KR102073529B1 - 가스 내 부유 파우더 트랩장치 - Google Patents

가스 내 부유 파우더 트랩장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 가스 내 부유 파우더 트랩장치에 관한 것이다. 이는, 상부로 개방된 처리공간을 갖는 본체, 상기 본체의 상단부에 결합하여 처리공간을 밀폐하는 밀폐커버를 포함하고, 처리할 가스를 통과시키는 케이싱과; 상기 케이싱의 처리공간내에 수직방향으로 이격 배치되며 외부로부터 주입된 냉각수에 의해 냉각된 상태로 케이싱을 통과하는 가스와 접하여 가스를 냉각시켜 가스에 혼재되어 있는 파우더를 그 외주면에 부착시키는 다수의 냉각디스크, 냉각디스크를 상호 연결하여 냉각디스크의 간격을 유지시키는 간격유지봉을 구비한 파우더포집부가 포함된다.
상기와 같이 이루어지는 본 발명의 가스 내 부유 파우더 트랩장치는, 스크러버를 향하는 가스를 그 내부로 통과시키며 가스 내에 혼재되어 있는 파우더의 일부를 포집하여 스크러버의 부하를 낮춤으로서 스크러버에 대한 유지보수 부담을 경감시키며 반도체 생산공정의 전체적인 효율을 높일 수 있게 한다.

Description

가스 내 부유 파우더 트랩장치{Floating Powder Trap Device in Gas}
본 발명은 사용된 산업용 가스의 내부에 남아있는 파우더형 이물질을 분리 제거하는 트랩장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가열된 상태의 가스를 냉각면에 접촉시켜 가스내의 파우더가 냉각면에 포집되도록 유도하는 가스 내 부유 파우더 트랩장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하기 위한 단위공정에는, 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 증착공정, 박막 위에 포토레지스트를 패터닝하는 포토리소그래피 공정, 포토레지스트를 마스크로 사용하여 패턴을 식각하는 식각 공정, 웨이퍼 표면에 도전성 불순물을 이온 주입하는 이온주입 공정 및 각각의 공정에서 유발된 파티클 또는 폴리머와 같은 오염물질을 제거하는 세정공정 등이 포함된다.
상기 증착공정을 수행하는 증착장치의 경우, 그 내부에서 사용된 반응가스를 배기해야 하는데, 반응가스에는 유독성 기체나 파우더가 포함되어 있기 때문에, 스크러버 등을 이용해 적절히 처리한 후 배기하도록 되어 있다.
상기 스크러버에는 습식과 건식이 있으며, 습식의 경우는 유독물질이나 파우더의 포집 효율이 높지만 장치가 복잡하고 유지보수가 번거로우며 처리과정에서 2차 환경오염을 발생시킬 수 있다. 이에 비해 건식 스크러버는 습식에 비해 비교적 장치가 간단하지만 포집 효율이 습식에 비해 떨어진다.
상기 반응가스 내부의 파우더는 대부분 미세한 사이즈를 가지지만, 약간의 물리적 화학적 영향에 의해, 말하자면, 미세 파우더가 뭉쳐 큰 크기의 파우더로 변화되기도 한다. 사이즈가 커진 파우더는 스크러버의 부하를 증가시키고 스크러버 자체의 처리 효율을 떨어뜨리는 원인으로 작용한다. 또는 제거되지 않고 스크러버의 바닥에 쌓여 스크러버 내부를 오염시키기도 한다.
스크러버가 파우더에 의해 오염될 경우, 오염된 이후의 처리효율이 급격히 저하하므로, 스크러버를 주기적으로 청소해주는 등의 유지보수가 중요하다. 그런데 스크러버의 청소작업은 작업 환경 자체가 열악하고, 작업 중에도 많은 파우더를 발생하며, 특히 유지보수 중에는 전체 생산 공정을 일시 중단하여야 한다는 문제점이 있었다.
국내 공개특허공보 제10-2005-0071113호 (스크러버의 이온집진 파우더필터) 국내 공개실용신안공보 실2000-0015209호 (반도체 웨이퍼 스크러버)
본 발명은 상기 문제점을 해소하고자 창출한 것으로서, 스크러버의 부하를 낮춤으로서 스크러버에 대한 유지보수 부담을 경감시키며 반도체 생산공정의 전체적인 효율을 높일 수 있게 하는 가스 내 부유 파우더 트랩장치를 제공함에 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 과제의 해결수단으로서의 본 발명의 가스 내 부유 파우더 트랩장치는, 상부로 개방된 처리공간을 갖는 본체, 상기 본체의 상단부에 결합하여 처리공간을 밀폐하는 밀폐커버를 포함하고, 처리할 가스를 통과시키는 케이싱과; 상기 케이싱의 처리공간내에 수직방향으로 이격 배치되며 외부로부터 주입된 냉각수에 의해 냉각된 상태로 케이싱을 통과하는 가스와 접하여 가스를 냉각시켜 가스에 혼재되어 있는 파우더를 그 외주면에 부착시키는 다수의 냉각디스크, 냉각디스크를 상호 연결하여 냉각디스크의 간격을 유지시키는 간격유지봉을 구비한 파우더포집부가 포함된다.
또한, 상기 냉각디스크는; 일정두께를 가지며 상기 냉각수를 내부로 통과시키는 냉각수공간을 제공하고, 상기 가스를 두께 방향으로 상향 통과시키기 위한 다수의 가스통로를 구비한 중공형태의 디스크이고, 위 아래로 이웃하는 냉각디스크의 사이에는, 상기 냉각수공간을 연통시켜, 최상층 냉각디스크의 냉각수가 최하층 냉각디스크로 흐르도록 유도하는 중공의 수직튜브가 설치되며, 상기 케이싱에는, 최상층 냉각디스크에 냉각수를 주입하는 냉각수주입부와, 최하층 냉각디스크내의 냉각수를 외부로 배출하는 냉각수유출구를 구비한다.
아울러, 상기 냉각디스크에 대한 파우더의 포집 효율을 높이기 위하여 케이싱의 처리공간 내부로 초순수를 분무하는 초순수공급부가 더 포함된다.
또한, 상기 냉각디스크의 가스통로 상측에는; 냉각디스크를 상향 통과한 가스에 볼텍스를 형성하기 위한 것으로서, 상기 가스통로에 끼워지는 튜브형 삽입고정부, 상기 삽입고정부의 상단외주면에 일체를 이루며 냉각디스크의 상면에 면접하여 지지력을 제공하는 안착판, 상기 안착판의 상부에 형성되며 삽입고정부를 통과한 가스를 상향 유도하는 바디부, 상기 바디부의 상단에 형성되며 가스를 측방향으로 분출하는 노즐부를 갖는 가스트위스터가 착탈 가능하게 설치되고, 상기 냉각디스크의 가스통로 하측에는; 냉각디스크의 하부에서 올라오는 가스를 상기 가스통로로 유도하는 것으로서, 상기 삽입고정부와 함께 가스통로 내에 끼워지는 튜브형 끼움고정부, 상기 끼움고정부의 하단 외주면에 일체를 이루며 냉각디스크의 저면에 밀착하는 밀착판, 상기 밀착판의 하부에 형성되며 하부로 갈수록 벌어진 링의 형태를 취하고 다수의 관통슬릿을 갖는 가이드베인을 구비한 상향류가이더가 끼워지며, 상기 냉각디스크의 저면에는; 냉각디스크의 중심부를 기준으로 반지름 방향으로 연장되고 직선형 슬라이딩홈을 갖는 스크린홀더, 상기 슬라이딩홈에 슬라이딩 결합하는 슬라이더, 상기 슬라이더에 일체를 이루고 사각 틀의 형태를 취하는 프레임, 상기 프레임의 내측 영역에 고정되며 가스 내부의 일부 파우더를 걸러내는 여과망을 갖는 여과부가 장착된다.
상기와 같이 이루어지는 본 발명의 가스 내 부유 파우더 트랩장치는, 스크러버를 향하는 가스를 그 내부로 통과시키며 가스 내에 혼재되어 있는 파우더의 일부를 포집하여 스크러버의 부하를 낮춤으로서 스크러버에 대한 유지보수 부담을 경감시키며 반도체 생산공정의 전체적인 효율을 높일 수 있게 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 내 부유 파우더 트랩장치의 사용 예를 나타내 보인 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 내 부유 파우더 트랩장치의 구성을 설명하기 위한 단면도이다.
도 3은 도 2에 도시한 트랩장치를 분해하여 도시한 단면도이다.
도 4는 도 2에 도시한 냉각디스크의 절제 사시도이다.
도 5는 도 2에 도시한 냉각디스크의 다른 예를 도시한 일부 단면도이다.
도 6은 도 5에 도시한 냉각디스크의 평면도이다.
도 7은 도 5에 도시한 냉각디스크의 저면도이다.
도 8은 도 7의 여과부를 별도로 도시한 분해 사시도이다.
도 9는 도 7에 도시한 상항류가이더의 절제 사시도이다.
이하, 본 발명에 따른 하나의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 내 부유 파우더 트랩장치(20)의 사용 예를 나타내 보인 도면이다.
도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 파우더 트랩장치(20)는 진공펌프(12)와 스크러버(14)의 사이에 설치된다. 진공펌프(12)는 웨이퍼가공장비(10)의 내부에서 사용 된 가스를 뽑아내어 스크러버(14)로 이송시키는 역할을 한다. 스크러버(14)는 가스에 혼재되어 있는 파우더를 제거한다. 상기 가스 내부에 포함되어 있는 파우더의 양이 많을수록 스크러버(14)의 부하가 증가함은 물론이다.
본 실시예에 따른 파우더 트랩장치(20)는, 스크러버(14)의 상류측에 설치되며 파우더 트랩장치(20)를 향하는 가스 내 부유 파우더의 일부를 포집함으로써, 스크러버(14)의 부하를 경감시키는 역할을 한다.
또한, 경우에 따라 트랩장치(20)에 초순수공급부(70)가 더 포함될 수 있다. 초순수공급부(70)는 트랩장치(20) 내부의 습도를 올려 파우더의 포집 효율을 증대시키기 위한 것이다. 말하자면 미스트 형태의 초순수를 분무하여, 후술할 냉각디스크에 대한 파우더의 부착성을 높이기 위한 것이다.
트랩장치(20)를 구성하는 케이싱(21)의 하부에는 다수의 바퀴(27)가 설치된다. 바퀴(27)가 장착되어 있으므로 트랩장치(20)의 이동 배치가 용이하다. 아울러 케이싱(21)의 측부 하단에는 가스유입부(25a)가, 상단에는 가스유출부(25b)가 위치하고, 케이싱(21)의 측부 상측에는 냉각수주입부(23a)가, 측부 하측에는 냉각수유출부(23b)가 구비된다.
가스유입부(25a)는 진공펌프(12)로부터 전달된 사용 후 가스가 주입되는 포트이고, 가스유출부(25b)는 파우더가 일부 제거된 가스가 배출되는 포트이다. 가스유출부(25b)를 통해 배출되는 가스는 스크러버(14)로 전달된다.
또한 냉각수주입부(23a)는 외부로부터 주입된 냉각수가 케이싱 내부의 냉각디스크(도 2의 31)로 유입하는 포트이며, 냉각수유출부(23b)는 사용을 마친 냉각수가 빠지는 포트이다. 상기 냉각수는 공정수(process water)로서 가스유입부(25a)를 통해 유입되는 고온의 가스보다 낮은 수온을 갖는다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 내 부유 파우더 트랩장치(20)의 내부 구성을 설명하기 위한 단면도이고, 도 3은 트랩장치를 분해하여 도시한 단면도이다. 또한 도 4는 도 2에 도시한 냉각디스크(31)의 절제 사시도이다.
도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 파우더 트랩장치(20)는, 케이싱(21)과, 파우더포집부(30)를 구비한다.
먼저, 케이싱(21)은 본체(21a)와 밀폐커버(21b)로 이루어진다. 본체(21a)는 바퀴(27)에 지지되며 수직방향으로 세워지고 상부로 개방된 처리공간(21c)을 제공한다. 본체(21a)는 일정 직경을 갖는 원통의 형태를 취한다.
또한 밀폐커버(21b)는 본체(21a)의 상단부에 결합하여 처리공간(21c)을 밀폐시키는 뚜껑이다. 밀폐커버(21b)의 중앙부에는 가스가 통과하는 가스유출부(25b)가 위치한다.
아울러 위에 언급한 바와 같이, 도면상 좌측 상측부에는 냉각수주입부(23a)가 위치한다. 냉각수주입부(23a)는 외부로부터 공급된 냉각수를 최상층 냉각디스크(31) 내부로 유도하는 통로이다. 도면상 우측 하측부에는 냉각수유출부(23b)가 위치한다. 냉각수유출부(23b)는 최하층 냉각디스크(31)를 통과한 냉각수를 외부로 배출하는 통로이다.
또한 냉각수주입부(23a)의 연직 하부에는 가스유입부(25a)가 마련된다. 가스유입부(25a)는 상기 진공펌프(12)에 의해 펌핑되는 가스를, 최하층 냉각디스크(31)의 하부공간으로 유도한다.
한편, 상기 파우더포집부(30)는, 케이싱(21)을 통과하는 가스 내의 파우더를 포집하는 것으로서, 수직 방향으로 배치되는 다수의 냉각디스크(31)와, 냉각디스크를 상호 연결하여 냉각디스크의 간격을 유지시키는 간격유지봉(36)과, 위아래로 이웃하는 냉각디스크(31)를 연통시키는 수직튜브(34)를 갖는다.
냉각디스크(31)의 구조는 도 4에 도시한 바와 같다.
도 4에 도시한 바와 같이, 냉각디스크(31)는, 하판(31a), 밀폐링(31c), 상판(31b)을 구비한다. 하판(31a) 및 상판(31b)은 일정두께 및 직경을 갖는 원판으로서 그 테두리부가 밀폐링(31c)과 결합한다. 밀폐링(31c)에 대한 상판(31b) 및 하판(31a)의 결합은 용접방식이며, 하판(31a) 및 상판(31b)의 사이에 냉각수공간(31d)이 형성된다. 냉각수공간(31d)은 외부에 대해 밀폐되며 냉각수가 통과하는 통로이다. 냉각수는 냉각수공간(31d)을 통과하는 동안 냉각디스크(31)를 냉각시킨다.
아울러 냉각디스크(31)에는 다수의 가스유동튜브(32)가 구비된다. 가스유동튜브(32)는 일정직경의 원통형 부재로서 냉각디스크(31)를 두께 방향으로 관통하는 가스통로(32a)를 제공한다. 가스통로(32a)는 가스유입부(25a)를 통해 유입한 가스를 상향 통과시키는 통로로서 일정 내경을 갖는다.
또한 상판(31b)의 일측에는 상부구멍(31e)이 형성되어 있다. 상부구멍(31e)은 수직튜브(34)의 하단부가 끼워지는 구멍이다. 마찬가지로 하판(31a)에는 하부구멍(31f)이 마련된다. 하부구멍(31f)은 다른 수직튜브(34)의 상단부가 끼움 결합하는 구멍이다. 상부구멍(31e)과 하부구멍(31f)은 최대한 멀리 위치될수록 좋다.
상기 구성을 갖는 냉각디스크(31)에 있어서, 수직튜브(34)를 통해 상부구멍(31e)으로 유입한 냉각수는 냉각수공간(31d)을 통과한 후 하부구멍(31f)을 통해 빠져나간다. 결국, 최상층 냉각디스크(31)로 유입한 냉각수는 중력의 작용에 의해 하강하며 모든 냉각디스크(31)를 차례로 통과한 후 최하층 냉각디스크(31)를 거쳐 외부로 배출된다.
또한 각 냉각디스크(31)의 사이에는 다수의 간격유지봉(36)이 위치한다. 간격유지봉(36)은 환봉형 부재로서, 상하로 위치하는 냉각디스크(31)의 간격을 유지시킨다. 간격유지봉(36)의 상하단부는 냉각디스크(31)에 용접 결합된다. 아울러 최하층 냉각디스크(31)의 하부에 고정되는 간격유지봉(36)은 본체(21a)의 바닥면(21d)에 대한 냉각디스크(31)의 높이를 유지시킨다. 상기 간격유지봉(36)에 의해 모든 냉각디스크(31)는 하나의 몸체를 이룬다.
도면부호 33은 인출손잡이이다. 인출손잡이(33)는 파우더포집부(30)를 본체(21a)로부터 꺼내기 위해 손으로 잡는 부분이다. 즉, 도 3에 도시한 바와 같이, 밀폐커버(21b)를 개방한 후 인출손잡이(33)를 잡아 올리면 처리공간(21c)에 내장되어 있던 파우더포집부(30)를 통째로 꺼낼 수 있는 것이다.
파우더포집부(30)를 꺼내는 이유는 각 냉각디스크(31)를 세척하기 위해서이다. 즉, 각 냉각디스크(31)의 저면에 들러붙어 있는 파우더(P) 적층체를 냉각디스크(31)로부터 떼어내기 위한 것이다.
상기 구성을 갖는 본 실시예에 따른 가스내 부유 파우더 트랩장치(20)의 작동은 다음과 같이 이루어진다.
먼저, 상기 진공펌프(12)를 가동하면 웨이퍼가공장비(10)로부터, 사용 후 가스가 케이싱(21) 내부로 넘어온다. 사용 후 가스는 케이싱(21)의 가스유입부(25a)를 통해, 최하층 냉각디스크(31)의 하부 공간으로 유입한 후 각 가스통로(32a)를 상향 통과하며 가스유출부(25b)를 향한다.
상기와 같이 가스가 케이싱(21)을 통과하는 동안 냉각수주입부(23a)를 통해 냉각수를 공급한다. 공급된 냉각수는 최상층 냉각디스크(31)로부터 하강하며 각 냉각디스크(31)를 냉각시킨다. 냉각디스크(31)는 냉각수에 의해 냉각되며 고온의 가스와 접한다.
고온의 가스는 차가운 냉각디스크와 접하며 열교환 되고, 이 때, 가스 내에 혼재되어 있는 파우더의 일부는 냉각디스크(31)의 저면에 들러붙는다. 파우더가 냉각디스크(31)에 들러붙는 원리는 케이싱 내부의 습기에 기인한 것이다.
아울러 상기 파우더의 점착을 보다 효율적으로 구현하기 위해, 상기한 초순수공급부(70)를 가동시켜, 케이싱(21) 내부에 초순수를 분무할 수 있다. 분무된 초순수는 가스 내 파우더와 결합하며, 냉각디스크(31)에 대한 파우더의 점착을 촉진한다. 이 때 초순수의 표면장력이 작용함은 물론이다.
도 5는 도 2에 도시한 냉각디스크의 다른 예를 도시한 도면이고, 도 6은 도 5에 도시한 냉각디스크의 평면도이다. 또한 도 7은 도 5에 도시한 냉각디스크의 저면도이다.
도시한 바와 같이, 냉각디스크(31)의 상부에 다수의 가스트위스터(41)가, 하부에 여과부(50) 및 상향류가이더(60)가 더 장착될 수 있다.
상기 가스트위스터(41)는, 냉각디스크(31)를 상향 통과한 가스에 볼텍스(voltex)를 형성하기 위한 것이다. 즉 가스의 흐름을 화살표 t방향으로 유도하여, 가스가 냉각디스크(31)의 사이공간에서 회오리치게 하는 것이다.
이러한 가스트위스터(41)는, 삽입고정부(41e), 안착판(41a), 바디부(41e), 노즐부(41c)로 이루어진다. 삽입고정부(41e)는 상기 가스통로(32a)에 끼워져 고정되는 중공 튜브형부분으로서 통로(41d)를 제공한다. 삽입고정부(41e)의 삽입 깊이는 냉각디스크(31) 두께의 절반 이하이다.
안착판(41a)은 삽입고정부(41e)의 상단외주면에 일체를 이루며 냉각디스크(31)의 상면에 면접하여 지지력을 제공한다. 안착판(41a)에 의해, 가스트위스터(41)가 하부로 빠지거나 한쪽으로 기울어질 염려가 없다. 또한 바디부(41b)는 안착판(41a)의 상부에 형성되며 삽입고정부(41e)를 통과한 가스를 상향 유도하는 역할을 하고, 노즐부(41c)는 바디부(41b)의 상단에 형성되며 가스를 화살표 t방향으로 분출하는 기능을 담당한다. 노즐부(41c)를 통해 가속되는 가스는, 수평면에 대해 30도 내지 50도의 상향류의 흐름 패턴을 갖는다.
상기 여과부(50)는, 화살표 t방향으로 흐르는 가스에 혼재되어 있는 파우더의 일부를 걸러내는 것으로서, 도 7 및 도 8에 도시한 바와 같이, 냉각디스크(31)의 중심부를 기준으로 대칭을 이룬다.
도 8은 도 7의 여과부(50)의 구조를 설명하기 위하여 냉각디스크(31)를 뒤집어 도시한 분해 사시도이다.
도시한 바와 같이, 여과부(50)는, 스크린홀더(51)와 스크린판(53)으로 구성된다. 스크린홀더(51)는 하판(31a)의 저면에 고정되되 반지름 방향으로 연장되고 직선형 슬라이딩홈(51a)을 제공하는 막대형 부재이다.
스크린판(53)은, 슬라이딩홈(51a)에 슬라이딩 결합하는 슬라이더(53c), 슬라이더(53c)에 일체를 이루고 사각 틀의 형태를 취하는 프레임(53a), 프레임의 내측 영역에 고정되는 여과망(53b)으로 구성된다. 슬라이더(53c)는 도브테일형 단면 형상을 가지며 슬라이딩홈(51a)에 끼움 결합한다. 필요에 따라 스크린홀더(51)로부터 스크린판(53)을 분리할 수 있음은 물론이다.
상기 프레임(53a)은 사다리꼴 형태의 틀로서 슬라이더(53c)에 일체를 이루고, 여과망(53b)을 지지한다. 여과망(53b)은 스테인리스스틸이나 합성수지로 제작된 망사형 시트로서, 파우더 중 상대적으로 입도가 큰 파우더를 걸러내는 역할을 한다. 여과부(50)를 적용함으로써 파우더의 포집 효율을 더욱 상승시킬 수 있다.
상기 상향류가이더(60)는, 각 가스통로(32a)에 끼워지며, 냉각디스크(31)의 하부에서 올라오는 가스를 가스통로(32a)로 유도하는 역할을 한다. 상향류가이더(60)는 가스트위스터(41)와 함께 가스통로(32a)를 공유한다.
도 9에 상항류가이더(60)의 구조를 자세히 도시하였다.
도시한 바와 같이, 상향류가이더(60)는, 수직통로(61a)를 제공하는 끼움고정부(61), 밀착판(65), 관통슬릿(63a)이 형성된 가이드베인(63)을 구비한다.
끼움고정부(61)는 가스통로(32a) 내에 끼워지는 중공형 부재이다. 끼움고정부(61)의 외주면이 가스유동튜브(32)의 내주면에 밀착함은 물론이다.
밀착판(65)은 끼움고정부(61)의 하단 외주면에 일체를 이루며 냉각디스크의 저면에 밀착한다. 밀착판(65)은 다수의 가이드베인(63)을 지지하는 역할을 한다.
또한, 가이드베인(63)은 세 개가 동심을 가지도록 형성되며 서로에 대해 일정간격 이격된다. 각 가이드베인(63)은 밀착판(65)의 저면에서 하부로 갈수록 외측으로 벌어진 링의 형태를 취하며, 원주방향으로 연장된 다수의 관통슬릿(63a)을 갖는다. 관통슬릿(63a)은 가스가 통과하는 통로이다.
상기 구성을 갖는 가이드베인(63)은, 각 냉각디스크(31)의 하부에 머물러 있는 가스 중, 하판(31a)을 스치는 가스를 유도하여 신속하게 냉각디스크(31)를 통과하게 한다.
이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정하지 않고, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.
10:웨이퍼가공장비 12:진공펌프 14:스크러버
20:파우더 트랩장치 21:케이싱 21a:본체
21b:밀폐커버 21c:처리공간 21d:바닥면
23a:냉각수주입부 23b:냉각수유출부 25a:가스유입부
25b:가스유출부 27:바퀴 30:파우더포집부
31:냉각디스크 31a:하판 31b:상판
31c:밀폐링 31d:냉각수공간 31e:상부구멍
31f:하부구멍 32:가스유동튜브 32a:가스통로
33:인출손잡이 34:수직튜브 36:간격유지봉
41:가스트위스터 41a:안착판 41b:바디부
41c:노즐부 41d:통로 41e:삽입고정부
50:여과부 51:스크린홀더 51a:슬라이딩홈
53:스크린판 53a:프레임 53b:여과망
53c:슬라이더 60:상향류가이더 61:끼움고정부
61a:수직통로 63:가이드베인 63a:관통슬릿
65:밀착판 70:초순수공급부

Claims (4)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 상부로 개방된 처리공간을 갖는 본체, 상기 본체의 상단부에 결합하여 처리공간을 밀폐하는 밀폐커버를 포함하고, 처리할 가스를 통과시키는 케이싱과; 상기 케이싱의 처리공간내에 수직방향으로 이격 배치되며 외부로부터 주입된 냉각수에 의해 냉각된 상태로 케이싱을 통과하는 가스와 접하여 가스를 냉각시켜 가스에 혼재되어 있는 파우더를 그 외주면에 부착시키는 다수의 냉각디스크, 냉각디스크를 상호 연결하여 냉각디스크의 간격을 유지시키는 간격유지봉을 구비한 파우더포집부가 포함되고,
    상기 냉각디스크에 대한 파우더의 포집 효율을 높이기 위하여 케이싱의 처리공간 내부로 초순수를 분무하는 초순수공급부가 더 포함되며,
    상기 냉각디스크의 가스통로 상측에는;
    냉각디스크를 상향 통과한 가스에 볼텍스를 형성하기 위한 것으로서, 상기 가스통로에 끼워지는 튜브형 삽입고정부, 상기 삽입고정부의 상단외주면에 일체를 이루며 냉각디스크의 상면에 면접하여 지지력을 제공하는 안착판, 상기 안착판의 상부에 형성되며 삽입고정부를 통과한 가스를 상향 유도하는 바디부, 상기 바디부의 상단에 형성되며 가스를 측방향으로 분출하는 노즐부를 갖는 가스트위스터가 착탈 가능하게 설치되고,
    상기 냉각디스크의 가스통로 하측에는;
    냉각디스크의 하부에서 올라오는 가스를 상기 가스통로로 유도하는 것으로서, 상기 삽입고정부와 함께 가스통로 내에 끼워지는 튜브형 끼움고정부, 상기 끼움고정부의 하단 외주면에 일체를 이루며 냉각디스크의 저면에 밀착하는 밀착판, 상기 밀착판의 하부에 형성되며 하부로 갈수록 벌어진 링의 형태를 취하고 다수의 관통슬릿을 갖는 가이드베인을 구비한 상향류가이더가 끼워지며,
    상기 냉각디스크의 저면에는;
    냉각디스크의 중심부를 기준으로 반지름 방향으로 연장되고 직선형 슬라이딩홈을 갖는 스크린홀더, 상기 슬라이딩홈에 슬라이딩 결합하는 슬라이더, 상기 슬라이더에 일체를 이루고 사각 틀의 형태를 취하는 프레임, 상기 프레임의 내측 영역에 고정되며 가스 내부의 일부 파우더를 걸러내는 여과망을 갖는 여과부가 장착된 가스 내 부유 파우더 트랩장치.
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