KR102096834B1 - 토일렛 장치 및 변좌 장치 - Google Patents

Abstract

(과제) 프리미스트 모드에 의해 대변기의 비세정 영역을 포함하는 범위에 있어서 오물의 부착이나 고착을 억제함과 아울러 림 상면에 착수한 미스트가 대변기 밖으로 떨어지는 것, 및 착좌부가 미스트에 의해 젖는 것을 억제할 수 있는 토일렛 장치 및 변좌 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
(해결과제) 보울부를 갖고, 보울부는 세정수가 통과하는 세정 영역과 세정 영역보다 위의 비세정 영역을 갖는 대변기와, 대변기에 설치되어 사용자가 착좌하는 착좌부와, 보울부 내에 미스트를 분무하는 분무 장치와, 분무 장치를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 프리미스트 모드에 있어서 제어 장치는 비세정 영역의 전단부인 전단측 비세정 영역의 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 착수량이 전단측 비세정 영역의 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 착수량보다 적어지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 토일렛 장치가 제공된다.

Description

토일렛 장치 및 변좌 장치{TOILET DEVICE AND TOILET SEAT DEVICE}

본 발명의 형태는 일반적으로 토일렛 장치 및 변좌 장치에 관한 것이다.

특허문헌 1에 기재된 토일렛 장치에 있어서는 토일렛 장치의 사용 전(예를 들면, 인체 검지 센서가 인체를 검지하면)에 자동으로 대변기의 보울부에 하이포아염소산수 또는 수돗물의 미스트를 분무하는 프리미스트 모드가 행해진다. 프리미스트 모드에 의해 미스트가 보울부에 착수(着水)하고, 착수한 미스트에 의해 보울부에 수막이 형성된다. 이에 따라 오물의 보울부 표면에의 부착이나 고착을 억제할 수 있다.

특허문헌 2에 기재된 미스트 세정 장치 부착 변기에 있어서는 오존수나 전해 살균수, 고온수의 미스트를 분무하는 미스트 세정 장치가 설치된다. 특허문헌 2에서는 미스트 세정 장치가 발생하는 미스트를 기류에 의해 변기, 변좌 및 변기 덮개 등의 구석구석까지 널리 퍼지게 해서 세정할 수 있다고 하고 있다.

일본특허 제 5029930호 공보 일본특허공개 2007-138605호 공보

대변기의 보울부의 내면에는 보울부 내의 오물을 외부로 배출하기 위한 세정수가 통과하는 세정 영역과, 세정 영역보다 상방에 위치하여 세정수가 통과하지 않는 비세정 영역이 있다. 이러한 비세정 영역에 있어서도 오물이 부착되는 경우가 있다. 예를 들면, 세정 영역에서 튀어오른 오물이 비세정 영역에 부착되는 경우가 있다. 그래서, 세정 영역뿐만 아니라 비세정 영역을 포함하는 대변기의 광범위에서 발생하는 오염을 억제하기 위해서는 토일렛 장치의 사용 전의 프리미스트 모드에 있어서 세정 영역뿐만 아니라 비세정 영역에도 미스트를 착수시키는 것이 바람직하다.

오염을 충분히 억제하기 위해서는 수막이 형성되도록 많은 미스트를 비세정 영역에 부착시키는 것이 바람직하다. 그러나, 특허문헌 1의 토일렛 장치에 있어서는 비세정 영역에 착수하는 미스트의 양이 비교적 적고, 비세정 영역에 있어서의 오물의 부착이나 고착을 억제하는 관점에 있어서는 개선의 여지가 있다.

그래서, 예를 들면 보울부 내에 상승 기류를 발생시키는 송풍 장치를 이용해서 특허문헌 2와 같이 기류에 의해 미스트를 광범위하게 착수시키는 방법이 고려된다. 그러나, 프리미스트 모드의 실행 직후에는 사용자가 토일렛 장치를 사용할 가능성이 높다. 그 때문에 미스트의 일부가 상승 기류에 의해 부유하고, 변좌나 대변기의 림 상면에 착수하면 사용자가 변좌에 착좌했을 때나, 변좌를 손으로 회동시켰을 때에 사용자의 둔부나 손이 변좌에 착수한 미스트에 접촉하여 불쾌감이 생길 우려가 있다. 또한, 림 상면은 대략 수평으로 형성되어 있기 때문에 림 상면에 착수한 미스트에 의해 형성되는 수막(수적을 포함한다)이 대변기의 밖으로 떨어질 우려가 있다.

본 발명은 이러한 과제의 인식에 의거하여 이루어진 것이며, 프리미스트 모드에 의해 대변기의 비세정 영역을 포함하는 범위에 있어서 오물의 부착이나 고착을 억제함과 아울러 림 상면에 착수한 미스트가 대변기 밖으로 떨어지는 것, 및 착좌부가 미스트에 의해 젖는 것을 억제할 수 있는 토일렛 장치 및 변좌 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

제 1 발명은 오물을 받는 보울부와, 상기 보울부 위에 위치하는 림 상면과, 상기 오물을 상기 보울부 내로부터 배출하기 위한 세정수를 상기 보울부 내에 토수 하는 토수구를 갖고, 상기 보울부는 상기 세정수가 통과하는 세정 영역과, 상기 세정 영역보다 위 또한 상기 림 상면보다 아래에 위치하는 비세정 영역을 갖는 대변기와, 상기 대변기의 상부에 설치되어 사용자가 착좌하는 착좌부와, 상기 보울부의 후방측에 위치하고, 상기 보울부 내에 미스트를 분무하는 분무 장치와, 상기 사용자를 검지하는 검지 센서와, 상기 검지 센서의 검지 정보에 의거하여 상기 분무 장치를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는 상기 검지 센서가 상기 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로부터 상기 사용자를 검지하고 있는 상태로 되었을 때에 자동적으로 상기 분무 장치를 제어해서 미스트를 상기 보울부 내에 분무하는 프리미스트 모드를 실행가능하며, 상기 프리미스트 모드에 있어서 상기 제어 장치는 상기 비세정 영역의 전단부인 전단측 비세정 영역에 미스트가 직접 착수함과 아울러 상기 전단측 비세정 영역의 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량이 상기 전단측 비세정 영역의 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량보다 적어지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 토일렛 장치이다.

이 토일렛 장치에 의하면, 프리미스트 모드에 있어서 분무부로부터 분무된 미스트는 세정 영역뿐만 아니라 비세정 영역에도 착수하고, 세정 영역 및 비세정 영역에 수막을 형성한다. 이에 따라 비세정 영역을 포함하는 대변기의 광범위에 있어서 오물의 부착이나 고착을 억제할 수 있다.

또한, 전단측 비세정 영역의 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 비교적 많게 함으로써 하부 영역에 있어서의 오물의 부착이나 고착을 억제할 수 있다. 한편, 전단측 비세정 영역의 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 비교적 적게 함으로써 림 상면이나 착좌부에 착수하는 미스트의 양을 억제할 수 있다. 예를 들면, 상부 영역에 도달한 미스트가 림 상면이나 착좌부로 비산하는 것을 억제할 수 있다. 이에 따라 림 상면에 착수한 미스트가 대변기 밖으로 떨어지는 것을 억제할 수 있다. 또한, 착좌부가 미스트에 의해 젖는 것을 억제할 수 있고, 사용자가 착좌부에 착좌했을 때나, 착좌부를 손으로 회동시켰을 때에 사용자의 둔부나 손이 착좌부에 착수한 미스트에 접촉하는 것을 억제할 수 있다.

제 2 발명은 제 1 발명에 있어서, 상기 상부 영역은 상기 보울부의 외측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖고, 상기 하부 영역은 상기 보울부의 내측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖는 것을 특징으로 하는 토일렛 장치이다.

이 토일렛 장치에 의하면, 상부 영역의 경사면은 보울부의 외측을 향해 하향 경사져 있기 때문에 상부 영역의 경사면에 도달한 미스트를 하방으로 유도한다. 이에 따라 미스트가 림 상면측으로 비산하는 것을 억제할 수 있다. 한편, 하부 영역의 경사면은 보울부의 내측을 향해 하향 경사져 있기 때문에 하부 영역의 경사면에 도달한 미스트를 상방으로 유도한다. 이에 따라 하부 영역의 도달한 미스트의 일부를 상부 영역에 착수시키고, 상부 영역에 있어서의 착수량(간접 착수량)을 많게 할 수 있다.

제 3 발명은 제 1 또는 제 2 발명에 있어서, 상기 프리미스트 모드에 있어서 상기 제어 장치는 상기 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경이 상기 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경보다 커지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 토일렛 장치이다.

이 토일렛 장치에 의하면, 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경을 크게 함으로써 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 많게 할 수 있다. 또한, 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경을 작게 함으로써 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 적게 할 수 있다.

제 4 발명은 오물을 받는 보울부와, 상기 보울부 위에 위치하는 림 상면과, 상기 오물을 상기 보울부 내로부터 배출하기 위한 세정수를 상기 보울부 내에 토수 하는 토수구를 갖고, 상기 보울부는 상기 세정수가 통과하는 세정 영역과, 상기 세정 영역보다 위 또한 상기 림 상면보다 아래에 위치하는 비세정 영역을 갖는 대변기의 상부에 설치되는 변좌 장치로서, 사용자가 착좌하는 착좌부와, 상기 보울부의 후방측에 위치하고, 상기 보울부 내에 미스트를 분무하는 분무 장치와, 상기 사용자를 검지하는 검지 센서와, 상기 검지 센서의 검지 정보에 의거하여 상기 분무 장치를 제어하는 제어 장치를 구비하고, 상기 제어 장치는 상기 검지 센서가 상기 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로부터 상기 사용자를 검지하고 있는 상태로 되었을 때에 자동적으로 상기 분무 장치를 제어해서 미스트를 상기 보울부 내에 분무하는 프리미스트 모드를 실행가능하며, 상기 프리미스트 모드에 있어서 상기 제어 장치는 상기 비세정 영역의 전단부인 전단측 비세정 영역에 미스트가 직접 착수함과 아울러 상기 전단측 비세정 영역의 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량이 상기 전단측 비세정 영역의 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량보다 적어지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 변좌 장치이다.

이 변좌 장치에 의하면, 프리미스트 모드에 있어서 분무부로부터 분무된 미스트는 세정 영역뿐만 아니라 비세정 영역에도 착수하고, 세정 영역 및 비세정 영역에 수막을 형성한다. 이에 따라 비세정 영역을 포함하는 대변기의 광범위에 있어서 오물의 부착이나 고착을 억제할 수 있다.

또한, 전단측 비세정 영역의 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 비교적 많게 함으로써 하부 영역에 있어서의 오물의 부착이나 고착을 억제할 수 있다. 한편, 전단측 비세정 영역의 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 비교적 적게 함으로써 림 상면이나 착좌부에 착수하는 미스트의 양을 억제할 수 있다. 예를 들면, 상부 영역에 도달한 미스트가 림 상면이나 착좌부로 비산하는 것을 억제할 수 있다. 이에 따라 림 상면에 착수한 미스트가 대변기 밖으로 떨어지는 것을 억제할 수 있다. 또한, 착좌부가 미스트에 의해 젖는 것을 억제할 수 있고, 사용자가 착좌부에 착좌했을 때나, 착좌부를 손으로 회동시켰을 때에 사용자의 둔부나 손이 착좌부에 착수한 미스트에 접촉하는 것을 억제할 수 있다.

제 5 발명은 제 4 발명에 있어서, 상기 상부 영역은 상기 보울부의 외측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖고, 상기 하부 영역은 상기 보울부의 내측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖는 것을 특징으로 하는 변좌 장치이다.

이 변좌 장치에 의하면, 상부 영역의 경사면은 보울부의 외측을 향해 하향 경사져 있기 때문에 상부 영역의 경사면에 도달한 미스트를 하방으로 유도한다. 이에 따라 미스트가 림 상면측으로 비산하는 것을 억제할 수 있다. 한편, 하부 영역의 경사면은 보울부의 내측을 향해 하향 경사져 있기 때문에 하부 영역의 경사면에 도달한 미스트를 상방으로 유도한다. 이에 따라 하부 영역의 도달한 미스트의 일부를 상부 영역에 착수시키고, 상부 영역에 있어서의 착수량(간접 착수량)을 많게 할 수 있다.

제 6 발명은 제 4 또는 제 5 발명에 있어서, 상기 프리미스트 모드에 있어서 상기 제어 장치는 상기 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경이 상기 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경보다 커지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 변좌 장치이다.

이 변좌 장치에 의하면, 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경을 크게 함으로써 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 많게 할 수 있다. 또한, 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경을 작게 함으로써 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 적게 할 수 있다.

(발명의 효과)

본 발명의 형태에 의하면, 프리미스트 모드에 의해 대변기의 비세정 영역을 포함하는 범위에 있어서 오물의 부착이나 고착을 억제함과 아울러 림 상면에 착수한 미스트가 대변기 밖으로 떨어지는 것, 및 착좌부가 미스트에 의해 젖는 것을 억제할 수 있는 토일렛 장치 및 변좌 장치가 제공된다.

도 1은 실시형태에 의한 토일렛 장치를 예시하는 사시도이다.
도 2는 실시형태에 의한 토일렛 장치의 일부를 예시하는 단면도이다.
도 3(a) 및 도 3(b)는 실시형태에 의한 토일렛 장치의 일부를 예시하는 모식도이다.
도 4는 실시형태에 의한 변좌 장치의 요부 구성을 예시하는 블럭도이다.
도 5(a)~도 5(e)는 실시형태에 의한 토일렛 장치를 예시하는 평면도 및 사시도이다.
도 6(a)~도 6(c)는 실시형태에 의한 분무 장치를 예시하는 모식도이다.
도 7은 실시형태의 변형예에 의한 토일렛 장치의 일부를 예시하는 단면도이다.
도 8(a)~도 8(c)는 실시형태에 의한 다른 토일렛 장치를 예시하는 사시도이다.
도 9는 실시형태에 의한 변좌 장치의 동작을 예시하는 플로우차트이다.
도 10(a) 및 도 10(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 동작을 예시하는 모식도이다.
도 11은 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.
도 12는 실시형태에 의한 분무 장치가 분무하는 미스트를 예시하는 모식도이다.
도 13는 미스트의 직진 상태를 설명하기 위한 모식도이다.
도 14는 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.
도 15(a)~도 15(c)는 비세정 영역의 상부 영역 및 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량의 측정 방법을 설명하기 위한 모식도이다.
도 16(a) 및 도 16(b)는 실시형태에 의한 대변기의 전단측 비세정 영역을 예시하는 단면도이다.
도 17(a) 및 도 17(b)는 변좌 장치의 프리미스트 모드 및 오토 변기 덮개 열림 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.
도 18은 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 타이밍차트이다.
도 19(a) 및 도 19(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 평면도이다.
도 20(a) 및 도 20(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.
도 21은 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 플로우차트이다.
도 22는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드에 있어서의 다른 동작을 예시하는 플로우차트이다.
도 23은 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드에 있어서의 다른 동작을 예시하는 플로우차트이다.
도 24(a) 및 도 24(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드 및 애프터미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.
도 25(a) 및 도 25(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 다른 동작을 예시하는 단면도이다.
도 26(a) 및 도 26(b)는 실시형태에 의한 대변기 및 변좌를 예시하는 평면도이다.
도 27(a) 및 도 27(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.
도 28(a) 및 도 28(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드의 제 2 공정에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.
도 29는 실시형태에 의한 토일렛 장치를 예시하는 평면도이다.
도 30은 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.
도 31(a) 및 도 31(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 사시도이다.
도 32는 실시형태에 의한 변좌 장치의 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 플로우차트이다.
도 33은 실시형태에 의한 변좌 장치의 수동 미스트 모드에 있어서의 다른 동작을 예시하는 플로우차트이다.
도 34(a) 및 도 34(b)는 실시형태에 의한 입경의 측정 방법을 예시하는 사시도이다.
도 35는 실시형태의 변형예에 의한 토일렛 장치의 요부 구성을 예시하는 블럭도이다.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 각 도면 중 동일한 구성요소에는 동일한 부호를 붙여 상세한 설명은 적당히 생략한다.

도 1은 실시형태에 의한 토일렛 장치를 예시하는 사시도이다.

도 1에 나타낸 토일렛 장치(10)는 서양식 좌식 변기(이하 설명의 편의상, 단지 「대변기」라고 칭한다)(800)와 변좌 장치(100)를 구비한다. 대변기(800)는 오물을 받는 오목 형상의 보울부(801)를 갖는다. 변좌 장치(100)는 대변기(800)의 상부에 설치되어 있다.

변좌 장치(100)는 케이싱(400)(본체부)과, 사용자가 착좌하는 착좌부(200)(변좌)와, 변기 덮개(300)를 갖는다. 착좌부(200)와 변기 덮개(300)는 각각 케이싱(400)에 대해 개폐가능하게 축지지되어 있다. 도 1의 상태는 착좌부(200)가 닫힌 상태(내려진 상태)이며, 변기 덮개(300)가 열린 상태(올려진 상태)이다. 변기 덮개(300)는 닫힌 상태에서는 착좌부(200)의 좌면(座面)을 상방으로부터 덮는다.

케이싱(400)의 내부에는 착좌부(200)에 앉은 사용자의 인체 국부(「엉덩이」 등)의 세정을 실현하는 신체 세정 기능부 등이 내장되어 있다. 또한, 예를 들면 케이싱(400)에는 사용자가 착좌부(200)에 앉은 것을 검지하는 착좌 검지 센서(404)가 설치되어 있다. 착좌 검지 센서(404)가 착좌부(200)에 앉은 사용자를 검지하고 있는 경우에 있어서, 사용자가 예를 들면 리모컨 등의 수동 조작부(500)를 조작하면 세정 노즐(이하 설명의 편의상, 단지 「노즐」이라고 칭한다)(473)을 대변기(800)의 보울부(801) 내로 진출시킬 수 있다. 또한, 도 1에 나타낸 변좌 장치(100)에서는 노즐(473)이 보울부(801) 내로 진출한 상태를 나타내고 있다.

노즐(473)의 선단부에는 하나 또는 복수의 토수구(474)가 설치되어 있다. 그리고, 노즐(473)은 그 선단부에 설치된 토수구(474)로부터 물을 분사해서 착좌부(200)에 앉은 사용자의 「엉덩이」 등을 세정할 수 있다.

또한, 본원 명세서에 있어서 「상방」, 「하방」, 「전방」, 「후방」, 「좌측방」 및 「우측방」의 각각은 열린 변기 덮개(300)를 등지고 착좌부(200)에 앉은 사용자로부터 본 방향이다.

도 2는 실시형태에 의한 토일렛 장치의 일부를 예시하는 단면도이다.

도 2에 나타내는 바와 같이 보울부(801)의 상부는 림부(805)로 되어 있다. 림부(805)는 대변기(800)의 상부 가장자리부를 형성하는 환 형상 부분이다. 보울부(801) 내에는 고임물(801w)이 모여 있다.

또한, 대변기(800)는 보울부(801) 위에 위치하는 림 상면(806)을 갖는다. 림 상면(806)은 림부(805)의 상면이며, 예를 들면 닫혀진 착좌부(200)의 이면(204)과 마주본다.

도 3(a) 및 도 3(b)는 실시형태에 의한 토일렛 장치의 일부를 예시하는 모식도이다.

도 3(a)는 대변기(800)를 예시하는 사시도이며, 도 3(b)는 대변기(800)를 예시하는 평면도이다. 대변기(800)는 림부(805)에 설치된 토수구(811)를 갖는다. 토수구(811)는 오물(예를 들면, 사용자의 배설물 등)을 보울부(801) 내로부터 배출하기 위한 세정수를 보울부(801) 내에 토수한다.

예를 들면, 사용자가 리모컨 등에 설치된 스위치에 의해 변기 세정의 조작을 행하면, 또는 사용자가 착좌부(200)로부터 일어서면 토수구(811)로부터 보울부(801) 내에 세정수를 공급하는 변기 세정이 실행된다. 이에 따라 보울부(801) 내의 오물이 배출되고, 보울부(801)의 표면이 세정된다.

도 3(a)에 나타내는 화살표(A5)와 같이 토수구(811)는 후방을 향해 세정수를 토출한다. 토수구(811)로부터 토출된 세정수는 림부(805)를 따라 설치된 선반 형상부(805B) 위를 흐르고, 도 3(b)에 나타내는 바와 같이 보울부(801) 내를 선회하는 선회류(SF)를 형성한다.

보울부(801)는 세정수가 통과하는 세정 영역(801A)과, 세정 영역(801A)보다 위 또한 림 상면(806)보다 아래에 위치하는 비세정 영역(801B)을 갖는다. 세정 영역(801A)은 보울부(801)의 내면 중 세정수가 통과해서 젖는 영역이다. 비세정 영역(801B)은 보울부(801)의 내면 중 세정수가 통과하지 않는 영역이다. 도 3(b)와 같이 상방으로부터 보았을 때에 비세정 영역(801B)은 림부(805)를 따라 대체로 환 형상이며, 그 내측에 세정 영역(801A)이 위치한다.

예를 들면, 도 2에 나타내는 바와 같이 세정 영역(801A)은 선반 형상부(805B)로부터 아래의 영역이며, 비세정 영역(801B)은 선반 형상부(805B) 위에 위치하는 림부(805)의 입면(림부 내벽면)을 포함한다.

또한, 실시형태에 있어서 세정수는 선회류(SF)를 형성하는 형태가 아니어도 좋다. 예를 들면, 토수구(811)는 림부(805)로부터 하방을 향해 세정수를 토수해도 좋다. 이러한 경우이어도 보울부(801)는 세정수가 통과하는 세정 영역과, 림 상면과 세정 영역 사이에 위치하고 세정수가 통과하지 않는 비세정 영역을 갖는다.

도 4는 실시형태에 의한 변좌 장치의 요부 구성을 예시하는 블럭도아다.

또한, 도 4는 수로계와 전기계의 요부 구성을 합쳐서 나타내고 있다.

변좌 장치(100)는 전자 밸브(431), 제균 장치(450), 스위칭 밸브(472), 분무 장치(481), 노즐 모터(476), 노즐(473), 노즐 세정실(478), 및 유로(110~113) 등을 갖는다. 이들은 예를 들면, 케이싱(400) 내에 배치되어 있다. 또한, 도 35에 나타내는 바와 같이 이들은 대변기(800)의 내부에 장착되어 있어도 좋다.

유로(110)는 수도나 저수 탱크 등의 도시하지 않은 급수원으로부터 공급된 물을 분무 장치(481)나 노즐(473) 등으로 인도하기 위한 유로이다. 유로(110)의 상류측에는 전자 밸브(431)가 설치되어 있다. 전자 밸브(431)는 개폐가능한 전자 밸브이며, 케이싱(400)의 내부에 설치된 제어 장치(405)로부터의 지령에 의거하여 물의 공급을 제어한다.

유로(110) 상에 있어서, 전자 밸브(431)의 하류에는 제균수를 생성하는 제균 장치(450)가 설치되어 있다. 제균 장치(450)는 예를 들면 하이포아염소산 등을 포함하는 제균수를 생성한다. 제균 장치(450)로서는 예를 들면, 전해조 유닛을 들 수 있다. 전해조 유닛은 제어 장치(405)로부터의 통전의 제어에 의해 양극판(도시하지 않음)과 음극판(도시하지 않음) 사이의 공간(유로)을 흐르는 수돗물을 전기분해한다. 또한, 제균수는 하이포아염소산을 포함하는 것에는 한정되지 않는다. 예를 들면, 제균수는 은 이온이나 구리 이온 등의 금속 이온을 포함하는 용액, 전해 염소나 오존 등을 포함하는 용액, 산성수, 또는 알칼리수 등이어도 좋다. 제균 장치(450)는 전해조에 한정되지 않고 제균수를 생성가능한 임의의 구성이어도 좋다.

유로(110) 상에 있어서, 제균 장치(450)의 하류에는 스위칭 밸브(472)가 설치되어 있다. 스위칭 밸브(472)의 하류에는 노즐(473), 노즐 세정실(478) 및 분무 장치(481)가 설치되어 있다. 유로(110)는 스위칭 밸브(472)에 의해 노즐(473)에 물을 인도하는 유로(111), 노즐 세정실(478)에 물을 인도하는 유로(112), 및 분무 장치(481)에 물을 인도하는 유로(113)로 분기되어 있다. 스위칭 밸브(472)는 제어 장치(405)로부터의 지령에 의거하여 유로(111), 유로(112) 및 유로(113)의 각각의 개폐를 제어한다. 즉, 스위칭 밸브(472)는 노즐(473), 노즐 세정실(478) 및 분무 장치(481)에의 물의 공급을 제어한다. 또한, 스위칭 밸브(472)는 그 하류에 공급하는 물의 유량을 스위칭한다.

노즐(473)은 노즐 모터(476)로부터의 구동력을 받고 변기(800)의 보울부(801) 내로 진출하거나 후퇴하거나 한다. 즉, 노즐 모터(476)는 제어 장치(405)로부터의 지령에 의거하여 노즐(473)을 진퇴시킨다. 노즐(473)은 비사용 시에는 케이싱(400) 내에 수납되어 있다. 노즐(473)은 케이싱(400)으로부터 전방으로 진출한 상태에서 토수구(474)로부터 물을 토출해서 인체 국부를 세정한다.

노즐 세정실(478)은 그 내부에 설치된 토수구로부터 제균수 또는 수돗물을 분사함으로써 노즐(473)의 외주 표면(동체)을 세정한다.

분무 장치(481)는 수돗물 또는 제균 장치(450)에서 생성된 제균수를 미스트 형상으로 한다. 분무 장치(481)는 보울부(801), 림부(805), 및 착좌부(200) 등에 미스트(M)(제균수의 미스트 또는 수돗물의 미스트)를 분무한다. 바꿔 말하면, 분무 장치(481)는 제균수의 미스트 또는 수돗물의 미스트를 보울부(801), 림부(805), 및 착좌부(200) 등에 착수시킨다. 또한, 본원 명세서에 있어서 「착수」란 물(제균수 또는 수돗물)이 물체의 표면에 부착되는 것을 말한다. 특히 「직접 착수」라고 하는 경우에는 물(제균수 또는 수돗물의 미립자(p))이 공중으로부터 물체의 표면에 도착하는 것을 의미한다.

또한, 케이싱(400)의 내부에는 변좌용 모터(511)(회동 장치), 변기 덮개용 모터(512)(회동 장치), 송풍 장치(513) 및 온풍 히터(514)가 설치되어 있다.

변좌용 모터(511)는 제어 장치(405)로부터의 지령에 의거하여 전동으로 착좌부(200)를 회동시켜서 개폐한다. 변기 덮개용 모터(512)는 제어 장치(405)로부터의 지령에 의거하여 전동으로 변기 덮개(300)를 회동시켜서 개폐한다.

송풍 장치(513)는 예를 들면, 케이싱(400)의 내부에 설치된 팬이다. 송풍 장치(513)는 제어 장치(405)로부터의 지령에 의거하여 동작한다. 예를 들면, 송풍 장치(513)의 모터의 회전에 따라 날개가 회전한다. 이에 따라 송풍 장치(513)는 대변기(800) 내(예를 들면, 보울부(801) 내)를 향해 송풍할 수 있다. 또한, 송풍 장치(513)는 착좌부(200)에 앉은 사용자의 국부에 송풍해도 좋다. 온풍 히터(514)는 송풍 장치(513)에 의해 케이싱(400)의 외부로 보내어지는 공기를 따뜻하게 한다. 이에 따라 사용자의 국부를 향해 온풍을 보내고 국부를 건조시킬 수 있다.

변좌 히터(515)(건조 장치)는 예를 들면, 착좌부(200)의 내부에 설치되어 있다. 변좌 히터(515)는 예를 들면, 착좌부(200)의 중앙에 형성된 개구(200a)(도 1)의 둘레를 따라 설치된 환 형상의 금속 부재를 갖는다. 제어 장치(405)로부터의 지령에 의거하여 변좌 히터(515)에 통전이 행해짐으로써 변좌 히터(515)는 착좌부(200)를 따뜻하게 한다. 변좌 히터(515)로서는 예를 들면, 튜빙 히터나, 시즈 히터, 할로겐 히터, 카본 히터 등을 사용해도 좋다. 금속 부재는 예를 들면, 알루미늄이나 구리 등으로 구성된다. 또한, 금속 부재의 형상은 시트 형상이나 와이어 형상, 메쉬 형상 등 다양한 형상을 채용할 수 있다.

제어 장치(405)에는 도시하지 않은 전원 회로로부터 전력을 공급하는 회로가 사용된다. 예를 들면, 제어 장치(405)는 마이크로컴퓨터의 집적회로를 포함한다. 제어 장치(405)는 사용자를 검지하는 검지 센서(402)(예를 들면, 인체 검지 센서(403) 또는 착좌 검지 센서(404))의 검지 정보 또는 수동 조작부(500)의 조작 정보에 의거하여 전자 밸브(431), 제균 장치(450), 스위칭 밸브(472), 노즐 모터(476), 분무 장치(481), 송풍 장치(513), 온풍 히터(514), 변좌 히터(515), 변좌용 모터(511), 및 변기 덮개용 모터(512)를 제어한다.

수동 조작부(500)는 사용자가 예를 들면, 임의의 타이밍에서 제균수의 분무를 행하기 위한 조작부이다. 예를 들면, 수동 조작부(500)는 스위치 또는 버튼 등을 갖는 리모컨이며, 사용자가 수동 조작부(500)를 조작하면 제균수의 분무를 지시하는 조작 정보(신호)가 제어 장치(405)에 보내어진다. 제어 장치(405)는 그 조작 정보에 의거하여 제균 장치(450)나 분무 장치(481)를 제어한다. 이에 따라 사용자는 수동 조작부(500)를 조작함으로써 제균수의 분무를 행할 수 있다.

또한, 수동 조작부(500)는 제균수의 분무뿐만 아니라 사용자가 변좌 장치(100)의 각 기능을 조작하기 위한 스위치나 버튼 등을 갖고 있어도 좋다. 각 기능에 대응한 조작이 행해지면 그 조작 정보가 제어 장치(405)에 보내어지고, 제어 장치(405)는 그 조작 정보에 의거하여 변좌 장치(100)의 각 부의 동작을 제어한다.

착좌 검지 센서(404)는 사용자의 착좌부(200)로의 착좌 상태(착좌의 유무)를 검지할 수 있다. 착좌 검지 센서(404)는 사용자의 착좌 및 이좌를 검지한다. 착좌 검지 센서(404)에는 마이크로파 센서, 측거 센서(적외선 투광식 센서), 초음파 센서, 택트 스위치, 정전용량 스위치(터치 센서), 또는 변형 센서를 사용할 수 있다. 이 예에서는 착좌 검지 센서(404)에는 케이싱(400)에 설치된 측거 센서가 사용되고 있다.

또한, 택트 스위치, 정전 센서 및 변형 센서 등의 접촉식 센서를 사용할 경우에는 이들의 접촉식 센서는 착좌부(200)에 설치된다. 착좌부(200)에 사용자가 앉으면 사용자의 체중에 의해 택트 스위치가 압하된다. 또는, 사용자가 정전 센서에 접촉한다. 또는, 사용자의 체중에 의해 변형 센서에 압력이 가해진다. 이들의 센서로부터의 전기 신호에 의해 사용자의 착좌를 검지할 수 있다.

인체 검지 센서(403)는 대변기(800)의 전방에 있는 사용자, 즉 착좌부(200)로부터 전방으로 이간된 위치에 존재하는 사용자를 검지할 수 있다. 즉, 인체 검지 센서(403)는 화장실에 입실해서 착좌부(200)에 접근해 온 사용자를 검지할 수 있다. 이러한 인체 검지 센서로서 예를 들면, 초전 센서, 마이크로파 센서, 초음파 센서, 또는 측거 센서(적외선 투광식 센서)를 사용할 수 있다. 이 예에서는 인체 검지 센서(403)에는 케이싱에 설치된 초전 센서가 사용되고 있다. 또한, 인체 검지 센서(403)는 화장실의 도어를 열어서 입실한 직후의 사용자나, 화장실에 입실하기 직전의 사용자, 즉 화장실에 입실하려고 해서 도어의 앞에 존재하는 사용자를 검지해도 좋다. 예를 들면, 마이크로파 센서를 사용했을 경우에는 화장실의 도어 너머로 사용자의 존재를 검지하는 것이 가능해진다.

제어 장치(405)는 인체 검지 센서(403)의 검지 정보(사용자의 존재의 유무를 나타내는 신호)나, 착좌 검지 센서(404)의 검지 정보(사용자의 착좌의 유무를 나타내는 신호)를 수신하고, 수신한 검지 정보에 의거하여 변좌 장치(100)의 각 부의 동작을 제어한다.

제어 장치(405)는 애프터미스트 모드, 프리미스트 모드, 및 수동 미스트 모드의 3종류의 미스트 모드를 실행가능하다.

애프터미스트 모드는 예를 들면, 사용자의 토일렛 장치(10)의 사용 후에 검지 센서(402)의 검지 정보에 의거하여 제균수의 미스트를 자동으로 분무하는 동작 모드이다. 프리미스트 모드는 예를 들면, 사용자의 토일렛 장치(10)의 사용 전에 검지 센서(402)의 검지 정보에 의거하여 제균수 또는 수돗물의 미스트를 자동으로 분무하는 동작 모드이다. 수동 미스트 모드는 수동 조작부(500)의 조작 정보에 의거하여 제균수의 미스트를 분무하는 동작 모드이다.

도 5(a)~도 5(e)는 실시형태에 의한 토일렛 장치를 예시하는 평면도 및 사시도이다.

도 5(a)는 토일렛 장치(10)의 일부를 전방으로부터 본 상태를 나타낸다.

도 5(b)는 도 5(a)의 일부를 확대해서 나타낸다. 또한, 도 5(b)에서는 보기 쉽게 하기 위해 분무 장치(481)의 전방에 위치하는 케이싱(400)의 일부를 생략하고 있다.

분무 장치(481), 노즐 댐퍼(479), 및 송풍 댐퍼(516)는 변좌 장치(100)가 대변기(800)의 상부에 설치된 상태에 있어서 보울부(801)의 후방측 상부에 위치한다.

노즐 댐퍼(479)는 케이싱(400)에 대해 회동가능하게 축지지되어 있다. 노즐(473)은 케이싱(400)의 내부로 후퇴하고 있는 상태에서는 노즐 댐퍼(479)의 후방에 위치한다. 인체 국부의 세정 시 등에 있어서, 노즐(473)은 노즐 댐퍼(479)에 접촉하고, 노즐 댐퍼(479)를 회동시켜서 열고, 케이싱(400)의 내부로부터 진출한다.

도 5(c)~도 5(e)는 노즐 댐퍼(479) 및 송풍 댐퍼(516)의 주변을 확대해서 나타내는 사시도이다.

송풍 댐퍼(516)는 케이싱(400)에 대해 회동가능하게 축지지되어 있다. 송풍 댐퍼(516)의 후방에는 송풍 장치(513)가 배치되어 있다. 송풍 댐퍼(516)는 케이싱(400)의 개구(516a)를 덮는다. 송풍 장치(513)로부터 보내어진 공기는 개구(516a)를 통해 대변기(800) 내로 보내어진다.

도 5(c)는 송풍 장치(513)가 동작을 정지한 상태이며, 도 5(d) 및 도 5(e)는 송풍 장치(513)가 작동하고, 보울부(801) 내를 향해 송풍하고 있는 상태를 나타낸다.

도 5(c)에 나타내는 바와 같이 송풍이 정지한 상태에 있어서는 송풍 댐퍼(516)는 닫혀 있다.

도 5(d)에 나타내는 바와 같이 송풍 장치(513)가 작동하면 송풍 댐퍼(516)는 송풍 장치(513)로부터 보내어지는 공기의 압력(풍압)에 의해 회동해서 열린다. 이에 따라 송풍 장치(513)는 예를 들면, 화살표(A1)와 같이 보울부(801) 내의 후방 상부로부터 보울부(801) 내의 전방 하부를 향해 송풍한다.

도 5(e)의 상태에 있어서는 도 5(d)의 상태에 비해 송풍 장치(513)가 보내는 풍량이 많다(또는 풍속이 높다). 이 경우에는 송풍 댐퍼(516)는 도 5(d)의 상태에 비해 더욱 회동해서 열린다. 이에 따라 송풍 장치(513)는 예를 들면, 화살표(A2)와 같이 보울부(801) 내의 후방 상부로부터 보울부(801) 내의 전방 상부를 향해 송풍한다.

이렇게 송풍 장치(513)로부터 보내어지는 바람의 방향은 송풍 댐퍼(516)에 의해 변화된다. 바꿔 말하면, 송풍 장치(513)는 풍량(풍속)에 의해 송풍방향을 제어할 수 있다. 송풍 장치(513)로부터의 송풍에 의해 생기는 기류에 분무 장치(481)로부터 분무된 미스트를 태움으로써 미스트가 착수하는 범위, 및 각 범위에 있어서의 미스트의 착수량(각 범위에 착수하는 제균수 또는 수돗물의 양)을 제어해도 좋다.

도 6(a)~도 6(c)는 실시형태에 의한 분무 장치를 예시하는 모식도이다.

도 6(a)는 분무 장치(481)의 사시도이며, 도 6(b)는 분무 장치(481)의 측면도이다.

분무 장치(481)는 모터(481a)와, 모터(481a)의 하방에 접속된 디스크(481b)를 갖는다. 모터(481a)의 회전은 제어 장치(405)에 의해 제어된다. 모터(481a)가 회전하면 회전의 구동력이 디스크(481b)에 전달되고, 디스크(481b)가 회전한다.

도 6(b)에 나타내는 바와 같이 디스크(481b)의 상면에는 물(W)(수돗물 또는 제균 장치(450)에서 생성된 제균수)이 공급된다. 디스크(481b)의 회전 중에 물(W)이 공급됨으로써 분무 장치(481)는 물(W)을 미스트 형상으로 해서 분무한다.

도 6(c)는 디스크(481b)의 일부를 상방으로부터 본 확대도이다. 회전하는 디스크(481b)의 상면에 적하된 물(W)은 원심력에 의해 디스크(481b) 상에서 막 형상으로 퍼지고, 디스크(481b)로부터 방사된다. 이 때, 물(W)은 디스크(481b)의 가장자리 부근으로부터 막 형상인 채로 분열되거나, 실 형상으로 된 후에 분열되거나 하고, 그 후 미립자(p)(미스트)로 된다. 디스크(481b)의 회전 속도, 즉 모터(481a)의 회전 속도에 의해 미스트의 입경(미립자(p)의 지름)을 제어할 수 있다. 회전 속도가 높을수록 미스트의 입경은 작아진다. 예를 들면, 회전 속도가 1000(rotation per minute: rpm) 정도인 저속 회전, 회전 속도가 10000rpm 정도인 중속 회전, 또는, 회전 속도가 20000rpm 정도인 고속 회전이 적당히 사용되고, 소망의 입경이 얻어진다. 또한, 급수구(481c)로부터 분무 장치(481)에 공급되는 물(W)의 유량을 조정함으로써 미스트의 입경을 제어할 수도 있다.

또한, 본원 명세서에 있어서 입경이란 토일렛 장치(10)에 착수하기 전의 공중에 존재하는 미립자(p)의 입경이며, 예를 들면 사우터 평균 입경(총 체적/총 표면적)이다. 본원 명세서에 있어서의 「입경」의 측정 방법에 대해서는 도 34에 관해서 후술한다. 또한, 미스트란 입경이 10마이크로미터(㎛) 이상 300㎛ 이하의 범위를 말한다. 미스트의 입경이 10㎛ 미만이면 보울부(801), 림부(805), 착좌부(200) 등의 대상 부위를 적시기 위해서 긴 시간이 필요로 되어 버린다. 또한, 하이포아염소산을 포함하는 제균수를 사용했을 경우, 미스트의 입경이 10㎛ 미만이면 미스트 중의 하이포아염소산의 농도가 감쇠하기 쉬워 제균 성능이 저하하기 쉽다. 한편, 미스트의 입경이 300㎛보다 크면 미스트가 확산되기기 어려워 광범위하게 미스트를 분무하는 것이 곤란해진다. 또한, 이하의 설명에 있어서 대입경의 미스트란 입경이 100㎛ 이상 300㎛ 이하, 바람직하게는 150㎛ 이상 300㎛ 이하의 범위의 미스트이며, 중입경의 미스트란 입경이 50㎛ 이상 200㎛ 이하, 바람직하게는 60㎛ 이상 150㎛ 이하의 범위의 미스트이며, 소입경의 미스트란 입경이 10㎛ 이상 100㎛ 이하, 바람직하게는 10㎛ 이상 60㎛ 이하의 범위의 미스트이다.

예를 들면, 급수구(481c)의 위치나 수, 디스크(481b)의 회전방향(시계방향 또는 반시계방향)에 의해 분무 장치(481)로부터 대변기(800) 내를 향해 분무되는 미스트의 입경, 유량, 방향 등을 조정하는 것도 가능하다. 이에 따라 분무 장치(481)로부터 분무된 미스트가 착수하는 범위, 및 각 범위에 있어서의 미스트의 착수량을 제어해도 좋다. 또한, 디스크(481b)의 주위에 미스트가 분무되는 방향을 제어하는 커버 등을 적당히 설치해도 좋다.

도 7은 실시형태의 변형예에 의한 토일렛 장치의 일부를 예시하는 단면도이다.

도 7은 도 5(a)에 나타내는 A-A'선에 있어서의 단면을 나타낸다.

도 7에 나타내는 바와 같이 케이싱(400)에는 슬릿(S)이 설치되어 있다. 이 예에서는 분무 장치(481)는 케이싱(400) 내에 배치되어 있고, 슬릿(S)은 분무 장치(481)의 전방 하부에 위치한다. 예를 들면, 슬릿(S)의 상단면(S1)의 높이(상하방향에 있어서의 위치)는 디스크(481b)의 바닥면(B1)의 높이와 같고, 상단면(S1)과 바닥면(B1)은 동일 평면상이다. 또는, 상단면(S1)은 바닥면(B1)보다 낮아도 좋다.

디스크(481b)의 상면은 수평으로부터 기울어져 있고, 디스크(481b)는 미스트(M)를 수평보다 약간 하방을 향해 분무한다. 디스크(481b)로부터 분무된 미스트(M)는 슬릿(S)을 통과하고, 보울부(801) 내를 향해 분무된다. 이에 따라 토일렛 장치(10)의 디자인성이나 청소성을 손상시키는 일 없이 소변 등의 오염(Y)이 분무 장치(481)에 부착되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 디스크(481b)의 형상은 평평한 원판 형상이어도 좋고, 적당히 요철을 형성하거나, 원뿔 형상이나 구체를 사용하거나 해도 좋다. 이에 따라 미스트의 분무방향이나 미스트의 입경 등을 조절할 수도 있다.

분무 장치(481)는 변좌 장치(100)가 대변기(800)의 상부에 설치된 상태에 있어서 착좌부(200)의 일부의 하방에 배치되고(도 2 참조), 대변기(800) 내를 향해 미스트를 분무한다.

또한, 실시형태에 있어서 분무 장치는 도 6 및 도 7에 관해서 설명한 장치에 한정되지 않는다. 예를 들면, 분무 장치로서 초음파 무화 장치를 사용해도 좋다. 초음파 무화 장치는 액체에 초음파를 조사함으로써 액체를 미스트 형상으로 한다. 또한, 예를 들면 분무 장치로서 2유체 노즐을 사용해도 좋다. 2유체 노즐은 기체와 액체를 함께 분사함으로써 액체를 미스트 형상으로 한다. 단, 도 6 및 도 7에 관해서 설명한 장치를 사용했을 경우에는 송풍 장치(513)에 의해 분무 범위를 제어하기 쉬운 메리트가 있다. 또한, 클로깅의 리스크도 낮고, 컴프레서 등의 부대 장치도 불필요하다.

도8(a)~도 8(c)는 실시형태에 의한 다른 토일렛 장치를 예시하는 사시도이다.

이 예에서는 분무 장치(481)의 전방에 미스트 댐퍼(482)가 설치되어 있다. 미스트 댐퍼(482)는 닫힌 상태에 있어서 분무 장치(481)의 전방의 슬릿(S)을 덮는다.

미스트 댐퍼(482)는 예를 들면, 노즐 댐퍼(479)에 대해 고정되어 있고, 노즐 댐퍼(479)와 연동한다. 노즐 댐퍼(479)가 열림으로써 미스트 댐퍼(482)도 열리고, 노즐 댐퍼(479)가 닫힘으로써 미스트 댐퍼(482)도 닫힌다.

도 8(b) 및 도 8(c)는 노즐 댐퍼(479) 및 미스트 댐퍼(482)의 주변을 확대해서 나타낸다. 도 8(b)는 노즐(473)이 케이싱(400)의 내부로 후퇴한 상태이다. 이 때, 노즐 댐퍼(479)는 닫힌 상태이며, 노즐(473)의 전방을 덮는다. 또한, 미스트 댐퍼(482)는 닫힌 상태이며, 슬릿(S)의 전방을 덮는다.

분무 장치(481)의 불사용 시에는 도 8(b)와 같이 미스트 댐퍼(482)에 의해 분무 장치(481)를 보울부(801)측으로부터 은폐한다. 이에 따라 분무 장치(481)에 소변이나 오염이 부착되는 것을 보다 방지할 수 있다.

도 8(c)는 노즐(473)이 전방으로 진출하고, 노즐 댐퍼(479)를 회동시킨 상태이다. 이 때의 노즐(473)의 전방으로의 진출 거리는 인체 국부 세정 시의 전방으로의 진출 거리보다 짧아도 좋다. 예를 들면, 노즐(473)의 선단이 노즐 댐퍼(479)에 접촉하고 있다. 또한, 도 8(c)에 있어서 미스트 댐퍼(482)는 노즐 댐퍼(479)와 함께 회동하고 열려 있다. 미스트 댐퍼(482)에 의해 미스트가 분무되는 방향이나 범위를 제어해도 좋다.

도 9는 실시형태에 의한 변좌 장치의 동작을 예시하는 플로우차트이다.

도 10(a) 및 도 10(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 동작을 예시하는 모식도이다.

도 10(b)에는 제균수 또는 수돗물의 미스트가 착수하는 대상 부위(P1~P4)를 나타낸다. 도 10(a)는 각 미스트 모드에 있어서의 각 대상 부위의 착수량(단위면적당 착수량)의 일례를 「대」, 「중」, 「소」, 「극소」의 4단계로 나타낸다.

제어 장치(405)는 검지 센서(402)가 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로부터 사용자를 검지하고 있는 상태로 되었을 때에 자동적으로 분무 장치(481)를 제어해서 수돗물의 미스트 또는 제균수의 미스트를 보울부(801) 내에 분무하는 프리미스트 모드를 실행가능하다.

예를 들면, 도 9에 나타내는 바와 같이 사용자가 화장실에 입실해서 인체 검지 센서(403)가 사용자의 입실을 검지하면 사용자의 입실을 나타내는 신호(검지 정보)가 제어 장치(405)에 송신된다. 제어 장치(405)는 그 신호에 의거하여 자동적으로 프리미스트 모드를 실행한다. 프리미스트 모드에 있어서, 제어 장치(405)는 분무 장치(481)에 수돗물의 미스트를 분무시켜 대상 부위에 미스트를 착수시킨다. 프리미스트 모드에 있어서의 대상 부위는 도 10(a) 및 도 10(b)에 나타내는 바와 같이 대상 부위(P3)(보울부(801)의 비세정 영역(801B)) 및 대상 부위(P4)(보울부(801)의 세정 영역(801A))이다. 프리미스트 모드에 있어서는 착좌부(200) 및 림부(805)의 림 상면(806)은 분무의 대상 부위는 아니다.

이렇게 프리미스트 모드에 있어서 분무 장치(481)로부터 분무된 미스트는 세정 영역(801A)뿐만 아니라 비세정 영역(801B)에도 착수하여 세정 영역(801A) 및 비세정 영역(801B)에 수막을 형성한다. 이에 따라 비세정 영역(801B)을 포함하는 대변기(800)의 광범위에 있어서 오물의 부착이나 고착을 억제할 수 있다.

제어 장치(405)는 검지 센서(402)가 사용자를 검지하고 있는 상태로부터 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로 되었을 때에 자동적으로 분무 장치(481)를 제어해서 제균수의 미스트를 대변기(800) 내 및 착좌부(200)에 분무하는 애프터미스트 모드를 실행가능하다.

예를 들면, 도 9에 나타내는 바와 같이 사용자가 화장실로부터 퇴실해서 인체 검지 센서(403)가 사용자의 퇴실을 검지하면 사용자의 퇴실을 나타내는 신호(검지 정보)가 제어 장치(405)에 송신된다. 제어 장치(405)는 그 신호에 의거하여 자동적으로 애프터미스트 모드를 실행한다. 애프터미스트 모드에 있어서, 제어 장치(405)는 제균 장치(450)에 제균수를 생성시키고, 분무 장치(481)에 제균수의 미스트를 분무시켜 대상 부위에 미스트를 착수시킨다. 애프터미스트 모드에 있어서의 대상 부위는 도 10(a) 및 도 10(b)에 나타내는 바와 같이 대상 부위(P1)(착좌부(200)의 표면(203)), 대상 부위(P2)(착좌부(200)의 이면(204) 및 림 상면(806)), 대상 부위(P3) 및 대상 부위(P4)이다.

이렇게 애프터미스트 모드의 실행에 의해 사용자의 변좌 장치(100)의 사용 후에 대변기(800) 내 및 착좌부(200)에 제균수를 자동적으로 착수시킬 수 있다. 이에 따라 대변기(800)뿐만 아니라 착좌부(200) 등의 넓은 범위에 있어서 자동적으로 균이나 오염의 발생을 억제할 수 있다.

제어 장치(405)는 사용자가 수동 조작부(500)를 조작했을 때에 분무 장치(481)를 제어해서 제균수의 미스트를 대변기(800) 내 및 착좌부(200)에 분무하는 수동 미스트 모드를 실행가능하다.

예를 들면, 도 9에 나타내는 바와 같이 사용자가 화장실에 입실 중(예를 들면, 프리미스트 모드의 실행 후)에 수동 조작부(500)를 조작하면 조작에 따른 신호(조작 정보)가 제어 장치(405)에 송신된다. 제어 장치(405)는 그 신호에 의거하여 수동 미스트 모드를 실행한다. 수동 미스트 모드는 변좌 장치(100)의 사용 전·사용 후·청소 시 등의 타이밍에서 실행된다. 수동 미스트 모드에 있어서, 제어 장치(405)는 제균 장치(450)에 제균수를 생성시키고, 분무 장치(481)에 제균수의 미스트를 분무시켜 대상 부위에 미스트를 착수시킨다. 수동 미스트 모드에 있어서의 대상 부위는 도 10(a) 및 도 10(b)에 나타내는 바와 같이 대상 부위(P1), 대상 부위(P2), 대상 부위(P3) 및 대상 부위(P4)이다.

이렇게 수동 미스트 모드에 의해 수동 조작부(500)가 조작된 타이밍에서 대변기(800) 내 및 착좌부(200)에 제균수를 착수시킴으로써 대변기(800) 내뿐만 아니라 착좌부(200)를 포함하는 넓은 범위에 있어서 균이나 오염의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 사용자는 착좌부(200)에 착수한 제균수의 미스트를 닦아냄으로써 착좌부(200)에 발생한 균이나 오염을 제거할 수 있다. 예를 들면, 애프터미스트 모드에 의해 억제하는 것이 곤란한 고착 오염에 대해 착수한 제균수를 토일렛 페이퍼 등을 사용하여 닦아냄으로써 제균할 수 있다. 또한, 예를 들면 변좌 장치(100)의 사용 전에 착좌부(200)의 오염이 걱정이 되는 사용자는 수동 미스트 모드에 의해 착좌부(200)를 제균할 수 있다. 사용자 스스로의 조작에 의거하여 제균이 실행되기 때문에 사용자의 안심감이나 만족감을 높일 수 있다.

도 11은 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.

도 11에 나타내는 바와 같이 보울부(801)의 비세정 영역(801B)은 전단측 비세정 영역(801F)을 갖는다. 전단측 비세정 영역(801F)은 비세정 영역(801B)의 전단부이며, 예를 들면 보울부(801)의 좌우방향에 있어서의 중앙에 위치한다. 전단측 비세정 영역(801F)은 비세정 영역(801B)의 가장 전방의 끝을 포함하고, 세정 영역(801A)의 상단으로부터 림 상면(806)까지 상하로 연장되는 영역이다.

보울부(801)에 있어서의 오물의 부착 등을 억제하기 위해서는 비세정 영역(801B)에도 수막이 형성되도록 많은 미스트를 착수시키는 것이 바람직하다. 그래서, 송풍 장치(513)를 작동시켜서 보울부(801) 내에 기류를 발생시키고, 그 기류에 의해 미스트를 비세정 영역(801B)까지 보내는 방법이 고려된다. 그러나, 이 경우에는 기류를 탄 미스트가 착좌부(200)나 림 상면(806)에도 착수하는 경우가 있다. 그러면, 사용자가 착좌부(200)에 착좌했을 때나, 착좌부(200)를 손으로 회동시켰을 때에 사용자의 둔부나 손이 착좌부(200)에 착수한 미스트에 접촉하여 불쾌감이 생길 우려가 있다. 또한, 림 상면(806)은 대략 수평으로 형성되어 있기 때문에 림 상면(806)에 착수한 미스트가 대변기(800)의 밖으로 떨어질 우려가 있다.

그래서, 프리미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)는 보울부(801) 내에 상승 기류를 발생시키는 송풍 장치(513)를 작동시키지 않는다. 또한, 프리미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)는 림 상면(806)에 착수한 미스트가 대변기(800)의 밖으로 떨어지는 일 없이 전단측 비세정 영역(801F)에 미스트를 직접 착수시키기 위해서 분무 장치(481)로부터 분무된 미스트가 직진 상태를 유지한 채 전단측 비세정 영역(801F)까지 도달하도록 분무 장치(481)가 분무하는 미스트의 속도를 제어한다.

이에 따라 많은 미스트를 비세정 영역(801B)에 착수시키면서도 미스트가 송풍 장치(513)에 의해 발생하는 상승 기류를 타고 부유하는 일이 없기 때문에 림 상면(806)이나 착좌부(200)에 착수하는 미스트의 양을 억제할 수 있다. 이에 따라 림 상면(806)에 착수한 미스트가 대변기(800) 밖으로 떨어지는 것을 억제할 수 있다. 또한, 착좌부(200)가 미스트에 의해 젖는 것을 억제할 수 있고, 사용자가 착좌부(200)에 착좌했을 때나, 착좌부(200)를 손으로 회동시켰을 때에 사용자의 둔부나 손이 착좌부(200)에 착수한 미스트에 접촉하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 본원 명세서에 있어서 「착수한 미스트」란 미스트가 착수한 후에 응집하는 것 등에 의해 형성되는 수적이나 수막을 포함한다.

예를 들면, 프리미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)는 분무 장치(481)의 디스크(481b)의 회전 속도를 제어함으로써 미스트의 속도(미립자(p)가 비행하는 속도)나, 미스트의 입경을 제어한다. 예를 들면, 미스트의 속도가 높을수록 미스트는 직진 상태를 유지하기 쉽다.

도 11(및 후술하는 도 14, 도 17, 도 20, 도 24, 도 25, 도 27, 도 28, 도 30, 도 31)에서는 분무 장치(481)로부터 분무되는 미스트(M)의 경로를 화살표에 의해 나타내고 있다. 화살표가 굵을수록 미스트의 양이 많은 것을 나타낸다. 도 11에 나타내는 바와 같이 미스트가 분무되는 범위는 상하로 넓어짐을 갖는다.

도 12는 실시형태에 의한 분무 장치가 분무하는 미스트를 예시하는 모식도이다.

분무 장치(481)로부터 분무된 미스트의 입경은 분포를 갖는다. 예를 들면, 도 12에 나타내는 바와 같이 분무 장치(481)로부터는 소입경의 미스트(M1)(수돗물 또는 제균수의 미립자(p1))와, 중입경 또는 대입경의 미스트(M2)(수돗물 또는 제균수의 미립자(p2))가 분무된다. 미스트(M2)의 미립자(p2)는 자체 중량이 크기 때문에 수평 또는 하방으로 진행하기 쉽다. 한편, 미스트(M1)의 미립자(p1)는 자체 중량이 작기 때문에 기류의 영향에 의해 상방으로 진행하는 경우가 있다.

이 때문에 도 11에 나타낸 바와 같이 전단측 비세정 영역(801F)에 착수하는 미스트의 양에도 분포가 생긴다. 전단측 비세정 영역(801F) 중 가장 많은 미스트가 직접 착수하는 부분이 볼륨 존(BZ)이다. 실시형태에 있어서는 볼륨 존(BZ)에 도달하는 미스트가 직진 상태를 유지하도록 제어 장치(405)는 분무 장치(481)를 제어한다.

도 13은 미스트의 직진 상태를 설명하기 위한 모식도이다.

분무 장치(481)로부터 분무된 미스트가 직진 상태를 유지하고 있는지 아닌지는 이하와 같이 해서 판정된다.

분무 장치(481)(디스크(481b))로부터 수평방향으로 거리(L)만큼 떨어진 위치에 분무 대상물(OB)이 배치되어 있다. 거리(L)는 예를 들면, 분무 장치(481)와 전단측 비세정 영역(801F) 사이의 수평방향을 따른 거리(300~400mm 정도)이다.

분무 장치(481)로부터 분무 대상물(OB)에 미스트를 분무하고, 분무 대상물(OB)에 있어서의 미스트의 착수 포인트(Pt1)를 측정한다. 착수 포인트(Pt1)란 분무 대상물(OB) 중 가장 많은 미스트가 직접 착수하는 포인트이다. 예를 들면, 감 수 시험지 또는 투명한 판 등으로 미스트를 받고, 수적의 분포를 관찰함으로써 착수 포인트(Pt1)를 가시화할 수 있다.

분무 장치(481)가 미스트를 분무하는 분무방향(Ds)(분무 각도(θs))를 측정한다. 분무방향(Ds)은 분무 장치(481)의 근방에 있어서 가장 많은 미스트가 분무되는 방향이다. 또한, 분무 장치(481)의 근방이란 분무 장치(481)로부터의 거리가 예를 들면 50mm 이내의 범위이다. 예를 들면, 분무방향(Ds)은 미스트를 분무하고 있는 분무 장치(481)의 화상을 취득하고, 화상 처리에 의해 측정할 수 있다. 또는, 미스트에 시트 레이저를 조사함으로써 분무된 미스트를 가시화하고, 분무방향(Ds)을 측정해도 좋다. 분무 각도(θs)는 수평방향과 분무방향(Ds) 사이의 각도이다.

분무 장치(481)로부터 분무방향(Ds)으로 연장되는 직선(L1)과 분무 대상물(OB)의 교점(Pt2)의 높이(h1)를 산출한다. 높이(h1)는 분무 장치(481)와 교점(Pt2) 사이의 상하방향을 따른 거리이며, L×tanθs에 의해 산출된다. 또한, 실제의 착수 높이(h2)를 측정한다. 착수 높이(h2)는 분무 장치(481)와 착수 포인트(Pt1) 사이의 상하방향을 따른 거리이다.

착수 높이(h2)가 높이(h1)와 같을 경우, 분무 장치(481)로부터 분무된 미스트가 직진 상태를 유지한 채 분무 대상물(OB)에 도달했다고 판정한다. 또한, 착수 높이(h2)가 높이(h1)와 같다는 범위는 착수 높이(h2)와 높이(h1)의 차가 20mm 이내일 경우를 포함하는 것으로 한다.

도 14는 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.

도 14는 도 11에 나타낸 전단측 비세정 영역(801F)의 주변을 확대해서 나타낸다.

도 14에 나타내는 바와 같이 전단측 비세정 영역(801F)은 상부 영역(821)과 하부 영역(822)을 갖는다. 또한, 상부 영역(821)은 R부(823)와 미스트 가이드부(824)를 갖는다.

R부(823)는 전단측 비세정 영역(801F)의 상단을 포함하고, 보울부(801)의 내측을 향하는 하향 경사를 갖는 곡면 형상이다. 미스트 가이드부(824)는 R부(823)의 하방에 설치되고, 보울부(801)의 외측을 향하는 하향 경사를 갖는다. 또는, 미스트 가이드부(824)는 연직방향으로 연장되어 있어도 좋다. 미스트 가이드부(824)는 R부(823)와 연속되어 있다.

R부(823)는 림 상면(806)의 근방에 위치한다. 그 때문에 분무 장치(481)가 미스트를 분무하는 분무방향(Ds)이 R부(823)에 많은 미스트가 착수하는 방향의 경우, 림 상면(806)이 젖기 쉽다. 이 경우, 림 상면(806)에 착수한 미스트가 대변기(800)의 밖으로 떨어질 우려가 있다. 또한, R부(823)는 보울부(801)의 내측을 향하는 하향 경사를 갖기 때문에 R부(823)에 도달한 미스트는 R부(823)에 있어서 반사되어서 림 상면(806)측으로 비산하기 쉽다. 특히, 미스트가 직진 상태를 유지한 채 비세정 영역(801B)에 도달하도록 미스트의 속도를 높게 하면 미스트가 비산하기 쉬워져 버린다.

이에 대해 실시형태에 있어서는 분무 장치(481)가 미스트를 분무하는 분무방향(Ds)은 분무 장치(481)로부터 분무되어 직진 상태를 유지한 채 전단측 비세정 영역(801F)까지 도달하는 미스트가 R부(823)보다 하방에 착수하도록 설정되어 있다. 이에 따라 R부(823)의 상방에 위치하는 림 상면(806)에 착수하는 미스트의 양을 적게 할 수 있다. 또한, 직진 상태를 유지하기 위해서 미스트의 속도를 높게 했을 경우이어도 미스트가 림 상면(806)측으로 비산하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 도 14에 나타내는 예에서는 미스트 가이드부(824)는 보울부(801)의 외측을 향하는 하향 경사를 갖고, 전단측 비세정 영역(801F)에 도달한 미스트를 하방으로 유도한다. 예를 들면, 미스트 가이드부(824)에 도달한 미스트는 하방을 향해 반사된다. 이에 따라 미스트가 직진 상태를 유지한 채 전단측 비세정 영역(801F)에 도달하도록 미스트의 속도를 높게 했을 경우이어도 미스트가 림 상면(806)측으로 비산하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 미스트를 분무하는 분무부(예를 들면, 디스크(481b))는 착좌부(200)의 일부의 하방에 설치되어 있다. 그리고, 분무 장치(481)가 미스트를 분무하는 분무방향(Ds)은 전단측 비세정 영역(801F)을 향하는 비스듬히 하방으로 설정되어 있다. 이에 따라 전단측 비세정 영역(801F)에 도달한 미스트는 하방으로 비산하기 쉬워진다. 즉, 미스트는 전단측 비세정 영역(801F)에 있어서 하방을 향해 반사되기 쉽다. 따라서, 미스트가 직진 상태를 유지한 채 전단측 비세정 영역(801F)에 도달하도록 미스트의 속도를 높게 했을 경우이어도 미스트가 림 상면(806)측으로 비산하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 분무 장치(481)는 분무부(예를 들면, 디스크(481b))와 전단측 비세정 영역(801F)을 연결하는 가상적인 선분(L2)(도 11 참조)이 착좌부(200)와 교차하지 않도록 배치되어 있다. 그리고, 분무방향(Ds)은 직진 상태를 유지한 채 전단측 비세정 영역(801F)까지 도달하는 미스트가 선분(L2)을 따라 분무되도록 설정되어 있다. 이에 따라 미스트에 의해 착좌부(200)가 젖는 것을 억제하면서 비세정 영역(801B)에 미스트를 착수시킬 수 있다.

또한, 프리미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)는 전단측 비세정 영역(801F)의 상부 영역(821)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량이 전단측 비세정 영역(801F)의 하부 영역(822)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량보다 적어지도록 분무 장치(481)를 제어하고 있다.

구체적으로는 예를 들면, 프리미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)는 하부 영역(822)에 직접 착수하는 미스트의 입경이 상부 영역(821)에 직접 착수하는 미스트의 입경보다 커지도록 분무 장치(481)를 제어한다. 하부 영역(822)에 직접 착수하는 미스트의 입경을 크게 함으로써 하부 영역(822)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 많게 할 수 있다. 또한, 상부 영역(821)에 직접 착수하는 미스트의 입경을 작게 함으로써 하부 영역(822)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 적게 할 수 있다.

이 때, 상부 영역(821)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량이 예를 들면, 1(μL/㎠) 정도의 착수량이면 상부 영역(821)에 있어서의 오물의 부착이나 고착을 억제할 수 있음과 아울러 림 상면(806)이나 착좌부(200)에 미스트가 비산하는 것을 억제할 수 있다. 이에 따라 림 상면(806)에 착수한 미스트가 대변기 밖으로 떨어지는 것을 억제할 수 있다. 또한, 착좌부(200)가 미스트에 의해 젖는 것을 억제할 수 있고, 사용자가 착좌부(200)에 착좌했을 때나, 착좌부(200)를 손으로 회동시켰을 때에 사용자의 둔부나 손이 착좌부(200)에 착수한 미스트에 접촉하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 하부 영역(822)에 있어서는 림 상면(806)이나 착좌부(200)에 미스트가 비산할 우려가 낮기 때문에 하부 영역(822)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량을 상부 영역(821)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량보다 비교적 많게 함으로써 하부 영역(822)에 있어서의 오물의 부착이나 고착을 보다 억제할 수 있다.

도 15(a)~도 15(c)는 비세정 영역의 상부 영역 및 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량의 측정 방법을 설명하기 위한 모식도이다.

우선, 전단측 비세정 영역(801F)의 상부 영역(821)을 포함하는 제 1 측정 개소(SU)와, 전단측 비세정 영역(801F)의 하부 영역(822)을 포함하는 제 2 측정 개소(SL)를 설정한다. 제 1 측정 개소(SU) 및 제 2 측정 개소(SL)의 좌우방향의 범위는 각각 비세정 영역(801B)의 선단을 중심으로 한 폭 100mm의 범위이다. 또한, 제 1 측정 개소(SU)의 상하방향의 범위는 상부 영역(821)의 상하방향의 범위와 대략 같고, 제 2 측정 개소(SL)의 상하방향의 범위는 하부 영역(822)의 상하방향의 범위와 대략 같다.

미스트를 전단측 비세정 영역(801F)에 분무하고 나서 규정 시간 후에 제 1 측정 개소(SU) 및 제 2 측정 개소(SL)의 각각을 킴타올(NIPPON PAPER CRECIA CO., LTD.제)로 닦아낸다. 이에 따라 제 1 측정 개소(SU) 및 제 2 측정 개소(SL)의 각각에 착수한 미스트를 킴타올에 흡수시킨다.

또한, 미스트를 분무하는 규정 시간은 미스트의 분무 유량(Q)(L/min)에 따라 정해진다. 분무 유량(Q)이 Q<0.03L/min으로 되는 경우, 규정 시간은 10초로 한다. 분무 유량(Q)이 0.03L/min≤Q<0.2L/min으로 되는 경우, 규정 시간은 4초로 한다. 분무 유량(Q)이 Q≥0.2L/min으로 되는 경우, 규정 시간은 2초로 한다.

제 1 측정 개소(SU)에 착수한 미스트를 흡수한 킴타올의 중량과 미스트를 착수시키기 전의 상기 킴타올의 중량의 차가 제 1 측정 개소(SU)에 착수한 미스트의 착수량이다. 제 1 측정 개소(SU)에 착수한 미스트의 착수량을 제 1 측정 개소(SU)의 면적으로 나눈 값을 상부 영역(821)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량으로 한다.

마찬가지로, 제 2 측정 개소(SL)에 착수한 미스트를 흡수한 킴타올의 중량과, 미스트를 착수시키기 전의 상기 킴타올의 중량의 차가 제 2 측정 개소(SL)에 착수한 미스트의 착수량이다. 제 2 측정 개소(SL)에 착수한 미스트의 착수량을 제 2 측정 개소(SL)의 면적으로 나눈 값을 하부 영역(822)에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량으로 한다.

또한, 킴타올로 각 측정 개소를 닦아내는 대신에 각 측정 개소에 킴타올을 붙인 상태에서 분무를 행하고, 킴타올에 미스트를 흡수시켜도 좋다. 예를 들면, 원래 넷으로 접힘으로 형성된 킴타올을 펼치고, 접혀 있지 않은 상태로 한 킴타올을 각 측정 개소를 따르는 형태로 커팅한다. 커팅한 킴타올을 각 측정 개소에 붙인다.

또한, 상기 예에서는 R부(823) 및 미스트 가이드부(824)를 상부 영역(821)으로 하고, 미스트 가이드부(824)의 하단보다 하방을 하부 영역(822)으로 하고 있다. 이것에 한정되지 않고 상부 영역(821)과 하부 영역(822)의 경계는 전단측 비세정 영역(801F)의 상하방향에 있어서의 중앙으로 해도 좋다. 즉, 전단측 비세정 영역(801F)의 상하방향에 있어서의 중앙보다 상측을 상부 영역(821)으로 하고, 전단측 비세정 영역(801F)의 상하방향에 있어서의 중앙보다 하측을 하부 영역(822)으로 해도 좋다.

도 16(a) 및 도 16(b)는 실시형태에 의한 대변기의 전단측 비세정 영역을 예시하는 단면도이다.

도 16(a)에 나타내는 바와 같이 상부 영역(821)은 보울부(801)의 외측을 향해 하향 경사진 경사면(미스트 가이드부(824))을 갖는다. 이미 말한 바와 같이, 미스트 가이드부(824)(상부 영역(821)의 경사면)는 미스트를 하방으로 유도한다.

한편, 도 16(b)에 나타내는 바와 같이 하부 영역(822)은 보울부(801)의 내측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖는다. 이에 따라 하부 영역(822)은 하부 영역(822)에 도달한 미스트를 상방으로 유도한다. 이에 따라 하부 영역(822)의 도달한 미스트의 일부를 상부 영역(821)에 착수시키고, 상부 영역(821)에 있어서의 착수량(간접 착수량)을 많게 할 수 있다. 또한, 하부 영역(822)의 경사면 위에는 상부 영역(821)의 경사면이 형성되어 있기 때문에 하부 영역(822)의 경사면에 의해 상방으로 유도된 미스트가 상부 영역(821)을 넘어서 림 상면(806)까지 비산하는 것은 억제되고 있다.

예를 들면, 상부 영역(821)의 경사 각도(θ1)는 하부 영역(822)의 경사 각도(θ2)보다 크다. 경사 각도(θ1)는 연직방향과 상부 영역(821)의 경사면(미스트 가이드부(824)) 사이의 각도이다. 경사 각도(θ2)는 연직방향과 하부 영역(822)의 경사면 사이의 각도이다.

경사 각도(θ1)가 큰 것에 의해 상부 영역(821)에 도달한 미스트를 보다 적극적으로 하방으로 유도할 수 있다. 또한, 경사 각도(θ2)가 작은 것에 의해 하부 영역(822)에 의해 상방으로 유도되는 미스트의 양을 억제할 수 있다. 경사 각도(θ1)가 경사 각도(θ2)보다 큰 것에 의해 하부 영역(822)에 의해 상부 영역(821)으로 유도된 미스트는 상부 영역(821)의 경사면에 있어서 감속하기 때문에 림 상면(806)까지 비산하지 않는다.

도 17(a) 및 도 17(b)는 변좌 장치의 프리미스트 모드 및 오토 변기 덮개 열림 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.

제어 장치(405)는 검지 센서(402)가 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로부터 사용자를 검지하고 있는 상태로 되었을 때에 자동적으로 변기 덮개용 모터(512)를 제어해서 변기 덮개(300)를 닫힌 상태로부터 열린 상태로 하는 오토 변기 덮개 열림 모드를 실행가능하다.

예를 들면, 사용자가 화장실에 없을 경우, 변기 덮개(300)는 닫힌 상태이다. 그 후, 사용자가 화장실에 입실해서 인체 검지 센서(403)가 사용자의 입실을 검지하면 제어 장치(405)는 오토 변기 덮개 열림 모드를 실행한다. 또한, 제어 장치(405)는 오토 변기 덮개 열림 모드의 실행 중에 프리미스트 모드를 실행한다.

예를 들면, 오토 변기 덮개 열림 모드가 실행되고, 도 17(a) 및 도 17(b)의 화살표(A6)와 같이 변기 덮개(300)가 열리면 보울부(801) 내 및 보울부(801)의 주변에는 변기 덮개(300)의 열림 동작에 따라 상승 기류(f1)가 발생한다. 도 17(a)의 예에서는 프리미스트 모드에 의해 분무된 미스트(M)의 일부가 상승 기류(f1)를 타고 보울부(801)보다 상방까지 상승하고 있다. 이 경우, 보울부(801)보다 상방까지 상승한 미스트가 착좌부(200)나 림 상면(806)에 착수해 버린다.

이에 대해 도 17(b)의 예에서는 제어 장치(405)는 전단측 비세정 영역(801F)을 향해 비행하는 미스트가 상승 기류(f1)에 의해 보울부(801)보다 상방으로 상승하지 않도록 분무 장치(481)가 분무하는 미스트의 입경을 제어하고 있다. 구체적으로는 제어 장치(405)는 예를 들면, 미스트의 입경이 지나치게 작아지지 않도록 분무 장치(481)의 디스크(481b)의 회전 속도를 제한한다.

이에 따라 오토 변기 덮개 열림 모드에 의해 상승 기류(f1)가 발생해도 림 상면(806)이나 착좌부(200)에 미스트가 착수하는 것을 억제하면서 비세정 영역(801B)에 미스트를 도달시킬 수 있다. 따라서, 림 상면(806)에 착수한 미스트가 대변기(800)의 밖으로 떨어지는 것을 억제할 수 있다. 또한, 착좌부(200)가 미스트에 의해 젖는 것을 억제할 수 있고, 사용자가 착좌부(200)에 착좌했을 때나, 착좌부(200)를 손으로 회동시켰을 때에 사용자의 둔부나 손이 착좌부(200)에 착수한 미스트에 접촉하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 미스트가 상승 기류(f1)에 의해 보울부(801)보다 상방으로 상승하지 않는다는 범위는 모든 미스트가 보울부(801)보다 상방으로 상승하지 않는 경우뿐만 아니라 사용자에게 불쾌감을 생기게 하지 않을 정도의 약간의 미스트가 보울부(801)보다 상방으로 상승하는 경우를 포함해도 좋은 것으로 한다.

도 18은 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 타이밍차트이다.

도 19(a) 및 도 19(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 평면도이다.

도 18에 나타내는 바와 같이, 예를 들면 시각(T1)에 있어서 인체 검지 센서(403) 등의 입실 검지 수단에 의해 사용자의 입실이 검지된다. 그러면, 제어 장치(405)는 오토 변기 덮개 열림 모드 및 프리미스트 모드의 실행을 개시한다. 이에 따라 닫힘 상태의 변기 덮개(300)가 열리기 시작하고, 미스트의 보울부(801) 내로의 분무가 개시된다. 변기 덮개(300)의 열림 동작은 시각(T1)으로부터 시각(T4)까지 계속되고, 시각(T4)에 있어서 변기 덮개(300)가 완전 열림 상태로 된다.

도 19(b)는 시각(T1)으로부터 시각(T2)까지의 사이에 있어서 분무 장치(481)로부터 분무된 미스트가 착수하는 범위를 예시하고 있다. 이렇게 프리미스트 모드 및 오토 변기 덮개 열림 모드의 개시 직후의 시간대에서는 제어 장치(405)는 보울부(801) 중 비세정 영역(801B) 이외의 영역(세정 영역(801A))에 미스트가 착수하도록 분무 장치(481)를 제어한다.

도 19(a)는 시각(T2)으로부터 시각(T3)까지의 사이에 있어서 분무 장치(481)로부터 분무된 미스트가 착수하는 범위를 예시하고 있다. 시각(T2)으로부터 시각(T3)까지의 사이에서는 제어 장치(405)는 비세정 영역(801B)에 미스트가 착수하도록 분무 장치(481)를 제어한다.

그 후, 시각(T3)으로부터 시각(T4)까지의 사이에 있어서는 제어 장치(405)는 다시 세정 영역(801A)에 미스트가 착수하도록 분무 장치(481)를 제어한다.

그리고, 시각(T4)의 후의 시각(T5)까지, 오토 변기 덮개 열림 모드 및 프리미스트 모드가 종료된다. 예를 들면, 시각(T5)에 사용자가 착좌부(200)에 착좌한다.

오토 변기 덮개 열림 모드에 의한 변기 덮개(300)의 열림 동작에 따라 발생하는 상승 기류(f1)의 크기는 변기 덮개(300)가 닫힌 상태로부터 열린 직후(즉, 변기 덮개가 열리기 시작하는 시기)에 가장 커지기 쉽다. 이에 대해 실시형태에 있어서는 제어 장치(405)는 오토 변기 덮개 열림 모드의 실행 개시 후에 전단측 비세정 영역(801F)을 향하는 미스트의 분무를 개시한다. 즉, 도 18에 나타낸 바와 같이, 오토 변기 덮개 열림 모드가 개시하는 시각(T1)의 후의 시각(T2)에 전단측 비세정 영역(801F)으로의 미스트의 분무가 개시된다. 이에 따라 상승 기류(f1)에 의해 미스트가 보울부(801)보다 상방으로 상승하는 것을 보다 억제할 수 있다.

또한, 오토 변기 덮개 열림 모드에 의한 변기 덮개(300)의 열림 동작에 따라 발생하는 상승 기류(f1)의 크기는 변기 덮개(300)가 열리는 속도가 높으면 커지기 쉽다. 이에 대해 도 18에 나타내는 바와 같이 제어 장치(405)는 오토 변기 덮개 열림 모드의 실행 개시 직후의 제 1 시간대(시각(T1)으로부터 시각(T2)까지)에 있어서 변기 덮개(300)가 열리는 속도가 제 1 시간대의 후의 제 2 시간대(시각(T2)으로부터 시각(T3)까지)에 있어서 변기 덮개(300)가 열리는 속도보다 낮아지도록 변기 덮개용 모터(512)를 제어한다. 이에 따라 오토 변기 덮개 열림 모드의 개시 직후에 있어서 상승 기류(f1)를 작게 할 수 있다. 따라서, 오토 변기 덮개 열림 모드에 의한 상승 기류(f1)에 의해 미스트가 보울부(801)보다 상방으로 상승하는 것을 보다 억제할 수 있다.

또한, 제어 장치(405)는 오토 변기 덮개 열림 모드의 실행 개시 직후의 제 3 시간대(시각(T1)으로부터 시각(T2)까지)에 있어서 미스트가 전단측 비세정 영역(801F) 이외의 영역에 착수하고, 제 3 시간대의 후의 제 4 시간대(시각(T2)으로부터 시각(T3)까지)에 있어서 미스트가 전단측 비세정 영역(801F)에 착수하도록 분무 장치(481)를 제어한다. 이에 따라 오토 변기 덮개 열림 모드에 의한 상승 기류(f1)에 의해 미스트가 보울부(801)보다 상방으로 상승하는 것을 보다 억제할 수 있다.

도 20(a) 및 도 20(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.

도 20(b)는 도 20(a)에 나타내는 영역(R4)의 확대도이다.

파선의 화살표는 송풍 장치(513)에 의해 형성되는 기류를 나타낸다(후술하는 도 24, 도 27, 도 28, 도 30에 있어서도 같음). 도 20(a)에 나타내는 바와 같이 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서 송풍 장치(513)는 전방 또한 하방을 향해 송풍한다. 송풍 장치(513)로부터 보내어진 공기의 적어도 일부는 대변기(800) 내(세정 영역(801A) 또는 비세정 영역(801B))에 닿아 상방으로 향한다. 이에 따라 착좌부(200)보다 하방의 대변기(800) 내로부터 착좌부(200)의 상방으로 감겨 올라가는 상승 기류(U1)가 형성된다.

예를 들면, 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서 일부의 미스트는 분무 장치(481)로부터 비세정 영역(801B)을 향해 방사된다. 또한, 입경이 비교적 큰 미스트는 세정 영역(801A)에 착수한다. 입경이 비교적 작은 미스트는 상승 기류(U1)에 의해 림 상면(806), 착좌부(200) 및 변기 덮개(300) 등에 착수한다. 이에 따라 비세정 영역(801B), 림 상면(806), 착좌부(200) 및 변기 덮개(300) 등을 포함하는 토일렛 장치(10)의 구석구석까지를 제균할 수 있다.

일반적으로 수돗물에는 스케일 성분(예를 들면, 나트륨, 칼슘, 칼륨, 마그네슘 등)이 포함되는 경우가 있다. 이 경우, 수돗물로부터 생성된 제균수의 미스트에도 스케일 성분이 포함된다. 스케일 성분을 포함하는 미스트가 변좌 장치(100) 등에 착수한 후에 증발하면 미스트가 착수하고 있었던 부분에 스케일이 석출되고, 단기간에 목시가능한 물때 오염이 발생해 버리는 경우가 있다.

그래서, 변좌 장치(100)의 일실시형태에 있어서 애프터미스트 모드는 대변기(800) 및 착좌부(200)에 미스트를 분무하는 모드(제 2 모드)뿐만 아니라 대변기(800) 내에만 미스트를 분무하는 제 1 모드를 갖는다. 1회의 애프터미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)는 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 한쪽을 실행한다.

예를 들면, 제 1 모드에 있어서 제어 장치(405)는 대변기(800) 내(세정 영역(801A) 및 비세정 영역(801B))에만 미스트가 착수하도록 송풍 장치(513)를 정지시키거나, 미스트의 입경을 제어하거나 한다. 제 1 모드에 있어서는 대변기(800) 내에 제균수의 미스트를 분무함으로써 대변기(800) 내에 있어서 균이나 오염이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 대변기(800) 내에 착수한 미스트에 포함되는 스케일 성분은 대변기(800) 내에 흘려지는 세정수에 의해 씻어내어진다. 그 때문에 대변기(800) 내에만 미스트를 분무하는 제 1 모드에 의해 대변기(800) 내의 균이나 오염의 발생을 억제함과 아울러 스케일 성분에 기인한 목시가능한 물때 오염이 림 상면(806), 착좌부(200), 변기 덮개(300) 등에 발생하는 것을 억제할 수 있다.

한편, 제 2 모드에 있어서 제어 장치(405)는 예를 들면, 도 20의 예와 같이 착좌부(200) 등에 미스트가 착수하도록 송풍 장치(513)를 작동시키거나, 미스트의 입경을 제어하거나 한다. 제 2 모드에 있어서는 대변기(800) 내 및 착좌부(200)에 제균수의 미스트를 분무함으로써 대변기(800) 내뿐만 아니라 착좌부(200)에 있어서도 균이나 오염이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

그리고, 애프터미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)가 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 하나를 실행함으로써 제 2 모드를 매회 실행하는 경우에 비해 착좌부(200)에 미스트가 부착되는 빈도를 낮게 할 수 있다. 이에 따라 부착된 미스트가 증발함으로써 석출되는 스케일이 목시가능한 물때 오염으로 성장할 때까지의 기간을 길게 할 수 있다. 따라서, 착좌부(200), 변기 덮개(300), 림 상면(806) 등의 세정수가 흐르지 않는 영역에 있어서 단기간에 목시가능한 물때 오염이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 애프터미스트 모드에 있어서 제 1, 2 모드 중 어느 것이 실행되어도 오염이 발생하기 쉬운 대변기(800) 내에는 제균수의 미스트가 분무되기 때문에 애프터미스트 모드를 실행함으로써 사용자에 의한 청소의 빈도를 확실하게 저감할 수 있다. 또한 착좌부(200)는 대변기(800) 내에 비해 오염이 발생하기 어려운 부위이기 때문에 제균수의 미스트를 매회 착좌부(200)에 분무하지 않아도 목시가능한 오염은 발생하기 어렵다.

또한, 제 1 모드에 있어서 대변기(800) 내에만 미스트가 착수한다는 범위에는 모든 미스트가 대변기(800) 내에 착수하는 경우뿐만 아니라 목시가능한 물때 오염에 기여하지 않을 정도의 약간의 미스트가 착좌부(200) 등에 착수하는 경우를 포함해도 좋은 것으로 한다.

도 21은 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 플로우차트이다.

사용자가 화장실 내에 있는 동안은 애프터미스트 모드는 실행되지 않는다(스텝 S101: No). 사용자가 화장실로부터 퇴실해서 검지 센서(402)가 사용자를 검지하고 있는 상태로부터 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로 되면(스텝 S101: Yes), 제어 장치(405)는 착좌부(200) 및 변기 덮개(300)를 닫고, 애프터미스트 모드를 개시한다.

이 때, 제어 장치(405)는 애프터미스트 모드의 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 것을 실행할지를 자동으로 판단한다(스텝 S102). 이에 따라 사용자가 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 하나를 매회 선택하지 않아도 좋기 때문에 사용자의 부담을 작게 할 수 있다.

예를 들면, 스텝 S102에 있어서 제어 장치(405)는 제 2 모드의 실행 빈도가 제 1 모드의 실행 빈도보다 낮아지도록 판단한다. 제 2 모드의 실행 빈도가 낮은 것에 의해 스케일 성분을 포함하는 미스트가 착좌부(200)에 부착되는 양을 적게 할 수 있다. 따라서, 스케일이 석출되어서 목시가능한 물때 오염으로 성장할 때까지의 기간을 길게 할 수 있다.

보다 구체적으로는 제어 장치(405)는 예를 들면, 전회의 제 2 모드의 실행으로부터 소정 시간 경과했을 경우, 또는 전회의 제 2 모드의 실행 후에 제 1 모드를 소정 횟수 실행했을 경우(스텝 S102: Yes), 제 2 모드를 다시 실행하고(스텝 S103), 애프터미스트 모드가 종료된다. 이에 따라 제 2 모드가 정기적으로 실행되기 때문에 목시가능한 물때 오염이 단기간에 발생하는 것을 억제하면서 오물에 의한 균이나 오염의 발생을 억제할 수 있다.

한편, 제어 장치(405)는 전회의 제 2 모드의 실행으로부터 소정 시간이 경과하고 있지 않은 경우, 또는 전회의 제 2 모드의 실행 후에 제 1 모드를 소정 횟수실행하고 있지 않은 경우(스텝 S102: No), 제 1 모드를 실행하고(스텝 S104), 애프터미스트 모드가 종료된다. 또한, 스텝 S102에 있어서의 소정 시간이나 소정 횟수는 수돗물에 포함되는 스케일 성분의 농도나 미스트의 분무량을 고려해서 물때 오염이 단기간에 발생하지 않도록 적당히 정하면 좋다.

도 22는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드에 있어서의 다른 동작을 예시하는 플로우차트이다.

애프터미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)는 사용자의 수동 조작에 의한 선택에 의거하여 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 것을 실행할지를 판단해도 좋다. 예를 들면, 수동 조작부(500)에는 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 것을 실행할지를 사용자가 선택하기 위한 스위치 또는 버튼 등이 설치된다.

사용자는 수동 조작부(500)에 있어서 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 하나를 선택하는 입력 조작을 행한다. 그리고, 제어 장치(405)는 사용자가 어느 쪽의 모드를 선택했는지를 나타내는 정보를 수신한다(스텝 S201).

사용자가 수동 조작부(500)에 있어서 제 1 모드를 선택했을 경우에 검지 센서가 사용자의 퇴실을 검지하면(스텝 S202: Yes) 제어 장치(405)는 제 1 모드를 실행하고(스텝 S203), 애프터미스트 모드가 종료된다. 또한, 사용자의 퇴실이 검지되지 않을 경우는 애프터미스트 모드는 실행되지 않는다(스텝 S202: No).

사용자가 수동 조작부(500)에 있어서 제 2 모드를 선택했을 경우에 검지 센서가 사용자의 퇴실을 검지하면(스텝 S204: Yes) 제어 장치(405)는 제 2 모드를 실행하고(스텝 S205), 애프터미스트 모드가 종료된다. 또한, 사용자의 퇴실이 검지되지 않을 경우는 애프터미스트 모드는 실행되지 않는다(스텝 S204: No).

이렇게 애프터미스트 모드에 있어서 제어 장치(405)는 수동 조작부(500)에 있어서의 사용자의 선택에 의거하여 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 한쪽을 실행한다. 즉, 사용자는 수동 조작부(500)를 조작함으로써 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 것을 실행할지를 미리 설정해 둘 수 있다.

예를 들면, 설정이 변경되지 않으면 제어 장치(405)는 애프터미스트 모드에 있어서 제 1 모드 또는 제 2 모드의 한쪽을 매회 실행하게 된다. 수돗물에 포함되는 스케일 성분의 농도는 지역에 따라 다르다. 스케일 성분의 농도가 낮은 지역에서는 착좌부(200)에 미스트를 분무하는 제 2 모드를 매회 실행해도 스케일 성분에 기인한 목시가능한 물때 오염이 발생할 때까지 기간은 길다. 이러한 지역에서는 애프터미스트 모드에 있어서 제 2 모드를 실행함으로써 오물에 의한 균이나 오염의 발생을 억제하고, 청소의 빈도를 줄일 수 있다. 한편, 스케일 성분의 농도가 높은 지역에서는 착좌부(200)에도 미스트를 분무하는 제 2 모드를 실행하면 스케일 성분에 기인한 목시가능한 물때 오염이 단기간에 발생하기 쉽다. 이러한 지역에서는 착좌부(200)에 미스트를 분무하는 제 2 모드를 실행하지 않는 쪽이 청소의 빈도를 줄일 수 있다. 사용자가 수동 조작부(500)에 의해 제 1 모드 및 제 2 모드 중 어느 것을 실행할지를 선택함으로써 수돗물에 포함되는 스케일 성분의 농도가 높은 지역 및 낮은 지역의 양쪽에 있어서 청소의 빈도를 낮게 할 수 있다.

또한, 수동 조작부(500)에는 제 1 모드의 실행 빈도 및 제 2 모드의 실행 빈도 중 적어도 어느 하나를 사용자가 선택하기 위한 스위치 또는 버튼 등이 설치되어 있어도 좋다. 예를 들면, 전회의 제 2 모드의 실행으로부터 소정 시간 경과했을 경우에 제 2 모드를 실행할 경우, 사용자는 수동 조작부(500)에 있어서 그 소정 시간을 선택할 수 있다. 또한, 예를 들면 전회의 제 2 모드의 실행 후에 제 1 모드를 소정 횟수 실행했을 경우에 제 2 모드를 실행할 경우, 사용자는 수동 조작부(500)에 있어서 그 소정 횟수를 선택할 수 있다. 제어 장치(405)는 수동 조작부(500)에 있어서의 사용자의 선택(설정된 빈도)에 의거하여 제 1 모드 및 제 2 모드 중 적어도 어느 하나를 실행한다. 이에 따라 변좌 장치(100)가 사용되는 지역의 수돗물에 포함되는 스케일 성분의 농도 등에 따라 청소의 빈도가 낮아지도록 제 1 모드의 실행 빈도 또는 제 2 모드의 실행 빈도를 선택할 수 있다.

도 23은 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드에 있어서의 다른 동작을 예시하는 플로우차트이다.

도 23에 나타내는 예에서는 애프터미스트 모드는 제균수의 미스트를 대변기(800) 내에만 분무하도록 제어된다. 바꿔 말하면, 상술의 제 1 모드가 매회 실행된다. 또한, 도 23은 수동 미스트 모드에 있어서의 동작도 예시하고 있다. 이 예에 있어서, 수동 미스트 모드는 도 9 및 도 20에 관해서 설명한 예와 마찬가지로 제균수의 미스트를 대변기(800) 내 및 착좌부(200)에 분무한다.

사용자가 화장실로부터 퇴실해서 검지 센서(402)가 사용자를 검지하고 있는 상태로부터 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로 되면(스텝 S301: Yes) 제어 장치(405)는 애프터미스트 모드를 개시한다. 대변기(800) 내에만 제균수의 미스트가 분무되고(스텝 S302), 애프터미스트 모드가 종료된다. 애프터미스트 모드에 있어서 착좌부(200) 등에는 제균수를 분무하지 않음으로써 스케일 성분에 기인한 목시가능한 물때 오염이 단기간에 발생하는 것을 억제할 수 있다.

사용자가 화장실로부터 퇴실하지 않을 경우(스텝 S301: No), 사용자가 수동 조작부(500)를 조작하면(스텝 S303: Yes) 제어 장치(405)는 수동 미스트 모드를 개시한다. 대변기(800) 및 착좌부(200)에 제균수의 미스트가 분무되고(스텝 S304), 수동 미스트 모드가 종료된다. 또한, 사용자가 수동 조작부(500)를 조작하지 않을 경우(스텝 S303: No), 수동 미스트 모드는 실행되지 않는다.

수동 미스트 모드는 사용자가 미스트 후 페이퍼 등으로 닦아내는 모드이기 때문에 수동 미스트 모드의 실행 빈도는 애프터미스트 모드의 실행 빈도에 비해 낮은 경향이 있다. 그 때문에 도 23에 나타내는 예와 같이 애프터미스트 모드에 있어서는 대변기(800) 내에만 미스트를 분무하고, 수동 미스트 모드에 있어서는 대변기(800) 내 및 착좌부(200)에 미스트를 분무함으로써 착좌부(200)에 미스트가 부착되는 빈도를 낮게 할 수 있다. 이에 따라 부착된 미스트가 증발함으로써 석출되는 스케일 성분이 목시가능한 물때 오염에 성장할 때까지의 기간을 길게 할 수 있다. 따라서, 착좌부(200) 등의 세정수가 흐르지 않는 영역에 있어서 단기간에 목시가능한 물때 오염이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

도 24(a) 및 도 24(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드 및 애프터미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.

도 24(a)에 나타내는 바와 같이 프리미스트 모드는 수돗물 또는 제균수의 미스트를 세정 영역(801A) 및 비세정 영역(801B)에 분무하고, 수돗물 또는 제균수를 세정 영역(801A) 및 비세정 영역(801B)에 체류시켜서 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 형성한다. 예를 들면, 제어 장치(405)는 미스트의 입경을 작게 하거나 프리미스트 모드에 있어서의 미스트의 착수량을 제어하거나 함으로써 착수한 미스트를 체류시킨다.

그 후, 사용자가 화장실로부터 퇴실하면 애프터미스트 모드가 실행된다. 도 24(b)에 나타내는 바와 같이 애프터미스트 모드는 프리미스트 모드에 있어서 비세정 영역(801B)에 형성된 수적(WD1) 또는 수막(WF1)에 제균수의 미스트를 착수시킨다. 이에 따라 애프터미스트 모드는 수적(WD1) 또는 수막(WF1)의 체적을 늘림으로써 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 씻어낸다. 즉, 체적이 늘어나 자체 중량이 커짐으로써 비세정 영역(801B)에 형성된 수적(WD1) 또는 수막(WF1)은 세정 영역(801A)으로 유하한다. 프리미스트 모드에 있어서, 제 1 공정과 제 2 공정은 시간적으로 연속된 것이어도 좋다.

예를 들면, 오입실 등에 의해 검지 센서(402)가 사용자를 검지해서 프리미스트 모드의 제 1 공정이 실행되었을 경우에 제 2 공정을 실행해서 비세정 영역(801B)에 형성된 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 유하시킨다.

프리미스트 모드에 있어서 분무된 미스트는 세정 영역(801A) 및 비세정 영역(801B)에 체류하고, 예를 들면 애프터미스트 모드가 실행될 때까지 수적(WD1) 또는 수막(WF1)이 흐르지 않는다. 이에 따라 단지 보울부(801) 내가 젖어 있을 경우에 비해 오물의 부착이나 고착을 보다 억제할 수 있다. 또한, 애프터미스트 모드에 있어서는 분무 장치(481)로부터 분무된 제균수의 미스트가 비세정 영역(801B)에 착수한다. 이에 따라 세정수에 의해 씻기지 않은 오물에 의한 균이나 오염의 발생을 억제할 수 있다.

또한, 프리미스트 모드에 의해 형성된 수적(WD1) 또는 수막(WF1)이 비세정 영역(801B)에 부착된 채 잔존했을 경우, 수적(WD1) 또는 수막(WF1)이 증발함으로써 스케일이 석출되고, 비세정 영역(801B)에 물때 오염이 발생하는 경우가 있다. 이에 대해 애프터미스트 모드에 의해 비세정 영역(801B)에 형성된 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 씻어냄으로써 수적(WD1) 또는 수막(WF1)이 비세정 영역(801B)에 잔존하는 것을 억제할 수 있다. 이에 따라 물때 오염의 발생을 억제할 수 있다. 따라서, 비세정 영역(801B)을 포함하는 대변기(800)의 넓은 범위에 있어서 균이나 오염이 발생하는 것을 억제하면서 비세정 영역(801B)에 있어서 단기간에 목시가능한 물때 오염이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

도 25(a) 및 도 25(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 프리미스트 모드에 있어서의 다른 동작을 예시하는 단면도이다.

이 예에서는 프리미스트 모드는 도 25(a)에 나타내는 제 1 공정과, 도 25(b)에 나타내는 제 2 공정을 갖는다.

도 25(a)에 나타내는 바와 같이 제 1 공정은 비세정 영역(801B)에 미스트를 착수시키고, 비세정 영역(801B)에 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 형성한다. 또한, 제 1 공정은 세정 영역(801A)에도 미스트를 착수시키고, 수적 또는 수막을 형성해도 좋다.

도 25(b)에 나타내는 바와 같이 제 2 공정은 제 1 공정에 있어서 비세정 영역(801B)에 형성된 수적(WD1) 또는 수막(WF1)에 미스트를 착수시킨다. 이에 따라 제 2 공정은 수적(WD1) 또는 수막(WF1)의 체적을 늘림으로써 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 씻어낸다. 즉, 체적이 늘어나 자체 중량이 커짐으로써 비세정 영역(801B)에 형성된 수적(WD1) 또는 수막(WF1)은 세정 영역(801A)으로 유하한다.

제 1 공정에 의해 비세정 영역(801B)에 형성된 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 제 2 공정에 의해 씻어냄으로써 수적(WD1) 또는 수막(WF1)이 비세정 영역(801B)에 잔존하는 것을 억제할 수 있다. 이에 따라 물때 오염의 발생을 억제할 수 있다. 따라서, 비세정 영역(801B)을 포함하는 대변기(800)의 넓은 범위에 있어서 균이나 오염이 발생하는 것을 억제하면서 비세정 영역(801B)에 있어서 단기간에 목시가능한 물때 오염이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 프리미스트 모드에 있어서 착수한 미스트가 즉시 흘러내리도록 미스트를 분무하면 미스트의 입경이나 유량이 크기 때문에 미스트가 보울부(801) 내에서 튀어서 대변기(800)의 밖으로 비산해 버릴 우려가 있다. 이에 대해 이 예에서는 제 1 공정에 의해 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 형성한 후에 제 2 공정에 의해 수적(WD1) 또는 수막(WF1)의 체적을 늘림으로써 수적(WD1) 또는 수막(WF1)을 유하시키고 있다. 이에 따라 미스트가 대변기의 밖으로 비산하는 것을 억제할 수 있다.

도 26(a) 및 도 26(b)는 실시형태에 의한 대변기 및 변좌를 예시하는 평면도이다.

도 26(a)는 착좌부(200)의 이면(204)측을 나타내고 있다. 착좌부(200)의 이면(204)에는 변좌 다리부(210)가 설치되어 있다. 변좌 다리부(210)는 이면(204)으로부터 돌출되도록 설치되어 있고, 착좌부(200)가 닫힌 상태에 있어서 대변기(800)의 림 상면(806)에 접촉한다. 이 예에서는 합계 4개의 변좌 다리부(210)가 설치되어 있지만 변좌 다리부(210)의 수나 형상은 임의이다.

도 26(b)에 나타내는 바와 같이, 대변기(800)의 림 상면(806)은 착좌부(200)가 닫힌 상태에 있어서 변좌 다리부(210)가 접촉하는 영역(810)을 갖는다.

제균수의 미스트를 림 상면(806) 및 착좌부(200)에 분무하는 미스트 모드 (예를 들면 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드)에 있어서 변기 덮개(300)가 열린 상태이면 대변기(800) 및 변좌 장치(100)의 외부에 미스트가 비산해 버릴 우려가 있다. 그 때문에 미스트의 비산을 억제하기 위해서는 변기 덮개(300) 및 착좌부(200)가 닫힌 상태인 것이 바람직하다. 한편, 제균수의 미스트를 림 상면(806) 및 착좌부(200)에 분무하는 미스트 모드에 있어서, 변기 덮개(300) 및 착좌부(200)가 닫힌 상태이면 림 상면(806)의 영역(810)과 변좌 다리부(210)가 서로 접촉하고 있기 때문에 영역(810) 및 변좌 다리부(210)에 미스트를 착수시킬 수 없다. 또한, 변기 덮개(300) 및 착좌부(200)가 닫힌 상태에서는 림 상면(806)과 착좌부(200)가 근접해 있기 때문에 착좌부(200)의 이면(204)의 외주부(204e)나, 림 상면(806)의 외주부(806e)에도 미스트가 도달하기 어렵다.

그래서, 변좌 장치(100)의 일실시형태에 있어서, 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드는 이하에 설명하는 제 1 공정 및 제 2 공정을 갖는다.

도 27(a) 및 도 27(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.

도 27(a)가 제 1 공정을 나타내고, 도 27(b)가 제 2 공정을 나타낸다. 도 27(a)에 나타내는 바와 같이, 제 1 공정에 있어서는 제어 장치(405)는 변좌용 모터(511)나 변기 덮개용 모터(512)를 제어해서 착좌부(200) 및 변기 덮개(300)를 닫힌 상태(완전 닫힘 상태)로 한다. 변기 덮개(300)가 닫힌 상태에 있어서, 제 1 공정은 제균수의 미스트를 림 상면(806) 및 착좌부(200)에 분무한다. 제 1 공정에 있어서는 변기 덮개(300)가 닫힌 상태이기 때문에 대변기(800) 및 변좌 장치(100)의 외부에 미스트가 비산하는 것을 억제하면서 많은 미스트를 림 상면(806)이나 착좌부(200)에 분무할 수 있다.

도 27(b)에 나타내는 바와 같이, 제 2 공정에 있어서는 제어 장치(405)는 변좌용 모터(511)나 변기 덮개용 모터(512)를 제어해서 착좌부(200) 및 변기 덮개(300)를 열린 상태로 한다. 착좌부(200) 및 변기 덮개(300)가 열린 상태에 있어서, 제 2 공정은 제균수의 미스트를 림 상면(806) 및 착좌부(200)에 분무한다. 이에 따라 제 2 공정은 림 상면(806)의 변좌 다리부(210)가 접촉하는 영역(810)에 제균수의 미스트를 분무한다. 제 2 공정에 있어서는 착좌부(200)가 열린 상태이기 때문에 변좌 다리부(210)나, 림 상면(806)의 영역(810)에도 미스트를 착수시킬 수 있다. 또한, 림 상면(806)의 외주부(806e) 및 착좌부(200)의 외주부(204e)에도 미스트가 착수하기 쉽다.

제어 장치(405)는 1회의 애프터미스트 모드 및 수동 미스트 모드에 있어서 예를 들면, 제 1 공정을 실행한 후에 제 2 공정을 실행한다. 또는, 제 2 공정의 후에 제 1 공정이 실행되어도 좋다. 이상 설명한 제 1 공정과 제 2 공정에 의해 대변기(800) 및 변좌 장치(100)의 외부에 미스트가 비산하는 것을 억제하면서 림 상면(806)의 변좌 다리부(210)가 접촉하는 영역(810)을 포함하는 넓은 범위에 많은 미스트를 착수시켜 균이나 오염의 발생을 억제할 수 있다.

또한, 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드의 제 2 공정에 있어서, 착좌부(200) 및 변기 덮개(300)가 열린 상태라고 하는 범위는 완전 열림 상태뿐만 아니라 반 열림 상태도 포함하는 것으로 한다. 완전 열림 상태는 통상의 사용에 있어서 열림 정도가 최대인 상태이다. 반 열림 상태는 완전 열림 상태보다 열림 정도가 작은 상태이다. 즉, 반 열림 상태란 완전 열림 상태와 완전 닫힘 상태 사이의 상태이며, 열림 정도가 완전 열림 상태의 반분인 것에 한정되지 않는다.

제 2 공정에 있어서, 착좌부(200)가 완전 열림 상태이면 변좌 다리부(210)가 림 상면(806)으로부터 멀기 때문에 변좌 다리부(210)에 미스트를 착수시키는 것이 곤란해진다. 이에 대해 도 27(b)에 나타내는 예에서는 제어 장치(405)는 제 2 공정에 있어서 착좌부(200)가 반 열림 상태가 되도록 변좌용 모터(511)를 제어하고 있다. 이 때문에 착좌부(200)가 완전 열림 상태일 경우에 비해 변좌 다리부(210)와 림 상면(806) 사이의 거리를 짧게 할 수 있다. 이에 따라 제 1 공정에 있어서 제균수의 미스트가 도달하기 어려운 변좌 다리부(210)에도 제 2 공정에 있어서 제균수의 미스트를 착수시킬 수 있다.

또한, 예를 들면 제어 장치(405)는 제 1 공정에 있어서 림 상면(806)측에 분무하는 제균수의 미스트의 총량(ml)이 제 2 공정에 있어서 림 상면(806)측에 분무하는 제균수의 미스트의 총량(ml)보다 많아지도록 분무 장치(481)를 제어한다. 예를 들면, 제 1 공정에 있어서 림 상면(806)에 착수하는 제균수의 미스트의 총량은 제 2 공정에 있어서 림 상면(806)에 착수하는 제균수의 미스트의 총량보다 많다. 제 1 공정에 있어서 많은 제균수의 미스트가 림 상면(806)에 착수함으로써 림 상면(806)에 있어서의 균이나 오염의 발생을 보다 억제할 수 있다. 이 때, 제 1 공정에 있어서는 변기 덮개(300)가 닫힌 상태이기 때문에 많은 미스트를 분무해도 미스트가 대변기(800) 및 변좌 장치(100)의 밖으로 비산해 버릴 우려가 있다. 한편, 착좌부(200)와 함께 변기 덮개(300)가 열려 있는 제 2 공정에 있어서는 제 1 공정과 비교해서 미스트가 대변기(800) 및 변좌 장치(100)의 밖으로 비산하기 쉽다. 그래서, 제 2 공정에서는 비교적 소량의 미스트를 림 상면(806)에 착수시킴으로써 미스트가 대변기(800) 및 변좌 장치(100)의 외부로 비산하는 것을 억제할 수 있다.

구체적으로는 예를 들면, 제어 장치(405)는 제 1 공정에 있어서 림 상면(806)측에 제균수의 미스트를 분무하는 시간이 제 2 공정에 있어서 림 상면(806)측에 제균수의 미스트를 분무하는 시간보다 길어지도록 분무 장치(481)를 제어한다. 즉, 예를 들면 제 1 공정이 실행되는 시간은 제 2 공정이 실행되는 시간보다 길다. 이에 따라 제 1 공정에 있어서 림 상면(806)측에 분무되는 미스트의 총량을 제 2 공정에 있어서 림 상면(806)측에 분무되는 미스트의 총량보다 많게 할 수 있다.

도 28(a) 및 도 28(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드의 제 2 공정에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.

애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드의 제 2 공정에 있어서 제어 장치(405)는 림 상면(806)측에 제균수의 미스트를 분무하고 있는 상태에서 변좌용 모터(511) 및 변기 덮개용 모터(512)를 제어해서 착좌부(200) 및 변기 덮개(300) 중 적어도 어느 하나를 이동시켜도 좋다. 도 28(a)는 제 2 공정에 있어서 착좌부(200)를 열림방향으로 이동시키고 있는 상태를 나타낸다. 화살표(A7)와 같이 착좌부(200)를 하방으로부터 상방으로 회동시키면 림 상면(806)의 근방에 기류(f2)(상승 기류)가 발생한다. 제균수의 미스트가 기류(f2)를 탐으로써 림 상면(806)의 보다 광범위에 제균수의 미스트를 착수시킬 수 있다.

또한, 도 28(b)는 제 2 공정에 있어서 착좌부(200)를 닫힘방향으로 이동시키고 있는 상태를 나타낸다. 화살표(A8)와 같이 착좌부(200)를 상방으로부터 하방으로 회동시키면 림 상면(806)의 근방에 기류(f3)가 발생한다. 이에 따라 림 상면(806)의 근방의 미스트가 확산되고, 림 상면(806)의 보다 광범위하게 제균수의 미스트를 착수시킬 수 있다.

도 28(a) 및 도 28(b)에 나타내는 예에서는 제어 장치(405)는 착좌부(200)를 이동시키고 있지만 마찬가지로 변기 덮개(300)를 이동시켜도 좋다. 제 2 공정에 있어서, 제어 장치(405)는 착좌부(200) 및 변기 덮개(300)의 한쪽을 정지시켜서 다른 쪽을 이동시켜도 좋고, 양쪽을 이동시켜도 좋다.

도 29는 실시형태에 의한 토일렛 장치를 예시하는 평면도이다.

도 29에서는 대변기(800)를 실선으로 나타낸다. 또한, 대변기(800)의 상면, 즉 림 상면(806)에 적재되는 변좌 장치(100)의 케이싱(400)을 파선으로 나타내고 있다.

변좌 장치(100)의 케이싱(400)(본체부)은 림 상면(806)의 후방부에 적재된다. 즉, 림 상면(806)은 케이싱(400)이 적재되지 않는 비적재부(806f)와, 케이싱(400)이 적재되는 적재부(806r)를 갖는다. 적재부(806r)는 비적재부(806f)의 후방에 위치한다. 적재부(806r)란 림 상면(806) 중 연직방향에 있어서 케이싱(400)과 겹치는 부분을 말하고, 적재부(806r)는 케이싱(400)과 접해 있지 않아도 좋다.

또한, 케이싱(400)과 림 상면(806)의 적재부(806r) 사이에는 패킹(490)이 설치되어 있다. 패킹(490)은 케이싱(400)의 형상에 맞춰 적재부(806r)의 전방부에 배치되어 있다. 이에 따라 세정수나 미스트, 오물 등이 패킹(490)보다 후방측에 침입하는 것을 막을 수 있다.

패킹(490)보다 전방측에 있어서, 적재부(806r)와 케이싱(400) 사이에는 간극(SP)이 생겨 있다. 예를 들면, 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서, 보울부(801) 내뿐만 아니라 림 상면(806)에도 제균수의 미스트를 분무하는 경우, 간극(SP)에 제균수의 미스트가 들어가는 경우가 있다. 간극(SP)은 사용자가 목시하기 어려운 부분이기 때문에 간극(SP)에 들어가는 적재부(806r)에 착수한 미스트가 부지불식간에 큰 수적(WD2) 또는 수막(WF2)으로 되어서 대변기(800) 밖으로 떨어지는 누수가 발생하는 경우가 있다.

그래서, 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서 분무 장치(481)는 비적재부(806f)에 착수하는 제균수의 단위면적당 평균 착수량이 적재부(806r)에 착수하는 제균수의 단위면적당 평균 착수량보다 많아지도록 제균수를 분출한다. 분무 장치(481)는 비적재부(806f)에 제균수를 착수시킴과 아울러 적재부(806r)에는 제균수를 착수시키지 않는 것이 바람직하다.

적재부(806r)에 비해 많은 제균수를 비적재부(806f)에 착수시킴으로써 비적재부(806f)에 있어서의 균이나 오염의 발생을 억제할 수 있다. 비적재부(806f)는 적재부(806r)에 비해 공기가 체류하기 어렵기 때문에 건조하기 쉬운 부위이며, 또한 사용자가 보기 쉽게 닦아내기가 용이한 부위이다. 그 때문에 림 상면(806)의 비적재부(806f)에 제균수가 착수해도 부지불식간에 비적재부(806f)에 있어서 제균수가 응집하여 큰 수적 또는 수막으로 되어서 대변기(800)의 밖으로 떨어질 가능성은 낮다. 또한, 적재부(806r)에 착수하는 제균수가 비교적 적은 것에 의해 부지불식간에 적재부(806r)에 있어서 제균수가 응집하여 큰 수적 또는 수막으로 되어서 대변기(800)의 밖으로 떨어지는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 대변기(800)의 림 상면(806)에 제균수의 미스트를 분무했을 때에 대변기(800) 밖으로의 누수를 억제할 수 있다.

또한, 단위면적당 평균 착수량은 이하와 같이 해서 측정할 수 있다.

우선, 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드의 실행 후에 비적재부(806f)에 착수한 미스트를 킴타올로 닦아낸다. 미스트를 닦아내기 전의 킴타올의 중량과, 미스트를 닦아낸 후의 중량의 차를 닦아낸 비적재부(806f)의 면적으로 나눔으로써 비적재부(806f)에 착수한 제균수의 단위면적당 평균 착수량이 산출된다.

마찬가지로 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드의 실행 후에 패킹(490)보다 전방측의 적재부(806r)에 착수한 미스트를 킴타올로 닦아낸다. 미스트를 닦아내기 전의 킴타올의 중량과, 미스트를 닦아낸 후의 중량의 차를 닦아낸 적재부(806r)의 면적으로 나눔으로써 적재부(806r)에 착수한 제균수의 단위면적당 평균 착수량이 산출된다.

도 30은 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 단면도이다.

도 31(a) 및 도 31(b)는 실시형태에 의한 변좌 장치의 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 사시도이다.

이 예에서는 분무 장치(481)는 제 1 토수부(51)와, 제 2 토수부(52)를 갖는다. 제 1 토수부(51)에는 예를 들면 수돗물 또는 제균수를 분출(분무)가능한 노즐이 사용된다. 제 2 토수부(52)에는 예를 들면 상술의 디스크(481b)가 사용된다.

분무 장치(481)로 물을 인도하는 유로(113)는 제 1 토수부(51)에 급수하는 유로와, 제 2 토수부(52)에 급수하는 유로로 분기되어 있다. 각 토수부에의 급수는 제어 장치(405)에 의해 제어되고 있다. 제 1 토수부(51)와 제 2 토수부(52)는 예를 들면, 동시에 제균수를 분출(분무)한다.

도 31(a)는 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 제 2 토수부(52)의 동작을 예시하고 있다. 제 2 토수부(52)는 림 상면(806)의 비적재부(806f)에 제균수를 착수시킨다. 또한, 제 2 토수부(52)는 보울부(801) 내의 제 2 토수부(52)보다 전방측에도 제균수를 착수시킨다.

예를 들면, 제 2 토수부(52)는 전방 또한 하방으로 제균수의 미스트를 분무한다. 분무된 미스트의 일부는 송풍 장치(513)에 의해 형성되는 상승 기류(U1)를 타고 림 상면(806)보다 상방으로 상승한다. 이에 따라 비적재부(806f), 착좌부(200) 및 변기 덮개(300)에 제균수의 미스트가 착수한다.

도 31(b)는 애프터미스트 모드 또는 수동 미스트 모드에 있어서의 제 1 토수부(51)의 동작을 예시하고 있다. 제 1 토수부(51)는 후방 또한 하방으로 제균수를 분출(분무)하고, 보울부(801) 내의 제 1 토수부(51)보다 후방측(적재부(806r)측)에 제균수를 착수시킨다.

분무 장치(481)는 케이싱(400)의 내부 또는 하방에 설치되어 있다. 또한, 분무 장치(481)로부터 분무된 제균수는 자체 중량에 의해 서서히 낙하한다. 그 때문에 비적재부(806f)에 제균수를 착수시키기 위해서는 높은 위치로부터 제균수를 분무하는 것이 바람직하다. 그래서, 도 30에 나타내는 바와 같이 제 2 토수부(52)는 제 1 토수부(51)(노즐 토수구)보다 상방에 배치된다. 이에 따라 보다 확실하게 비적재부(806f)에 제균수를 착수시킬 수 있다. 한편, 적재부(806r)에 제균수를 착수하는 것을 억제하기 위해서는 낮은 위치로부터 제균수를 분출(분무)하는 것이 바람직하다. 제 1 토수부(51)(노즐 토수구)가 제 2 토수부(52)보다 하방에 배치되어 있음으로써 적재부(806r)에 제균수가 착수하는 것을 보다 억제할 수 있다.

또한, 제 2 토수부(52)는 사용자가 접촉할 가능성이 있는 림 상면(806)의 비적재부(806f)에 제균수를 착수시키기 위해서 청결한 것이 요망된다. 그래서, 제 2 토수부(52)는 케이싱(400)의 내부에 배치되어 있다. 또한, 제 2 토수부(52)(디스크(481b))는 림 상면(806)보다 상방에 위치한다. 이에 따라 제 2 토수부(52)에 오물이 부착되는 것을 막고 제 2 토수부(52)의 청결성을 확보할 수 있다.

한편, 제 1 토수부(51)는 사용자가 접촉할 가능성이 낮은 보울부(801) 내의 적재부(806r)측에 제균수를 착수시키기 위해서 제 2 토수부(52)에 비해 청결성이 문제가 되기 어렵다. 그래서, 제 1 토수부(51)는 케이싱(400)의 하방으로 돌출되도록 배치되어 있다. 예를 들면, 제 1 토수부(51)(노즐 토수구)는 림 상면(806)보다 하방에 위치한다. 이에 따라 제 1 토수부(51)를 낮은 위치에 배치할 수 있고, 적재부(806r)에 제균수가 착수하는 것을 보다 억제할 수 있다.

또한, 분무 장치(481)(제 2 토수부(52))는 상면에서 볼 때, 분무 장치(481)보다 적재부(806r)측(후방측)에 분출하는 제균수의 적어도 일부를 상승 기류(U1)를 타지 않는 크기로 형성한다. 한편, 분무 장치(481)(제 1 토수부(51))는 상면에서 볼 때, 분무 장치(481)보다 비적재부(806f)(전방측)에 분무하는 제균수의 적어도 일부를 상승 기류(U1)를 타는 크기로 형성한다.

구체적으로는 분무 장치(481)는 상면에서 볼 때, 분무 장치(481)보다 적재부(806r)측에 분출하는 제균수를 샤워 형상, 막 형상 또는 제 1 입경의 미스트 형상으로 한다. 또한, 분무 장치(481)는 상면에서 볼 때, 분무 장치(481)보다 비적재부(806f)측에 분출하는 제균수를 제 1 입경보다 작은 제 2 입경의 미스트 형상으로 한다.

이에 따라 분무 장치(481)로부터 비적재부(806f)측에 분출된 제균수는 적재부(806r)측에 분출된 제균수보다 상승 기류를 타기 쉬워 비적재부(806f)에 많은 제균수를 착수시킬 수 있다. 반대로, 분무 장치(481)로부터 적재부(806r)측에 분출된 제균수는 비적재부(806f)측에 분출된 제균수보다 상승 기류를 타기 어려워 적재부(806r)에 제균수가 착수하는 것을 억제할 수 있다.

또한, 제 1 입경과 제 2 입경의 대소의 비교에는 미스트의 입경 분포의 평균값또는 중앙값을 사용할 수 있다. 또한, 샤워 형상 및 막 형상은 미스트의 미립자보다 큰 물의 형상이다. 샤워 형상 및 막 형상의 제균수의 자체 중량은 제 1 입경의 미스트의 입자의 자체 중량보다 크다. 샤워 형상의 제균수는 실 형상이어도 큰 입자 형상이어도 좋다. 적재부(806r)측에 분출되는 제균수의 형상이나 크기는 예를 들면, 제 1 토수부(51)의 토수구의 형상 등에 의해 조절할 수 있다.

도 30 및 도 31에서는 2개의 토수부가 설치되었을 경우에 대해 설명했다. 단, 토수부의 수는 1개이어도 좋고 3개 이상이어도 좋다. 분무방향이나 분무 범위, 미스트의 입경 등을 적당히 변화시킴으로써 비적재부(806f)에 많은 제균수를 착수시키면서 적재부(806r)에 제균수가 착수하는 것을 억제할 수 있다.

도 32는 실시형태에 의한 변좌 장치의 수동 미스트 모드에 있어서의 동작을 예시하는 플로우차트이다.

사용자가 수동 조작부(500)를 조작하면 제어 장치(405)는 수동 조작부(500)의 조작 정보에 의거하여 수동 미스트 모드를 실행가능하다. 여기서, 수동 조작부(500)의 조작이 단시간 사이에 연속해서 행해지고, 수동 미스트 모드가 단시간 사이에 연속해서 실행되면 착좌부(200)가 과도하게 젖어버릴 우려가 있다. 그 결과, 착좌부(200)에 착수한 미스트에 접촉한 사용자가 불쾌감을 느끼거나, 착수한 미스트가 대변기(800) 밖으로 떨어지거나 해 버릴 우려가 있다.

그래서, 도 32에 나타내는 예에 있어서는 제어 장치(405)는 연속 수동 미스트 금지 모드를 갖는다. 연속 수동 미스트 금지 모드는 수동 미스트 모드의 실행 후의 소정 시간 이내(수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과하기 전)에 다시 수동 조작부(500)가 조작되었을 경우, 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과할 때까지 수동 미스트 모드를 다시 실행하는 것을 금지한다. 또한, 연속 수동 미스트 금지 모드는 수동 미스트 모드의 실행 중에 다시 수동 조작부(500)가 조작되었을 경우에 있어서도 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과할 때까지 수동 미스트 모드를 다시 실행하는 것을 금지한다.

예를 들면, 도 32에 나타내는 바와 같이 사용자가 수동 조작부(500)를 조작해서 수동 미스트 모드의 개시를 입력하면(스텝 S401: Yes), 제어 장치(405)는 전회의 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과하고 있는지를 판단한다(스텝 S402). 소정 시간이 경과하고 있었을 경우(스텝 S402: Yes), 제어 장치(405)는 수동 미스트 모드를 실행한다(스텝 S403). 한편, 수동 미스트 모드의 실행 중 또는 전회의 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과하고 있지 않고(스텝 S402: No), 또한 후술하는 닦아내기 동작이 검지되고 있지 않을 경우(스텝 S404: No), 제어 장치(405)는 연속 수동 미스트 금지 모드를 실행한다. 즉, 수동 미스트 모드는 실행되지 않는다.

이렇게 수동 미스트 모드의 실행 중 또는 실행 후의 소정 시간 이내에 수동 조작부(500)가 조작되어도 연속 수동 미스트 금지 모드에 의해 다시 수동 미스트 모드가 실행되지 않는다. 이에 따라 단시간 사이에 미스트를 분무하는 수동 조작이 연속으로 행해져도 착좌부(200)에 지나치게 많은 미스트가 착수하는 것을 억제할 수 있다. 많은 미스트가 착좌부(200)에 착수해서 사용자가 불쾌감을 느끼는 것, 및 착좌부(200)에 착수한 미스트가 대변기(800) 밖으로 떨어지는 것을 억제할 수 있다.

또한, 스텝 S402에 있어서의 소정 시간은 예를 들면, 다시 수동 미스트 모드가 실행되어 착좌부(200)에 미스트가 더 착수해도 착수한 미스트가 대변기(800)의 밖으로 떨어지지 않을 정도의 시간으로 설정된다. 소정 시간은 수동 미스트 모드에 있어서 분무되는 미스트의 양에 따라 적당히 정해지고, 예를 들면 10초 이상 5분 이하이다. 소정 시간은 전회의 수동 미스트 모드에 있어서 착좌부(200)에 착수한 미스트가 증발하는 시간이어도 좋다.

사용자는 수동 미스트 모드에 의해 착좌부(200)에 착수한 미스트를 토일렛 페이퍼 등을 이용하여 닦아냄으로써 착좌부(200)에 부착된 균이나 오염을 제거할 수 있다. 사용자가 착좌부(200)에 착수한 미스트의 거의 전부를 닦아낸 후에 착좌부(200)에 아직 오염이 남아 있을 경우에는 사용자는 다시 수동 미스트 모드를 실행하고, 남은 오염을 닦아내고 싶은 경우가 있다. 이러한 경우, 소정 시간을 기다리는 것은 사용자에게 있어서 불편하다.

그래서, 제어 장치(405)는 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과하기 전에 연속 수동 미스트 금지 모드의 실행을 해제하고, 다시 수동 미스트 모드를 실행가능하게 하는 수동 미스트 해제 모드를 갖는다. 이에 따라 전회의 수동 미스트 모드로부터 소정 시간을 경과하고 있지 않아도 다시 수동 미스트 모드의 실행이 가능해져서 사용하기 편리함을 향상시킬 수 있다.

변좌 장치(100)는 사용자가 착좌부(200)에 대해 닦아내기 동작을 행한 것을 검지하는 닦아내기 동작 검지 수단을 갖는다. 제어 장치(405)는 닦아내기 동작 검지 수단의 검지 정보에 의거하여 수동 미스트 해제 모드를 실행한다.

도 32에 나타내는 바와 같이 닦아내기 동작 검지 수단에 의해 사용자가 닦아내기 동작을 행한 것이 검지되고 있었을 경우(스텝 S404: Yes), 수동 미스트 해제 모드가 실행된다. 즉, 다시 수동 미스트 모드의 실행이 가능해지고 수동 미스트 모드가 실행된다(스텝 S403).

닦아내기 동작 검지 수단으로서는 예를 들면, 착좌 검지 센서(404)를 사용할 수 있다. 제어 장치(405)는 착좌 검지 센서(404)의 검지 정보에 의거하여 닦아내기 동작의 유무를 추정한다. 착좌 검지 센서(404)를 이용함으로써 보다 확실하게 사용자에 의한 착좌부의 닦아내기 동작을 검지할 수 있다. 예를 들면, 착좌 검지 센서(404)가 착좌부(200)에 가해진 하중을 검지가능한 센서일 경우, 착좌부(200)에 가해진 하중의 크기나, 하중이 가해진 시간에 의거하여 사용자가 닦아내기 동작을 행한 것을 검지할 수 있다. 또한, 예를 들면 착좌 검지 센서(404)가 인체까지의 거리를 취득가능한 센서일 경우, 거리의 변화에 의거하여 사용자가 닦아내기 동작을 행한 것을 검지할 수 있다.

또한, 사용자가 수동 미스트 모드를 실행하기 위해서 수동 조작부(500)를 조작했음에도 불구하고 연속 수동 미스트 금지 모드에 의해 수동 미스트 모드가 실행되지 않고 미스트가 분무되지 않을 경우, 사용자가 변좌 장치(100)가 고장났다고 오인할 우려가 있다. 그래서, 사용자의 닦아내기 동작이 검지되고 있지 않을 경우(스텝 S404: No), 제어 장치(405)는 연속 수동 미스트 금지 모드를 실행한 것을 통지 수단에 의해 통지한다(스텝 S405). 이에 따라 사용자의 오인을 막을 수 있다. 통지 수단에는 소리 또는 광 등으로 통지를 행할 수 있는 임의의 수단을 사용할 수 있다. 예를 들면, 통지 수단으로서 스피커, LED 또는 액정 디스플레이 등을 수동 조작부(500)나 케이싱(400)에 적당히 설치할 수 있다.

또한, 변좌 장치(100)는 사용자가 착좌부(200)에 대해 닦아내기 동작을 행한 것을 입력하는 조작부(예를 들면, 수동 조작부(500))를 갖는다. 제어 장치(405)는 조작부에 입력된 입력 정보에 의거하여 수동 미스트 해제 모드를 실행한다. 예를 들면, 사용자가 수동 조작부(500)의 스위치 등을 조작하면 입력 정보(신호)가 제어 장치(405)에 보내어지고, 제어 장치(405)는 그 입력 정보를 수신하면 수동 미스트 해제 모드를 실행한다(스텝 S406: Yes). 이에 따라 다시 수동 미스트 모드의 실행이 가능해지고, 수동 미스트 모드가 실행된다(스텝 S403). 이러한 조작부를 이용 함으로써 보다 확실하게 사용자에 의한 착좌부(200)의 닦아내기 동작을 검지하여 사용하기 편리함을 향상시킬 수 있다. 또한, 사용자는 닦아내기 동작을 행하지 않아도 필요에 따라 상기 조작부를 조작해도 좋다.

사용자가 착좌부(200)에 대해 닦아내기 동작을 행한 것을 입력하는 조작부를 조작하지 않을 경우(스텝 S406: No), 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과할 때까지 수동 미스트 모드의 실행이 금지된 상태가 유지된다.

도 33은 실시형태에 의한 변좌 장치의 수동 미스트 모드에 있어서의 다른 동작을 예시하는 플로우차트이다.

도 33에 나타내는 예에 있어서는 제어 장치(405)는 제 1 수동 미스트 모드 및 제 2 수동 미스트 모드의 2종류의 수동 미스트 모드를 갖는다. 제 2 수동 미스트 모드에 있어서 분무하는 제균수의 미스트의 총량은 제 1 수동 미스트 모드에 있어서 분무하는 제균수의 미스트의 총량보다 적다. 예를 들면, 제 2 수동 미스트 모드의 분무 시간은 제 1 수동 미스트 모드의 분무 시간보다 짧다.

제 1 수동 미스트 모드는 사용자가 수동 조작부(500)를 조작했을 때에 분무 장치(481)를 제어해서 제균수의 미스트를 착좌부(200)에 분무하는 동작 모드이다.

한편, 제 2 수동 미스트 모드는 제 1 수동 미스트 모드의 실행 후의 소정 시간 이내(제 1 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과하기 전)에 다시 수동 조작부(500)가 조작되었을 경우, 분무 장치(481)를 제어해서 제균수의 미스트를 착좌부(200)에 분무한다. 또한, 제 2 수동 미스트 모드는 제 1 수동 미스트 모드의 실행 중에 다시 수동 조작부(500)가 조작되었을 경우에 있어서도 분무 장치(481)를 제어해서 제균수의 미스트를 착좌부(200)에 분무한다.

바꿔 말하면, 제 1 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과할 때까지 제 1 수동 미스트 모드를 다시 실행하는 것이 금지되고, 대신에 제 2 수동 미스트 모드가 실행된다.

예를 들면, 도 33에 나타내는 바와 같이 사용자가 수동 조작부(500)를 조작해서 수동 미스트 모드의 개시를 입력하면(스텝 S501: Yes), 제어 장치(405)는 전회의 제 1 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과하고 있는지를 판단한다(스텝 S502). 소정 시간이 경과하고 있었을 경우(스텝 S502: Yes), 제어 장치(405)는 제 1 수동 미스트 모드를 실행한다(스텝 S503). 한편, 제 1 수동 미스트 모드의 실행 중 또는 전회의 제 1 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과하고 있지 않고(스텝 S502: No), 또한 닦아내기 동작이 검지되고 있지 않을 경우(스텝 S504: No), 제어 장치(405)는 제 2 수동 미스트 모드를 실행한다.

이렇게 제 1 수동 미스트 모드의 실행 중 또는 실행 후의 소정 시간 이내에 수동 조작부(500)가 조작되었을 경우, 제 1 수동 미스트 모드에 비해 미스트의 분무량이 적은 제 2 수동 미스트 모드가 실행된다. 이에 따라 미스트를 분무하는 수동 조작이 연속으로 행해져도 착좌부(200)에 지나치게 많은 미스트가 착수하는 것을 억제할 수 있다. 많은 미스트가 착좌부(200)에 착수해서 사용자가 불쾌감을 느끼는 것, 및 착좌부(200)에 착수한 미스트가 대변기(800) 밖으로 떨어지는 것을 억제할 수 있다.

또한, 스텝 S502에 있어서의 소정 시간은 예를 들면, 다시 제 1 수동 미스트 모드가 실행되어 착좌부(200)에 미스트가 더 착수해도 착수한 미스트가 대변기(800)의 밖으로 떨어지지 않을 정도의 시간으로 설정된다. 소정 시간은 분무되는 미스트의 양에 따라 적당히 정해지고, 예를 들면 10초 이상 5분 이하이다. 소정 시간은 전회의 제 1 수동 미스트 모드에 있어서 착좌부(200)에 착수한 미스트가 증발하는 시간이어도 좋다.

사용자가 제 1 수동 미스트 모드의 실행 후에 착좌부(200)에 남은 오염을 더 닦아내고 싶은 경우, 제 2 수동 미스트 모드에 의해 미스트의 분무량이 적으면 오염을 닦아내기 어려워 불편한 경우가 있다.

그래서, 제어 장치(405)는 제 1 수동 미스트 모드의 종료로부터 소정 시간이 경과하기 전에 다시 제 1 수동 미스트 모드를 실행가능하게 하는 수동 미스트 해제 모드를 갖는다. 이에 따라 전회의 제 1 수동 미스트 모드로부터 소정 시간을 경과하고 있지 않아도 다시 제 1 수동 미스트 모드의 실행이 가능해져서 사용하기 편리함을 향상시킬 수 있다.

도 33에 나타내는 바와 같이 닦아내기 동작 검지 수단에 의해 사용자가 닦아내기 동작을 행한 것이 검지되고 있었을 경우(스텝 S504: Yes), 수동 미스트 해제 모드가 실행된다. 즉, 다시 제 1 수동 미스트 모드의 실행이 가능해지고, 제 1 수동 미스트 모드가 실행된다(스텝 S503).

또한, 사용자가 수동 조작부(500)를 조작했을 경우에 제 1 수동 미스트 모드가 실행되지 않고 제 2 수동 미스트 모드가 실행되고, 미스트의 분무량이 적으면 사용자가 변좌 장치(100)가 고장났다고 오인할 우려가 있다. 그래서, 사용자의 닦아내기 동작이 검지되고 있지 않을 경우(스텝 S504: No), 제어 장치(405)는 제 2 수동 미스트 모드를 실행한 것을 통지 수단에 의해 통지한다(스텝 S505). 이에 따라 사용자의 오인을 막을 수 있다.

또한, 사용자가 착좌부(200)에 대해 닦아내기 동작을 행한 것을 입력하는 조작부가 조작되면 입력 정보(신호)가 제어 장치(405)에 보내어지고, 제어 장치(405)는 그 입력 정보를 수신하면 수동 미스트 해제 모드를 실행한다(스텝 S506: Yes). 이에 따라 다시 제 1 수동 미스트 모드의 실행이 가능해지고, 제 1 수동 미스트 모드가 실행된다(스텝 S503).

사용자가 착좌부(200)에 대해 닦아내기 동작을 행한 것을 입력하는 조작을 조작하지 않을 경우(스텝 S506: No), 제 2 수동 미스트 모드가 실행된다(스텝 S507).

도 34(a) 및 도 34(b)는 실시형태에 의한 입경의 측정 방법을 예시하는 사시도이다.

입경의 측정에는 레이저 회절법이 사용된다. 미립자에 레이저를 조사하면 그 미립자로부터 여러 방향을 향하는 회절 산란광이 생긴다. 회절 산란광의 강도는 광이 발하는 방향에 있어서 공간 패턴을 갖는다. 이 공간 패턴은 광 강도 분포 패턴이라고 불린다. 광 강도 분포 패턴은 미립자의 입경에 의해 변화된다. 미립자의 입경과 광 강도 분포 패턴의 상관을 이용하여 광 강도 분포 패턴을 검출함으로써 입경을 산출할 수 있다.

도 34(a) 및 도 34(b)에 나타내는 바와 같이 입경의 측정 장치(600)는 발광부(601)과 수광부(602)를 갖는다. 수광부(602)는 발광부(601)가 발하는 레이저를 수광가능하게 설치되어 있다. 입경의 측정에 있어서는 발광부(601)가 발하는 레이저를 분무 장치(481)로부터 분무되는 미스트(M)에 조사한다. 수광부(602)는 레이저의 조사에 의해 생긴 회절 산란광을 수광한다. 이에 따라 광 강도 분포 패턴을 검출할 수 있다. 측정 장치에는 Aerotrac LDSA-3500A(MicrotracBEL Corp.제)를 사용할 수 있다.

도 35는 실시형태의 변형예에 의한 토일렛 장치의 요부 구성을 예시하는 블럭도이다.

또한, 도 35는 수로계와 전기계의 요부 구성을 합쳐서 나타내고 있다.

도 35에 나타낸 바와 같이, 이 예에서는 전자 밸브(431), 제균 장치(450), 스위칭 밸브(472), 분무 장치(481), 노즐 모터(476), 노즐(473), 노즐 세정실(478), 및 유로(110~113) 등은 대변기(800)의 내부에 장착되어 있다. 또한, 이 예에서는 변좌용 모터(511)(회동 장치), 변기 덮개용 모터(512)(회동 장치), 송풍 장치(513) 및 온풍 히터(514) 등은 대변기(800)의 내부에 장착되어 있다. 또한, 이 예에서는 검지 센서(402)(예를 들면, 인체 검지 센서(403), 착좌 검지 센서(404)등)나, 제어 장치(405)는 대변기(800)의 내부에 장착되어 있다.

이렇게, 도 4에 나타낸 예에 있어서 변좌 장치(100)의 케이싱(400) 내부에 장착되어 있던 각 부재(이하, 「기능부」라고 칭한다)는 대변기(800)의 내부에 장착되어도 좋다. 기능부가 대변기(800)의 내부에 장착되는 경우에 있어서도 기능부가 케이싱(400)의 내부에 장착되는 경우와 마찬가지로 분무 장치(481) 등을 동작시킬 수 있다.

또한, 이렇게 기능부가 대변기(800)의 내부에 장착되는 경우, 변좌 장치(100)의 케이싱(400)은 생략되어도 좋다. 또는, 변좌 장치(100) 대신에 착좌부(200)와 변기 덮개(300)가 설치되어도 좋다. 이 경우, 예를 들면 착좌부(200)와 변기 덮개(300)는 각각 대변기(800)에 대해 개폐가능하게 축지지된다. 또한 이 경우, 예를 들면 노즐 댐퍼(479), 미스트 댐퍼(482), 및 송풍 댐퍼(516)는 대변기(800)에 대해 회동가능하게 축지지된다.

이상, 본 발명의 실시형태에 대해 설명했다. 그러나, 본 발명은 이들의 기술에 한정되는 것은 아니다. 상술의 실시형태에 관해서 당업자가 적당히 설계 변경을 추가한 것도 본 발명의 특징을 구비하고 있는 한, 본 발명의 범위에 포함된다. 예를 들면, 대변기, 변좌 장치 등이 구비하는 각 요소의 형상, 치수, 재질, 배치, 설치 형태 등은 예시한 것에 한정되는 것은 아니고 적당히 변경할 수 있다.

또한, 상술한 각 실시형태가 구비하는 각 요소는 기술적으로 가능한 한에 있어서 조합할 수 있고, 이들을 조합한 것도 본 발명의 특징을 포함하는 한 본 발명의 범위에 포함된다.

10 토일렛 장치 51 제 1 토수부
52 제 2 토수부 100 변좌 장치
110~113 유로 200 착좌부
200a 개구 204 이면
204e 외주부 210 변좌 다리부
300 변기 덮개 400 케이싱
402 검지 센서 403 인체 검지 센서
404 착좌 검지 센서 405 제어 장치
431 전자 밸브 450 제균 장치
472 스위칭 밸브 473 세정 노즐
474 토수구 476 노즐 모터
478 노즐 세정실 479 노즐 댐퍼
481 분무 장치 481a 모터
481b 디스크 481c 급수구
482 미스트 댐퍼 490 패킹
500 수동 조작부 511 변좌용 모터
512 변기 덮개용 모터 513 송풍 장치
514 온풍 히터 515 변좌 히터
516 송풍 댐퍼 516a 개구
600 측정 장치 601 발광부
602 수광부 800 대변기
801 보울부 801A 세정 영역
801B 비세정 영역 801F 전단측 비세정 영역
801w 고임물 805 림부
805B 선반 형상부 806 림 상면
806e 외주부 806f 비적재부
806r 적재부 810 영역
811 토수구 821 상부 영역
822 하부 영역 823 R부
824 미스트 가이드부 B1 바닥면
M, M1, M2 미스트 S 슬릿
S1 상단면 SF 선회류
SU 제 1 측정 개소 SL 제 2 측정 개소
SP 간극 U1 상승 기류
W 물 OB 분무 대상물
f1 상승 기류 f2, f3 기류
WD1, WD2 수적 WF1, WF2 수막
θs 분무 각도 Ds 분무방향

Claims (6)

1. 오물을 받는 보울부와, 상기 보울부 위에 위치하는 림 상면과, 상기 오물을 상기 보울부 내로부터 배출하기 위한 세정수를 상기 보울부 내에 토수하는 토수구를 갖고, 상기 보울부는 상기 세정수가 통과하는 세정 영역과, 상기 세정 영역보다 위 또한 상기 림 상면보다 아래에 위치하는 비세정 영역을 갖는 대변기와,
   상기 대변기의 상부에 설치되어 사용자가 착좌하는 착좌부와,
   상기 보울부의 후방측에 위치하고, 상기 보울부 내에 미스트를 분무하는 분무 장치와,
   상기 사용자를 검지하는 검지 센서와,
   상기 검지 센서의 검지 정보에 의거하여 상기 분무 장치를 제어하는 제어 장치를 구비하고,
   상기 제어 장치는 상기 검지 센서가 상기 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로부터 상기 사용자를 검지하고 있는 상태로 되었을 때에 자동적으로 상기 분무 장치를 제어해서 미스트를 상기 비세정 영역을 포함하는 상기 보울부 내에 분무하는 프리미스트 모드를 실행가능하며,
   상기 프리미스트 모드에 있어서 상기 제어 장치는 상기 비세정 영역의 전단부인 전단측 비세정 영역에 미스트가 직접 착수함과 아울러 상기 전단측 비세정 영역에 직접 착수한 미스트가 상기 림 상면 및 상기 착좌부에 비산하는 것이 억제되도록 상기 전단측 비세정 영역의 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량이 상기 전단측 비세정 영역의 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량보다 적어지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 토일렛 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 상부 영역은 상기 보울부의 외측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖고,
   상기 하부 영역은 상기 보울부의 내측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖는 것을 특징으로 하는 토일렛 장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 프리미스트 모드에 있어서 상기 제어 장치는 상기 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경이 상기 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경보다 커지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 토일렛 장치.
4. 오물을 받는 보울부와, 상기 보울부 위에 위치하는 림 상면과, 상기 오물을 상기 보울부 내로부터 배출하기 위한 세정수를 상기 보울부 내에 토수하는 토수구를 갖고, 상기 보울부는 상기 세정수가 통과하는 세정 영역과, 상기 세정 영역보다 위 또한 상기 림 상면보다 아래에 위치하는 비세정 영역을 갖는 대변기의 상부에 설치되는 변좌 장치로서,
   사용자가 착좌하는 착좌부와,
   상기 보울부의 후방측에 위치하고, 상기 보울부 내에 미스트를 분무하는 분무 장치와,
   상기 사용자를 검지하는 검지 센서와,
   상기 검지 센서의 검지 정보에 의거하여 상기 분무 장치를 제어하는 제어 장치를 구비하고,
   상기 제어 장치는 상기 검지 센서가 상기 사용자를 검지하고 있지 않은 상태로부터 상기 사용자를 검지하고 있는 상태로 되었을 때에 자동적으로 상기 분무 장치를 제어해서 미스트를 상기 비세정 영역을 포함하는 상기 보울부 내에 분무하는 프리미스트 모드를 실행가능하며,
   상기 프리미스트 모드에 있어서 상기 제어 장치는 상기 비세정 영역의 전단부인 전단측 비세정 영역에 미스트가 직접 착수함과 아울러 상기 전단측 비세정 영역에 직접 착수한 미스트가 상기 림 상면 및 상기 착좌부에 비산하는 것이 억제되도록 상기 전단측 비세정 영역의 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량이 상기 전단측 비세정 영역의 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 단위면적당 평균 착수량보다 적어지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 변좌 장치.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 상부 영역은 상기 보울부의 외측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖고,
   상기 하부 영역은 상기 보울부의 내측을 향해 하향 경사진 경사면을 갖는 것을 특징으로 하는 변좌 장치.
6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
   상기 프리미스트 모드에 있어서 상기 제어 장치는 상기 하부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경이 상기 상부 영역에 직접 착수하는 미스트의 입경보다 커지도록 상기 분무 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 변좌 장치.

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