KR102051352B1 - 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법 및 이에 의해 제조된 리어 패턴 미러 - Google Patents

Abstract

본 발명은 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법 및 이에 의해 제조된 리어 패턴 미러에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 리어 미러의 면에 ㎛ 단위의 깊이로 반복 배열하여 리어 미러에 패턴을 설계하고, 소다라임 글라스 재질로 구성되는 마스크 기판을 제작하며, 설정된 형상의 패턴 모양을 크롬 재질로 마스크 기판에 입힌 후, fused silica 혹은 BK7 재질 등을 이용하여 서브스트레이트를 제작하며, 상기 서브스트레이트 상에 감광제를 도포하고, 리어 미러 패턴마스크를 위치시키고, 자외선을 조사하여 노광하고, 습식에칭 방식으로 식각한 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높인 리어 패턴 미러를 이용하여 100 ~ 3,000nm 레이저 광을 이용하는 레이저 시스템에 있어 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 균질하게 조사할 수 있도록 하는 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법 및 이에 의해 제조된 리어 패턴 미러에 관한 것이다.

Description

공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법 및 이에 의해 제조된 리어 패턴 미러{Rear pattern mirror used inside resonator Manufacturing method and Rear pattern mirror}

본 발명은 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법 및 이에 의해 제조된 리어 패턴 미러에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 리어 미러의 면에 ㎛ 단위의 깊이로 반복 배열하여 리어 미러에 패턴을 설계하고, 소다라임 글라스 재질로 구성되는 마스크 기판을 제작하며, 설정된 형상의 패턴 모양을 크롬 재질로 마스크 기판에 입힌 후, fused silica 혹은 BK7 재질 등을 이용하여 서브스트레이트를 제작하며, 상기 서브스트레이트 상에 감광제를 도포하고, 리어 미러 패턴마스크를 위치시키고, 자외선을 조사하여 노광하고, 습식에칭 방식으로 식각한 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높인 리어 패턴 미러를 이용하여 100 ~ 3,000nm 레이저 광을 이용하는 레이저 시스템에 있어 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 균질하게 조사할 수 있도록 하는 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법 및 이에 의해 제조된 리어 패턴 미러에 관한 것이다.

기존 의료용 치료 레이저 장비는 환자 환부에 치료하기 위해 광학부에서 공진기를 통해 제공되는 빔질을 우수한 빔 질을 만들어 내어 치료하게 된다.

특히, 색소 치료 레이저인 ND : YAG 레이저인 경우, 피부에 조사하는 레이저의 빔 질에 따라 에너지가 균일한 빔 질의 모양을 형성하지 못할 경우에 치료하는 환부에 강한 부분 및 약한 부분의 조사로 인해 부작용(Side Effect)이 생긴다.

대표적인 부작용으로 PIH(Postinflanmatory Hypcrpingmentation)가 있으며, 이는 몇 개월 후, 2차 치료를 통해 다시 환부에 치료하는 손실을 가져오게 된다.

한편, 의료용 레이저 장비의 근 적외선 파장 치료 범위인 500 ~1,400 nm의 치료 범위에 있어 레이저 공진기를 구성하여 치료용 레이저로 사용하기 위해 제작한 빔 질의 모양은 직경 0.5 ~ 15 mm정도의 원형 빔 사이즈를 가지고 있다.

그리고, 중앙에 집중형 모양의 Gaussian beam(TEM00) 또는 TopHat 과 같은 균일한 플루언스(Fluence)를 가지도록 형성된다.

하지만, 실제적으로 공진기 형성 이후에 이상적인 얼라인먼트, 미러 소자의 코팅, 재질 등의 오차로 인한 영향으로 빔 질이 이상적으로 나오지 않는다.

빔 질은 환자를 치료하기 위해 여러 가지 전달 반사 빔을 거치면서 왜곡되거나 빔 질의 변형이 일어나 이상적인 Beam 또는 TopHat의 빔 질을 형성하지 못한다.

따라서, 중앙 센터부에서 에너지가 집중된다 던지, 빔 질의 내부에 에너지가 균일하게 분포되지 못해 환자 치료에 있어 부작용(Side Effect)이 발생된다.

이는 도 1에 도시한 바와 같이, 원형 빔이 환부에 조사시에 원형으로 중첩시 사이에 생기는 빈 공간을 다시 조사함으로 Overlap(오버랩) 시술, 즉, 중첩 시술을 하게 되어 더욱 PIH(Postinflanmatory Hypcrpingmentation)을 불러오게 되는 것이다.

이는 곧 치료 부위에 2차 시술을 가져오며, 환자의 불만을 일으킬 수 있는 요인이 되게 된다.

또한, 도 2에 도시한 바와 같이, 일반적인 레이저 공진기는 리어 미러(10)와 아웃풋 미러(20) 사이에 ND : YAG Rod(30)이 위치하고 있어서 리어미러에 반사된 레이저 광은 아웃풋 미러를 통해 출력되게 되는데, 레이저 광(빔)의 질이 불규칙적이고 균일하지 못한 단점이 발생하게 된다.

따라서, 본 발명에서는 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 리어 미러의 면에 ㎛ 단위의 깊이로 반복 배열하여 리어 미러에 패턴을 설계하고, 소다라임 글라스 재질로 구성되는 마스크 기판을 제작하며, 설정된 형상의 패턴 모양을 크롬 재질로 마스크 기판에 입힌 후, fused silica 혹은 BK7 재질 등을 이용하여 서브스트레이트를 제작하며, 상기 서브스트레이트 상에 감광제를 도포하고, 리어 미러 패턴마스크를 위치시키고, 자외선을 조사하여 노광하고, 습식에칭 방식으로 식각한 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높인 리어 패턴 미러를 이용하여 100 ~ 3,000nm 레이저 광을 이용하는 레이저 시스템에 있어 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 균질하게 조사할 수 있도록 하는 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법 및 이에 의해 제조된 리어 패턴 미러를 제안하게 되었다.

(선행문헌) 대한민국특허공개번호 10-2008-0003926호(2008.01.08)

따라서 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 감안하여 제안된 것으로서, 본 발명은 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 리어 미러의 면에 ㎛ 단위의 깊이로 반복 배열하여 리어 미러에 패턴을 설계하고, 소다라임 글라스 재질로 구성되는 마스크 기판을 제작하며, 설정된 형상의 패턴 모양을 크롬 재질로 마스크 기판에 입힌 후, fused silica 혹은 BK7 재질 등을 이용하여 서브스트레이트를 제작하며, 상기 서브스트레이트 상에 감광제를 도포하고, 리어 미러 패턴마스크를 위치시키고, 자외선을 조사하여 노광하고, 습식에칭 방식으로 식각한 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높인 리어 패턴 미러를 이용하여 100 ~ 3,000nm 레이저 광을 이용하는 레이저 시스템에 있어 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 균질하게 조사할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.

본 발명이 해결하고자 하는 과제를 달성하기 위하여, 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법은,

제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 일정 간격으로 다수 배열하여 리어 미러에 패턴을 설계하기 위한 리어미러패턴설계단계(S100)와;

소다라임 글라스 재질로 구성되는 마스크 기판을 제작하며, 상기 설정된 형상의 패턴을 크롬 재질로 마스크 기판에 입히기 위한 리어미러패턴마스크제조단계(S200)와;

fused silica 혹은 BK7 중 어느 하나의 재질을 이용하여 어느 한 면의 곡률값이 -1,000 ~ -5,000 이내의 값을 가지는 서브스트레이트를 제작하기 위한 서브스트레이트제조단계(S300)와;

서브스트레이트 상에 감광제를 도포하고, 노광기에 리어 미러 패턴마스크를 위치시키고, 자외선을 조사하여 노광하고, 습식에칭 방식으로 식각하기 위한 노광 및 식각단계(S400)와;

상기 노광 및 식각 단계를 거친 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높이기 위한 HR코팅단계(S500);를 포함하게 된다.

이때, 상기 제조된 리어 패턴 미러는 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 일정 간격으로 다수 배열되어 형성된 패턴이 형성되어, 100 ~ 3,000nm 레이저 광을 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 조사되는 것을 특징으로 한다.

이상의 구성 및 작용을 지니는 본 발명에 따른 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법을 통해, 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높인 리어 패턴 미러를 이용하여 100 ~ 3,000nm 레이저 광 중 어느 하나의 파장을 HR 코팅한 광을 반사시켜 의료용 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 균질하게 조사할 수 있는 효과를 발휘하게 된다.

본 발명과 같이, 균질한 빔의 분포를 가진 레이저 광을 피부에 치료시키면, 피부에 질환별 가지고 있는 병변을 2차, 3차 재 시술을 할 필요가 없어 이에 따른 부작용을 최소화할 수 있다.

따라서, 균질한 빔의 분포를 가진 레이저 광은 균질하지 못한 빔의 분포를 가진 레이저 광보다 치료 효과가 우수하며, 치료 병변에 대한 치료 효과도 우월하다.

도 1은 종래 일반적인 레이저 장치의 원형 스팟에 대한 피부 손상 예시를 나타낸 도면이다.
도 2는 종래의 일반적인 리어 미러에 의한 품질이 떨어지는 레이저 빔 상태를 나타낸 예시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법의 공정도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법의 원형의 패턴 배열을 나타낸 예시도이며, 도 5는 육각 형상의 스팟 간격을 나타낸 예시도이며, 도 6은 육각 형상 패턴을 크롬으로 입히는 예시도이며, 도 7은 옵틱홀더원반 예시도이며, 도 8a는 일반적인 식각 방식에 따른 에칭 실패를 나타낸 그래프이며, 도 8b는 상기한 옵틱홀더원반을 이용한 식각 방식에 따른 정밀한 에칭이 완성된 그래프이며, 도 9는 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅할 경우에 반사도의 성능이 우수함을 나타낸 그래프이며, 도 10은 균질한 품질의 레이저 빔을 나타낸 사진이며, 도 11은 리어 미러에 패턴이 형성되게 되므로 이에 따라 첨두 부위가 평평함을 나타낸 그래프이며, 도 12는 실제 본 발명의 제조 방법을 이용해 제조된 리어 패턴 미러를 나타낸 사진이다.

이하의 내용은 단지 본 발명의 원리를 예시한다. 그러므로 당업자는 비록 본 명세서에 명확히 설명되거나 도시되지 않았지만, 본 발명의 원리를 구현하고 본 발명의 개념과 범위에 포함된 다양한 장치를 발명할 수 있는 것이다.

또한, 본 명세서에 열거된 모든 조건부 용어 및 실시 예들은 원칙적으로, 본 발명의 개념이 이해되도록 하기 위한 목적으로만 명백히 의도되고, 이와 같이 특별히 열거된 실시 예들 및 상태들에 제한적이지 않는 것으로 이해되어야 한다.

이하에서는, 본 발명에 의한 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법 및 이에 의해 제조된 리어 패턴 미러의 실시예를 통해 상세히 설명하도록 한다.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법의 공정도이다.

도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법은, 리어미러패턴설계단계(S100), 리어미러패턴마스크제조단계(S200), 서브스트레이트제조단계(S300), 노광 및 식각단계(S400), HR코팅단계(S500)를 거치게 된다.

상기 리어미러패턴설계단계(S100)는 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 일정 간격으로 다수 배열하여 리어 미러에 패턴을 설계하는 공정이다.

다시 말하자면, 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 미러의 재료 위에 ㎛ 단위의 깊이를 갖도록 형성하고, 일정 간격으로 다수 배열하여 리어 미러에 패턴을 설계하는 공정이다.

요약하면, 리어 미러에 형성시킬 패턴을 제조자에 의해 설계하여 패턴을 마스크에 그려 넣게 되는 것이다.

도 4에 도시한 바와 같이, 상기 패턴 배열의 직경은 바람직하게는 4인치 원크기(110)로 하며, 마스크는 사각 마스크(120)로서 기판 전체 크기를 바람직하게는 5 x 5 인치로 설정할 수 있으며, 혹은 다른 크기로 설정할 수도 있다.

한편, 양산 수량을 늘리기 위하여 4인치 이상의 원크기로도 할 수 있는 것은 당연한 것이다.

한편, 바람직한 실시예에 따라, 제조자는 패턴을 설정함에 있어 육각 벌집 모양의 패턴을 형성하게 된다.

육각 벌집 패턴 이외에도 다른 형상의 무늬와 패턴을 설계할 수 있는 것은 당연한 것이다.

상기한 예시는 육각 형상의 점을 이용하여 패턴을 형성하는 것이지만, 필요에 따라 원형, 삼각형, 사각형, 다각형 중 어느 하나를 선택하여 패턴을 형성할 수도 있을 것이다.

육각 벌집 패턴의 경우, 도 5에 도시한 바와 같이, 어느 한 육각 패턴의 꼭지점과 다른 한 육각 패턴의 꼭지점 간에 거리(a)는 500 ~ 900㎛이며,

어느 한 육각 패턴의 변과 다른 한 육각 패턴의 변 간에 거리(b)는 50 ~ 500㎛ 이며,

육각 패턴의 너비(c)는 100 ~ 700㎛ 이며,

어느 한 육각 패턴과 다른 한 육각 패턴의 피치(Pitch, d)는 500 ~ 900㎛ 이며,

육각 패턴의 어느 한 변과 다른 변의 꼭지각(e)은 120도 범위 내인 것을 특징으로 한다.

상기와 같이, 설정하는 것이 실험 결과 가장 최적의 조건임을 알 수 있었으며, 상기 거리값(a, b, c, d)과 꼭지각(e) 범위를 벗어나게 되면 빔질의 모양 형성이 우수하지 못하여 피부 치료시 효과가 현저하게 떨어질 수 있으므로 가급적 상기한 범위 내에서 패턴을 형성하는 것이 바람직하다.

상기 리어미러패턴마스크제조단계(S200)는 소다라임 글라스 재질로 구성되는 마스크 기판을 제작하며, 상기 설정된 형상의 패턴을 크롬 재질로 마스크 기판에 입히는 공정이다.

도 6에 도시한 바와 같이, 설정된 형상의 점이 육각 형상의 점(50)일 경우에 육각 형상의 점들을 일정 간격으로 다수 배열되는 패턴을 형성하기 위하여 크롬 재질로 마스크 기판에 입히게 되는 것이다.

상기 마스크는 포토마스크로서, 사진의 원판 필름과 같은 역할을 한다고 볼 수 있다.

원판 필름으로 똑같은 사진을 인화할 수 있듯이 포토 마스크를 이용하여 많은 양의 육각 형상의 규치적으로 배열된 리어 패턴 미러를 제작할 수 있다.

포토마스크의 종류에는 소다라임 재질 타입과 필름 타입이 주로 사용되나, 본 발명에서는 바람직하게는 소다라임 글라스 재질을 선택한다.

이는 필름 타입의 해상도가 30~100 ㎛인 반면, 소다라임 글라스는 1~100 ㎛를 가진다.

이때, 본 발명의 리어 패턴 미러는 높은 해상도의 패턴이 유지되도록 공정되고 제작되어야 하므로 소다라임 글라스로 선택한다.

그리고, 포토마스크 위에 크롬을 입히는 이유는 투명한 소다라임 글라스 재질 위에 패턴을 남기기 위해 노광 작업시 빛을 차단하는 목적으로 크롬을 입혀 원하는 패턴을 입히고자 하는 것이다.

한편, 노광기에 따라 원형 배열 뿐만 아니라, 사각 배열도 가능하게 되는데, 사각 배열의 경우에는 수율을 증가시키는 장점을 제공하게 된다.

즉, 리어 미러에 입혀지는 패턴을 원형으로 형성할 수 있으나, 수율 증가를 위하여 사각형을 이용하여 형성할 수도 있다.

이때, 상기 육각 형상의 점들이 일정 간격으로 다수 배열되는 리어 미러용 패턴을 캐드로 그려서 마스크에 입히게 된다.

상기 서브스트레이트제조단계(S300)는 fused silica 혹은 BK7 중 어느 하나의 재질을 이용하여 서브스트레이트를 제작하는 공정이다.

이때, 서브스트레이트는,

지름이 10 ~ 25.4mm, 두께가 2 ~ 6mm, Flatness ≤λ/8 또는 λ/4 인 것을 특징으로 한다.

즉, 상기와 같은 재질을 이용하게 되면 종래 미러의 손실율 50%대를 손실율 1% 대로 낮출 수 있게 된다.

왜냐하면, 재질이 파장을 결정하므로 공진기에 구성되는 리어 미러에 상기 패턴을 입힐 경우에 가장 바람직한 파장인 100 ~ 3,000nm 레이저 광을 사용하기 위하여 상기와 같은 fused silica 혹은 BK7 재질을 사용하게 되는 것이다.

상기 노광 및 식각단계(S400)는 서브스트레이트 상에 감광제를 도포하고, 노광기에 리어 미러 패턴마스크를 위치시키고, 자외선을 조사하여 노광하고, 습식에칭 방식으로 식각하는 공정이다.

즉, 최소 선폭이 3 ㎛의 습식에칭 방식으로 식각하게 되는 것이다.

습식에칭은 최소 선폭이 3㎛이고, 등방성이며, 에칭 속도도 높다.

따라서, 습식 에칭을 사용하게 되는 것이다.

상기 노광 및 식각 과정은 일반적인 기술이므로 상세한 설명은 생략하겠다.

또한, 상기 노광 및 식각단계(S400) 이전에 노광 및 식각 준비단계를 더 구성할 수 있다.
상기 노광 및 식각 준비단계는 제작된 서브스트레이트를 옵틱홀더원반(300)에 안착시키고, 대량생산용트레이본체(400)에 형성된 수직봉(410)에 옵틱홀더원반(300)을 삽입시키는 단계로서 다수의 서브스트레이트를 동시에 노광 및 식각할 수 있도록 하는 사전 준비단계이다.
상기 옵틱홀더원반(300)에 제작된 서브스트레이트를 위치시킬 수 있는데, 상기 옵틱홀더원반(300)은 도 7에 도시한 바와 같이, 서브스트레이트를 안착시키기 위한 안착홈(310)이 형성된 안착부(330)와,

상기 안착부의 상단에 돌출되게 형성되되, 대량생산용트레이본체(400)에 수직 방향으로 길게 형성된 수직봉(410)에 삽입하기 위한 삽입홀(320)이 형성된 삽입부(340)를 포함하여 구성되게 된다.

또한, 상기 대량생산용트레이본체(400)에는 수직봉(410)을 다수 형성된다.

이때, 옵틱홀더원반을 일정 간격으로 수직봉(410)에 삽입하게 되는데, 상기 옵틱홀더원반에는 서브스트레이트를 안착시키기 위한 안착홈이 형성된 안착부가 형성되어 있게 된다.

따라서 옵틱홀더원반(300)과 대량생산용트레이본체(400)를 이용하여 동시에 다수의 서브스트레이트를 식각 및 세척을 수행할 수 있게 되어 대량 생산이 가능하게 되는 것이다.

한편, 도 8a는 일반적인 식각 방식에 따른 에칭 실패를 나타낸 그래프이며, 도 8b는 상기한 옵틱홀더원반을 이용한 식각 방식에 따른 정밀한 에칭이 완성된 그래프이다.

도 8b의 경우에는 식각했을 때, 육각 벌집 모양을 가진 패턴과 패턴이 없는 부분의 단차를 나타내고 있는 것이다.

상기 HR코팅단계(S500)는 상기 노광 및 식각 단계를 거친 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높이는 공정이다.

예를 들어, ND : YAG 레이저(1064nm)일 경우에, 공진기 구성용 리어 미러는 1064nm 대역에서 95% 이상의 반사도를 가져야 한다.

따라서, 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나를 HR코팅하게 되는 것이다.

만약, 상기한 조건을 만족하지 않으면 박리가 발생하게 되므로 전체 작업은 실패로 끝나게 되므로 시간적, 경제적 손실이 발생할 수밖에 없다.

도 9에 도시한 바와 같이, 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나를 HR코팅할 경우에 반사도의 성능이 가장 우수함을 알 수 있었다.

상기와 같은 단계를 거치게 되면, 리어 패턴 미러를 제조할 수 있게 된다.

따라서, 도 12에 도시한 바와 같이, 상기 제조된 리어 패턴 미러는 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양(50)을 일정 간격으로 다수 배열되어 형성하여, 100 ~ 3,000nm 레이저 광을 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 조사하게 되므로 도 10과 같은 균질한 품질의 레이저 빔(70)을 출력시킬 수가 있게 되는 것이다.

이는 도 11에 도시한 바와 같이, 리어 미러에 패턴이 형성되게 되므로 이에 따라 출력의 형태가 첨두 부위가 평평하게 됨으로써, 조사 영역이 균일하기 때문인 것이다.

상기와 같은 본 발명에 의하면, 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높인 리어 패턴 미러를 이용하여 100 ~ 3,000nm 레이저 광 중 어느 하나의 파장을 HR 코팅한 광을 반사시켜 의료용 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 균질하게 조사할 수 있는 효과를 발휘하게 된다.

또한, 이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형 실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안될 것이다.

S100 : 리어미러패턴설계단계
S200 : 리어미러패턴마스크제조단계
S300 : 서브스트레이트제조단계
S400 : 노광 및 식각단계
S500 : HR코팅단계

Claims (4)

1. 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법에 있어서,
   제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 일정 간격으로 다수 배열하여 리어 미러에 패턴을 설계하기 위한 리어미러패턴설계단계(S100)와;
   
   소다라임 글라스 재질로 구성되는 마스크 기판을 제작하며, 상기 설정된 형상의 패턴을 크롬 재질로 마스크 기판에 입히기 위한 리어미러패턴마스크제조단계(S200)와;
   
   fused silica 혹은 BK7 중 어느 하나의 재질을 이용하여 서브스트레이트를 제작하기 위한 서브스트레이트제조단계(S300)와;
   
   제작된 서브스트레이트를 옵틱홀더원반(300)에 안착시키고, 대량생산용트레이본체(400)에 형성된 수직봉(410)에 옵틱홀더원반(300)을 삽입시키는 노광 및 식각 준비단계와;
   
   옵틱홀더원반(300)에 안착된 서브스트레이트 상에 감광제를 도포하고, 노광기에 리어 미러 패턴마스크를 위치시키고, 자외선을 조사하여 노광하고, 습식에칭 방식으로 식각하기 위한 노광 및 식각단계(S400)와;
   
   상기 노광 및 식각 단계를 거친 대상물에 100 ~ 3,000nm의 레이저 광 파장 중 어느 하나의 파장을 HR코팅하여 반사도를 높이기 위한 HR코팅단계(S500);를 거쳐 리어 패턴 미러를 제조하는 것을 특징으로 하되,
   상기 제조된 리어 패턴 미러는 제조자에 의해 설정된 형상의 패턴 모양을 일정 간격으로 다수 배열되어 형성된 패턴이 형성되어, 100 ~ 3,000nm 레이저 광을 치료 대상체에 조사할 경우에 상기 리어 패턴 미러에 의해 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 조사되는 것을 특징으로 하며,
   
   상기 설정된 형상의 패턴 모양은,
   육각 형상을 가지며, 어느 한 육각 패턴의 꼭지점과 다른 한 육각 패턴의 꼭지점 간에 거리(a)는 500 ~ 900㎛ 이며,
   어느 한 육각 패턴의 변과 다른 한 육각 패턴의 변 간에 거리(b)는 50 ~ 500㎛ 이며,
   육각 패턴의 너비(c)는 100 ~ 700㎛ 이며,
   어느 한 육각 패턴과 다른 한 육각 패턴의 피치(Pitch, d)는 500 ~ 900㎛ 이며,
   육각 패턴의 어느 한 변과 다른 변의 꼭지각(e)은 120도 범위 내인 것을 특징으로 하며,
   
   상기 옵틱홀더원반(300)은,
   서브스트레이트를 안착시키기 위한 안착홈(310)이 형성된 안착부(330)와,
   상기 안착부(330)의 상단에 돌출되게 형성되되, 대량생산용트레이본체(400)에 형성된 수직봉(410)에 옵틱홀더원반(300)을 삽입하기 위한 삽입홀(320)이 형성된 삽입부(340)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하고,
   
   상기 반사된 레이저 광이 치료 대상체에 균질하게 조사되어 피부 질환별 가지고 있는 병변을 2차, 3차 재 시술할 필요가 없어 부작용을 최소화할 수 있는 것을 특징으로 하는 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법.
   
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4. 제 1항에 기재된 공진기 내부에 사용되는 리어 패턴 미러 제조 방법에 의해 제조되는 리어 패턴 미러.

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