KR102081482B1 - 수처리 분리막의 제조장치 - Google Patents

수처리 분리막의 제조장치 Download PDF

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Abstract

본 명세서는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 응고액이 담긴 응고조; 및 상기 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고, 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 갖는 오버플로우 수용조를 포함하는 수처리 분리막의 제조장치에 관한 것이다.

Description

수처리 분리막의 제조장치{DEVICE FOR MANUFACTURING WATER-TREATMENT SEPARATION MEMBRANE}
본 명세서는 수처리 분리막의 제조장치에 관한 것이다.
반투과성막으로 격리된 두 용액 사이에서 용매가 용질의 농도가 낮은 용액에 서 높은 용액 쪽으로 분리막을 통과하여 이동하는 현상을 삼투 현상이라 하며, 이때 용매의 이동으로 용질의 농도가 높은 용액 측에 작용하는 압력을 삼투압이라고 한다. 그런데 삼투압보다 높은 외부 압력을 걸어주면 용매는 용질의 농도가 낮은 용액 쪽으로 이동하게 되는데, 이 현상을 역삼투라고 한다. 역삼투 원리를 이용하여 압력 구배를 구동력으로 해서 반투과성 막을 통해 각종 염이나 유기 물질을 분리해낼 수 있다. 이러한 역삼투 현상을 이용한 수처리 분리막은 분자 수준의 물질을 분리하고, 염수 또는 해수에서 염을 제거하여 가정용 및 건축용, 산업용 용수를 공급하는데 사용되고 있다.
이러한 수처리 분리막의 대표적인 예로는, 폴리아미드계 수처리 분리막을 들 수 있으며, 폴리아미드계 수처리 분리막은 미세 다공층 지지체 상에 폴리아미드 활성층을 형성하는 방법으로 제조되고 있으며, 보다 구체적으로는, 부직포 위에 폴리술폰층을 형성하여 미세 다공성 지지체를 형성하고, 이 미세 다공성 지지체를 m-페닐렌 디아민(m-Phenylene Diamine, mPD) 수용액에 침지시켜 mPD층을 형성하고, 이를 다시 트리메조일클로라이드(TriMesoyl Chloride, TMC) 유기 용매에 침지시켜 mPD층을 TMC와 접촉시켜 계면 중합시킴으로써 폴리아미드층을 형성하는 방법으로 제조되고 있다.
한국 특허 공개 2014-0005489
본 명세서는 수처리 분리막의 제조장치를 제공하고자 한다.
본 명세서는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 응고액이 담긴 응고조; 및 상기 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고, 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 갖는 오버플로우 수용조를 포함하며, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로 기울어지거나, 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조장치를 제공한다.
또한, 본 명세서는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 준비하는 단계; 및 상기 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 오버플로우 수용조를 포함하는 응고조에 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 단계를 포함하며, 상기 오버플로우 수용조는 상기 응고조 내의 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 가지고, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로 기울어지거나, 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조방법을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 수처리 분리막의 제조장치는 다공성 지지체 입수 지점에 물의 유동을 제어할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 수처리 분리막의 제조장치를 통해, 다공성 지지체 상에 고분자를 균일하게 응고시킬 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 수처리 분리막의 제조장치를 통해, 제조된 한외여과(ultrafiltration, UF) 분리막은 균일한 성능을 갖는 장점이 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 수처리 분리막의 제조장치는 응고조 내 기포의 유동을 제어하여 기포에 의한 불량이 줄어드는 장점이 있다.
도 1 및 2는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 수처리 분리막의 제조장치의 단면도이다.
도 3은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 오버플로우 수용조의 사시도이다.
도 4는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부가 기울어진 각을 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 오버플로우 수용조가 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 기울어진 것을 나타낸 도면이다.
도 6은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 오버플로우 수용조가 다공성 지지체가 침지되는 위치를 바라보는 방향으로 기울어진 것을 나타낸 도면이다.
도 7은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 수처리 분리막의 제조장치에서, 위치 및 기울기조절부에 의해 조절되는 오버플로우 수용조를 나타낸 단면도이다.
도 8은 비교예 1의 오버플로우 수용조의 구비형태를 나타낸 단면도이다.
이하에서 본 명세서에 대하여 상세히 설명한다.
본 명세서는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 응고액이 담긴 응고조; 및 상기 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고, 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 갖는 오버플로우 수용조를 포함하며, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로 기울어지거나, 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조장치를 제공한다.
본 명세서는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 응고액이 담긴 응고조; 및 상기 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고, 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 갖는 오버플로우 수용조를 포함하며, 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 기울어지거나, 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조장치를 제공한다.
본 명세서는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 응고액이 담긴 응고조; 및 상기 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고, 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 갖는 오버플로우 수용조를 포함하며, 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 기울어진 것인 수처리 분리막의 제조장치를 제공한다.
본 명세서는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 응고액이 담긴 응고조; 및 상기 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고, 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 갖는 오버플로우 수용조를 포함하며, 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조장치를 제공한다.
상기 고분자 용액은 고분자 및 용매를 포함할 수 있다.
상기 고분자는 특별히 한정하지 않으나, 예를 들면 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리메틸클로라이드 및 폴리비닐리덴플루오라이드 중 적어도 하나를 포함할 수 있고, 바람직하게는 폴리술폰을 포함할 수 있다.
상기 용매는 상기 고분자를 도포가 가능하도록 유동성을 부여하거나 녹일 수 있다면 특별히 한정하지 않는다. 상기 용매는 유기용매일 수 있으며, 구체적으로 물과 섞일 수 있는 극성을 갖는 극성유기용매일 수 있다. 예를 들면, 상기 용매는 다이메틸폼아마이드(DMF), N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸아세트아미드(DMAc) 및 다이메틸설폭사이드(DMSO) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 고분자 용액의 총 중량을 기준으로, 상기 고분자의 함량은 10 중량% 이상 30 중량% 이하이고, 상기 용매는 잔량으로 포함할 수 있다.
상기 다공성 지지체는 기공을 갖는 부직포라면 특별히 한정하지 않는다. 이때, 부직포는 섬유형태의 재료를 열접착 또는 화학약품으로 접착시키거나 니들 등으로 엉키게 만든 것이며, 즉 섬유형태의 재료를 직조하지 않고(non-woven fabric) 제조된 펠트형태의 것이다.
상기 다공성 지지체의 두께는 50㎛ 이상 150㎛ 이하일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라 조절될 수 있다.
본 명세서에 따른 수처리 분리막의 제조장치는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 응고액이 담긴 응고조를 포함한다.
고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 응고액과 접촉시키면, 도포된 고분자 용액 중 용매가 응고액으로 빠져나가 고형분인 고분자가 다공성 지지체의 표면에서 응고될 수 있다.
상기 응고액은 상기 고분자 용액의 용매와의 친화도가 고분자 용액에서 고분자와의 친화도보다 높은 용매를 포함할 수 있고, 구체적으로, 상기 응고액은 물을 포함할 수 있다. 상기 응고액은 물일 수 있으나, 응고공정이 진행되면서 다공성 지지체에 도포된 고분자 용액에 포함된 조성이 상기 응고액으로 유입될 수 있다.
본 명세서에 따른 수처리 분리막의 제조장치는 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고, 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 갖는 오버플로우 수용조를 포함한다.
상기 오버플로우 수용조는 1 또는 2 이상의 오버플로우 수용조를 포함할 수 있다.
상기 오버플로우 수용조는, 상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 일측에 구비된 제1 오버플로우 수용조; 및 상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 타측에 구비된 제2 오버플로우 수용조를 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 오버플로우 수용조는 각각 1 또는 2 이상 오버플로우 수용조를 포함할 수 있다.
상기 제1 및 제2 오버플로우 수용조는 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 양측에 서로 쌍을 이루어 구비될 수 있다.
상기 제1 및 제2 오버플로우 수용조는 응고액에 침지되는 다공성 지지체를 기준으로 면대칭을 이룰 수 있다.
상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 기울어진 것이다. 이는 본 명세서에 따른 수처리 분리막의 제조장치에서, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부가 정해진 각도로 고정되어 구비된 것을 의미한다.
이때, 상기 개구부의 테두리부는 개구부의 테두리로 형성되는 도형을 의미하거나, 개구부의 테두리로 형성되는 도형을 포함하는 면을 의미하거나, 개구부의 테두리를 포함하는 면을 의미한다.
상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부가 기울어진 각은 0°초과 89°이하일 수 있다. 이 경우 다공성 지지체 입수 지점에 물의 유동을 제어하여 기포에 의한 불량이 줄어드는 장점이 있다.
상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부가 기울어진 각은 0°초과 40°이하일 수 있으며, 구체적으로 10°이상 40°이하일 수 있고, 더 구체적으로 20°이상 40°이하일 수 있다. 바람직하게는 20°초과 40°미만일 수 있으며, 더 바람직하게는 15°이상 35°이하일 수 있다.
본 명세서에 따른 수처리 분리막의 제조장치가 2 이상의 오버플로우 수용조를 포함하는 경우, 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 2 이상의 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부가 기울어진 각은 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
상기 개구부의 테두리로 형성되는 도형은 특별히 한정하지 않으나, 구체적으로 원형; 타원형; 및 삼각형, 직사각형, 정사각형, 사다리꼴, 마름모, 그 외 사각형, 오각형, 육각형, 칠각형, 팔각형 등의 다각형일 수 있다.
상기 오버플로우 수용조는 개구부를 가지고 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용할 수 있도록 내부에 빈공간이 존재한다면 그 형태를 특별히 한정하지 않는다.
상기 오버플로우 수용조는 바닥면, 상기 바닥면의 둘레로부터 연장되어 구비된 측면, 및 상기 바닥면과 마주보는 위치에 구비된 개구부를 포함할 수 있다. 이때, 상기 개구부의 테두리부는 상기 측면 중 바닥면과 접하지 않는 단부를 의미한다.
상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 기울어지도록 조절가능하다.
본 명세서에 따른 수처리 분리막의 제조장치는 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부의 기울기를 조절하는 기울기조절부를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 기울기조절부에 의해서, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부의 기울기가 조절된다.
상기 기울기조절부에 의해서, 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부가 기울어진 각을 0°초과 40°이하로 조절할 수 있다.
본 명세서에 따른 수처리 분리막의 제조장치가 2 이상의 오버플로우 수용조를 포함하는 경우, 상기 기울기조절부에 의해서, 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 2 이상의 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부가 기울어진 각을 서로 동일하거나 상이하도록 조절할 수 있다.
상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 일면으로부터 상기 오버플로우 수용조까지의 거리는 10mm 이상 1000mm 이하일 수 있다. 이 경우 떨림에 의해 다공성 지지체에 접촉되지 않고 공간상 제약이 적은 장점이 있다.
상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 일면으로부터 상기 오버플로우 수용조까지의 거리는 10mm 이상 1000mm 이하일 수 있고, 구체적으로 50mm 이상 500mm 이하일 수 있다. 이때, 상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 일면으로부터 상기 오버플로우 수용조까지의 거리는, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 응고액의 수면을 기준으로 다공성 지지체의 일면으로부터 오버플로우 수용조까지 가장 가까운 거리(d)를 의미한다.
상기 다공성 지지체가 최종적으로 완전히 침지될 수 있도록, 상기 응고조 내 응고액의 높이는 상기 다공성 지지체의 길이보다 길 수 있다. 이때, 다공성 지지체의 길이는 응고액의 높이방향으로 다공성 지지체의 길이를 의미하며, 다시 말하면 다공성 지지체를 응고액에 침지할 때, 응고액의 수면의 수직인 방향으로 다공성 지지체의 길이를 의미한다.
도 2를 바탕으로 설명하면, 상기 응고조 내 응고액의 높이(h)는 상기 다공성 지지체의 길이(l)보다 길 수 있다.
본 명세서에 따른 수처리 분리막의 제조장치는 상기 오버플로우 수용조의 높이, 및 상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 일면으로부터 상기 오버플로우 수용조의 거리를 조절하는 위치조절부를 더 포함할 수 있다.
본 명세서는 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 준비하는 단계; 및 상기 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 오버플로우 수용조를 포함하는 응고조에 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 단계를 포함하는 수처리 분리막의 제조방법을 제공한다.
상기 수치리 분리막의 제조방법은 수처리 분리막의 제조장치의 상술한 설명을 인용할 수 있다.
이하에서, 실시예를 통하여 본 명세서를 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 명세서를 예시하기 위한 것일 뿐, 본 명세서를 한정하기 위한 것은 아니다.
[실시예]
(1) 다공성 지지체에 고분자 용액 도포
다공성 지지체(폴리에스터, 두께는 80㎛~100㎛, 폭 41”(inch), 투기도 1cm/s ~3cm/s)의 표면에 고분자 용액을 인라인 슬롯다이코터로 도포했다.
이때, 상기 고분자 용액은 고분자로서 폴리술폰(점도(ISO 1628-5) 81ml/g) 15±5중량%와, 용매로서 DMF 80±5중량%를 사용하여 제조했다.
(2) 고분자 응고
침지되는 다공성 지지체의 양측에 오버플로우 수용조를 각각 구비하고, 하기 표 1과 같이 양측의 오버플로우 수용조의 기울기를 조절한 후, 각 조건에서 상기 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지했다. 이를 통해, 다공성 지지체의 표면에 고분자를 응고시켜 다공성 지지체의 표면에 고분자가 응고된 한외여과(ultrafiltration, UF) 분리막을 각각 제조했다.
구분 제1 오버플로우 수용조의 기울기(°) 제2 오버플로우 수용조의 기울기(°)
비교예 1 0 0
실시예 1 10 10
실시예 2 20 20
실시예 3 30 30
실시예 4 40 40
실시예 5 30 -30
실시예 6 -30 30
상기 표 1에서 음(-)의 기울기는 다공성 지지체가 침지되는 위치로 기울일 때, 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부의 각을 의미한다.
이때, 다공성 지지체의 일면으로부터 상기 오버플로우 수용조까지의 거리는 100mm이었다.
[실험예 1]
실시예 및 비교예를 통해 제조된 한외여과(ultrafiltration, UF) 분리막 상에 발생된 핀홀의 개수를 측정하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타냈다.
이때, 핀홀발생률은 실시예 및 비교예를 통해 제조된 한외여과(ultrafiltration, UF) 분리막의 전면을 인라인 자동검사기로 측정한 평균값이며, 비교예 1의 핀홀 개수를 1로 가정하여 핀홀발생률을 상대적으로 비교했다.
[실험예 2]
실시예 및 비교예를 통해 제조된 한외여과(ultrafiltration, UF) 분리막을 인라인 슬롯다이 방식으로 m-페닐렌 디아민(m-Phenylene Diamine, mPD) 수용액을 1차 도포하여 mPD층을 형성했다. mPD층 상에 인라인 슬롯다이 방식으로 트리메조일클로라이드(TriMesoyl Chloride, TMC) 유기 용액을 2차 도포하여 계면중합으로 형성된 폴리아미드층이 구비된 수처리 분리막을 제조했다.
실시예 및 비교예를 통해 제조된 한외여과(ultrafiltration, UF) 분리막을 이용하여 제조된 수처리 분리막에 대하여 각각 염제거율(rejection)을 6회 측정한 후 그 평균값을 하기 표 2에 나타냈다. 이때, 염제거율은 막을 NaCl 2000 ppm을 함유하는 수용액에서 225 psi의 압력하에 평가하였다.
구분 Rejection (%) 핀홀발생률
비교예 1 99.34 1.00
실시예 1 99.27 0.85
실시예 2 99.32 0.62
실시예 3 99.49 0.13
실시예 4 99.48 0.10
실시예 5 99.19 0.76
실시예 6 99.35 0.80
상기 표 2를 통해, 오버플로우 수용조를 기울인 실시예들이 기울이지 않은 비교예 1보다 핀홀발생률이 낮은 것을 알 수 있다.
기울인 각도가 높아질수록 염제거율이 높고, 핀홀발생률이 낮아지는 경향성을 보이는 것을 알 수 있다.
오버플로우 수용조의 틸팅각(응고액의 수면을 기준으로, 기울어진 각)이 30°인 실시예 3, 5 및 6을 비교하면, 다공성 지지체가 침지되는 위치로 제1 오버플로우 수용조 또는 제2 오버플로우 수용조를 기울인 실시예 5 및 6보다 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 제1 및 제2 오버플로우 수용조를 모두 기울인 실시예 3이 핀홀발생률이 적고, 염제거율이 높은 것을 알 수 있다.
100: 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체
200: 응고조
210: 응고액
230: 수면
300: 오버플로우 수용조
310: 개구부
330: 제1 오버플로우 수용조
350: 제2 오버플로우 수용조
370: 개구부의 테두리부
375: 개구부의 테두리로 형성되는 도형을 포함하는 면
390: 개구부의 테두리부 가 기울어진 각
h: 응고액의 높이
l: 다공성 지지체의 길이
d: 다공성 지지체의 일면으로부터 상기 오버플로우 수용조까지의 거리

Claims (12)

  1. 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 응고액이 담긴 응고조; 및
    상기 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고, 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 갖는 오버플로우 수용조를 포함하며,
    상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로 기울어지거나, 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 기울어지거나, 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부가 기울어진 각은 0°초과 40°이하인 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 일면으로부터 상기 오버플로우 수용조까지의 거리는 10mm 이상 1000mm 이하인 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 수처리 분리막의 제조장치는 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부의 기울기를 조절하는 기울기조절부를 더 포함하는 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 수처리 분리막의 제조장치는,
    상기 오버플로우 수용조의 높이, 및 상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 일면으로부터 상기 오버플로우 수용조의 거리를 조절하는 위치조절부를 더 포함하는 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 오버플로우 수용조는,
    상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 일측에 구비된 제1 오버플로우 수용조; 및
    상기 응고액에 침지되는 다공성 지지체의 타측에 구비된 제2 오버플로우 수용조를 포함하는 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 고분자 용액은 고분자로서 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리메틸클로라이드 및 폴리비닐리덴플루오라이드 중 적어도 하나를 포함하는 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 응고조 내 응고액의 높이는 상기 다공성 지지체의 길이보다 긴 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 응고액은 물인 것인 수처리 분리막의 제조장치.
  11. 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 준비하는 단계; 및
    상기 고분자 용액이 도포된 다공성 지지체를 오버플로우 수용조를 포함하는 응고조에 침지하여 상기 다공성 지지체 상의 고분자를 응고시키는 단계를 포함하며,
    상기 오버플로우 수용조는 상기 응고조 내의 응고액에 적어도 일부가 잠기도록 구비되고 상기 응고조 내의 응고액이 일정수위를 초과할 때 초과된 응고액을 수용하는 개구부를 가지고,
    상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 응고조 내의 응고액의 수면을 기준으로 기울어지거나, 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조방법.
  12. 청구항 11에 있어서, 상기 오버플로우 수용조의 개구부의 테두리부는 상기 다공성 지지체가 침지되는 위치와 반대방향으로 기울어지거나, 기울어지도록 조절가능한 것인 수처리 분리막의 제조방법.
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