KR102032961B1 - 실리콘 기판 결정화 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 실시예에 따른 실리콘 기판 결정화 방법은, 복수의 영역으로 구획된 비정질 실리콘(Si) 시험기판의 각 영역 상에 각각 서로 다른 에너지 밀도로 엑시머 레이저 어닐링(excimer laser annealing; ELA) 선 주사에 의해 결정화된 실리콘(Si) 시험기판을 제작하는, 결정화 실리콘 시험기판 제작 단계와, 상기 결정화된 실리콘 시험기판의 표면을 가시광 파장 범위를 갖는 광원에 의해 조사하고, 상기 가시광 파장 범위에서 상기 시험기판의 각 영역에 해당하는 반사율을 측정하는, 반사율 측정 단계와, 색상에 따라 구획한 복수의 파장 범위에서 상기 시험기판 각 영역의 평균 반사율들을 추출하는, 색상별 평균 반사율 추출 단계와, 상기 추출된 색상별 평균 반사율들 중에서 블루(blue) 계열 색상의 평균 반사율로부터 레드(red) 계열 색상의 평균 반사율을 상기 시험기판 각 영역별로 감산한 값으로 각 에너지 밀도별 최적 에너지 밀도 지수(optimum energy density index; OPED INDEX) 를 산출하는, OPED INDEX 산출 단계, 및 상기 산출된 각 에너지 밀도별 OPED INDEX 들을 비교하여 최적의 에너지 밀도를 선정하는 단계를 포함하고, 상기 최적의 에너지 밀도로 비결정성 실리콘 기판을 결정화할 수 있다.
Description
본 기재는 실리콘 기판을 레이저를 이용하여 결정화하는 방법에 관한 것이다.
박막트랜지스터(thin film transistor; TFT)에 사용되는 액티브층을 폴리실리콘 박막으로 형성하기 위해서는, 절연 기판 위에 플라즈마 화학 기상 증착법(plasma enhanced chemical vapor deposition; PECVD)이나, 저압 화학 기상 증착법(low pressure chemical vapor deposition; LPCVD)의 방법으로 순수 비정질 실리콘(intrinsic amorphous silicon)을 증착한 후, 이를 다시 결정화하는 방법을 이용한다.
결정화 방법에는 고출력의 펄스 레이저인 엑시머 레이저를 순간적으로 조사하여 열을 가함으로써 비정질 실리콘을 결정화하는 엑시머 레이저 어닐링 (excimer laser annealing; ELA)법, 반응로 속에서 노 가열법을 이용하여 비정질 실리콘을 결정화하는 고상 결정화(solid phase crystallization; SPC)법, 완전 멜팅 영역 대의 에너지를 사용하는 순차적 측면 고상화(sequential lateral solidification; SLS)법 또는 비정질 실리콘막 상에 금속을 선택적으로 증착한 후 전기장을 인가하여 금속을 씨드(seed)로 하여 결정화가 일어나도록 유도하는 금속유도결정화(meal induced crystallization; MIC)법 등이 이용된다.
이 중, ELA법은 300 내지 800㎛ 정도의 두꺼운 두께의 실리콘막을 용융시키기 위해 단파장(λ= 0.3㎛)의 강한 에너지를 펄스 형태로 투과시키기 때문에 빠른 속도의 결정화가 가능하고, 결정성이 뛰어나 소자의 이동도가 향상됨으로써 소자의 동작 특성이 우수한 장점이 있어, 널리 이용되고 있다.
이러한 ELA법 등과 같은 레이저 결정화 방식에서, 비정질 실리콘 기판 결정화시, 가해진 에너지 별로 스플릿(split) 진행된 기판을 육안 검사를 통해서 적정 에너지를 선정한다. 그러나, 육안 검사의 경우, 검사자 간 차이에 의해 적정 에너지 편차가 존재하며 숙달된 검사자를 필요로 한다. 또한 검사 진행을 위한 별도의 실험 및 시간 소모에 의한 공정 시간 지연이 발생하게 된다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 ELA법 등의 레이저 결정화 방식에서 적정 에너지 선정을 객관적인 지표를 이용하여 진행함으로써 육안 검사 기법에서의 개인 간 편차를 없애고, 빠르고 정확한 에너지 선정이 가능한 실리콘 기판 결정화 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예에 따른 실리콘 기판 결정화 방법은, 복수의 영역으로 구획된 비정질 실리콘(Si) 시험기판의 각 영역 상에 각각 서로 다른 에너지 밀도로 엑시머 레이저 어닐링(excimer laser annealing; ELA) 선 주사에 의해 결정화된 실리콘(Si) 시험기판을 제작하는, 결정화 실리콘 시험기판 제작 단계와, 상기 결정화된 실리콘 시험기판의 표면을 가시광 파장 범위를 갖는 광원에 의해 조사하고, 상기 가시광 파장 범위에서 상기 시험기판의 각 영역에 해당하는 반사율을 측정하는, 반사율 측정 단계와, 색상에 따라 구획한 복수의 파장 범위에서 상기 시험기판 각 영역의 평균 반사율들을 추출하는, 색상별 평균 반사율 추출 단계와, 상기 추출된 색상별 평균 반사율들 중에서 블루(blue) 계열 색상의 평균 반사율로부터 레드(red) 계열 색상의 평균 반사율을 상기 시험기판 각 영역별로 감산한 값으로 각 에너지 밀도별 최적 에너지 밀도 지수(optimum energy density index; OPED INDEX) 를 산출하는, OPED INDEX 산출 단계, 및 상기 산출된 각 에너지 밀도별 OPED INDEX 들을 비교하여 최적의 에너지 밀도를 선정하는 단계를 포함하고, 상기 최적의 에너지 밀도로 비결정성 실리콘 기판을 결정화한다.
상기 반사율 측정 단계는 450nm 내지 750nm 파장 범위를 포함하는 가시광선을 광원으로 이용하는 것일 수 있다.
상기 블루 계열 색상의 파장 범위는 450nm 내지 495nm이고, 상기 레드 계열 색상의 파장 범위는 496nm 내지 750nm일 수 있다.
상기 블루 계열 색상은 450nm 내지 475nm의 파장 범위를 갖는 블루 컬러 및 476nm 내지 495nm의 파장 범위를 갖는 시안(cyan) 컬러를 포함할 수 있다.
상기 레드 계열 색상은 496nm 내지 560nm의 파장 범위를 갖는 그린(green) 컬러, 561nm 내지 590nm의 파장 범위를 갖는 옐로우(yellow) 컬러, 591nm 내지 620nm의 파장 범위를 갖는 오렌지(orange) 컬러, 및 621nm 내지 750nm의 파장 범위를 갖는 레드 컬러를 포함할 수 있다.
상기 최적의 에너지 밀도는 상기 산출된 각 에너지 밀도별 OPED INDEX 중 최대값인 경우의 에너지 밀도일 수 있다.
상기 OPED INDEX 산출 단계는, 각 색상별 평균 반사율에 가중치를 각각 곱한 값을 적용하여 에너지 밀도별 OPED INDEX 를 산출하는 것일 수 있다.
상기 가중치는, 블루 컬러 및 시안 컬러에는 각각 1 이상 10 이하의 값이, 그린 컬러, 옐로우 컬러, 오렌지 컬러, 및 레드 컬러에는 각각 0.1 이상 1 이하의 값이 적용되는 것일 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 실리콘 기판 결정화 방법에서, 적정 레이저 에너지 선정을 객관적인 지표를 이용하여 진행함으로써, 육안 검사 기법에서의 오류를 최소화하고, 빠르고 정확한 에너지 선정이 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 기판 결정화 방법을 나타내는 순서도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 결정화 실리콘 시험기판을 제작하는 단계를 도시한 개략도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른, 결정화된 실리콘 시험기판의 표면의 각 기판 영역에 해당하는 에너지 밀도별 반사율을 측정한 결과를 나타내는 그래프이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른, 블루 색상에 대응하는 파장 범위에서 에너지 밀도별 평균 반사율을 추출한 결과를 나타내는 그래프이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른, 색상에 따라 구획한 복수의 파장 범위에서 에너지 밀도별 평균 반사율들을 추출한 결과를 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른, 각 색상별 각 에너지 밀도별 평균 반사율로부터 OPED INDEX 를 산출하는 단계를 나타내는 모식도이다.
도 7은 각 에너지 밀도별로 산출된 OPED INDEX 를 나타내는 그래프이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 결정화 실리콘 시험기판을 제작하는 단계를 도시한 개략도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른, 결정화된 실리콘 시험기판의 표면의 각 기판 영역에 해당하는 에너지 밀도별 반사율을 측정한 결과를 나타내는 그래프이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른, 블루 색상에 대응하는 파장 범위에서 에너지 밀도별 평균 반사율을 추출한 결과를 나타내는 그래프이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른, 색상에 따라 구획한 복수의 파장 범위에서 에너지 밀도별 평균 반사율들을 추출한 결과를 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른, 각 색상별 각 에너지 밀도별 평균 반사율로부터 OPED INDEX 를 산출하는 단계를 나타내는 모식도이다.
도 7은 각 에너지 밀도별로 산출된 OPED INDEX 를 나타내는 그래프이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1 실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예들에서는 제1 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.
도면들은 개략적이고 축적에 맞게 도시되지 않았다는 것을 일러둔다. 도면에 있는 부분들의 상대적인 치수 및 비율은 도면에서의 명확성 및 편의를 위해 그 크기에 있어 과장되거나 감소되어 도시되었으며, 임의의 치수는 단지 예시적인 것이지 한정적인 것은 아니다. 그리고, 둘 이상의 도면에 나타나는 동일한 구조물, 요소 또는 부품에는 동일한 참조 부호가 유사한 특징을 나타내기 위해 사용된다. 어느 부분이 다른 부분의 “위에” 또는 “상에” 있다고 언급하는 경우, 이는 바로 다른 부분의 위에 있을 수 있거나 그 사이에 다른 부분이 수반될 수도 있다.
본 발명의 실시예는 본 발명의 한 실시예를 구체적으로 나타낸다. 그 결과, 도해의 다양한 변형이 예상된다. 따라서 실시예는 도시한 영역의 특정 형태에 국한되지 않으며, 예를 들면 제조에 의한 형태의 변형도 포함한다.
이하, 도 1 내지 도 5를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 기판 결정화 방법을 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 기판 결정화 방법을 나타내는 순서도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 결정화 실리콘 시험기판을 제작하는 단계를 도시한 개략도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 먼저, 복수의 영역으로 구획된 비정질 실리콘(Si) 시험기판(30)을 준비한다.
시험기판(30)은 진공 분위기 챔버(10) 내에서, 시험기판(30)을 지지하고 시험기판(30)을 일정방향으로 움직이게 하는 스테이지(20) 상에 놓여진다. 시험기판(30)은 베이스 기판(32), 베이스 기판 상부에 위치하는 버퍼층(34)과, 버퍼층(34) 상부에 위치하는 실리콘층(36)으로 이루어지고, 진공 챔버(10)에는 비정질 실리콘층(36)에 진공을 유지하는 상태에서 레이저를 챔버 내에 투과시키기 위한 레이저 조사창(12)이 구비되어 있다.
실리콘층(36)은 비정질(armophous) 상태로 증착된 다음, 레이저 에너지를 통해 폴리 상태로 결정화되는 실리콘 물질로 정의될 수 있다.
시험기판(30)의 실리콘층(36)의 각 영역(A1, A2, A3, …) 상에 각각 서로 다른 에너지 밀도의 레이저 빔을 조사하여 폴리 상태의 결정질 실리콘층을 차례로 제작한다(S101).
레이저 결정화 방법으로, 고출력의 펄스 레이저인 엑시머 레이저(Excimer laser)를 기판에 순간적으로 조사하여 열을 가함으로써 결정화하는 엑시머 레이저 어닐링(Excimer Laser Anealing; ELA) 선 주사 방법을 사용할 수 있다. 이 때, 에너지 밀도는 약 425mJ 내지 약 476mJ의 범위의 에너지 밀도일 수 있다.
그 후, 상기 결정화된 실리콘 시험기판(30) 표면 전체에 가시광 파장 범위를 갖는 광원(미도시)에 의해 광을 조사한다. 상기 광은 약 450nm 내지 약 750nm의 파장 범위를 가질 수 있다. 그리고, 실리콘 시험기판(30) 표면에 조사된 광의 반사되는 정도(반사율)를 시험기판(30)의 각 영역(A1, A2, A3, …) 별로 측정한다(S102). 따라서, 도 3에 도시된 바와 같이, 약 400nm 내지 약 900nm 의 파장 범위에서 에너지 밀도별(각 영역별) 반사율을 측정하여 그래프로 나타낼 수 있다(S102).
그 후, 도 4에 도시된 바와 같이, 색상에 따라 구획한 복수의 파장 범위에서 시험기판(30) 각 영역에 해당하는 반사율을 측정한다(S103). 도 4는 상기 도 2의 반사율 측정 그래프에서, 블루(blue) 색상에 대응하는 파장 범위에서 에너지 밀도별 평균 반사율을 추출한 결과를 나타내는 그래프이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 도시된 파장 범위는 450nm 내지 475nm 이며 이 범위에 대응되는 색상은 블루 컬러이므로, 블루 컬러에서 에너지 밀도별(각 영역별) 반사율을 추출할 수 있다.
이러한 방식으로, 특정 색상에 대응하는 각각의 특정 파장 범위에서 각 기판 영역의 에너지 밀도별 평균 반사율들을 추출할 수 있다(S103). 파장 범위 476nm 내지 495nm 에 대응되는 시안(cyan) 컬러, 파장 범위 496nm 내지 560nm 에 대응되는 그린(green) 컬러, 파장 범위 561nm 내지 590nm 에 대응되는 옐로우(yellow) 컬러, 파장 범위 591nm 내지 620nm 에 대응되는 오렌지(orange) 컬러, 파장 범위 621nm 내지 750nm 에 대응되는 레드(red) 컬러에서의 특정 에너지 밀도별 반사율을 추출하여 도 4와 같은 그래프를 도시할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른, 색상에 따라 구획한 복수의 파장 범위에서 에너지 밀도별 평균 반사율들을 추출한 결과를 나타내는 그래프이다. 예를 들어, 상기 도 4에서, 가장 아래쪽의 선으로 나타나는 에너지 밀도 425mJ 선에서의 평균 반사율은 약 20% 이며, 그 위쪽의 선으로 나타나는 에너지 밀도 428mJ 선에서의 평균 반사율은 약 23%로 나타낼 수 있다. 이러한 식으로, 에너지 밀도 425mJ에서 485mJ 까지의 블루 색상의 평균 반사율을 그린 선이 도 5의 가장 아래쪽의 선으로 나타나는 것이다.
이러한 방식으로, 시안 컬러, 그린 컬러, 옐로우 컬러, 오렌지 컬러, 및 레드 컬러의 에너지 밀도 425mJ에서 485mJ까지의 각 색상의 평균 반사율을 각각 선으로 나타내어 도 5와 같은 그래프를 그릴 수 있다.
그 후, 상기 추출된 색상별 평균 반사율들 중에서 블루 계열 색상의 평균 반사율로부터 레드 계열 색상의 평균 반사율을 상기 시험기판 각 영역별로 감산한 값으로 각 에너지 밀도별 최적 에너지 밀도 지수(optimum energy density index; OPED INDEX)를 산출할 수 있다(S104).
이 때, 블루 계열 색상은 450nm 내지 475nm의 파장 범위를 갖는 블루 컬러 및 476nm 내지 495nm의 파장 범위를 갖는 시안(cyan) 컬러를 포함하고, 레드 계열 색상은 496nm 내지 560nm의 파장 범위를 갖는 그린(green) 컬러, 561nm 내지 590nm의 파장 범위를 갖는 옐로우(yellow) 컬러, 591nm 내지 620nm의 파장 범위를 갖는 오렌지(orange) 컬러, 및 621nm 내지 750nm의 파장 범위를 갖는 레드 컬러를 포함한다.
도 6은 각 색상별 각 에너지 밀도별 평균 반사율로부터 OPED INDEX 를 산출하는 단계를 나타내는 모식도이다.
즉, 도 6에 도시된 바와 같이, 각 에너지 밀도에서 블루 컬러와 시안 컬러의 평균 반사율을 더한 후, 해당 에너지 밀도에서 그린 컬러, 옐로우 컬러, 오렌지 컬러, 레드 컬러의 평균 반사율을 합한 값을 뺀 값이 해당 에너지 밀도에서의 OPED INDEX 가 된다. 이를 식으로 표현하면 다음과 같다.
(수학식 1)
OPED INDEX ＝ (블루 계열 색상의 파장 범위에서 추출된 특정 에너지 밀도에서의 평균 반사율) － (레드 계열 색상의 파장 범위에서 추출된 특정 에너지 밀도에서의 평균 반사율)
도 7은 각 에너지 밀도별로 산출된 OPED INDEX 를 나타내는 그래프이다. 즉, 에너지 밀도 425mJ 내지 485mJ 범위에서 각 색상별 평균 반사율 값으로부터 산출된 OPED INDEX 를 선으로 이어 도시한 그래프이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 에너지 밀도 425mJ에서 각 색상별 평균 반사율값으로부터 OPED INDEX 를 산출한 결과, OPED INDEX 는 약 -205%가 되며, 에너지 밀도 485mJ에서 각 색상별 평균 반사율값으로부터 OPED INDEX 를 산출한 결과, OPED INDEX 는 약 -194%가 됨을 알 수 있다.
이러한 방식으로 각 에너지 밀도별 OPED INDEX 를 산출한 결과, 각 특정 에너지 밀도별(각 영역별) OPED INDEX 는 도 7과 같은 추이를 나타내며, 최대값의 OPED INDEX 를 나타내는 에너지 밀도가 본 발명의 실리콘 기판 결정화시 최적의 에너지 밀도로 선정된다(S105). 즉, 블루 계열인 블루 컬러 및 시안 컬러의 평균 반사율의 합과 레드 계열인 그린 컬러, 옐로우 컬러, 오렌지 컬러 및 레드 컬러의 평균 반사율의 합의 차이가 작을수록 최적 에너지 밀도로 선정될 수 있다. 블루 컬러 및 시안 컬러는 사용자의 육안으로 보기에 가장 시인성이 좋은 것으로 판정되는 것이므로, 블루 컬러 및 시안 컬러의 반사율이 클수록 기판의 결정화가 양호하게 진행되었음을 나타내는 것이므로, OPED INDEX 가 최대가 되는 에너지 밀도가 최적의 에너지 밀도가 된다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 OPED INDEX 산출 단계(S104)는, 각 색상 별 평균 반사율에 가중치를 각각 곱한 값을 적용하여 에너지 밀도별 OPED INDEX 를 산출하는 것일 수 있다. 이를 식으로 표시하면 다음과 같다.
(수학식 2)
OPED INDEX ＝ [(블루 컬러의 평균 반사율 × A) ＋ (시안 컬러의 평균 반사율 × B)] － [(그린 컬러의 평균 반사율 × C) ＋ (옐로우 컬러의 평균 반사율 × D) ＋ (오렌지 컬러의 평균 반사율 × E) ＋ (레드 컬러의 평균 반사율 × F)]
이 때, A 및 B는 각각 1 이상 10 이하의 값일 수 있고, C, D, E 및 F는 각각 0.1 이상 1 이하의 값일 수 있다.
여기서, OPED INDEX 의 각 색상의 평균 반사율에 가중치 값을 곱하는 이유는 시인성이 좋은 블루 계열의 블루 컬러 및 시안 컬러의 경우는 1 이상의 가중치를 각각 곱하여, 반사율값을 확장하고, 상대적으로 시인성이 좋지 않은 레드 계열의 그린 컬러, 옐로우 컬러, 오렌지 컬러, 및 레드 컬러에는 1 이하의 가중치를 각각 곱하여, 반사율값을 축소시키며, 이렇게 함으로써 결과적으로 블루 계열의 확장된 반사율값과 레드 계열의 축소된 반사율값의 차이가 크게 되어 에너지 밀도별 OPED INDEX 를 OPED INDEX 그래프 상 명확하게 나타내고자 함에 있다.
이와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면, 색상별 각 특정 에너지 밀도에서의 평균 반사율로부터 OPED INDEX 를 산출하고, OPED INDEX 를 비교하여 가장 최대값인 OPED INDEX 를 가질 때의 에너지 밀도를 최적의 에너지 밀도값으로 선정할 수 있다. 즉, 실리콘 기판의 레이저 결정화 방식에서 적정 에너지 선정을, 기존의 육안 검사 기법 대신, OPED INDEX 와 같은 객관적인 지표를 이용하여 진행함으로써 육안 검사 기법에서의 개인 간 편차를 없애고 빠르고 정확한 에너지 선정을 할 수 있다.
따라서, 상기의 방법에 의해 선정된 최적의 에너지 밀도에 의해 비정질 실리콘 기판을 결정화시켜 양산하는 공정에 적용할 수 있다(S106).
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.
10: 챔버 12: 레이저 조사창
20: 스테이지 30: 시험기판
32: 베이스 기판 34: 버퍼층
36: 실리콘층
20: 스테이지 30: 시험기판
32: 베이스 기판 34: 버퍼층
36: 실리콘층
Claims (8)
- 복수의 영역으로 구획된 비정질 실리콘(Si) 시험기판의 각 영역 상에 각각 서로 다른 에너지 밀도로 엑시머 레이저 어닐링(excimer laser annealing; ELA) 선 주사에 의해 결정화된 실리콘(Si) 시험기판을 제작하는, 결정화 실리콘 시험기판 제작 단계;
상기 결정화된 실리콘 시험기판의 표면을 가시광 파장 범위를 갖는 광원에 의해 조사하고, 상기 가시광 파장 범위에서 상기 시험기판의 각 영역에 해당하는 반사율을 측정하는, 반사율 측정 단계;
색상에 따라 구획한 복수의 파장 범위에서 상기 시험기판 각 영역의 평균 반사율들을 추출하는, 색상별 평균 반사율 추출 단계;
상기 추출된 색상별 평균 반사율들 중에서 블루(blue) 계열 색상의 평균 반사율로부터 레드(red) 계열 색상의 평균 반사율을 상기 시험기판 각 영역별로 감산한 값으로 각 에너지 밀도별 최적 에너지 밀도 지수(optimum energy density index; OPED INDEX) 를 산출하는, OPED INDEX 산출 단계; 및
상기 산출된 각 에너지 밀도별 OPED INDEX 들을 비교하여 최적의 에너지 밀도를 선정하는 단계를 포함하고,
상기 최적의 에너지 밀도로 비결정성 실리콘 기판을 결정화하는 실리콘 기판 결정화 방법. - 제 1 항에서,
상기 반사율 측정 단계는 450nm 내지 750nm 파장 범위를 포함하는 가시광선을 광원으로 이용하는 실리콘 기판 결정화 방법. - 제 2 항에서,
상기 블루 계열 색상의 파장 범위는 450nm 내지 495nm이고, 상기 레드 계열 색상의 파장 범위는 496nm 내지 750nm인 실리콘 기판 결정화 방법. - 제 3 항에서,
상기 블루 계열 색상은 450nm 내지 475nm의 파장 범위를 갖는 블루 컬러 및 476nm 내지 495nm의 파장 범위를 갖는 시안(cyan) 컬러를 포함하는 실리콘 기판 결정화 방법. - 제 4 항에서,
상기 레드 계열 색상은 496nm 내지 560nm의 파장 범위를 갖는 그린(green) 컬러, 561nm 내지 590nm의 파장 범위를 갖는 옐로우(yellow) 컬러, 591nm 내지 620nm의 파장 범위를 갖는 오렌지(orange) 컬러, 및 621nm 내지 750nm의 파장 범위를 갖는 레드 컬러를 포함하는 실리콘 기판 결정화 방법. - 제 1 항에서,
상기 최적의 에너지 밀도는 상기 산출된 각 에너지 밀도별 OPED INDEX 중 최대값인 경우의 에너지 밀도인 실리콘 기판 결정화 방법. - 제 5 항에서,
상기 OPED INDEX 산출 단계는, 각 색상별 평균 반사율에 가중치를 각각 곱한 값을 적용하여 에너지 밀도별 OPED INDEX 를 산출하는 실리콘 기판 결정화 방법. - 제 7 항에서,
상기 가중치는, 블루 컬러 및 시안 컬러에는 각각 1 이상 10 이하의 값이, 그린 컬러, 옐로우 컬러, 오렌지 컬러, 및 레드 컬러에는 각각 0.1 이상 1 이하의 값이 적용되는 실리콘 기판 결정화 방법.
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