KR101946737B1 - 2개의 2급 아민을 갖는 2,2'-디아미노 비아릴 및 전기화학적 커플링에 의한 그의 제조 - Google Patents

2개의 2급 아민을 갖는 2,2'-디아미노 비아릴 및 전기화학적 커플링에 의한 그의 제조 Download PDF

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Abstract

본 발명은 구조식 I, II 및 III의 신규한 2,2'-디아미노 비아릴에 관한 것이다.
<구조식 I>
Figure 112017030773822-pct00050

<구조식 II>
Figure 112017030773822-pct00051

<구조식 III>
Figure 112017030773822-pct00052

상기 식에서, R1 내지 R10, R1' 내지 R10', X1 내지 X3 및 X1 내지 X3'는 청구항 1에서 정의된 바와 같다.
본 발명은 또한, 그의 제조를 위한 전기화학적 방법에 관한 것이다.

Description

2개의 2급 아민을 갖는 2,2'-디아미노 비아릴 및 전기화학적 커플링에 의한 그의 제조 {2,2'-DIAMINO BIARYLS WITH TWO SECONDARY AMINES AND PRODUCTION THEREOF BY ELECTROCHEMICAL COUPLING}
본 발명은 신규한 2,2'-디아미노비아릴, 및 2,2'-디아미노비아릴의 제조를 위한 전기화학적 방법에 관한 것이다.
상이하게 보호된 아닐린의 직접적 전기화학적 C,C 교차-커플링은 지금까지 공지되어 있지 않다. 비-대칭 2,2'-디아미노비아릴의 제조를 위한 구리-촉매화된 C,C 커플링이 가능하지만, 이들은 보호되지 않거나 (M. Smrcina, S. Vyskocil, B. Maca, M.　Polasek, T. A. Claxton, A. P. Abbott, P. Kocovsky, J. Org. Chem. 1994, 59, 2156-2163.) 또는 두 아미노 기 모두 동일한 보호 기를 갖는다 (J.-F. Cui, H. Huang, H. Wong, Synlett 2011, 7, 1018-1022. and W. Kalk, H.-S. Bien, K.-H. Schuendehuette, Justus Liebigs Ann. Chem. 1977, 329-337.).
또한, 울만(Ullmann)형 반응 체계에 의해 동일한 보호 기를 갖는 대칭 보호된 2,2'-디아미노비아릴의 합성에 대한 것만이 공지되어 있다 (W. Kalk, H.-S. Bien, K.-H. Schuendehuette, Justus Liebigs Ann. Chem. 1977, 329-337, and S.　Zhang, D. Zhang, L. S. Liebeskind, J. Org. Chem. 1997, 62, 2312-2313.). 이러한 이유로 사용되는 보호 기 및 커플링되는 물질의 치환 패턴의 선택이 매우 제한적이다.
또한, 비-대칭 2,2'-디아미노비아릴의 합성은 [3,3] 시그마결합 재배열에 의해 가능하지만, 이는 낮은 선택성을 갖는다. 이 경로에 의해서는, 보호 기의 매우 제한적 선택으로 단지 단일 보호된 2,2'-디아미노비아릴에 대한 접근만이 존재한다.
하기 문헌 참조:
- Y.-K. Lim, J.-W. Jung, H. Lee, C.-G. Cho, J. Org. Chem. 2004, 69, 5778-5781;
- S.-E. Suh, I.-K. Park, B.-Y. Lim, C.-G. Cho, Eur. J. Org. Chem. 2011, 3, 455-457;
- B.-Y. Lim, M.-K. Choi, C.-G. Cho, Tetrahedron Letters 2011, 52, 6015-6017.
상이하게 이중-보호된 2,2'-디아미노나프틸의 제조를 위해, 보호되지 않은 2,2'-디아미노비아릴을 먼저 단일 보호시켰고, 이어서 제2 합성 단계에서 제2 보호 기를 도입하였다 (M. Shi, W.-L. Duan, G.-B. Rong, Chirality 2004, 16, 642-651). 따라서, 이 경우에는, 단지 커플링 후에만 보호가 수행된다. 그 결과, 제2 기가 제1 기가 안정한 조건 하에서만 도입될 수 있기 때문에 단지 보호 기의 특정 조합만이 용인된다. 그 결과, 단지 소수의 조합만이 용인된다. 또한, 이 절차는 부족한 선택성, 합성 단계들 사이의 정제 방법, 및 낮은 수율에 있어 주목할만하고, 이는 이러한 공지된 방법이 경쟁력이 없게 만든다. 또한, 요망되는 표적 화합물에 도달하기 위해서는, 일부 경우에 보호, 탈보호 및 재보호의 다수의 합성 단계가 필수적이다.
본 발명에 의해 다루어지는 문제는, 문헌에 공지된 2,2'-디아미노비아릴에 비해 신규한 구조를 갖는 2,2'-디아미노비아릴을 제공하는 것이었다. 추가로, 신규한 2,2'-디아미노비아릴을 우수한 수율로 제조할 수 있는 방법을 개발하고자 하였다. 보다 특별하게는, 방법은 선행 기술로부터 공지된 제조 방법에 비해 유리한 것으로 부각되어야 했다.
상기 목적은 청구항 1에 따른 화합물에 의해 달성된다.
하기 구조식 I 내지 III 중 하나를 갖는 화합물:
<구조식 I>
Figure 112017030773822-pct00001
<구조식 II>
Figure 112017030773822-pct00002
<구조식 III>
Figure 112017030773822-pct00003
상기 식에서,
R1, R2, R3, R4, R1', R2', R3', R4'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐, -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -CN, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택되고;
R5, R6, R7, R8, R9, R10, R5', R6', R7', R8', R9', R10'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐, -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택되고;
여기서 언급된 알킬 및 아릴 기는 치환될 수 있고;
X1 및 X1'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일, 술포닐, 술페닐로부터 선택되고,
X1은 X1'와 동일한 라디칼이 아니고;
하기 두 라디칼 쌍은 제외되고:
X1 = 아세틸 및 X1' = 벤조일,
X1 = 벤조일 및 X1' = 아세틸;
X2 및 X2'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일, 술포닐, 술페닐로부터 선택되고,
X2는 X2'와 동일한 라디칼이 아니고;
X3 및 X3'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일, 술포닐, 술페닐로부터 선택되고,
X3은 X3'와 동일한 라디칼이 아니다.
-(C1-C12)-알킬 및 -O-(C1-C12)-알킬은 각각 비-치환되거나 또는 -(C3-C12)-시클로알킬, -(C3-C12)-헤테로시클로알킬, -(C6-C20)-아릴, 플루오린, 염소, 시아노, 포르밀, 아실 및 알콕시카르보닐로부터 선택된 하나 이상의 동일한 또는 상이한 라디칼로 치환될 수 있다.
-(C6-C20)-아릴 및 -(C6-C20)-아릴-(C6-C20)-아릴-은 각각 비-치환되거나 또는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -할로겐 (예컨대 Cl, F, Br, I), -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -(C6-C20)-아릴-CON[(C1-C12)-알킬]2, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -SO3Na, -NO2, -CN, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택된 하나 이상의 동일한 또는 상이한 라디칼로 치환될 수 있다.
본 발명의 맥락에서, 표현 "-(C1-C12)-알킬"은 직쇄 및 분지쇄 알킬 기를 포함한다. 바람직하게는, 이들 기는 비-치환된 직쇄 또는 분지쇄 -(C1-C8)-알킬 기이고, 가장 바람직하게는 -(C1-C6)-알킬 기이다. -(C1-C12)-알킬 기의 예는 특히 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸, 2-펜틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 1,2-디메틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 2,2-디메틸프로필, 1-에틸프로필, n-헥실, 2-헥실, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸, 4-메틸펜틸, 1,1-디메틸부틸, 1,2-디메틸부틸, 2,2-디메틸부틸, 1,3-디메틸부틸, 2,3-디메틸부틸, 3,3-디메틸부틸, 1,1,2-트리메틸프로필, 1,2,2-트리메틸프로필, 1-에틸부틸, 1-에틸-2-메틸프로필, n-헵틸, 2-헵틸, 3-헵틸, 2-에틸펜틸, 1-프로필부틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 2-프로필헵틸, 노닐, 데실이다.
표현 -(C1-C12)-알킬에 대한 설명은 또한 -O-(C1-C12)-알킬, 즉 -(C1-C12)-알콕시에서의 알킬 기에도 적용된다. 바람직하게는, 이들 기는 비-치환된 직쇄 또는 분지쇄 -(C1-C6)-알콕시 기이다.
치환된 -(C1-C12)-알킬 기 및 치환된 -(C1-C12)-알콕시 기는 이들의 사슬 길이에 따라 하나 이상의 치환기를 가질 수 있다. 치환기는 바람직하게는 각각 독립적으로 -(C3-C12)-시클로알킬, -(C3-C12)-헤테로시클로알킬, -(C6-C20)-아릴, 플루오린, 염소, 시아노, 포르밀, 아실 및 알콕시카르보닐로부터 선택된다.
본 발명의 맥락에서, 표현 "-(C3-C12)-시클로알킬"은, 3 내지 12, 특히 5 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 모노-, 비- 또는 트리시클릭 히드로카르빌 라디칼을 포함한다. 이들은 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 시클로도데실, 시클로펜타데실, 노르보닐 및 아다만틸을 포함한다.
치환된 시클로알킬의 일례는 멘틸이다.
본 발명의 맥락에서, 표현 "-(C3-C12)-헤테로시클로알킬 기"는, 3 내지 12, 특히 5 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 비-방향족 포화 또는 부분 불포화 시클로지방족 기를 포함한다. -(C3-C12)-헤테로시클로알킬 기는 바람직하게는 3 내지 8, 보다 바람직하게는 5 또는 6개의 고리 원자를 갖는다. 시클로알킬 기와 달리, 헤테로시클로알킬 기에서는, 고리 탄소 원자 중 1, 2, 3 또는 4개가 헤테로원자 또는 헤테로원자-함유 기로 치환된다. 헤테로원자 또는 헤테로원자-함유 기는 바람직하게는 -O-, -S-, -N-, -N(=O)-, -C(=O)- 및 -S(=O)-로부터 선택된다. -(C3-C12)-헤테로시클로알킬 기의 예는, 테트라히드로티오페닐, 테트라히드로푸릴, 테트라히드로피라닐 및 디옥사닐이다.
본 발명의 맥락에서, 표현 "-(C6-C20)-아릴 및 -(C6-C20)-아릴-(C6-C20)-아릴-"은 모노- 또는 폴리시클릭 방향족 히드로카르빌 라디칼을 포함한다. 이들은 6 내지 20개의 고리 원자, 보다 바람직하게는 6 내지 14개의 고리 원자, 특히 6 내지 10개의 고리 원자를 갖는다. 아릴은 바람직하게는 -(C6-C10)-아릴 및 -(C6-C10)-아릴-(C6-C10)-아릴-이다. 아릴은 특히 페닐, 나프틸, 인데닐, 플루오레닐, 안트라세닐, 페난트레닐, 나프타세닐, 크리세닐, 피레닐, 코로네닐이다. 보다 특별하게는, 아릴은 페닐, 나프틸 및 안트라세닐이다.
치환된 -(C6-C20)-아릴 기 및 -(C6-C20)-아릴-(C6-C20)-아릴 기는 고리 크기에 따라 하나 이상 (예를 들어 1, 2, 3, 4 또는 5개)의 치환기를 가질 수 있다. 이들 치환기는 바람직하게는 각각 독립적으로 -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -할로겐 (예컨대 Cl, F, Br, I), -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -(C6-C20)-아릴-CON[(C1-C12)-알킬]2, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -SO3Na, -NO2, -CN, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택된다.
치환된 -(C6-C20)-아릴 기 및 -(C6-C20)-아릴-(C6-C20)-아릴 기는 바람직하게는 치환된 -(C6-C10)-아릴 기 및 -(C6-C10)-아릴-(C6-C10)-아릴 기, 특히 치환된 페닐 또는 치환된 나프틸 또는 치환된 안트라세닐이다. 치환된 -(C6-C20)-아릴 기는 바람직하게는 -(C1-C12)-알킬 기, -(C1-C12)-알콕시 기로부터 선택된 하나 이상, 예를 들어 1, 2, 3, 4 또는 5개의 치환기를 갖는다.
표현 "할로겐"은 Cl, F, Br, I, 바람직하게는 Cl, Br, I를 포함한다.
술포닐 기는 하기 기를 의미하는 것으로 이해된다:
Figure 112017030773822-pct00004
상기 식에서, Y = OH, 할로겐, 알킬, 아릴, 시클로알킬이고, 여기서 라디칼은 상기 언급된 정의를 포함하며, 또한 치환될 수 있다.
술페닐 기는 하기 기를 의미하는 것으로 이해된다:
Figure 112017030773822-pct00005
상기 식에서, Z = OH, 할로겐, 알킬, 아릴, 시클로알킬이고, Z≠H이고, 여기서 라디칼은 상기 언급된 정의를 포함하며, 또한 치환될 수 있다.
하나의 실시양태에서, X1 및 X1'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X1은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X1'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2 및 X2'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3 및 X3'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X1 및 X1'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X1은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X1'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2 및 X2'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3 및 X3'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X1 및 X1'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X1은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X1'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2 및 X2'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X2'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3 및 X3'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, X3'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
바람직한 실시양태에서, X1 및 X1', X2 및 X2', X3 및 X3' 라디칼은 보호 기이다. 다시 말해서, 이들 화학 기는 다시 탈착될 수 있다. 각각 쌍으로 상이한 라디칼인 X1 및 X1', X2 및 X2', X3 및 X3'에 의해, 상이한 보호 기가 선택적으로 탈착될 수 있다 (직교 보호 기).
보호 기의 직교성은, 상이한 유형의 복수의 보호 기가 사용되는 경우, 각각의 보호 기가, 임의의 다른 보호 기에 대한 공격 없이, 상이한 탈착 시약에 기초하여 개별적으로, 또한 임의의 순서로 탈착될 수 있음을 의미한다.
예를 들어, X1은 탈착될 수 있고, X1'는 분자 내에 남아있거나, 또는 추가의 반응 단계에서 탈착될 수 있다. 또한, 역으로, X1'가 선택적으로 탈착되고, X1은 분자 내에 남아있는 것도 고려가능하다.
동일하게 X2 및 X2', X3 및 X3'의 쌍에도 유사하게 적용된다.
하나의 실시양태에서, R1, R2, R3, R4, R1', R2', R3', R4'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, R1, R2, R3, R4, R1', R2', R3', R4'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, R5', R6', R7', R8', R9', R10'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, R5', R6', R7', R8', R9', R10'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, R5, R6, R7, R8, R9, R10은
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, R5, R6, R7, R8, R9, R10은
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된다.
하나의 실시양태에서, 화합물은 두 구조식 I 및 II 중 하나를 갖는다.
하나의 실시양태에서, 화합물은 구조식 I을 갖는다.
하나의 실시양태에서, 화합물은 구조식 II를 갖는다.
하나의 실시양태에서, 화합물은 구조식 III을 갖는다.
또한, 화합물뿐만 아니라, 이들 2,2'-디아미노비아릴의 제조 또한 청구된다.
2,2'-디아미노비아릴의 제조 방법은, 하기 방법 단계:
a) 구조식 IVa 또는 Va의 화합물을 반응시키는 단계이며,
여기서 화합물 IVa를 X11 또는 X12와 반응시켜 화합물 IVb1 또는 IVb2를 얻거나, 또는
화합물 Va를 X13과 반응시켜 화합물 Vb를 얻는 것인 단계:
<구조식 IVa>
Figure 112017030773822-pct00006
<구조식 Va>
Figure 112017030773822-pct00007
<구조식 IVb1>
Figure 112017030773822-pct00008
<구조식 IVb2>
Figure 112017030773822-pct00009
<구조식 Vb>
Figure 112017030773822-pct00010
b) 구조식 VIa 또는 VIIa의 화합물을 반응시키는 단계이며,
여기서 화합물 VIa를 X11'와 반응시켜 화합물 VIb를 얻거나, 또는
화합물 VIIa를 X12' 또는 X13'와 반응시켜 VIIb1 또는 VIIb2를 얻는 것인 단계:
<구조식 VIa>
Figure 112017030773822-pct00011
<구조식 VIIa>
Figure 112017030773822-pct00012
<구조식 VIb>
Figure 112017030773822-pct00013
<구조식 VIIb1>
Figure 112017030773822-pct00014
<구조식 VIIb2>
Figure 112017030773822-pct00015
c) - 화합물 IVb1과 VIb의 전기화학적 커플링으로 화합물 I*를 얻거나,
- 화합물 IVb2와 VIIb1의 전기화학적 커플링으로 화합물 II*를 얻거나, 또는
- 화합물 Vb와 VIIb2의 전기화학적 커플링으로 화합물 III*를 얻는 단계
이며, 여기서 각 경우에 보다 높은 산화 전위를 갖는 화합물을 과량으로 사용하는 것인 단계:
<구조식 I*>
Figure 112017030773822-pct00016
<구조식 II*>
Figure 112017030773822-pct00017
<구조식 III*>
Figure 112017030773822-pct00018
를 포함하며,
상기 식에서, R11, R12, R13, R14, R11', R12', R13', R14'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐, -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -CN, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택되고;
R15, R16, R17, R18, R19, R20, R15', R16', R17', R18', R19', R20'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐, -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택되고;
여기서, 언급된 알킬 및 아릴 기는 치환될 수 있고;
X11 및 X11'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일, 술포닐, 술페닐로부터 선택되고,
X11은 X11'와 동일한 라디칼이 아니고;
X12 및 X12'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일, 술포닐, 술페닐로부터 선택되고,
X12는 X12'와 동일한 라디칼이 아니고;
X13 및 X13'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일, 술포닐, 술페닐로부터 선택되고,
X13은 X13'와 동일한 라디칼이 아니다.
본 발명에 따른 방법은, 아미노아릴을 먼저 선택적으로 보호하고, 이어서 이를 단지 전기화학적 커플링하기 때문에 문헌 [M. Shi, W.-L. Duan, G.-B. Rong, Chirality 2004, 16, 642-651]과 관련하여 논의된 단점을 갖지 않는다. 그 결과로, 선행 기술에서 기재된 경로에 의해 제조될 수 없는 2,2'-디아미노비아릴에서 전체적으로 신규한 보호 기 조합이 가능하다. 또한, 보호 기의 도입이 더욱 더 선택적으로 가능하기 때문에, 후처리가 매우 간소화된다. 선행 기술에서 기재된 바와 같은 2,2'-디아미노비아릴의 보호의 경우, 분자 내에 2개의 반응성 기, 즉 2개의 아미노 관능기가 존재하고, 이들 둘 다 특정 조건 하에 적어도 미량으로 반응할 수 있다. 이는 후속 후처리를 더욱 더 어렵게 만들고, 일부 상황 하에, 여러 정제 단계가 필요하며, 이는 수율을 감소시키고 더욱 더 많은 폐기물 (용매)을 생성한다. 추가로, 선행 기술과 달리, C=O 또는 S 기를 함유하는 기를 갖는 2,2'-디아미노비아릴이 본원에서 청구되며, 여기서 2개의 질소 원자 상의 기는 상이하다.
방법의 하나의 변법에서, X11 및 X11'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X11은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X11'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12 및 X12'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12 및 X13'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X13은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X13'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X11 및 X11'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X11은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X11'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12 및 X12'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12 및 X13'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X13은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X13'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X11 및 X11'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X11은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X11'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12 및 X12'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X12 및 X13'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X13은
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, X13'는
tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된다.
방법의 바람직한 변법에서, X11 및 X11', X12 및 X12', X13 및 X13' 라디칼은 보호 기이다. 다시 말해서, 이들 화학 기는 각각 적합한 조건 하에 다시 탈착될 수 있다. 각각 쌍으로 상이한 라디칼인 X11 및 X11', X12 및 X12', X13 및 X13'에 의해, 상이한 보호 기가 선택적으로 탈착될 수 있다 (직교 보호 기).
보호 기의 직교성은, 상이한 유형의 복수의 보호 기가 사용되는 경우, 각각의 보호 기가, 임의의 다른 보호 기에 대한 공격 없이, 상이한 탈착 시약에 기초하여 개별적으로, 또한 임의의 순서로 탈착될 수 있음을 의미한다.
예를 들어, X11은 탈착될 수 있고, X11'는 분자 내에 남아있거나, 또는 추가의 반응 단계에서 탈착될 수 있다. 또한, 역으로, X11'가 선택적으로 탈착되고, X11은 분자 내에 남아있는 것도 고려가능하다.
동일하게 X12 및 X12', X13 및 X13'의 쌍에도 유사하게 적용된다.
방법의 하나의 변법에서, R11, R12, R13, R14, R11', R12', R13', R14'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된다.
방법의 변법에서, R11, R12, R13, R14, R11', R12', R13', R14'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, R15', R16', R17', R18', R19', R20'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, R15', R16', R17', R18', R19', R20'는
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, R15, R16, R17, R18, R19, R20은
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, R15, R16, R17, R18, R19, R20은
-H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, 이 방법은 추가의 방법 단계:
d1) X11의 선택적 탈착을 포함한다.
방법의 하나의 변법에서, 이 방법은 추가의 방법 단계:
d2) X11'의 선택적 탈착을 포함한다.
방법의 하나의 변법에서, 이 방법은 추가의 방법 단계:
d3) X12의 선택적 탈착을 포함한다.
방법의 하나의 변법에서, 이 방법은 추가의 방법 단계:
d4) X12'의 선택적 탈착을 포함한다.
방법의 하나의 변법에서, 이 방법은 추가의 방법 단계:
d5) X13의 선택적 탈착을 포함한다.
방법의 하나의 변법에서, 이 방법은 추가의 방법 단계:
d6) X13'의 선택적 탈착을 포함한다.
전기화학적 커플링 (방법 단계 c))에 의해, 수분 배제 하에 작업되어야 하는 또는 혐기성 반응 조건을 유지하여야 하는 유기 산화제의 첨가 없이 비아릴디아민이 제조된다. 이러한 C,C 커플링의 직접적 방법은 기존의 종래 다단식 유기 합성 경로에 대한 저비용이며 환경적으로 유리한 대안을 가능하게 한다.
방법 단계 c)는 상이한 탄소 전극 (특히 유리질 탄소, 붕소-도핑 다이아몬드, 흑연, 탄소 섬유, 나노튜브), 금속 산화물 전극 및 금속 전극을 사용하여 수행될 수 있다. 이는 1 내지 50 mA/cm2의 전류 밀도 적용을 포함한다.
전기화학적 커플링 (방법 단계 c))은 통상적인 공지된 전기분해 셀에서 수행된다.
방법의 하나의 변법에서, 제2 아미노아릴은 제1 아미노아릴에 비해 적어도 두 배의 양으로 사용된다.
방법의 하나의 변법에서, 제1 아미노아릴 대 제2 아미노아릴의 비율은 1:2 내지 1:4의 범위이다.
요구되는 경우, 전도성 염이 반응에 첨가될 수 있다.
방법의 하나의 변법에서, 전도성 염은 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 테트라(C1-C6-알킬)암모늄, 1,3-디(C1-C6-알킬)이미다졸륨 및 테트라(C1-C6-알킬)포스포늄 염의 군으로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, 전도성 염의 반대 이온은 술페이트, 히드로겐술페이트, 알킬술페이트, 아릴술페이트, 알킬술포네이트, 아릴술포네이트, 할라이드, 포스페이트, 카르보네이트, 알킬포스페이트, 알킬카르보네이트, 니트레이트, 테트라플루오로보레이트, 헥사플루오로포스페이트, 헥사플루오로실리케이트, 플루오라이드 및 퍼클로레이트의 군으로부터 선택된다.
방법의 하나의 변법에서, 전도성 염은 테트라-(C1-C6-알킬)암모늄 염으로부터 선택되고, 반대 이온은 술페이트, 알킬술페이트, 아릴술페이트로부터 선택된다.
비아릴디아민의 후처리 및 회수는 매우 간단하고, 반응 종료 후에, 일반적 표준 분리 방법에 의해 수행된다. 먼저, 전해질 용액을 증류시키고, 개개의 화합물을 상이한 분획 형태로 별도로 얻는다. 예를 들어, 결정화, 증류, 승화 또는 크로마토그래피에 의해, 추가의 정제를 수행할 수 있다.
상이한 분자의 전기화학적 커플링에서 발생하는 문제는, 공반응물(co-reactant)이 일반적으로 상이한 산화 전위 EOx를 갖는다는 점이다. 그 결과, 예를 들어, 보다 낮은 산화 전위를 갖는 분자가, 보다 낮은 산화 전위를 갖는 분자에 비해, 전자 (e-)를 애노드(anode)로, 또한 H+ 이온을 용매로 방출시키는 보다 높은 경향성을 갖게 된다. 산화 전위 EOx는 하기 네른스트(Nernst) 식에 의해 계산될 수 있다:
EOx = E° + (0.059/n) * lg([Ox]/[Red])
EOx: 산화 반응에 대한 전극 전위 (= 산화 전위)
E°: 표준 전극 전위
n: 전달 전자 수
[Ox]: 산화 형태의 농도
[Red]: 환원 형태의 농도
2개의 동일한 아닐린의 커플링으로부터 공지된 방법이 상이한 두 아닐린에 적용되는 경우, 이는 보다 낮은 산화 전위를 갖는 분자의 라디칼의 지배적인 형성을 일으키고, 이어서 이들은 이들 자체와 반응한다. 따라서, 지금까지 지배적인 얻어진 주요 생성물은 동일한 두 아닐린으로부터 형성된 비아릴디아민이다.
각각의 아닐린 및/또는 나프틸아민 유도체의 산화 전위는 각 경우에 사용된 보호 기 및 자체 기재 구조에 따라 달라진다. 사용된 보호 기에 따라, 수백 밀리볼트만큼의 산화 전위 변화가 가능하다. 이러한 산화 전위 조정은 전자-구인 또는 전자-공여 기에 의해 가능할뿐만 아니라, 상이한 크기 및 관련 입체 효과에 의해서도 가능하다. 따라서, 본 발명에 따르면, 보호 기에 의해 아닐린 및 나프틸아민 유도체의 산화 전위를 제어하는 추가의 수단이 가능해진다.
추가로, 전해질 (예컨대 HFIP: 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올)에 대한 메탄올 또는 물과 같은 양성자성 첨가제의 제어된 첨가에 의해 사용된 기재의 산화 전위 이동이 가능하다.
추가로, 상이한 보호 기 (직교 보호 기)의 존재에 의해 선택적 탈보호가 가능하다. 선택적 탈보호는, 사용되는 염기, 루이스 또는 브뢴스테드 산, 및 용매의 선택에 의해 달성될 수 있다. 특정 아미노 관능기에 대한 접근이 직접적 경로에 의해 가능하지 않은 경우, 예를 들어, 반응식 1에 나타낸 바와 같이, 파라-톨루엔술폰아미드에 의한 간접적 경로를 선택할 수 있다.
반응식 1:
Figure 112017030773822-pct00019
상이하게 보호된 아닐린 또는 나프틸아민 유도체의 전기화학적 처리에 의해, 상이한 보호 기가 제공된 비-대칭 2,2'-디아미노비아릴을 선택적으로 제조할 수 있다. 보호 기의 특정 선택은 산화 전위의 제어를 가능하게 한다. 본 발명은 또한, 후속 선택적 탈보호에 의해 2,2'-디아미노비아릴의 개개의 아미노 관능기에 대한 제어된 접근을 가능하게 한다.
반응식 2는 C,C 교차-커플링 반응에 대한 일반적 반응식을 나타낸다. 이 경우, 성분 A는, 2배 비율로 사용되는 과량 성분 B에 비해 보다 낮은 산화 전위를 갖는 부족 성분이다. R 및 R'는 특정적으로 선택된 각각의 보호 기이다.
Figure 112017030773822-pct00020
반응식 2: 상이하게 보호된 비-대칭 2,2'-디아미노비아릴의 제어된 전기화학적 합성, 그 후의 개개의 아미노 관능기의 선택적 탈보호.
MTBS: Bu3NCH3 O3SOCH3
HFIP: 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올
본 발명을 하기에서 실시예 및 도에 의해 상세히 설명한다.
도 1은, 상응하는 비-대칭 2,2'-디아미노비아릴을 얻는 커플링 반응이 수행될 수 있는 반응 장치의 개략적 구성을 나타낸다. 반응 장치는 스테인레스강 클램프(4)로 지지된 유리질 탄소 전극(5)을 포함한다. 자기 교반기 바(6)는 반응 장치 내에서의 혼합을 보장한다. 테플론(Teflon) 스토퍼(2)가 반응 장치 상단에 유지되고, 이를 통해 전극에 대해 스테인레스강 홀더(1)가 연결된다. 반응 장치 (여기서는 비커 셀)는 환류 응축기 부착에 대해 핏팅된 유출구(3)를 갖는다.
도 2: 아세트아닐리드
Figure 112017030773822-pct00021
의 파라 치환기의 함수로서의 EOx
일반적으로, 메탄올 첨가에 의해, 4-치환된 아세트아닐리드의 Eox 상승이 나타난다. 여기서, 약 8 부피%의 MeOH의 첨가시 4-메톡시아세트아닐리드의 Eox가 사실상 4-tert-부틸아세트아닐리드의 Eox 초과로 상승하는 것이 명백하다. 선택적 방식으로 최대 100 mV만큼의 Eox 상승이 가능하다.
도 3: 아세트아닐리드
Figure 112017030773822-pct00022
의 메타 치환기의 함수로서의 EOx
여기서 3-메톡시아세트아닐리드의 예를 사용하여 나타낸 메타-치환된 아세트아닐리드에 대한 메탄올의 첨가는, 실질적으로 선형의 Eox 감소를 유도한다. 여기서는 80 mV의 하강이 측정되었다.
도 4: 아세트아닐리드
Figure 112017030773822-pct00023
의 오르토, 파라 이치환의 함수로서의 EOx
2,4 이치환의 경우 Eox의 변화는 아세트아닐리드에 대해 단지 약한 효과만을 갖는다. Eox의 단지 약간의 상승 (R = R' = Me) 또는 하강 (R = Me, R' = Cl)만이 나타날 수 있다. 이러한 치환 패턴의 경우 메탄올의 첨가는 약 30 mV만큼의 산화 전위 변동을 유발한다.
도 5: 아세트아닐리드
Figure 112017030773822-pct00024
의 메타, 파라 이치환의 함수로서의 EOx
반면, 3,4 이치환 사용시 현저한 Eox 감소가 가능하다. 여기서는, 보다 높은 전자 밀도를 갖는 기재 (벤조디옥솔 유도체)가 거의 300 mV만큼의 뚜렷한 하강을 보이는 것으로 나타났다.
도 6: 3,4-디메톡시아닐린
Figure 112017030773822-pct00025
의 보호의 함수로서의 EOx의 비교
아세틸 보호 기 대신에 트리플루오로아세틸의 사용은, 플루오린 원자에 의한 강한 전자 구인으로 인해, 약 150 mV만큼의 3,4-디메톡시아닐린의 Eox 상승을 유발한다. 동시에, 트리플루오로아세틸 유도체에 대한 MeOH의 영향이 상당히 향상된다. 상기 유도체는, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올 (HFIP) 중에서, MeOH의 첨가의 경우 최대 250 mV의 하강을 보인다.
도 7: N-(나프탈렌-2-일)아세트아미드
Figure 112017030773822-pct00026
의 함수로서의 EOx
N-(나프탈렌-2-일)아세트아미드는 p-메톡시아세트아닐리드와 유사한 플롯을 나타낸다. 메탄올의 첨가는 약 15 부피%까지 Eox에서의 뚜렷한 상승을 제공한다. 이러한 방식으로 약 140 mV의 이동이 가능하다. 보다 많은 양의 MeOH의 경우, 여기서는 Eox의 하강이 또한 나타난다.
도 2 내지 7의 결과에 기초하여, 상이한 보호 기에 의해 산화 전위가 영향받을 수 있고, 따라서 전기화학적 커플링이 제어될 수 있다는 것이 명백해진다.
분석
크로마토그래피
마헤레이-나겔 게엠베하 운트 코(Macherey-Nagel GmbH & Co, 독일 뒤렌)로부터의 60 M 실리카 겔 (0.040 내지 0.063 mm) 상에서 1.6 bar의 최대 압력에서 플래쉬 크로마토그래피에 의한 제조용 액체 크로마토그래피 분리를 수행하였다. 머크 카가아(Merck KGaA, 독일 다름슈타트)로부터의 게두란(Geduran) Si 60 실리카 겔 (0.063 내지 0.200 mm) 상에서 비-가압 분리를 수행하였다. 용리액으로서 사용된 용매 (에틸 아세테이트 (기술적 등급), 시클로헥산 (기술적 등급))를 회전 증발기 상에서 미리 증류에 의해 정제하였다.
박막 크로마토그래피 (TLC)를 위해, 머크 카가아 (독일 다름슈타트)로부터의 기성품 PSC 실리카 겔 60 F254 플레이트를 사용하였다. 사용된 용리액 혼합물의 함수로서 Rf 값을 기록하였다. 세륨/몰리브데이토인산 용액을 침지 시약으로서 사용하여 TLC 플레이트를 염색하였다. 세륨/몰리브데이토인산 시약: 5.6 g의 몰리브데이토인산, 2.2 g의 황산세륨(IV) 사수화물 및 13.3 g의 진한 황산을 200 ml의 물에 첨가함.
기체 크로마토그래피 (GC/GCMS)
일본 시마츠(Shimadzu)로부터의 GC-2010 기체 크로마토그래프의 보조 하에 생성물 혼합물 및 순수 물질에 대한 기체 크로마토그래피 연구 (GC)를 수행하였다. 애질런트 테크놀로지즈(Agilent Technologies, 미국)로부터의 HP-5 석영 모세관 컬럼 (길이: 30 m; 내부 직경: 0.25 mm; 공유 결합 정지 상의 필름 두께: 0.25 ㎛; 캐리어 기체: 수소; 주입기 온도: 250℃; 검출기 온도: 310℃; 프로그램: "하드(hard)" 방법: 개시 온도 50℃로 1 min, 가열 속도: 15℃/min, 종료 온도 290℃로 8 min) 상에서 분석을 수행하였다. 일본 시마츠로부터의 GCMS-QP2010 질량 검출기와 조합된 GC-2010 기체 크로마토그래프의 보조 하에 생성물 혼합물 및 순수 물질의 기체 크로마토그래피 질량 스펙트럼 (GC-MS)을 얻었다. 미국 애질런트 테크놀로지스로부터의 HP-1 석영 모세관 컬럼 (길이: 30 m; 내부 직경: 0.25 mm; 공유 결합 정지 상의 필름 두께: 0.25 ㎛; 캐리어 기체: 수소; 주입기 온도: 250℃; 검출기 온도: 310℃; 프로그램: "하드" 방법: 개시 온도 50℃로 1 min, 가열 속도: 15℃/min, 종료 온도 290℃로 8 min; GC-MS: 이온 공급원 온도: 200℃) 상에서 분석을 수행하였다.
융점
HW5 (독일 마인츠)로부터의 SG 2000 융점 측정 기기의 보조 하에 융점을 측정하고, 보정하지 않았다.
원소 분석
포스-헤라에우스(Foss-Heraeus, 독일 하나우)로부터의 바리오 EL 큐브(Vario EL Cube) 상에서 요하네스 구텐베르크 대학(Johannes Gutenberg University, 독일 마인츠)의 유기화학과의 분석부에서 원소 분석을 수행하였다.
질량 분광측정
워터스 마이크로매시즈(Waters Micromasses, 미국 매사추세츠주 밀포드)로부터의 QTof 울티마(Ultima) 3 상에서 모든 전기분무 이온화 분석 (ESI+)을 수행하였다. 테르모핀니간(ThermoFinnigan, 독일 브레멘)으로부터의 MAT 95 XL 섹터 필드 기기 유형의 기기 상에서 EI 질량 스펙트럼 및 고해상도 EI 스펙트럼을 분석하였다.
NMR 분광분석
브루커, 애널리티슈 메스테크닉(Bruker, Analytische Messtechnik, 독일 카를스루에)으로부터의 AC 300 또는 AV II 400 유형의 다핵 공명 분광측정계 상에서 NMR 분광분석 연구를 수행하였다. 사용된 용매는 CDCl3이었다. 캠프리지 이소토프스 래보래토리즈(Cambridge Isotopes Laboratories, 미국)로부터의 NMR 용매 데이터 차트를 사용하여 중수소화되지 않은 용매의 잔류 함량에 따라 1H 및 13C 스펙트럼을 보정하였다. 1H 및 13C 신호의 일부를 H,H-COSY, H,H-NOESY, H,C-HSQC 및 H,C-HMBC 스펙트럼의 보조 하에 지정하였다. 화학적 이동을 ppm 단위로 δ 값으로서 기록하였다. NMR 신호의 다중선에 대하여, 하기 약어를 사용하였다: s (단일선), bs (폭넓은 단일선), d (이중선), t (삼중선), q (사중선), m (다중선), dd (이중선의 이중선), dt (삼중선의 이중선), tq (사중선의 삼중선). 모든 커플링 상수 J를 포함된 결합 수와 함께 헤르츠 (Hz) 단위로 기록하였다. 신호 지정에 주어진 번호는 화학 반응식에 나타낸 번호에 상응하며, 이는 반드시 IUPAC 명명법에 상응하지는 않는다.
가능한 보호 기의 예:
Figure 112017030773822-pct00027
여기서, Bn = 벤질, Ph = 페닐.
Y 및 Z 라디칼은 상기에 기재된 정의에 상응한다.
보호 기의 도입은, 예를 들어, 문헌 [P. G. M. Wuts, T. W. Greene "Greene's Protective Groups in Organic Synthesis", fourth edition, 2007, John Wiley and Sons; Hoboken, New Jersey]에 기재된 바와 같이 수행할 수 있다.
M1: N-아세틸화 방법
보호하려는 아닐린 유도체 또는 나프틸아민 유도체 (1 당량)를 초기에 원형-목 플라스크 내에 충전하고, 디클로로메탄 중에 용해시킨다. 아이스로 냉각시키며, 1.2 당량의 아세트산 무수물을 반응 용액에 점차 적가한다. 첨가 완료시, 반응 혼합물을 실온에서 및/또는 환류 하에 24시간 동안 교반한다. 반응 종료 후, 용매를 감압 하에 제거하고, 조 생성물을 용리액 CH:EA (4:1 내지 1:1) 중에서 실리카 겔 60 상에서 플래쉬 크로마토그래피에 의해 정제한다.
M2: N-2,2,2-트리플루오로아세트아미드 보호 방법
원형-목 플라스크를 초기에 디클로로메탄 용액 중의 보호하려는 아닐린 유도체 또는 나프틸아민 유도체 (1 당량)로 충전시킨다. 아이스로 냉각시키고 격렬히 교반하며, 1.2 당량의 트리플루오로아세트산 무수물을 이 용액에 점차 첨가한다. 첨가 종료 후, 반응 플라스크를 4 내지 5시간 동안 35℃로 가열한다. 반응 종료 후, 용매를 감압 하에 제거하고, 조 생성물을 용리액 CH:EA (4:1 내지 1:1) 중에서 실리카 겔 60 상에서 플래쉬 크로마토그래피에 의해 정제한다.
M3: 전기화학적 교차-커플링 방법
유리질 탄소 전극을 갖는 비-분할 비커 내에서, 커플링시키려는 3.8 mmol의 성분 A (반응식 2 참조) 및 7.6 mmol의 성분 B (반응식 2 참조)를 25 ml의 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로판올 및 0.77 g의 MTBS 중에 용해시킨다. 전기분해는 정전류식이다. 전기분해 동안, 수조의 보조 하에 비커 셀을 50℃로 가열하고, 반응 혼합물을 교반한다. 전기분해 종료 후, 셀 내용물을 상응하는 원형-목 플라스크로 이동시키고, 용매를 50℃에서, 200 → 90 mbar, 감압 하에 회전 증발기 상에서 제거한다.
전극 물질:
애노드: 유리질 탄소
캐소드(cathode): 유리질 탄소
전기분해 조건:
온도 [T]: 50℃
전류 밀도 [j]: 2.8 mA/cm2
전하량 [Q]: 2 F (부족 성분 당)
M4: 전기화학적 교차-커플링 (스크리닝) 방법
비-분할 스크리닝 셀 내에서, 커플링시키려는 0.76 mmol의 성분 A (반응식 2 참조) 및 1.51 mmol의 성분 B (반응식 2 참조)를 5 ml의 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로판올 및 154 mg의 MTBS 중에 용해시켰다. 전기분해는 정전류식이다. 전기분해 동안, 스크리닝 블록 내에서 스크리닝 셀을 50℃로 가열하고, 반응 혼합물을 교반한다. 전기분해 종료 후, 셀 내용물을 상응하는 원형-목 플라스크로 이동시키고, 용매를 50℃에서, 200 → 90 mbar, 감압 하에 회전 증발기 상에서 제거한다.
전극 물질:
애노드: BDD 또는 유리질 탄소
캐소드: BDD 또는 유리질 탄소
전기분해 조건:
온도 [T]: 50℃
전류 밀도 [j]: 2.8 mA/cm2
전하량 [Q]: 2 F (부족 성분 당)
M5: N-2,2,2-트리플루오로아세트아미드 보호 기의 제거를 위한 일반적 방법
원형-목 플라스크를 초기에 탈보호하려는 1 당량의 기재로 충전시키고, 2:1 비율의 메탄올/물 혼합물 중에 용해시킨다. 이어서, 10 당량의 탄산칼륨을 반응 용액에 첨가하고, 이를 실온에서 4일 동안 교반한다. 반응 종료 후, 용매를 감압 하에 제거한다. 잔류물을 물로 슬러리화하고, 탈보호 생성물을 디클로로메탄으로 추출한다. 탈보호가 정량적이지 않으면, 조 생성물을 실리카 겔 60 상에서 플래쉬 크로마토그래피에 의해 정제한다.
M6: N-아세틸 보호 기의 제거를 위한 일반적 방법
탈보호하려는 기재 (1 당량)를 초기에 원형-목 플라스크 내에 충전시키고, 메탄올 중에 용해시킨다. 격렬히 교반하며, 12 당량의 삼플루오린화붕소 디에틸 에테레이트를 반응 용액에 첨가하고, 이어서 혼합물을 환류 하에 18시간 동안 가열한다. 20 당량의 트리에틸아민 첨가에 의해 반응을 종료시키고, 고체 형태로 침전되는 생성물을 여과할 수 있다.
2-(N-아세틸)아미노-1-(2'-(N'-트리플루오로아세틸)아미노-4',5'-디메톡시페닐)나프탈렌
Figure 112017030773822-pct00028
a) 스크리닝 스케일의 2,2'-디아미노비아릴 합성
비-분할 스크리닝 셀 내에서 M4에 따라 전기분해를 수행한다. 이를 위해, 140 mg (0.76 mmol, 1.0 당량)의 N-(나프탈렌-2-일)아세트아미드 및 377 mg (1.51 mmol, 2 당량)의 N-(3,4-디메톡시페닐)-2,2,2-트리플루오로아세트아미드를 5 ml의 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올 (HFIP) 중에 용해시키고, 154 mg의 MTBS를 첨가하고, 전해질을 전기분해 셀 내로 이동시킨다. 전기분해 후, 용매 및 비-전환 반응물을 감압 하에 제거한다. 이어서, 조 생성물을 2:1 용리액 (CH:EA) 중에서 실리카 겔 60 상에서 플래쉬 크로마토그래피에 의해 정제하고, 생성물을 무색 고체로서 수득한다.
스크리닝 반응을 이용하여 상이한 전극 물질을 평가하였다. 사용된 전극 물질은 선택된 BDD 및 유리질 탄소였고, 이로부터 상이한 수율로 C,C 교차-커플링 생성물이 제조되었다 (표 1).
표 1: 사용된 전극 물질과 생성 수율의 목록
Figure 112017030773822-pct00029
전극 물질 수율
BDD 24% (78 mg)
유리질 탄소 44% (144 mg)
b) 비커 셀 내에서의 2,2'-디아미노비아릴 합성
유리질 탄소 전극을 갖는 비-분할 비커 내에서 M3에 따라 전기분해를 수행한다. 0.70 g (3.79 mmol, 1.0 당량)의 N-(나프탈렌-2-일)아세트아미드 및 1.89 g (7.57 mmol, 2 당량)의 N-(3,4-디메톡시페닐)-2,2,2-트리플루오로아세트아미드를 25 ml의 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로판올 (HFIP) 중에 용해시키고, 0.77 g의 MTBS를 첨가하고, 전해질을 전기분해 셀 내로 이동시킨다. 전기분해 후 용매 및 비-전환 반응물을 감압 하에 제거하고, 조 생성물을 2:1 용리액 (CH:EA) 중에서 실리카 겔 60 상에서 플래쉬 크로마토그래피에 의해 정제하고, 생성물을 무색 고체로서 수득한다.
수율: 1.02 g (62%, 2.36 mmol)
GC (하드 방법, HP-5): tR = 16.90 min
Rf (EA:CH = 2:1) = 0.5
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ = 2.00 (s, 3H), 3.84 (s, 3H), 4.01 (s, 3H), 6.73 (s, 1H), 7.15 (bs, 1H), 7.27 (d, J = 9 Hz, 1H), 7.44 (dt, J = 6 Hz, 7.66 (s, 1H), 7.91 (m, 3H) 7.93 (bs, 1H), 8.11 (d, 1H)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ = 24.23, 56.33, 56.38, 107.73, 113.15, 113.63, 117.45, 120.79, 122.57, 124.55, 124.88, 125.96, 127.03, 127.54, 128.47, 130.08, 131.51, 132.36, 133.98, 148.10, 149.53, 169.47
C22H19F3N2O4에 대한 HRMS (ESI+) [M+H+]: 계산치: 433.1375, 실측치: 433.1375
2-(N-아세틸)아미노-1-(2'-아미노-4',5'-디메톡시페닐)나프탈렌
Figure 112017030773822-pct00030
원형-목 플라스크 내에서, M5에 따라, 0.65 g (1.50 mmol, 1 당량)의 2-(N-아세틸)아미노-1-(2'-(N'-트리플루오로아세틸)-아미노-4',5'-디메톡시페닐)나프탈렌을 120 ml의 2:1 비율의 메탄올/물 혼합물 중에 용해시킨다. 2.07 g (15.01 mmol, 10 당량)의 탄산칼륨을 이 용액에 첨가하고, 반응 혼합물을 실온에서 4일 동안 교반한다. 반응 종료 후, 용매를 감압 하에 제거하고, 잔류물을 물로 슬러리화하고, 탈보호 생성물을 디클로로메탄으로 추출한다.
수율: 500 mg (99%, 1.49 mmol)
GC (하드 방법, HP-5): tR = 18.68 min
Rf (EA:CH = 2:1) = 0.46
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ = 2.03 (s, 3H), 3.12 (bs, 2H), 3.77 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 6.59 (d, J = 15 Hz, 2H), 7.35-7.46 (m, 4H), 7.87 (dd, J = 9 Hz, 2H), 8.40 (d, J = 9 Hz,1H)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ = 24.87, 56.02, 56.58, 101.21, 111.55, 114.60, 121.36, 123.50, 125.18, 125.61, 126.81, 128.25, 129.01, 131.28, 132.77, 134.48, 137.70, 143.04, 150.28, 168.96
C20H20N2O3에 대한 HRMS (ESI+) [M+H+]: 계산치: 337.1552, 실측치: 337.1552
2-(N-아세틸)아미노-1-(2'-(N'-(4-메틸페닐술포닐))아미노-4',5'-디메톡시페닐)나프탈렌
Figure 112017030773822-pct00031
110 ml의 디클로로메탄 중의 278 mg (0.83 mmol, 1 당량)의 N-아세틸-2-아미노-1-(2'-아미노-4',5'-디메톡시페닐)나프탈렌을 초기에 원형-바닥 플라스크 내에 충전시킨다. 이 반응 용액에 173 mg (0.91 mmol, 1.1 당량)의 p-메틸술포닐 클로라이드 및 0.13 ml (0.91 mmol, 1.1 당량)의 트리에틸아민을 첨가하고, 혼합물을 실온에서 111시간 동안 교반한다. 반응 종료 후, 용매를 감압 하에 제거하고, 조 생성물을 2:1 용리액 (CH:EA) 중에서 실리카 겔 60 상에서 플래쉬 크로마토그래피에 의해 정제한다.
수율: 342 mg (84 %, 0.70 mmol)
GC (하드 방법, HP-5): tR = 16.87 min
Rf (EA:CH = 2:1) = 0.21
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ = 1.87 (s, 3H), 2.38 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 6.09 (s, 1H), 6.56 (s, 1H), 6.68 (s, 1H), 6.94 (d, J = 9 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 6 Hz, 2H), 7.24 (t, J = 6 Hz, 1H), 7.29 (bs, 1H), 7.36 (d, J = 9 Hz, 2H), 7.42 (t, J = 6 Hz, 1H), 7.88 (dd, J = 15 Hz, J = 9 Hz, 2H), 8.32 (d, J = 9 Hz, 1H)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ = 21.70, 24.58, 56.19, 56.27, 106.87, 113.17, 119.35, 121.46, 124.49,124.89, 125.40, 125.92, 127.40, 127.40, 127.44, 128.50, 129.74, 129.74, 129.81, 130.98, 132.28, 134.61, 136.40, 144.15, 147.38, 149.75, 168.58
C20H20N2O3에 대한 HRMS (ESI+) [M+H+]: 계산치: 491.1641, 실측치: 491.1651
2-아미노-1-(2'-N-(4-메틸페닐술포닐)-아미노-4',5'-디메톡시페닐)나프탈렌
Figure 112017030773822-pct00032
M6에 따라, 342 mg (0.70 mmol, 1 당량)의 N-아세틸-2-아미노-1-(2'-N-(4-메틸페닐술포닐)-아미노-4',5'-디메톡시페닐)나프탈렌을 초기에 40 ml의 메탄올 중에서 충전시킨다. 1.06 ml (8.37 mmol, 12 당량)의 삼플루오린화붕소 디에틸 에테레이트를 격렬히 교반하며 이 용액에 첨가하고, 혼합물을 환류 하에 18시간 동안 가열한다. 2 ml의 트리에틸아민 첨가에 의해 반응을 종료시키고, 고체 형태로 침전되는 생성물을 여과할 수 있다.
수율: 219 mg (70 %, 0.49 mmol)
GC (하드 방법, HP-5): tR = 15.64 min
Rf (EA:CH = 2:1) = 0.78
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ = 2.21 (s, 3H), 3.00 (bs, 2H), 3.76 (s, 3H), 3.98 (s, 3H), 6.64 (s, 1H), 6.73-6.83 (m, 4H), 7.00-7.08 (m, 2H), 7.15-7.24 (m, 3H), 7.40 (s, 1H), 7.70 (dd, J = 6 Hz, J = 9 Hz, 2H)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ = 21.61, 56.18, 56.27, 108.18, 114.19, 114.95, 118.02, 120.61, 122.65, 123.75, 126.88, 126.98, 126.98, 128.08, 128.34, 128.49, 129.25, 129.25, 130.04, 133.51, 135.97, 140.54, 143.28, 147.20, 149.30
C20H20N2O3에 대한 HRMS (ESI+) [M+H+]: 계산치: 449.1535, 실측치: 449.1542
2-아미노-1-(2'-N-(4- 메틸페닐술포닐 )-아미노-4',5'- 디메톡시페닐 )나프탈렌
Figure 112017030773822-pct00033
원형-목 플라스크 내에서, 300 mg (0.69 mmol, 1 당량)의 2-(N-아세틸)아미노-1-(2'-(N'-트리플루오로아세틸)-아미노-4',5'-디메톡시페닐)나프탈렌을 80 ml의 히드라진 수화물 용액 (80% 수용액) 중에 용해시킨다. 반응 용액을 환류 하에 120℃에서 4일 동안 교반한다. 반응 종료 후, 혼합물을 각각 20 ml의 디클로로메탄으로 3회 추출하고, 용매를 감압 하에 제거한다. 생성물을 갈색 발포체로서 수득한다.
수율: 200 mg (98%, 0.68 mmol)
GC (하드 방법, HP-5): tR = 17.21 min
Rf (EA:CH = 2:1) = 0.44
1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ = 3.61 (s, 3H), 3.77 (s, 3H), 4.01 (bs, 2H), 4.77 (bs, 2H), 6.50 (s, 1H), 6.58 (s, 1H), 7.09-7.25 (m, 4H), 7.66 (d, J = 9 Hz, 1H), 7.69 (d, J = 6 Hz, 1H)
13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ = 55.25, 56.37, 100.60, 111.34, 113.66, 116.07, 118.46, 120.99, 123.45, 125.97, 127.07, 127.88, 128.19, 133.70, 140.43, 140.84, 143.58, 149.32
C18H18N2O2 (ESI+)에 대한 HRMS [M+H+]: 계산치: 295.1447, 실측치: 295.1458
실시예에 나타낸 화합물은 언급된 문제를 해결한다. 신규한 2,2'-디아미노비아릴을 최초로 우수한 내지 매우 우수한 수율로 제조할 수 있다. 동시에, 전체적으로 신규한 합성 전략이 이용되는데, 즉 두 아미노아릴 모두를 먼저 독립적으로 보호하고, 이어서 전기화학적 커플링하고, 이어서 요구되는 경우 선택적으로 탈보호시킬 수 있다. 이 절차를 통해, 선행 기술에서 기재된 기존 절차에 의해서는 얻을 수 없었던 2개의 상이한 보호 기를 갖는 화합물을 제조할 수 있다.

Claims (15)

  1. 하기 구조식 II 또는 III을 갖는 화합물.
    <구조식 II>
    Figure 112018096161714-pct00035

    <구조식 III>
    Figure 112018096161714-pct00036

    상기 식에서,
    R1, R2, R3, R4는
    -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐, -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -CN, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택되고;
    R5, R6, R7, R8, R9, R10, R5', R6', R7', R8', R9', R10'는
    -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐, -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택되고;
    여기서 언급된 알킬 기는 -(C3-C12)-시클로알킬, -(C3-C12)-헤테로시클로알킬, -(C6-C20)-아릴, 플루오린, 염소, 시아노, 포르밀, 아실 및 알콕시카르보닐로부터 선택된 하나 이상의 동일한 또는 상이한 라디칼로 치환될 수 있고,
    언급된 아릴 기는
    -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -(C6-C20)-아릴, -할로겐, -COO-(C1-C12)-알킬, -CONH-(C1-C12)-알킬, -(C6-C20)-아릴-CON[(C1-C12)-알킬]2, -CO-(C1-C12)-알킬, -CO-(C6-C20)-아릴, -COOH, -OH, -SO3H, -SO3Na, -NO2, -CN, -N[(C1-C12)-알킬]2로부터 선택된 하나 이상의 동일한 또는 상이한 라디칼로 치환될 수 있고;
    X2 및 X2'는
    tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일, 술포닐, 술페닐로부터 선택되고,
    X2는 X2'와 동일한 라디칼이 아니고;
    X3 및 X3'는
    tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일, 술포닐, 술페닐로부터 선택되고,
    X3은 X3'와 동일한 라디칼이 아니다.
  2. 제1항에 있어서, X2 및 X2'가 tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된 것인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, X3 및 X3'가 tert-부틸옥시카르보닐, 메틸옥시카르보닐, 벤질옥시카르보닐, 페닐옥시카르보닐, 아세틸, 트리플루오로아세틸, 벤조일로부터 선택된 것인 화합물.
  4. 제1항에 있어서, R1, R2, R3, R4가 -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된 것인 화합물.
  5. 제1항에 있어서, R1, R2, R3, R4가 -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된 것인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, R5', R6', R7', R8', R9', R10'가 -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된 것인 화합물.
  7. 제1항에 있어서, R5', R6', R7', R8', R9', R10'가 -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된 것인 화합물.
  8. 제1항에 있어서, R5, R6, R7, R8, R9, R10이 -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴, -S-알킬, -S-아릴, 할로겐으로부터 선택된 것인 화합물.
  9. 제1항에 있어서, R5, R6, R7, R8, R9, R10이 -H, -(C1-C12)-알킬, -O-(C1-C12)-알킬, -O-(C6-C20)-아릴로부터 선택된 것인 화합물.
  10. 제1항에 있어서, 화합물이 구조식 II를 갖는 것인 화합물.
  11. 제1항에 있어서, 화합물이 구조식 III을 갖는 것인 화합물.
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