KR102059917B1 - Copper alloy material and method for producing same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성뿐만 아니라, 양호한 내열성도 겸비한 구리합금재료 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 구리합금재료는, Ni을 0.05~1.2질량%, P을 0.01~0.15질량% 및 Sn을 0.05~2.5질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어진 합금 조성을 가지며, 전해연마 후의 재료 표면을 FE-SEM로 관찰하여, 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 화합물 입자의 개수 비율이 20개/㎛2 이상, 입자 직경이 30㎚ 초과인 화합물 입자의 개수 비율이 1개/㎛2 이하인 것을 특징으로 한다.
The present invention provides a copper alloy material having not only high strength, high electrical conductivity and good bending workability but also good heat resistance, and a method of manufacturing the same.
The copper alloy material of this invention contains 0.05-1.2 mass% of Ni, 0.01-0.15 mass% of P, and 0.05-2.5 mass% of Sn, and has the alloy composition which remainder consists of Cu and an unavoidable impurity, The material after electropolishing The surface was observed by FE-SEM, and the number of compound particles having a particle diameter of 5 to 30 nm and a compound ratio of 20 to 30 μm 2 or more and a particle diameter of more than 30 nm per 1 μm × 1 μm viewing area. The ratio is 1 / micrometer 2 or less, It is characterized by the above-mentioned.

Description

구리합금재료 및 그 제조 방법 {COPPER ALLOY MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SAME}Copper alloy material and its manufacturing method {COPPER ALLOY MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SAME}

본 발명은 구리합금재료 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히, 반도체 장치에 이용되는 리드 프레임을 비롯한 전기 전자 부품에 이용되는 구리합금재료 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a copper alloy material and a method for producing the same, and more particularly, to a copper alloy material used for an electric and electronic component including a lead frame used in a semiconductor device and a method for producing the same.

IC나 LSI 등의 반도체 장치에 이용되는 리드 프레임(lead frame)은, 구리합금재료를 프레스 가공함으로써 형성되지만, 이때, 재료 중에 가공 워핑(warping)이 잔류한다. 이 가공 워핑이 잔류하면, 후속 공정의 에칭을 실시할 때, 재료에 휘어짐이 생기고, 리드 프레임의 리드핀 간격의 치수 정밀도가 저하된다. 이 때문에, 통상, 프레스 가공 후의 리드 프레임에 400~450℃에서의 열처리를 하여 가공 워핑을 제거하지만, 이 열처리 시에 구리합금의 결정 조직이 재결정화함으로써, 구리합금재료의 강도가 저하되는 경향이 있는 것이 알려져 있다. 거기서, 리드 프레임에 사용되는 전자기기용 구리합금재료에는, 상술한 열처리를 해도 강도가 저하되지 않는 특성(내열성)을 구비하는 것이 필요하게 된다.A lead frame used for a semiconductor device such as an IC or an LSI is formed by pressing a copper alloy material, but at this time, work warping remains in the material. If this work warping remains, when the etching of the subsequent step is performed, warpage occurs in the material, and the dimensional accuracy of the lead pin spacing of the lead frame is lowered. For this reason, normally, the lead frame after press work is heat-processed at 400-450 degreeC, and a process warping is removed, but the crystal structure of a copper alloy recrystallizes at the time of this heat processing, and the strength of a copper alloy material tends to fall. It is known that there is. Thereby, the copper alloy material for electronic devices used for the lead frame needs to have a characteristic (heat resistance) in which the strength does not decrease even when the above heat treatment is performed.

또한 리드 프레임용 구리합금재료에는, 소형화된 부품에 적용하기 위한 고강도와, 부품의 발열을 억제하기 위한 고도전율을 구비하는 것뿐만 아니라, 부품 성형의 자유도를 높이기 위한 양호한 굽힘 가공성(bending workability)을 겸비하는 것도 요구된다.In addition, the lead alloy copper alloy material has not only high strength for application to miniaturized parts, high conductivity for suppressing heat generation of the parts, but also good bending workability for enhancing the degree of freedom of part forming. It is also required to be humble.

이러한 요구를 만족하는 구리합금재료로서, Cu-Ni-Sn-P계 합금이 널리 제공된다. Cu-Ni-Sn-P계 합금은, Ni-P계의 화합물을 석출시킴으로써, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성을 겸비할 수 있다.As a copper alloy material that satisfies these requirements, a Cu-Ni-Sn-P-based alloy is widely provided. The Cu-Ni-Sn-P-based alloy can have a high strength, a high electrical conductivity, and good bending workability by depositing a Ni-P-based compound.

특허문헌 1~9에서는, 석출물의 사이즈나 분포를 제어함으로써, 인장 강도, 도전율, 굽힘 가공성뿐만 아니라 탄력성, 내응력 완화 특성, 프레스 가공성, 내식성, 도금성, 땜납 젖음성(solder wetting), 내마이그레이션성(antimigration), 열간 가공성과 같은 여러 가지 특성을 겸비하는 것이 검토된다.In Patent Documents 1 to 9, by controlling the size and distribution of the precipitate, not only tensile strength, electrical conductivity, bending workability, but also elasticity, stress relaxation resistance, press workability, corrosion resistance, plating property, solder wetting, migration resistance The combination of various properties such as antimigration and hot workability is considered.

특허문헌 1: 특개평 4-154942호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-154942 특허문헌 2: 특개평 4-236736호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 4-236736 특허문헌 3: 특개평 10-226835호 공보Patent document 3: Unexamined-Japanese-Patent No. 10-226835 특허문헌 4: 특개 2000-129377호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-129377 특허문헌 5: 특개 2000-256814호 공보Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-256814 특허문헌 6: 특개 2001-262255호 공보Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-262255 특허문헌 7: 특개 2001-262297호 공보Patent Document 7: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-262297 특허문헌 8: 특개 2006-291356호 공보Patent Document 8: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-291356 특허문헌 9: 특개 2007-100111호 공보Patent Document 9: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-100111

Cu-Ni-Sn-P계 합금은, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성을 겸비한 우수한 합금계지만, 프레스 가공 후의 리드 프레임에 행해지는 400~450℃의 열처리에 대한 내열성은, 충분하다고는 말하기 어렵다.Although Cu-Ni-Sn-P alloy is an excellent alloy system having high strength, high electrical conductivity and good bending workability, it is hard to say that the heat resistance to the heat treatment at 400 to 450 ° C. performed on the lead frame after press working is sufficient. .

특허문헌 1~9에서는 모두, 여러 가지 재료 특성의 개량을 시도하고는 있지만, 내열성의 향상에 주목한 것은 아니다.In Patent Literatures 1 to 9, all attempts have been made to improve various material properties. However, attention is not paid to improvement in heat resistance.

상기 사정에 비추어, 본 발명의 목적은, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성뿐만 아니라, 한층 더 양호한 내열성을 겸비한 구리합금재료 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다.In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a copper alloy material having not only high strength, high electrical conductivity and good bending workability, but also more excellent heat resistance and a method for producing the same.

본 발명자들은, 리드 프레임을 비롯한 전기 전자 부품에 이용되는 Cu-Ni-Sn-P계 합금에 대해 연구를 실시하여, Ni을 0.05~1.2질량%, P을 0.01~0.15질량% 및 Sn을 0.05~2.5질량% 함유하는 합금 조성을 가지며, 전해연마 후의 재료 표면을 FE-SEM로 관찰하여, 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 화합물 입자의 개수 비율을 20개/㎛2 이상, 입자 직경이 30㎚ 초과인 화합물 입자의 개수 비율을 1개/㎛2 이하로 함으로써, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성을 구비하는 것뿐만 아니라, 한층 더 양호한 내열성도 겸비한 구리합금재료를 얻을 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor studies the Cu-Ni-Sn-P type alloy used for electrical and electronic components including lead frames, and it is 0.05-1.2 mass% of Ni, 0.01-0.15 mass% of P, and 0.05-0.05 of Sn. It has an alloy composition containing 2.5% by mass, and the surface of the material after electropolishing was observed by FE-SEM, and the number ratio of the compound particles having a particle diameter of 5 to 30 nm per 1 µm x 1 µm was 20 pieces / µm 2. As mentioned above, the number ratio of the compound particle whose particle diameter is more than 30 nm shall be 1 / micrometer 2 or less, not only having high strength, high electrical conductivity, and favorable bending workability, but also obtaining the copper alloy material which has further better heat resistance. It has been found that the present invention can be completed.

즉, 본 발명의 요지 구성은, 이하대로이다.That is, the summary structure of this invention is as follows.

(1) Ni을 0.05~1.2질량%, P을 0.01~0.15질량% 및 Sn을 0.05~2.5질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어진 합금 조성을 가지며, 전해연마 후의 재료 표면을 FE-SEM로 관찰하여, 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 화합물 입자의 개수 비율이 20개/㎛2 이상, 입자 직경이 30㎚ 초과인 화합물 입자의 개수 비율이 1개/㎛2 이하인 것을 특징으로 하는 구리합금재료.(1) It contains 0.05-1.2 mass% of Ni, 0.01-0.15 mass% of P, and 0.05-2.5 mass% of Sn, the balance has the alloy composition which consists of Cu and an unavoidable impurity, The material surface after electrolytic polishing is FE-SEM Observed, the ratio of the number of compound particles having a particle diameter of 5 to 30 nm of 20 particles / μm 2 or more and the number of compound particles having a particle diameter of more than 30 nm per 1 μm × 1 μm viewing area was 1 / A copper alloy material, characterized in that not more than 2 ㎛.

(2) Ni을 0.05~1.2질량%, P을 0.01~0.15질량% 및 Sn을 0.05~2.5질량%를 함유하고, 또한 Fe, Zn, Pb, Si, Mg, Zr, Cr, Ti, Mn 및 Co 중에서 선택되는 적어도 1 성분을 함유하고, Fe이 0.001~0.1질량%, Zn이 0.001~0.5질량%, Pb이 0.001~0.05질량%, Si가 0.001~0.1질량%, Mg이 0.001~0.3질량%, Zr이 0.001~0.15질량%, Cr이 0.001~0.3질량%, Ti이 0.001~0.05질량%, Mn이 0.001~0.2질량% 및 Co가 0.001~0.2질량%이며, 또한 Mg, Zr, Cr, Ti, Mn 및 Co를 2 이상 함유하는 경우의 합계 함유량이 0.001~0.5질량%이며, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어진 합금 조성을 가지며, 전해연마 후의 재료 표면을 FE-SEM로 관찰하여, 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 화합물 입자의 개수 비율이 20개/㎛2 이상, 입자 직경이 30㎚ 초과인 화합물 입자의 개수 비율이 1개/㎛2 이하인 것을 특징으로 하는 구리합금재료.(2) It contains 0.05-1.2 mass% of Ni, 0.01-0.15 mass% of P, and 0.05-2.5 mass% of Sn, and also Fe, Zn, Pb, Si, Mg, Zr, Cr, Ti, Mn and Co It contains at least one component selected from, 0.001-0.1 mass% of Fe, 0.001-0.5 mass% of Zn, 0.001-0.05 mass% of Pb, 0.001-0.1 mass% of Si, 0.001-0.3 mass%, Zr is 0.001-0.15 mass%, Cr is 0.001-0.3 mass%, Ti is 0.001-0.05 mass%, Mn is 0.001-0.2 mass%, Co is 0.001-0.2 mass%, and Mg, Zr, Cr, Ti, The total content in the case of containing 2 or more of Mn and Co is 0.001 to 0.5% by mass, the balance has an alloy composition composed of Cu and unavoidable impurities, and the surface of the material after electropolishing is observed by FE-SEM, and 1 µm x 1 µm. Wherein the number ratio of the compound particles having a particle diameter of 5 to 30 nm is 20 / μm 2 or more and the number of the compound particles having a particle diameter of more than 30 nm is 1 / μm 2 or less per field of view of the copper alloy. material.

(3) Sn을 0.05~0.5질량% 함유하고, 인장 강도가 400MPa 이상, 도전율이 50%IACS 이상인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 구리합금재료.(3) The copper alloy material according to the above (1) or (2), which contains 0.05 to 0.5 mass% of Sn and has a tensile strength of 400 MPa or more and a conductivity of 50% IACs or more.

(4) Sn을 0.5질량% 초과 2.5질량% 이하 함유하고, 인장 강도가 500MPa 이상, 도전율이 25%IACS 이상인 것을 특징으로 하는 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 구리합금재료.(4) The copper alloy material according to the above (1) or (2), which contains more than 0.5% by mass and 2.5% by mass or less of Sn, having a tensile strength of 500 MPa or more and a conductivity of 25% IACS or more.

(5) 하기 (a)~(e)의 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 상기 (1)~(4) 중 어느 1항에 기재된 구리합금재료의 제조 방법.(5) The manufacturing method of the copper alloy material in any one of said (1)-(4) characterized by including the process of following (a)-(e).

(a) 300℃까지의 냉각 속도를 30℃/분 이상으로 하는 용해 주조 공정.(a) Melt casting process which makes cooling rate to 300 degreeC into 30 degreeC / min or more.

(b) 5℃/분 이상으로 승온하고, 600~1000℃에서 30분~10시간 유지하는 균질화 열처리 공정.(b) The homogenization heat treatment process which heats up at 5 degree-C / min or more, and maintains at 600-1000 degreeC for 30 minutes-10 hours.

(c) 300℃까지의 냉각 속도를 30℃/분 이상으로 하는 열간압연 공정.(c) Hot rolling process which makes cooling rate to 300 degreeC into 30 degreeC / min or more.

(d) 가공율을 80% 이상으로 하는 냉간 압연 공정.(d) Cold rolling process which makes processing rate into 80% or more.

(e) 350~600℃에서 5초~10시간 유지하는 소둔 공정.(e) Annealing step of holding for 5 seconds to 10 hours at 350 ~ 600 ℃.

본 발명에 따르면, Ni을 0.05~1.2질량%, P을 0.01~0.15질량% 및 Sn을 0.05~2.5질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어진 합금 조성을 가지며, 전해연마 후의 재료 표면을 FE-SEM로 관찰하여, 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 화합물 입자의 개수 비율을 20개/㎛2 이상, 입자 직경이 30㎚ 초과인 화합물 입자의 개수 비율을 1개/㎛2 이하로 함으로써, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성뿐만 아니라, 한층 더 양호한 내열성을 겸비한 구리합금재료의 제공이 가능해졌다.According to the present invention, Ni is contained 0.05 to 1.2% by mass, P is contained 0.01 to 0.15% by mass, and Sn is 0.05 to 2.5% by mass, and the balance has an alloy composition composed of Cu and unavoidable impurities. -Observed by SEM, the ratio of the number of compound particles having a particle diameter of 20-30 µm 2 or more and the particle diameter of more than 30 nm was 1 per 1 µm × 1 µm viewing area. By setting it as the opening / micrometer <2> or less, it became possible to provide the copper alloy material which combines not only high strength, high electrical conductivity, and favorable bending workability, but also more excellent heat resistance.

도 1은, 본 발명의 구리합금재료(실시예 14)의 전해연마 후의 표면을 FE-SEM에 의해 배율: 50000배로 관찰했을 때의 SEM 사진이다.
도 2는, 비교예 22의 전해연마 후의 표면을 FE-SEM에 의해 배율: 50000배로 관찰했을 때의 SEM 사진이다.
1 is a SEM photograph when the surface after electropolishing of the copper alloy material (Example 14) of the present invention is observed at a magnification of 50000 times by FE-SEM.
2 is a SEM photograph when the surface after electropolishing of Comparative Example 22 was observed at a magnification of 50000 times by FE-SEM.

이하, 본 발명의 구리합금재료의 바람직한 실시형태에 대해서, 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferable embodiment of the copper alloy material of this invention is described in detail.

(구리합금재료의 성분 조성)(Component Composition of Copper Alloy Material)

본 발명의 구리합금재료의 기본 조성은, Ni을 0.05~1.2질량%, P을 0.01~0.15질량% 및 Sn을 0.05~2.5질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물이다.The basic composition of the copper alloy material of this invention contains 0.05-1.2 mass% of Ni, 0.01-0.15 mass% of P, and 0.05-2.5 mass% of Sn, and remainder is Cu and an unavoidable impurity.

[필수 함유 성분][Essential Content]

(Ni: 0.05~1.2질량%)(Ni: 0.05-1.2 mass%)

Ni은, 모상(母相)에 고용(固溶)하고, 또한 P과 화합물을 형성함으로써, 강도를 증가시키는 원소다. 또한, Ni은, P과 화합물을 생성하고, 이 생성물을 석출시킴으로써, 도전율을 높임과 동시에 내열성도 향상시키는 효과를 가진다. 그렇지만, Ni 함유량이 0.05질량% 미만에서는, 그 효과를 충분히 발휘하지 못하고, 또한, 1.2질량% 초과에서는, 도전율이 현저하게 저하된다. 이 때문에, Ni 함유량은, 0.05~1.2질량%로 하고, 바람직하게는 0.10~1.00질량%, 보다 바람직하게는 0.10~0.40질량%로 했다.Ni is an element which increases the strength by solid-solving in the mother phase and forming a compound with P. Moreover, Ni produces | generates P and a compound, and precipitates this product, and it has the effect which raises electrical conductivity and also improves heat resistance. However, when Ni content is less than 0.05 mass%, the effect cannot fully be exhibited, and when it exceeds 1.2 mass%, electrical conductivity falls remarkably. For this reason, Ni content was made into 0.05 to 1.2 mass%, Preferably it is 0.10 to 1.00 mass%, More preferably, it was 0.10 to 0.40 mass%.

(P: 0.01~0.15질량%)(P: 0.01-0.15 mass%)

P은, Ni과 화합물을 생성함으로써, 강도의 증가, 도전율의 상승, 및 내열성의 향상에 기여하는 원소다. 그렇지만, P 함유량이 0.01질량% 미만에서는, 그 효과를 충분히 얻을 수 없으며, 또한, 0.15질량% 초과면, 도전율의 저하, 조대한(예를 들면, 입자 직경이 30㎚ 초과) 화합물 입자의 생성에 의한 굽힘 가공성의 저하, 미세(예를 들면, 입자 직경이 5~30㎚)한 화합물의 생성 비율을 감소시킴으로써 내열성의 저하, 가공성의 저하를 일으킨다. 이 때문에, P 함유량은, 0.01~0.15질량%로 하고, 바람직하게는 0.01~0.10질량%, 보다 바람직하게는 0.05~0.10질량%로 했다.P is an element that contributes to an increase in strength, an increase in conductivity, and an improvement in heat resistance by generating a compound with Ni. However, when P content is less than 0.01 mass%, the effect cannot fully be acquired, and if it is more than 0.15 mass%, it will fall in the fall of electroconductivity and coarse (for example, particle diameter exceeding 30 nm) production | generation of a compound particle. This decreases the bending workability and decreases the production rate of a fine (eg, particle diameter of 5 to 30 nm) compound, resulting in a decrease in heat resistance and a decrease in workability. For this reason, P content was 0.01 to 0.15 mass%, Preferably it is 0.01 to 0.10 mass%, More preferably, it was 0.05 to 0.10 mass%.

(Sn: 0.05~2.5질량%)(Sn: 0.05-2.5% by mass)

Sn는, 모상에 고용함으로써, 강도의 증가 및 내열성의 향상에 기여하는 원소다. 그렇지만, Sn 함유량이 0.05질량% 미만에서는, 그 효과를 충분히 얻을 수 없으며, 또한, 2.5질량% 초과면, 도전율의 저하, 열간 가공성의 열화를 일으킨다. 이 때문에, Sn 함유량은, 0.05~2.5질량%로 했다. 또한 인장 강도와 도전율 중, 특히 도전율을 중시하는 경우에는, Sn 함유량을 0.05~0.5질량%로 한정하면, 인장 강도가 400MPa 이상이고, 50%IACS 이상의 고도전율을 구비할 수 있는 점에서 바람직하고, 또한, 특히 인장 강도를 중시하는 경우에는, Sn 함유량을 0.5질량% 초과 2.5질량% 이하로 한정하면, 25%IACS 이상의 도전율로, 500MPa 이상의 고인장 강도를 구비할 수 있는 점에서 바람직하다.Sn is an element which contributes to the increase of strength and the improvement of heat resistance by solid solution in the mother phase. However, if Sn content is less than 0.05 mass%, the effect cannot fully be acquired, and if it is more than 2.5 mass%, electrical conductivity will fall and hot workability will deteriorate. For this reason, Sn content was made into 0.05-2.5 mass%. In particular, in the case where the conductivity is particularly important among the tensile strength and the electrical conductivity, when the Sn content is limited to 0.05 to 0.5 mass%, the tensile strength is preferably 400 MPa or more, and it is preferable at the point of having a high conductivity of 50% IACS or more, Moreover, especially when tensile strength is important, when Sn content is limited to more than 0.5 mass% and 2.5 mass% or less, it is preferable at the point which can provide high tensile strength of 500 Mpa or more with the electrical conductivity of 25% IACS or more.

[임의 첨가 성분][Optional additive component]

본 발명에서는, 기본 조성으로서, 상술한 Ni, P 및 Sn을 함유하는 것을 필수로 하지만, 게다가 임의 첨가 성분으로서 Fe, Zn, Pb, Si, Mg, Zr, Cr, Ti, Mn 및 Co 중에서 선택되는 적어도 1 성분을 선택적으로 함유시켜도 괜찮다.In the present invention, it is necessary to contain the above-mentioned Ni, P and Sn as the basic composition, but further selected from Fe, Zn, Pb, Si, Mg, Zr, Cr, Ti, Mn and Co as optional additives. You may selectively contain at least 1 component.

(Fe: 0.001~0.1질량%)(Fe: 0.001-0.1 mass%)

Fe은, P과 화합물을 형성함으로써 강도의 증가, 내열성의 향상에 기여하는 원소이며, 이 효과를 발휘하기 위해서는, Fe 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Fe 함유량이 0.1질량%보다 많으면, 재료가 자성을 띠기 쉬워지고, 재료가 자성을 띠면, 리드 프레임에 있어서의 전송 신호의 전달 특성이 열화할 염려가 있다. 이 때문에, Fe 함유량은, 0.001~0.1질량%로 하는 것이 바람직하고, 0.001~0.05질량%가 보다 바람직하고, 0.001~0.01질량%가 한층 더 바람직하다.Fe is an element which contributes to the increase of strength and the improvement of heat resistance by forming a compound with P. In order to exhibit this effect, it is preferable to make Fe content into 0.001 mass% or more. However, when the Fe content is more than 0.1% by mass, the material tends to be magnetic, and when the material is magnetic, there is a fear that the transmission characteristic of the transmission signal in the lead frame is deteriorated. For this reason, as for Fe content, it is preferable to set it as 0.001-0.1 mass%, 0.001-0.05 mass% is more preferable, and 0.001-0.01 mass% is further more preferable.

(Zn: 0.001~0.5질량%)(Zn: 0.001-0.5 mass%)

Zn는, 모상에 고용함으로써 강도의 증가, 땜납 젖음성의 향상, 도금성의 향상에 기여하는 원소이며, 이 효과를 발휘하기 위해서는, Zn 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Zn 함유량이 0.5질량%보다 많으면, 도전율이 저하되는 경향이 있다. 이 때문에, Zn 함유량은, 0.001~0.5질량%인 것이 바람직하고, 0.01~0.5질량%가 보다 바람직하고, 0.1~0.5질량%가 한층 더 바람직하다.Zn is an element which contributes to the increase in strength, the solder wettability, and the plating property by solid solution to the mother phase. In order to exert this effect, the Zn content is preferably 0.001% by mass or more. However, when Zn content is more than 0.5 mass%, there exists a tendency for electrical conductivity to fall. For this reason, it is preferable that Zn content is 0.001-0.5 mass%, 0.01-0.5 mass% is more preferable, 0.1-0.5 mass% is further more preferable.

(Pb: 0.001~0.05질량%)(Pb: 0.001-0.05 mass%)

Pb는, 프레스 가공성의 향상에 기여하는 원소이며, 이 효과를 발휘하기 위해서는, Pb 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Pb 함유량을 0.05질량%보다 많이 해도, 효과의 추가적인 향상은 인정되지 않으며, 또한, 최근 환경보호의 관점에서, Pb 함유량을 가능한 한 억제하는 것이 바람직하다. 이 때문에, Pb 함유량은 0.001~0.05질량%로 하는 것이 바람직하고, 0.001~0.01질량%가 보다 바람직하다.Pb is an element which contributes to the improvement of press workability, and in order to exhibit this effect, it is preferable to make Pb content 0.001 mass% or more. However, even if Pb content is more than 0.05 mass%, the further improvement of an effect is not recognized and it is preferable to suppress Pb content as much as possible from a viewpoint of environmental protection in recent years. For this reason, it is preferable to set it as 0.001-0.05 mass%, and, as for Pb content, 0.001-0.01 mass% is more preferable.

(Si: 0.001~0.1질량%)(Si: 0.001-0.1 mass%)

Si는, 강도의 증가에 기여하는 원소이며, 이 효과를 발휘하기 위해서는, Si 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Si 함유량을 0.1질량%보다 많이 하면, 도전율의 저하나, 조대(粗大)한 화합물의 생성에 의한 굽힘 가공성의 열화가 염려된다. 이 때문에, Si 함유량은, 0.001~0.1질량%가 바람직하고, 0.01~0.1질량%가 보다 바람직하다.Si is an element which contributes to the increase of strength, and in order to exhibit this effect, it is preferable to make Si content into 0.001 mass% or more. However, when Si content is more than 0.1 mass%, deterioration of the bending workability by the fall of an electrical conductivity and formation of a coarse compound is feared. For this reason, 0.001-0.1 mass% is preferable, and, as for Si content, 0.01-0.1 mass% is more preferable.

(Mg: 0.001~0.3질량%)(Mg: 0.001-0.3 mass%)

Mg은, 강도의 증가나 내열성의 향상에 기여하는 원소다. 또한 예를 들면 전자 부품의 스프링 접점 등에 있어서, 내응력 완화 특성의 향상에 기여한다. 이러한 효과를 발휘하기 위해서는, Mg 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Mg 함유량을 0.3질량%보다 많이 하면, 도전율의 저하나, 주조시의 개재물의 형성이 염려된다. 이 때문에, Mg 함유량은, 0.001~0.3질량%가 바람직하고, 0.01~0.3질량%가 보다 바람직하다.Mg is an element which contributes to the increase of strength and the improvement of heat resistance. For example, it contributes to the improvement of the stress relaxation resistance in the spring contact etc. of an electronic component. In order to exhibit such an effect, it is preferable to make Mg content into 0.001 mass% or more. However, when Mg content is more than 0.3 mass%, the fall of electrical conductivity and formation of the inclusion at the time of casting are concerned. For this reason, 0.001-0.3 mass% is preferable, and, as for Mg content, 0.01-0.3 mass% is more preferable.

(Zr: 0.001~0.15질량%)(Zr: 0.001-0.15 mass%)

Zr은, 강도의 증가나 내열성의 향상에 기여하는 원소다. 또한 예를 들면 전자 부품의 스프링 접점 등에 있어서, 내응력 완화 특성의 향상에 기여한다. 이러한 효과를 발휘하기 위해서는, Zr 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Zr 함유량을 0.15질량%보다 많이 하면, 도전율의 저하나, 열간 가공시의 균열이 염려된다. 이 때문에, Zr 함유량은, 0.001~0.15질량%가 바람직하고, 0.01~0.1질량%가 보다 바람직하다.Zr is an element that contributes to an increase in strength and an improvement in heat resistance. For example, it contributes to the improvement of the stress relaxation resistance in the spring contact etc. of an electronic component. In order to exhibit such an effect, it is preferable to make Zr content 0.001 mass% or more. However, when Zr content is more than 0.15 mass%, a fall of electrical conductivity and a crack at the time of hot work are feared. For this reason, 0.001-0.15 mass% is preferable, and, as for Zr content, 0.01-0.1 mass% is more preferable.

(Cr: 0.001~0.3질량%)(Cr: 0.001-0.3 mass%)

Cr은, 강도의 증가나 내열성의 향상에 기여하는 원소이며, 이 효과를 발휘하기 위해서는, Cr 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Cr 함유량을 0.3질량%보다 많이 하면, 주조시의 창출물의 발생에 의한 굽힘 가공성의 저하가 염려된다. 이 때문에, Cr 함유량은, 0.001~0.3질량%가 바람직하고, 0.01~0.3질량%가 보다 바람직하다.Cr is an element which contributes to an increase in strength and an improvement in heat resistance. In order to exert this effect, it is preferable to make the Cr content 0.001% by mass or more. However, when Cr content is more than 0.3 mass%, the fall of bending workability by the generation | occurrence | production of the product at the time of casting is feared. For this reason, 0.001-0.3 mass% is preferable, and, as for Cr content, 0.01-0.3 mass% is more preferable.

(Ti: 0.001~0.05질량%)(Ti: 0.001-0.05 mass%)

Ti는, 강도의 증가나 내열성의 향상에 기여하는 원소다. 또한 예를 들면 전자 부품의 스프링 접점 등에 있어서, 내응력 완화 특성의 향상에 기여한다. 이러한 효과를 발휘하기 위해서는, Ti 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Ti 함유량을 0.05질량%보다 많이 하면, 도전율의 저하나, 잉곳 표면의 주물 표면 이상이 염려된다. 이 때문에, Ti 함유량은, 0.001~0.05질량%가 바람직하고, 0.01~0.05질량%가 보다 바람직하다.Ti is an element that contributes to an increase in strength and an improvement in heat resistance. For example, it contributes to the improvement of the stress relaxation resistance in the spring contact etc. of an electronic component. In order to exhibit such an effect, it is preferable to make Ti content into 0.001 mass% or more. However, when Ti content is more than 0.05 mass%, an electroconductive fall and the casting surface abnormality of an ingot surface may be concerned. For this reason, 0.001-0.05 mass% is preferable, and, as for Ti content, 0.01-0.05 mass% is more preferable.

(Mn: 0.001~0.2질량%)(Mn: 0.001-0.2 mass%)

Mn은, 강도의 증가나 내열성의 향상, 열간 가공성의 향상에 기여하는 원소이며, 이 효과를 발휘하기 위해서는, Mn 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Mn 함유량을 0.2질량%보다 많이 하면, 도전율의 저하가 염려된다. 이 때문에, Mn 함유량은, 0.001~0.2질량%가 바람직하고, 0.01~0.2질량%가 보다 바람직하다.Mn is an element which contributes to an increase in strength, an improvement in heat resistance and an improvement in hot workability. In order to exert this effect, the Mn content is preferably made 0.001% by mass or more. However, when Mn content is more than 0.2 mass%, the fall of electrical conductivity is concerned. For this reason, 0.001-0.2 mass% is preferable, and, as for Mn content, 0.01-0.2 mass% is more preferable.

(Co: 0.001~0.2질량%)(Co: 0.001-0.2 mass%)

Co는, 강도의 증가나 열간 가공성의 향상에 기여하는 원소이며, 이 효과를 발휘하기 위해서는, Co 함유량을 0.001질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그렇지만, Co 함유량을 0.2질량%보다 많이 하면, 도전율의 저하가 염려된다. 이 때문에, Co 함유량은, 0.001~0.2질량%가 바람직하고, 0.01~0.2질량%가 보다 바람직하다.Co is an element which contributes to the increase of strength and the improvement of hot workability, and in order to exhibit this effect, it is preferable to make Co content into 0.001 mass% or more. However, when Co content is more than 0.2 mass%, the fall of electrical conductivity is concerned. For this reason, 0.001-0.2 mass% is preferable, and, as for Co content, 0.01-0.2 mass% is more preferable.

(Mg, Zr, Cr, Ti, Mn 및 Co를 2 이상 함유하는 경우의 합계 함유량: 0.001~0.5질량%)(Total content in the case of containing 2 or more of Mg, Zr, Cr, Ti, Mn, and Co: 0.001-0.5 mass%)

Mg, Zr, Cr, Ti, Mn 및 Co는, P과 화합물을 형성함으로써, 강도의 증가, 내열성의 향상에 기여한다. 이러한 원소의 첨가량은 0.001~0.5질량%가 바람직하고, 0.01~0.5질량%가 보다 바람직하고, 0.1~0.5질량%가 한층 더 바람직하다. 0.5질량%보다 큰 경우, 도전율의 저하, 조대한 화합물 형성에 의한 굽힘 가공성의 저하가 염려된다.Mg, Zr, Cr, Ti, Mn, and Co contribute to the increase of strength and the improvement of heat resistance by forming a compound with P. 0.001-0.5 mass% is preferable, as for the addition amount of such an element, 0.01-0.5 mass% is more preferable, and 0.1-0.5 mass% is further more preferable. When larger than 0.5 mass%, the fall of electrical conductivity and the fall of bending workability by coarse compound formation are concerned.

(화합물 입자)(Compound particles)

본 발명에 있어서는, 전해연마 후의 재료 표면을 FE-SEM로 관찰하여, 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 화합물 입자의 개수 비율을 20개/㎛2 이상, 입자 직경이 30㎚ 초과인 화합물 입자의 개수 비율을 1개/㎛2 이하로 함으로써, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성뿐만 아니라, 양호한 내열성도 겸비한 구리합금재료를 얻을 수 있다. 여기서 말하는 「화합물 입자」란, 주조시에 형성되는 개재물이나 창출물, 주조 응고 후에 형성되는 석출물의 총칭이다. 또한, 화합물 입자의 입자 직경은, 긴 직경의 길이를 의미한다. 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 미세한 화합물 입자의 개수 비율이 20개/㎛2 이상일 때, 미세한 화합물 입자에 의해 충분한 플럭스 피닝(flux pinning)을 얻음으로써 재결정이 억제되고, 양호한 내열성을 얻을 수 있다. 한편, 미세한 화합물 입자의 개수 비율이 20개/㎛2보다 적은 경우에는 양호한 내열성을 얻을 수 없다. 또한, 입자 직경이 30㎚ 초과인 조대한 화합물 입자의 개수 비율이 1개/㎛2 이하로 함으로써, 양호한 굽힘 가공성을 얻을 수 있다. 조대한 화합물 입자의 개수 비율이 1개/㎛2를 넘으면, 조대한 화합물 입자가 파괴의 기점이 되고, 굽힘 가공성이 현저하게 열화한다. 더욱이 이 때, 조대한 화합물 입자가 많이 형성되면, 미세한 화합물 입자의 개수 비율이 감소하는 경향이 있기 때문에, 내열성도 악화될 우려도 있다. 종래, 화합물 입자의 분산 상태는, 투과형 전자현미경(TEM)을 이용해 관찰하여, 시계 범위(field of view)의 개수나 면적율로 표현되는 것이 많지만, 그러한 수치는 시험편의 두께에 의존한다. 그렇지만, TEM용으로 제작되는 시험편의 두께를 똑같이 하는 것은 곤란하고, 또한, 같은 시험편으로 측정했다고 해도, 측정 횟수에 의해서 약간 다른 결과가 될 가능성도 있다. 이 때문에, 본 발명에서는, 시험편의 두께에 기인하지 않는 전계방사형 주사전자현미경(FE-SEM)을 이용하여 화합물 입자의 개수 비율을 평가했다.In the present invention, the surface of the material after electropolishing is observed by FE-SEM, and the number ratio of compound particles having a particle diameter of 5 to 30 nm per particle area of 1 μm × 1 μm is 20 / μm 2 or more and particle diameter By setting the number ratio of the compound particles larger than 30 nm to 1 / μm 2 or less, a copper alloy material having not only high strength, high electrical conductivity and good bending workability but also good heat resistance can be obtained. The term "compound particles" as used herein is a generic term for inclusions and creations formed during casting and precipitates formed after casting solidification. In addition, the particle diameter of a compound particle means the length of a long diameter. Recrystallization is suppressed by obtaining sufficient flux pinning by the fine compound particles when the ratio of the number of fine compound particles having a particle diameter of 5 to 30 nm is 20 / μm 2 or more per viewing area of 1 μm × 1 μm. And good heat resistance can be obtained. On the other hand, when the ratio of the number of fine compound particles is less than 20 pieces / μm 2 , good heat resistance cannot be obtained. Moreover, favorable bending workability can be obtained when the number ratio of the coarse compound particle whose particle diameter is more than 30 nm is 1 / micrometer <2> or less. When the number ratio of the coarse compound particles exceeds 1 / µm 2 , the coarse compound particles become the starting point of breakage, and the bending workability is significantly degraded. In addition, when many coarse compound particles are formed at this time, since the number ratio of the fine compound particles tends to decrease, there is a concern that the heat resistance may deteriorate. Conventionally, the dispersed state of a compound particle is observed using a transmission electron microscope (TEM), and is represented by the number and area ratio of a field of view in many cases, but such a numerical value depends on the thickness of a test piece. However, it is difficult to make the thickness of the test piece produced for TEM the same, and even if it measures with the same test piece, there may be a slightly different result depending on the number of measurements. For this reason, in this invention, the number ratio of the compound particle was evaluated using the field emission scanning electron microscope (FE-SEM) which does not originate in the thickness of a test piece.

(구리합금재료의 제조 방법)(Method of manufacturing copper alloy material)

이어서, 본 발명의 구리합금재료의 제조 방법에 대해 설명한다.Next, the manufacturing method of the copper alloy material of this invention is demonstrated.

본 발명의 구리합금재료는, 통상, 용해 주조→균질화 열처리→열간압연→냉간압연→소둔→마무리 압연을 실시함으로써 제조된다. 각 공정 사이에, 필요에 따라, 면삭, 버프 연마, 산세, 탈지 등을 적절히 실시할 수 있다. 또한, 냉간압연과 소둔은, 여러 차례 반복해 실시할 수 있으며, 또한 마무리 압연 후에 저온 소둔을 할 수 있다. 본 발명의 제조 방법에 있어서는, 용해 주조, 균질화 열처리 및 열간압연으로 조대한 화합물 입자를 가능한 한 생성시키지 않고, 그 후의 냉간압연 및 소둔으로 미세한 석출물을 많이 생성시키는 것이 중요하다. 본 발명의 제조 방법은, 종래와 동일한 정도의 공정수이면서, 각각의 공정 조건을 적절히 조정함으로써, 재료 특성의 향상을 실현할 수 있다.The copper alloy material of the present invention is usually produced by performing melt casting → homogenization heat treatment → hot rolling → cold rolling → annealing → finishing rolling. Between each process, face-grinding, buff polishing, pickling, degreasing etc. can be performed suitably as needed. In addition, cold rolling and annealing can be repeatedly performed many times, and low-temperature annealing can be performed after finish rolling. In the production method of the present invention, it is important not to produce coarse compound particles as much as possible by melt casting, homogenization heat treatment and hot rolling, but to generate a large number of fine precipitates by subsequent cold rolling and annealing. The production method of the present invention can realize the improvement of material properties by appropriately adjusting the respective process conditions while being the same number of steps as in the prior art.

<용해 주조><Melting casting>

용해 주조는, 일반적인 방법으로 실시할 수 있지만, 본 발명에서는, 주조 시, 300℃까지의 냉각을, 30℃/분 이상의 냉각 속도로 행하는 것이, 냉각 시의 창출이나 석출을 억제하고, 조대한 화합물 입자의 생성을 억제하는 점에서 바람직하다. 상기 냉각 속도가 30℃/분보다 작으면, 냉각 시의 창출이나 석출을 충분히 억제할 수 없고, 조대한 화합물 입자가 생성하기 쉬워지는 경향이 있기 때문이다.Melt casting can be carried out by a general method, but in the present invention, cooling to 300 ° C. at the time of casting at a cooling rate of 30 ° C./min or more suppresses generation and precipitation during cooling and coarser compounds. It is preferable at the point which suppresses generation | occurrence | production of particle | grains. It is because when the said cooling rate is smaller than 30 degreeC / min, creation and precipitation at the time of cooling cannot fully be suppressed, and a coarse compound particle tends to be easy to produce | generate.

<균질화 열처리><Homogenization Heat Treatment>

균질화 열처리는, 용해 주조로 생성된 조대한 화합물 입자를 모상에 고용시키고, 용체화 상태로 하기 위해 실시한다. 균질화 열처리는, 600~1000℃에서 30분~10시간 유지하는 것이 바람직하다. 종래, 균질화 열처리의 승온 속도는 중요시되지 않았지만, 본 발명에서는, 규정하는 재료 조직을 얻기 위해, 특히 승온 속도를, 5℃/분 이상, 바람직하게는 10℃/분 이상으로 제어하는 것이 필요하다. 승온 속도가 5℃/분보다 작으면, 승온 시에 용해 주조로 형성된 조대한 화합물 입자가 성장하고, 그 후의 균질화 열처리로 조대한 화합물 입자를, 모상에 충분히 녹이지 못하고 잔존하기 쉬워지고, 최종 특성으로 굽힘 가공성을 열화시키기 때문이다. 또한, 미세한 화합물 입자의 개수 비율도 감소하기 때문에, 내열성도 악화된다. 유지 온도가 600℃ 미만 및 유지 시간이 30분 미만의 적어도 한쪽을 만족하는 경우에는, 모상에 고용되지 못한 조대한 화합물 입자가 잔존하기 쉬워지고, 최종 특성으로 굽힘 가공성은 열화할 우려가 있으며, 또한, 유지 온도가 1000℃ 초과인 경우에는 잇따르는 열간압연 공정에 있어서, 열간 가공 균열이 생길 우려가 있기 때문이다. 또한, 유지 시간은, 용체화 효과의 포화나, 실제 제조에 있어서의 시간 제약의 관점에서, 상한을 10시간으로 하는 것이 바람직하다.Homogenization heat processing is performed in order to make the coarse compound particle produced | generated by melt casting solid solution in a mother phase, and to make it into a solution state. It is preferable to hold a homogenization heat processing at 600-1000 degreeC for 30 minutes-10 hours. Conventionally, although the temperature increase rate of the homogenization heat treatment is not important, in this invention, it is necessary to control a temperature increase rate especially 5 degree-C / min or more, Preferably it is 10 degree-C / min or more in order to acquire the material structure prescribed | regulated. If the temperature increase rate is less than 5 DEG C / min, coarse compound particles formed by dissolution casting grow at the time of temperature increase, and the coarse compound particles are not easily dissolved in the mother phase by subsequent homogenization heat treatment, and the residual properties tend to remain. This is because the bending workability is deteriorated. Moreover, since the ratio of the number of fine compound particles also decreases, heat resistance also worsens. When the holding temperature satisfies at least one of less than 600 ° C. and the holding time is less than 30 minutes, coarse compound particles not dissolved in the mother phase tend to remain, resulting in deterioration in bending workability as a final property. It is because there exists a possibility that hot work crack may arise in the subsequent hot rolling process, when holding temperature is more than 1000 degreeC. Moreover, it is preferable to make an upper limit into 10 hours from a viewpoint of the saturation of a solution effect, and the time constraint in actual manufacture.

<열간압연><Hot rolled>

열간압연은, 550~950℃에서 실시하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 특히, 300℃까지의 냉각 속도를 30℃/분 이상으로 하는 것이 필요하다. 300℃까지의 냉각 속도가 30℃/분보다 작으면, 냉각중에 조대한 화합물 입자가 석출되기 쉬워지고, 최종 특성에 악영향을 미치기 때문이다.It is preferable to perform hot rolling at 550-950 degreeC. In this invention, it is especially necessary to make cooling rate to 300 degreeC into 30 degreeC / min or more. This is because when the cooling rate up to 300 ° C. is less than 30 ° C./min, coarse compound particles are easily precipitated during cooling and adversely affect final properties.

<냉간압연><Cold rolled>

열간압연 후의 냉간압연은, 80% 이상의 가공율로 실시하는 것이 바람직하다. 가공율이 80% 미만이면, 재료 내에 균일하게 변형이 도입되지 않고, 후속 소둔으로 미세한 화합물 입자가 석출될 때, 재료 내에서 석출 상태에 차이가 날 우려가 있기 때문이다.Cold rolling after hot rolling is preferably performed at a processing rate of 80% or more. This is because when the processing rate is less than 80%, no deformation is uniformly introduced into the material, and when the fine compound particles are precipitated by subsequent annealing, there is a fear that the precipitation state in the material may be different.

<소둔><Annealed>

소둔은, 350~600℃에서 5초~10시간 유지하는 것이 바람직하다. 상기 범위보다 저온 단시간이면, 미세한 화합물 입자의 석출이 불충분하고, 강도 및 도전율의 저하가 염려되며, 또한, 상기 범위보다 고온 장시간이면, 조대한 화합물 입자가 석출되고, 굽힘 가공성의 열화나 내열성의 악화가 염려되기 때문이다.It is preferable to hold annealing for 5 second-10 hours at 350-600 degreeC. If the temperature is shorter than the above range, the precipitation of fine compound particles is insufficient, and there is a fear of lowering the strength and conductivity, and if the temperature is longer than the above range, coarse compound particles are precipitated, and the bending workability deteriorates and the heat resistance deteriorates. Is concerned.

<마무리 압연><Finish rolling>

마무리 압연의 가공율은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 양호한 굽힘 가공성을 얻기 위해, 60% 이하로 하는 것이 바람직하다.Although the processing rate of finish rolling is not specifically limited, In order to acquire favorable bending workability, it is preferable to set it as 60% or less.

<저온소둔><Low temperature annealing>

마무리 압연 후에, 250~400℃에서 2초~5시간의 저온소둔을 실시할 수 있다. 저온소둔에 의해, 재료의 탄력성이나 내응력 완화 특성을 향상시킬 수 있다. 상기 범위보다 저온 단시간이면, 저온소둔의 효과를 얻을 수 없을 우려가 있으며, 또한, 상기 범위보다 고온 장시간이면, 미세한 화합물 입자가 조대하게 성장하여, 굽힘 가공성이나 내열성에 악영향을 미칠 우려가 있기 때문이다. 또한 재료의 재결정이 진행되어, 소망한 강도를 얻을 수 없게 될 우려가 있다.After finish rolling, low-temperature annealing at 250-400 degreeC for 2 second-5 hours can be performed. By low temperature annealing, the elasticity and stress relaxation resistance of the material can be improved. If the temperature is shorter than the above range, the effect of low temperature annealing may not be obtained, and if the temperature is longer than the above range, fine compound particles may grow coarse and adversely affect bending workability and heat resistance. . In addition, there is a fear that the recrystallization of the material proceeds and the desired strength cannot be obtained.

본 발명의 구리합금재료는, 소정의 합금 조성을 갖는 Cu-Ni-Sn-P계 구리합금의 화합물 입자의 사이즈와 양을 제어함으로써, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성뿐만 아니라, 내열성도 겸비할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 구리합금재료는, 리드 프레임을 비롯한 전기 전자 부품에 이용하는데 바람직하다.The copper alloy material of the present invention can combine not only high strength, high conductivity and good bending workability but also heat resistance by controlling the size and amount of the compound particles of the Cu-Ni-Sn-P-based copper alloy having a predetermined alloy composition. have. For this reason, the copper alloy material of the present invention is suitable for use in electric and electronic components including lead frames.

[실시예]EXAMPLE

이하, 본 발명을 실시예에 따라 보다 더 상세하게 설명하지만, 본 발명이 그것들에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although this invention is demonstrated in more detail according to an Example, this invention is not limited to them.

(실시예 1~26 및 비교예 1~22)(Examples 1-26 and Comparative Examples 1-22)

이하에, 실시예에 따라 본 발명을 보다 더 상세하게 설명하지만, 본 발명이 이것에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to this.

합금 성분을 용해하고, 300℃까지 30℃/분 이상의 냉각 속도로 냉각하면서 주조하고, 표 1에 나타낸 성분 조성을 갖는 잉곳를 제작한 후, 표 2에 나타낸 승온 속도로 승온하고, 600~1000℃에서 30분에서 10시간 유지하는 균질화 열처리를 하고, 이어서 열간압연을 실시했다. 열간압연 후에, 표 2에 나타낸 300℃까지의 냉각 속도로 냉각하고, 그 후, 면삭에 의해 표면 산화층을 제거하고, 80% 이상의 가공율로 냉간압연을 실시했다. 그 후, 350~600℃에서 5초~10시간 소둔을 실시하고, 이어서 마무리 압연을 60% 이하의 가공율로 하고, 마지막에 250~400℃에서 2초~5시간의 저온소둔을 실시하고, 판두께 0.5mm의 구리합금재료를 제조했다.The alloy components are melted and cast while cooling at a cooling rate of 30 ° C./min or more to 300 ° C., and after producing an ingot having the ingredient composition shown in Table 1, the temperature is raised at a temperature rising rate shown in Table 2 and 30 at 600 to 1000 ° C. Homogenization heat treatment maintained in minutes for 10 hours, followed by hot rolling. After hot rolling, it cooled at the cooling rate to 300 degreeC shown in Table 2, after that, the surface oxide layer was removed by surface roughing, and cold rolling was performed at 80% or more of work rate. Thereafter, annealing is performed at 350 to 600 ° C. for 5 seconds to 10 hours, and then finish rolling is performed at a processing rate of 60% or less, and finally low temperature annealing is performed at 250 to 400 ° C. for 2 seconds to 5 hours, A copper alloy material having a plate thickness of 0.5 mm was produced.

이와 같이 하여 제조한 공시재에 대해, 하기의 평가를 실시했다.The following evaluation was performed about the test material manufactured in this way.

(조직 관찰)(Tissue observation)

제조한 각 구리합금재료(공시재)에서 채취한 시험편(사이즈: 20mm×20mm)의 표면 20㎛를 인산계 수용액으로 전해연마한 후, FE-SEM에 의해, 재료 표면을 10000~100000배로 관찰했다. 관찰은 1㎛×1㎛의 범위를 임의로 3시야(視野) 관찰하여, 그 시야 범위 내에 존재하는, 입자 직경이 5~30㎚인 미세한 화합물 입자의 개수와, 입자 직경이 30㎚ 초과의 조대한 화합물 입자의 개수를 계측했다. 그 후, 계측한 개수를, 1㎛×1㎛(1㎛2)의 시야 면적당 개수 비율로 환산했다. 환산한 개수 비율은 사사오입하고, 미세한 화합물 입자에 관해서는 정수로 나타내고, 또한, 조대한 화합물 입자에 관해서는 소수점 둘째 자리 숫자까지를 나타냈다.After electrolytic polishing 20 micrometers of the surface of the test piece (size: 20 mm x 20 mm) collected from each copper alloy material (test material) manufactured by the phosphate type aqueous solution, the material surface was observed 10000-100000 times by FE-SEM. . Observation observed the field of 1 micrometer x 1 micrometer arbitrarily 3 o'clock, and the number of the fine compound particles whose particle diameters are 5-30 nm which exist in the viewing range, and a coarse particle diameter exceeding 30 nm are large. The number of compound particles was measured. Then, the measured number was converted into the ratio of the number per viewing area of 1 micrometer x 1 micrometer (1 micrometer <2> ). The converted number ratio was rounded off, and the fine compound particles were represented by integers, and the coarse compound particles were represented by two decimal places.

(인장 강도의 측정)(Measurement of tensile strength)

인장 강도는, 각 공시재로부터, JIS Z2241:2011의 부속서 B에 규정된 5호 시험편을, 압연 평행 방향에 따라 베어내 3개 채취하고, JIS Z2241:2011에 규정된 「금속재료 인장 시험 방법」에 준하여 3개 측정했다. 그들 인장 강도의 평균치를 표 2에 나타낸다.Tensile strength is taken from each specimen, three specimens of No. 5 specified in annex B of JIS Z2241: 2011 in the bar along the rolling parallel direction, and the "metallic material tensile test method" prescribed in JIS Z2241: 2011. Three measurements were made according to the procedure. The average value of those tensile strengths is shown in Table 2.

(도전율의 측정)(Measurement of conductivity)

20℃(±0.5℃)로 유지된 항온조에서, 사단자법에 의해 비저항치를 계측하고, 계측한 비저항치로부터 도전율을 산출했다. 또한, 단자간 거리는 100mm로 했다.In the thermostat maintained at 20 ° C (± 0.5 ° C), the resistivity was measured by the four-terminal method, and the electrical conductivity was calculated from the measured resistivity. In addition, the distance between terminals was 100 mm.

(굽힘 가공성)(Bending workability)

JCBA T307:2007에 따라, 굽힘 시험을 실시했다. 판 폭 10mm의 시험편을, 굽힘축이 압연 방향과 수직이 되는 방향(G.W.방향) 및 평행이 되는 방향(B.W.방향)에 대해서 각각 안쪽 굽힘 반경 0.5mm, 굽힘 각도 90°의 W굽힘을 실시했다. 리드 프레임을 비롯한 전기 전자 부품에 대해서는, G.W.방향과 B.W.방향 양방향의 굽힘 가공이 상정되므로, 굽힘 후의 굽힘부 정점의 표면을 광학 현미경에 의해 관찰하여, G.W.방향과 B.W.방향의 어느 쪽도 균열이 발생하지 않은 것을 굽힘 가공성 양호(A), 발생한 것을 굽힘 가공성 불량(D)으로 평가했다. 그 평가 결과를 표 2에 나타낸다.According to JCBA T307: 2007, a bending test was conducted. The test piece of 10 mm of plate | board width was W-wounded with the inner bending radius of 0.5 mm and the bending angle of 90 degrees with respect to the direction (G.W. direction) in which a bending axis becomes perpendicular | vertical to a rolling direction, and the direction (B.W. direction) to become parallel, respectively. In the electric and electronic parts including the lead frame, bending in both the GW and BW directions is assumed, so that the surface of the bend vertices after bending is observed with an optical microscope, and cracks occur in both the GW and BW directions. The thing which was not good evaluated the bending workability good (A), and the thing which generate | occur | produced as bending workability defect (D). The evaluation results are shown in Table 2.

(내열성)(Heat resistance)

내열성은, 450℃로 승온한 염욕에 시험편을 투입하고, 5분간 경과 후에 취출하여 수냉하는 열처리를 하고, 열처리 후의 경도를, 열처리 전의 경도로 나눈 값이 0.8 이상인 경우를 내열성 양호(A), 0.8 미만인 것을 내열성 불량(D)으로 평가했다. 그 평가 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 경도는, JIS Z2244:2009에 규정된 비커스 경도 시험(Vicker's Hardness Test)-시험 방법에 따라 측정했다. 또한, 열처리 후의 재료는, 염욕과 접촉한 표면에 피막이 형성됐기 때문에, 산세(pickling)로 제거한 후에 경도를 측정했다.Heat resistance is good when the test piece is put into the salt bath heated to 450 degreeC, the heat processing to take out and water-cools after 5 minutes passes, and the value after dividing the hardness after heat processing by the hardness before heat processing is 0.8 or more (A), 0.8 Less than was evaluated as heat resistance defect (D). The evaluation results are shown in Table 2. In addition, hardness was measured according to the Vickers Hardness Test-test method prescribed | regulated to JISZ2244: 2009. In addition, since the film | membrane was formed in the surface which contacted the salt bath, the material after heat processing measured hardness after removing by pickling.

Figure 112017066451622-pct00001
Figure 112017066451622-pct00001

Figure 112017066451622-pct00002
Figure 112017066451622-pct00002

표 1 및 표 2에 나타낸 결과로부터, Sn 농도가 0.05~0.5질량%의 범위인 실시예 1~13은 모두, 인장 강도가 432~492MPa와 400MPa 이상이며, 도전율이 50~77%IACS와 50%IACS 이상이며, 양호한 굽힘 가공성(A)과 양호한 내열성(A)을 얻을 수 있다. 이에 대해, 표 1에 나타낸 성분 조성이 본 발명의 범위 외인 비교예 1~9 및 표 2에 나타낸 제조 조건이 본 발명의 범위 외인 비교예 10 및 11은 모두, 인장 강도, 도전율, 굽힘 가공성, 내열성 및 제조성의 적어도 1개가 뒤떨어졌다.From the results shown in Table 1 and Table 2, all of Examples 1 to 13 having a Sn concentration in the range of 0.05 to 0.5 mass% have tensile strengths of 432 to 492 MPa and 400 MPa or more, and electrical conductivity of 50 to 77% IACs and 50%. It is more than IACS and can obtain favorable bending workability (A) and favorable heat resistance (A). On the other hand, Comparative Examples 1-9 in which the component composition shown in Table 1 is outside the range of this invention, and Comparative Examples 10 and 11 whose manufacturing conditions shown in Table 2 are outside the range of this invention are all tensile strength, electrical conductivity, bending workability, and heat resistance. And at least one of manufacturability was inferior.

또한, Sn 농도가 0.5질량% 초과 2.5질량% 이하의 범위인 실시예 14~26은 모두, 인장 강도가 512~593MPa와 500MPa 이상이며, 도전율이 27~38%IACS와 25%IACS 이상이며, 양호한 굽힘 가공성(A)과 양호한 내열성(A)을 얻을 수 있다. 이에 대해, 표 1에 나타낸 성분 조성이 본 발명의 범위 외인 비교예 12~20 및 표 2에 나타낸 제조 조건이 본 발명의 범위 외인 비교예 21 및 22는 모두, 인장 강도, 도전율, 굽힘 가공성, 내열성 및 제조성의 적어도 1개가 뒤떨어졌다.In addition, all of Examples 14-26 whose Sn concentration is more than 0.5 mass% and 2.5 mass% or less have tensile strengths of 512-593 MPa and 500 MPa or more, electrical conductivity is 27-38% IACS and 25% IACS or more, and is favorable. Bending workability (A) and good heat resistance (A) can be obtained. On the other hand, Comparative Examples 12-20 in which the component composition shown in Table 1 is outside the range of this invention, and Comparative Examples 21 and 22 in which the manufacturing conditions shown in Table 2 are outside the range of this invention are all tensile strength, electrical conductivity, bending workability, and heat resistance. And at least one of manufacturability was inferior.

또한, 도 1 및 도 2는, 각각 실시예 14와 비교예 22의 구리합금재료의 전해연마 후의 표면을, FE-SEM에 의해 관찰했을 때의 SEM 사진을 나타낸 것이다. 도 1에 나타낸 실시예 14의 구리합금재료에서는, 미세한 화합물 입자가 분산하는데 대해, 도 2에 나타낸 비교예 22의 구리합금재료에서는, 화합물 입자가 조대하게 되는 것을 알 수 있다.1 and 2 show SEM photographs when the surfaces after electropolishing of the copper alloy materials of Example 14 and Comparative Example 22 were observed by FE-SEM, respectively. In the copper alloy material of Example 14 shown in FIG. 1, fine compound particles are dispersed, whereas in the copper alloy material of Comparative Example 22 shown in FIG. 2, it can be seen that the compound particles become coarse.

본 발명에 따르면, 고강도, 고도전율 및 양호한 굽힘 가공성뿐만 아니라, 한층 더 양호한 내열성을 겸비한 구리합금재료의 제공이 가능해졌다. 본 발명의 구리합금재료는, 특히, 반도체 장치에 이용되는 리드 프레임을 비롯한 전기 전자 부품에 이용되는데 바람직하다.According to the present invention, it is possible to provide a copper alloy material having not only high strength, high electrical conductivity and good bending workability but also better heat resistance. The copper alloy material of the present invention is particularly preferred for use in electrical and electronic components including lead frames used in semiconductor devices.

Claims (5)

Ni을 0.05~1.2질량%, P을 0.01~0.15질량% 및 Sn을 0.05~2.5질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어진 합금 조성을 가지며, 전해연마 후의 재료 표면을 FE-SEM로 관찰하여, 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 화합물 입자의 개수 비율이 20개/㎛2 이상, 입자 직경이 30㎚ 초과인 화합물 입자의 개수 비율이 0 ~ 0.33 개/㎛2 인 것을 특징으로 하는 구리합금재료.
It contains 0.05-1.2 mass% of Ni, 0.01-0.15 mass% of P, and 0.05-2.5 mass% of Sn, the balance has the alloy composition which consists of Cu and an unavoidable impurity, The surface of the material after electrolytic polishing was observed by FE-SEM, , The number ratio of the compound particles having a particle diameter of 5 to 30 nm per 20 m / m 2 or more, and the number ratio of the compound particles having a particle diameter of more than 30 nm are 0 to 0.33 pieces / μm per 1 μm × 1 μm viewing area. Copper alloy material, characterized in that 2 .
Ni을 0.05~1.2질량%, P을 0.01~0.15질량% 및 Sn을 0.05~2.5질량%를 함유하고, 또한 Fe, Zn, Pb, Si, Mg, Zr, Cr, Ti, Mn 및 Co 중에서 선택되는 적어도 1 성분을 함유하고, Fe이 0.001~0.1질량%, Zn이 0.001~0.5질량%, Pb이 0.001~0.05질량%, Si가 0.001~0.1질량%, Mg이 0.001~0.3질량%, Zr이 0.001~0.15질량%, Cr이 0.001~0.3질량%, Ti이 0.001~0.05질량%, Mn이 0.001~0.2질량% 및 Co가 0.001~0.2질량%이며, 또한 Mg, Zr, Cr, Ti, Mn 및 Co를 2 이상 함유하는 경우의 합계 함유량이 0.001~0.5질량%이며, 잔부가 Cu 및 불가피 불순물로 이루어진 합금 조성을 가지며, 전해연마 후의 재료 표면을 FE-SEM로 관찰하여, 1㎛×1㎛의 시야 면적당, 입자 직경이 5~30㎚인 화합물 입자의 개수 비율이 20개/㎛2 이상, 입자 직경이 30㎚ 초과인 화합물 입자의 개수 비율이 0 ~ 0.33 개/㎛2 인 것을 특징으로 하는 구리합금재료.
0.05 to 1.2% by mass of Ni, 0.01 to 0.15% by mass of P and 0.05 to 2.5% by mass of Sn, further selected from Fe, Zn, Pb, Si, Mg, Zr, Cr, Ti, Mn and Co It contains at least one component, Fe is 0.001-0.1 mass%, Zn is 0.001-0.5 mass%, Pb 0.001-0.05 mass%, Si 0.001-0.1 mass%, Mg 0.001-0.3 mass%, Zr 0.001 0.15 mass%, Cr 0.001-0.3 mass%, Ti 0.001-0.05 mass%, Mn 0.001-0.2 mass%, Co 0.001-0.2 mass%, and Mg, Zr, Cr, Ti, Mn and Co In the case of containing 2 or more, the total content is 0.001 to 0.5% by mass, the balance has an alloy composition composed of Cu and unavoidable impurities, the surface of the material after electropolishing is observed by FE-SEM, and the viewing area of 1 μm × 1 μm. The copper alloy material characterized in that the number ratio of the compound particles having a particle diameter of 5 to 30 nm is 20 pieces / μm 2 or more, and the number ratio of the compound particles having a particle diameter of more than 30 nm is 0 to 0.33 pieces / μm 2 . .
청구항 1 또는 2에 있어서, Sn을 0.05~0.5질량% 함유하고, 인장 강도가 400MPa 이상, 도전율이 50%IACS 이상인 것을 특징으로 하는 구리합금재료.
The copper alloy material according to claim 1 or 2, which contains 0.05 to 0.5 mass% of Sn, has a tensile strength of 400 MPa or more and a conductivity of 50% IACs or more.
청구항 1 또는 2에 있어서, Sn을 0.5질량% 초과 2.5질량% 이하 함유하고, 인장 강도가 500MPa 이상, 도전율이 25%IACS 이상인 것을 특징으로 하는 구리합금재료.
The copper alloy material according to claim 1 or 2, wherein Sn is more than 0.5% by mass and 2.5% by mass or less, and the tensile strength is at least 500 MPa and the conductivity is at least 25% IACS.
하기 (a)~(e)의 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 청구항 1 또는 2에 기재된 구리합금재료의 제조 방법.
(a) 300℃까지의 냉각 속도를 30℃/분 이상으로 하는 용해 주조 공정.
(b) 5℃/분 이상으로 승온하고, 600~1000℃에서 30분~10시간 유지하는 균질화 열처리 공정.
(c) 300℃까지의 냉각 속도를 30℃/분 이상으로 하는 열간압연 공정.
(d) 가공율을 80% 이상으로 하는 냉간압연 공정.
(e) 350~600℃에서 5초~10시간 유지하는 소둔공정.
The manufacturing method of the copper alloy material of Claim 1 or 2 including the process of following (a)-(e).
(a) Melt casting process which makes cooling rate to 300 degreeC into 30 degreeC / min or more.
(b) The homogenization heat treatment process which heats up at 5 degree-C / min or more and hold | maintains at 600-1000 degreeC for 30 minutes-10 hours.
(c) Hot rolling process which makes cooling rate to 300 degreeC into 30 degreeC / min or more.
(d) Cold rolling process with a processing rate of 80% or more.
(e) Annealing process held at 350 to 600 ° C. for 5 seconds to 10 hours.
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