KR102113564B1 - 마스크의 세정 장치 및 마스크 세정 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 유기 발광 장치용 금속 마스크의 표면에 잔류하는 이물질을 세정할 수 있게 하는 마스크의 세정 시스템 및 마스크 세정 방법에 관한 것으로서, 내부에 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버; 상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 제 1 에너지를 인가하는 제 1 에너지 인가 장치; 및 상기 진공 환경에서 상기 마스크를 지지하는 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임에 제 2 에너지를 인가하는 제 2 에너지 인가 장치;를 포함할 수 있다.
Description
본 발명은 마스크의 세정 장치 및 마스크 세정 방법에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로 유기 발광 장치용 금속 마스크 및 마스크 프레임의 표면에 잔류하는 이물질을 세정할 수 있게 하는 마스크의 세정 시스템 및 마스크 세정 방법에 관한 것이다.
평판 표시 장치 중 유기 전계 발광 표시 장치는 고속의 응답 속도를 가지며, 소비 전력이 낮고, 자체 발광이므로, 시야각에 문제가 없어서, 장치의 크기에 상관없이 동화상 표시 매체로서 장점이 있다. 또한, 저온 제작이 가능하고, 기존의 반도체 공정 기술을 바탕으로 제조 공정이 간단하므로 향후 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다. 또한 유기 전계 발광 표시 장치에 사용되는 유기막은 자체 발광을 하기 때문에 다층의 유기막을 전면 증착 후 상하단에 전계를 인가하면 OLED 조명 장치에 사용될 수 있다. OLED 조명은 기존의 LED 조명이 점광원인데 반하여 면광원이기 때문에 차세대 조명으로 지대한 관심을 받고 있다.
이러한 유기 전계 발광 표시 장치 및 OLED 조명 제조 공정 시 유기박막의 형성은 사용하는 재료와 공정에 따라 습식 공정을 사용하는 고분자형 소자와, 증착 공정을 사용하는 저분자형 소자로 크게 나눌 수 있다. 예를 들어, 고분자 또는 저분자 발광층의 형성 방법 중 잉크젯 프린팅 방법의 경우, 발광층 이외의 유기층들의 재료가 제한적이고, 기판 상에 잉크젯 프린팅을 위한 구조를 형성해야 하는 번거로움이 있다. 또한 증착 공정에 의해 발광층을 형성하는 경우, 별도의 금속 마스크를 사용할 수 있다.
이러한, 종래의 유기 발광 장치용 금속 마스크 및 마스크를 지지하는 프레임은 표면이 이물질(유기물 등)에 의해 쉽게 오염될 수 있었다.
종래에는 이러한 금속 마스크를 재활용하기 위하여 표면에 잔류하는 이물질 또는 이물질을 각종 산성 용액이나 알카리성 용액 등의 세정액을 이용하여 녹여서 제거하는 습식 세정 방법이 사용되었다.
그러나, 이러한 종래의 습식 세정 방법은 폐기되는 세정액을 통한 환경 오염을 유발할 수 있는 것은 물론이고, 금속 마스크의 표면이 세정액에 녹아서 마스크의 수명을 단축시키고, 세정 후 건조시키는 등 세정 작업시 소요되는 시간과 비용이 크게 증대되어 생산성이 떨어지는 등 많은 문제점들이 있었다.
한편, 얇은 두께의 마스크가 두꺼운 두께의 프레임에 의해 지지되는 경우, 마스크가 손상되지 않는 범위 내에서 마스크를 세정하면, 상대적으로 이물질의 제거가 어려운 프레임에 잔류하는 이물질은 충분히 세정되지 못했었던 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 상대적으로 적은 에너지로 세정이 가능한 마스크는 세정광을 이용하여 세정하고, 상대적으로 많은 에너지가 소모되는 프레임은 플라즈마와 같은 별도의 방식으로 별도 세정할 수 있어서 마스크와 프레임 모두 충분한 세정이 이루어지게 하는 동시에 마스크의 변형이나 손상을 방지하여 마스크의 수명을 향상시킬 수 있고, 세정 시간과 비용을 줄여서 생산성을 크게 향상시킬 수 있으며, 세정광으로 증발된 이물질을 회수할 수 있어서 경제적이고, 폐기물이 발생되지 않아서 친환경적이며, 기존의 마스크 회수 라인에 쉽게 적용이 가능하여 추가 설치 비용을 절감할 수 있게 하는 마스크의 세정 시스템 및 마스크 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 마스크의 세정 장치는, 내부에 마스크를 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버; 상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 제 1 에너지를 인가하는 제 1 에너지 인가 장치; 및 상기 진공 환경에서 상기 마스크를 지지하는 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임에 제 2 에너지를 인가하는 제 2 에너지 인가 장치;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 마스크는 유기 전계 발광 표시장치 제조용 파인메탈마스크(M)이고, 상기 제 1 에너지 인가 장치는, 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질을 제거할 수 있도록 제논 램프에 제 1 세기 또는 제 1 펄스 인가 시간을 갖는 제 1 펄스파 전원을 제어부로부터 인가받아 제 1 IPL(Intense Pulse Light)을 발생시키는 세정광 조사 장치일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 2 에너지 인가 장치는, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 플라즈마 에너지로 제거할 수 있도록 상기 프레임과 대응되게 설치되는 플라즈마 발생 장치일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 플라즈마 발생 장치는, 상기 프레임과 대응되도록 상기 진공 챔버의 내부에 설치되어 제 1 전원이 인가되는 제 1 전극부; 및 상기 프레임과 전기적으로 연결되고, 제 2 전원이 인가되거나 또는 접지되는 제 2 전극부;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1 전극부 또는 상기 제 2 전극부는 상기 프레임에 대응되도록 전체적으로 사각링 형상일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 플라즈마 발생 장치는, 상기 프레임과 대응되도록 상기 진공 챔버의 내부에 설치되어 제 1 전원이 인가되는 제 3 전극부; 및 상기 프레임과 대응되도록 상기 진공 챔버의 내부에 상기 제 1 전극부와 플라즈마 발생 공간만큼 이격되게 설치되는 제 4 전극부;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 마스크의 세정 장치는, 상기 진공 챔버에 설치되고, 상기 마스크 또는 상기 프레임을 상기 제 1 에너지 인가 장치와 대응되는 제 1 위치 또는 상기 제 2 에너지 인가 장치와 대응되는 제 2 위치로 이동시킬 수 있는 마스크 이동 장치;를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 마스크의 세정 장치는, 상기 세정광의 광경로에 설치될 수 있고, 제 1 이물질의 분해능이 우수한 제 1 파장 대역의 빛을 통과시키는 밴드패스필터;를 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1 에너지 인가 장치는, 광 에너지를 상기 진공 챔버 방향으로 반사시키는 제 1 반사기와 함께 상기 진공 챔버의 외부에 설치되고, 상기 제 2 에너지 인가 장치는, 플라즈마 에너지를 발생시킬 수 있도록 상기 진공 챔버의 내부에 설치되며, 상기 진공 챔버는, 진공 환경을 형성할 수 있도록 진공 펌프가 설치되고, 상기 제 1 에너지 인가 장치에서 발생된 상기 광 에너지가 유입되어 상기 마스크에 조사될 수 있도록 일측에 상기 광 에너지를 투과시키는 제 1 투명창이 형성될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 마스크의 세정 장치는, 상기 이물질이 상기 제 1 투명창을 오염시키지 않고 표면에 트랩되어 회수될 수 있도록 상기 진공 챔버의 내부 또는 상기 제 1 투명창과 상기 마스크 사이에 설치되는 이물질 회수용 패널;을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1 에너지 인가 장치는, 광 에너지를 상기 마스크 방향으로 반사시키는 제 2 반사기와 함께 상기 진공 챔버의 내부에 설치되고, 상기 제 2 반사기는, 내부에 설치된 세정광 조사 장치를 보호할 수 있도록 상기 세정광을 투과시키는 밴드패스필터 또는 제 2 투명창이 형성될 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 2 에너지 인가 장치는, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 유도 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임과 대응되게 설치되는 유도 가열 장치일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 2 에너지 인가 장치는, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 주울 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임 또는 상기 프레임에 형성된 회로층에 전원을 인가하는 주울 가열 장치일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 2 에너지 인가 장치는, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 레이저 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임과 대응되게 설치되는 레이저 가열 장치일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 2 에너지를 인가하기 이전에, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 히터로 예비 가열하여 제거할 수 있도록 상기 제 2 에너지 인가 장치 전방에 설치되는 예비 가열 장치;를 더 포함할 수 있다.
한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 마스크의 세정 방법은, 내부에 마스크를 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버로 상기 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용하는 진공 챔버 수용 단계; 상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 제 1 에너지를 인가하는 마스크 세정 단계; 및 상기 진공 환경에서 상기 마스크를 지지하는 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임에 제 2 에너지를 인가하는 프레임 세정 단계;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 프레임 세정 단계는, 상기 마스크 세정 단계와 동시에 이루어질 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 마스크 세정 단계 이전에, 상기 프레임을 히터로 예비 가열하는 프레임 예비 가열 단계;를 더 포함할 수 있다.
한편, 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 마스크의 세정 방법은, 내부에 마스크를 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버로 상기 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용하는 진공 챔버 수용 단계; 상기 진공 환경에서 상기 마스크를 지지하는 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임에 제 2 에너지를 인가하는 프레임 세정 단계; 및 상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 제 1 에너지를 인가하는 마스크 세정 단계;를 포함할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 마스크와 프레임 모두 충분한 세정이 이루어지게 하는 동시에 마스크의 변형이나 손상을 방지하여 마스크의 수명을 향상시킬 수 있고, 세정 시간과 비용을 줄여서 생산성을 크게 향상시킬 수 있으며, 세정광으로 증발된 이물질을 회수할 수 있어서 경제적이고, 폐기물이 발생되지 않아서 친환경적이며, 기존의 마스크 회수 라인에 쉽게 적용이 가능하여 추가 설치 비용을 절감할 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1의 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치의 일례를 확대하여 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 2의 제 2 에너지 인가 장치의 다른 일례를 확대하여 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 프레임 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 5는 도 4의 마스크의 세정 장치의 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 9는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치의 다른 일례를 나타내는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치의 또 다른 일례를 나타내는 단면도이다.
도 11은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 예비 가열 모드를 나타내는 단면도이다.
도 12은 도 11의 마스크의 세정 장치의 프레임 세정 모드 또는 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 13은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 14는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 15는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 16은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치를 나타내는 부품 분해 사시도이다.
도 17은 도 16의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 부품 조립 사시도이다.
도 18은 도 17의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 단면도이다.
도 19는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치를 나타내는 부품 분해 사시도이다.
도 20은 도 19의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 부품 조립 사시도이다.
도 21은 도 20의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 단면도이다.
도 22는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 프레임 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 23은 도 22의 마스크의 세정 장치의 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 24는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 나타내는 단면도이다.
도 25는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 나타내는 단면도이다.
도 26 내지 도 37은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 트레이의 여러 일례들을 나타내는 단면도들이다.
도 2는 도 1의 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치의 일례를 확대하여 나타내는 단면도이다.
도 3은 도 2의 제 2 에너지 인가 장치의 다른 일례를 확대하여 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 프레임 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 5는 도 4의 마스크의 세정 장치의 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 9는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치의 다른 일례를 나타내는 단면도이다.
도 10은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치의 또 다른 일례를 나타내는 단면도이다.
도 11은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 예비 가열 모드를 나타내는 단면도이다.
도 12은 도 11의 마스크의 세정 장치의 프레임 세정 모드 또는 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 13은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 14는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 15는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 16은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치를 나타내는 부품 분해 사시도이다.
도 17은 도 16의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 부품 조립 사시도이다.
도 18은 도 17의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 단면도이다.
도 19는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치를 나타내는 부품 분해 사시도이다.
도 20은 도 19의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 부품 조립 사시도이다.
도 21은 도 20의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 단면도이다.
도 22는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 프레임 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 23은 도 22의 마스크의 세정 장치의 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 24는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 나타내는 단면도이다.
도 25는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치를 나타내는 단면도이다.
도 26 내지 도 37은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 트레이의 여러 일례들을 나타내는 단면도들이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(100)를 개념적으로 나타내는 단면도이고, 도 2는 도 1의 마스크의 세정 장치(100)의 제 2 에너지 인가 장치(E2)의 일례를 확대하여 나타내는 단면도이다.
먼저, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(100)는, 크게 진공 챔버(10)와 제 1 에너지 인가 장치(E1) 및 제 2 에너지 인가 장치(E2)를 포함할 수 있다.
예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 진공 챔버(10)는, 내부에 마스크(M) 및 상기 마스크(M)를 지지하는 프레임(F)를 동시에 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)에 잔류하는 유기물이나 무기물 등의 이물질(1)의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 밀폐가 가능한 일종의 박스 형태의 구조체일 수 있다.
이러한, 상기 진공 챔버(10)는 내부에 진공 환경이 형성될 수 있도록 진공 펌프(P)가 설치될 수 있다. 그러나, 이러한 상기 진공 챔버(10)는 도면에 반드시 국한되지 않고, 예컨대, 도시하진 않았지만, 상기 마스크(M)가 출입할 수 있도록 각종 게이트나 도어가 형성될 수 있고, 이외에도 연속적인 공정 수행을 위해서 다양한 형태의 공정 챔버나, 버퍼 챔버나, 로드락 챔버들이 연결될 수 있다.
여기서, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)은 유기 전계 발광 표시장치 제조용 파인메탈마스크 또는 오픈 마스크일 수 있는 것으로서, 유기 발광 장치용 기판 상에 유기물을 증착시키기 위해서 사용되는 인바 재질의 금속 마스크일 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)이 파인메탈마스크인 경우, 상기 마스크(M)는 미세 패턴이 형성되는 상대적으로 얇은 두께의 금속판 또는 금속 박막일 수 있고, 상기 프레임(F)은, 상기 마스크(M)가 처지지 않고 견고하게 고정될 수 있도록 상기 마스크(M)의 테두리부분과 접착 또는 용접되는 상대적으로 두꺼운 두께의 액자형 프레임일 수 있다.
반면, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)이 오픈 마스크인 경우, 상기 마스크(M)의 전체 또는 일부분에 관통창이 형성될 수 있고, 상기 프레임(F)은 상기 마스크(M)와 일체로 형성되거나 또는 상기 마스크(M)와 접착되는 액자형 프레임일 수 있다. 이외에도, 상기 마스크(M)가 생략되거나 상기 프레임(F)이 얇게 형성되는 등 매우 다양한 형태의 마스크들이 모두 적용될 수 있다.
이러한, 상기 마스크(M)는 증착 공정 후 표면 상에 필연적으로 유기물이나 소량의 무기물 등 상기 이물질(1)이 잔류하는 것으로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 마스크(M)가 매우 얇은 시트 타입일 수 있다. 이 때, 상기 마스크(M)가 충분한 강도와 내구성을 유지할 수 있도록 상기 마스크(M)를 지지할 수 있는 사각 링 형태의 프레임(F)이 설치될 수 있다. 도 1에서는 사각 링 형태의 상기 프레임(F)을 갖는 마스크(M)를 예시하였으나 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)은, 도면에 국한되지 않고 매우 다양한 형태의 프레임들이 모두 적용될 수 있다.
또한, 일반적으로 상기 프레임(F)의 두께는 수백 내지 수천 마이크로 미터 단위로서, 상기 마스크(M)의 두께인 수 마이크로 미터 보다 훨씬 두껍기 때문에 상기 프레임(F)에 잔류하는 이물질(1)을 제거하기 위해서는 훨씬 많은 양의 에너지가 소요될 수 있다.
이에 반하여 상기 마스크(M)의 두께는 매우 얇아서 과도한 에너지가 인가되면 상기 마스크(M)가 쉽게 열변형되거나 파손되거나 연소되는 등의 부작용이 있을 수 있다.
이러한 에너지 차이를 해소하기 위해서, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는 상대적으로 낮은 수준의 에너지를 인가하여 상기 마스크(M)를 세정할 수 있고, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)는 상대적으로 높은 수준의 에너지를 인가하여 상기 프레임(F)을 세정할 수 있다.
예컨대, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는, 상기 진공 환경에서 상기 마스크(M)에 잔류하는 상기 이물질(1)에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크(M)로부터 상기 이물질(1)을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버(10)에 수용된 상기 마스크(M)에 제 1 에너지를 인가하는 에너지 발생 장치일 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는, 상기 마스크(M)에 잔류하는 상기 이물질을 제거할 수 있도록 제 1 램프(LAMP1)에 제 1 세기(V1) 또는 제 1 펄스 인가 시간(T1)을 갖는 제 1 펄스파 전원을 제어부로부터 인가받아 제 1 IPL(Intense Pulse Light)을 발생시키는 세정광 조사 장치(20)일 수 있다.
이 때, 상기 제 1 IPL은 상기 이물질(1)의 종류에 따라 최적화된 파장 대역의 빛을 포함할 수 있는 것으로서, 예컨대, 자외선 영역의 빛을 포함할 수 있다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 가시광선, 적외선 등 광대역 파장의 빛을 포함할 수 있다.
따라서, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는, 도 1의 확대한 부분에 도시된 바와 같이, 상기 마스크(M)로부터 상기 유기물 등의 이물질(1)을 예컨대, 산소나 수소 원자나 분자나 이온 등 제 1-1 물질(1-1) 및 탄소 원자나 분자나 이온 등 제 1-2 물질(1-2)로 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버(10)에 수용된 상기 마스크(M)에 세정광(L)을 조사할 수 있는 광조사 장치일 수 있다.
예컨대, 제논 플래쉬 라이트는 200 내지 1100 nm의 대역폭을 가질 수 있고, 이들 중에서 밴드 패스 필터 등을 이용하여 원하는 영역의 광들만 선택적으로 사용할 수 있다. 또한, 예컨대, 제논 램프에 인가되는 파워는 연속적(continuous)인 형태의 파워이거나 펄스된(pulsed) 형태의 파워가 모두 적용될 수 있다.
또한, 예컨대, 이러한 상기 세정광(L)은 상기 마스크(M)의 전영역에 걸쳐서 전체적으로 조사될 수 있거나 또는 라인빔 방식으로 상기 마스크(M))를 상대적으로 이동시키면서 스캔 과정으로 조사되는 것이 모두 가능하다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 세정광 조사 장치(20)는, 상기 세정광(L)을 상기 진공 챔버(10) 방향으로 반사시키는 제 1 반사기(R1)와 함께 상기 진공 챔버(10)의 외부에 설치될 수 있다. 이렇게 상기 세정광 조사 장치(20)가 상기 진공 챔버(10)의 외부에 설치되면 상기 세정광 조사 장치의 수리나 교체나 관리나 운영이 용이하고, 장치에서 발생되는 각종 발열량을 외부로 쉽게 배출시킬 수 있다.
이를 위해서, 상기 진공 챔버(10)는, 상기 세정광 조사 장치(20)의 상기 세정광(L)이 유입되어 상기 마스크(M)에 조사될 수 있도록 일측에 상기 세정광(L)을 투과시키는 제 1 투명창(11)이 형성될 수 있다.
이러한, 상기 제 1 투명창(11)은 상기 진공 챔버(10) 내부의 진공이나 기밀을 유지하면서 상기 세정광(L)을 통과시킬 수 있는 쿼츠나 유리나 사파이어 등 각종 투광성 재질이 모두 적용될 수 있다.
또한, 상기 제 1 반사기(R1)는, IPL(Intense Pulse Light) 반사기(reflector), 즉 고급 광학 설계 및 숙련된 광학면 가공 기술을 적용하여 광손실을 최소화할 수 있고, 광에너지 조사 영역 전체에 균일한 에너지 밀도(uniformity)를 10퍼센트 이상 확보할 수 있으며, 최대 10 J/cm2 이상의 높은 에너지 밀도를 확보할 수 있고, 인증을 획득할 수 있으며, 좁은 공간에서도 설치가 가능하고, 재료 특성 및 세정 조건에 따라 공정환경을 최적화하는 것도 가능하다.
또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 세정광 조사 장치(20)는, 상기 마스크(M)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 제거할 수 있도록 제 1 램프(LAMP1)가 적용될 수 있다. 여기서, 상기 제 1 램프(LAMP1)는, 제논 램프 등 상기 이물질(1)을 분해할 수 있는 다양한 형태나 파장의 광에너지를 발생시킬 수 있는 다양한 램프들이 모두 적용될 수 있다.
한편, 본 발명의 기술적 사상은 도면에 국한되지 않고, 예컨대, 도면에 도시된 하향 조사식 램프는 물론이고, 상향식 조사식 램프가 적용되거나, 또는, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)의 오염면이 도시된 바와 같이, 상방을 향하는 상향식 이외에도, 오염면이 하방을 향하는 하향식 등 매우 다양한 방식으로 적용되는 것이 가능하다.
예컨대, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)는, 상기 진공 환경에서 상기 마스크(M)를 지지하는 프레임(F)에 잔류하는 이물질(1)에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임(F)으로부터 상기 이물질(1)을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버(10)에 수용된 상기 프레임(F)에 제 2 에너지를 인가하는 에너지 발생 장치일 수 있다.
예컨대, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)는, 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 플라즈마 에너지로 제거할 수 있도록 상기 프레임(F)과 대응되게 설치되는 플라즈마 발생 장치(30)일 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 플라즈마 발생 장치(30)는, 상기 프레임(F)과 대응되도록 상기 진공 챔버(10)의 내부에 설치되어 제 1 전원이 인가되는 제 1 전극부(31) 및 상기 프레임(F)과 전기적으로 연결되고, 제 2 전원이 인가되거나 또는 접지되는 제 2 전극부(32)를 포함할 수 있다.
따라서, 상기 제 1 전극부(31)와 상기 제 2 전극부(32)로 인해 전위차가 형성되는 상기 프레임(F) 사이에서 플라즈마(PM)가 발생될 수 있고, 이러한 플라즈마(PM)에 의해서 상기 프레임(F)에 잔류하던 이물질(1)들이 분해되어 제거될 수 있다.
여기서, 상술된 바와 같이, 사각링 형상으로 형성된 상기 프레임(F)에 대응될 수 있도록 상기 제 1 전극부(31) 또는 상기 제 2 전극부(32)는 상기 프레임(F)에 대응되도록 전체적으로 사각링 형상일 수 있다.
따라서, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는 상대적으로 낮은 수준의 광 에너지를 인가하여 상기 마스크(M)를 세정할 수 있고, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)는 상대적으로 높은 수준의 플라즈마 에너지를 인가하여 상기 프레임(F)을 세정할 수 있다.
그러므로, 상기 마스크(M)와 상기 프레임(F) 모두 충분한 세정이 이루어지게 하는 동시에 상기 마스크(M)의 변형이나 손상을 방지하여 상기 마스크(M)의 수명을 향상시킬 수 있고, 세정 시간과 비용을 줄여서 생산성을 크게 향상시킬 수 있으며, 세정광으로 증발된 이물질을 회수할 수 있어서 경제적이고, 폐기물이 발생되지 않아서 친환경적이며, 기존의 마스크 회수 라인에 쉽게 적용이 가능하여 추가 설치 비용을 절감할 수 있다.
한편, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(100)는, 상기 세정광(L)의 광경로에 설치될 수 있고, 제 1 이물질의 분해능이 우수한 제 1 파장 대역의 빛을 통과시키는 밴드패스필터(FT1)를 더 포함할 수 있다.
따라서, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(100)는 상기 밴드패스필터(FT1)를 이용하여 상기 마스크(M)의 손상을 억제하는 동시에 상기 이물질(1)을 분해능이 높은 파장 대역의 빛들을 선택적으로 사용할 수 있다.
예컨대, 상기 밴드패스필터(FT1)는 상기 마스크(M)의 열변형을 유발하는 적외선 대역의 파장 보다는 상기 이물질(1)의 분해능이 우수한 자외선 대역의 파장만 선택하여 통과시키는 UV 밴드패스필터가 적용될 수 있다. 그러나, 이에 반드시 국한되지 않고, 매우 다양한 대역의 파장들이 선택적으로 활용될 수 있다.
예를 들면, 상기 이물질(1)이 레드 전계 발광용 이물질인 경우, 상기 제 1 밴드패스필터(FT1)는 레드 전계 발광용 이물질에 대한 분해능이 우수한 예컨대, 적외선 대역 또는 근적외선 대역의 빛을 통과시켜서 세정 효율을 향상시킬 수 있다. 그러나, 이에 반드시 국한되지 않고, 매우 다양한 형태의 빛을 통과시키는 밴드패스필터가 다양한 형태로 적용될 수 있다.
따라서, 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는, 광 에너지를 상기 진공 챔버(10) 방향으로 반사시키는 제 1 반사기(R1)와 함께 상기 진공 챔버(10)의 외부에 설치되고, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)는, 플라즈마 에너지를 발생시킬 수 있도록 상기 진공 챔버(10)의 내부에 설치되며, 상기 진공 챔버(10)는, 진공 환경을 형성할 수 있도록 진공 펌프(P)가 설치되고, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)에서 발생된 상기 광 에너지가 유입되어 상기 마스크(M)에 조사될 수 있도록 일측에 상기 광 에너지를 투과시키는 제 1 투명창(11)이 형성될 수 있다.
도 3은 도 2의 제 2 에너지 인가 장치(E2)의 다른 일례를 확대하여 나타내는 단면도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 도 2의 제 2 에너지 인가 장치(E2)의 다른 일례로서, 상기 플라즈마 발생 장치(30)는, 상기 프레임(F)과 대응되도록 상기 진공 챔버(10)의 내부에 설치되어 제 1 전원이 인가되는 제 3 전극부(33) 및 상기 프레임(F)과 대응되도록 상기 진공 챔버(10)의 내부에 상기 제 1 전극부와 플라즈마 발생 공간만큼 이격되게 설치되는 제 4 전극부(34)를 포함할 수 있다.
따라서, 상기 제 3 전극부(33)와 상기 제 4 전극부(34) 사이에서 플라즈마(PM)가 발생될 수 있고, 이러한 플라즈마(PM)에 의해서 상기 프레임(F)에 잔류하던 이물질(1)들이 분해되어 제거될 수 있다.
도 4는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(200)의 프레임 세정 모드를 나타내는 단면도이고, 도 5는 도 4의 마스크의 세정 장치(200)의 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(200)는, 상기 진공 챔버(10)에 설치되고, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)을 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)와 대응되는 제 1 위치에서 상기 제 1 에너지 인가 장치(E2)와 대응되는 제 2 위치로 이동시킬 수 있는 마스크 이동 장치(40)를 더 포함할 수 있다.
예컨대, 상기 마스크 이동 장치(40)는, 상기 세정광 조사 장치에 발생된 상기 세정광(L)이 상기 마스크(M)를 부분 조사 또는 스캐닝 조사할 수 있도록 상기 마스크(M) 또는 상기 세정광 조사 장치를 서로 상대적으로 이동시키는 장치로서, 모터나 리니어 모터나 동력 전달 장치나 유압/공압 실린더를 이용하여 대상물을 이동시킬 수 있는 각종 컨베이어 장치나 밸트 장치나 로울러 장치나 이송 로봇이나 이송 라인이나 이송 대차 등 다양한 형태의 이동 장치들이 모두 적용될 수 있다.
따라서, 도 4에 도시된 바와 같이, 먼저, 프레임 세정 모드에서, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)을 상기 제 1 위치에서 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)가 상기 프레임(F)을 1차로 세정한 다음, 도 5에 도시된 바와 같이, 마스크 세정 모드에서, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)을 제 2 위치에서 제 1에너지 인가 장치(E1)이 상기 마스크(M)를 2차로 세정할 수 있다.
따라서, 예컨대, 먼저, 프레임 세정 모드가 수행되고, 이어서 마스크 세정 모드가 수행되는 것이 상기 프레임(F) 세정시 남은 이물질(1)들을 상기 마스크(M)에 미치는 영향을 최소화할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(300)를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(300)는, 상기 이물질(1)이 상기 제 1 투명창(11)을 오염시키지 않고 표면에 트랩되어 회수될 수 있도록 상기 진공 챔버(10)의 내부 또는 상기 제 1 투명창(11)과 상기 마스크(M) 사이에 설치되는 이물질 회수용 패널(12)을 더 포함할 수 있다.
따라서, 상기 제 1 투명창(11)을 보호하면서 상기 이물질 회수용 패널(12)의 표면에 누적된 고가의 상기 이물질(1)들을 회수하여 재활용할 수 있다. 여기서, 상기 이물질 회수용 패널(12)에는 냉각 장치가 설치되어 상기 이물질(1)들이 차가운 표면에 응집되면서 콜드 트랩되게 할 수 있다. 이외에도 다양한 형태의 트랩 장치들이 적용될 수 있다.
도 7은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(400)를 개념적으로 나타내는 단면도이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(400)의 제 1 에너지 인가 장치(E1)는, 광 에너지를 상기 마스크 방향으로 반사시키는 제 2 반사기(R2)와 함께 상기 진공 챔버(10)의 내부에 설치되고, 상기 제 2 반사기(R2)는, 내부에 설치된 세정광 조사 장치를 보호할 수 있도록 상기 세정광(L)을 투과시키는 밴드패스필터(FT2) 또는 제 2 투명창(13)이 형성될 수 있다.
따라서, 상기 진공 챔버(10)에 별도의 투명창을 설치할 필요 없어서 기밀이 용이하고, 광 경로를 단축시켜서 세정 성능과 세정 효율을 향상시킬 수 있으며, 광 조사 영역을 넓혀서 대면적 마스크에 대응할 수 있다.
도 8은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치(E2)의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치(E2)는, 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 유도 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임(F)과 대응되게 설치되는 유도 가열 장치(50)일 수 있다.
이러한 도 8의 상기 유도 가열 장치(50)는 플라즈마와는 달리 가열 온도나 시간을 보다 정밀하게 제어할 수 있지만, 상기 프레임(F)의 전체 또는 적어도 일부분이 유도 가열이 가능한 재질인 경우에만 적용될 수 있다.
따라서, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는 상대적으로 낮은 수준의 광 에너지를 인가하여 상기 마스크(M)를 세정할 수 있고, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)는 상대적으로 높은 수준의 유도 가열 에너지를 인가하여 상기 프레임(F)을 세정할 수 있다.
도 9는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치(E2)의 다른 일례를 나타내는 단면도이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치(E2)는, 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 주울 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임(F) 또는 상기 프레임(F)에 형성된 회로층(C)에 전원을 인가하는 주울 가열 장치(60)일 수 있다.
이러한 도 9의 상기 주울 가열 장치(60)는 플라즈마와는 달리 가열 온도나 시간을 보다 정밀하게 제어할 수 있지만, 상기 프레임(F)의 전체 또는 적어도 일부분이 저항 가열이 가능한 재질인 경우에만 적용될 수 있다.
따라서, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는 상대적으로 낮은 수준의 광 에너지를 인가하여 상기 마스크(M)를 세정할 수 있고, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)는 상대적으로 높은 수준의 주울 가열 에너지를 인가하여 상기 프레임(F)을 세정할 수 있다.
도 10은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치(E2)의 또 다른 일례를 나타내는 단면도이다.
도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 제 2 에너지 인가 장치(E2)는, 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 레이저 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임(F)과 대응되게 설치되는 레이저 가열 장치(70)일 수 있다.
이러한 도 10의 상기 레이저 가열 장치(70)는 플라즈마와는 달리 가열 온도나 시간을 보다 정밀하게 제어할 수 있다.
따라서, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)는 상대적으로 낮은 수준의 광 에너지를 인가하여 상기 마스크(M)를 세정할 수 있고, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)는 상대적으로 높은 수준의 레이저 에너지를 인가하여 상기 프레임(F)을 세정할 수 있다.
도 11은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(500)의 예비 가열 모드를 나타내는 단면도이고, 도 12은 도 11의 마스크의 세정 장치(500)의 프레임 세정 모드 또는 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(500)는, 상기 제 2 에너지를 인가하기 이전에, 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 히터(H)로 예비 가열하여 제거할 수 있도록 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2) 전방에 설치되는 예비 가열 장치(80)를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 히터(H)는 매우 다양한 형태의 히터가 모두 적용될 수 있는 것으로서, 예컨대, 전열식 히터나 광열식 히터는 물론이고, 상술된 플라즈마 히터는 물론이고, 유도 가열 히터, 주울 가열 히터, 레이저 히터가 모두 적용될 수 있다.
따라서, 도 11에 도시된 바와 같이, 상대적으로 두께가 두꺼워서 가열이 용이하지 않아 이물질(1)의 분해가 어려운 상기 프레임(F)에 잔류하는 이물질(1)의 분해를 예비적으로 먼저 수행한 다음, 도 12에 도시된 바와 같이, 상기 마스크 이동 장치(40)를 이용하여 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)을 이동시킨 후, 정식 마스크 세정 및 프레임 세정은 2차로 동시 또는 순차적으로 수행하여 세정 능력과 효율을 더욱 향상시킬 수 있다.
도 13은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 1 내지 도 13에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법은, 내부에 마스크(M)를 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크(M)에 잔류하는 이물질(1)의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버(10)로 상기 마스크(M) 및 상기 마스크(M)를 지지하는 프레임(F)을 수용하는 진공 챔버 수용 단계(S1); 상기 진공 환경에서 상기 마스크(M)에 잔류하는 상기 이물질(1)에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크(M)로부터 상기 이물질(1)을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버(10)에 수용된 상기 마스크(M)에 제 1 에너지를 인가하는 마스크 세정 단계(S2); 및 상기 진공 환경에서 상기 마스크(M)를 지지하는 프레임(F)에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임(F)으로부터 상기 이물질(1)을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버(10)에 수용된 상기 프레임(F)에 제 2 에너지를 인가하는 프레임 세정 단계(S3);를 포함할 수 있다.
도 14는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 14에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법은, 상술된 상기 마스크 세정 단계(S2) 이전에, 상기 프레임(F)을 히터(H)로 예비 가열하는 프레임 예비 가열 단계(S4);를 더 포함할 수 있다.
이 때, 상기 프레임 세정 단계(S3)와 상기 마스크 세정 단계(S2)는 동시에 이루어질 수 있다.
따라서, 상기 프레임(F)을 예비로 가열한 다음, 상기 마스크(M)와 상기 프레임(F)을 동시에 세정함으로써 상기 프레임(F)의 세정 성능을 향상시키고, 동시 세정으로 분해된 이물질이 세정된 표면에 재흡착되는 것을 방지할 수 있다.
도 15는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법을 나타내는 순서도이다.
도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 방법은, 내부에 마스크(M)를 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크(M)에 잔류하는 이물질(1)의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버(10)로 상기 마스크(M) 및 상기 마스크(M)를 지지하는 프레임(F)을 수용하는 진공 챔버 수용 단계(S1); 상기 진공 환경에서 상기 마스크(M)를 지지하는 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임(F)으로부터 상기 이물질(1)을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버(10)에 수용된 상기 프레임(F)에 제 2 에너지를 인가하는 프레임 세정 단계(S3); 및 상기 진공 환경에서 상기 마스크(M)에 잔류하는 상기 이물질(1)에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크(M)로부터 상기 이물질(1)을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버(10)에 수용된 상기 마스크(M)에 제 1 에너지를 인가하는 마스크 세정 단계(S2);를 포함할 수 있다.
따라서, 예컨대, 먼저, 상기 프레임 세정 단계(S3)가 수행되고, 이어서 상기 마스크 세정 단계(S2)가 수행되는 것이 상기 프레임(F) 세정시 남은 이물질(1)들의 상기 마스크(M)에 미치는 영향을 최소화할 수 있다.
도 16은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(600)의 유도 가열 장치(51)를 나타내는 부품 분해 사시도이고, 도 17은 도 16의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 부품 조립 사시도이고, 도 18은 도 17의 마스크의 세정 장치의 유도 가열 장치의 단면도이다.
도 16 내지 도 18에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(600)의 유도 가열 장치(51)는, 상기 제 1 에너지 인가 장치(E1)가, 상기 마스크(M)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 제거할 수 있도록 IPL(Intense Pulse Light)을 발생시키는 IPL 조사 장치(21)이며, 상기 제 2 에너지 인가 장치(E2)가, 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 유도 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임(F)과 대응되게 설치되는 유도 가열 장치(51)일 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 도 16 내지 도 18에 도시된 바와 같이, 상기 유도 가열 장치(51)는, 상기 프레임(F)의 상면(Fa)과 대응되는 상면 대응 코일(52) 및 상기 상면 대응 코일(52)에서 발생되는 유도 기전력이 상기 프레임(F)의 상면(Fa) 방향으로 집중될 수 있도록 상기 상면 대응 코일(52)의 상부와 측부를 둘러싸는 형상으로 형성되는 상면 코어(53)를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 코일(52)은 유도 가열용 전자기력을 발생시킬 수 있도록 전류가 흐르는 전도성 물질로 이루어지고, 상기 코어(53)는 이러한 유도 가열용 전자기력을 상기 프레임(F) 방향으로 집중시킬 수 있도록 규소 강판이나, 플럭스툴이나, 페라이트 등의 재질로 이루어지는 자기장 유도 물질로 이루어질 수 있다.
따라서, 도 18에 도시된 바와 같이, 상기 상면 대응 코일(52)에서 유도 가열용 전자기력이 발생되면, 상기 상면 코어(53)를 이용하여 상기 프레임(F) 방향으로 집중할 수 있고, 민감한 상기 마스크(M)의 영향을 최소화하면서 비교적 두꺼운 상기 프레임(F)을 순간적 및 효율적으로 국소 부위만 정확한 온도로 유도 가열할 수 있어서 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 제거할 수 있다.
도 19는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(700)의 유도 가열 장치(51)를 나타내는 부품 분해 사시도이고, 도 20은 도 19의 마스크의 세정 장치(700)의 유도 가열 장치(51)의 부품 조립 사시도이고, 도 21은 도 20의 마스크의 세정 장치(700)의 유도 가열 장치(51)의 단면도이다.
도 19 내지 도 21에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(700)의 유도 가열 장치(51)는, 상기 프레임(F)의 내측 경사면(Fb)과 대응되는 경사면 대응 코일(54) 및 상기 경사면 대응 코일(54)에서 발생되는 유도 기전력이 상기 프레임(F)의 내측 경사면(Fb) 방향으로 집중될 수 있도록 상기 경사면 대응 코일(54)의 상부와 측부를 둘러싸는 형상으로 형성되는 경사면 코어(55)를 더 포함할 수 있다.
따라서, 도 21에 도시된 바와 같이, 상기 상면 대응 코일(52) 및 상기 경사면 대응 코일(54)에서 유도 가열용 전자기력이 발생되면, 상기 상면 코어(53)과 상기 경사면 코어(55)를 이용하여 상기 프레임(F) 상면과 경사면 방향으로 집중할 수 있고, 민감한 상기 마스크(M)의 영향을 최소화하면서 비교적 두꺼운 상기 프레임(F)을 순간적 및 효율적으로 국소 부위만 정확한 온도로 유도 가열할 수 있어서 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 제거할 수 있다.
도 22는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(800)의 프레임 세정 모드를 나타내는 단면도이고, 도 23은 도 22의 마스크의 세정 장치(800)의 마스크 세정 모드를 나타내는 단면도이다.
도 22 및 도 23에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(800)의 진공 챔버(10)는, 상기 프레임(F)이 제 1 위치에서 유도 가열되고, 상기 마스크 이동 장치(40)에 의해 이동되어 상기 마스크(M)가 제 2 위치에서 IPL 조사될 수 있도록, 전방에 상기 유도 가열 장치(51)가 설치되고, 후방에 상기 IPL 조사 장치(21)가 설치될 수 있다.
따라서, 도 22에 도시된 바와 같이, 프레임 세정 모드에서는, 상기 프레임(F)이 제 1 위치에서 유도 가열될 수 있고, 이어서, 도 23에 도시된 바와 같이, 마스크 세정 모드에서는, 상기 마스크 이동 장치(40)에 의해 이동되어 상기 마스크(M)가 제 2 위치에서 IPL 조사될 수 있다.
도 24는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(900)를 나타내는 단면도이다.
도 24에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(900)의 진공 챔버(10)는, 상기 프레임(F)과 상기 마스크(M)가 제 1 위치에서 상기 프레임(F)은 유도 가열되고, 상기 마스크(M)는 IPL 조사될 수 있도록, 상기 유도 가열 장치(51) 내부에 상기 IPL 조사 장치(21)가 설치될 수 있다.
따라서, 도 24에 도시된 바와 같이, 상기 프레임(F)이 제 1 위치에서 유도 가열되는 동시에, 상기 마스크(M)가 IPL 조사될 수 있다.
도 25는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(1000)를 나타내는 단면도이다.
도 25에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치(1000)의 제 1 에너지 인가 장치(E1)는, 상기 마스크(M)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 제거할 수 있도록 상기 마스크(M)와 대응되게 설치되는 제 1 유도 가열 장치(51-1)이고, 제 2 에너지 인가 장치(E2)는, 상기 프레임(F)에 잔류하는 상기 이물질(1)을 유도 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임(F)과 대응되게 설치되는 제 2 유도 가열 장치(51-2)일 수 있다.
따라서, 2개의 유도 가열 장치를 이용하여 상기 프레임(F)과 상기 마스크(M)를 개별적으로 유도 가열할 수 있고, 이 때, 상대적으로 두께도 두껍고 강한 재질인 상기 프레임(F)에는 강한 유도 자기장이 형성될 수 있으며, 상대적으로 두께도 얇고 약한 재질인 상기 마스크(M)에는 약한 유도 자기장이 형성될 수 있다.
도 26 내지 도 37은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 트레이(90)의 여러 일례들을 나타내는 단면도들이다.
먼저, 도 26에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치는, 상기 프레임(F)의 하면을 지지하는 트레이(90) 및 상방에 설치된 제 1 램프(LAMP1)에 의해 상기 프레임(F) 및 상기 마스크(M)로부터 분리된 이물질(1)이 표면에 트랩되어 회수될 수 있도록 상기 트레이(90)의 상방에 설치되는 제 1 이물질 회수용 패널(91)을 포함할 수 있다.
따라서, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)은 별도의 트레이(90)에 의해 지지되면서 이동될 수 있고, 세정시 증발된 이물질들이 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)에 포집되어 회수될 수 있다.
또한, 예컨대, 도 27에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 마스크의 세정 장치의 트레이(90)는, 상방에 설치된 제 2 램프(LAMP2)에 의해서 상기 프레임(F) 및 상기 마스크(M)로부터 분리된 이물질이 표면에 트랩되어 회수될 수 있도록 상기 트레이(90)의 하부에 제 2 이물질 회수용 패널(92)이 설치될 수 있다.
따라서, 상기 마스크(M) 및 상기 프레임(F)은 별도의 트레이(90)에 의해 지지되면서 이동될 수 있고, 세정시 증발된 이물질들이 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91) 및 상기 제 2 이물질 회수용 패널(92)에 포집되어 회수될 수 있다.
또한, 예컨대, 도 28에 도시된 바와 같이, 상기 프레임(F) 또는 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)의 임시 고정을 위해서 상기 프레임(F)과 상기 트레이(90) 사이에 또는 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)과 상기 트레이(90) 사이에 적어도 하나의 자성체(MG)가 설치될 수 있다.
따라서, 상기 자성체(MG)의 자력을 이용하여 상기 프레임(F)과 상기 트레이(90) 또는 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)과 상기 트레이(90)를 더욱 견고하게 임시 고정시킬 수 있다.
또한, 예컨대, 도 29에 도시된 바와 같이, 상기 트레이(90)는, 상부 트레이(90-1) 및 상기 상부 트레이(90-1)와 체결되는 하부 트레이(90-2)를 포함할 수 있는 것으로서, 상기 상부 트레이(90-1)와 상기 하부 트레이(90-2)의 임시 고정이 가능하도록 상기 상부 트레이(90-1)와 상기 하부 트레이(90-2) 사이에 적어도 하나의 자성체(MG)가 설치될 수 있다.
따라서, 상기 자성체(MG)의 자력을 이용하여 상기 상부 트레이(90-1)와 상기 하부 트레이(90-2)를 더욱 견고하게 임시 고정시킬 수 있다.
또한, 예컨대, 도 30에 도시된 바와 같이, 상술된 상기 자성체(MG)를 대신하여 상기 상부 트레이(90-1)와 상기 하부 트레이(90-2)의 임시 고정이 가능하도록 상기 상부 트레이(90-1)와 상기 하부 트레이(90-2)에 클램프(CL)가 설치될 수 있다.
따라서, 상기 클램프(CL)를 이용하여 상기 상부 트레이(90-1)와 상기 하부 트레이(90-2)를 더욱 견고하게 임시 고정시킬 수 있다.
또한, 예컨대, 도 31에 도시된 바와 같이, 상기 트레이(90)는 반전되더라도 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)이 추락하지 않도록 상기 상부 트레이(90-1)에 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)을 임시 고정할 수 있게 상기 상부 트레이(90-1)에 스윙 타입 클램프(SC)가 설치될 수 있다.
여기서, 이러한 스윙 타입 클램프(SC)는 회전축의 끝단에 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)의 하면 방향으로 돌출된 회동 막대나 회동 핑거 등이 설치되는 것으로서, 이외에도 다양한 형태의 회동 부재들이 모두 적용될 수 있다.
또한, 예컨대, 도 32에 도시된 바와 같이, 상기 트레이(90)와 상기 프레임(F) 사이에 열확산판(93)이 설치되어, 세정시, 상기 프레임(F)과 상기 마스크(M)에서 발생되는 열에너지를 외부로 신속하게 배출시켜서 열적 스트레스를 최소화할 수 있다.
또한, 예컨대, 도 33에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)은, 상기 프레임(F)과 대응되는 부분(A1)은 제 1 두께(T1)로 형성되고, 상기 마스크(M)와 대응되는 부분(A2)은 상기 제 1 두께(T1) 보다 두꺼운 제 2 두께(T2)로 형성되어 상기 프레임(F)에 조사된 세정광의 세기는 상대적으로 강하게 할 수 있고, 상기 마스크(M)에 조사된 세정광의 세기는 상대적으로 약하게 할 수 있다.
또한, 예컨대, 도 34에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)은, 상기 마스크(M)와 대응되는 부분(A2)에 광투과도가 낮은 광량 보정 필름(94)이 도포되거나, 또는, 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)은, 상기 프레임(F)과 대응되는 부분(A1)에 광투과도가 높은 제 1 필름(95)이 형성되고, 상기 마스크(M)와 대응되는 부분에 광투과도가 낮은 제 2 필름(97)이 형성되는 등 결과적으로, 상기 프레임(F)에 조사된 세정광의 세기는 상대적으로 강하게 할 수 있고, 상기 마스크(M)에 조사된 세정광의 세기는 상대적으로 약하게 할 수 있다.
또한, 예컨대, 도 35에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)은, 상기 프레임(F)과 대응되는 부분(A1)에 광투과도가 높은 제 1 패턴(96)이 형성되고, 상기 마스크(M)와 대응되는 부분에 광투과도가 낮은 제 2 패턴(98)이 형성될 수 있다.
따라서, 상기 프레임(F)에 조사된 세정광의 세기는 상대적으로 강하게 할 수 있고, 상기 마스크(M)에 조사된 세정광의 세기는 상대적으로 약하게 할 수 있다.
또한, 예컨대, 도 36에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)은, 퀴츠 재질의 기판(91-1) 및 상기 기판(91-1)에 형성되는 이물질 회수용 필름(91-2)을 포함할 수 있다.
따라서, 상기 기판(91-1)의 오염을 방지하여 반영구적으로 사용할 수 있고, 오염된 상기 이물질 회수용 필름(91-2)은 반복하여 사용한 이후에, 제거한 후, 새 것으로 교체하여 사용할 수 있다.
또한, 예컨대, 도 37에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 이물질 회수용 패널(91)은, 상술된 상기 기판(91-1)을 생략한 형태로서, 상기 트레이(90)에 형성되는 이물질 회수용 필름(99)으로만 이루어질 수 있는 것으로서, 이 역시, 오염된 상기 이물질 회수용 필름(99)은 반복하여 사용한 이후에, 제거한 후, 새 것으로 교체하여 사용할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
1: 이물질
1-1: 제 1-1 물질
1-2: 제 1-2 물질
M: 마스크
F: 프레임
L: 세정광
10: 진공 챔버
11: 제 1 투명창
12: 이물질 회수용 패널
13: 제 2 투명창
E1: 제 1 에너지 인가 장치
E2: 제 2 에너지 인가 장치
20: 세정광 조사 장치
30: 플라즈마 발생 장치
31: 제 1 전극부
32: 제 2 전극부
33: 제 3 전극부
34: 제 4 전극부
LAMP1: 제 1 램프
FT1, FT2: 밴드패스필터
R1: 제 1 반사기
R2: 제 1 반사기
40: 마스크 이동 장치
50: 유도 가열 장치
60: 주울 가열 장치
70: 레이저 가열 장치
80: 예비 가열 장치
90: 트레이
100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000: 마스크의 세정 장치
1-1: 제 1-1 물질
1-2: 제 1-2 물질
M: 마스크
F: 프레임
L: 세정광
10: 진공 챔버
11: 제 1 투명창
12: 이물질 회수용 패널
13: 제 2 투명창
E1: 제 1 에너지 인가 장치
E2: 제 2 에너지 인가 장치
20: 세정광 조사 장치
30: 플라즈마 발생 장치
31: 제 1 전극부
32: 제 2 전극부
33: 제 3 전극부
34: 제 4 전극부
LAMP1: 제 1 램프
FT1, FT2: 밴드패스필터
R1: 제 1 반사기
R2: 제 1 반사기
40: 마스크 이동 장치
50: 유도 가열 장치
60: 주울 가열 장치
70: 레이저 가열 장치
80: 예비 가열 장치
90: 트레이
100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000: 마스크의 세정 장치
Claims (26)
- 내부에 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버;
상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 상기 제 1 에너지를 인가하는 제 1 에너지 인가 장치; 및
상기 진공 환경에서 상기 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임의 적어도 일부분과 대응되게 설치되어 상기 프레임에 상기 제 2 에너지를 인가하는 제 2 에너지 인가 장치;를 포함하며,
상기 제 1 에너지 인가 장치는, 세정광 조사 장치, 플라즈마 발생 장치, 유도 가열 장치, 주울 가열 장치 또는 레이저 가열 장치 중 어느 하나이고,
상기 제 2 에너지 인가 장치는, 세정광 조사 장치, 플라즈마 발생 장치, 유도 가열 장치, 주울 가열 장치 또는 레이저 가열 장치 중 어느 하나인, 마스크의 세정 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 마스크는,
유기 전계 발광 표시장치 제조용 파인메탈마스크(M)이고,
상기 제 1 에너지 인가 장치는,
상기 세정광 조사 장치이고, 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질을 제거할 수 있도록 제논 램프에 제 1 세기 또는 제 1 펄스 인가 시간을 갖는 제 1 펄스파 전원을 제어부로부터 인가받아 제 1 IPL(Intense Pulse Light)을 발생시키는, 마스크의 세정 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 제 2 에너지 인가 장치는,
상기 플라즈마 발생 장치이고, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 플라즈마 에너지로 제거할 수 있도록 상기 프레임과 대응되게 설치되는, 마스크의 세정 장치. - 제 3 항에 있어서,
상기 플라즈마 발생 장치는,
상기 프레임과 대응되도록 상기 진공 챔버의 내부에 설치되어 제 1 전원이 인가되는 제 1 전극부; 및
상기 프레임과 전기적으로 연결되고, 제 2 전원이 인가되거나 또는 접지되는 제 2 전극부;
를 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 제 4 항에 있어서,
상기 제 1 전극부 또는 상기 제 2 전극부는 상기 프레임에 대응되도록 전체적으로 사각링 형상인, 마스크의 세정 장치. - 제 3 항에 있어서,
상기 플라즈마 발생 장치는,
상기 프레임과 대응되도록 상기 진공 챔버의 내부에 설치되어 제 1 전원이 인가되는 제 3 전극부; 및
상기 프레임과 대응되도록 상기 진공 챔버의 내부에 상기 제 1 전극부와 플라즈마 발생 공간만큼 이격되게 설치되는 제 4 전극부;
를 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 진공 챔버에 설치되고, 상기 마스크 또는 상기 프레임을 상기 제 1 에너지 인가 장치와 대응되는 제 1 위치 또는 상기 제 2 에너지 인가 장치와 대응되는 제 2 위치로 이동시킬 수 있는 마스크 이동 장치;
를 더 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 IPL의 광경로에 설치될 수 있고, 제 1 이물질의 분해능이 우수한 제 1 파장 대역의 빛을 통과시키는 밴드패스필터;
를 더 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 제 3 항에 있어서,
상기 세정광 조사 장치는, 상기 제 1 IPL을 상기 진공 챔버 방향으로 반사시키는 제 1 반사기와 함께 상기 진공 챔버의 외부에 설치되고,
상기 플라즈마 발생 장치는, 플라즈마 에너지를 발생시킬 수 있도록 상기 진공 챔버의 내부에 설치되며,
상기 진공 챔버는, 진공 환경을 형성할 수 있도록 진공 펌프가 설치되고, 상기 세정광 조사 장치에서 발생된 상기 제 1 IPL이 유입되어 상기 마스크에 조사될 수 있도록 일측에 상기 제 1 IPL을 투과시키는 제 1 투명창이 형성되는, 마스크의 세정 장치. - 제 9 항에 있어서,
상기 이물질이 상기 제 1 투명창을 오염시키지 않고 표면에 트랩되어 회수될 수 있도록 상기 진공 챔버의 내부 또는 상기 제 1 투명창과 상기 마스크 사이에 설치되는 이물질 회수용 패널;
을 더 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 세정광 조사 장치는, 상기 제 1 IPL을 상기 마스크 방향으로 반사시키는 제 2 반사기와 함께 상기 진공 챔버의 내부에 설치되고,
상기 제 2 반사기는, 내부에 설치된 상기 세정광 조사 장치를 보호할 수 있도록 상기 제 1 IPL을 투과시키는 밴드패스필터 또는 제 2 투명창이 형성되는, 마스크의 세정 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 제 2 에너지 인가 장치는,
상기 유도 가열 장치이고, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 유도 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임과 대응되게 설치되는, 마스크의 세정 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 제 2 에너지 인가 장치는,
상기 주울 가열 장치이고, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 주울 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임 또는 상기 프레임에 형성된 회로층에 전원을 인가하는, 마스크의 세정 장치. - 제 2 항에 있어서,
상기 제 2 에너지 인가 장치는,
상기 레이저 가열 장치이고, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 레이저 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임과 대응되게 설치되는, 마스크의 세정 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 2 에너지를 인가하기 이전에, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 히터로 예비 가열하여 제거할 수 있도록 상기 제 2 에너지 인가 장치 전방에 설치되는 예비 가열 장치;를 더 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 내부에 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버로 상기 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용하는 진공 챔버 수용 단계;
상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 제 1 에너지 인가 장치로 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 상기 제 1 에너지를 인가하는 마스크 세정 단계; 및
상기 진공 환경에서 상기 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임의 적어도 일부분과 대응되게 설치된 제 2 에너지 인가 장치로 상기 프레임에 상기 제 2 에너지를 인가하는 프레임 세정 단계;를 포함하고,
상기 마스크 세정 단계에서 상기 제 1 에너지 인가 장치는, 세정광 조사 장치, 플라즈마 발생 장치, 유도 가열 장치, 주울 가열 장치 또는 레이저 가열 장치 중 어느 하나이고,
상기 프레임 세정 단계에서 상기 제 2 에너지 인가 장치는, 세정광 조사 장치, 플라즈마 발생 장치, 유도 가열 장치, 주울 가열 장치 또는 레이저 가열 장치 중 어느 하나인, 마스크의 세정 방법. - 제 16 항에 있어서,
상기 프레임 세정 단계는, 상기 마스크 세정 단계와 동시에 이루어지는, 마스크의 세정 방법. - 제 16 항에 있어서,
상기 마스크 세정 단계 이전에,
상기 프레임을 히터로 예비 가열하는 프레임 예비 가열 단계;
를 더 포함하는, 마스크의 세정 방법. - 내부에 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버로 상기 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용하는 진공 챔버 수용 단계;
상기 진공 환경에서 상기 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임의 적어도 일부분과 대응되게 설치된 제 2 에너지 인가 장치로 상기 프레임에 상기 제 2 에너지를 인가하는 프레임 세정 단계; 및
상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 제 1 에너지 인가 장치로 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 상기 제 1 에너지를 인가하는 마스크 세정 단계;를 포함하고,
상기 프레임 세정 단계에서 상기 제 2 에너지 인가 장치는, 세정광 조사 장치, 플라즈마 발생 장치, 유도 가열 장치, 주울 가열 장치 또는 레이저 가열 장치 중 어느 하나이고,
상기 마스크 세정 단계에서 상기 제 1 에너지 인가 장치는, 세정광 조사 장치, 플라즈마 발생 장치, 유도 가열 장치, 주울 가열 장치 또는 레이저 가열 장치 중 어느 하나인, 마스크의 세정 방법. - 내부에 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버;
상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 상기 제 1 에너지를 인가하는 제 1 에너지 인가 장치; 및
상기 진공 환경에서 상기 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임의 적어도 일부분과 대응되게 설치되어 상기 프레임에 상기 제 2 에너지를 인가하는 제 2 에너지 인가 장치;를 포함하고,
상기 제 1 에너지 인가 장치는, 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질을 제거할 수 있도록 IPL(Intense Pulse Light)을 발생시키는 IPL 조사 장치이며,
상기 제 2 에너지 인가 장치는, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 유도 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임과 대응되게 설치되는 유도 가열 장치인, 마스크의 세정 장치. - 제 20 항에 있어서,
상기 유도 가열 장치는,
상기 프레임의 상면과 대응되는 상면 대응 코일; 및
상기 상면 대응 코일에서 발생되는 유도 기전력이 상기 프레임의 상면 방향으로 집중될 수 있도록 상기 상면 대응 코일의 상부와 측부를 둘러싸는 형상으로 형성되는 상면 코어;
를 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 제 21 항에 있어서,
상기 유도 가열 장치는,
상기 프레임의 내측 경사면과 대응되는 경사면 대응 코일;
상기 경사면 대응 코일에서 발생되는 유도 기전력이 상기 프레임의 내측 경사면 방향으로 집중될 수 있도록 상기 경사면 대응 코일의 상부와 측부를 둘러싸는 형상으로 형성되는 경사면 코어;
를 더 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 제 20 항에 있어서,
상기 진공 챔버는,
상기 프레임이 제 1 위치에서 유도 가열되고, 마스크 이동 장치에 의해 이동되어 상기 마스크가 제 2 위치에서 IPL 조사될 수 있도록, 전방에 상기 유도 가열 장치가 설치되고, 후방에 상기 IPL 조사 장치가 설치되는, 마스크의 세정 장치. - 제 20 항에 있어서,
상기 진공 챔버는,
상기 프레임과 상기 마스크가 제 1 위치에서 상기 프레임은 유도 가열되고, 상기 마스크는 IPL 조사될 수 있도록, 상기 유도 가열 장치 내부에 상기 IPL 조사 장치가 설치되는, 마스크의 세정 장치. - 제 20 항에 있어서,
상기 프레임의 하면을 지지하는 트레이; 및
상기 프레임 및 상기 마스크로부터 분리된 이물질이 표면에 트랩되어 회수될 수 있도록 상기 트레이의 상방에 설치되는 이물질 회수용 패널;
을 포함하는, 마스크의 세정 장치. - 내부에 마스크 및 상기 마스크를 지지하는 프레임을 수용할 수 있는 수용 공간이 형성되고, 상기 마스크에 잔류하는 이물질의 제거가 용이하도록 내부에 진공 환경이 형성되는 진공 챔버;
상기 진공 환경에서 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질에 제 1 에너지를 인가하여 상기 마스크로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 마스크에 상기 제 1 에너지를 인가하는 제 1 에너지 인가 장치; 및
상기 진공 환경에서 상기 프레임에 잔류하는 이물질에 제 2 에너지를 인가하여 상기 프레임으로부터 상기 이물질을 분해 및 분리하여 제거할 수 있도록 상기 진공 챔버에 수용된 상기 프레임의 적어도 일부분과 대응되게 설치되어 상기 프레임에 상기 제 2 에너지를 인가하는 제 2 에너지 인가 장치;를 포함하고,
상기 제 1 에너지 인가 장치는, 상기 마스크에 잔류하는 상기 이물질을 제거할 수 있도록 상기 마스크와 대응되게 설치되는 제 1 유도 가열 장치이고,
상기 제 2 에너지 인가 장치는, 상기 프레임에 잔류하는 상기 이물질을 유도 가열하여 제거할 수 있도록 상기 프레임과 대응되게 설치되는 제 2 유도 가열 장치인, 마스크의 세정 장치.
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