KR102002796B1 - Method of ultrasonic soldering and ultrasonic soldering device - Google Patents
Method of ultrasonic soldering and ultrasonic soldering device Download PDFInfo
- Publication number
- KR102002796B1 KR102002796B1 KR1020180167094A KR20180167094A KR102002796B1 KR 102002796 B1 KR102002796 B1 KR 102002796B1 KR 1020180167094 A KR1020180167094 A KR 1020180167094A KR 20180167094 A KR20180167094 A KR 20180167094A KR 102002796 B1 KR102002796 B1 KR 102002796B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- soldering
- solder
- electrode
- bus bar
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000005476 soldering Methods 0.000 title claims abstract description 140
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims abstract description 111
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 60
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 52
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 45
- LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N vanadate(3-) Chemical compound [O-][V]([O-])([O-])=O LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 6
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 20
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 16
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 15
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 15
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 14
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013383 initial experiment Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000013101 initial test Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000004083 survival effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
- B23K20/10—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating making use of vibrations, e.g. ultrasonic welding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/06—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering making use of vibrations, e.g. supersonic vibrations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/0008—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering specially adapted for particular articles or work
- B23K1/0016—Brazing of electronic components
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/19—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering taking account of the properties of the materials to be soldered
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/20—Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
- B23K20/10—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating making use of vibrations, e.g. ultrasonic welding
- B23K20/106—Features related to sonotrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K3/00—Tools, devices, or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
- B23K3/02—Soldering irons; Bits
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K31/00—Processes relevant to this subclass, specially adapted for particular articles or purposes, but not covered by only one of the preceding main groups
- B23K31/02—Processes relevant to this subclass, specially adapted for particular articles or purposes, but not covered by only one of the preceding main groups relating to soldering or welding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/24—Selection of soldering or welding materials proper
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/022425—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/05—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier
- H01L31/068—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier the potential barriers being only of the PN homojunction type, e.g. bulk silicon PN homojunction solar cells or thin film polycrystalline silicon PN homojunction solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Abstract
(목적) 본 발명은, 초음파 납땜방법 및 초음파 납땜장치에 관한 것으로서, 피납땜부분에 Ag나 납을 포함하지 않는 혹은 혼입량을 삭감한 전극 등에 대한 납땜을 가능하게 하는 것을 목적으로 한다.
(구성) Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트를 임의부분에 도포하여 소결된 기판 혹은 상기 기판 위의 페이스트 부분을, 땜납의 용융온도보다 낮은 제1소정온도로 예비가열하는 예비가열스텝과, 예비가열스텝에서 예비가열한 제1소정온도의 기판의 페이스트 부분에, 접촉하는 땜납인두 팁부분에 초음파를 인가한 상태에서 공급된 땜납이 용융되는, 초음파를 인가하지 않을 때에 땜납이 용융되는 온도보다 낮은, 제2소정온도로 조정한 상태에서, 땜납인두 팁부분을 페이스트 부분에 접촉하거나 혹은 접촉하면서 이동하여 상기 페이스트 부분에 납땜하는 초음파 납땜스텝을 구비한다.(Object) The present invention relates to an ultrasonic soldering method and an ultrasonic soldering apparatus, and is intended to enable soldering of an electrode or the like which does not contain Ag or lead in an area to be brazed or in which an amount of incorporation is reduced.
(Constitution) a preheating step in which a paste containing no Ag, Cu or Pb is applied to an arbitrary portion and preheating the sintered substrate or the paste portion on the substrate to a first predetermined temperature lower than the melting temperature of the solder, The temperature of the paste portion of the substrate at the first predetermined temperature preliminarily heated in the preliminary heating step is lower than the temperature at which the solder is melted when ultrasonic waves are applied to the solder tip portion of the solder to be contacted, And an ultrasonic soldering step of moving the soldering iron tip portion in contact with or in contact with the paste portion and soldering the soldering tip portion to the paste portion in a state in which the temperature is adjusted to a low second predetermined temperature.
Description
본 발명은, 기판(基板) 위의 임의부분에 페이스트(paste)를 도포(塗布)하여 소결(燒結)된 부분에 납땜하는 초음파 납땜방법 및 초음파 납땜장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrasonic soldering method and an ultrasonic soldering apparatus in which a paste is applied to an arbitrary portion on a substrate (substrate) and soldered to a sintered portion.
종래에 있어서 재생 가능한 에너지를 이용하는 것 중의 하나인 태양전지(太陽電池)는, 20세기의 주역인 반도체 기술을 기초로 하여 그 개발이 이루어지고 있다. 인류의 생존을 좌우하는 지구 차원의 중요한 개발이다. 그 개발의 과제는 태양광(太陽光)을 전기 에너지로 변환하는 효율뿐만 아니라 제조비용의 절감 및 무공해라고 하는 과제에도 대처하면서 진행되고 있다. 이들을 실현하는 대책은, 특히 전극(電極)에 사용되고 있는 은(Ag)이나 납(Pb)의 사용량을 감소시키거나 또는 없애는 것이 중요하다고 되어 있다.BACKGROUND ART Conventionally, solar cells (solar cells), one of which uses renewable energy, are being developed on the basis of semiconductor technology, which is the mainstay of the 20th century. It is an important development at the district level that determines the survival of mankind. The task of development is proceeding in response to not only the efficiency of converting sunlight into electric energy but also the problem of reduction of manufacturing cost and pollution. It is said that it is important to reduce or eliminate the amount of silver (Ag) or lead (Pb) used in the electrode (electrode).
일반적으로 태양전지의 구조는, 도18의 (a)의 평면도 및 (b)의 단면도에 나타내는 바와 같이 태양광 에너지를 전기 에너지로 변환하는 N형/P형의 실리콘 기판(silicon 基板)(43), 실리콘 기판(43)의 표면의 반사를 방지하는 기능을 갖고 절연체 박막(絶緣體 薄膜)인 질화 실리콘막(窒化 silicon膜)(45), 실리콘 기판(43) 중에 발생한 전자를 꺼내는 핑거 전극(finger 電極)(42), 핑거 전극(42)에서 꺼낸 전자를 모으는 버스바 전극(bus bar 電極)(41), 버스바 전극(41)에 모인 전자를 외부로 꺼내는 인출리드 전극(引出lead 電極)(47)을 각 요소로 하여 구성되어 있다.Generally, the structure of the solar cell is an N-type / P-type silicon substrate (silicon substrate) 43 for converting solar energy into electric energy as shown in a plan view of FIG. 18 (a) A silicon nitride film 45 serving as an insulating thin film having a function of preventing the reflection of the surface of the silicon substrate 43 and a finger electrode 45 for taking out electrons generated in the silicon substrate 43. [ A bus bar electrode 41 for collecting electrons taken out from the finger electrode 42 and a lead lead electrode 41 for drawing out electrons collected in the bus bar electrode 41 to the outside 47 as the respective elements.
이 중에서 버스바 전극(버스 전극)(41), 핑거 전극(42)에 은(은 페이스트(銀 paste)) 및 납(납 글라스(lead glass))이 사용되고 있는데, 이것의 은의 사용량을 없애거나 혹은 감소시키고 또한 납(납 글라스)의 사용량을 감소시키거나 또는 없애어 저비용이고 또한 무공해로 하는 것이 기대되고 있다.Silver (silver paste) and lead (lead glass) are used for the bus bar electrode (bus electrode) 41 and the finger electrode 42 among them. And it is expected that the amount of lead (lead glass) used is reduced or eliminated so that the cost is low and also pollution-free.
특히 상기 전극(버스바 전극(41), 핑거 전극(42))을 소결하여 형성하기 위하여 종래에는 은 페이스트(혹은 일부 Cu 페이스트)를 사용하고, 이 은 페이스트에는 은 성분(분말(粉末)), 글라스 성분(납 글라스), 유기재료의 성분, 유기용매의 성분, 수지의 성분을 포함하고 있기 때문에, 이 선두(先頭)의 2개의 은 성분(분말) 및 글라스 성분(납 글라스)을 없애고 대체할 수 있는 것으로 치환하여(예를 들면 NTA 글라스(NTA glass)(후술한다)로 치환하여), 이것을 스크린 인쇄(screen 印刷)하여 소결함으로써 형성된 전극(Ag, Cu.Pb 무(無))에 인출리드선 등을 납땜하는 것이 기대되고 있다.In particular, a silver paste (or a part of Cu paste) is conventionally used to sinter and form the electrode (bus bar electrode 41 and finger electrode 42), and silver paste (powder (powder) (Lead glass), the organic component, the organic solvent component, and the resin component, it is possible to eliminate the two leading silver components (powder) and the glass component (lead glass) (Ag, Cu, Pb, and the like) formed by screen printing and sintering it by replacing the lead wire (for example, NTA glass (to be described later) It is expected that solder is soldered.
상기한 예를 들면 태양전지를 구성하는 전극(버스바 전극(41) 및 핑거 전극(42) 등)을 소결하여 형성하기 위하여, 종래의 은 페이스트 중의 은 성분(분말) 및 글라스 성분(납 글라스)을 없애고 대체할 수 있는 것으로 치환(예를 들면 NTA 글라스)에 의하여 바꾸어서, 은, 납을 없애거나 혹은 감소시킨 NTA 페이스트(일본국 특허출원2015-191857)를 소결함으로써 형성한 전극부분에는 Ag 등이 없기(혹은 Ag 등이 조금밖에 없기) 때문에 종래의 납땜을 할 수 없다는 사태가 발생하였다.(Powder) and a glass component (lead glass) in the conventional silver paste for sintering and forming the electrode (the bus bar electrode 41 and the finger electrode 42, etc.) Ag or the like is formed on the electrode portion formed by sintering the NTA paste (Japanese Patent Application No. 2015-191857) which has been replaced with a substitute (for example, NTA glass) (Or there is only a small amount of Ag or the like), so that conventional soldering can not be performed.
이것을 해결하여, Ag 등이 없거나 혹은 조금밖에 없는 부분(전극 등)에 납땜하는 것이 요망되고 있다.To solve this problem, it has been desired to solder to a portion (electrode or the like) having no Ag or the like or only a little.
본 발명자들은, 페이스트에 후술하는 NTA 글라스(바나딘산염 글라스(vanadate glass)) 100%를 사용하여 Ag와 글라스(납 글라스)를 포함하지 않거나, 혹은 약간 혼입된 페이스트(이하, NTA 페이스트라고 한다)를 소결하여 형성한 버스 전극 등의 위에 납땜을 가능하게 하는 방법을 발견하였다. 상기 방법에 의하여 납땜한 태양전지는 종래의 은 페이스트를 사용하였을 경우보다 우수한 특성을 갖는 태양전지의 제조가 가능(후술한다)한 것도 발견하였다. 이 NTA 페이스트를 소결된 부분(전극 등)에 납땜하는 방법은, 상기한 태양전지의 버스 전극 등에 한정되지 않아, 스크린 인쇄 등에 의하여 전극 등을 형성하는 경우에도 사용되는 납땜방법이다.The present inventors have found that a paste (hereinafter referred to as NTA paste) which does not contain Ag or a glass (lead glass) or a slightly mixed paste is prepared by using 100% of an NTA glass (vanadate glass) On a bus electrode or the like formed by sintering. The solar cell brazed by the above method has also been found to be capable of producing a solar cell having superior characteristics when a conventional silver paste is used (to be described later). The method of soldering the NTA paste to a sintered portion (electrode or the like) is not limited to the bus electrode of the solar cell described above, and is a soldering method used also in the case of forming an electrode or the like by screen printing or the like.
본 발명은, 이들 발견에 의거하여 은의 사용량을 없애거나 또는 약간 혼입하고 또한 납(납 글라스)의 사용량을 감소시키거나 또는 없앤 페이스트(예를 들면 NTA 페이스트)를 소결하여 형성한 예를 들면 태양전지의 버스 전극 위에 후술하는 초음파 납땜하여 표면에 납땜(소위 땜납도금) 및 인출리드선 등을 납땜하여 종래와 같이 부착하는 것을 가능하게 하고, 그 결과 피납땜부분에 Ag나 납을 포함하지 않거나 혹은 혼입량을 삭감한 전극 등에 대한 납땜을 가능하게 하였다.The present invention is based on the finding that the amount of silver used is eliminated or slightly mixed and the amount of lead (lead glass) used is reduced, or the amount of silver (lead glass) (So-called solder plating) and a lead wire or the like on the surface of the bus electrode of a soldering material to be soldered to be described later so that the solder can be attached as in the conventional case. As a result, Thereby enabling soldering to the cut electrode or the like.
그 때문에 본 발명은, 기판 위의 임의부분에 페이스트를 도포하여 소결한 부분에 납땜하는 납땜방법에 있어서, Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트를 임의부분에 도포하여 소결된 기판 혹은 기판 위의 페이스트 부분을, 땜납의 용융온도보다 낮은 제1소정온도로 예비가열하는 예비가열스텝과, 예비가열스텝에서 예비가열한 제1소정온도의 기판의 페이스트 부분에, 접촉하는 땜납인두 팁부분에 초음파를 인가한 상태에서 공급된 땜납이 용융되는, 초음파를 인가하지 않을 때에 땜납이 용융되는 온도보다 낮은, 제2소정온도로 조정한 상태에서, 땜납인두 팁부분을 페이스트 부분에 접촉하거나 혹은 접촉하면서 이동하여 상기 페이스트 부분에 납땜하는 초음파 납땜스텝을 구비한다.Therefore, the present invention is a soldering method for soldering a portion of a substrate to a sintered portion by applying a paste to an arbitrary portion of the substrate, wherein a paste containing no Ag, Cu, or Pb is applied to an arbitrary portion of the substrate, A preheating step of preheating the paste portion to a first predetermined temperature lower than the melting temperature of the solder; and a preheating step of applying ultrasonic waves to the solder iron tip portion in contact with the paste portion of the substrate, The solder iron tip portion is moved in contact with or contacted with the paste portion in a state in which the supplied solder is melted and adjusted to a second predetermined temperature lower than the temperature at which the solder melts when no ultrasonic wave is applied And an ultrasonic soldering step of soldering to the paste portion.
이 때에 제1소정온도를, 실온 이상으로부터 제2소정온도의 범위 내의 온도로 하도록 되어 있다.At this time, the first predetermined temperature is set to a temperature within a range from the room temperature to the second predetermined temperature.
또한 제2소정온도를, 초음파를 인가하지 않을 때에 땜납이 용융되는 온도보다 10℃에서 40℃ 낮은 범위 내의 온도로 하도록 되어 있다.And the second predetermined temperature is set to a temperature within a range of 10 占 폚 to 40 占 폚 lower than the temperature at which the solder melts when ultrasonic waves are not applied.
또한 Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트로서, Ag, Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 바나딘산염 글라스를 100wt%, 혹은 Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 Ag를 0 이상으로부터 50wt%를 포함하고 나머지를 바나딘산염 글라스로 한 NTA 페이스트로 하도록 되어 있다.Further, the paste containing no Ag, Cu, or Pb and containing no Ag, Cu, or Pb and containing 100 wt% of vanadate glass, or Cu and Pb and containing Ag in an amount of 0 to 50 wt% The rest is made of NTA paste made of vanadate glass.
또한 땜납은, 적어도 Sn, Zn, Cl을 포함하도록 되어 있다.Further, the solder includes at least Sn, Zn, and Cl.
또한 초음파 납땜스텝에서 납땜할 때에, 페이스트 부분에 상기 페이스트 중의 유기용제가 잔류하지 않도록 미리 건조 혹은 가열건조하도록 되어 있다.Further, when soldering in the ultrasonic soldering step, the paste is pre-dried or heated and dried so that the organic solvent in the paste does not remain.
또한 기판 위에 도포하는 페이스트 부분이, 가급적 매끄럽게 되도록 하여 소결하도록 되어 있다.Further, the paste portion to be coated on the substrate is sintered so as to be as smooth as possible.
또한 초음파는, 20KHz에서부터 150KHz의 주파수로 하도록 되어 있다.The ultrasonic wave is designed to have a frequency of 20 KHz to 150 KHz.
본 발명은, 상기한 바와 같이 Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 예를 들면 도전성의 NTA 글라스 100%의 NTA 페이스트, 또한 50% 정도까지(함유량을 더 적게 하더라도 좋다)로 한 NTA 페이스트를, 종래의 은(혹은 Cu) 페이스트의 대신에 사용하여 전극을 소성하고, 이것에 초음파 납땜함으로써, 종래의 은 페이스트 중의 은의 사용량을 없애거나 혹은 감소시키고 또한 납(납 글라스)의 이용량을 감소시키거나 또는 없애더라도 페이스트 소결 부분에 납땜하여 인출리드선 등을 부착할 수 있는 것을 발견하였다. 이들에 의하여 하기의 특징이 있다.As described above, the present invention can provide an NTA paste containing 100% of conductive NTA glass containing no Ag, Cu, and Pb, and an NTA paste containing 50% or less NTA paste (Or Cu) paste, and ultrasonically brazing the electrode to reduce or eliminate the amount of silver in the conventional silver paste and reduce the amount of lead (lead glass) used, or It is possible to attach a lead wire or the like by soldering to the paste-sintered portion. These have the following characteristics.
첫 번째, 예를 들면 태양전지의 버스바 전극(버스 전극)을 형성하는데에 도전성의 바나딘산염 글라스인 NTA 글라스(일본국 등록상표 제5009023호, 일본국 특허 제5333976호 등을 참조) 100%, 또한 50% 정도까지를 은 페이스트의 대신에 사용하여, Ag의 사용량을 없애거나 감소시키고 또한 납(납 글라스)의 사용량을 감소시키거나 또는 없애더라도 본원발명의 초음파 납땜에 의하여 페이스트 소결 부분에 납땜할 수 있었다.First, 100% of NTA glass (Japanese Patent No. 5009023, Japanese Patent No. 5333976, etc.), which is a conductive vanadate glass, is used for forming a bus bar electrode (bus electrode) of a solar cell, , And further up to about 50% can be used instead of the silver paste to eliminate or reduce the amount of Ag used and also to reduce or eliminate the amount of lead (lead glass) to be soldered to the paste-sintered portion by the ultrasonic soldering of the present invention Could.
두 번째, 예를 들면 버스바 전극(버스 전극)을 NTA 글라스 100% 내지 50% 정도(함유량을 더 적게 하더라도 좋다)를 사용함으로써, 태양광 에너지를 전자 에너지로 변환하는 효율이 거의 동일하거나 혹은 약간 높은, 버스바 전극으로서의 효과를 발휘하는 전극형성이 현재 초기단계의 실험결과로서 얻어졌다(도17을 참조). 이것은 NTA 글라스가 (1)도전성을 갖는 것, (2)NTA 글라스를 사용함으로써 핑거 전극이 상기 버스바 전극(버스 전극)의 상면의 높이와 동일한 부분 혹은 관통하여 상면으로 돌출된 부분이 형성되고, 이들 부분이 리드 전극의 본 발명의 초음파 납땜에 의하여 접합되고, 결과로서 고전자농도영역(高電子濃度領域)과 리드 전극이 직접적으로 핑거 전극에 의하여 접속되는 것, 그 이외의 요인(예를 들면 하기의 「세 번째」를 참조)에 기인하는 것으로 고찰된다.Secondly, for example, by using the bus bar electrode (bus electrode) in an amount of about 100% to 50% of the NTA glass (the content may be made smaller), the efficiency of converting solar energy into electron energy is almost the same or slightly Electrode formation with high effect as a bus bar electrode was obtained as an experiment result at the present initial stage (see Fig. 17). This is because the NTA glass has (1) conductivity, (2) the NTA glass is used to form a portion of the finger electrode that is the same as the height of the upper surface of the bus bar electrode (bus electrode) (High electron density region) and the lead electrode are directly connected to each other by the finger electrode, and the other factors (for example, Quot; third " below).
세 번째, 종래와 달리 핑거 전극의 형성과 버스바 전극의 형성을, 서로 다른 글라스 프릿(glass frit)을 함유한 페이스트를 사용하는 것에 있다. 종래, 핑거 전극의 형성에 있어서는 파이어 스루(fire through)라고 불리는 현상을 발생시킬 필요가 있었다. 이것은, 은의 소결조제(燒結助劑)로서 사용하고 있는 글라스 프릿 중의 성분분자, 예를 들면 납 글라스 중의 납분자의 활동에 의하여 실리콘 기판의 표층에 형성된 질화 실리콘막의 절연층을 돌파하여 핑거 전극을 형성하도록 하여 실리콘 기판에 생성된 전자를 효율적으로 모으고 있었다. 그러나 버스바 전극의 형성에 대해서는 파이어 스루 현상은 필요하지 않다. 종래에는 버스바 전극도 납성분을 포함한 납 글라스를 소결조제로 하여 소결되고 있었기 때문에, 구조는 다르지만 버스바 전극과 실리콘 기판과의 전기적인 도통로(導通路)가 형성되어 변환효율을 감소시키는 것으로 되어 있었다. 버스바 전극형성에 사용하는 소결조제를 파이어 스루 현상이 발생하지 않는 NTA 글라스를 사용함으로써 변환효율의 감소를 없앨 수 있었다. 그리고 NTA 페이스트에 의하여 소결된 버스바 전극의 부분에 본 발명의 초음파 납땜에 의하여 인출리드선을 납땜하여 전하를 꺼내는 것이 가능하게 되었다.Third, unlike the prior art, the formation of the finger electrode and the formation of the bus bar electrode are performed by using a paste containing glass frit which is different from each other. Conventionally, in forming a finger electrode, it has been necessary to cause a phenomenon called fire through. This is achieved by penetrating the insulating layer of the silicon nitride film formed on the surface layer of the silicon substrate by the action of the constituent molecules in the glass frit used as silver sintering aid (sintering aid), for example, lead molecules in the lead glass, So that the electrons generated on the silicon substrate are efficiently collected. However, the formation of bus bar electrodes does not require a firs-through phenomenon. Conventionally, bus bar electrodes are also sintered using lead glass containing lead components as a sintering auxiliary agent. Therefore, electrical conduction paths (conduction paths) between the bus bar electrodes and the silicon substrate are formed to reduce the conversion efficiency . The sintering aid used for forming the bus bar electrode can be prevented from decreasing the conversion efficiency by using the NTA glass which does not cause the firs-through phenomenon. It has become possible to draw out the charge by soldering the lead wire by ultrasonic soldering to the portion of the bus bar electrode sintered by the NTA paste.
도1은, 본 발명의 1실시예의 구성도이다.
도2는, 본 발명의 1실시예의 구성도(구성도의 2)이다.
도3은, 본 발명의 설명도(땜납 재료 등)이다.
도4는, 본 발명의 동작설명의 플로우차트이다.
도5는, 본 발명의 동작설명의 플로우차트(계속)이다.
도6은, 본 발명의 초음파 납땜장치의 특성예이다.
도7은, 본 발명의 초음파 납땜의 예(NTA 100%)이다.
도8은, 본 발명의 초음파 납땜의 예(NTA 50%)이다.
도9는, 본 발명의 1실시예 구조도(공정의 완성도 : 단면도)이다.
도10은, 본 발명의 동작설명의 플로우차트이다.
도11은, 본 발명의 상세공정의 설명도(설명도의 1)이다.
도12는, 본 발명의 상세공정의 설명도(설명도의 2)이다.
도13은, 본 발명의 상세 설명도(버스바 전극의 소성)이다.
도14는, 본 발명의 설명도(버스바 전극)이다.
도15는, 본 발명의 설명도(버스바 전극)이다.
도16은, 본 발명의 설명도(초음파 납땜)이다.
도17은, 본 발명의 측정예(효율)이다.
도18은, 종래기술의 설명도이다.1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.
2 is a configuration diagram (configuration diagram 2) of an embodiment of the present invention.
3 is an explanatory diagram (solder material or the like) of the present invention.
Fig. 4 is a flowchart of the operation explanation of the present invention.
5 is a flowchart (continued) for explaining the operation of the present invention.
6 is a characteristic example of the ultrasonic soldering apparatus of the present invention.
7 is an example (
8 is an example (
Fig. 9 is a structural diagram of one embodiment of the present invention (process completeness: sectional view).
Fig. 10 is a flowchart of the operation explanation of the present invention.
11 is an explanatory diagram (1 of the explanatory diagram) of the detailed process of the present invention.
Fig. 12 is an explanatory diagram (explanatory diagram 2) of the detailed process of the present invention.
13 is a detailed explanatory diagram (firing of a bus bar electrode) of the present invention.
Fig. 14 is an explanatory diagram (bus bar electrode) of the present invention.
15 is an explanatory diagram (bus bar electrode) of the present invention.
16 is an explanatory diagram (ultrasonic soldering) of the present invention.
Fig. 17 is a measurement example (efficiency) of the present invention.
Fig. 18 is an explanatory diagram of the prior art.
(실시예1)(Example 1)
도1은, 본 발명의 1실시예의 구성도를 나타낸다. 이 도1은, 태양전지(太陽電池)에 있어서 전극(電極)의 초음파 납땜(超音波 soldering)의 예로서, 버스바 전극(bus bar 電極)(5)에 인출리드선(引出lead線)인 리본(ribbon)(7)을 초음파 납땜하는 예를 들어 이하에서 상세하게 설명한다. 여기에서 초음파 납땜은, 전극에 땜납도금(solder plating)을 하는 것(인출리드선 없음)이나 전극에 리드선 등을 납땜하는 것을 포함한다. 이하 동일하다.Fig. 1 shows a configuration diagram of an embodiment of the present invention. 1 is an example of ultrasound soldering of an electrode in a solar cell. As shown in Fig. 1, a
도1의 (a)는 초음파 납땜한 요부의 정면도를 모식적으로 나타내고, 도1의 (b)는 점선의 원모양 부분을 확대한 측면도를 모식적으로 나타낸다.FIG. 1 (a) schematically shows a front view of a recessed portion subjected to ultrasonic soldering, and FIG. 1 (b) schematically shows a side view of an enlarged circular portion of a dotted line.
도1의 (a) 및 (b)에 있어서 태양전지는, 실리콘 기판(silicon 基板)(1)의 이면측에 형성된 이면전극(裏面電極)(2), 또한 실리콘 기판(1)의 표면측에 형성된 질화막(窒化膜)(3), 버스바 전극(5), 질화막(3)을 관통하는 태양으로 실리콘 기판(1)의 PN층에 발생한 전자(電子)를 꺼내는 핑거 전극(finger 電極)(4), 핑거 전극(4)의 위에 땜납(6)에 의하여 본 발명의 초음파 납땜한 리본(7)(인출리드선)으로 이루어지는 구조를 가지는 것이다. 여기에서는, 전극인 버스바 전극(5)의 위에 땜납(6)에 의하여 리본(7)을 초음파 납땜할 때의 모양을 모식적으로 나타낸 것이다.1 (a) and 1 (b), the solar cell comprises a back electrode (back electrode) 2 formed on the back side of a silicon substrate (silicon substrate) 1, (Finger electrode) 4 for taking out electrons (electrons) generated in the PN layer of the
버스바 전극(5)은, 본 발명자들이 발견한, Ag, Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 바나딘산염 글라스(vanadate glass) 100wt%로 한 NTA 페이스트(NTA paste)(일본국 특허출원 특원2015-202461호)를 소결(燒結)하여 형성한 상기 버스바 전극(5)에는 Ag, Cu, Pb를 전혀 포함하지 않거나, 혹은 Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 Ag를 0 이상으로부터 50wt%를 포함하고 나머지를 바나딘산염 글라스로 이루어지는 NTA 페이스트를 소결하여 형성한 상기 버스바 전극에는 Ag가 50% 이하이기 때문에, 종래에 있어서 통상의 납땜에 의해서는 납땜이 불가 내지 매우 곤란한 전극이다. 특히 Ag, Cu, Pb를 전혀 포함하지 않는 버스바 전극(5)의 경우에는 완전하게 종래의 납땜 불가, Ag를 50% 이하 포함하는 경우에는 Ag의 부분에만 납땜 가능하고 다른 부분은 납땜 불가로서 기계적 강도가 매우 약하여 박리(剝離)되어 버린다. 본 발명의 초음파 납땜에서는, NTA 페이스트를 소결시킨 부분 즉 Ag, Cu, Pb 등이 없는 부분 혹은 있는 부분과 없는 부분의 전체 면에 걸쳐서 초음파 납땜(초음파 땜납도금)이 실험의 결과, 가능한 것을 발견하였다(도7, 도8의 사진을 참조).The
도2에서는 땜납(6)은, 버스바 전극(5)의 위에 초음파 납땜하는 땜납으로서, 적어도 Sn, Zn, Cl을 포함하는 땜납이며, 본 발명의 초음파 땜납인두 팁부분(24)에서 용해되어 납땜되는 것이다.In Fig. 2, the
리본(7)은, 버스바 전극(5)으로부터 전하를 외부로 꺼내는 인출리드선으로서, 여기에서는 구리의 리본의 상면 및 하면에 미리 예비땜납(pre-solder)(72)을 부착하여, 구리(71)의 리본(7)이 땜납(6)에 의하여 버스바 전극(5)에 초음파 납땜되기 쉽게 한 것이다.The
예비가열대(豫備加熱臺)(21)는, 태양전지 전체를 올려놓고 제1소정온도(실온 이상, 초음파 납땜할 때에 땜납이 용해되는 온도 이하의 범위 내의 온도)로 예비가열하는 것이다. 예비가열대(21)에서 예비가열함으로써 버스바 전극(5)의 납땜부분에, 도면의 외부에 있는 초음파 납땜장치의 초음파 땜납인두 팁부분(24)으로부터 공급되는 열량이 적어지게 되어, 소용량의 초음파 납땜장치에 의하여 초음파 납땜이 가능하게 됨과 아울러, 초음파 땜납인두 팁부분(24)의 온도제어가 쉽게 이루어지고 또한 초음파 납땜이 원활하게 가능하게 된다.The preliminary heating
다음에 도1의 구성을 기초로 하여, 초음파 납땜할 때의 구성을 도2를 사용하여 상세하게 설명한다.Next, a configuration for ultrasonic soldering will be described in detail with reference to Fig. 2 based on the configuration of Fig.
도2는, 본 발명의 1실시예의 구성도(설명도의 2)를 나타낸다.Fig. 2 shows a configuration diagram (2 of the explanatory diagram) of one embodiment of the present invention.
도2의 (a)는 도1의 (b)에 대응하는 태양전지의 요부의 측면도를 모식적으로 나타내고, 도2의 (b)와 (c)는 초음파 땜납인두(22)에 의하여 버스바 전극(5)을 초음파 납땜할 때의 정면도를 모식적으로 나타낸다. 도2의 (b)는 땜납(6)을 버스바 전극(5)에 납땜하는 경우의 것 즉 버스바 전극(5)의 위에 땜납도금하는 경우의 구성을 나타내고, 도2의 (c)는 땜납(6)과 예비땜납된 리본(7)을 버스바 전극(5)에 납땜하는 경우의 것 즉 버스바 전극(5)의 위에 리본(7)을 납땜하는 경우의 구성을 나타낸다.2 (a) and 2 (b) schematically show side views of the recessed portion of the solar cell corresponding to Fig. 1 (b) (5) is ultrasonically soldered. 2 (b) shows a structure in the case of soldering the
도2의 (a)는 도1의 (b)와 동일하기 때문에 설명을 생략한다.2 (a) is the same as FIG. 1 (b), and a description thereof will be omitted.
도2의 (b) 및 (c)에 있어서 초음파 땜납인두(22)는, 본 발명에 관한 초음파 납땜장치의 일례를 나타내고, 도면에 나타내는 바와 같이 땜납인두 팁부분(24)과 이것을 가열 및 초음파를 공급하는 초음파 발신기(超音波 發信機) 및 히터(heater)(23)로 구성되는 것이다(도6을 참조). 보통은 20KHz 내지 150KHz의 범위 내의 주파수이고, 실험에서는 60KHz의 것을 사용하였다. 가열용량은, 예비가열대(21)의 온도에 의존하지만, 실험에서는 10W 정도의 것(자동온도조정 부착)을 사용하였다(초음파 납땜하는 부분(버스바 전극(5)의 부분)의 사이즈에 의한 열용량에 대응한 용량의 것을 사용한다).2 (b) and 2 (c), the
땜납인두 팁부분(24)은, 땜납(6)을 용융시키고 또한 버스바 전극(5)의 초음파 납땜되는 부분을 가열하여 초음파 납땜하기 위한 것이다. 땜납인두 팁부분(24)은, 실험에서는 도면에 나타내는 바와 같이 원기둥의 선두(先頭)를 45도 정도의 경사면으로 절단한 것을 사용하였지만, 이 형상에 한정되지 않아, 양산성을 높이기 위함 등으로 장방형 형상이나 임의 형상이나, 또한 회전하는 회전체나 슬라이드 하는 슬라이드대(slide臺) 등이더라도 좋고, 초음파와 열을 초음파 납땜하는 부분에 전도(傳導)할 수 있으면 어떤 형상이더라도 좋다.The solder
도2의 (b)와 같이 구성하여, 초음파 땜납인두(22)의 땜납인두 팁부분(24)에 공급된 땜납(6)을 버스바 전극(5)의 위에 초음파 납땜함으로써 버스바 전극(5)의 위에 땜납도금을 하는 것이 가능하게 된다.The
도2의 (c)와 같이 구성하여, 초음파 땜납인두(22)의 땜납인두 팁부분(24)에 공급된 땜납(6)과 예비땜납된 리본(7)을 버스바 전극(5)의 위에 초음파 납땜함으로써, 버스바 전극(5)의 위에 리본(7)(인출리드선)을 납땜할 수 있다. 또한 미리 도2의 (b)와 같이 하여 예비납땜을 하여 두고, 이 위에 리본(7)을 초음파 납땜하더라도 좋다.The
도3은 본 발명의 설명도를 나타낸다. 도3은 땜납 재료 등을 나타낸다. 도3은, 도1, 도2에서 이미 설명한 태양전지의 버스바 전극(5) 자체의 재료, 리본(7) 등을 납땜하는 땜납(6)의 재료 등의 일례를 나타낸다.Fig. 3 shows an explanatory diagram of the present invention. 3 shows a solder material or the like. 3 shows an example of the material of the
이상과 같이 본 발명에서는, 버스바 전극(5)이 NTA 글라스의 페이스트(NTA 페이스트)를 소성하여 형성되기 때문에, 종래의 땜납에서는 납땜이 불가 내지 매우 곤란하지만, 본 발명의 초음파 납땜에 의하여, 예비가열한 상태에서 땜납(6)을 사용하여 납땜함으로써 매우 양호하게 버스바 전극(5)의 위에 초음파 납땜에 의하여 땜납도금이나 리본(7)(인출리드선)을 납땜하는 것이, 실험에 의하여 확인되었다(도7, 도8의 사진을 참조).As described above, in the present invention, since the
다음에 도4 및 도5의 플로우차트의 순서에 따라, 도1부터 도3의 구성을 기초로 하여 태양전지의 전극부(예를 들면 버스바 전극(5))의 초음파 납땜의 순서를 상세하게 설명한다.Next, the procedure of the ultrasonic soldering of the electrode portion of the solar cell (for example, the bus bar electrode 5) is described in detail in accordance with the procedure of the flowcharts of Figs. 4 and 5 Explain.
도4는, 본 발명의 동작설명의 플로우차트를 나타낸다.Fig. 4 shows a flowchart of the operation explanation of the present invention.
도4에 있어서 S1에서는, NTA 버스바 전극을 형성한다. 이것은, 도1부터 도3의 버스바 전극(5)을 NTA 글라스 100wt%(∼50wt%)의 NTA 페이스트를 스크린 인쇄(screen 印刷)하여 소결함으로써, NTA로 이루어지는 버스바 전극(5)을 형성한다. 그리고 NTA 버스바 전극(5)은, 우측에 기재된 바와 같이,In Fig. 4, in S1, an NTA bus bar electrode is formed. This is because the
1.페이스트의 유기용제가 없어지게 되도록 처리(용제 비산(溶劑 飛散))한다.1. Treatment (scattering of solvent) so that the organic solvent of the paste disappears.
2.NTA 글라스 전극표면이 평평하게 되도록 소결한다.2. Sinter the NTA glass electrode so that its surface is flat.
또한 1.의 페이스트의 유기용제가 없어지게 되도록 처리(용제 비산)하는 것은, NTA 페이스트 중의 유기용제가 없어지게 되도록 건조처리 혹은 가열건조처리를 하여, 페이스트 중의 용제를 충분하게 증발시켜서(비산시켜서) 없앤다. 용제가 잔류하면, 초음파 납땜은 잘 되지 않는 현상이 나타난다.In order to eliminate (dissolve) the organic solvent in the paste of (1), a drying treatment or a heat drying treatment is performed so that the organic solvent in the NTA paste disappears, and the solvent in the paste is sufficiently evaporated Remove it. When the solvent remains, ultrasonic soldering is not performed well.
이 2.의 NTA 글라스 전극이 평평하게 되도록 소결하는 것은, 도1, 도2의 버스바 전극(5)이 되는 부분에, NTA 페이스트를 스크린 인쇄하여 소결할 때에 가급적 평평하게 되도록 스크린 인쇄함과 아울러 또한 소성 시 및 소결 후에 가급적 평평하게 되도록 소결하는 것에 주의한다. 반대로 말하면, 작은 요철(凹凸)이 형성되지 않도록 조심하여 가급적 평평하게 되도록 소결한다. 평평하게 되지 않으면, 초음파 납땜이 잘 되지 않는 현상이 나타난다.The sintering to make the NTA glass electrode of FIG. 2 flat is performed by screen printing so as to be as flat as possible when the NTA paste is sintered by screen printing and printing on the
S2에서는, 기판을 가열대에 올려놓고, 땜납이 초음파가 공급되었을 때에 녹는 온도 이하의 온도로 올린다. 이 예비가열온도는, 초음파 땜납인두 팁부분(24)을 땜납(6)에 접촉시켜서 초음파를 공급함과 동시에 가열하였을 때에는, 초음파를 공급하지 않을 때보다 약간 낮은 온도에서 땜납(6)이 용융되기 때문에, 이 땜납(6)이 초음파를 공급하였을 때에 용융되는 온도(제2소정온도라고 한다)보다 낮은 온도(제1소정온도(실온 이상으로서, 초음파가 공급되었을 때에 땜납의 용융온도 이하)로 땜납인두 팁부분(24)의 온도를 설정(조정)한다. 한편 제2소정온도는, 초음파를 공급하면서 땜납(6)을 가열하였을 때에 땜납(6)이 용융되는 온도의 범위로서, 초음파를 공급하지 않는 경우의 땜납(6)의 용융온도보다 보통 10∼40℃ 정도 낮은 범위의 온도(땜납의 종류에 의존하기 때문에 실험에 의하여 구함)이다.In S2, the substrate is put on a heating stand, and the solder is heated to a temperature below the melting temperature when ultrasonic waves are supplied. The preheating temperature is such that when the
S3에서는, 땜납인두 팁부분(24)을, 땜납에 초음파를 공급하였을 때에 용해되는 온도의 범위 내로 온도를 올린다.In S3, the temperature of the solder
S4에서는, 땜납인두 팁부분(24)에 초음파 20∼150KHz를 공급한다. 이들 S3, S4에서는, 땜납인두 팁부분(24)에 초음파 20∼150KHz를 공급하면서 그 온도를 올려서, 땜납(6)이 용해되는 온도(제2소정온도)로 설정(조정)한다.In S4, ultrasonic waves of 20 to 150 KHz are supplied to the solder
이상의 S1에서 S4에 의하여, NTA 페이스트를 소성하여 형성한 버스바 전극(5)의 위에 초음파 납땜하는 준비가 완료, 즉 땜납인두 팁부분(24)을 땜납(6)에 접촉하여 땜납(6)을 용해시켜서 버스바 전극(5)에 초음파 납땜하는 준비가 완료한 것이 된다.The
도5에 있어서 S5에서는, S4에 계속하여 버스바 전극의 상면에 땜납을 부착한다(땜납도금한다). 이것은, S1에서 S4에 의하여 초음파 납땜의 준비가 완료된 땜납인두 팁부분(24)을, 이미 설명한 도2의 (b)에 나타내는 바와 같이 버스바 전극(5)의 상면에 땜납(6)을 공급하면서 상기 땜납인두 팁부분(24)을 접촉시켜서, 땜납(6)을 용해시킴으로써 버스바 전극(5)에 초음파 납땜한다. 이 초음파 납땜에 의하여, 도7(b) 및 도8(b)에 나타내는 바와 같이 버스바 전극(5)의 상면에 땜납(6)이 납땜된다.In S5 of Fig. 5, solder is attached (solder plating) to the upper surface of the bus bar electrode following S4. This is because solder
이상에 의하여 버스바 전극(5)의 상면에 땜납(6)을 초음파 납땜(땜납도금)할 수 있다.As a result, the
S6에서는, 리본 부착1로서 S3과 S4와 동일하게 한다. 이것은, 도4의 S3과 S4와 동일하게 하여 예비땜납(72)된 리본(7)을 버스바 전극(5)에 초음파 납땜하기 위하여 땜납인두 팁부분(24)을 제2소정온도로 설정(조정)함과 아울러 초음파를 공급하여, 리본(7)을 초음파 납땜 가능한 상태로 한다. 용융되는 땜납이 버스바 전극(5)을 땜납도금하였을 때와 동일한 땜납이면, 제2소정온도 및 초음파는 S3, S4일 때와 동일하고, 다르면 그것에 적합(땜납(6), 예비땜납(72) 등의 종류별로 실험에 의하여 구함)한 제2소정온도 및 초음파를 공급(인가)한다.In S6, the
S7에서는, 리본 부착2로서, 초음파 땜납인두 팁부분을 리본에 접촉시켜서 납땜한다. 이것은, 초음파 땜납인두 팁부분(24)을 리본(7)에 접촉시키고, 상기 리본(7)에 예비땜납(72)되어 있는 땜납 혹은 버스바 전극(5)에 땜납도금되어 있는 땜납 혹은 외부로부터 공급된 땜납을 용해시켜서 리본(7)을 버스바 전극(5)에 초음파 납땜한다.In S7, as the
S8에서는 완성된다. 이것은, 버스바 전극(5)의 상면에 구리의 리본(7)의 초음파 납땜을 완료한 것을 의미한다.S8 is completed. This means that the ultrasonic soldering of the
이상에 의하여 태양전지를 구성한, NTA 페이스트를 스크린 인쇄하여 소성한 버스바 전극(5)의 위에 초음파 납땜에 의하여 땜납도금 또한 리본(7)을 납땜할 수 있었다.As a result, the
도6은, 본 발명의 초음파 납땜장치의 특성예를 나타낸다. 이것은, 도1부터 도5에서 이미 설명한 시작실험(試作實驗)에서 사용한 초음파 납땜장치의 특성의 일례를 나타낸다.Fig. 6 shows a characteristic example of the ultrasonic soldering apparatus of the present invention. This shows an example of the characteristics of the ultrasonic soldering apparatus used in the start experiment (test work) already described in Figs. 1 to 5. Fig.
도6에 있어서, 초음파 납땜장치의 특성으로서 도면에 나타내는 하기의 것을 시작실험에 사용하였다. 양산에서는 양산성을 고려하기 때문에 이미 설명한 도1부터 도5에서 이미 설명한 NTA 페이스트를 소성하여 형성한 버스바 전극(5) 등의 상면에 양호하게 초음파 납땜을 할 수 있으면, 어떤 특성의 것을 채용하더라도 좋다.In Fig. 6, the following items shown in the drawings were used for the initial experiment as characteristics of the ultrasonic soldering apparatus. Since mass production is considered in mass production, if the ultrasonic soldering can be preferably performed on the upper surface of the
한편 땜납인두 팁부분(24)의 온도는, 도면의 외부에 있는 온도계에 의하여 계측한다(예를 들면 열전대(熱電對)를 땜납인두 팁부분(24)에 삽입하여 두고 실측한다. 그리고 이 실측값을 기초로 하여 제2소정온도로 자동조정한다).On the other hand, the temperature of the solder
도7은, 본 발명의 초음파 납땜의 예(NTA 100%)를 나타낸다. 도면에 나타내는 사진은, 도4 및 도5에서 설명한, NTA 페이스트(NTA 100%)를 스크린 인쇄하여 소결함으로써 형성한 버스바 전극(NTA 100%)(5)에 대하여 초음파 납땜 전과 후의 사진을 나타낸다.7 shows an example of ultrasonic soldering (
도7의 (a)는 초음파 납땜 전(NTA 100%)의 사진의 예를 나타낸다. 도7의 (a)의 사진상에서, 가로방향의 막대모양의 것이 핑거 전극(4)(Ag 100%, 도1, 도2를 참조)이고, 핑거 전극(4)의 위를 덮도록 세로방향의 띠모양의 것이, 이번에 시작실험을 한 NTA 페이스트(100%)를 소성하여 형성한 버스바 전극(NTA 100%)(5)이다. 이 버스바 전극(NTA 100%)(5)의 부분에, 본 발명에서는 땜납인두 팁부분(24)을 접촉시켜서 납땜하거나 리본 부착하거나 하여 시작실험을 하였다.7 (a) shows an example of a photograph before ultrasonic soldering (
도7의 (b)는 도7의 (a)의 버스바 전극(NTA 100%)(5)의 위에, 땜납(6)만을 이미 설명한 도4, 도5의 순서에 따라 초음파 납땜한 사진의 예를 나타낸다. 실제로는 전하를 외부로 꺼내는 인출리드선으로서 사용하는 리본(7)을 초음파 납땜하지만, 리본(7)을 납땜한 것에서는 그 밑의 상태가 보이지 않게 되어 버리기 때문에, 여기에서는 실험적으로 땜납(6)만을 초음파 납땜한 것을 나타낸다. 도면에 나타내는 바와 같이 버스바 전극(NTA 100%)(5)의 부분은, 희고 빛나는 땜납이 버스바 전극(NTA 100%)의 위에 납땜되어 있는 모양이 명확하게 판명된다.7B shows an example of a photofinished ultrasonic soldering on the bus bar electrode (
이상과 같이 버스바 전극(NTA 100%)의 위에 본 발명의 도4, 도5의 순서에 따라 초음파 납땜함으로써, 종래의 납땜에 의하여 불가능하였던 NTA 100%인 버스바 전극(5)의 위에 땜납(6)을 납땜할 수 있는 것을 확인할 수 있었다(본 발명자들이 발견하였다).4 and 5 of the present invention on the bus bar electrode (
다음에 도7의 NTA 100%와 마찬가지로 NTA 50%인 버스바 전극(5)에 관한 사진의 예를 도8에 나타낸다.Next, FIG. 8 shows an example of a photograph of the
도8은, 본 발명의 초음파 납땜의 예(NTA 50%)를 나타낸다. 도면에 나타내는 사진은, 도4 및 도5에서 설명한, NTA 페이스트(NTA 50%)를 스크린 인쇄하여 소결함으로써 형성한 버스바 전극(NTA 50%)(5)에 대하여 초음파 납땜 전과 후의 사진을 나타낸다.8 shows an example of ultrasonic soldering (
도8의 (a)는 초음파 납땜 전(NTA 50%)의 사진의 예를 나타낸다. 도8의 (a)의 사진상에서, 상단부분의 가로방향의 막대모양의 것이 핑거 전극(4)(Ag 100%, 도1, 도2를 참조)이고, 핑거 전극(4)의 위를 덮도록 세로방향의 띠모양의 것이, 이번에 시작실험을 한 NTA 페이스트(50%)를 소성하여 형성한 버스바 전극(NTA 50%)(5)이다. 이 버스바 전극(NTA 50%)(5)의 부분에, 본 발명에서는 땜납인두 팁부분(24)을 접촉시켜서 납땜하거나 리본 부착하거나 하여 시작실험을 하였다.8 (a) shows an example of a photograph before ultrasonic soldering (
도8의 (b)는 도8의 (a)의 버스바 전극(NTA 50%)(5)의 위에, 땜납(6)만을 이미 설명한 도4, 도5의 순서에 따라 초음파 납땜한 사진의 예를 나타낸다. 실제로는 전하를 외부로 꺼내는 인출리드선으로서 사용하는 리본(7)을 초음파 납땜하지만, 리본(7)을 납땜한 것에서는 그 밑의 상태가 보이지 않게 되어 버리기 때문에, 여기에서는 실험적으로 땜납(6)만을 초음파 납땜한 것을 나타낸다. 도면에 나타내는 바와 같이 버스바 전극(NTA 50%)(5)의 부분은, 희고 빛나는 땜납이 버스바 전극(NTA 50%)의 위에 납땜되어 있는 모양이 명확하게 판명된다.8B shows an example of a picture obtained by ultrasonic soldering on the bus bar electrode (
이상과 같이 버스바 전극(NTA 50%)의 위에, 본 발명의 도4, 도5의 순서에 따라 초음파 납땜함으로써 종래의 납땜에 의하여 불가능 혹은 매우 곤란 혹은 박리되기 쉬웠던 NTA 50%인 버스바 전극(5)의 위에 땜납(6)을 납땜할 수 있는 것을 확인할 수 있었다(본 발명자들이 발견하였다).As described above, ultrasonic soldering was performed on the bus bar electrode (
이하, 상기한 본 발명의 초음파 납땜한 태양전지의 버스바 전극(5) 등을 형성하였을 때의 실시예(실험예)를 상세하게 설명한다(이하의 실시예는 일본국 특허출원 특원2015-180720호(출원일 : 2015년 9월 14일)의 발명자, 출원인이 동일한 출원의 실시예이다).Hereinafter, an example (experimental example) of forming the
도9는, 본 발명의 1실시예 구조도(공정의 완성도 : 단면도)를 나타낸다.Fig. 9 shows a structural diagram of one embodiment of the present invention (process completeness: sectional view).
도9에 있어서 실리콘 기판(11)은, 공지된 반도체의 실리콘 기판이다.In Fig. 9, the silicon substrate 11 is a well-known semiconductor silicon substrate.
고전자농도영역(高電子濃度領域)(확산도핑층(擴散doping層))(12)은, 실리콘 기판(11) 위에 원하는 p형/n형의 층을 확산도핑 등에 의하여 형성한 공지의 영역(층)으로서, 도면에서는 상측방향으로부터 태양광(太陽光)이 입사되면 실리콘 기판(11)에서 전자(電子)를 발생(발전(發電))시키고, 그 전자를 축적하는 영역이다. 여기에서는, 축적된 전자는 전자취출구(電子取出口)(핑거 전극(은(銀)))(14)에 의하여 상측방향으로 꺼내지는 것이다(발명의 효과를 참조).A high electron concentration region (high electron concentration region) (diffusion doping layer (diffused doping layer)) 12 is formed on a silicon substrate 11 in a known region (for example, In the figure is an area for generating (generating) electrons (electrons) in the silicon substrate 11 when solar light is incident from the upper side and accumulating the electrons. Here, the accumulated electrons are taken out in an upward direction by an electron outlet (electron outlet) (a finger electrode (silver)) (see the effect of the invention).
절연막(絶緣膜)(질화리콘막(窒化 silicon膜))(13)은, 태양광을 통과(투과)시키고 또한 버스바 전극(15)과 고전자농도영역(12)을 전기적으로 절연하는 공지의 막이다.An insulating film (nitrided silicon film) 13 is a well-known insulating film which transmits (transmits) solar light and electrically isolates the
전자취출구(핑거 전극(은))(14)는, 고전자농도영역(12) 중에 축적된 전자를 절연막(13)에 형성된 구멍을 통하여 꺼내는 입구(핑거 전극)이다. 핑거 전극(14)은, 본 발명에서는 도면에 나타내는 바와 같이 버스바 전극(15)을 NTA 글라스 100%(내지 71% 정도)에서 소성하였을 경우에는, 핑거 전극(14)이 버스바 전극(15)의 상면의 높이와 동일한 부분 혹은 관통하여 상면으로 돌출된 부분을 형성(소성)하여(NTA 페이스트의 두께를 컨트롤 함으로써 한다), 고전자농도영역(12) 중의 전자를 상기 핑거 전극(14)을 통하여 리드선(17)에 직접적으로 유입시키는(전자를 직접적으로 꺼내는) 것이 가능하게 된다. 즉 고전자농도영역(12), 핑거 전극(14), 버스바 전극(15), 리드선(17)의 경로1(종래의 경로1)과, 고전자농도영역(12), 핑거 전극(14), 리드선(17)의 경로2(본 발명에서 추가된 경로2)의 2개의 경로에 의하여 고전자농도영역(12) 중의 전자(전류)를 리드선(17)을 통하여 외부로 꺼낼 수 있고, 결과로서 고전자농도영역(12)과 리드선(17) 사이의 저항값을 매우 작게 할 수 있어, 손실을 감소시켜서 결과적으로 태양전지의 효율을 향상시킬 수 있다.The electron outlet (finger electrode (silver)) 14 is an inlet (finger electrode) for taking out electrons accumulated in the high electron density region 12 through a hole formed in the insulating film 13. The finger electrodes 14 are formed in such a manner that the finger electrodes 14 are connected to the
버스바 전극(전극1(NTA 글라스 100%))(15)은, 복수의 전자취출구(핑거 전극)(14)를 전기적으로 접속하는 전극으로서, Ag의 사용량을 없애거나 또는 삭감하는 대상의 전극이다(발명의 효과를 참조).The bus bar electrode (electrode 1 (
이면전극(전극2(알루미늄(aluminum)))(16)은, 실리콘 기판(11)의 하면에 형성된 공지의 전극이다.The back electrode (electrode 2 (aluminum)) 16 is a known electrode formed on the lower surface of the silicon substrate 11.
리드선(땜납 형성)(17)은, 복수의 버스바 전극(15)을 전기적으로 연결한 전자(전류I)를 외부로 꺼내거나, 또한 본 발명에서는 핑거 전극(14)이 버스바 전극(15)의 상면과 동일한 높이의 부분 혹은 관통된 부분에 상기 리드선을 초음파 납땜하여 접합함으로써 전자(전류)를 외부로 꺼내거나 하는 리드선이다.In the present invention, the finger electrode 14 is electrically connected to the
이상의 도9의 구조를 기초로 하여, 상측으로부터 하측방향으로 태양광을 조사하면, 태양광은 리드선(17) 및 전자취출구(14)가 없는 부분과 절연막(13)을 통과하여 실리콘 기판(11)에 입사됨으로써 전자를 발생시킨다. 그 후에 고전자농도영역(12)에 축적된 전자는, 전자취출구(핑거 전극)(14), 버스바 전극(15), 리드선(17)의 경로1 및 전자취출구(핑거 전극)(14), 리드선(17)의 경로2의 양쪽 경로를 통하여 외부로 꺼내어진다. 이 때에 도13부터 도17에서 후술하는 바와 같이 버스바 전극(15)을, 페이스트에 글라스 프릿(glass frit)으로서 NTA 글라스(도전성 글라스(導電性 glass)) 100% 내지 71%(더 적더라도 좋음, 도17을 참조)를 혼입하여 소성시켜서 형성함으로써, Ag의 사용량을 없애거나 또는 감소시킬 수 있다. 이하 순차적으로 상세하게 설명한다.9, the sunlight passes through the portion where the lead 17 and the electron outlet 14 are not present and the portion of the silicon substrate 11 through the insulating film 13, Thereby generating electrons. Electrons accumulated in the high electron density region 12 thereafter travel along the
도10은, 본 발명의 동작설명의 플로우차트를 나타내고, 도11 및 도12는 각 공정의 상세구조를 나타낸다.Fig. 10 shows a flowchart of the operation explanation of the present invention, and Figs. 11 and 12 show the detailed structure of each step.
도10에 있어서, S1에서는 실리콘 기판을 준비한다.In Fig. 10, a silicon substrate is prepared in S1.
S2에서는 클리닝(cleaning)을 한다. 이들 S1, S2는, 도11의 (a)에 나타내는 바와 같이 S1에서 준비한 실리콘 기판(11)의 면(고전자농도영역(12)을 형성하는 면)을 깨끗하게 클리닝을 한다.In S2, cleaning is performed. These S1 and S2 clean the surface (surface forming the high electron density region 12) of the silicon substrate 11 prepared in S1 as shown in Fig. 11 (a).
S3에서는 확산도핑을 한다. 이것은, 도11의 (b)에 나타내는 바와 같이 도11의 (a)에서 클리닝한 실리콘 기판(11)의 위에 공지의 확산도핑을 하여 고전자농도영역(12)을 형성한다.In S3, diffusion doping is performed. This is accomplished by performing known diffusion doping on the silicon substrate 11 cleaned in Fig. 11A as shown in Fig. 11B to form a high electron density region 12. [
S4에서는 반사방지막(反射防止膜)(질화 실리콘막)을 형성한다. 이것은, 도11의 (c)에 나타내는 바와 같이 도11의 (b)의 고전자농도영역(12)을 형성한 후에, 반사방지막(태양광을 통과시키고 또한 표면반사를 가급적 저감시킨 막)으로서 예를 들면 질화 실리콘막을 공지의 방법에 의하여 형성한다.In S4, an antireflection film (antireflection film) (a silicon nitride film) is formed. This is because, as shown in Fig. 11 (c), after the formation of the high electron density region 12 in Fig. 11 (b), an antireflection film (a film which passes sunlight and whose surface reflection is reduced as much as possible) A silicon nitride film is formed by a known method.
S5에서는 핑거 전극을 스크린 인쇄한다. 이것은, 도11의 (d)에 나타내는 바와 같이 도11의 (c)의 질화 실리콘막(13)을 형성한 후에, 형성되는 핑거 전극(14)의 패턴(pattern)을 스크린 인쇄한다. 인쇄재료는, 예를 들면 은에 프릿으로서 납 글라스(lead glass)를 혼입한 것을 사용한다.In S5, the finger electrodes are screen-printed. 11 (d), the pattern of the finger electrode 14 to be formed is screen-printed after the silicon nitride film 13 of Fig. 11 (c) is formed. As the printing material, for example, lead glass is used as frit in silver.
S6에서는, 핑거 전극을 소성시켜서 파이어 스루(fire through)시킨다. 이것은, 도11의 (d)에서 스크린 인쇄된 핑거 전극(14)의 패턴(은과 납 글라스의 프릿을 혼입한 것)을 소성하고, 도11의 (e)에 나타내는 바와 같이 질화 실리콘막(13)에 파어어 스루시켜서 그 안에 은(도전성)을 형성한 핑거 전극(14)을 형성한다.In S6, the finger electrodes are fired and fire through. 11 (d), the pattern of the finger electrode 14 (mixed with frit of silver and lead glass) screen-printed is fired to form a silicon nitride film 13 To form a finger electrode 14 having silver (conductive) formed therein.
S7에서는 버스바 전극(전극1)을 스크린 인쇄한다. 이것은, 도12의 (f)에 나타내는 바와 같이 도11의 (e)의 핑거 전극(14)을 형성한 후에, 형성되는 버스바 전극(15)의 패턴을 스크린 인쇄한다. 인쇄재료는, 예를 들면 프릿으로서 NTA 글라스(100%)의 것을 사용한다.In S7, the bus bar electrode (electrode 1) is screen-printed. This is done by screen printing the pattern of the
S8에서는 버스바 전극을 소성시킨다. 이것은, 도12의 (f)에서 스크린 인쇄된 버스바 전극(15)의 패턴(NTA 글라스(100%)의 프릿)을 소성(소성시간은 길어도 1분 이내, 1∼3초 이상으로 소성)시켜서, 도12의 (g)에 나타내는 바와 같이 버스바 전극(15)이 최상층에 형성되고, 또한 본 발명의 특징인 핑거 전극(14)이, 상기 최상층에 형성된 버스바 전극(15)의 상면과 동일한 높이의 부분 또는 관통된 부분이 형성된다(이것은 막두께 컨트롤에 의하여 한다).In S8, the bus bar electrode is fired. This is achieved by firing a pattern (frit of NTA glass (100%)) of the
한편 S5 및 S7의 인쇄를 하고, 양자를 동시에 소성하더라도 좋다.On the other hand, S5 and S7 may be printed, and both may be fired simultaneously.
S9에서는 이면전극(전극2)을 형성한다. 이것은, 도12의 (h)에 나타내는 바와 같이 실리콘 기판(11)의 하측(이면)에 예를 들면 알루미늄 전극을 형성한다.In S9, the back electrode (electrode 2) is formed. This is because, for example, an aluminum electrode is formed on the lower side (back surface) of the silicon substrate 11 as shown in FIG. 12 (h).
S10에서는 리드선을 땜납에 의하여 형성한다. 이것은, 도12의 (i)에 나타내는 바와 같이 도12의 (g)의 버스바 전극을 전기적으로 접속하는 리드선을 땜납에 의하여 형성하여, 예를 들면 초음파 납땜에 의하여 형성하여 전기적으로 접속하면, 고전자농도영역(12), 핑거 전극(14), 버스바 전극(15), 리드선(17)의 경로1(종래의 경로1)과, 고전자농도영역(12), 핑거 전극(14), 리드선(17)의 경로2(본 발명에서 추가한 경로2)의 양쪽 경로에서, 고전자농도영역(12) 중의 전자(전류)를 리드선(17)을 통하여 외부로 꺼내는 것이 가능하게 되어, 고전자농도영역(12)과 리드선(17) 사이의 저항값을 매우 작게 하여 로스(loss)를 감소시켜서 태양전지의 효율을 향상시킬 수 있다. 즉 본 발명에서 추가한 경로2는, 핑거 전극(14)의 일단(一端)이 고전자농도영역(12) 중에 있고, 타단(他端)이 NTA 글라스 100%인 버스바 전극(15)의 상면과 동일한 높이의 부분 혹은 관통된 부분에 있고, 이 부분에 리드선이 직접 접합(초음파 납땜에 의하여 직접 접합)되기 때문에, 고전자농도영역(12), 핑거 전극(14), 리드선(17)의 경로2가 형성된다. 또 경로1은 종래의 경로이다.In S10, lead wires are formed by soldering. This is because, as shown in Fig. 12 (i), when lead wires for electrically connecting the bus bar electrodes in Fig. 12 (g) are formed by solder and formed by, for example, ultrasonic soldering, The electron concentration region 12, the finger electrode 14, the
이상의 공정에 의하여 실리콘 기판에 태양전지를 형성할 수 있다.The solar cell can be formed on the silicon substrate by the above process.
도13은, 본 발명의 상세 설명도(버스바 전극의 소성)을 나타낸다.13 shows a detailed explanatory diagram (firing of a bus bar electrode) of the present invention.
도13의 (a)는 버스바 전극을 은 100%, NTA 0%(중량비)로 소성한 예를 모식적으로 나타내고, 도13의 (b)는 버스바 전극을 은 50%, NTA 50%(중량비)로 소성한 예를 모식적으로 나타내고, 도13의 (c)는 버스바 전극을 NTA 100%(중량비)로 소성한 예를 모식적으로 나타낸다. 소성시간은, 길어도 1분 이내이고, 1∼3초 이상으로 하였다.13 (a) schematically shows an example of firing a bus bar electrode at 100% of silver and 0% of NTA (weight ratio). FIG. 13 (b) FIG. 13 (c) schematically shows an example of firing the bus bar electrode at
도13의 (a)와 도13의 (b)와 도13의 (c)에서 도면에 나타내는 바와 같이 거의 동일한 구조가 되도록 형성된 태양전지의 시작실험(試作實驗)에서는 하기와 같은 실험결과가 얻어졌다.As shown in the drawings in FIGS. 13 (a), 13 (b) and 13 (c), the following experimental results were obtained in a solar cell starting experiment .
태양전지의 변환효율Conversion Efficiency of Solar Cell
도13의 (a)의 Ag 100%, NTA 0% 평균 약 17.0%
도13의 (b)의 Ag 50%, NTA 50% 평균 약 17.0%The
도13의 (c)의 Ag 0%, NTA 100% 평균 약 17.2%
시작실험의 결과는, 버스바 전극의 패턴을 인쇄하는 재료로서, 도13의 (a)와, 도13의 (b)에서는 태양전지를 형성하였을 때의 변환효율이 평균 약 17.0%로 거의 동일한 결과가 얻어지고, 또한 도13의 (c)에서는 변환효율이 평균 약 17.2%가 얻어졌다. 이들 도13의 (a)부터 (c)의 모두는 거의 동일한 변환효율의 범위 내이거나 혹은 도13의 (c)의 NTA 100%가 약간 높은 변환효율인 것이 초기실험결과로부터 판명되었다. 한편 NTA 글라스는 바나듐(vanadium), 바륨(barium), 철(鐵)로 구성되고, 특히 철은 내부적으로 강하게 결합되어 상기 내부에 머물러 있어, 다른 재료와 혼합되더라도 그 결합성은 극히 작은 성질을 갖는 것(일본국 특허 제5333976호 등을 참조), 또한 이미 설명한 본 발명의 고전자농도영역과 리드선 사이의 경로(경로1과, 경로2가 병렬)의 개선에 의한 것으로 추측된다.13A and 13B show the result of the starting experiment as a material for printing the pattern of the bus bar electrode. In FIG. 13A and FIG. 13B, the conversion efficiency when the solar cell is formed is about 17.0% 13 (c), an average conversion efficiency of about 17.2% was obtained. It is found from the initial experimental results that all of these FIGS. 13A to 13C are within the range of substantially the same conversion efficiency or that the
도14 및 도15는, 본 발명의 설명도(버스바 전극)를 나타낸다.Fig. 14 and Fig. 15 show the explanatory diagram (bus bar electrode) of the present invention.
도14의 (a) 및 도14의 (b)는 NTA 50%, Ag 50%의 것으로서, 도14의 (a)는 전체 평면도를 나타내고, 도14의 (b)는 확대도를 나타낸다. 도15의 (c)는 NTA 100%, Ag 0%인 것으로서, 도15의 (c)는 확대도를 나타낸다.14 (a) and 14 (b) show
도14의 (a) 및 도14의 (b)에 있어서 버스바 전극(15)은, 도14의 (a)의 전체 평면도에 나타내는 바와 같이 긴 바(bar) 모양의 전극으로서, 이것을 광학현미경에 의하여 확대하면 도14의 (b)에 나타내는 바와 같은 구조가 관찰되었다.14A and 14B, the
도14의 (b)에 있어서 버스바 전극(15)은, 종래의 Ag와 납 글라스의 프릿(frit)에 의하여 소성되었을 경우에는 Ag가 균일하게 분산되어 있었지만, 본 발명의 Ag와 NTA 글라스의 프릿에 의하여 소성(길어도 1분 이내, 1∼3초 이상의 소성)되었을 경우에는 상기 도14의 (b)에 나타내는 바와 같이 버스바 전극(15)의 중앙부분에 Ag가 모여서 형성되는 것이 판명되었다. 그 때문에, 발명의 효과의 부분에서 설명한 바와 같이 Ag에 NTA 글라스를 혼입하여 단시간 소성(길어도 1분, 1∼3초 이상의 소성)시키면 Ag가 중앙부분에 모여서 도전성이 향상되고(종래에는 Ag는 균일하게 분산되어 있었던 경우와 비교하여 도전성이 향상되고), 또한 NTA 글라스 자체도 도전성을 갖는 것 등의 종합적인 작용에 의하여 Ag의 비율을 감소시켜서 NTA 글라스를 늘리더라도, 태양전지로서 제조하였을 경우의 변환효율은 상기한 바와 같이 약 16.9%로서 실험에서는 거의 동일한 결과가 얻어졌다.14 (b), when the
한편 소성온도는, 500℃에서 900℃이지만, 태양전지로서 형성하였을 경우에 최적의 온도를 실험에 의하여 결정하는 것이 필요하다. 지나치게 낮아도 지나치게 높아도 도14의 (b)와 같은 구조가 얻어지지 않아, 실험에 의하여 결정하는 것이 필요하다.On the other hand, the firing temperature is 500 ° C to 900 ° C, but it is necessary to determine the optimum temperature when forming the solar cell by experiment. Even if it is excessively low or too high, the structure as shown in FIG. 14 (b) can not be obtained and it is necessary to determine it by experiment.
도15의 (c)에 있어서, 버스바 전극(15)은, 도면에 나타내는 중앙부분의 가로방향의 폭이 넓은 바 모양의 전극으로서, 본 발명에 관한 NTA 100%인 확대사진의 일례를 나타낸다.In Fig. 15C, the
이 도15의 (c)의 버스바 전극(15)은, 세로방향으로 폭이 좁은 핑거 전극(14)이 상기 버스바 전극(15)을 관통하여 상측으로 조금 돌출된 부분이 있고, 또한 상기 돌출된 부분의 주위가 원래의 핑거 전극(14)의 폭보다 굵게 되어 있는 것이 판명되었다. 그리고 도면에 나타내는 버스바 전극(15)의 위에, 상기 버스바 전극(15)의 폭과 동일하거나 약간 작거나 또는 약간 큰 폭으로, 후술하는 도16에서 상세하게 설명하는 바와 같이 초음파 납땜함으로써, 이미 설명한 경로1(고전자농도영역(12), 핑거 전극(14), 버스바 전극(15), 리드선(17)의 경로1) 및 경로2(고전자농도영역(12), 핑거 전극(14), 리드선(17)의 경로2)의 양쪽 경로에서 고농도전자영역과 상기 리드선을 도전시켜서 접속하여, 전자(전류)의 손실을 감소시켜서 외부로 효율적으로 꺼내는 것이 가능하게 되어, 도14의 (a), (b)와 거의 동일한 변환효율 또는 약간 높은 변환효율(약 17.2%)이 얻어졌다.The
한편 소성온도는, 도14의 (a), (b)와 거의 같은 500℃에서 900℃이지만, 태양전지로서 형성하였을 경우에 최적의 온도를 실험에 의하여 결정하는 것이 필요하다. 지나치게 낮아도 지나치게 높아도 도15의 (c)와 같은 구조가 얻어지지 않아, 실험에 의하여 결정하는 것이 필요하다.On the other hand, the firing temperature is 500 ° C. to 900 ° C. which is almost the same as in FIGS. 14 (a) and 14 (b), but it is necessary to determine the optimum temperature when the solar cell is formed. The structure as shown in FIG. 15 (c) can not be obtained even if it is excessively low or too high, and it is necessary to determine by experiment.
도16은, 본 발명의 설명도(초음파 납땜)를 나타낸다. 이것은, 이미 설명한 도15의 (c)의 NTA 100%인 경우의 것이다(또한 마찬가지로 도14의 (a), (b)에 적용하더라도 좋다).Fig. 16 shows an explanatory view of the present invention (ultrasonic soldering). This is the case of the
도16의 (a)는, 핑거 전극(14)을 소성한 후의 상태를 나타낸다.16 (a) shows a state after the finger electrode 14 is fired.
도16의 (b)는, 도16의 (a)의 버스바 전극(15)의 위에, 점선으로 나타내는 여기에서는 약간 큰(혹은 동일하거나 또는 작더라도 좋다) 리드선(17)을 납땜하는 종래의 예를 나타낸다. 이 종래의 예에서는, 통상의 납땜에 의하여 이루어지기 때문에 핑거 전극(14)이 돌출된 부분(Ag)과 리드선(17)은 땜납에 의하여 접합(solder joint)되지만, 핑거 전극(14)이 돌출되어 있지 않은 부분(NTA 100%인 부분)과 리드선(17)은 충분하게 땜납에 의하여 접합되지 않아 기계적 강도가 충분한 것은 아니다. 한편 후술하는 도16의 (c)의 초음파 납땜하였을 경우에는, 땜납에 의하여 접합되어 기계적 강도가 대폭적으로 향상되었다.16B shows a conventional example in which a lead wire 17 is soldered on the
도16의 (c)는, 도16의 (a)의 버스바 전극(15)(도15의 (c)의 버스바 전극(15))의 위에, 점선으로 나타내는 약간 큰 리드선(17)을 초음파 납땜하는 본 발명의 예를 나타낸다. 이 본 발명의 예에서는, 초음파 납땜에 의하여 이루어지기 때문에 핑거 전극(14)이 돌출된 부분(Ag)과 리드선(17)은 땜납에 의하여 접합되고, 또한 핑거 전극(14)이 없는 부분(NTA 100%인 부분)과 리드선(17)도 땜납에 의하여 접합되어 기계적 강도가 대폭적으로 향상됨과 아울러, 이미 설명한 경로2(고전자농도영역(12), 핑거 전극(14), 버스바 전극(15), 리드선(17)의 경로2)의 도전성이 향상되었다.16C shows a slightly larger lead line 17 indicated by a dotted line on the bus bar electrode 15 (
도17은, 본 발명의 측정예(효율)를 나타낸다. 본 도17은, 이미 설명한 버스바 전극(15)에 대하여, NTA를 100%에서 70%로 변화시켰을 때의 양호한 측정예로서, 도17의 가로축은 샘플(sample)의 번호를 나타내고, 세로축은 효율(%)을 나타낸다. 샘플은,Fig. 17 shows a measurement example (efficiency) of the present invention. 17 is a good measurement example when the NTA is changed from 100% to 70% with respect to the
·NTA 100% Ag 0%
·NTA 90% Ag 10%
·NTA 80% Ag 20%
·NTA 70% Ag 30%
로 하고, 이들에 의하여 태양전지를 형성하고, 각 측정결과(효율)는 도면에 나타내는 바와 같다. 한편 초기실험이기 때문에 측정결과에는 도면에 나타내는 바와 같이 상당한 편차가 있지만, 16.9에서 17.5의 범위 내에 들어가 있어, NTA 100%로 버스바 전극(15)을 형성(즉 Ag 없이 형성)하여 태양전지를 제조하였을 경우에도, NTA 70%(혹은 또 80%, 90%)에 비하여 동일한 정도 또는 약간 높은 효율이 얻어져서, NTA 100%에서도 사용할 수 있는 것이 판명되었다(발명자들은 이 사실을 발견하였다)., And a solar cell is formed by these, and the measurement results (efficiency) are as shown in the drawings. On the other hand, because of the initial experiment, there is a considerable variation in the measurement results as shown in the drawing, but the range is from 16.9 to 17.5, and
1 : 실리콘 기판
2 : 이면전극
3 : 질화막
4 : 핑거 전극
5 : 버스바 전극
6 : 땜납
7 : 리본
71 : 구리
72 : 예비땜납
21 : 예비가열대
22 : 초음파 땜납인두
23 : 초음파 발신기 및 히터
24 : 땜납인두 팁부분
11 : 실리콘 기판
12 : 고전자농도영역(확산도핑)
13 : 절연막(질화 실리콘막)
14 : 전자취출구(핑거 전극)
15 : 버스바 전극
16 : 이면전극
17 : 리드선1: silicon substrate
2: back electrode
3: nitride film
4: finger electrode
5: bus bar electrode
6: Solder
7: Ribbon
71: Copper
72: preliminary solder
21: Preliminary Tropical
22: Ultrasonic soldering iron
23: Ultrasonic transmitter and heater
24: solder iron tip portion
11: silicon substrate
12: High electron density region (diffusion doping)
13: insulating film (silicon nitride film)
14: Electron outlet (finger electrode)
15: bus bar electrode
16: back electrode
17: Lead wire
Claims (13)
Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트를 임의부분에 도포하여 소결한 기판 혹은 상기 기판 위의 페이스트 부분을, 땜납의 용융온도보다 낮은 제1소정온도로 예비가열(豫備加熱)하는 예비가열스텝과,
상기 예비가열스텝에서 예비가열한 제1소정온도의 상기 기판에, 접촉하는 땜납인두 팁부분에 초음파(超音波)를 인가한 상태에서 공급된 땜납이 용융되는, 초음파를 인가하지 않을 때에 땜납이 용융되는 온도보다 낮은, 제2소정온도로 조정한 상태에서, 상기 땜납인두 팁부분을 상기 기판의 납땜 부분에 접촉하거나 혹은 접촉하면서 이동하여 상기 기판의 납땜 부분에 납땜하는 초음파 납땜스텝을
구비하고,
초음파를 인가함과 아울러 상기 땜납을 용융시키고, 상기 용융시킨 땜납을 상기 기판의 납땜 부분에 납땜하는
것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
A soldering method for soldering an arbitrary portion on a substrate (substrate)
A preheating step of preheating a substrate on which a paste containing no Ag, Cu, and Pb is applied to an arbitrary portion and a paste portion on the substrate to a first predetermined temperature lower than the melting temperature of the solder, and,
Wherein the supplied solder is melted in a state where an ultrasonic wave is applied to the soldering iron tip portion which is in contact with the substrate at the first predetermined temperature preliminarily heated in the preliminary heating step and when the ultrasonic wave is not applied, An ultrasonic soldering step of moving the soldering iron tip portion to the soldering portion of the substrate or contacting the soldering portion of the substrate with soldering to the soldering portion of the substrate while adjusting the temperature to a second predetermined temperature lower than the temperature
Respectively,
The ultrasonic wave is applied and the solder is melted and solder is soldered to the soldering portion of the substrate
Wherein the ultrasonic soldering is carried out by using the ultrasonic soldering method.
상기 제1소정온도를, 실온(室溫) 이상으로부터 상기 제2소정온도의 범위 내의 온도로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
The method according to claim 1,
Wherein the first predetermined temperature is set to a temperature within a range from the room temperature to the second predetermined temperature.
상기 제2소정온도를, 초음파를 인가하지 않을 때에 땜납이 용융되는 온도보다 10℃에서 40℃ 낮은 범위 내의 온도로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
The method according to claim 1,
Wherein said second predetermined temperature is set to a temperature within a range of 10 占 폚 to 40 占 폚 lower than a temperature at which solder melts when ultrasonic waves are not applied.
상기 제2소정온도를, 초음파를 인가하지 않을 때에 땜납이 용융되는 온도보다 10℃에서 40℃ 낮은 범위 내의 온도로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
3. The method of claim 2,
Wherein said second predetermined temperature is set to a temperature within a range of 10 占 폚 to 40 占 폚 lower than a temperature at which solder melts when ultrasonic waves are not applied.
상기 Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트로서, Ag, Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 바나딘산염 글라스(vanadate glass)를 100wt%, 혹은 Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 Ag를 0 이상으로부터 50wt%를 포함하고 나머지를 바나딘산염 글라스로 한 NTA 페이스트로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
The method according to claim 1,
The paste containing no Ag, Cu, or Pb and containing 100 wt% of vanadate glass, or Ag containing no Cu or Pb and having Ag of at least 50 wt% %, And the remainder is made of a vanadate glass.
상기 Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트로서, Ag, Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 바나딘산염 글라스(vanadate glass)를 100wt%, 혹은 Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 Ag를 0 이상으로부터 50wt%를 포함하고 나머지를 바나딘산염 글라스로 한 NTA 페이스트로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
3. The method of claim 2,
The paste containing no Ag, Cu, or Pb and containing 100 wt% of vanadate glass, or Ag containing no Cu or Pb and having Ag of at least 50 wt% %, And the remainder is made of a vanadate glass.
상기 Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트로서, Ag, Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 바나딘산염 글라스(vanadate glass)를 100wt%, 혹은 Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 Ag를 0 이상으로부터 50wt%를 포함하고 나머지를 바나딘산염 글라스로 한 NTA 페이스트로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
The method of claim 3,
The paste containing no Ag, Cu, or Pb and containing 100 wt% of vanadate glass, or Ag containing no Cu or Pb and having Ag of at least 50 wt% %, And the remainder is made of a vanadate glass.
상기 Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트로서, Ag, Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 바나딘산염 글라스(vanadate glass)를 100wt%, 혹은 Cu, Pb를 포함하지 않고 또한 Ag를 0 이상으로부터 50wt%를 포함하고 나머지를 바나딘산염 글라스로 한 NTA 페이스트로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
5. The method of claim 4,
The paste containing no Ag, Cu, or Pb and containing 100 wt% of vanadate glass, or Ag containing no Cu or Pb and having Ag of at least 50 wt% %, And the remainder is made of a vanadate glass.
상기 땜납은, 적어도 Sn 및 Zn을 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the solder comprises at least Sn and Zn.
상기 초음파 납땜스텝에서 납땜할 때에, 페이스트 부분에 상기 페이스트 중의 유기용제(有機溶劑)가 잔류하지 않도록 미리 건조 혹은 가열건조하는 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the paste is preliminarily dried or heated and dried so that the organic solvent in the paste does not remain when soldering in the ultrasonic soldering step.
상기 초음파는, 20KHz에서부터 150KHz의 주파수로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the ultrasonic wave has a frequency ranging from 20 KHz to 150 KHz.
상기 기판 위의 페이스트를 도포하는 부분을, 태양전지(太陽電池)의 전극(電極)의 부분으로 한 것을 특징으로 하는 초음파 납땜방법.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the portion of the substrate on which the paste is to be applied is a portion of an electrode (electrode) of a solar cell (solar cell).
Ag, Cu, Pb를 포함하지 않는 페이스트를 임의부분에 도포하여 소결한 기판 혹은 상기 기판 위의 페이스트 부분을, 땜납의 용융온도보다 낮은 제1소정온도로 예비가열하는 예비가열수단과,
상기 예비가열수단에서 예비가열한 제1소정온도의 상기 기판에, 접촉하는 땜납인두 팁부분에 초음파를 인가한 상태에서 공급된 땜납이 용융되는, 초음파를 인가하지 않을 때에 땜납이 용융되는 온도보다 낮은, 제2소정온도로 조정한 상태에서, 상기 땜납인두 팁부분을 상기 기판의 납땜 부분에 접촉하거나 혹은 접촉하면서 이동하여 상기 기판의 납땜 부분에 납땜하는 초음파 납땜수단을
구비하고,
초음파를 인가함과 아울러 상기 땜납을 용융시키고, 상기 용융시킨 땜납을 상기 기판의 납땜 부분에 납땜하는
것을 특징으로 하는 초음파 납땜장치.A soldering apparatus for soldering an arbitrary portion on a substrate,
Preheating means for preheating a substrate on which a paste containing no Ag, Cu, and Pb is applied and sintered to an arbitrary portion or a paste portion on the substrate to a first predetermined temperature lower than the melting temperature of the solder,
The temperature of the solder being melted when the ultrasonic wave is applied to the tip portion of the solder iron tip in contact with the substrate at the first predetermined temperature preliminarily heated by the preheating means is lower than the temperature at which the solder melts when the ultrasonic wave is not applied An ultrasonic soldering means for soldering the soldering tip portion of the soldering iron tip to the soldering portion of the substrate while moving the soldering iron tip portion in contact with or contacting the soldering portion of the substrate in a state of being adjusted to the second predetermined temperature
Respectively,
The ultrasonic wave is applied and the solder is melted and solder is soldered to the soldering portion of the substrate
Wherein the ultrasonic soldering apparatus comprises:
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015209440A JP6696665B2 (en) | 2015-10-25 | 2015-10-25 | Ultrasonic soldering method and ultrasonic soldering apparatus |
JPJP-P-2015-209440 | 2015-10-25 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160078529A Division KR20170048135A (en) | 2015-10-25 | 2016-06-23 | Method of ultrasonic soldering and ultrasonic soldering device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20190000346A KR20190000346A (en) | 2019-01-02 |
KR102002796B1 true KR102002796B1 (en) | 2019-07-23 |
Family
ID=58614773
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160078529A KR20170048135A (en) | 2015-10-25 | 2016-06-23 | Method of ultrasonic soldering and ultrasonic soldering device |
KR1020180167094A KR102002796B1 (en) | 2015-10-25 | 2018-12-21 | Method of ultrasonic soldering and ultrasonic soldering device |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160078529A KR20170048135A (en) | 2015-10-25 | 2016-06-23 | Method of ultrasonic soldering and ultrasonic soldering device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6696665B2 (en) |
KR (2) | KR20170048135A (en) |
CN (1) | CN106607644B (en) |
TW (1) | TWI630049B (en) |
WO (1) | WO2017073299A1 (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108672867B (en) * | 2018-05-28 | 2021-03-02 | 东莞市新玛博创超声波科技有限公司 | Fluxing agent-free pulse ultrasonic low-temperature brazing method for copper-based material |
TWI699899B (en) * | 2018-06-26 | 2020-07-21 | 日商亞特比目有限公司 | Solar cell and method for manufacturing solar cell |
CN108838507A (en) * | 2018-06-28 | 2018-11-20 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | A kind of welding method of busbar |
JPWO2020129410A1 (en) * | 2018-12-18 | 2021-10-14 | アートビーム有限会社 | Ultrasonic soldering equipment and ultrasonic soldering method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100255251B1 (en) * | 1994-10-11 | 2000-05-01 | 가나이 쓰도무 | Lead free solder used for connecting electronic part on organic substrated electronic products using the same |
KR100620770B1 (en) * | 1998-09-16 | 2006-09-13 | 로베르트 보쉬 게엠베하 | Paste for welding ceramics to metals and method for producing a welded joint |
US20110180139A1 (en) * | 2010-01-25 | 2011-07-28 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Paste composition for electrode and photovoltaic cell |
CN102751359A (en) * | 2012-07-05 | 2012-10-24 | 合肥海润光伏科技有限公司 | Crystalline silicon solar battery slice string and manufacturing method thereof |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3205423B2 (en) * | 1993-03-25 | 2001-09-04 | 黒田電気株式会社 | Soldering method and equipment |
US6464324B1 (en) * | 2000-01-31 | 2002-10-15 | Picojet, Inc. | Microfluid device and ultrasonic bonding process |
JPWO2004039526A1 (en) * | 2002-11-01 | 2006-02-23 | 有限会社 テクノラボ | Soldering method and device |
US20060091184A1 (en) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Art Bayot | Method of mitigating voids during solder reflow |
JP2009072827A (en) * | 2007-08-24 | 2009-04-09 | Hitachi Metals Ltd | Method of manufacturing member to be formed with solder layer |
DE102008037613A1 (en) * | 2008-11-28 | 2010-06-02 | Schott Solar Ag | Method of making a metal contact |
JP2010142848A (en) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Ijr:Kk | Brazing method and brazing apparatus |
JP2011005545A (en) * | 2009-05-25 | 2011-01-13 | Hitachi Metals Ltd | Solder alloy, and soldered body using the same |
WO2013015285A1 (en) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | 日立化成工業株式会社 | Element and solar cell |
DE102011052256B4 (en) * | 2011-07-28 | 2015-04-16 | Hanwha Q.CELLS GmbH | Process for producing a solar cell |
JP5958701B2 (en) * | 2012-07-17 | 2016-08-02 | デクセリアルズ株式会社 | Wiring material, solar cell module, and method for manufacturing solar cell module |
CN103107242B (en) * | 2013-01-29 | 2015-12-02 | 上海交通大学 | Prepare the method for pucherite solar cell on the glass substrate |
CN103418876A (en) * | 2013-08-21 | 2013-12-04 | 宁波海融电器有限公司 | Ultrasonic soldering device |
CN103681922A (en) * | 2013-11-26 | 2014-03-26 | 青岛宇泰新能源科技有限公司 | Method for connecting solar cells |
US20150194546A1 (en) * | 2014-01-09 | 2015-07-09 | Heraeus Precious Metals North America Conshohocken Llc | Low-silver electroconductive paste |
CN203875447U (en) * | 2014-05-27 | 2014-10-15 | 张曹 | Ultrasonic wave low-temperature brazing device |
-
2015
- 2015-10-25 JP JP2015209440A patent/JP6696665B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-06-15 TW TW105118748A patent/TWI630049B/en active
- 2016-06-23 KR KR1020160078529A patent/KR20170048135A/en not_active Application Discontinuation
- 2016-07-08 CN CN201610537479.1A patent/CN106607644B/en active Active
- 2016-10-07 WO PCT/JP2016/079948 patent/WO2017073299A1/en active Application Filing
-
2018
- 2018-12-21 KR KR1020180167094A patent/KR102002796B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100255251B1 (en) * | 1994-10-11 | 2000-05-01 | 가나이 쓰도무 | Lead free solder used for connecting electronic part on organic substrated electronic products using the same |
KR100620770B1 (en) * | 1998-09-16 | 2006-09-13 | 로베르트 보쉬 게엠베하 | Paste for welding ceramics to metals and method for producing a welded joint |
US20110180139A1 (en) * | 2010-01-25 | 2011-07-28 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Paste composition for electrode and photovoltaic cell |
CN102751359A (en) * | 2012-07-05 | 2012-10-24 | 合肥海润光伏科技有限公司 | Crystalline silicon solar battery slice string and manufacturing method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2017073299A1 (en) | 2017-05-04 |
JP6696665B2 (en) | 2020-05-20 |
TWI630049B (en) | 2018-07-21 |
TW201714691A (en) | 2017-05-01 |
KR20190000346A (en) | 2019-01-02 |
CN106607644B (en) | 2020-02-14 |
CN106607644A (en) | 2017-05-03 |
KR20170048135A (en) | 2017-05-08 |
JP2017080753A (en) | 2017-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102002796B1 (en) | Method of ultrasonic soldering and ultrasonic soldering device | |
TWI524393B (en) | Process for producing a contact area of an electronic component | |
KR20190143435A (en) | Solar cell and process of manufacture of solar cell | |
JP7058390B2 (en) | Solar cells and methods for manufacturing solar cells | |
KR101791480B1 (en) | Solar cell and process of manufacture of solar cell | |
CN110556432A (en) | solar cell, preparation method thereof and welding device | |
KR102299228B1 (en) | Solar cell and manufacturing method of solar cell | |
KR102314772B1 (en) | Solar cell and manufacturing method of solar cell | |
TWI720664B (en) | Solar cell and method for manufacturing solar cell | |
TWI699899B (en) | Solar cell and method for manufacturing solar cell | |
TWI631087B (en) | Nta paste | |
TWI714127B (en) | Solar cell and method for manufacturing solar cell | |
JP2020141141A (en) | Solar battery and manufacturing method for solar battery | |
CN110379868A (en) | The manufacturing method of solar cell and solar cell |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |