KR102099883B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR102099883B1
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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 스핀 헤드; 상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 기판을 지지하고 외면에 요철 구조가 형성된 핀; 및 상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함한다.

Description

기판 처리 장치{Substrate treating apparatus}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 박막 증착, 그리고 세정 등의 다양한 공정들이 수행된다. 이와 같은 각각의 공정은 기판의 상면에 액을 도포하는 공정을 1회 이상 포함할 수 있다.
기판의 상면에 액을 도포하는 공정은, 기판의 상면으로 액을 공급하면서 기판을 회전시킴으로 수행될 수 있다. 기판의 상면으로 공급된 액은 회전에 의한 원심력으로 인해 기판의 상면 전체로 퍼져 나간다. 이 때, 기판은 스핀 헤드에 지지된 상태로, 스핀 헤드가 회전 될 수 있다. 스핀 헤드에는 지지핀과 척킹핀이 위치되어 기판을 지지할 수 있다.
본 발명은 기판을 효율적으로 처리할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 기판의 영역별 온도 편차가 저감되는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 기판의 영역별 처리 균일성이 향상되는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 스핀 헤드; 상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 기판을 지지하고 외면에 요철 구조가 형성된 핀; 및 상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 요철 구조는 홈의 형상으로 제공될 수 있다.
또한, 상기 홈은 상기 스핀 헤드의 중심에 대한 반경 방향을 기준으로, 상기 스핀 헤드의 회전 방향과 반대 방향을 향하는 후방 영역에 형성될 수 있다.
또한, 상기 요철 구조는 돌기의 형상으로 제공될 수 있다.
또한, 상기 돌기는 상기 스핀 헤드의 중심에 대한 반경 방향을 기준으로, 상기 스핀 헤드의 회전 방향을 향하는 전방 영역에 형성될 수 있다.
또한, 상기 요철 구조는, 상기 스핀 헤드의 중심에 대한 반경 방향을 기준으로, 상기 스핀 헤드의 회전 방향을 향하는 전방 영역에 형성되는 돌기; 상기 회전 방향과 반대 방향을 향하는 후방 영역에 형성되는 홈을 포함할 수 있다.
또한, 상기 핀의 내측에는 공간이 형성될 수 있다.
또한, 상기 핀에 내측에 형성된 상기 공간은 상기 핀의 하단까지 연장될 수 있다.
또한, 상기 공간에는 공기가 채워질 수 있다.
또한, 상기 핀의 내측에 형성된 상기 공간은 진공으로 제공될 수 있다.
또한, 상기 핀은, 상기 기판의 저면을 지지하는 지지핀; 및 상기 기판의 측면을 지지하는 척킹핀을 포함할 수 있다.
또한, 상기 척킹핀은 상하 방향을 향하는 중심 축을 기준으로 비대칭 구조를 가질 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 스핀 헤드; 상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 상기 기판의 저면을 지지하는 지지핀; 상기 스핀 헤드에 위치되어 상기 기판의 측면을 지지하고 외면에 요철 구조가 형성되어 있는 척킹핀; 상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 및 상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 요철 구조는 홈의 형상으로 제공될 수 있다.
또한, 상기 요철 구조는 돌기의 형상으로 제공될 수 있다.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 스핀 헤드; 상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 상기 기판의 저면을 지지하고 외면에 요철 구조가 형성된 지지핀; 상기 스핀 헤드에 위치되어 상기 기판의 측면을 지지하는 척킹핀; 상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 및 상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 요철 구조는 홈의 형상으로 제공될 수 있다.
또한, 상기 요철 구조는 돌기의 형상으로 제공될 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 효율적으로 처리할 수 있는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판의 영역별 온도 편차가 저감되는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판의 영역별 처리 균일성이 향상되는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 측면도이다.
도 2는 일 실시 예에 따른 지지핀 또는 척킹핀의 표면 상태를 나타내는 도면이다.
도 3은 다른 실시 예에 따른 지지핀 또는 척킹핀의 표면 상태를 나타내는 도면이다.
도 4는 지지핀 또는 척킹핀의 외면에서 홈 또는 돌기가 형성되는 영역을 설명하는 도면이다.
도 5는 도 1의 지지핀의 단면도이다.
도 6은 다른 실시 예에 따른 지지핀을 나타내는 도면이다.
도 7은 도 1의 척킹핀의 단면도이다.
도 8은 다른 실시 예에 따른 척킹핀을 나타내는 도면이다.
도 9는 또 다른 실시 예에 따른 척킹핀을 나타내는 도면이다.
도 10은 또 다른 실시 예에 따른 척킹핀을 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 측면도이다.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 지지부재(100) 및 노즐부재(200)를 포함한다.
지지부재(100)는 공정 처리시 기판(S)을 지지한다. 지지부재(100)는 스핀 헤드(111), 지지축(114) 및 구동부(115)를 포함한다.
스핀 헤드(111)는 기판(S)을 지지한다. 스핀 헤드(111)의 상면은 대체로 원형으로 제공될 수 있다. 스핀 헤드(111)의 상면은 기판(S)보다 큰 직경을 가지고, 스핀 헤드(111)의 하면은 상면보다 작은 직경을 가질 수 있다. 그리고, 스핀 헤드(111)의 측면은 상면에서 하면으로 갈수록 점점 직경이 작아지도록 경사지게 제공될 수 있다.
스핀헤드(111)의 상면에는 기판 지지를 위한 핀(120, 140)이 제공된다. 핀(120, 140)은 지지핀(120)과 척킹핀(140)을 포함할 수 있다. 지지핀(120)은 스핀헤드(111)의 상면으로부터 상부로 돌출되며, 그 상단이 기판(S)의 저면을 지지한다. 지지핀(120)은 스핀헤드(111)의 상면에 서로 이격 되어 복수 개 제공될 수 있다. 일 예로, 지지핀(120)은 적어도 3개 이상 제공되고, 링 형상으로 배치될 수 있다.
척킹핀(140)은 스핀 헤드(111)의 상면으로부터 상부로 돌출되며, 기판(S)의 측부을 지지한다. 척킹핀(140)들은 스핀 헤드(111)가 회전될 때, 원심력에 의해 기판(S)이 스핀 헤드(111)로부터 측 방향으로 이탈되는 것을 방지한다. 척킹핀(140)은 스핀 헤드(111)의 상면 가장자리영역을 따라 서로 이격 되어 복수 개 제공될 수 있다. 예를 들어, 척킹핀(140)들은 적어도 3개 이상 제공되며, 서로 조합되어 링 형상으로 배치될 수 있다. 척킹핀(140)들은 스핀 헤드(111)의 중심을 기준으로 지지핀(120)들보다 직경이 큰 링 형상을 이루도록 배치된다. 척킹핀(140)들은 스핀 헤드(111)의 반경 방향을 따라 직선 이동되도록 제공될 수 있다. 척킹핀(140)들은 기판(S)의 로딩 또는 언로딩시 기판(S)의 측면과 이격 또는 접촉되도록 반경방향을 따라 직선 이동한다.
지지축(114)은 스핀 헤드(111)의 하부에 연결되어 스핀 헤드(111)를 지지한다. 지지축(114)은 중공 축(hollow shaft) 형상으로 제공될 수 있다. 지지축(114)의 하단에는 구동부(115)가 제공된다. 구동부(115)는 지지축(114)을 회전시킬 수 있는 회전력을 발생시킨다.
노즐부재(200)는 기판(S)의 상면으로 액을 공급한다.
노즐부재(200)는 액 공급 노즐(210) 및 노즐 이동부(220)를 포함한다.
액 공급 노즐(210)은 기판(S)의 상면으로 액을 공급한다. 액 공급 노즐(210)에서 공급되는 액은 기판의 처리에 사용되는 약액(chemical)일 수 있다. 일 예로, 약액은 불산(hydrofluoric acid)과 같은 식각액 이나, 세정액 일 수 있다. 또한, 액 공급 노즐(210)에서 공급되는 액은 유기 용제일 수 있다. 일 예로, 유기 용제는 이소프로필알콜(IPA)일 수 있다. 또한, 액 공급 노즐(210)에서 공급되는 액은 순수(delonized water)일 수 있다.
노즐 이동부(220)는 액 공급 노즐(210)을 이동시킨다. 노즐 이동부(220)는 아암(221), 지지축(222) 그리고 구동부(223)를 포함한다. 아암(221)은 일측 단부에 액 공급 노즐(210)이 위치된다. 아암(221)의 타측에는 지지축(222)이 연결된다. 지지축(222)은 구동부(223)로부터 동력을 전달받으며, 동력을 이용하여 아암(221)에 연결된 분사헤드(310)를 이동시킨다.
도 2는 일 실시 예에 따른 지지핀 또는 척킹핀의 표면 상태를 나타내는 도면이다.
도 2를 참조하면, 지지핀(120)의 외면, 척킹핀(140)의 외면, 또는 지지핀(120)과 척킹핀(140)의 외면에는 홈(1100)이 형성될 수 있다.
도면에는 홈(1100)이 형성된 면이 직선인 것으로 도시되었으나, 이는 도시의 편의를 위한 것이며 홈(1100)이 형성된 면은 지지핀(120)의 형상 또는 척킹핀(140)의 형상에 따라 곡선일 수 있다.
스핀 헤드(111)가 회전되면, 지지핀(120)과 척킹핀(140)은 원주를 이루는 궤적상을 회전 운동한다. 지지핀(120) 또는 척킹핀(140)이 움직이는 과정에서 외면에는 기체에 의한 힘이 작용한다. 이 같은 힘은 지지핀(120) 또는 척킹핀(140)의 진동을 야기할 수 있다. 그리고 진동은 기판의 진동을 야기하여 기판의 처리 품질을 저하 시킨다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 지지핀(120)의 외면, 척킹핀(140) 외면, 또는 지지핀(120)과 척킹핀(140)의 외면에는 홈(1100)을 형성하여, 스핀 헤드(111)의 회전 시 지지핀(120)의 외면, 척킹핀(140)의 외면 또는 지지핀(120)과 척킹핀(140)의 외면을 유동하는 기체의 상태를 조절할 수 있다. 기체의 유동 상태를 제어하면, 지지핀(120), 척킹핀(140) 또는 지지핀(120)과 척킹핀(140) (이를 핀이라 할 수 있다)에 작용하는 힘이 조절되어, 힘에 의한 진동이 제어되거나 감쇠될 수 있다. 홈(1100)은 수 나노 미터 내지 수 밀리미터의 치수를 가질 수 있다.
도 3은 다른 실시 예에 따른 지지핀 또는 척킹핀의 표면 상태를 나타내는 도면이다.
도 3을 참조하면, 지지핀(120)의 외면, 척킹핀(140)의 외면, 또는 지지핀(120)과 척킹핀(140)의 외면에는 돌기(1200)가 형성될 수 있다.
도면에는 돌기(1200)가 형성된 면이 직선인 것으로 도시되었으나, 이는 도시의 편의를 위한 것이며 돌기(1200)가 형성된 면은 지지핀(120)의 형상 또는 척킹핀(140)의 형상에 따라 곡선일 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 지지핀(120)의 외면, 척킹핀(140) 외면, 또는 지지핀(120)과 척킹핀(140)의 외면에는 돌기(1200)를 형성하여, 스핀 헤드(111)의 회전 시 지지핀(120)의 외면, 척킹핀(140)의 외면 또는 지지핀(120)과 척킹핀(140)의 외면을 유동하는 기체의 상태를 조절할 수 있다. 기체의 유동 상태를 제어하면, 지지핀(120), 척킹핀(140) 또는 지지핀(120)과 척킹핀(140)(이를 핀이라 할 수 있다)에 작용하는 힘이 조절되어, 힘에 의한 진동이 제어되거나 감쇠될 수 있다. 돌기(1200)는 수 나노 미터 내지 수 밀리미터의 치수를 가질 수 있다.
도 4는 지지핀 또는 척킹핀의 외면에서 홈 또는 돌기가 형성되는 영역을 설명하는 도면이다.
도 4를 참조하면, 홈(1100) 또는 돌기(1200)와 같은 요철 구조는 스핀 헤드(111)의 중심(C)을 기준으로 회전 방향(R)을 고려하여 형성될 수 있다.
스핀 헤드(111)가 회전 방향(R)으로 회전 되면, 지지핀(120) 또는 척킹핀(140)은 반경 방향에 대해 회전 방향(R)을 향하는 전방 영역(A)과 회전 방향(R)과 반대 방향을 향하는 후방 영역(B)으로 구분될 수 있다.
전방 영역(A)은 기체에 의한 힘이 작용한다. 그리고 후방 영역(B)은 전방 영역(A)의 외면을 타고 흐른 기체가 외면에서 분리(separation)되면서 부분이 발생하고, 유체가 분리된 영역에는 후방 와류가 작용한다. 따라서 전방 영역(A)에는 기체의 마찰에 의한 힘을 줄이기 위해 요철 구조가 생략되고, 후방 영역(B)에는 기체가 분리되면서 후방 와류가 발생하는 영역을 줄이기 위해 홈(1100)이 형성될 수 있다.
또한, 전방 영역(A)에는 돌기(1200)가 형성되고, 후방 영역(B)에는 홈(1100)이 형성될 수 있다. 돌기(1200)는 기체가 돌기(1200)의 내측으로 유동되는 정도를 줄여 기체가 지지핀(120) 또는 척킹핀(140)의 외면과 접촉하는 면적을 감소 시킬 수 있다. 이에 따라, 돌기(1200)는 기체와 지지핀(120) 또는 척킹핀(140)의 외면의 마찰에 의한 힘을 감소 시킬 수 있다.
또한, 전방 영역(A)에는 돌기(1200)가 형성되고, 후방 영역(B)에는 요철 구조가 생략될 수 있다.
또한, 지지핀(120) 또는 척킹핀(140)에는 요철 구조가 형성됨에 따라 기체의 의해 작용하는 힘 및 힘에 의한 진동이 줄어들어, 내측에 공간이 형성되어도 파손되는 것이 방지될 수 있다.
이하, 지지핀(120)과 척킹핀(140)의 내측에는 공간에 형성된 경우를 예로 들어 설명한다. 그러나, 지지핀(120) 및 척킹핀(140) 가운데 하나만 내측에 공간이 형성되게 제공될 수 도 있다.
도 5는 도 1의 지지핀의 단면도이다.
도 5를 참조하면, 지지핀(120)은 핀 설치부(121) 및 핀 지지부(122)를 포함한다.
핀 설치부(121)는 지지핀(120)의 하부에 제공된다. 핀 설치부(121)는 기둥 형상으로 제공될 수 있다. 일 예로, 핀 설치부(121)는 원기둥, 다각형 기둥 등의 형상으로 제공될 수 있다. 핀 설치부(121)는 스핀 헤드(111)의 상부에 삽입되는 방식으로 지지핀(120)이 스핀 헤드(111)에 설치되게 한다.
핀 지지부(122)는 핀 설치부(121)의 상단에서 위쪽으로 연장되어 형성된다. 핀 지지부(122)는 기둥 형상으로 제공될 수 있다. 일 예로, 핀 설치부(121)는 원기둥, 다각형 기둥 등의 형상으로 제공될 수 있다. 핀 지지부(122)의 상부는 하부에 비해 횡단면의 면적이 작게 형성될 수 있다. 일 예로, 핀 지지부(122)의 상부는 위쪽으로 갈수록 횡단면의 면적이 좁아지도록 형성될 수 있다. 핀 지지부(122)는 전부 또는 일부가 스핀 헤드(111)의 위쪽으로 노출되어, 그 상단이 기판의 저면을 지지한다.
지지핀(120)에는 핀 설치부(121)와 핀 지지부(122)가 연결되는 부분에 핀 고정부(123)가 형성될 수 있다. 핀 고정부(123)는 지지핀(120)의 외면에서 반경방향으로 연장 형성될 수 있다. 핀 고정부(123)는 외측 둘레가 원형, 다각형 등의 형상을 가질 수 있다. 핀 고정부(123)는 스핀 헤드(111)의 상면 또는 스핀 헤드(111)의 내측에 위치되어, 지지핀(120)이 상하로 요동하는 것을 방지할 수 있다.
지지핀(120)은 내측에 공간이 형성된 중공 형상으로 제공된다. 내측 공간은 지지핀(120)의 상부에 형성될 수 있다. 일 예로, 내측 공간은 핀 지지부(122)에 형성될 수 있다. 또한, 내측 공간은 지지핀(120)의 상부에서 하부에 걸쳐 형성될 수 있다. 예를 들어, 내측 공간은 핀 설치부(121)와 핀 지지부(122)에 걸쳐 형성될 수 있다. 내측 공간은 공기, 불활성 가스 등이 충전 된 상태일 수 있다. 내측 공간은 중심축을 기준으로 상하 방향으로 동일 폭을 가질 수 있다. 기판이 액에 의해 처리되는 정도는 온도에 의존 적이다. 이는 액과 기판의 반응성이 온도에 따라 달라지는 것에 기인한다. 따라서 기판의 영역별로 온도가 달라지면, 그에 따라 기판의 영역별로 액에 의한 처리 정도가 달라져 기판 처리의 균일성이 저하된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 지지핀(120)에 내측 공간이 형성되어, 기판과 지지핀(120) 사이의 열전달 정도가 감소된다. 따라서, 기판에서 지지핀(120)과 접하는 부분과 그 주위와의 온도 차가 감소되어, 기판 처리의 균일 성이 향상될 수 있다. 또한, 내측 공간은 진공 상태로 제공될 수 있다. 내측 공간이 진공으로 제공되면, 공기 등에 의해 이루어 지는 열전도가 추가로 차단될 수 있다.
도 6은 다른 실시 예에 따른 지지핀을 나타내는 도면이다.
도 6을 참조하면, 지지핀(120a)은 핀 설치부(121a) 및 핀 지지부(122a)를 포함한다.
지지핀(120a)의 내측에는 공간이 형성되고 지지핀(120a)이 하단까지 연장되어, 지지핀(120a)의 하단은 개방된 형상으로 제공된다. 또한, 지지핀(120a)에는 도 2의 지지핀(120)과 유사하게 핀 고정부(123a)가 형성될 수 있다. 지지핀(120a)에 형성된 공간이 지지핀(120a) 하단까지 연장되는 점 이외에 지지핀(120a)의 구성은 도 2의 지지핀(120)과 유사하므로 반복된 설명은 생략한다.
도 7은 도 1의 척킹핀의 단면도이다.
도 7을 참조하면, 척킹핀(140)은 설치부(141) 및 지지부(142)를 포함한다.
설치부(141)는 척킹핀(140)의 하부에 제공된다. 설치부(141)는 기둥 형상으로 제공될 수 있다. 일 예로, 설치부(141)는 원기둥, 다각형 기둥 등의 형상으로 제공될 수 있다. 설치부(141)는 스핀 헤드(111)의 상부에 삽입되는 방식으로 척킹핀(140)이 스핀 헤드(111)에 설치되게 한다. 또한, 설치부(141)는 척킹핀(140) 구동을 위한 장치에 연결될 수 있다.
지지부(142)는 설치부(141)의 상단에서 위쪽으로 연장되어 형성된다. 지지부(142)는 기둥 형상으로 제공될 수 있다. 일 예로, 설치부(141)는 원기둥, 다각형 기둥 등의 형상으로 제공될 수 있다. 지지부(142)는 전부 또는 일부가 스핀 헤드(111)의 위쪽으로 노출되어, 그 상부가 기판의 측면, 또는 기판이 측면과 저면 일부를 지지한다.
지지부(142)의 상부에는 기판을 지지하기 위한 지지홈(143)이 형성된다. 지지홈(143)은 기판의 측면 또는 기판이 측면과 저면 일부를 지지할 수 있는 형상으로 제공된다. 일 예로, 지지홈(143)은 내측으로 만입된 홈 형상, 단차진 계단 형상 등으로 제공될 수 있다.
척킹핀(140)에는 설치부(141)와 지지부(142)가 연결되는 부분에 고정부(145)가 형성될 수 있다. 고정부(145)는 척킹핀(140)의 외면에서 반경방향으로 연장 형성될 수 있다. 고정부(145)는 외측 둘레가 원형, 다각형 등의 형상을 가질 수 있다. 고정부(145)는 스핀 헤드(111)의 상면 또는 스핀 헤드(111)의 내측에 위치되어, 척킹핀(140)이 상하로 요동하는 것을 방지할 수 있다.
척킹핀(140)은 내측에 공간이 형성된 중공 형상으로 제공된다. 내측 공간은 척킹핀(140)의 상부에 형성될 수 있다. 일 예로, 내측 공간은 지지부(142)에 형성될 수 있다. 또한, 내측 공간은 척킹핀(140)의 상부에서 하부에 걸쳐 형성될 수 있다. 예를 들어, 내측 공간은 설치부(141)와 지지부(142)에 걸쳐 형성될 수 있다. 내측 공간은 공기, 불활성 가스 등이 충전 된 상태일 수 있다. 내측 공간은 중심축을 기준으로 상하 방향으로 동일 폭을 가질 수 있다. 기판이 액에 의해 처리되는 정도는 온도에 의존 적이다. 이는 액과 기판의 반응성이 온도에 따라 달라지는 것에 기인한다. 따라서 기판의 영역별로 온도가 달라지면, 그에 따라 기판의 영역별로 액에 의한 처리 정도가 달라져 기판 처리의 균일성이 저하된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 척킹핀(140)에 내측 공간이 형성되어, 기판과 척킹핀(140) 사이의 열전달 정도가 감소된다. 따라서, 기판에서 척킹핀(140)과 접하는 부분과 그 주위와의 온도 차가 감소되어, 기판 처리의 균일성이 향상될 수 있다. 또한, 내측 공간은 진공 상태로 제공될 수 있다. 내측 공간이 진공으로 제공되면, 공기 등에 의해 이루어 지는 열전도가 추가로 차단될 수 있다.
척킹핀(140)에서 내부 공간과 외면 사이의 두께는 영역별로 상이하게 형성될 수 잇다. 구체적으로, 척킹핀(140)에서 기판과 접하는 부분에 비해 기판과 접하는 부분과 마주보는 부분의 두께가 두껍게 형성될 있다. 스핀 헤드(111)가 회전 되는 과정에서 척킹핀(140)에는 기판에 의해 반향 방향 외측으로 향하는 힘이 작용하고, 이는 척킹핀(140)의 파손을 야기할 수 있다. 반면, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 척킹핀(140)에서 기판과 접하는 부분에 비해 기판과 접하는 부분과 마주보는 부분의 두께가 두껍게 형성되어, 위와 같은 힘에 의해 척킹핀(140)이 파손되는 것이 방지될 수 있다.
도 8은 다른 실시 예에 따른 척킹핀을 나타내는 도면이다.
도 8을 참조하면, 척킹핀(140a)은 설치부(141a) 및 지지부(142a)를 포함한다.
척킹핀(140a)의 내측에는 공간이 형성되고, 지지부(142a)에는 보강부(144a)가 형성되어 상하를 향하는 중심 축을 기준으로 비대칭 구조를 가질 수 있다. 보강부(144a)는 척킹핀(140)에서 기판과 접하는 부분과 마주보는 부분에 형성된다. 보강부(144a)는 외측으로 돌출되는 형상으로 제공되어, 내측 공간과 척킹핀(140a)의 외면 사이의 두께를 증가 시킨다. 척킹핀(140a)은 보강부(144a)에 의해 중심축을 기준으로 기판과 마주보는 내측에 비해 외측의 두께가 두껍게 형성된다. 따라서, 스핀 헤드(111)가 회전되는 과정에서 척킹핀(140a)에 기판(W)에 의한 힘이 작용하여도, 척킹핀(140a)이 파손되는 것이 방지될 수 있다.
척킹핀(140a)에 보강부(144a)가 제공되는 점 외에, 설치부(141a) 및 지지부(142a)의 구성, 지지홈(143a), 고정부(145a)가 형성될 수 있는 점은 도 4의 척킹핀(140)과 유사하므로 반복된 설명은 생략한다.
도 9는 또 다른 실시 예에 따른 척킹핀을 나타내는 도면이다.
도 9를 참조하면, 척킹핀(140b)은 설치부(141b) 및 지지부(142b)를 포함한다.
척킹핀(140b)의 상단부에는 연통부(144b)가 형성된다. 연통부(144b)는 척킹핀(140)의 상단에서 아래쪽으로 들어간 홈, 척킹핀(140)의 상단부에 형성된 홀 형상 등으로 형성된다. 연통부(144b)는 하단이 지지홈(143b)과 인접하게 위치된다. 따라서, 척킹핀(140b)이 기판을 지지하면, 연통부(144b)는 기판의 상면과 인접할 수 있다. 연통부(144b)는 반경 방향을 향하도록 형성된다. 따라서, 연통부(144b)의 일측은 척킹핀(140)에서 기판과 접하는 부분에 위치되고, 타측은 스핀 헤드(111)의 외측을 향한다. 연통부(144b)는 척킹핀(140b)이 기판에 도포된 액이 외측으로 이동되는 것을 방해하는 것을 완화한다. 따라서, 기판에서 척킹핀(140b)과 인접하는 부분과 그 주의 부분 사이에 기판에 잔류하는 액의 양에 편차가 발생하는 것을 차단하여, 기판 처리의 균일성이 향상된다.
척킹핀(140b)에 연통부(144b)가 제공되는 점 외에, 설치부(141b) 및 지지부(142b)의 구성, 고정부(145b)가 형성될 수 있는 점은 도 4, 도 5의 척킹핀(140, 140a)과 유사하므로 반복된 설명은 생략한다. 또한, 연통부(144b)와 도 5의 실시 예에 따른 보강부(144a)가 함께 제공되는 경우, 연통부(144b)는 기판과 접하는 부분에서 보강부(144a)의 단부까지 반경 방향으로 형성된다.
도 10은 또 다른 실시 예에 따른 척킹핀을 나타내는 도면이다.
도 10을 참조하면, 척킹핀(140c)은 설치부(141c) 및 지지부(142c)를 포함한다.
척킹핀(140c)의 내측에는 공간이 형성되고 척킹핀(140c)이 하단까지 연장되어, 척킹핀(140c)의 하단은 개방된 형상으로 제공된다. 또한, 척킹핀(140c)에는 도 4 내지 6의 척킹핀(140, 140a, 140b)과 유사하게 고정부(145c)가 형성될 수 있다. 척킹핀(140c)에 형성된 공간이 척킹핀(140c) 하단까지 연장되는 점 이외에 척킹핀(140c)의 구성은 도 4 내지 도 6의 척킹핀(140, 140a, 140b)과 유사하므로 반복된 설명은 생략한다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
100: 지지부재 111: 스핀 헤드
120: 지지핀 140: 척킹핀
200: 노즐부재 210: 액 공급 노즐
220: 노즐 이동부

Claims (20)

  1. 회전 가능하게 제공되는 스핀 헤드;
    상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축;
    상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 기판을 지지하고 외측면에 요철 구조가 형성된 핀; 및
    상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함하되,
    상기 요철 구조는 상하 방향을 따른 상기 핀의 중심축을 감싸는 방향으로 불연속적으로 형성되고,
    상기 요철 구조는,
    복수로 제공되고,
    라운드(Round) 진 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 요철 구조는 홈의 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 요철 구조는 돌기의 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 핀의 내측에는 공간이 형성되는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 핀에 내측에 형성된 상기 공간은 상기 핀의 하단까지 연장되는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 공간에는 공기가 채워지는 기판 처리 장치.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 핀의 내측에 형성된 상기 공간은 진공으로 제공되는 기판 처리 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 핀은,
    상기 기판의 저면을 지지하는 지지핀; 및
    상기 기판의 측면을 지지하는 척킹핀을 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 척킹핀은 상하 방향을 향하는 중심 축을 기준으로 비대칭 구조를 갖는 기판 처리 장치.
  10. 회전 가능하게 제공되는 스핀 헤드;
    상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 기판의 저면을 지지하는 지지핀;
    상기 스핀 헤드에 위치되어 상기 기판의 측면을 지지하고 외측면에 요철 구조가 형성되어 있는 척킹핀;
    상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 및
    상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함하되,
    상기 요철 구조는 상하 방향을 따른 상기 척킹핀의 중심축을 감싸는 방향으로 불연속적으로 형성되고,
    상기 요철 구조는,
    복수로 제공되고,
    라운드(Round) 진 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 요철 구조는 홈의 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 요철 구조는 돌기의 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  13. 회전 가능하게 제공되는 스핀 헤드;
    상기 스핀 헤드의 상면에 위치되어 기판의 저면을 지지하고 외측면에 요철 구조가 형성된 지지핀;
    상기 스핀 헤드에 위치되어 상기 기판의 측면을 지지하는 척킹핀;
    상기 스핀 헤드의 하부에 연결되어 상기 스핀 헤드를 지지하는 지지축; 및
    상기 스핀 헤드에 위치된 기판으로 액을 공급하는 노즐부재를 포함하되,
    상기 요철 구조는 상하 방향을 따른 상기 지지핀의 중심축을 감싸는 방향으로 불연속적으로 형성되고,
    상기 요철 구조는,
    복수로 제공되고,
    라운드(Round) 진 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 요철 구조는 홈의 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 요철 구조는 돌기의 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.
  16. 삭제
  17. 회전 가능하게 제공되는 스핀 헤드;
    상기 스핀 헤드에 위치되어 기판의 측면을 지지하는 척킹핀을 포함하되,
    상기 척킹핀은,
    상기 스핀 헤드에 설치되는 설치부와;
    상기 설치부로부터 위쪽으로 연장되며 기판을 지지하는 지지부와;
    상기 지지부에 형성되며 상기 기판이 놓이는 방향과 반대방향으로 상기 지지부의 외측으로 돌출된 보강부를 가지고,
    상기 척킹핀의 내부에는 공간이 형성된 기판 처리 장치.
  18. 삭제
  19. 제17항에 있어서,
    상기 척킹핀은 상기 보강부에 의해 상하 방향에 따른 상기 척킹핀의 중심축을 기준으로 기판을 향하는 내측에 비해 이와 반대측인 외측의 두께가 더 두껍게 제공되는 기판 처리 장치.
  20. 제17항에 있어서,
    상기 보강부는 상기 지지부의 외측으로 볼록한 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.

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