KR101951936B1 - 고강도 냉연강판의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 열간 압연 이후의 냉각 과정에서 형성되는 산화물을 제거하는 산세방법을 포함하는 고강도 냉연강판의 제조방법에 대해 개시한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고강도 냉연강판의 제조방법은 슬라브를 가열하는 단계, 가열된 슬라브를 열간압연하는 단계, 열간압연된 강판을 권취하는 단계, 강판을 산세하여 상기 강판의 표면 또는 내부 중 적어도 하나에 형성된 산화물을 제거하는 산세 단계를 포함하며, 산세 단계는, 농도 120 내지 190g/ℓ의 염산(HCl) 용액에 상기 강판을 12 내지 19초 침적하여 산세하는 제1산세 단계와, 상기 제1산세 단계를 진행한 이후에 농도 100 내지 200g/ℓ의 질산(HNO3)과 10 초과 50g/ℓ의 불산(HF)의 혼합용액으로 구성된 혼산 용액에 상기 강판을 24 내지 36초 침적하여 산세하는 제2산세단계를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고강도 냉연강판의 제조방법은 슬라브를 가열하는 단계, 가열된 슬라브를 열간압연하는 단계, 열간압연된 강판을 권취하는 단계, 강판을 산세하여 상기 강판의 표면 또는 내부 중 적어도 하나에 형성된 산화물을 제거하는 산세 단계를 포함하며, 산세 단계는, 농도 120 내지 190g/ℓ의 염산(HCl) 용액에 상기 강판을 12 내지 19초 침적하여 산세하는 제1산세 단계와, 상기 제1산세 단계를 진행한 이후에 농도 100 내지 200g/ℓ의 질산(HNO3)과 10 초과 50g/ℓ의 불산(HF)의 혼합용액으로 구성된 혼산 용액에 상기 강판을 24 내지 36초 침적하여 산세하는 제2산세단계를 포함한다.
Description
본 발명은 자동차 차체용 부재 등에 사용되는 고강도강의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 열간 압연 이후의 냉각과정에서 형성되는 산화물을 제거하는 산세방법에 관한 것이다.
최근 자동차의 경량화 및 자동차의 충돌 안정성을 향상하기 위해 자동차용 강판의 고강도화가 지속적으로 요구되고 있으며, 이에 따라, 고강도 강판이 개발되어 자동차에 사용되고 있다. 강판의 강도를 높이기 위해서는 탄소와 강의 강화성분들의 조성을 증가시키는 방법이 있으나, 자동차 차체용 강판의 경우 차체 성형 과정에서 크랙이 발생하지 않아야 하므로 강판의 강도와 함께 강판의 연신율도 함께 확보되어야 한다.
자동차용 강판의 강도와 연성을 동시에 확보하기 위해 강에 첨가하는 성분으로는 망간(Mn), 규소(Si), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 티타늄(Ti)가 있으며, 특히 고강도 강판의 경우 강에 규소(Si), 망간(Mn) 등의 성분을 첨가하여 강도와 연신율을 확보할 수 있다.
그러나 강 중에 산화하기 쉬운 규소(Si), 망간(Mn), 알루미늄(Al) 이 포함된 냉연강판의 경우 열간 압연 후의 냉각 과정에서 내부에 산화물을 형성한다.
도 1은 철(Fe)-규소(Si) 강에서의 규소(Si)와 산소(O2)의 농도 분포를 도시한 그래프이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 내부 산화물은 합금이 표층부 아래인 모재에 분포한다. 도 1의 (A)는 철(Fe)를, (B)는 규소(Si)를 의미하며, 도 1은 철(Fe)과 규소(Si)를 포함하는 합금을 의미하며, 합금은 주로 철(Fe)로 되어있다고 가정하며 규소(Si)는 첨가된 원소이다. 또한 산소분압은 산화실리콘(SiO2)의 평형산소분압보다 높지만 산화철(FeO)의 평형산소분압보다는 낮다고 가정한다. 또한, No(s)는 표면 산소 농도이며, NB(0)는 초기 규소(Si)농도를 나타내며, X는 내부 산화물 두께를 나타낸다.
규소(Si)와 산소(O2)의 친화력이 철(Fe)보다 높기 때문에, 산화규소(SiO2)가 먼저 내부에 형성된다.
도 2는 산소(O2)농도와 규소(Si)농도에 따른 산화물의 형태 변화를 도시한 그래프이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 규소(Si)의 양이 증가할수록 내부 산화에서 외부 산화로 변화한다. 이론적으로는, 규소(Si) 함량이 1%를 넘으면 규소(Si)에 의한 내부 산화는 없어진다.
도 3은 도 2에 도시된 (a), (b), (c), (d), (e) 영역에서의 산화물의 형태를 도시한 도면이다. (a)는 산화철(FeO)의 산화물을, (b)는 내부 산화물인 산화철(Fe2SiO4), 산화규소(SiO2)의 산화물, (c)는 내부 산화물인 산화규소(SiO2), (d)는 외부 산화물인 산화규소(SiO2)와 결정립계(SiO2), (e)는 산화물이 형성되지 않은 경우이다.
이와 같이, 합금에 규소(Si)가 존재하는 경우 내부 산화물의 형성 또는 모재의 표면 또는 결정립계에 산화규소(SiO2) 산화물이 형성된다. 이에 따라, 규소(Si), 망간(Mn) 첨가에 따른 산화물은 산세에 의해 강제적으로 제거해야만 한다.
PCT 공개특허공보 WO2015-016538A1에는 고크롬 페라이트계 스테인리스 냉연강판의 산세방법에 대해 개시하며, 고크롬 페라이트계 스테인리스 냉연강판을 중성염 전해 산세 및 황산 전해 산세하는 전해 산세 단계 및 전해 산세를 수행한 냉연강판을 황산 및 불산을 포함하는 혼산 용액에 침지하는 혼산 침지 단계를 포함한다는 점을 개시한다. 다만 이러한 냉연강판의 산세방법은 고크롬 페라이트계 스테인리스 냉연강판에 관한 것으로 규소(Si), 망간(Mn) 첨가에 따른 산화물의 산세 방법이 필요하다.
본 발명의 실시예들은 고강도 냉연강판의 내부 또는 외부에 형성되는 산화물을 제거하는 고강도 냉연강판의 제조방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고강도 냉연강판의 제조방법은, 중량%로, 탄소(C): 0.1 내지 0.3%, 규소(Si): 0.3 내지 3.0%, 망간(Mn): 0.5 내지 10%, 알루미늄(Al): 0.01 내지 0.1%, 인(P): 0 초과 0.04%이하, 황(S): 0 초과 0.015% 이하, 질소(N): 0 초과 0.02% 이하, 크롬(Cr): 0 초과 0.2% 이하, 니오븀(Nb): 0.1% 이하, 티타늄(Ti): 0 초과 0.1% 이하, 나머지는 철(Fe) 및 기타 불가피한 불순물을 포함하는 슬라브를 가열하는 단계, 상기 가열된 슬라브를 열간압연하는 단계, 상기 열간압연된 강판을 권취하는 단계, 상기 강판을 산세하여 상기 강판의 표면 또는 내부 중 적어도 하나에 형성된 산화물을 제거하는 산세 단계를 포함하며, 상기 산세 단계는, 농도 120 내지 190g/ℓ의 염산(HCl) 용액에 상기 강판을 12 내지 19초 침적하여 산세하는 제1산세 단계와, 상기 제1산세 단계를 진행한 이후에 농도 100 내지 200g/ℓ의 질산(HNO3)과 10 초과 50g/ℓ의 불산(HF)의 혼합용액으로 구성된 혼산 용액에 상기 강판을 24 내지 36초 침적하여 산세하는 제2산세단계를 포함한다.
상기 제1산세 단계는 농도 150g/ℓ의 염산(HCl)용액에 상기 강판을 15 내지 18초 침적하여 산세할 수 있다.
상기 제2산세 단계는 농도 120 내지 180g/ℓ의 질산(HNO3)과 30 내지 50g/ℓ의 불산(HF)의 혼합용액으로 구성된 혼산 용액에 상기 강판을 26 내지 36초 침적하여 산세할 수 있다.
상기 산세 단계 이후에 불균일해진 상기 강판의 표면을 균일하게 하기 위하여 브러쉬를 사용하여 연마를 진행하는 연마 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제1산세단계와 상기 제2산세단계를 진행한 이후에 상기 브러쉬를사용하여 상기 강판의 표면을 1 내지 10㎛로 연마할 수 있다.
상기 연마단계는, 상기 제1산세단계를 진행한 이후에 상기 제1산세단계에에 의해 상기 강판의 표면에 부착되는 부식생성물을 제거하기 위하여 상기 브러쉬를 사용하여 상기 강판의 표면을 0.1 내지 5㎛로 연마하는 제1연마단계를 포함할 수 있다.
상기 연마단계는, 상기 제2산세단계를 진행한 이후에 불균일해진 상기 강판의 표면을 균일하게 하기 위해 상기 브러쉬를 사용하여 상기 강판의 표면을 1 내지 10㎛로 연마하는 제2연마단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 고강도 냉연강판의 제조방법에 따르면, 냉연강판에 형성된 내부 산화물, 외부 산화물 및 결정립계에 형성되는 산화규소(SiO2)를 제거할 수 있다. 이에 따라, 표면 특성이 우수한 고강도 냉연강판을 제조할 수 있다.
도 1은 철(Fe)-규소(Si) 강에서 규소(Si)와 산소(O2)의 농도 분포를 도시한 그래프이다.
도 2는 산소(O2) 농도와 규소(Si) 농도에 따른 산화물의 형태 변화를 도시한 그래프이다.
도 3은 도 2에 도시된 (a), (b), (c), (d), (e) 영역에서의 산화물의 형태를 도시한 도면이다.
도 4는 냉각이 완료된 열연강판의 내부 산화물 및 결정립계 산화물을 촬영한 전자현미경 사진이다.
도 5는 도 4의 사진을 고배율로 촬영한 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예인 실시예 1에 따른 산세를 진행한 후에 냉연 강판을 전자현미경을 이용하여 촬영한 사진이다.
도 7은 비교예 6에 따른 산세를 진행한 후에 냉연강판을 전자현미경을 이용하여 촬영한 사진이다.
도 2는 산소(O2) 농도와 규소(Si) 농도에 따른 산화물의 형태 변화를 도시한 그래프이다.
도 3은 도 2에 도시된 (a), (b), (c), (d), (e) 영역에서의 산화물의 형태를 도시한 도면이다.
도 4는 냉각이 완료된 열연강판의 내부 산화물 및 결정립계 산화물을 촬영한 전자현미경 사진이다.
도 5는 도 4의 사진을 고배율로 촬영한 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예인 실시예 1에 따른 산세를 진행한 후에 냉연 강판을 전자현미경을 이용하여 촬영한 사진이다.
도 7은 비교예 6에 따른 산세를 진행한 후에 냉연강판을 전자현미경을 이용하여 촬영한 사진이다.
이하에서는 본 발명의 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하의 실시 예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 충분히 전달하기 위해 제시하는 것이다. 본 발명은 여기서 제시한 실시 예만으로 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 도면은 본 발명을 명확히 하기 위해 설명과 관계 없는 부분의 도시를 생략하고, 이해를 돕기 위해 구성요소의 크기를 다소 과장하여 표현할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고강도 냉연강판은, 중량%로, C: 0.1 내지 0.3%, Si: 0.3 내지 3.0%, Mn: 0.5 내지 10%, Al: 0.01 내지 0.1%, P: 0 초과 0.04% 이하, S: 0 초과 0.015% 이하, N: 0 초과 0.02% 이하, Cr: 0 초과 0.2% 이하, Nb: 0.1% 이하, Ti: 0 초과 0.1% 이하, 나머지는 Fe 및 기타 불가피한 불순물을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고강도 냉연강판에 포함되는 각 성분의 역할 및 그 함량에 대해 설명하면 다음과 같다, 하기 성분에 대한 %는 중량%를 의미한다.
탄소(C)의 함량은 0.1% 이상 0.3 중량% 범위 내에서 조절하여 첨가한다.
탄소(C)는 마르텐사이트 강도 확보를 필요한 원소로, 0.1% 이상 첨가되어야 한다. 그러나 탄소(C)를 과량으로 첨가하면 연성과 굽힘 가공성 및 용접성이 감소하여 프레스 성형 및 롤가공성이 감소하는 단점이 있는 바, 그 상한을 0.3% 이하로 제한한다. 안정적인 제조와 탄소(C)에 의한 강도 증가 효과를 얻기 위해서는 탄소(C)를 0.1 내지 0.3%의 범위로 첨가하는 것이 바람직하다.
규소(Si)의 함량은 0.3% 이상 3.0중량% 범위 내에서 조절하여 첨가한다.
규소(Si)는 강의 항복 강도를 향상시키며 실온에서 페라이트 및 잔여 오스테나이트를 안정화시킨다. 특히, 규소(Si)는 냉각 시에 오스테나이트로부터 시멘타이트의 석출을 억제하고, 탄화물의 성장을 저지하여 트립(TRIP: Transformaion Induced Plasticity)강의 경우에는 잔여 오스테나이트를 안정화시킨다. 이에 따라 고강도를 확보하기 위하여 규소(Si)는 필수적인 성분이다. 그러나 규소(Si)를 과량으로 첨가하면, 열간압연 시 표면 균열을 초래하며, 제조시 부하를 초래하므로 그 상한을 3.0%로 제한한다. 다만, 규소(Si)첨가에 의한 오스테나이트 상의 안정성 제어, 제조의 용이성을 위하여 그 하한을 0.3%로 제한한다. 규소(Si) 첨가에 의해 강성을 확보하고 표면 품질을 확보하기 위하여 그 범위를 0.3 내지 3.0%로 제한함이 바람직하다.
망간(Mn)의 함량은 0.5 이상 10 중량% 범위 내에서 조절하여 첨가한다.
망간(Mn)은 페라이트 형성을 억제하고 오스테나이트를 안정화시키는 원소이다. 강판의 고강도를 확보하기 위해서는 망간(Mn)이 0.5% 이상이 필요하다. 다만, 망간(Mn) 함량이 증가할수록 강도확보는 용이하나, 소둔 과정에서 망간(Mn)의 표면산화량 증가에 의해 표면 결함이 생길 수 있으므로 그 상한을 10%로 제한한다. 이에 따라 망간(Mn)의 범위는 0.5 내지 10%로 제한함이 바람직하다.
알루미늄(Al)의 함량은 0.01 이상 0.1 중량% 범위 내에서 조절하여 첨가한다. 알루미늄(Al)은 용액으로 사용될 수 있다.
알루미늄(Al)은 페라이트 형성원소이며, 제강 조업 시 탈산을 위해 유용한 원소이며, 탄질화물 형성원소이다. 또한 알루미늄(Al)은 가열시에 강이 변태하는 Ac1 변태점을 낮추어 주는 역할을 하여 소둔 비용을 저감할 수 있다. 다만, 알루미늄(Al)의 함유량이 0.1%를 초과하면, 용접성이 떨어지며 소둔 과정에서 알루미늄(Al)의 표면 산화량 증가에 의해 표면 결함의 원인이 된다. 이에 알루미늄(Al)의 상한을 0.1%로 제한한다. 이에 따라 알루미늄(Al)의 범위는 0.01 내지 0.1%로 제한함이 바람직하다.
인(P)의 함량은 0 초과 0.04 중량% 범위 내에서 조절하여 첨가한다.
인(P)은 강 중에 존재하는 불순물이다. 인(P)의 함량이 0.04 중량%를 초과하면 용접성이 저하되고 입계편석에 의한 취성이 발생하여 절단가공시 미세한 균열이 발생하기 쉽고 연성과 내충격특성을 크게 악화시킨다. 이에 따라 인(P)의 상한을 0.04 중량%로 제한한다.
황(S)의 함량은 0 초과 0.015 중량% 범위 내에서 조절하여 첨가한다.
황(S)은 강 중에 존재하는 불순물로서, 강판의 연성 및 용접성을 저해하는 원소이다. 황(S)의 함량이 0.015%를 초과하면 강판의 연성 및 용접성을 저해할 가능성이 크기 때문에 황(S)의 상한을 0.015 중량%로 제한한다. 이에 따라 황(S)의 범위는 0 초과 0.015 중량%이다.
질소(N)의 함량은 0 초과 0.02 중량% 범위 내에서 조절하여 첨가한다.
질소(N)는 대표적인 오스테나이트 형성원소이며, 소재의 내식성을 향상시키는 원소이다. 질소(N)를 0.02 중량%를 초과하여 첨가하면 질화알루미늄(AlN)의 형성에 의해 연속주조 시에 크랙이 발생할 가능성이 크기 때문에 질소(N)의 중량을 0.02 중량%로 제한한다. 이에 따라 질소(N)의 범위는 0 초과 0.02 중량%이다.
크롬(Cr)의 함량은 0 초과 0.2 중량 % 범위 내에서 조절하여 첨가한다.
크롬(Cr)은 대표적인 페라이트 형성원소이며, 내식성을 증가시키는 원소이다. 크롬(Cr)은 5 내지 25 %의 잔류 오스테나이트의 확보에 있어서 필요하다. 다만, 0.2 중량%를 초과하여 첨가되는 경우에는 합금 투입량 과다로 원가가 증가되는 바 상한을 0.2 중량%로 제한한다. 이에 따라 크롬(Cr)의 범위는 0 초과 0.2 중량%이다.
니오븀(Nb)의 함량은 0.1 중량% 이하에서 조절하여 첨가한다.
니오븀(Nb)은 오스테나이트 입계에 탄화물 형태로 편석되어 소둔시에 오스테나이트 결정립의 조대화를 억제하여 강의 강도를 증가시킨다. 또한 강중 편석에 의한 미세조직 및 물성의 국부적인 편차를 증가시키는 탄소(C), 질소(N) 등의 고용원소를 안정화 시켜 내충격 특성을 향상시키는 효과가 있다. 다만, 니오븀(Nb)의 함량에 0.1 중량%를 초과하여 첨가되면, 상기의 효과가 크게 증가하지 않으며 합금 투입량 과다로 원가가 증가되는 바 상한을 0.1 중량%로 제한한다. 이에 따라 니오븀(Nb)의 범위는 0 .1 중량% 이하이다.
티타늄(Ti)의 함량은 0 초과 0.1 중량% 범위 내에서 조절하여 첨가한다.
티타늄(Ti)은 강 중에 질화티타늄(TiN)으로 존재하여 강 중의 질소(N)의 농도를 감소시키는 효과가 있으며, 열간압연을 위한 가열과정에서 결정립이 성장하는 것을 억제하는 효과가 있다. 또한, 질소(N)와 반응하고 남은 티타늄(Ti)이 강 중에 고용되어 탄소와 결합함으로써 탄화티타늄(TiC) 석출물이 형성되어 강의 강도를 향상시키는데 유용한 성분이다. 티타늄(Ti)을 첨가하지 않는 경우에는 질화알루미늄(AlN)의 형성에 의한 연속주조 시에 크랙이 발생할 수 있다. 다만, 티타늄(Ti)이 0.1 중량%를 초과하여 첨가되면 고용화된 질소(N)의 제거 외에 추가적인 탄화물이 석출되어 마르텐사이트의 탄소 농도와 강도가 감소할 수 있으므로, 상한은 0.1 중량%로 제한한다. 이에 따라 티타늄(Ti)의 범위는 0 초과 0.1 중량 % 이다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 냉연강판의 제조방법에 대해 상세히 설명한다.
본 발명은 상술한 조성을 가지는 용강을 통상의 제조방법에 따라 슬라브를 가열하는 단계, 가열된 슬라브를 가열된 슬라브를 열간압연하는 단계, 열간압연된 강판을 권취하는 단계, 강판을 산세하여 상기 강판의 표면 또는 내부 중 적어도 하나에 형성된 산화물을 제거하는 산세 단계 등의 공정을 거쳐 본 발명에 따른 고강도 냉연강판을 제조할 수 있다.
일 예로, 슬라브는 1100 내지 1300℃로 가열될 수 있다. 가열 온도가 1100℃ 미만이면 열간 압연 하중이 급격히 증가할 수 있으며, 1300℃를 초과하는 경우에는 가열 비용이 상승할 수 있으며 표면 스케일 양이 증가할 수 있다.
또한, 가열된 슬라브는 650 내지 1200℃에서 열간압연될 수 있다. 열간압연되는 온도는 오스테나이트를 냉각할 때 페라이트가 출현하기 시작하는 온도인 Ar3 이상으로 제한한다. Ar3 미만의 온도에서 열간압연이 진행되는 경우에는 페라이트, 오스테나이트의 2상역 또는 페라이트역 압연이 이루어져 혼립조직이 만들어져 열간 압연 시에 하중의 변동으로 인한 오작이 우려되므로 하한 온도를 Ar3 온도로 제한한다.
또한, 열간압연된 강판은 550 내지 700℃에서 권취될 수 있다. 권취 온도가 700℃를 초과하는 경우에는 강판 표면에 산화막이 과다하게 생성되어 결합을 유발할 수 있으므로 그 상한을 700℃로 제한한다.
산세 단계는, 염산(HCl)용액에서 산세가 진행되는 제1산세단계와, 질산(HNO3)와 불산(HF)의 혼합용액으로 구성된 혼산 용액에서 산세가 진행되는 제2산세단계를 포함한다.
제1산세는 농도 120 내지 190g/ℓ의 염산(HCl) 용액에 상기 강판을 12 내지 19초 침적하여 진행된다. 이때 염산(HCl) 용액의 온도는 70 내지 85℃일 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면 제1산세는 농도 150g/l의 염산(HCl) 용액에서 강판을 15 내지 18초 침적하여 진행될 수 있다.
제2산세는 농도 100 내지 200g/ℓ의 질산(HNO3)과 10 초과 50g/ℓ의 불산(HF)의 혼합용액으로 구성된 혼산 용액에 상기 강판을 24 내지 36초 침적하여 진행된다. 이 때 혼산 용액의 온도는 60 내지 80℃일 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면 제2산세는 농도 120 내지 180g/l의 질산(HNO3)과 30 내지 50g/l의 불산(HF)의 혼합용액으로 구성된 혼산 용액에 강판을 26 내지 36초 침적하여 진행될 수 있다.
산세 단계 이후에 불균일해진 강판의 표면을 균일하게 하기 위해 브러쉬를 사용하여 연마를 진행하는 연마 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1산세단계와 제2산세단계를 진행한 이후에 연마 단계가 진행될 수 있다. 이 때 연마 단계는 브러쉬를 사용하여 강판의 표면을 1 내지 10㎛로 연마할 수 있다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 제1산세단계를 진행한 이후에 강판의 표면에 부착되는 부착되는 부착 생성물을 제거하기 위해 브러쉬를 사용하여 강판을 연마하는 제1연마단계를 포함할 수 있다. 이 때 브러쉬는 강판의 표면을 0.1 내지 5㎛로 연마할 수 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 제1산세단계를 진행한 이후에 상술한 제1연마단계를 진행하고, 제2산세단계를 진행한 이후에 불균일해진 강판의 표면을 연마하는 제2연마단계를 포함할 수 있다. 제2연마단계는 강판의 표면을 1 내지 10㎛로 연마할 수 있다.
이하, 실시예들을 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 하기 실시예는 본 발명을 예시하여 보다 상세하게 설명하기 위한 것일 뿐 본 발명의 권리범위가 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
실시예
하기의 표 1의 조성을 가지는 강(A)을 용해하여 슬라브를 제조하였다. 슬라브를 1200℃의 온도에서 1시간 유지 후에, 900℃에서 마무리 압연을 진행 한 후에 650℃까지 냉각한 후에 650℃로 유지된 보온로에서 1시간 동안 유지시킨 후 로냉을 실시하였다. 도 4는 냉각이 완료된 열연강판의 내부 산화물 및 결정립계 산화물을 촬영한 전자현미경 사진이며, 도 5는 도 4의 사진을 고배율로 촬영한 사진이다.
도 4, 도 5에 나타난 바와 같이 내부 산화물이 형성된 시편에 대해 하기의 표 2에 기재된 바와 같이 산세를 실시하고, 내부 산화물 및 결정립계 산화물의 잔류 깊이를 측정하였다. 내부 산화물 및 결정립계 산화물의 잔류 깊이는 표 3에 기재하였다.
표 2와 표 3을 참고하면, 본 발명의 실시예 1 내지 7의 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물의 잔류 깊이가 0㎛로, 내부산화물 및 결정립계 산화물이 제거된 것을 확인할 수 있다.
실시예 1의 경우 염산농도 150g/l에서 15초간 침적하는 제1산세를 진행하고, 질산농도 120g/l, 불산농도 30g/l에서 28초간 침적하는 제2산세를 진행하는 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물이 완전하게 제거되는 것을 알 수 있다.
실시예 2의 경우 염산농도 150g/l에서 15초간 침적하는 제1산세를 진행하고, 질산농도 150g/l, 불산농도 30g/l에서 26초간 침적하는 제2산세를 진행하는 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물이 완전하게 제거되는 것을 알 수 있다.
실시예 3의 경우 염산농도 150g/l에서 18초간 침적하는 제1산세를 진행하고, 질산농도 150g/l, 불산농도 30g/l에서 26초간 침적하는 제2산세를 진행하는 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물이 완전하게 제거되는 것을 알 수 있다.
실시예 4의 경우 염산농도 150g/l에서 18초간 침적하는 제1산세를 진행하고, 질산농도 120g/l, 불산농도 50g/l에서 30초간 침적하는 제2산세를 진행하는 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물이 완전하게 제거되는 것을 알 수 있다.
실시예 5의 경우 염산농도 150g/l에서 15초간 침적하는 제1산세를 진행하고, 질산농도 120g/l, 불산농도 30g/l에서 30초간 침적하는 제2산세를 진행하는 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물이 완전하게 제거되는 것을 알 수 있다.
실시예 6의 경우 염산농도 150g/l에서 15초간 침적하는 제1산세를 진행하고, 질산농도 120g/l, 불산농도 30g/l에서 26초간 침적하는 제2산세를 진행하는 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물이 완전하게 제거되는 것을 알 수 있다.
실시예 7의 경우 염산농도 150g/l에서 15초간 침적하는 제1산세를 진행하고, 질산농도 180g/l, 불산농도 30g/l에서 32초간 침적하는 제2산세를 진행하는 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물이 완전하게 제거되는 것을 알 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시예인 실시예 1에 따른 산세를 진행한 후에 냉연 강판을 전자현미경을 이용하여 촬영한 사진이며, 도 7은 비교예 6에 따른 산세를 진행한 후에 냉연강판을 전자현미경을 이용하여 촬영한 사진이다.
도 6에서는 본 발명의 실시예 1에 따르면 내부 산화물 및 결정립계 산화물이 완전하게 제거된 것을 확인할 수 있다. 그러나 도 7의 경우 비교계 6에 따라 산세를 진행한 경우에는 염산 용액의 농도와 혼합 용액의 농도와 제1산세 침적시간, 제2산세 침적시간이 본 발명의 조건을 만족하지 못하였기 때문에 내부산화물 및 결정립계 산화물이 잔존해 있는 것을 확인할 수 있다.
이에 따라 본 발명의 실시예들에 따른 산세를 진행하는 경우 내부산화물 및 결정립계 산화물이 완전히 제거된 고강도 냉연강판을 제조할 수 있다.
상술한 바에 있어서, 본 발명의 예시적인 실시예들을 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 다음에 기재하는 청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변경 및 변형이 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
Claims (7)
- 중량%로, 탄소(C): 0.1 내지 0.3%, 규소(Si): 0.3 내지 3.0%, 망간(Mn): 0.5 내지 10%, 알루미늄(Al): 0.01 내지 0.1%, 인(P): 0 초과 0.04%이하, 황(S): 0 초과 0.015% 이하, 질소(N): 0 초과 0.02% 이하, 크롬(Cr): 0 초과 0.2% 이하, 니오븀(Nb): 0.1% 이하, 티타늄(Ti): 0 초과 0.1% 이하, 나머지는 철(Fe) 및 기타 불가피한 불순물을 포함하는 슬라브를 가열하는 단계;
상기 가열된 슬라브를 열간압연하는 단계;
상기 열간압연된 강판을 권취하는 단계;
상기 강판을 산세하여 상기 강판의 표면 또는 내부 중 적어도 하나에 형성된 산화물을 제거하는 산세 단계; 및
상기 산세 단계 이후에 브러쉬를 사용하여 연마를 진행하는 연마 단계;를 포함하고,
상기 산세 단계는, 온도 70 내지 85℃, 농도 120 내지 190g/ℓ의 염산(HCl) 용액에 상기 강판을 15 내지 18초 침적하여 산세하는 제1산세 단계와, 상기 제1산세 단계를 진행한 이후에 온도 60 내지 80℃, 농도 120 내지 180g/ℓ의 질산(HNO3)과 30 내지 50g/ℓ의 불산(HF)의 혼합용액으로 구성된 혼산 용액에 상기 강판을 26 내지 36초 침적하여 산세하는 제2산세 단계를 포함하는 고강도 냉연강판의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 제1산세 단계는 농도 150g/ℓ의 염산(HCl)용액에 상기 강판을 침적하여 산세하는 고강도 냉연강판의 제조방법. - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 제1산세 단계와 상기 제2산세 단계를 진행한 이후에 상기 브러쉬를 사용하여 상기 강판의 표면을 1 내지 10㎛로 연마하는 고강도 냉연강판의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 연마 단계는, 상기 제1산세 단계를 진행한 이후에 상기 브러쉬를 사용하여 상기 강판의 표면을 0.1 내지 5㎛로 연마하는 제1연마 단계를 포함하는 고강도 냉연강판의 제조방법. - 제6항에 있어서,
상기 연마 단계는, 상기 제2산세 단계를 진행한 이후에 상기 브러쉬를 사용하여 상기 강판의 표면을 1 내지 10㎛로 연마하는 제2연마 단계를 포함하는 고강도 냉연강판의 제조방법.
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