preferred reducing atmosphere is a mixture of hydrogen and nitrogen. A preferred mixture of hydrogen and nitrogen is 90-98 vol% nitrogen and thus 2-10 vol% hydrogen. Vol% is 100 vol% in total. Preferred nitrogen / hydrogen mixtures are equal to 93/7, 95/5 and 97/3 vol% / vol%, respectively, based on the total volume of the mixture.

該種類の不活性又は還元ガスを用いたパージは、10〜125min−1、より好ましくは15〜90min−1、最も好ましくは20〜50min−1の範囲であるガス交換率(=ガス流量[リットル/分]:炉内体積[リットル])で実施することが好ましい。 The purge using this kind of inert or reducing gas is a gas exchange rate (= gas flow rate [liter] in the range of 10 to 125 min −1 , more preferably 15 to 90 min −1 , most preferably 20 to 50 min −1. / Min]: It is preferable to carry out at a furnace volume [liter].

プロセス工程(5)及び任意の急冷終了後、本発明の被覆ワイヤは仕上げられる。その性質の利点を完全に得るため、直ちに、すなわち遅延無く、例えばプロセス工程(5)終了後その60日の休止時間以内に、ワイヤボンディング用途のために用いることが適当である。あるいは、ワイヤの広いワイヤボンディングプロセスウィンドウ特性を保つため、及び酸化又は他の化学攻撃を妨げるため、仕上げられたワイヤは通常プロセス工程(5)の終了直後、すなわち遅延なく、例えばプロセス工程(5)終了後1〜5時間以内に巻かれ、真空密閉された後、ボンディングワイヤとしてのさらなる使用のために保管される。真空密閉状態での保管は6ヶ月を超えないようにする。真空密閉を開いた後、ワイヤは60日以内にワイヤボンディングに用いるようにする。   After process step (5) and optional quenching, the coated wire of the present invention is finished. In order to fully take advantage of its properties, it is appropriate to use it for wire bonding applications immediately, ie without delay, for example within the 60-day downtime after the end of process step (5). Alternatively, to maintain the wide wire bonding process window characteristics of the wire and to prevent oxidation or other chemical attack, the finished wire is usually immediately after the end of the process step (5), i.e. without delay, e.g. process step (5) Wrapped within 1-5 hours after completion, vacuum sealed and stored for further use as a bonding wire. Storage in a vacuum-sealed state should not exceed 6 months. After opening the vacuum seal, the wire is used for wire bonding within 60 days.

全プロセス工程(1)〜(5)並びに巻きとり及び真空密閉はクリーンルーム条件(USA FED STD 209Eクリーンルーム規格、1000基準)下で行うことが好ましい。   All process steps (1) to (5), winding and vacuum sealing are preferably performed under clean room conditions (USA FED STD 209E clean room standard, 1000 standards).

本発明の第三の態様は、任意の実施形態に従って上記で開示されたプロセスにより得られる被覆ワイヤである。本発明の被覆ワイヤはワイヤボンディング用途におけるボンディングワイヤとしての使用に優れていることが見出されている。ワイヤボンディング技術は当業者に周知である。ワイヤボンディング過程では、通常ボールボンド(第一ボンド)及びステッチボンド(第二ボンド、ウェッジボンド)が形成される。ボンド形成中、特定のパワー(通常グラムで測定される)が印加され、スクラブストローク(通常μmで測定される)の適用により支持され、又は超音波エネルギー(通常mAで測定される)の印加により支持される。ワイヤボンディングプロセスにおける印加されたパワーの上下限値の差、及び適用されたスクラブストロークの上下限値の差の数学的積、又は印加されたパワーの上下限値の差、及び印加された超音波エネルギーの上下限値の差の数学的積はワイヤボンディングプロセスウィンドウを画定する:
(印加されたパワーの上限値−印加されたパワーの下限値)・(適用されたスクラブストロークの上限値−適用されたスクラブストロークの下限値)=ワイヤボンディングプロセスウィンドウ、
又は
(印加されたパワーの上限値−印加されたパワーの下限値)・(印加された超音波エネルギーの上限値−印加された超音波エネルギーの下限値)=ワイヤボンディングプロセスウィンドウ。
A third aspect of the present invention is a coated wire obtained by the process disclosed above according to any embodiment. The coated wire of the present invention has been found to be excellent for use as a bonding wire in wire bonding applications. Wire bonding techniques are well known to those skilled in the art. In the wire bonding process, usually a ball bond (first bond) and a stitch bond (second bond, wedge bond) are formed. During bond formation, a specific power (usually measured in grams) is applied, supported by the application of a scrub stroke (usually measured in μm), or by the application of ultrasonic energy (usually measured in mA) Supported. Mathematical product of difference between upper and lower limits of applied power and applied scrub stroke in wire bonding process, or difference of upper and lower limits of applied power, and applied ultrasound The mathematical product of the difference between the energy limits defines the wire bonding process window:
(Applied power upper limit value-applied power lower limit value)-(applied scrub stroke upper limit value-applied scrub stroke lower limit value) = wire bonding process window,
Or (upper limit value of applied power−lower limit value of applied power) · (upper limit value of applied ultrasonic energy−lower limit value of applied ultrasonic energy) = wire bonding process window.

ワイヤボンディングプロセスウィンドウはパワー/スクラブストロークの組み合わせ又はパワー/超音波エネルギーの組み合わせの範囲を画定し、いくつか例を挙げると、従来のプル試験、ボールシェア試験及びボール引き抜き試験のような従来の試験を通過するなど、仕様を満たすワイヤボンドを形成する。   The wire bonding process window defines a range of power / scrubbing stroke combinations or power / ultrasonic energy combinations, and conventional tests such as conventional pull tests, ball shear tests and ball pull-out tests, to name a few. A wire bond that meets the specifications is formed.

言い換えると、第一ボンド(ボールボンド)プロセスウィンドウ範囲は、ボンディングに用いられるパワーの上下限値の差及び適用されたスクラブストロークの上下限値の差の積、又はボンディングに用いられるパワーの上下限値の差及び印加された超音波エネルギーの上下限値の差の積である。結果として得られるボンドは、例えばボールシェア0.0085グラム/μm、パッド不着不良なしなど、特定のボールシェア試験の仕様を満たさなければならない。第二ボンド(ステッチボンド)プロセスウィンドウ範囲は、ボンディングに用いられるパワーの上下限値の差及び印加されたスクラブストロークの上下限値の差の積、又はボンディングに用いられるパワーの上下限値の差及び印加された超音波エネルギーの上下限値の差の積である。結果として得られるボンドは、例えば引張力2.5グラム、リード不着不良なしなど、特定のプル試験の仕様を満たさなければならない。 In other words, the first bond (ball bond) process window range is the product of the difference between the upper and lower limits of the power used for bonding and the upper and lower limits of the applied scrub stroke, or the upper and lower limits of the power used for bonding. It is the product of the difference between the values and the difference between the upper and lower limits of the applied ultrasonic energy. The resulting bond must meet certain ball share test specifications, for example, ball share 0.0085 grams / μm 2 , no pad non-stick failure. The second bond (stitch bond) process window range is the product of the upper and lower limits of the power used for bonding and the difference of the upper and lower limits of the applied scrub stroke, or the difference of the upper and lower limits of the power used for bonding. And the product of the upper and lower limits of the applied ultrasonic energy. The resulting bond must meet certain pull test specifications, for example, a pulling force of 2.5 grams, no lead failure.

産業用途のため、ワイヤボンディングプロセスのロバスト性を理由に、広いワイヤボンディングプロセスウィンドウ(パワーg対スクラブストロークμm、又はパワーg対超音波エネルギーmA)を有することが望ましい。本発明のワイヤは大幅に広いワイヤボンディングプロセスウィンドウを示す。   For industrial applications, it is desirable to have a wide wire bonding process window (power g vs. scrub stroke μm, or power g vs. ultrasonic energy mA) because of the robustness of the wire bonding process. The wire of the present invention exhibits a significantly wider wire bonding process window.

以下の非限定的な実施例は本発明を説明するものである。これらの実施例は本発明の例示的な説明となり、本発明またはクレームの範囲をいかなる形でも限定することを意図するものではない。   The following non-limiting examples illustrate the invention. These examples serve to illustrate the invention and are not intended to limit the scope of the invention or the claims in any way.

フリーエアボール(FAB)の調製:
FAB用KNSプロセスユーザーガイド(キューリック・アンド・ソファ社、米国ペンシルベニア州フォートワシントン、2002、2009年5月31日)に記載の手順に従って作製した。標準放電による従来の電気トーチ(EFO)放電を実施することによりFABを調製した(単一工程、17.8μmワイヤ、EFO電流50mA、EFO時間200μ秒、95vol%窒素/5vol%水素雰囲気下)。
Free air ball (FAB) preparation:
It was prepared according to the procedure described in the KNS Process User Guide for FAB (Curic and Sofa, Fort Washington, PA, USA, May 31, 2009). A FAB was prepared by performing a conventional electric torch (EFO) discharge with a standard discharge (single step, 17.8 μm wire, EFO current 50 mA, EFO time 200 μsec, 95 vol% nitrogen / 5 vol% hydrogen atmosphere).

試験方法A〜F
すべての試験及び測定はT=20℃、相対湿度RH=50%で実施した。
Test methods A to F
All tests and measurements were performed at T = 20 ° C. and relative humidity RH = 50%.

A.切片法
まずワイヤを冷間埋込エポキシ樹脂を用いて埋め込んだ後、標準金属組織技術により研磨(横に切断)した。マルチプレップ半自動研磨機を低力、最適速度で用いて、サンプル表面に最低限の変形ひずみを有するサンプルを研ぎ、研磨した。最終的に、研磨したサンプルを塩化第二鉄を用いて化学的にエッチングして、粒界を明らかにした。ASTM E112−12規格により、1000倍の光学顕微鏡下、平均粒度を切片法を用いて測定した。
A. Sectioning method First, a wire was embedded using a cold-embedded epoxy resin and then polished (cut horizontally) by a standard metallographic technique. A sample having a minimum deformation strain on the sample surface was ground and polished using a multi-prep semi-automatic polishing machine at a low force and at an optimum speed. Finally, the polished sample was chemically etched with ferric chloride to reveal grain boundaries. According to the ASTM E112-12 standard, the average particle size was measured using an intercept method under a 1000 times optical microscope.

B.FAB形態
形成したFABを1000倍の走査型電子顕微鏡(SEM)により調査した。
評価:
++、非常に良好(丸いボール)
+、良好(丸いボール);
0、合格(完全に丸ではないが、FAB表面に明らかなプラトーはない);
−、桃型のボール
−−、極端な桃型のボール
ここで用いられる「桃型のボール」という語は、FAB先端に明らかな半球を有する2つのプラトーが形成されることを意味する。
B. FAB morphology The formed FAB was examined by a 1000x scanning electron microscope (SEM).
Rating:
++, very good (round ball)
+, Good (round ball);
0, pass (not completely round, but no obvious plateau on FAB surface);
-Peach-shaped ball--Extreme peach-shaped ball As used herein, the term "peach-shaped ball" means that two plateaus with a clear hemisphere at the FAB tip are formed.

C.接合ボール形状
形成したFABが所定の高さ(先端203.2μm)及び速度(接触速度6.4μm/秒)でAl−0.5wt%Cuボンドパッドに下降した。ボンドパッドに接触すると、一連の定義されたボンディングパラメータ(接合力100g、超音波エネルギー95mA、及び接合時間15m秒)は、FABの変形を起こし、接合ボールを形成した。ボール形成後、キャピラリーが所定の高さ(キンク高さ152.4μm、ループ高さ254μm)に上昇して、ループを形成した。ループ形成後、キャピラリーをリードまで下降して、ステッチを形成した。ステッチ形成後、キャピラリーが上昇し、ワイヤクランプを閉じてワイヤを切断し、所定のテール長さ(テール長さ延長部254μm)とした。各サンプルにつき、接合したワイヤ5本を1000倍顕微鏡を用いて光学的に検査した。
評価:
+、丸い;
0、合格;
−、花状。
C. Bonded ball shape The formed FAB descended to an Al-0.5 wt% Cu bond pad at a predetermined height (tip 203.2 μm) and speed (contact speed 6.4 μm / sec). Upon contact with the bond pad, a series of defined bonding parameters (bonding force 100 g, ultrasonic energy 95 mA, bonding time 15 ms) caused FAB deformation to form bonded balls. After forming the ball, the capillary was raised to a predetermined height (kink height 152.4 μm, loop height 254 μm) to form a loop. After the loop formation, the capillary was lowered to the lead to form a stitch. After the stitch formation, the capillary was raised, the wire clamp was closed, and the wire was cut to obtain a predetermined tail length (tail length extension 254 μm). For each sample, five bonded wires were optically inspected using a 1000 × microscope.
Rating:
+, Round;
0, pass;
-Flower shape.

D.偏心ボール(OCB)
方法Cに記載したものと同じ方法を適用したが、ボールの丸さを検査するのではなく、ボールの中心性を測定した。各サンプルにつき、接合したワイヤ5本を光学的に検査した。
評価:
++、完全に中心に位置する
+、中心に位置する;
0、許容範囲で中心を外れる;
−、中心を外れる;
−−、非常に中心を外れる。
D. Eccentric ball (OCB)
The same method as described in Method C was applied, but instead of examining the roundness of the ball, the centrality of the ball was measured. For each sample, five bonded wires were optically inspected.
Rating:
++, perfectly centered +, centered;
0, off center with tolerance;
-Off-center;
--- Very off-center.

E.FABのPd分布
まずワイヤを冷間埋込エポキシを用いて埋め込み、標準金属組織技術により横に切断した。マルチプレップ半自動研磨機を低力、最適速度で用いて、サンプル表面に最低限の変形ひずみを有するサンプルを研ぎ、研磨した。最終的に、研磨したサンプルを1000倍の高倍率顕微鏡で調査した。各サンプルにつき、5つのFABを光学的に検査した。
目視評価:
++、FAB高の80%以上のPd被覆率でPdがFAB殻を非常に均一に覆う;
+、FAB高の70%以上のPd被覆率でPdがFAB殻を均一に覆う;
0、PdがFAB殻を部分的に覆い、FAB高の50〜70%のPd被覆率でボールに部分的に拡散する;
−、FAB高の50%以上のPd被覆率で、Cu−Pd合金を形成しながら、ボールにPdが大きく拡散する;
−−、FAB高の30%以上のPd被覆率で、Cu−Pd合金を形成しながら、ボールにPdが大きく拡散する。
E. FAB Pd distribution First, the wire was embedded using cold embedded epoxy and cut laterally by standard metallographic techniques. A sample having a minimum deformation strain on the sample surface was ground and polished using a multi-prep semi-automatic polishing machine at a low force and at an optimum speed. Finally, the polished samples were examined with a 1000 × high magnification microscope. Five FABs were optically examined for each sample.
Visual evaluation:
++ Pd covers the FAB shell very uniformly with a Pd coverage of 80% or more of the FAB height;
+, Pd uniformly covers the FAB shell with a Pd coverage of 70% or more of the FAB height;
0, Pd partially covers the FAB shell and partially diffuses into the ball with a Pd coverage of 50-70% of the FAB height;
-Pd greatly diffuses into the ball while forming a Cu-Pd alloy with a Pd coverage of 50% or more of the FAB height;
---------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- Pd is diffused to the balls.

F.耐食性:
ワイヤをAl−0.5wt%Cuボンドパッドにボールボンディングした。このように接合したワイヤを備えた試験デバイスを高度加速ストレス試験(HAST)チャンバに温度130℃、相対湿度(RH)85%で96時間保管し、その後100倍の低倍率顕微鏡(Nikon MM−40)下、上昇したボールの数を調査した。より多くの上昇ボールが観察されると、深刻な界面の電解腐食を示した。ランキングをつけて評価した:
++、上昇したボールが最も少ない
+、上昇したボールが少ない;
0、上昇したボールが中間である;
−、上昇したボールがより多い;
−−上昇したボールが最も多い。
F. Corrosion resistance:
The wire was ball bonded to an Al-0.5 wt% Cu bond pad. The test device with the wires thus bonded is stored in a highly accelerated stress test (HAST) chamber for 96 hours at a temperature of 130 ° C. and a relative humidity (RH) of 85%, followed by a 100 × low magnification microscope (Nikon MM-40). ) Below, the number of balls that have risen was investigated. More rising balls were observed, indicating severe interfacial galvanic corrosion. Rated by ranking:
++, least raised balls +, few raised balls;
0, the raised ball is in the middle;
-More balls lifted;
-The highest number of raised balls.

実施例1:ワイヤサンプル1〜8
それぞれ少なくとも99.99%純度(「4N」)である大量の銅、銀及びリンを、約1200℃の真空炉中のるつぼで溶融した。その後、8mmロッド状のワイヤ芯前駆物を溶融物から連続鋳造した。その後、ロッドをいくつかの延伸工程で延伸して、直径200μmの円形断面を有するワイヤ芯前駆体を形成した。ワイヤ芯前駆体を840nm厚のパラジウムの内層及び45nm厚の金の外層からなる二重層コーティングで電気めっきした。その後、さらに75nm厚の最終パラジウム被覆層及び4nm厚の最終金被覆層を有する最終直径17.8μmに延伸した後、炉設定温度530℃、暴露時間0.8秒で最終ストランド焼鈍した。このようにして得られた被覆ワイヤを直後に界面活性剤500wt ppmを含有する水中で急冷した。
Example 1: Wire samples 1-8
Large quantities of copper, silver and phosphorus, each at least 99.99% pure (“4N”), were melted in a crucible in a vacuum furnace at about 1200 ° C. Thereafter, an 8 mm rod-shaped wire core precursor was continuously cast from the melt. Thereafter, the rod was stretched in several stretching steps to form a wire core precursor having a circular cross section with a diameter of 200 μm. The wire core precursor was electroplated with a double layer coating consisting of an inner layer of 840 nm thick palladium and an outer layer of 45 nm thick gold. Thereafter, the film was further stretched to a final diameter of 17.8 μm having a final palladium coating layer having a thickness of 75 nm and a final gold coating layer having a thickness of 4 nm, followed by final strand annealing at a furnace setting temperature of 530 ° C. and an exposure time of 0.8 seconds. The coated wire thus obtained was immediately cooled in water containing 500 wt ppm of a surfactant.

この手順により、いくつかの異なるパラジウム及び金被覆銅系ワイヤの発明及び比較サンプル1〜9を製造した。表1はワイヤ芯の組成を示す。   This procedure produced several different palladium and gold coated copper-based inventions and comparative samples 1-9. Table 1 shows the composition of the wire core.

Figure 0006622415
Figure 0006622415

実施例2:ワイヤサンプル9〜10
実施例1、サンプル5と同様に作製したが、内側パラジウム及び外側金コーティングの層厚さを表2に記録したように変更した。
Example 2: Wire samples 9-10
Produced in the same way as Example 1, Sample 5, but the layer thicknesses of the inner palladium and outer gold coatings were changed as recorded in Table 2.

Figure 0006622415
Figure 0006622415

以下の表3は特定の試験結果を示す。   Table 3 below shows the specific test results.

Figure 0006622415
Figure 0006622415

Claims (14)

表面を有するワイヤ芯を含むワイヤであって、前記ワイヤ芯がその表面に重なる被覆層を有し、前記ワイヤ芯自体が、
(a)0.1〜0.3wt%の量の銀と、
(b)99.64〜99.8825wt%の範囲の量の銅と、
(c)0〜100wt ppmの範囲の量のリンと、
(d)0〜500wt ppmの範囲の量のさらなる成分(銀、銅及びリン以外の成分)と、からなり、
任意のさらなる成分の個別の量は30wt ppm未満であり、
wt%及びwt ppmのすべての量は前記芯の総重量に基づき、
前記被覆層はパラジウムの内層及び隣接する金の外層で構成される二重層であり、
前記パラジウムの内層の重量は、前記ワイヤ芯の重量に対して1.5〜2.5wt%の範囲であり、
前記金の外層の重量は、前記ワイヤ芯の重量に対して0.09〜0.18wt%の範囲である、ワイヤ。
A wire including a wire core having a surface, the wire core having a coating layer overlapping the surface, the wire core itself,
(A) silver in an amount of 0.1 to 0.3 wt%;
(B) copper in an amount ranging from 99.64 to 99.8825 wt%;
(C) phosphorus in an amount ranging from 0 to 100 wt ppm;
(D) further components (components other than silver, copper and phosphorus) in an amount ranging from 0 to 500 wt ppm,
The individual amount of any further ingredients is less than 30 wt ppm;
All amounts of wt% and wt ppm are based on the total weight of the core,
The coating layer is a double layer composed of an inner layer of palladium and an outer layer of adjacent gold,
The weight of the inner layer of palladium ranges from 1.5 to 2.5 wt% with respect to the weight of the wire core,
The weight of the gold outer layer is in the range of 0.09 to 0.18 wt% with respect to the weight of the wire core.
銀の量が0.2wt%である、請求項1に記載のワイヤ。   The wire of claim 1, wherein the amount of silver is 0.2 wt%. リンの量が50〜100又は70〜80wt ppmである、請求項1又は2に記載のワイヤ。   The wire according to claim 1 or 2, wherein the amount of phosphorus is 50 to 100 or 70 to 80 wt ppm. さらなる成分の量が0〜100wt ppmである、請求項1から3のいずれか一項に記載のワイヤ。   4. A wire according to any one of claims 1 to 3, wherein the amount of further components is 0 to 100 wt ppm. 50〜5024μmの範囲の平均断面を有する、請求項1から4のいずれか一項に記載のワイヤ。 5. A wire according to any one of claims 1 to 4 having an average cross section in the range of 50-5024 [mu] m < 2 >. 8〜80μmの範囲の平均直径の円形断面を有する、請求項1から5のいずれか一項に記載のワイヤ。   6. A wire according to any one of the preceding claims having a circular cross section with an average diameter in the range of 8 to 80 [mu] m. 請求項1から6のいずれか一項に記載のワイヤであって、前記ワイヤ芯が少なくとも以下の固有の性質:
(i)平均ワイヤ粒度が縦方向に測定して、3〜6μmの範囲である、
(ii)縦方向に測定した平均粒度とワイヤ芯の直径の比が0.05〜0.25、好ましくは0.1〜0.20の範囲である、
(iii)縦方向に測定した前記芯の平均粒度に対する平均粒度の標準偏差(RSD)の比が0.1〜0.4の範囲である、
の1つにより特徴付けられる、ワイヤ。
The wire according to any one of claims 1 to 6, wherein the wire core has at least the following intrinsic properties:
(I) the average wire particle size is in the range of 3-6 μm as measured in the longitudinal direction;
(Ii) The ratio of the average particle size measured in the longitudinal direction to the diameter of the wire core is in the range of 0.05 to 0.25, preferably 0.1 to 0.20.
(Iii) The ratio of the standard deviation (RSD) of the average particle size to the average particle size of the core measured in the longitudinal direction is in the range of 0.1 to 0.4.
A wire characterized by one of the following:
請求項1から7のいずれか一項に記載の被覆ワイヤの製造プロセスであって、前記プロセスが少なくとも工程(1)から(5):
(1)所望組成物の前駆物を提供する工程と、
(2)5024〜70650μmの範囲の中間断面又は80〜300μmの範囲の中間直径が得られるまで、前記前駆物を引き伸ばして伸長前駆物を形成する工程と、
(3)プロセス工程(2)の終了後に得られた前記伸長前駆物の表面にパラジウムの内層及び隣接する金の外層の二重層コーティングを、前記パラジウムの内層の重量が前記伸長前駆物の重量に対して1.5〜2.5wt%の範囲であり、前記金の外層の重量が前記伸長前駆物の重量に対して0.09〜0.18wt%の範囲であるように堆積させる工程と、
(4)所望の最終断面又は直径が得られるまで、プロセス工程(3)の終了後に得られた被覆前駆物をさらに引き伸ばす工程と、
(5)最終的にプロセス工程(4)の終了後に得られた被覆前駆体を450〜650℃の範囲の炉設定温度、0.1〜3秒の範囲の暴露時間でストランド焼鈍して被覆ワイヤを形成する工程と、を含むプロセス。
A coated wire manufacturing process according to any one of claims 1 to 7, wherein said process is at least steps (1) to (5):
(1) providing a precursor of the desired composition;
(2) stretching the precursor to form an elongated precursor until an intermediate cross section in the range of 5024 to 70650 μm 2 or an intermediate diameter in the range of 80 to 300 μm is obtained;
(3) A double layer coating of an inner layer of palladium and an adjacent outer layer of gold on the surface of the elongated precursor obtained after completion of the process step (2), and the weight of the inner layer of palladium is the weight of the elongated precursor. Depositing such that the weight of the gold outer layer is in the range of 0.09 to 0.18 wt% relative to the weight of the stretched precursor;
(4) further stretching the coating precursor obtained after completion of process step (3) until the desired final cross-section or diameter is obtained;
(5) Finally, the coated precursor obtained after the completion of the process step (4) is subjected to strand annealing at a furnace set temperature in the range of 450 to 650 ° C. and an exposure time in the range of 0.1 to 3 seconds, and the coated wire Forming a process.
工程(2)が伸長前駆物の中間焼鈍の一つ又は複数のサブ工程を含む、請求項8に記載のプロセス。   The process of claim 8, wherein step (2) comprises one or more sub-steps of intermediate annealing of the stretch precursor. 最終ストランド焼鈍が炉設定温度500〜600℃、暴露時間0.3〜1秒で実施される、請求項8又は9に記載のプロセス。   The process according to claim 8 or 9, wherein the final strand annealing is performed at a furnace set temperature of 500 to 600 ° C and an exposure time of 0.3 to 1 second. 最終的にストランド焼鈍された被覆前駆体が一つ又は複数の添加剤を含有してよい水で急冷される、請求項8から10のいずれか一項に記載のプロセス。   11. A process according to any one of claims 8 to 10, wherein the finally strand annealed coating precursor is quenched with water which may contain one or more additives. プロセス工程(5)の最終ストランド焼鈍が不活性又は還元雰囲気下で実施される、請求項8〜11のいずれか一項に記載のプロセス。   12. Process according to any one of claims 8 to 11, wherein the final strand annealing of process step (5) is carried out under an inert or reducing atmosphere. ワイヤボンディング用途におけるボンディングワイヤとして用いられる、請求項1から7のいずれか一項に記載の被覆ワイヤ。 Used as the bonding wire in wire bonding applications, coated wire Ya according to any one of claims 1 to 7. 請求項8〜12のいずれか一項に記載のプロセスにより得られる被覆ワイヤの使用方法であり、  A method of using a coated wire obtained by the process according to any one of claims 8 to 12,
前記被覆ワイヤをワイヤボンディング用途におけるボンディングワイヤとして用いる、使用方法。  A method of using the coated wire as a bonding wire in wire bonding applications.
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