JP4267562B2 - 高級無方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
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Description
このため、例えばSi量については、高Siの3%程度の生産比率が無方向性電磁鋼板の中で高まってきた。このため、高級品の生産性を改善することが製鉄メーカの課題となってきている。
従来、この高級品は硬いことや冷延での脆性問題などがあったため、レバースミルであるゼンジマーミルで冷延されることが多かったが、生産性に難点があるので、生産性の高いタンデム冷間圧延(以下、タンデム圧延と略記)での冷延が望まれていた。
なお、本技術の製造技術分野としては、冷延での脆性問題が大きい製造方法である一回冷延法の工程でかつ冷延はタンデム圧延に限る。
(1)質量%で、
C ≦0.005%、 Si:2〜4%、 Mn≦1%、
S ≦0.004%、 Al:0.2〜2%、 Sn:0.003〜0.1%
を含有し、残部が不可避的不純物および鉄からなる熱延板を熱延板焼鈍後にタンデム冷間圧延し、次いで仕上焼鈍する無方向性電磁鋼板の製造方法において、熱延板焼鈍後、結晶粒径を120〜800μmとした鋼板を酸洗してから鋼板表面をワイヤーブラシで研磨することにより、表層のAl2 O3 厚みを≦0.2μmとした後、このコイルを湯温が80℃以上のホットバス溶液中に浸漬してから、タンデム冷間圧延することを特徴とする高級無方向性電磁鋼板の製造方法。
ここで、Al 2 O 3 の厚みとは、鋼板表面をGDS(グロー放電発光分光分析)で測定したもので、深さ方向のプロファイルから、最大濃化したAl量の半分のAl値を示す点の深さをいう。
三点目は、このAl2 O3 酸化層を制御することは工業的に充分可能なことである。
Mn量は1%以下が望ましい。Mnは熱間割れを防止する作用があるが、多すぎると添加コストの問題もあるので、1%以下が望ましい。
Sn量は0.003〜0.1%が望ましい。Sn量は鋼板表面の酸化物の層構造を微妙に変えることが知られている。本発明のSn成分範囲は0.003%から0.1%であって、この範囲内では酸化層構造は同一と見なせたので、Sn量は0.003〜0.1%が好ましい。
熱延板は次いで焼鈍される。熱延板焼鈍により、結晶粒径を120〜800μmとする。120μm未満では磁束密度が不満である。また800μm超では、今回の発明範囲でもタンデム圧延での割れが回避できないので、800μm以下とする。
さらに、焼鈍温度は970℃以上のほうが結晶粒径を140μm以上にできて好ましいし、1000℃以上で達成できる300μm超では、さらなる高磁束密度が得られるのでより好ましい。また、本発明においては高温での熱延スケールおよび加えて高温での熱延板焼鈍温度により、Al2 O3 が形成しやすい条件となっている。
冷延後は通常の工程である。すなわち、脱脂され、焼鈍、コーティングされる。また、顧客でコアへの打ち抜きプレスの後で歪取焼鈍されることもある。以下、実施例で説明する。
次いで5スタンドでのタンデム圧延を行い、0.50mm厚に仕上げた。タンデム圧延で破断があったコイルを×、問題なかったコイルを○印で表2に記載した。圧延前の鋼板温度は85℃であった。それから脱脂して、960℃×30秒水素中連続焼鈍を行った。得られた磁気特性(磁束密度)を表2に示す。
Claims (1)
- 質量%で、
C ≦0.005%、 Si:2〜4%、 Mn≦1%、
S ≦0.004%、 Al:0.2〜2%、 Sn:0.003〜0.1%
を含有し、残部が不可避的不純物および鉄からなる熱延板を熱延板焼鈍後にタンデム冷間圧延し、次いで仕上焼鈍する無方向性電磁鋼板の製造方法において、熱延板焼鈍後、結晶粒径を120〜800μmとした鋼板を酸洗してから鋼板表面をワイヤーブラシで研磨することにより、表層のAl2 O3 厚みを≦0.2μmとした後、このコイルを湯温が80℃以上のホットバス溶液中に浸漬してから、タンデム冷間圧延することを特徴とする高級無方向性電磁鋼板の製造方法。
ここで、Al 2 O 3 の厚みとは、鋼板表面をGDS(グロー放電発光分光分析)で測定したもので、深さ方向のプロファイルから、最大濃化したAl量の半分のAl値を示す点の深さをいう。
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