KR102114026B1 - 도전 재료 도포 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치는 기판을 지지하는 탑재대; 도전 재료를 토출하는 노즐을 갖는 도전 재료 토출 유닛; 및 노즐의 토출구로부터 도전 재료가 토출되는 상태에서, 노즐을 기판의 상면, 측면 및 하면을 따라 이동시키면서 노즐의 토출구가 기판의 상면, 측면 및 하면을 향하도록 노즐을 회전시켜, 기판의 상면, 측면 및 하면에 연속적인 도전 재료의 패턴을 형성하는 구동 유닛을 포함할 수 있다.

Description

도전 재료 도포 장치{APPARATUS FOR APPLYING CONDUCTIVE MATERIAL}
본 발명은 기판에 도전 재료를 도포하는 장치에 관한 것이다.
액정 디스플레이, 유기 전계 발광 디스플레이, 무기 전계 발광 디스플레이 패널, 투과형 프로젝터, 반사형 프로젝터 등의 디스플레이 장치는 한 쌍의 글라스 패널을 합착하는 합착 공정, 한 쌍의 글라스 패널을 합착하여 구성된 합착 기판(이하, '기판'이라 한다)에 커버 등을 부착하는 공정 등 다양한 공정을 통해 제조된다.
이러한 디스플레이 장치의 제조 공정 중, 한 쌍의 글라스 패널 사이에 개재되는 재료 특성, 글라스 패널의 표면에 부착되는 재료의 특성, 글라스 패널의 재료 특성, 한 쌍의 글라스 패널 사이의 간격 등의 다양한 원인으로 인해 기판에는 정전하가 축적될 수 있다. 일반적으로, 기판에 소정의 가공을 수행하기 위해 기판을 스테이지에 탑재하게 되는데, 기판을 스테이지에 탑재하는 과정, 특히, 기판을 스테이지로부터 이격시키는 과정에서 기판에 축적된 정전하가 공기 중으로 방전되면서 기판과 스테이지 사이에 스파크가 발생할 수 있으며, 이러한 스파크로 인해 기판의 손상 및 기능 불량이 발생하는 문제가 있다.
대한민국 공개 특허 제10-2018-0053473호
본 발명의 목적은, 기판 상의 정전하가 도전 재료를 통해 스테이지로 흐르도록 하여 기판에 정전하가 축적되는 것을 방지하기 위해, 기판에 도전 재료를 도포하는 도전 재료 도포 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 다른 목적은 단순한 구성으로 기판의 상면, 측면 및 하면에 연속적인 도전 재료의 패턴을 형성할 수 있는 도전 재료 도포 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 기판에 도포된 도전 재료의 상태를 실시간으로 검출할 수 있는 도전 재료 도포 장치를 제공하는 데에 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치는 기판을 지지하는 탑재대; 도전 재료를 토출하는 노즐을 갖는 도전 재료 토출 유닛; 및 노즐의 토출구로부터 도전 재료가 토출되는 상태에서, 노즐을 기판의 상면, 측면 및 하면을 따라 이동시키면서 노즐의 토출구가 기판의 상면, 측면 및 하면을 향하도록 노즐을 회전시켜, 기판의 상면, 측면 및 하면에 연속적인 도전 재료의 패턴을 형성하는 구동 유닛을 포함할 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치는, 제1 패널 및 제1 패널에 합착된 제2 패널을 포함하며 제1 패널 및 제2 패널 사이에 제1 패널의 측면 및 제2 패널의 상면이 외부로 노출되는 단차부를 갖는 기판을 지지하는 탑재대; 도전 재료를 토출하는 노즐을 갖는 도전 재료 토출 유닛; 및 도전 재료 토출 유닛을 작동시키도록 구성되는 구동 유닛을 포함할 수 있고, 기판 상에 도전 재료가 도포되는 방향을 X축 방향이라 정의하고, X축 방향과 동일한 X-Y 평면 상에서 X축 방향에 직교하는 방향을 Y축 방향이라 정의하며, X-Y 평면에 대해 직교하는 방향을 Z축 방향이라 정의할 때, 구동 유닛은, 도전 재료 토출 유닛을 Y축 방향과 평행한 축을 중심으로 회전시키는 회전부; 도전 재료 토출 유닛을 Z축 방향으로 이동시키는 Z축 이동부; 도전 재료 토출 유닛을 X축 방향으로 이동시키는 X축 이동부; 및 도전 재료 토출 유닛을 Y축 방향으로 이동시키는 Y축 이동부를 포함할 수 있고, 구동 유닛은, 도전 재료 토출 유닛을 제1 패널의 상면, 제1 패널의 측면, 제2 패널의 상면, 제2 패널의 측면 및 하면을 따라 이동시키면서, 노즐의 토출구가 제1 패널의 상면, 제1 패널의 측면, 제2 패널의 상면, 제2 패널의 측면 및 하면을 향하도록 도전 재료 토출 유닛을 회전시켜, 제1 패널의 상면, 제1 패널의 측면, 제2 패널의 상면, 제2 패널의 측면 및 하면에 연속적인 도전 재료의 패턴이 형성되도록 할 수 있으며, 도전 재료의 패턴은 제1 패널 및 제2 패널을 전기적으로 연결하여 정전기를 배출하는 접지 라인으로서의 역할을 할 수 있다.
기판은 제1 패널 및 제1 패널에 합착된 제2 패널을 포함할 수 있고, 제1 패널 및 제2 패널 사이에는, 제1 패널의 측면 및 제2 패널의 상면이 외부로 노출되는 단차부가 형성될 수 있으며, 구동 유닛은, 노즐을 제1 패널의 상면, 제1 패널의 측면, 제2 패널의 상면, 제2 패널의 측면 및 하면을 따라 이동시키면서 노즐의 토출구가 제1 패널의 상면, 제1 패널의 측면, 제2 패널의 상면, 제2 패널의 측면 및 하면을 향하도록 노즐을 회전시킬 수 있다.
도전 재료 토출 유닛은 노즐과 연결되어 노즐의 토출구로 도전 재료를 토출하는 도전 재료 토출 모듈을 포함할 수 있고, 도전 재료 토출 모듈은,
도전 재료 공급원과 연결되는 공급 유로 및 공급 유로를 통해 공급되는 도전 재료를 수용하며 노즐의 토출구와 연통되는 실린더를 포함하는 메인 바디; 실린더의 내부에 배치되는 피스톤; 및 피스톤과 연결되어 피스톤을 노즐의 토출구에 대하여 왕복으로 이동시켜 미리 정해진 양의 도전 재료를 노즐의 토출구를 통해 간헐적으로 토출시키는 액추에이터를 포함할 수 있다.
액추에이터는 피스톤과 연결되며 전압의 극성에 따라 변형되면서 피스톤을 실린더 내에서 왕복으로 이동시키는 하나 이상의 압전 소자를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치는, 도전 재료 토출 유닛에 설치되어 노즐과 함께 이동 및 회전되는 촬상 유닛을 더 포함할 수 있고, 촬상 유닛은 기판에 도전 재료가 도포되는 과정에서 실시간으로 기판에 형성된 도전 재료의 패턴을 촬상할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치는, 촬상 유닛에 의해 촬상된 전도성 재료의 패턴의 이미지를 근거로, 도전 재료의 도포 상태의 양부를 판단하는 제어 유닛을 더 포함할 수 있고, 제어 유닛은, 도전 재료의 패턴의 폭 방향 중심들을 지나며 도전 재료의 도포 방향으로 연장되는 가상의 중심선을 결정하는 단계, 기판에 표시된 기준 마크에 대한 가상의 중심선의 위치 또는 각도를 측정하는 단계를 포함하는 과정을 수행할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 도전 재료 도포 장치가 촬상 유닛에 의해 촬상된 전도성 재료의 패턴의 이미지를 근거로, 도전 재료의 도포 상태의 양부를 판단하는 제어 유닛을 더 포함할 수 있고, 제어 유닛은 도전 재료의 패턴의 이미지를 근거로 도전 재료의 패턴의 폭 및/또는 단선 여부를 측정하는 단계를 포함하는 과정을 수행할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판에 도전 재료를 도포하여 도전 재료를 통해 기판이 스테이지에 전기적으로 연결되도록 함으로써, 기판 상의 정전하가 도전 재료를 통해 스테이지로 흐르도록 하여 기판에 정전하가 축적되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 기판을 스테이지로부터 이격시키는 과정에서 기판과 스테이지 사이에 스파크가 발생하는 것을 방지할 수 있고, 이에 따라, 스파크로 인해 기판의 손상 및 기능 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 도전 재료 도포 장치가 하나의 도전 재료 토출 유닛을 기판의 상면, 측면 및 하면을 따라 이동시킴과 아울러 도전 재료를 토출하는 노즐의 토출구가 기판의 상면, 측면 및 하면을 향하도록 도전 재료 토출 유닛을 회전시킬 수 있는 구성을 포함한다. 따라서, 단순한 구성으로 기판의 상면, 측면 및 하면에 연속적인 도전 재료의 패턴을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 도전 재료 도포 장치가 도전 재료 토출 유닛에 설치되어 노즐과 함께 이동 및 회전되는 촬상 유닛을 포함함으로써, 기판에 도전 재료가 도포되는 과정에서 촬상 유닛이 실시간으로 기판에 형성된 도전 재료의 패턴을 촬상할 수 있으므로, 기판에 도포된 도전 재료의 상태를 실시간으로 검출할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치가 개략적으로 도시된 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치의 제어 블록도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치의 도전 재료 토출 유닛이 개략적으로 도시된 단면도이다.
도 4 내지 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치를 사용하여 기판의 상면, 측면 및 하면에 도전 재료를 도포하는 과정이 순차적으로 도시된 도면이다.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치의 촬상 유닛에 의해 촬상된 도전 재료의 상태의 검출을 설명하기 위한 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치에 대하여 설명한다.
도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치는, 제1 패널(11) 및 제2 패널(12)이 합착되는 것에 의해 구성되는 합착 기판(10)(이하, '기판'이라 한다)에 도전 재료(P)를 도포하는 역할을 한다. 도시되지는 않았지만, 제1 패널(11) 및/또는 제2 패널(12) 편광판 등의 부재가 부착될 수 있다.
이하, 설명의 편의를 위해, 기판(10)에 도전 재료(P)가 도포되는 방향을 X축 방향이라 하고, X축 방향과 동일 평면(X-Y 평면) 상에서 X축 방향에 직교하는 방향을 Y축 방향이라 하며, X-Y 평면에 대해 직교하는 방향을 Z축 방향이라 한다. 그리고, 도면을 기준으로, Z축 방향으로 향하는 기판(10)의 양면을 상면 및 하면이라 하고 상면 및 하면 사이에서 X축 방향으로 향하는 기판(10)의 표면을 측면이라 한다.
본 발명의 실시예에 따른 도전 재료 도포 장치는, 기판(10)이 탑재되어 지지되는 재치대(20), 재치대(20)에 재치된 기판(10)의 상면, 측면 및 하면에 도전 재료(P)를 토출하여 기판(10)의 제1 패널(11) 및 제2 패널(12)에 연속적인 도전 재료(P)의 패턴을 형성하는 도전 재료 토출 유닛(30)과, 도전 재료 토출 유닛(30)을 이동 및 회전시키는 구동 유닛(40)과, 기판(10) 상에 도포된 도전 재료(P)의 패턴을 촬상하는 촬상 유닛(50)과, 도전 재료 도포 장치의 각 구성 요소의 동작을 제어하는 제어 유닛(90)을 포함한다.
기판(10)에 도전 재료(P)가 도포되는 부분이 외부로 노출되도록(즉, 재치대(20)에 지지되는 기판(10)의 하면의 일부가 외부로 노출되도록), 기판(10)이 재치대(20)에 재치된다.
도전 재료(P)는 기판(10)에 도포된 후 경화되어 제1 패널(11) 및 제2 패널(12)을 전기적으로 연결하는 도전 재료(P)의 패턴이 형성된다. 따라서, 기판(10)에 대해 소정의 공정을 수행하는 장치의 스테이지에 기판(10) 안착될 때, 기판(10)에 존재하는 정전하가 도전 재료(P)를 통해 스테이지로 흐를 수 있다. 이와 같이, 도전 재료(P)의 패턴(P)은 기판(10)에 존재하는 정전기를 스테이지를 통해 외부로 배출하는 접지 라인으로서의 역할을 한다.
한편, 기판(10)에 대한 소정의 공정이 완료된 후, 도전 재료(P)가 더 이상 필요하지 않는 경우, 도전 재료(P)는 기판(10)으로부터 제거될 수 있다. 이와 같은 경우, 도전 재료(P)는 용제, 물 등으로 씻겨 낼 수 있는 재료로 이루어질 수 있다.
도전 재료 토출 유닛(30)은 구동 유닛(40)과 연결되는 연결 부재(31)와, 연결 부재(31)에 고정되며 기판(10)을 향하도록 배치되는 도전 재료 토출 모듈(32)을 포함할 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 도전 재료 토출 모듈(32)은, 도전 재료(P)를 공급하는 도전 재료 공급원(33)과 연결되는 공급 유로(321) 및 공급 유로(321)를 통해 공급되는 도전 재료(P)를 수용하는 수용 공간을 갖는 실린더(322)를 포함하는 메인 바디(323)와, 실린더(322)의 수용 공간과 연통되며 외부로 노출되는 토출구(324)를 갖는 노즐(325)과, 실린더(322)의 내부에 배치되는 피스톤(326)과, 피스톤(326)과 연결되어 피스톤(326)을 노즐(325)의 토출구(324)에 대하여 왕복적으로 이동시키는 압전 액추에이터(327)를 포함할 수 있다.
예를 들면, 도전 재료 공급원(33)은 도전 재료(P)를 수용하는 저장부(미도시) 및 저장부에 수용된 도전 재료(P)를 가압하여 도전 재료(P)를 도전 재료 토출 모듈(32)로 공급하는 가압부(미도시, 예를 들면, 펌프)를 포함할 수 있다.
공급 유로(321)은 메인 바디(323)에 고정된 피팅(328)을 통해 도전 재료 공급원(33)과 연결될 수 있다.
압전 액추에이터(327)는 피스톤(326)과 연결되는 하나 이상의 압전 소자를 포함할 수 있다. 예를 들면, 압전 액추에이터(327)는 복수의 압전 소자가 적층된 형태로 구성될 수 있다. 압전 소자는 전기적 에너지를 기계적 에너지로 변환하는 특성을 갖는 압전 세라믹스로 이루어질 수 있다. 압전 소자는 압전 소자로 인가되는 전압의 극성(+극 및 -극)의 변화에 따라 미세하게 수축 및 팽창되는 특성을 갖는다. 따라서, 압전 소자는 외부로부터 전압이 인가되는 경우, 인가되는 전압의 극성에 따라 팽창 또는 수축하면서 변형되며, 압전 소자에 인가되는 전압의 극성이 달라지는 경우에는 압전 소자가 변형되는 방향이 달라지게 된다. 따라서, 복수의 압전 소자로 인가되는 전압의 극성에 따라, 압전 액추에이터(327)와 연결된 피스톤(326)이 노즐(325)를 향하여 이동하거나 노즐(325)로부터 멀어지게 이동될 수 있다. 피스톤(326)이 노즐(325)로부터 멀어지게 이동하는 경우, 실린더(322)와 공급 유로(321)가 연통되어 도전 재료(P)가 공급 유로(321)를 통해 실린더(322)의 내부로 공급될 수 있다. 피스톤(326)이 노즐(325)을 향하여 이동하는 경우, 실린더(322) 내부의 도전 재료(P)가 가압되어 노즐(325)의 토출구(324)를 통해 외부로 토출될 수 있다.
압전 액추에이터(327)의 압전 소자의 미세 변형에 의해 피스톤(326)이 미세하게 이동하면서, 도전 재료(P)의 토출량이 정밀하게 제어될 수 있다. 이때, 도전 재료(P)는 노즐(325)의 토출구(324)로부터 연속적으로 토출되지 않고, 실린더(322) 내부에서의 피스톤(326)의 왕복 이동에 따라 점 도포 방식으로 간헐적으로 토출된다. 이 경우, 기판(10) 상으로 간헐적으로 토출된 도전 재료(P)는 복수의 액적 형태로 기판(10) 상에 부착되며, 도전 재료(P)의 복수의 액적이 서로 합쳐지면서 하나의 연속적인 패턴을 형성할 수 있다. 도전 재료(P)의 패턴의 형상은 한정되지 않지만 직선형일 수 있다.
이와 같이, 도전 재료(P)가 미세한 토출량으로 정밀하게 제어되어 노즐(325)로부터 토출될 수 있으므로, 도전 재료(P)의 폭(두께) 및 높이를 일정하게 할 수 있고, 도전 재료(P)가 도포되지 않은 구간(단선 구간)이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 기판(10)의 표면에 노즐(325)의 토출구(324)가 인접한 상태에서, 도전 재료(P)가 미세한 토출량으로 간헐적으로(점 도포 방식으로) 기판(10)의 표면을 향하여 토출된다. 이에 따라, 노즐(325)의 토출구(324)로부터 토출된 도전 재료(P)가 기판(10)의 표면에 충돌한 후 노즐(325)의 주변으로 분산되는 것을 방지할 수 있다.
구동 유닛(40)은 기판(10)의 상면, 측면 및 하면이 이루는 윤곽을 따라 노즐(325)을 이동시키는 것과 함께 노즐(325)의 토출구(324)가 기판(10)의 상면, 측면 및 하면을 향하도록 노즐(325)를 회전시키는 역할을 한다.
이를 위해, 도 1에 도시된 바와 같이, 구동 유닛(40)은, 도전 재료 토출 유닛(30)을 Y축과 평행한 축을 중심으로 회전시키는 회전부(41)와, 회전부(41)를 Z축 방향으로 이동시켜 도전 재료 토출 유닛(30)을 Z축 방향으로 이동시키는 Z축 이동부(42)와, Z축 이동부(42)를 X축 방향으로 이동시켜 도전 재료 토출 유닛(30)을 X축 방향으로 이동시키는 X축 이동부(43)와, X축 이동부(43)를 Y축 방향으로 이동시켜 도전 재료 토출 유닛(30)을 Y축 방향으로 이동시키는 Y축 이동부(44)를 포함할 수 있다. 다만, 본 발명은 이러한 구성에 한정되지 않으며, 도전 재료 토출 유닛(30)을 Y축과 평행한 축을 중심으로 회전시키고 X축 방향, Y축 방향 및 Z축 방향으로 이동시킬 수 있는 다양한 구성이 적용될 수 있다.
한편, 도 4 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 제1 패널(11) 및 제2 패널(12)는 그 사이에 단차부(13)가 형성되도록 합착될 수 있다. 따라서, 기판(10)의 단차부(13)에서는 제1 패널(11)의 측면 및 제2 패널(12)의 상면이 외부로 노출될 수 있다. 이와 같은 경우, 구동 유닛(40)은 노즐(325)을 제1 패널(11)의 상면, 제1 패널(11)의 측면, 제2 패널(12)의 상면, 제2 패널(12)의 측면 및 하면을 따라 이동시키면서 노즐(325)의 토출구(324)가 제1 패널(11)의 상면, 제1 패널(11)의 측면, 제2 패널(12)의 상면, 제2 패널(12)의 측면 및 하면을 향하도록 노즐(325)을 회전시킬 수 있다.
구체적으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 노즐(325)의 토출구(324)로부터 도전 재료(P)가 토출되는 상태에서, 노즐(325)이 제1 패널(11)의 상면을 따라 X축 방향으로 이동됨에 따라, 제1 패널(11)의 상면에 도전 재료(P)가 도포된다.
그리고, 도 5에 도시된 바와 같이, 노즐(325)의 토출구(324)로부터 도전 재료(P)가 토출되는 상태에서, 노즐(325)이 제1 패널(11)의 모서리 및 측면을 따라 X축 방향 및 Z축 방향으로 이동되면서 노즐(325)의 토출구(324)가 제1 패널(11)의 모서리 및 측면을 향하도록 노즐(325)이 회전되며, 이에 따라, 제1 패널(11)의 모서리 및 측면에 도전 재료(P)가 도포된다.
그리고, 도 6에 도시된 바와 같이, 노즐(325)의 토출구(324)로부터 도전 재료(P)가 토출되는 상태에서, 노즐(325)의 토출구(324)가 제2 패널(12)의 상면을 향하도록 노즐(325)이 회전되고, 노즐(325)이 제2 패널(12)의 상면을 따라 X축 방향으로 이동됨에 따라, 제2 패널(12)의 상면에 도전 재료(P)가 도포된다.
그리고, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 노즐(325)의 토출구(324)로부터 도전 재료(P)가 토출되는 상태에서, 노즐(325)이 제2 패널(12)의 모서리 및 측면을 따라 X축 방향 및 Z축 방향으로 이동되면서 노즐(325)의 토출구(324)가 제2 패널(12)의 모서리 및 측면을 향하도록 노즐(325)이 회전되며, 이에 따라, 제2 패널(12)의 모서리 및 측면에 도전 재료(P)가 도포된다.
그리고, 도 9에 도시된 바와 같이, 노즐(325)의 토출구(324)로부터 도전 재료(P)가 토출되는 상태에서, 노즐(325)의 토출구(324)가 제2 패널(12)의 하면을 향하도록 노즐(325)이 회전되고, 노즐(325)이 제2 패널(12)의 하면을 따라 X축 방향으로 이동됨에 따라, 제2 패널(12)의 하면에 도전 재료(P)가 도포된다.
이와 같은 과정을 통해, 제1 패널(11)의 상면, 제1 패널(11)의 측면, 제2 패널(12)의 상면, 제2 패널(12)의 측면 및 하면에 연속적인 도전 재료(P)의 패턴이 형성될 수 있다.
촬상 유닛(50)은 도전 재료 토출 유닛(30)에 설치된다. 예를 들면, 촬상 유닛(50)은 도전 재료 토출 모듈(32)의 메인 바디(323)에 장착될 수 있다. 따라서, 촬상 유닛(50)은 노즐(325)과 함께 X축 방향, Y축 방향 및 Z축 방향으로 이동될 수 있고 Y축과 평행한 축을 중심으로 회전될 수 있다. 이에 따라, 촬상 유닛(50)은 기판(10)에 도전 재료(P)가 도포되는 과정에서 실시간으로 기판(10)에 형성된 도전 재료(P)의 패턴을 촬상할 수 있다. 도전 재료(P)를 도포하는 과정에서 촬상 유닛(50)이 노즐(325)과 함께 이동 및 회전되면서 실시간으로 도전 재료(P)의 패턴을 촬상할 수 있으므로, 도전 재료(P)를 기판(10)에 도포한 후 도전 재료(P)의 도포 상태의 양부를 검출하기 위한 구성 및 과정을 단순화할 수 있다.
제어 유닛(90)은 촬상 유닛(50)에 의해 촬상된 도전 재료(P)의 패턴의 이미지를 근거로 도전 재료(P)의 도포 상태의 양부를 검출할 수 있다. 예를 들면, 도 10에 도시된 바와 같이, 제어 유닛(90)은 기판(10)에 형성된 도전 재료(P)의 패턴의 폭 방향(Y축 방향) 중심들을 지나며 도전 재료(P)의 도포 방향(X축 방향)으로 연장되는 가상의 중심선(CL)을 결정하는 과정, 기판(10)에 표시된 기준 마크(M)에 대한 도전 재료(P)의 패턴의 가상의 중심선(CL)의 위치 및/또는 각도를 측정하는 단계를 포함하는 과정을 수행할 수 있다.
기준 마크(M)에 대한 중심선(CL)의 위치 및/또는 각도가 미리 설정된 위치 범위 및/또는 각도 범위를 벗어나는 경우, 제어 유닛(90)은 도전 재료(P)의 도포 상태가 불량하다고 판단할 수 있다. 이 경우, 제어 유닛(90)은 구동 유닛(40)을 제어하여 노즐(325)의 X축 방향, Y축 방향 및/또는 Z축 방향으로의 위치를 보정할 수 있다.
제어 유닛(90)은 촬상 유닛(50)에 의해 촬상된 도전 재료(P)의 패턴의 이미지를 근거로 도전 재료(P)의 패턴의 Y축 방향으로의 폭(W) 및/또는 단선 여부를 측정하는 단계를 포함하는 과정을 수행할 수 있다.
도전 재료(P)의 패턴의 Y축 방향으로의 폭(W)이 미리 설정된 기준 폭에 미달하거나 초과하는 경우 또는 도전 재료(P)의 패턴의 구간 중 도전 재료(P)가 도포되지 않은 단선 구간이 있는 경우, 제어 유닛(90)은 도전 재료(P)의 도포 상태가 불량하다고 판단할 수 있다. 이 경우, 제어 유닛(90)은 도전 재료 토출 모듈(32)(즉, 압전 액추에이터(327))를 제어하여 노즐(325)의 토출구(324)로부터 토출되는 도전 재료(P)의 토출압 및/또는 토출량을 적절하게 조절할 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예가 예시적으로 설명되었으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에 한정되지 않으며, 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경될 수 있다.
10: 기판
20: 탑재대
30: 도전 재료 토출 유닛
40: 구동 유닛
50: 촬상 유닛

Claims (7)

  1. 제1 패널 및 상기 제1 패널에 합착된 제2 패널을 포함하며 상기 제1 패널 및 상기 제2 패널 사이에 상기 제1 패널의 측면 및 상기 제2 패널의 상면이 외부로 노출되는 단차부를 갖는 기판을 지지하는 탑재대;
    도전 재료를 토출하는 노즐을 갖는 도전 재료 토출 유닛; 및
    상기 도전 재료 토출 유닛을 작동시키도록 구성되는 구동 유닛을 포함하고,
    상기 기판 상에 상기 도전 재료가 도포되는 방향을 X축 방향이라 정의하고, 상기 X축 방향과 동일한 X-Y 평면 상에서 상기 X축 방향에 직교하는 방향을 Y축 방향이라 정의하며, 상기 X-Y 평면에 대해 직교하는 방향을 Z축 방향이라 정의할 때,
    상기 구동 유닛은,
    상기 도전 재료 토출 유닛을 상기 Y축 방향과 평행한 축을 중심으로 회전시키는 회전부;
    상기 도전 재료 토출 유닛을 상기 Z축 방향으로 이동시키는 Z축 이동부;
    상기 도전 재료 토출 유닛을 X축 방향으로 이동시키는 X축 이동부; 및
    상기 도전 재료 토출 유닛을 Y축 방향으로 이동시키는 Y축 이동부를 포함하고,
    상기 구동 유닛은, 상기 도전 재료 토출 유닛을 상기 제1 패널의 상면, 상기 제1 패널의 측면, 상기 제2 패널의 상면, 상기 제2 패널의 측면 및 하면을 따라 이동시키면서, 상기 노즐의 토출구가 상기 제1 패널의 상면, 상기 제1 패널의 측면, 상기 제2 패널의 상면, 상기 제2 패널의 측면 및 하면을 향하도록 상기 도전 재료 토출 유닛을 회전시켜, 상기 제1 패널의 상면, 상기 제1 패널의 측면, 상기 제2 패널의 상면, 상기 제2 패널의 측면 및 하면에 연속적인 도전 재료의 패턴이 형성되도록 하며,
    상기 도전 재료의 패턴은 상기 제1 패널 및 상기 제2 패널을 전기적으로 연결하여 정전기를 배출하는 접지 라인으로서의 역할을 하는 것을 특징으로 하는 도전 재료 도포 장치.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 도전 재료 토출 유닛은 상기 노즐과 연결되어 상기 노즐의 토출구로 도전 재료를 토출하는 도전 재료 토출 모듈을 포함하고,
    상기 도전 재료 토출 모듈은,
    도전 재료 공급원과 연결되는 공급 유로 및 공급 유로를 통해 공급되는 도전 재료를 수용하며 상기 노즐의 토출구와 연통되는 실린더를 포함하는 메인 바디;
    상기 실린더의 내부에 배치되는 피스톤; 및
    상기 피스톤과 연결되어 상기 피스톤을 상기 노즐의 토출구에 대하여 왕복으로 이동시켜 미리 정해진 양의 도전 재료를 상기 노즐의 토출구를 통해 간헐적으로 토출시키는 액추에이터를 포함하는 것을 특징으로 하는 도전 재료 도포 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 액추에이터는 상기 피스톤과 연결되며 전압의 극성에 따라 변형되면서 상기 피스톤을 상기 실린더 내에서 왕복으로 이동시키는 하나 이상의 압전 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 도전 재료 도포 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 도전 재료 토출 유닛에 설치되어 상기 노즐과 함께 이동 및 회전되는 촬상 유닛을 더 포함하고,
    상기 촬상 유닛은 상기 기판에 상기 도전 재료가 도포되는 과정에서 실시간으로 상기 기판에 형성된 도전 재료의 패턴을 촬상하는 것을 특징으로 하는 도전 재료 도포 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 촬상 유닛에 의해 촬상된 상기 도전 재료의 패턴의 이미지를 근거로, 상기 도전 재료의 도포 상태의 양부를 판단하는 제어 유닛을 더 포함하고,
    상기 제어 유닛은, 상기 도전 재료의 패턴의 폭 방향 중심들을 지나며 상기 도전 재료의 도포 방향으로 연장되는 가상의 중심선을 결정하는 단계, 상기 기판에 표시된 기준 마크에 대한 상기 가상의 중심선의 위치 또는 각도를 측정하는 단계를 포함하는 과정을 수행하는 것을 특징으로 하는 도전 재료 도포 장치.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 촬상 유닛에 의해 촬상된 상기 도전 재료의 패턴의 이미지를 근거로, 상기 도전 재료의 도포 상태의 양부를 판단하는 제어 유닛을 더 포함하고,
    상기 제어 유닛은 상기 도전 재료의 패턴의 이미지를 근거로 상기 도전 재료의 패턴의 폭 및/또는 단선 여부를 측정하는 단계를 포함하는 과정을 수행하는 것을 특징으로 하는 도전 재료 도포 장치.
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