KR102116764B1 - 가스 쿨러 - Google Patents

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가즈야 히라타
고지 하기하라
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가부시키가이샤 고베 세이코쇼
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Abstract

가스 쿨러에 있어서 외부로의 드레인수의 유출을 효과적으로 방지 내지 억제한다. 가스 쿨러(1)는 케이싱(3), 냉각부(13), 시일 플레이트(15), 도입구(31), 도출구(33) 및 드레인 비산 방지 부재(41)를 구비한다. 냉각부(13)는 케이싱(3)의 내부에 수용되어, 가스를 냉각한다. 시일 플레이트(15)는 냉각부(13)에 설치되고, 케이싱(3)의 내부를, 냉각부(13) 통과 전의 가스가 흐르는 상부 공간(27)과, 냉각부(13) 통과 후의 가스가 흐르는 저부 공간(28)으로 구간한다. 도입구(31)로부터 상부 공간(27)에 가스가 도입되어, 도출구(33)에 의해 저부 공간(28)으로부터 가스가 도출된다. 드레인 비산 방지 부재(41)는, 저부 공간(28)에 배치되고, 가스의 통과는 허용하지만, 드레인수를 포집한다.

Description

가스 쿨러
본 발명은, 가스 쿨러에 관한 것이다.
특허문헌 1에 개시된 압축기용의 가스 쿨러는, 냉각부의 상방으로부터 하방으로 가스를 통과시켜서 냉각하는 것이고, 가스 중의 수분이 응축된 드레인수를 회수하는 드레인 회수부를 저부에 구비한다. 드레인 회수부의 상방에는, 도출구의 부근에 블로우 업 방지부가 마련되어 있다. 블로우 업 방지부는, 가스류에 의한 도출구 부근의 드레인수의 블로우 업과, 그것에 의하여 드레인수가 가스에 수반하여 외부로 유출되는 것을 방지하고 있다.
일본 특허 공개 제2015-200473호 공보
가스 쿨러에 도입되는 압축 가스의 유량이 증가하여 유속이 높아지면, 블로우 업 방지부에 달하기 전에, 가스 쿨러의 저부를 향하여 분사하는 가스류가 드레인수를 비산시켜, 비산된 드레인수가 가스에 부수하여 외부로 유출될 우려가 있다.
본 발명은, 가스 쿨러에 있어서 외부로의 드레인수의 유출을 효과적으로 방지 내지 억제하는 것을 과제로 한다.
본 발명은 케이싱과, 상기 케이싱의 내부에 설치되고, 가스를 냉각하는 냉각부와, 상기 케이싱의 상기 내부의 상기 냉각부에서 이격하여 형성되는, 상기 냉각부보다 상방의 상부 공간 및 상기 냉각부보다 하방의 저부 공간과, 상기 상부 공간에 상기 가스를 도입하는 도입구와, 상기 저부 공간으로부터 상기 가스를 도출하는 도출구와, 상기 저부 공간에 배치되고, 상기 냉각부에 의한 냉각에 의해 상기 가스 중의 수분이 응집하여 상기 가스에 수반하는 드레인수를, 상기 가스의 통과에 수반하여 포집하는, 드레인 비산 방지 부재를 구비하는, 가스 쿨러를 제공한다.
드레인 비산 부재는, 드레인수를 가스의 통과에 수반하여 포집한다. 그 때문에, 가스류에 의해 드레인수가 비산하는 것을 억제하고, 그 결과, 드레인수가 가스류에 수반하여 도출구로부터 가스 쿨러의 외부로 유출되는 것을 효과적으로 방지 내지 억제할 수 있다.
상기 냉각부는, 상기 상부 공간과 상기 저부 공간 사이를 시일하기 위한 시일 플레이트를 구비해도 된다.
가스 쿨러는, 상기 드레인수를 상기 케이싱 외부로 배출하기 위한 드레인 배출구를 더 구비한다.
상기 드레인 비산 방지 부재는, 상기 도출구를 덮도록 마련되어 있다.
드레인 비산 방지 부재는, 상기 케이싱의 저벽에 부설되어도 된다.
예를 들어, 상기 드레인 비산 방지 부재는 금속 울의 블록체이다.
또는, 상기 드레인 비산 방지 부재는 금속망의 적층체이다.
본 발명에 따른 가스 쿨러에 의하면, 드레인 비산 방지 부재를 배치함으로써, 가스류에 의한 드레인수의 비산이 방지되고, 외부로의 드레인수의 유출이 효과적으로 방지 내지 억제된다.
도 1a는, 본 발명의 실시 형태에 따른 가스 쿨러의 평면도.
도 1b는, 본 발명의 실시 형태에 따른 가스 쿨러의 정면도.
도 1c는, 도 1a의 선 I-I에서의 단면도.
도 1d는, 본 발명의 실시 형태의 가스 쿨러의 일부 부품을 제거한 상태의 우측면도.
도 2는, 본 발명의 실시 형태에 따른 가스 쿨러의 모식적인 평면도.
도 3은, 도 2의 선 III-III에서의 모식적인 단면도.
도 4는, 도 2의 선 IV-IV에서의 모식적인 단면도.
도 5는, 도 2의 선 V-V에서의 모식적인 단면도.
도 6a는, 냉각부의 단면도.
도 6b는, 냉각부의 모식적인 측면도.
도 7은, 변형예에 관한 가스 쿨러의 도 4와 동일한 모식적인 단면도.
도 8은, 다른 변형예에 관한 가스 쿨러의 도 4와 동일한 모식적인 평면도.
도 1a 내지 도 1d에 나타내는 본 발명의 실시 형태에 따른 가스 쿨러(1)는, 인터쿨러(2A)와 애프터 쿨러(2B)를 갖고, 이들 인터쿨러(2A)와 애프터 쿨러(2B)를 일체화한 케이싱(3)을 구비한다. 본 실시 형태에서는, 가스 쿨러(1)는 오일 프리의 2단 스크루 압축기에 내장되어 있다. 인터쿨러(2A)가 저단측 스크루 압축기와 고단측 스크루 압축기 사이의 가스 유로에 설치되고, 애프터 쿨러(2B)가 고단측 스크루 압축기보다 하류의 가스 유로에 설치된다.
도 2 내지 도 5를 함께 참조하면, 케이싱(3)은 저벽(4), 저벽(4)으로부터 상승되는 한 쌍의 단부벽(5A, 5B), 저벽(4)으로부터 상승되는 한 쌍의 측벽(6A, 6B), 단부벽(5A, 5B)과 측벽(6A, 6B)의 상단부의 상부벽(7) 및 격벽(8)을 구비한다. 격벽(8)은 케이싱(3)의 내부, 즉 저벽(4), 단부벽(5A, 5B), 측벽(6A, 6B) 및 상부벽(7)으로 둘러싸인 공간을, 인터쿨러(2A)를 위한 제1 공간(11A)과 애프터 쿨러(2B)를 위한 제2 공간(11B)으로 구획하고 있다. 도 1d에 가장 명료하게 도시하는 바와 같이, 제1 공간(11A) 내에 인터쿨러(2A)의 냉각부(열 교환기)(13A)가 수용되고, 제2 공간(11B) 내에는 애프터 쿨러(2B)의 냉각부(열 교환기)(13B)가 수용되어 있다.
도 6a 및 도 6b를 참조하면, 개개의 냉각부(13A, 13B)는, 스페이서(14)로 연결된 한 쌍의 시일 플레이트(15, 15)와, 시일 플레이트(15, 15) 사이에 배치된 관군(16)을 구비한다. 본 실시 형태에 있어서의 관군(16)은 다수의 직선부(17a)와, 인접하는 2개의 직선부(17a)의 단부를 유체적으로 접속하는 다수부의 폴딩부(도시하지 않음)를 구비하는 냉각관(17)에 의해 구성되어 있다. 또한, 개개의 냉각부(13A, 13B)는, 간격을 두고 배치된 다수의 핀(18)을 구비하고, 냉각관(17)의 직선부(17a)는 이들 핀(18)과 일체화되어 있다.
케이싱(3)의 한쪽의 단부벽(5A)에는, 인터쿨러(2A)의 냉각부(13A)를 위한 개구(19A)와, 애프터 쿨러(2B)를 위한 개구(19B)가 마련되어 있다. 또한, 케이싱(3)의 다른 쪽 단부벽(5B)에도, 인터쿨러(2A)의 냉각부(13A)를 위한 개구(19C)와, 애프터 쿨러(2B)를 위한 개구(19D)가 마련되어 있다. 인터쿨러(2A)의 냉각부(13A)는, 개구(19A, 19C)에 삽입함으로써, 제1 공간(11A) 내에 냉각관(17)의 직선부(17a)가 수평 방향으로 연장되는 자세로 배치되어 있다. 마찬가지로, 애프터 쿨러(2B)의 냉각부(13B)는, 개구(19B, 19D)에 삽입함으로써, 제2 공간(11B) 내에 냉각관(17)의 직선부(17a)가 수평 방향으로 연장되는 자세로 배치되어 있다. 개구(19A, 19B)는, 설치부(21A, 21B)에 의해 기밀 상태로 밀봉되고, 설치부(21A, 21B)에는 커버(22A, 22B)가 설치되어 있다. 개구(19C, 19D)는, 설치부(21C, 21D)에 의해 기밀 상태에서 밀봉되고, 설치부(21C, 21D)에는 커버(22C, 22D)가 설치되어 있다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 인터쿨러(2A)의 냉각부(13A)의 냉각관(17)에는, 커버(22A)에 설치된 유입 포트(23A)로부터 냉각수가 공급되고, 냉각관(17)을 통과한 냉각수는, 커버(22A)에 설치된 유출 포트(24A)로부터 유출된다. 또한, 애프터 쿨러(2B)의 냉각부(13B)의 냉각관(17)에는, 커버(22B)에 설치된 유입 포트(23B)로부터 냉각수가 공급되고, 냉각관(17)을 통과한 냉각수는, 커버(22B)에 설치된 유출 포트(24B)로부터 유출된다.
도 3 내지 도 6에 가장 명료하게 도시하는 바와 같이, 제1 공간(11A)에서는, 단부벽(5A, 5B) 사이에 연장되는 한 쌍의 지지 리브(25A, 25A)가 측벽(6A)과 격벽(8)에 마련되어 있다. 이들 지지 리브(25A, 25A) 상에, 인터쿨러(2A)의 냉각부(13A)가 구비하는 시일 플레이트(15, 15)의 단차부(26)(도 6a 참조)가 지지되어, 시일부가 형성되어 있다. 그 때문에, 제1 공간(11A)은 단부벽(5A, 5B) 사이에 걸쳐, 냉각부(13)보다도 상방의 상부 공간(27A)과, 냉각부(13A)보다도 하방의 저부 공간(28A)으로 구획되어 있다. 후술하는 바와 같이, 상부 공간(27A)에는 냉각부(13A) 통과 전의 가스가 유통되고, 저부 공간(28A)에는 냉각부(13A) 통과 후의 가스가 유통한다.
마찬가지로, 제2 공간(11B)에서는, 측벽(6B)과 격벽(8)에 설치된 단부벽(5A, 5B) 사이에 연장되는 한 쌍의 지지 리브(25B, 25B) 상에, 애프터 쿨러(2B)의 냉각부(13B)가 구비하는 시일 플레이트(15, 15)의 단차부(26)(도 6a 참조)가 지지되어, 시일부가 형성되어 있다. 그 때문에, 제2 공간(11B)은 단부벽(5A, 5B) 사이에 걸쳐, 냉각부(13B)보다도 상방의 상부 공간(27B)과, 냉각부(13B)보다도 하방의 저부 공간(28B)으로 구획되어 있다. 후술하는 바와 같이, 상부 공간(27B)에는 냉각부(13B) 통과 전의 가스가 유통되고, 저부 공간(28B)에는 냉각부(13B) 통과 후의 가스가 유통한다.
도 1c 및 도 3을 참조하면, 상부벽(7)의 단부벽(5B)에 인접한 위치에, 인터쿨러(2A)의 도입구(31A)가, 제1 공간(11A)의 상부 공간(27A)에 개구되도록 마련되어 있다. 도입구(31A)는, 저단 압축기의 토출구와 유체적으로 접속된 입구 포트(32A)(도 1a 및 도 2 참조)와 연통하고 있다. 또한, 도 1c 및 도 4를 참조하면, 격벽(8)의 단부벽(5A)에 인접한 위치에, 인터쿨러(2A)의 도출구(33A)가, 제1 공간(11A)의 저부 공간(28A)에 개구되도록 마련되어 있다. 도출구(33A)는, 격벽(8)에 형성된 유로(34)를 통해, 상부벽(7)에 설치된 출구 포트(35A)(도 1a, 도 2 및 도 4 참조)와 연통하고 있다. 출구 포트(35A)는, 고단 압축기의 흡입구와 유체적으로 접속되어 있다.
도 2, 도 4, 도 5를 참조하면, 상부벽(7)의 길이 방향 중앙 부근에는, 애프터 쿨러(2B)의 2개의 도입구(31B, 31B)가, 제2 공간(11B)의 상부 공간(27B)에 개구되도록 마련되어 있다. 도입구(31B, 31B)는, 고단 압축기의 토출구에 유체적으로 접속된 입구 포트(32B)(도 1a 및 도 2 참조)와 연통하고 있다. 또한, 도 4를 참조하면, 측벽(6B)의 단부벽(5A)에 인접한 위치에, 애프터 쿨러(2B)의 도출구(33B)가, 제2 공간(11B)의 저부 공간(28B)에 개구되도록 마련되어 있다. 도출구(33B)는 2단 스크루 압축기보다도 하류측에 유체적으로 접속되어 있다.
도 1d를 참조하면, 제1 공간(11A)의 저벽(4)측에 연통하는 제1 배수부(36A)가 설치되고, 이 제1 배수부(36A)를 거쳐서 인터쿨러(2A)의 드레인수가 외부로 배출된다. 제1 배수부(36A)에는 전자기 밸브(37A)가 마련되어 있다. 또한, 제2 공간(11B)의 저벽(4)측에 연통하는 제2 배수부(36B)가 설치되고, 이 제2 배수부(36B)를 개재하여 애프터 쿨러(2B)의 드레인수가 외부로 배출된다. 제2 배수부(36B)에는 전자기 밸브(37B)가 마련되어 있다.
도 1c 및 도 3 내지 도 5를 참조하면, 인터쿨러(2A)를 위한 제1 공간(11A)에서는, 저벽(4)에 드레인 비산 방지 부재(41A)가 부설되어 있다. 본 실시 형태에서는, 드레인 비산 방지 부재(41A)는, 평면으로 보아 제1 공간(11A)의 길이 방향의 전체에 부설되어 있다. 바꿔 말하면, 단부벽(5A)으로부터 단부벽(5B)까지, 드레인 비산 방지 부재(41A)가 부설되어 있다. 또한, 드레인 비산 방지 부재(41A)는, 평면으로 보아 제1 공간(11A)의 폭 방향의 전체에 부설되어 있다. 바꿔 말하면, 측벽(6A)으로부터 격벽(8)까지 드레인 비산 방지 부재(41A)가 부설되어 있다. 또한, 드레인 비산 방지 부재(41A)의 높이는 일정하고, 상면은 평탄하다. 도 4를 참조하면, 드레인 비산 방지 부재(41A)의 높이는, 도출구(33A)의 상단부의 높이보다도 높게 설정되어 있다. 바꿔 말하면, 드레인 비산 방지 부재(41A)는, 도출구(33A)를 덮도록 마련되어 있다.
도 1c 및 도 3 내지 도 5를 참조하면, 애프터 쿨러(2B)를 위한 제2 공간(11B)에 있어서도, 저벽(4)에 드레인 비산 방지 부재(41B)가 부설되어 있다. 본 실시 형태에서는, 드레인 비산 방지 부재(41B)는, 평면으로 보아 제2 공간(11B)의 길이 방향의 전체에 부설되어 있다. 또한, 드레인 비산 방지 부재(41B)는, 평면으로 보아 제2 공간(11B)의 폭 방향의 전체에 부설되어 있다. 또한, 드레인 비산 방지 부재(41B)의 높이는 일정하고, 상면은 평탄하다. 도 4를 참조하면, 드레인 비산 방지 부재(41B)의 높이는, 도출구(33B)의 상단부의 높이보다도 높게 설정되어 있다. 바꿔 말하면, 드레인 비산 방지 부재(41B)는, 도출구(33B)를 덮도록 마련되어 있다.
드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)는, 가스의 통과는 허용하는 한편, 드레인수를 포집하는 구조를 가진다. 또한, 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)를 구성하는 재료는, 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)를 구성하는 재료는, 내식성을 갖는 것이 바람직하다. 본 실시 형태에 있어서의 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)는 금속 울의 블록체의 일례인, 스테인리스 울의 블록체이며, 내열성과 내식성을 가진다. 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)는, 금속 울의 블록체 이외에, 금속 망의 집적체여도 된다.
저단 압축기의 토출구로부터 토출된 가스(압축 공기)는, 입구 포트(32A)를 거쳐서 도입구(31A)로부터 인터쿨러(2A)의 상부 공간(27A)에 도입된다. 도 1c에 있어서 화살표로 개념적으로 나타내는 것처럼, 가스는 상부 공간(27A) 내에서 길이 방향으로 퍼지면서, 냉각부(13A)를 상방으로부터 하방으로 통과한다. 도 4를 맞춰서 참조하면, 냉각부(13A)를 통과하여 저부 공간(28A)으로 유입된 가스는, 도출구(33A)로부터 유로(34)로 흘러, 출구 포트(35A)로부터 도출된다. 이렇게 인터쿨러(2A)에서는, 상부 공간(27A)으로부터, 즉 상방으로부터 가스가 도입되고, 저부 공간(28A)으로부터, 즉 하방으로부터 가스가 도출된다. 인터쿨러(2A)로부터 도출된 가스는, 고단 압축기의 흡입구에 흡입된다.
도 6b를 참조하면, 냉각부(13A)로 보내진 가스는, 인접하는 핀(18, 18) 사이의 간극을 통하여 상부 공간(27A) 측으로부터 저부 공간(28A) 측으로 이동한다. 그 때, 가스는 냉각부(13A)의 냉각관(17)의 외면 및 핀(18)과 접촉함으로써, 냉각관(17) 내부의 냉각수와 열 교환하여 냉각된다. 냉각된 가스 중의 수분은 응축하여, 액적이 되고, 냉각관(17) 및 핀(18)을 거쳐, 저벽(4)으로 낙하한다. 또한, 핀(18, 18) 사이의 간극을 흐르는 가스에 의해, 냉각관(17) 및 핀(18)에 부착된 액적의 낙하가 촉진된다. 저벽(4)으로 낙하한 액적은 드레인수가 된다.
인터쿨러(2A)의 저부 공간(28A)에서는, 저벽(4) 상에는 드레인수가 존재한다. 그러나, 저벽(4)에는 드레인 비산 방지 부재(41A)가 부설되어 있으므로, 가스의 흐름은 허용하면서, 저벽(4)을 향하여 분사되는 가스류에 의해 저벽(4) 상의 드레인수를 블로우 업시켜 비산하는 것을 억제할 수 있다. 구체적으로는, 드레인수는 드레인 비산 방지 부재(41A)에 의해 포집되므로, 가스류가 저벽(4)에 분사되었을 때의 드레인수의 비산이 억제된다. 그 결과, 드레인수가 가스류에 수반하여 도출구(33A)로부터 인터쿨러(2A)의 외부로 유출되는 것을, 효과적으로 방지 내지 억제할 수 있다. 또한, 드레인 비산 방지 부재(41A)는 도출구(33A)를 덮도록 마련되어 있기 때문에, 가스류에 부수하여 드레인수가 도출구(33A)를 통과하려고 해도, 드레인 비산 방지 부재(41A)에 의해 포집된다. 그 결과, 드레인수가 가스류에 부수하여 도출구(33)로부터 인터쿨러(2A)의 외부로 유출되는 것을 억제할 수 있다. 드레인 비산 방지 부재(41A)를 마련함으로써, 인터쿨러(2A)에 도입되는 압축 가스의 유량이 증가하여 유속이 높아진 경우에도, 가스류에 의한 드레인수의 비산이 방지되어, 외부로의 드레인수의 유출이 효과적으로 방지 내지 억제된다.
고단 압축기의 토출구로부터 토출된 가스는, 입구 포트(32B)를 거쳐서 도입구(31B, 31B)로부터 애프터 쿨러(2B)의 상부 공간(27B)에 도입된다. 가스는 상부 공간(27A) 내에서 길이 방향으로 퍼지면서, 냉각부(13B)를 상방으로부터 하방으로 통과하고, 냉각부(13B)를 통과하여 저부 공간(28B)으로 유입된 가스는, 도출구(33B)로부터 유출되여 출구 포트(35B)를 거쳐서 하류측으로 보내진다. 이렇게 애프터 쿨러(2B)에서는, 상부 공간(27B)으로부터, 즉 상방으로부터 가스가 도입되어, 저부 공간(28B)으로부터, 즉 하방으로부터 가스가 도출된다. 냉각부(13B)에 의한 냉각에 의해 응축된 가스 중의 수분이 액적이 되어서 저벽(4)으로 낙하하고, 드레인수가 된다.
애프터 쿨러(2B)의 저부 공간(28B)에서는, 저벽(4) 상에는 드레인수가 존재한다. 그러나, 저벽(4)에는 드레인 비산 방지 부재(41B)가 부설되어 있으므로, 가스의 흐름은 허용하면서, 저벽(4)을 향하여 분사되는 가스류에 의해 저벽(4) 상의 드레인수가 블로우 업시켜져 비산하는 것을 억제할 수 있다. 구체적으로는, 드레인수는 드레인 비산 방지 부재(41A)에 의해 포집되므로, 가스류가 분사되었을 때의 드레인수의 비산이 억제된다. 그 결과, 드레인수가 가스류에 수반하여 도출구(33B)로부터 애프터 쿨러(2B)의 외부로 유출되는 것을 효과적으로 방지 내지 억제할 수 있다. 또한, 드레인 비산 방지 부재(41B)는 도출구(33B)를 덮도록 마련되어 있기 때문에, 가스류에 부수하여 드레인수가 도출구(33B)를 통과하려고 해도, 드레인 비산 방지 부재(41B)에 의해 포집된다. 그 결과, 드레인수가 가스류에 부수하여 도출구(33)로부터 인터쿨러(2A)의 외부로 유출되는 것을 억제할 수 있다. 드레인 비산 방지 부재(41B)를 마련함으로써, 애프터 쿨러(2B)에 도입되는 압축 가스의 유량이 증가하여 유속이 높아진 경우에도, 가스류에 의한 드레인수의 비산이 방지되어, 외부로의 드레인수의 유출이 효과적으로 방지 내지 억제된다.
전술한 바와 같이, 본 실시 형태에 있어서의 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)는 스테인리스 울의 블록체이다. 이 스테인리스 울은, 예를 들어 소선 직경이 0.25mm 이상이고, 공간율이 94％ 이상 99％ 이하이다. 여기에서의 공간율은, 스테인리스 울의 체적에 대한 공간 내지 간극의 체적 비율이다. 소선 직경이 0.25mm 미만이면, 압축 가스의 맥동에 의한 진동으로 소선끼리가 스쳤을 경우에 마모되어, 소선이 탈락하기 쉬워진다. 공간율이 99％보다 크면 포집 효과가 저하되고, 94％ 미만이면 압력 손실에 의해 압축기의 비동력이 악화된다.
이하, 본 실시 형태의 변형예에 대하여 설명한다.
본 실시 형태와 같이, 인터쿨러(2A)와 애프터 쿨러(2B)를 구비한 다단 압축기에 드레인 비산 방지 부재를 적용하는 경우, 애프터 쿨러(2B)에만 드레인 비산 방지 부재(41B)를 설치해도 된다. 즉, 본 실시 형태에 있어서, 인터쿨러(2A)의 드레인 비산 방지 부재(41A)를 없애도 된다.
도 7에 나타내는 변형예에서는, 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)의 높이는, 도출구(33A, 33B)의 부근에서는, 도출구(33A, 33B)의 상단부의 높이보다도 높게 설정되어 있지만, 그 다른 부분에서는, 도출구(33A, 33B)의 하단부의 높이보다도 낮게 설정되어 있다.
도 8에 나타내는 변형예에서는, 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)의 폭은, 각각 제1 공간(11A)과 제2 공간(11B)의 폭보다도 충분히 좁게 설정되어 있다. 도출구(33A, 33B)의 부근을 제외하고, 인터쿨러(2A)와 애프터 쿨러(2B) 중 어느 것에 대해서도, 저벽(4) 상에 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)가 배치되어 있지 않다. 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)는, 도출구(33A, 33B)를 덮도록 마련되어 있다. 저벽(4)을 향하여 분사되는 가스류에 의해 드레인수의 비산이 발생하고, 가스류에 부수하여 드레인수가 도출구(33A, 33B)를 통과하려고 해도, 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)에 의해 포집된다. 그 결과, 드레인수가 가스류에 부수하여 도출구(33A, 33B)로부터 외부로 유출되는 것을 억제할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)를 케이싱(3)의 저부와 접하도록 부설하는 것에 대하여 설명했지만, 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)는, 케이싱(3)의 저벽(4)에 대하여 간극을 마련하면서 부설해도 된다. 예를 들어, 저벽(4)과 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B) 사이에 간극 형성부를 설치할 수 있다. 간극 형성부는, 저부(4)에 형성된 볼록 형상부여도 되고, 케이싱과 별도의 부재의 스페이서여도 되고, 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B)에 설치된 볼록 형상부여도 된다. 저벽(4)과 드레인 비산 방지 부재(41A, 41B) 사이에 간극을 마련함으로써, 케이싱의 저부(4)에 고이는 드레인을 드레인 배출구를 향하여 흘리기 쉽게 할 수 있다.
1: 가스 쿨러
2A: 인터쿨러
2B: 애프터 쿨러
3: 케이싱
4: 저벽
5A, 5B: 단부벽
6A, 6B: 측벽
7: 상부벽
8: 격벽
11A: 제1 공간
11B: 제2 공간
13A, 13B: 냉각부
14: 스페이서
15: 시일 플레이트
16: 관군
17: 냉각관
18: 핀
19A, 19B, 19C, 19D: 개구
21A, 21B, 21C, 21D: 설치부
22A, 22B, 22C, 22D: 커버
23A, 23B: 유입 포트
24A, 24B: 유출 포트
25A, 25B: 지지 리브
26: 단차부
27A, 27B: 상부 공간
28A, 28B: 저부 공간
31A, 31B: 도입구
32A, 32B: 입구 포트
33A, 33B: 도출구
34: 유로
35A, 35B: 출구 포트
36A: 제1 배수부
36B: 제2 배수부
37A, 37B: 전자기 밸브
41A, 41B: 드레인 비산 방지 부재

Claims (7)

  1. 케이싱과,
    상기 케이싱의 내부에 설치되고, 가스를 냉각하는 냉각부와,
    상기 케이싱의 상기 내부의 상기 냉각부에서 이격하여 형성되는, 상기 냉각부보다 상방의 상부 공간 및 상기 냉각부보다 하방의 저부 공간과,
    상기 상부 공간에 상기 가스를 도입하는 도입구와,
    상기 저부 공간으로부터 상기 가스를 도출하는 도출구와,
    상기 저부 공간에 배치되고, 상기 냉각부에 의한 냉각에 의해 상기 가스 중의 수분이 응집하여 상기 가스에 수반하는 드레인수를, 상기 가스의 통과에 수반하여 포집하는, 드레인 비산 방지 부재
    를 구비하고,
    상기 드레인 비산 방지 부재는, 상기 도출구를 덮도록 상기 케이싱의 저벽에 부설되어 있는, 가스 쿨러.
  2. 제1항에 있어서, 상기 냉각부는, 상기 상부 공간과 상기 저부 공간 사이를 시일하기 위한 시일 플레이트를 구비하는, 가스 쿨러.
  3. 제1항에 있어서, 상기 드레인수를 상기 케이싱 외부로 배출하기 위한 드레인 배출구를 더 구비하는, 가스 쿨러.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 드레인 비산 방지 부재는 금속 울의 블록체인, 가스 쿨러.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 드레인 비산 방지 부재는 금속 망의 적층체인, 가스 쿨러.
  6. 삭제
  7. 삭제
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