KR101932837B1 - Inspection jig, inspection apparatus and inspection method - Google Patents
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Abstract
회로 기판의 비접촉식 검사에 있어서, 검사 값의 정밀도의 저하와 반복 안정성의 저감을 억제하는 것이 가능한 검사 지그, 검사 장치 및 검사 방법을 제공한다.
기체 SB에 피검사 전극 EL이 설치되고, 피검사 전극 EL이 설치된 기체 SB의 면에 절연성 보호 부재 CL1이 적층된 회로 기판 FX1을 끼움 지지하는 검사 지그(100)이며, 제1 끼움 지지면(113)을 갖는 제1 끼움 지지부(110)와, 제1 끼움 지지면(113)과 대향 배치된 제2 끼움 지지면(124)을 갖고, 제2 끼움 지지면(124)에 검출 전극(122)이 설치된 제2 끼움 지지부(120)와, 피검사 전극 EL과 검출 전극(122)이 대향하도록 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)가 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때, 검출 전극(122)이 보호 부재 CL1과 밀착하도록 검출 전극(122)과 피검사 전극 EL의 거리를 조정하는 전극간 거리 조정부(112)를 포함하는 검사 지그(100).Provided are an inspection jig, an inspection apparatus, and an inspection method capable of suppressing a reduction in the accuracy of the inspection value and a reduction in the repeat stability in the noncontact inspection of the circuit board.
An inspection jig 100 for inserting and holding a circuit board FX1 on which an insulating protection member CL1 is laminated on a surface of a substrate SB provided with an inspected electrode EL on a substrate SB, And a detection electrode 122 is provided on the second fitting surface 124. The first fitting surface 110 has a second fitting surface 124 disposed opposite to the first fitting surface 113, When the circuit board FX1 is sandwiched between the first and second fitting supporting portions 120 and 120 so that the inspecting electrode EL and the detecting electrode 122 face each other, (112) for adjusting the distance between the detection electrode (122) and the inspection target electrode (EL) so that the detection electrode (122) is in close contact with the protection member (CL1).
Description
본 발명은, 검사 지그, 검사 장치 및 검사 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an inspection jig, an inspection apparatus and an inspection method.
플렉시블 기판과 같이, 절연성 보호 부재(예를 들어, 커버 레이)가 표면에 설치된 회로 기판에서는, 피검사 전극에 프로브를 접촉시켜 통전 검사를 행할 수 없다. 이로 인해, 종래부터, 비접촉식 검사가 행해지고 있다.In a circuit board having an insulating protective member (for example, a coverlay) on its surface, such as a flexible substrate, it is not possible to conduct the energization test by bringing the probe into contact with the electrodes to be inspected. For this reason, a non-contact type inspection has conventionally been performed.
비접촉식 검사에서는, 먼저, 피검사 전극과 센서 전극을 대향시켜, 피검사 전극과 센서 전극이 콘덴서를 형성하도록 배치한다. 다음으로, 피검사 전극과 배선을 거쳐 전기적으로 접속된 입력 전극에 프로브를 접촉시켜, 입력 전극에 전기 신호를 입력한다. 그 결과, 전기 신호에 따라 피검사 전극에 전하가 축적되어, 센서 전극의 전위가 변화한다. 따라서, 센서 전극의 전위 시간 변화를 측정함으로써, 단선의 유무를 검사할 수 있다.In the non-contact type inspection, first, the electrodes to be inspected and the sensor electrode are opposed to each other, and the electrodes to be inspected and the sensor electrode are arranged to form a capacitor. Next, the probe is brought into contact with the input electrode electrically connected to the inspected electrode via the wiring, and an electric signal is inputted to the input electrode. As a result, electric charges accumulate on the electrodes to be inspected in accordance with the electric signals, and the potential of the sensor electrodes changes. Therefore, the presence or absence of disconnection can be checked by measuring the change in potential time of the sensor electrode.
센서 전극의 전위 측정을 용이하게 하는 시험 장치로서, 피검사 전극과 센서 전극 사이의 정전 용량을 크게 하여 측정하는 것이 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 비접촉식 검사는, 한 쌍의 끼움 지지부를 포함하는 검사 지그에 의해 회로 기판을 끼움 지지하여 행해진다. 한쪽 끼움 지지부에는, 센서 전극이 설치되어 있다. 먼저, 피검사 전극과 센서 전극이 대향하도록 회로 기판을 배치한다. 그 후에, 센서 전극이 설치된 한쪽 끼움 지지부와, 이것과 대향하는 다른 쪽 끼움 지지부로, 회로 기판을 끼움 지지한다. 회로 기판을 끼움 지지하면, 피검사 전극과 센서 전극의 거리가 작아짐과 함께, 양쪽 전극간이 절연성 보호 부재로 충전된다. 평판 콘덴서의 정전 용량은, 대향하는 양쪽 전극간의 거리에 반비례하고, 양쪽 전극간의 유전율 및 평행판 전극의 면적에 비례하므로, 피검사 전극과 센서 전극 사이의 정전 용량은 커진다. 그 결과, 센서 전극의 전위 측정이 용이해진다.As a test apparatus for facilitating the measurement of the potential of the sensor electrode, there is a method of measuring capacitance by increasing the capacitance between the electrodes to be inspected and the sensor electrode (see, for example, Patent Document 1). The non-contact type inspection is performed by inserting and holding the circuit board by a test jig including a pair of fitting supporting portions. A sensor electrode is provided on one fitting support portion. First, the circuit board is disposed so that the inspected electrode and the sensor electrode face each other. Thereafter, the circuit board is held between the one fitting support portion provided with the sensor electrode and the other fitting supporting portion facing the one fitting supporting portion. When the circuit board is sandwiched and supported, the distance between the electrodes to be inspected and the sensor electrode is reduced, and both electrodes are filled with the insulating protecting member. The electrostatic capacity of the flat plate capacitor is inversely proportional to the distance between the opposing electrodes, and is proportional to the dielectric constant between both electrodes and the area of the parallel plate electrodes, so that the capacitance between the electrodes to be inspected and the sensor electrode becomes large. As a result, the potential of the sensor electrode can be easily measured.
회로 기판은, 그 층 구성, 재료나 제조상의 편차에 기인하여, 두께 방향으로 요철을 갖는 경우가 있다. 또한, 한 쌍의 끼움 지지부는, 각각의 끼움 지지면이 서로 평행해지도록, 또한, 각각의 끼움 지지면이 최대한 평탄해지도록 제조되기는 하지만, 끼움 지지면의 요철을 완전히 제거할 수는 없다. 이로 인해, 제조 로트나 회로 기판 내의 위치에 따라서는, 검사 지그로 회로 기판을 끼움 지지했을 때, 회로 기판의 요철이나, 끼움 지지면의 요철에 기인하여, 피검사 전극과 센서 전극 사이에 공기층이 형성된다. 그 결과, 양쪽 전극간의 유전율이 낮아지고, 정전 용량이 작아져 버린다. 또한, 보호 부재의 요철이나, 끼움 지지면의 요철에 기인하여, 보호 부재를 끼움 지지한 양쪽 전극 사이의 거리가 불안정해지고, 정전 용량도 불안정해진다. 이러한 원인으로 인해, 검사 값의 정밀도가 저하되거나, 반복 안정성이 감소되거나 하는 등의 문제가 발생하고 있었다.The circuit board may have irregularities in the thickness direction due to its layer structure, material and manufacturing variations. Further, the pair of fitting support portions are manufactured so that the respective fitting supporting surfaces are parallel to each other and each fitting supporting surface is made as flat as possible, but the unevenness of the fitting supporting surface can not be completely removed. Due to this, depending on the position in the production lot or circuit board, an air layer is formed between the electrodes to be inspected and the sensor electrode due to the irregularities of the circuit board and the irregularities of the fitting surface when the circuit board is held by the inspection jig . As a result, the dielectric constant between both electrodes becomes low, and the capacitance becomes small. In addition, the distance between both the electrodes sandwiching the protective member becomes unstable due to the irregularities of the protective member and the irregularities of the fitting surface, and the electrostatic capacity becomes unstable. For these reasons, there has been a problem that the accuracy of the inspection value is lowered and the repetitive stability is decreased.
본 발명의 목적은, 회로 기판의 비접촉식 검사에 있어서, 검사 값의 정밀도의 저하와 반복 안정성의 감소를 억제하는 것이 가능한 검사 지그, 검사 장치 및 검사 방법을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide an inspection jig, an inspection apparatus, and an inspection method which can suppress a decrease in accuracy of inspection value and a decrease in repeat stability in a noncontact inspection of a circuit board.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 지그는, 기체에 피검사 전극이 설치되고, 상기 피검사 전극이 설치된 상기 기체의 면에 절연성 보호 부재가 적층된 회로 기판을 끼움 지지하는 검사 지그이며, 제1 끼움 지지면을 갖는 제1 끼움 지지부와, 상기 제1 끼움 지지면과 대향 배치된 제2 끼움 지지면을 갖고, 상기 제2 끼움 지지면에 검출 전극이 설치된 제2 끼움 지지부를 포함하고, 상기 피검사 전극과 상기 검출 전극이 대향하도록 상기 제1 끼움 지지부와 상기 제2 끼움 지지부가 상기 회로 기판을 끼움 지지했을 때, 상기 검출 전극이 상기 보호 부재와 밀착되도록 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리를 조정하는 전극간 거리 조정부가, 상기 제1 끼움 지지부 및 상기 제2 끼움 지지부 중 적어도 한쪽에 설치되어 있다.A test jig according to an aspect of the present invention is a test jig for inserting a circuit board on which an insulated protective member is laminated on a surface of a base provided with electrodes to be inspected on a base body and provided with the electrodes to be inspected, And a second fitting support portion having a first fitting support portion having a supporting surface and a second fitting supporting face disposed opposite to the first fitting supporting face and having detecting electrodes provided on the second fitting supporting face, The distance between the detection electrode and the electrode to be inspected such that the detection electrode is in close contact with the protection member when the circuit board is sandwiched between the first fitting support portion and the second fitting support portion so that the electrode and the detection electrode face each other And the inter-electrode distance adjusting unit to be adjusted is provided on at least one of the first fitting support portion and the second fitting support portion.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 지그에 있어서, 상기 전극간 거리 조정부는, 상기 제2 끼움 지지면과 대향하도록 상기 제1 끼움 지지부에 설치된 탄성 부재를 포함하고 있어도 된다.In the inspection jig according to an aspect of the present invention, the inter-electrode distance adjusting section may include an elastic member provided on the first fitting supporting section so as to face the second fitting supporting surface.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 지그에 있어서, 상기 탄성 부재는, 복수의 상이한 재료로 형성되어도 된다.In the inspection jig according to an aspect of the present invention, the elastic member may be formed of a plurality of different materials.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 지그에 있어서는, 상기 회로 기판이 끼움 지지되었을 때 상기 피검사 전극이 배치되는 위치에 대응하는 상기 탄성 부재의 영역에는 상대적으로 탄성률이 높은 제1 부재가, 그 이외의 상기 탄성 부재의 영역에는 상대적으로 탄성률이 낮은 제2 부재가, 각각 설치되어도 된다.In the inspection jig according to an aspect of the present invention, a first member having a relatively high elastic modulus is provided in a region of the elastic member corresponding to a position where the electrodes to be inspected are arranged when the circuit board is fitted, And a second member having a relatively low elastic modulus may be provided in the region of the elastic member.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 지그에 있어서는, 상기 탄성 부재는, 상대적으로 탄성률이 높은 제1 층과, 상대적으로 탄성률이 낮은 제2 층을 포함해도 된다.In the inspection jig according to one aspect of the present invention, the elastic member may include a first layer having a relatively high elastic modulus and a second layer having a relatively low elastic modulus.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 지그에 있어서, 상기 전극간 거리 조정부는, 상기 제2 끼움 지지부에 설치된 검사 프로브를 포함하고, 상기 검출 전극은, 상기 검사 프로브의 선단을 포함하고, 상기 검사 프로브의 선단은, 상기 제2 끼움 지지면에서 돌출되고, 상기 제2 끼움 지지면에 대략 직교하는 방향으로 왕복 이동 가능해도 된다.In the inspection jig according to an aspect of the present invention, the interelectrode distance adjustment unit may include an inspection probe provided in the second fitting support portion, the detection electrode may include a tip end of the inspection probe, The tip may protrude from the second fitting surface and be reciprocally movable in a direction substantially perpendicular to the second fitting surface.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 지그에 있어서, 상기 검사 프로브의 선단은, 가압 부재로 가압된 프로브 핀이어도 된다.In the inspection jig according to an aspect of the present invention, the tip of the inspection probe may be a probe pin pressed by a pressing member.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 장치는, 본 발명의 일 형태에 따른 검사 지그를 포함하는 회로 기판 끼움 지지부와, 상기 피검사 전극에 입력하는 시험 신호를 생성하는 시험 신호 발생부와, 상기 검출 전극에서 검출된 전기 신호를 측정하는 전기 신호 측정부를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided an inspection apparatus comprising: a circuit board interposer including an inspection jig according to an aspect of the present invention; a test signal generator for generating a test signal to be input to the electrodes to be inspected; And an electric signal measuring unit for measuring an electric signal detected by the electric signal measuring unit.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 방법은, 기체에 피검사 전극이 설치되고, 상기 피검사 전극이 설치된 상기 기체의 면에 절연성 보호 부재가 적층된 회로 기판을, 제1 끼움 지지면을 갖는 제1 끼움 지지부와, 상기 제1 끼움 지지면과 대향 배치된 제2 끼움 지지면을 갖고, 상기 제2 끼움 지지면에 검출 전극이 설치된 제2 끼움 지지부로 끼움 지지하는 끼움 지지 스텝과, 상기 피검사 전극에 시험 신호를 입력하는 신호 입력 스텝과, 상기 보호 부재를 거쳐 상기 피검사 전극에 대향 배치된 검출 전극에서 검출된 전기 신호를 측정하는 측정 스텝을 포함하고, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 검출 전극이 상기 보호 부재와 밀착되도록 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리가 조정된다.A testing method according to an aspect of the present invention is a testing method for testing a circuit board on which an inspecting electrode is provided on a base and an insulating protecting member is laminated on a surface of the base on which the inspecting electrode is provided, A fitting support step having a fitting support portion and a second fitting support portion having a second fitting face opposed to the first fitting face and provided with a detecting electrode on the second fitting face; And a measuring step of measuring an electric signal detected by a detection electrode disposed opposite to the electrode under test via the protection member, wherein in the fitting step, The distance between the detection electrode and the electrode to be inspected is adjusted so as to be in close contact with the protective member.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 방법에 있어서는, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 제2 끼움 지지면과 대향하도록 상기 제1 끼움 지지부에 설치된 탄성 부재가, 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리를 조정해도 된다.In the inspecting method according to an aspect of the present invention, it is preferable that, in the fitting step, the elastic member provided on the first fitting support portion so as to face the second fitting supporting surface has a distance between the detecting electrode and the electrode to be inspected It may be adjusted.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 방법에 있어서는, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 복수의 상이한 재료로 형성된 상기 탄성 부재가, 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리를 조정해도 된다.In the inspection method according to an aspect of the present invention, in the fitting step, the elastic member formed of a plurality of different materials may adjust the distance between the detection electrode and the electrode to be inspected.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 방법에 있어서는, 상기 회로 기판이 끼움 지지되었을 때 상기 피검사 전극이 배치되는 위치에 대응하는 상기 탄성 부재의 영역에는 상대적으로 탄성률이 높은 제1 부재가, 그 이외의 상기 탄성 부재의 영역에는 상대적으로 탄성률이 낮은 제2 부재가, 각각 설치됨으로써, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 회로 기판이 끼움 지지되었을 때 상기 피검사 전극이 배치되는 위치에 대응하는 영역 외에서는, 상기 탄성 부재의 탄성 변형이 억제되어 있어도 된다.In the inspecting method according to an aspect of the present invention, a first member having a relatively high elastic modulus is provided in a region of the elastic member corresponding to a position where the electrodes to be inspected are arranged when the circuit board is fitted and held, And a second member having a relatively low modulus of elasticity is provided in the region of the elastic member so that when the circuit board is fitted and held in the fitting support step outside the region corresponding to the position where the electrodes to be inspected are disposed, Elastic deformation of the elastic member may be suppressed.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 방법에 있어서는, 상기 탄성 부재가 상대적으로 탄성률이 높은 제1 층과 상대적으로 탄성률이 낮은 제2 층을 포함함으로써, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 제1 층에서 상기 회로 기판의 요철이 흡수되고, 상기 제2 층에서 상기 회로 기판의 상기 제2 끼움 지지면에 대한 기울기가 흡수되어도 된다.In the inspection method according to an aspect of the present invention, the elastic member includes a first layer having a relatively high modulus of elasticity and a second layer having a relatively low modulus of elasticity, whereby in the fitting step, The unevenness of the circuit board may be absorbed and the inclination of the circuit board with respect to the second fitting surface may be absorbed in the second layer.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 방법에 있어서는, 상기 제2 끼움 지지부에 설치된 검사 프로브의 선단을 상기 검출 전극으로서 사용하고, 상기 검사 프로브의 선단이, 상기 제2 끼움 지지면에서 돌출되고, 상기 제2 끼움 지지면에 대략 직교하는 방향으로 왕복 이동 가능함으로써, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리가 조정되어도 된다.In the inspection method according to an aspect of the present invention, the tip of the inspection probe provided on the second fitting support portion is used as the detection electrode, the tip of the inspection probe protrudes from the second fitting support surface, The distance between the detection electrodes and the electrodes to be inspected may be adjusted in the fitting step.
본 발명의 일 형태에 따른 검사 방법에 있어서는, 상기 검사 프로브의 선단이, 가압 부재로 가압된 프로브 핀인 것에 의해, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리가 조정되어도 된다.In the inspection method according to an aspect of the present invention, the distal end of the inspection probe is a probe pin pressed by the pressing member, so that the distance between the detection electrode and the electrode to be inspected may be adjusted in the fitting step .
본 발명에 따르면, 회로 기판의 비접촉식 검사에 있어서, 검사 값의 정밀도의 저하와 반복 안정성의 감소를 억제하는 것이 가능한 검사 지그, 검사 장치 및 검사 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide an inspection jig, an inspection apparatus, and an inspection method capable of suppressing a reduction in the accuracy of the inspection value and a reduction in the repeat stability in the noncontact inspection of the circuit board.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 회로 기판의 검사 장치를, 검사되는 회로 기판과 함께 모식적으로 나타내는 측면도.
도 2는 도 1에 도시된 회로 기판을 나타내는 평면도.
도 3의 (a) 및 (b)는 도 1에 도시된 센서 기판을 나타내는 평면도.
도 4는 도 1에 도시된 회로 기판을 제1 끼움 지지부와 제2 끼움 지지부로 끼움 지지한 상태를 나타내는 측면도.
도 5의 (a) 및 (b)는 도 1에 도시된 탄성 부재의 제1 변형예를 도시하는 평면도 및 제2 변형예를 나타내는 단면도.
도 6은 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 회로 기판의 검사 장치를, 검사되는 회로 기판과 함께 모식적으로 나타내는 측면도.
도 7은 도 6에 도시된 회로 기판을 나타내는 평면도.
도 8은 도 6에 도시된 검사 프로브 지지부를 나타내는 평면도.
도 9a는 도 6에 도시된 검사 프로브를 나타내는 단면도.
도 9의 (b), (c), (d) 및 (e)는 도 9의 (a)에 나타난 검사 프로브의 변형예를 나타내는 측면도.
도 10은 도 6에 도시된 회로 기판을 제1 끼움 지지부와 제2 끼움 지지부로 끼움 지지한 상태를 나타내는 측면도.
도 11은 본 발명의 제3 실시 형태에 따른 회로 기판의 검사 장치를, 검사되는 회로 기판과 함께 모식적으로 나타내는 측면도.
도 12는 도 11에 도시된 회로 기판을 제1 끼움 지지부와 제2 끼움 지지부로 끼움 지지한 상태를 나타내는 측면도.1 is a side view schematically showing an inspection apparatus for a circuit board according to a first embodiment of the present invention together with a circuit board to be inspected.
Fig. 2 is a plan view showing the circuit board shown in Fig. 1. Fig.
Figs. 3 (a) and 3 (b) are plan views showing the sensor substrate shown in Fig. 1. Fig.
Fig. 4 is a side view showing a state in which the circuit board shown in Fig. 1 is sandwiched between the first and second fit-in support portions; Fig.
5 (a) and 5 (b) are a plan view showing a first modification of the elastic member shown in Fig. 1 and a sectional view showing a second modification. Fig.
6 is a side view schematically showing an inspection apparatus for a circuit board according to a second embodiment of the present invention together with a circuit board to be inspected.
7 is a plan view showing the circuit board shown in Fig.
8 is a plan view showing the inspection probe support shown in Fig.
FIG. 9A is a sectional view showing the inspection probe shown in FIG. 6; FIG.
9 (b), 9 (c), 9 (d) and 9 (e) are side views showing a modification of the inspection probe shown in FIG. 9 (a).
Fig. 10 is a side view showing a state in which the circuit board shown in Fig. 6 is sandwiched between the first fit-in support portion and the second fit-in support portion; Fig.
11 is a side view schematically showing an inspection apparatus for a circuit board according to a third embodiment of the present invention together with a circuit board to be inspected.
Fig. 12 is a side view showing a state in which the circuit board shown in Fig. 11 is sandwiched between the first fitting portion and the second fitting portion; Fig.
[제1 실시 형태][First Embodiment]
이하, 도 1 내지 도 5의 (b)를 참조하여, 본 발명의 제1 실시 형태에 대해 설명한다. 도 1은, 회로 기판의 검사 장치(10)의 전체 구성을, 검사되는 회로 기판 FX1과 함께 모식적으로 나타내는 측면도이다. 도 2는, 회로 기판 FX1의 평면도이다. 도 3의 (a) 및 (b)는, 센서 기판(121)의 평면도이다. 도 4는, 회로 기판 FX1을 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)로 끼움 지지한 상태를 나타내는 측면도이다. 도 5의 (a) 및 (b)는, 탄성 부재(112)의 구성의 베리에이션을 나타내는 도면이다.Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 1 to 5 (b). 1 is a side view schematically showing the entire configuration of an
(회로 기판)(Circuit board)
도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 검사 장치(10)로 검사되는 회로 기판 FX1은, 기체 SB와, 복수의 피검사 전극 EL과, 복수의 배선 LD와, 복수의 입력 전극 EL'와, 보호 부재 CL1을 포함한다.1 and 2, the circuit board FX1 to be inspected by the
기체 SB는, 두께 수㎛ 내지 수백㎛의 절연성 박막이다. 기체 SB는, 절연성, 가요성, 내열성을 갖는 재료(예를 들어, 폴리이미드나 PET 등의 플라스틱)로 형성된다.The gas SB is an insulating thin film having a thickness of several micrometers to several hundreds of micrometers. The gas SB is formed of a material having insulation, flexibility, and heat resistance (for example, plastic such as polyimide or PET).
피검사 전극 EL, 배선 LD, 입력 전극 EL'(이하 이들을 「도체 패턴」이라고 총칭하는 경우가 있음)는, 회로 기판 FX1의 용도에 따라 적절히 패터닝이 실시된, 두께 수㎛ 내지 수백㎛의 도전성 박막이다. 피검사 전극 EL을 포함하는 도체 패턴은, 기체 SB에 설치된다. 도체 패턴은, 예를 들어 기체 SB의 하나의 면에, 에폭시 수지계나 아크릴 수지계의 접착제 등을 통해 접착되어 있다. 도체 패턴은, 예를 들어 구리박으로 형성된다.The electrodes to be inspected EL, the wiring LD and the input electrode EL '(hereinafter collectively referred to as " conductor pattern ") may be formed of a conductive thin film having a thickness of several micrometers to several hundreds of micrometers to be. The conductor pattern including the electrodes to be inspected EL is provided in the substrate SB. The conductor pattern is bonded to one surface of the base SB, for example, through an epoxy resin-based or acrylic resin-based adhesive. The conductor pattern is formed of, for example, copper foil.
도 2에 도시한 바와 같이, 피검사 전극 ELa, ELb, …, ELf는, 각각 배선 LDa, LDb, …LDf를 거쳐서, 입력 전극 ELa', ELb', …, ELf'에 전기적으로 접속되어 있다. 도 1에서는, 보기 쉽도록, 피검사 전극 ELa, 배선 LDa, 입력 전극 ELa'의 조합만을 나타내고 있다.As shown in Fig. 2, the electrodes to be inspected ELa, ELb, ... , ELf are the wirings LDa, LDb, ... Through the LDf, the input electrodes ELa ', ELb', ... , And ELf '. In Fig. 1, only the combination of the electrodes to be inspected ELa, the wiring LDa, and the input electrode ELa 'is shown for easy viewing.
도 1에 도시한 바와 같이, 보호 부재 CL1은, 피검사 전극 EL이 설치된 기체 SB의 면에 적층된다. 보호 부재 CL1은, 회로 기판 FX1의 피검사 전극 EL을, 땜납, 열, 습기 등으로부터 보호한다. 보호 부재 CL1은, 절연성을 갖는 재료로 형성된다. 바람직하게는, 보호 부재 CL1은, 가요성, 내열성을 갖는 재료로 형성된다. 보호 부재 CL1은, 예를 들어 폴리이미드나 PET 등의 플라스틱으로 형성된다. 보호 부재 CL1의 두께는, 수㎛ 내지 수백㎛이다.As shown in Fig. 1, the protective member CL1 is laminated on the surface of the substrate SB provided with the electrodes EL to be inspected. The protection member CL1 protects the electrodes EL to be inspected of the circuit board FX1 from solder, heat, moisture, and the like. The protection member CL1 is formed of a material having an insulating property. Preferably, the protection member CL1 is formed of a material having flexibility and heat resistance. The protection member CL1 is formed of, for example, polyimide or plastic such as PET. The thickness of the protective member CL1 is several 탆 to several hundred 탆.
도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 보호 부재 CL1은, 입력 전극 EL'의 상방을 제외하고, 회로 기판 FX1의 도체 패턴을 덮도록 형성된다. 입력 전극 EL'의 상방에는, 공극 G'가 형성되어 있다. 이에 의해, 후술하는 제2 끼움 지지부(120)의 신호 입력 수단(125)이, 입력 전극 EL'에 접촉할 수 있다.As shown in Figs. 1 and 2, the protection member CL1 is formed so as to cover the conductor pattern of the circuit board FX1 except for the upper side of the input electrode EL '. Above the input electrode EL ', a gap G' is formed. Thereby, the signal input means 125 of the second
(검사 장치)(Inspection apparatus)
도 1에 도시한 바와 같이, 검사 장치(10)는, 회로 기판 끼움 지지부(11)와, 시험 신호 발생부(12)와, 전기 신호 측정부(13)를 포함한다.1, the
회로 기판 끼움 지지부(11)는, 검사 지그(100)와, 구동 장치(130)를 포함한다. 시험 신호 발생부(12)는, 시험 신호 발생기(160)를 포함한다. 전기 신호 측정부(13)는, 신호 처리 회로(140)와, A/D 컨버터(150)와, 측정 수단(170)을 포함한다. 시험 신호 발생기(160)는, 측정 수단(170)에도 접속되어 있다. 이에 의해, 후술하는 바와 같이, 측정 수단(170)에 있어서, 시험 신호 발생과 전기 신호 측정을 통괄적으로 제어할 수 있다.The circuit board interposing
(검사 지그)(Inspection jig)
검사 지그(100)는, 제1 끼움 지지면(113)을 갖는 제1 끼움 지지부(110)와, 제2 끼움 지지면(124)을 갖는 제2 끼움 지지부(120)를 포함한다. 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)는, 제1 끼움 지지면(113)과 제2 끼움 지지면(124)이 대향하도록 배치된다. 구동 장치(130)에 의해, 제1 끼움 지지면(113)과 제2 끼움 지지면(124)이 서로 평행한 상태를 유지하면서, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)를 이동할 수 있다(이동 방향을, 도 1의 상하 방향 양 화살표로 나타냄). 이에 의해, 제1 끼움 지지면(113)과 제2 끼움 지지면(124)의 거리를 바꿀 수 있다.The
(제2 끼움 지지부)(Second fitting supporting portion)
제2 끼움 지지부(120)는, 센서 기판(121)과, 신호 입력 수단(125)을 포함한다. 센서 기판(121)에는, 복수의 센서 전극(검출 전극)(122)이 설치된다(도 1에는, 센서 전극(122a, 122b, 122c)만 나타냄). 센서 전극(122)은, 도체이다.The second
(신호 입력 수단)(Signal input means)
신호 입력 수단(125)은, 시험 신호 발생기(160)에 전기적으로 접속되어 있다. 신호 입력 수단(125)은, 예를 들어 복수의 와이어 프로브이다(도 1에서는, 보기 쉽도록, 하나의 와이어 프로브만 나타내었음). 복수의 와이어 프로브는, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120) 사이에 회로 기판 FX1을 배치했을 때, 입력 전극 ELa', ELb', …, ELf'의 각각의 상방에 위치하도록, 제2 끼움 지지부(120)에 설치된다.The signal input means 125 is electrically connected to the
복수의 와이어 프로브의 길이는, 보호 부재 CL1의 두께(공극 G'의 깊이)보다도 약간 길쭉하게 설정된다. 이에 의해, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)에서 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때(도 4 참조), 각 와이어 프로브가 탄성 변형하고, 각 와이어 프로브의 선단이 대응하는 입력 전극 ELa', ELb', …, ELf'를 가압한다. 이로 인해, 각 와이어 프로브와 대응하는 입력 전극 ELa', ELb', …, ELf' 사이에서 확실하게 전기적 접촉을 취할 수 있다. 그 결과, 시험 신호 발생기(160)에서 보낸 시험 신호를, 회로 기판 FX1의 입력 전극 ELa', ELb', …, ELf'에 입력할 수 있다.The length of the plurality of wire probes is set to be slightly longer than the thickness (depth of the gap G ') of the protective member CL1. As a result, when the circuit board FX1 is held between the first and second
(센서 기판)(Sensor substrate)
도 1에 도시한 바와 같이, 센서 기판(121)은, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120) 사이에 회로 기판 FX1을 배치했을 때, 피검사 전극 ELa, ELb, …, ELf를 상방으로부터 덮는 위치(파선 A로 나타내는 영역)에 설치된다.1, when the circuit board FX1 is disposed between the first and second
도 3의 (a)는, 센서 기판(121)을, 센서 전극(122)이 설치되어 있는 면의 측에서 본 평면도이다. 도 3의 (a)에 도시한 바와 같이, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120) 사이에 회로 기판 FX1을 배치했을 때, 센서 전극(122a, 122b, …, 122f)은, 피검사 전극 ELa, ELb, …, ELf에 대향하는 위치(파선 Aa, Ab, …, Af로 나타내는 영역)에, 각각 배치된다. 이에 의해, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)로 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때(도 4 참조), 피검사 전극 ELa, ELb, …, ELf와, 대응하는 센서 전극(122a, 122b, …, 122f)이, 서로 용량적으로 결합한다.3 (a) is a plan view of the
또한, 복수의 센서 전극(122)은, 서로 전자기적으로 차폐되어 있다. 예를 들어, 센서 전극(122)의 각각을 둘러싸는 형상의 실드 전극(123)이, 센서 기판(121)에 설치된다. 센서 기판(121)이 제2 끼움 지지부(120)에 설치되었을 때에, 실드 전극(123)은 접지된다(도 1 참조). 이러한 구성에 의해, 센서 전극(122)의 각각이, 인접하는 피검사 전극 EL(예를 들어, 센서 전극(122b)에 대한, 피검사 전극 ELa, ELc)과 용량적으로 결합하여 불필요한 전기 신호가 접속되는 것을 방지할 수 있다.Further, the plurality of
도 3의 (b)는, 센서 기판(121)을, 센서 전극(122)이 설치되어 있는 면의 반대측에서 본 평면도이다. 도 3의 (b)에 도시한 바와 같이, 센서 전극(122a, 122b, …, 122f)은, 배선에 의해 서로 전기적으로 접속된다. 전기적으로 접속된 복수의 센서 전극(122)은, 신호 처리 회로(140)와 전기적으로 접속된다. 이에 의해, 센서 전극(122)에서 검지된 전기 신호가, 신호 처리 회로(140)에 보내진다(또한, 도 1에서는, 보기 쉽도록, 센서 전극(122a)과 신호 처리 회로(140)의 전기적 접속만을 나타내고 있음).3B is a plan view of the
또한, 센서 전극(122)과 신호 처리 회로(140)의 배선은, 도 3의 (b)에 도시하는 바와 같이 모든 센서 전극(122)을 공통으로 접속하지 않아도 된다. 예를 들어, 센서 전극(122)을 몇개의 그룹으로 나누어(예를 들어, 122a, 122b, 122c의 그룹과, 122d, 122e, 122f의 그룹), 그룹마다 신호 처리 회로(140)에 배선해도 된다.3 (b), the
도 1로 되돌아와서, 센서 기판(121)을 제2 끼움 지지부(120)에 설치했을 때, 센서 전극(122)의 표면은, 제2 끼움 지지면(124)과 편평하게 된다. 이러한 구성에 의해, 비접촉식 검사를 행할 때에, 센서 전극(122)의 표면을 보호 부재 CL1의 표면에 접촉시킬 수 있다.Returning to Fig. 1, when the
(구동 장치)(drive)
구동 장치(130)는, 제1 끼움 지지부(110) 및 제2 끼움 지지부(120)를, 제1 끼움 지지면(113) 및 제2 끼움 지지면(124)과 직교하는 방향(도 1의 상하 방향 양 화살표로 나타내는 방향)으로 이동시킨다. 이에 의해, 서로 이격한 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120) 사이에 회로 기판 FX1을 배치하고, 그 후에, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)를 근접시켜, 회로 기판 FX1을 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)로 끼움 지지하고(도 4 참조), 이 상태에서 비접촉식 검사를 행하고, 그 후에, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)를 다시 이격시켜, 검사가 종료된 회로 기판 FX1을 회수할 수 있다.The
(시험 신호 발생기)(Test signal generator)
도 1로 되돌아와서, 시험 신호 발생기(160)는, 측정 수단(170)으로부터의 지시를 수신하여, 시험 신호를 생성하고, 신호 입력 수단(125)에 송신한다. 시험 신호는, 예를 들어 일정 주기의 펄스 신호이다.Returning to Fig. 1, the
(신호 처리 회로)(Signal processing circuit)
신호 처리 회로(140)는, 센서 전극(122)으로 검지된 전기 신호를 수신하고, 증폭 등의 신호 처리를 실시하여, A/D 컨버터(150)에 송신한다. 신호 처리 회로(140)는, 예를 들어 OP 증폭기 등으로 형성되는 아날로그 신호 증폭 회로를 포함한다.The
(A/D 컨버터)(A / D converter)
A/D 컨버터(150)는, 신호 처리 회로(140)가 처리한 전기 신호를 측정 수단(170)이 취득할 수 있도록, 전처리를 행한다. 즉, A/D 컨버터(150)는, 신호 처리 회로(140)로 처리된 아날로그 신호를 수신하고, 디지털 신호로 변환하여, 측정 수단(170)에 송신한다.The A /
(측정 수단)(Measuring means)
측정 수단(170)은, 컴퓨터 시스템을 포함하여 형성된다. 컴퓨터 시스템은, CPU 등의 연산 처리 장치와, 메모리나 하드 디스크 등의 기억부를 포함한다. 측정 수단(170)은, 컴퓨터 시스템의 외부의 장치와의 통신을 실행 가능한 인터페이스를 포함한다. 측정 수단(170)은, 검사 장치(10)를 구성하는 각종 장치의 동작을, 통괄적으로 제어한다.The measuring means 170 is formed including a computer system. The computer system includes an arithmetic processing unit such as a CPU and a storage unit such as a memory or a hard disk. The measuring means 170 includes an interface capable of communicating with a device external to the computer system. The measuring means 170 collectively controls the operation of various devices constituting the
측정 수단(170)은, 시험 신호 발생기(160)에, 발생하는 시험 신호의 파형 및 타이밍을 지시함과 함께, A/D 컨버터(150)로 디지털 변환된 전기 신호를 취득한다.The measuring means 170 instructs the
(제1 끼움 지지부)(First fitting supporting portion)
제1 끼움 지지부(110)는, 지지대(111)와, 탄성 부재(전극간 거리 조정부) (112)를 포함한다. 제1 끼움 지지부(110)는, 제1 끼움 지지면(113)을 갖는다.The first
(탄성 부재)(Elastic member)
탄성 부재(112)는, 탄성을 갖는 재료로 형성되는, 시트 형상의 부재이다. 탄성 부재(112)의 사이즈는, 센서 기판(121)의 사이즈와 동등하거나, 이것보다 크다. 탄성 부재(112)의 두께는, 바람직하게는, 지지대(111)의 상면의 요철 및 센서 기판(121)의 하면의 요철을 합한 최대 스트로크 이상으로 탄성 변형할 수 있는 두께, 예를 들어 2㎜ 이상이다.The
탄성 부재(112)는, 제2 끼움 지지면(124)과 대향하도록, 제1 끼움 지지부(110)에 설치된다. 제1 끼움 지지면(113) 내에서 탄성 부재(112)가 설치되는 영역은, 센서 기판(121)과 대향하는 영역, 즉, 제1 끼움 지지면(113)을 상방에서 보았을 때, 적어도 도 2의 영역 A를 포함하는 영역으로 한다.The
탄성 부재(112)는, 그 표면이 제1 끼움 지지면(113)에서 약간 돌출되도록, 지지대(111)에 설치된다. 돌출하는 높이는, 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때, 탄성 부재(112)의 표면이 제1 끼움 지지면(113)과 같은 면으로 되는 높이로 한다. 이에 의해, 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때, 지지대(111)의 상면의 요철을 탄성 부재(112)에 의해 흡수할 수 있다.The
탄성을 갖는 재료로서는, 예를 들어 천연 고무나 합성 고무 등의 엘라스토머나, 발포 우레탄 등의 발포 플라스틱을 사용할 수 있다. 엘라스토머로서는, 예를 들어 스티렌부타디엔 고무, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 클로로프렌 고무, 아크릴로니트릴 부타디엔 고무, 부틸 고무, 에틸렌프로필렌 고무, 우레탄 고무, 불소 고무 등, 다양한 재료를 사용할 수 있다.As the material having elasticity, for example, an elastomer such as natural rubber or synthetic rubber, or a foamed plastic such as foamed urethane can be used. As the elastomer, various materials such as styrene butadiene rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, chloroprene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, butyl rubber, ethylene propylene rubber, urethane rubber and fluorine rubber can be used.
종래, 제1 끼움 지지부(110)로서, 평탄한 끼움 지지면을 갖는, 금속 또는 수지 재료로 형성되는 지지대(111)가 사용되고 있었다. 그러나, 지지대(111)의 끼움 지지면을 평탄화하기 위해, 표면에 연마 등의 가공을 실시했다고 해도, 두께 방향 수십㎛ 정도의 요철이 국소적으로 발생하는 것은 피할 수 없었다.Conventionally, a
특히 회로 기판 FX1이 플렉시블 기판인 경우, 회로 기판 FX1을 지지대(111)와 제2 끼움 지지부(120)로 끼움 지지하면, 회로 기판 FX1은 지지대(111)의 끼움 지지면에 밀착된다. 그 결과, 끼움 지지면의 오목부(볼록부)의 바로 위에 있는 보호 부재 CL1의 상면에도, 국소적으로 오목부(볼록부)가 발생한다.Particularly, when the circuit board FX1 is a flexible board, if the circuit board FX1 is supported by the
그 결과, 보호 부재 CL1의 상면에서 오목부가 발생한 위치에서는, 센서 기판(121)의 표면과 보호 부재 CL1 사이에, 공기층(에어 갭)이 형성될 우려가 있다. 회로 기판 FX1의 보호 부재 CL1의 두께는 수㎛ 내지 수백㎛이기 때문에, 지지대(111)의 끼움 지지면의 오목부의 바로 위에 있어서의 피검사 전극 EL과 센서 전극(122) 사이의 평균적인 유전율은, 다른 위치에 비해 낮아진다. 그 결과, 지지대(111)의 끼움 지지면의 오목부의 바로 위에 있어서의 센서 전극(122)에서 검지되는 전기 신호는, 다른 위치에 비해 작아진다. 또한, 회로 기판 FX1의 요철이나, 센서 기판(121)의 표면의 요철에 의해서도, 동일하게 공기층(에어 갭)이 형성될 우려가 있다.As a result, there is a fear that an air layer (air gap) is formed between the surface of the
본 실시 형태의 검사 지그(100)를 사용한 검사 장치(10)에 의하면, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)에서 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때, 센서 전극(122)의 각각과, 대응되는 피검사 전극 EL의 거리가, 센서 기판(121)의 가압에 의해 자동으로 조정된다.According to the
그 결과, 상술한 지지대(111)의 요철이나, 회로 기판 FX1의 요철, 센서 기판(121)의 표면의 요철(이하 이들을 「지지대(111) 등의 요철」이라고 총칭하는 경우가 있음)이 발생하는 경우에서도, 센서 전극(122)을 보호 부재 CL1과 밀착시킬 수 있으므로, 검사 값의 정밀도나 반복 안정성의 감소를 억제할 수 있다.As a result, the irregularities of the
보다 구체적으로는, 본 실시 형태의 검사 지그(100)를 사용한 검사 장치(10)에 의하면, 회로 기판 FX1에 센서 기판(121)을 압박했을 때, 센서 기판(121)의 가압에 의해 탄성 부재(112)가 탄성 변형된다. 이로 인해, 지지대(111) 등의 요철이, 탄성 부재(112)에 의해 흡수된다. 이에 의해, 회로 기판 FX1이 지지대(111) 등의 요철에 추종하여 구부러지는 것을 억제할 수 있으므로, 보호 부재 CL1의 상면이 평탄하게 유지된다. 그 결과, 센서 전극(122)을 보호 부재 CL1과 밀착시킬 수 있으므로, 검사 값의 정밀도나 반복 안정성의 감소를 억제할 수 있다.More specifically, according to the
또한, 본 실시 형태에서는, 도 5의 (a) 및 (b)에 도시한 바와 같이, 복수의 상이한 재료로 탄성 부재(112)를 형성해도 된다. 따라서, 이하에 설명하는 바와 같이, 센서 전극(122)과 보호 부재 CL1을 보다 밀착시키는 것이 가능해진다.In this embodiment, as shown in Figs. 5A and 5B, the
예를 들어, 도 5의 (a)에 도시한 바와 같이, 탄성 부재(112)는, 면 내의 영역에 따라 상이한 재료로 형성되어도 된다. 구체적으로는, 탄성 부재(112)에 있어서, 피검사 전극 ELa, ELb, …, ELf가 배치되는 위치 Aa, Ab, …, Af에 대응하는 영역(바로 아래의 영역)에는, 상대적으로 높은 탄성률의 재료로 형성되는 제1 부재(112b)가, 그것 이외의 영역에는, 상대적으로 낮은 탄성률의 재료로 형성되는 제2 부재(112a)가, 각각 설치되어도 된다.For example, as shown in Fig. 5A, the
제2 끼움 지지부(120)의 구성이나 구동 장치(130)의 기구에 따라서는, 센서 기판(121)의 면 내의 위치에 의존한 압력 분포가 발생할 수 있다. 이 압력 분포는, 센서 기판(121) 및 탄성 부재(112)가, 어느 정도 넓은 면적을 갖는 경우, 보다 현저해진다. 이 경우, 센서 기판(121)에 의해 탄성 부재(112)를 가압했을 때, 탄성 부재(112)의 면 내의 위치에 의존하여 수축의 정도가 달라지게 된다. 그 결과, 탄성 부재(112)에 의해 제1 끼움 지지면(113)의 국소적인 요철을 흡수하였다고 해도, 탄성 부재(112)의 수축 불균일성에 의해, 포괄적인 변형이 발생하는 경우가 있을 수 있다. 이 경우도, 정전 용량의 저하나 정전 용량의 불안정화, 나아가서는, 검사 값의 정밀도나 반복 안정성의 감소가 발생할 수 있다.Depending on the configuration of the second
도 5의 (a)에 나타내는 구성에 의하면, 상대적으로 높은 탄성률의 재료로 형성되는 제1 부재(112b)가, 피검사 전극 EL이 배치되는 위치에 대응하는 영역에 한정하여 배치된다. 이에 의해, 상대적으로 높은 탄성률을 갖는 재료의 면적이 작아지기 때문에, 센서 기판(121)에 의해 탄성 부재(112)를 가압했을 때에 발생하는, 상술한 포괄적인 변형을 감소시킬 수 있다. 그 결과, 피검사 전극 EL의 바로 위에 있어서 보호 부재 CL1과 센서 전극(122)이, 보다 밀착되도록 할 수 있다.According to the configuration shown in Fig. 5A, the
또한, 도 5의 (a)에 나타내는 예에서는, 각각의 센서 전극마다 제1 부재(112b)를 설치했지만, 예를 들어 센서 전극(122)을 몇개의 그룹으로 나누어(예를 들어, 122a, 122b, 122c의 그룹과, 122d, 122e, 122f의 그룹), 그룹마다 제1 부재(112b)를 설치해도 된다.Although the
또한, 예를 들어 도 5의 (b)에 도시한 바와 같이, 탄성 부재(112)는, 두께 방향으로 상이한 재료로 형성되어도 된다. 구체적으로는, 상대적으로 탄성률이 높은 재료로 형성되는 제1 층(112c)과, 상대적으로 탄성률이 낮은 재료로 형성되는 제2 층(112d)을, 포함하고 있어도 된다. 탄성 부재(112)를 제1 끼움 지지부(110)에 설치할 때는, 제2 층(112d)을 제1 끼움 지지부(110) 측을 향해, 제1 층(112c)이 회로 기판 FX1에 접촉하도록 한다.5 (b), for example, the
도 5의 (b)에 나타내는 구성에 의하면, 회로 기판 FX1에 접촉하는 층을 상대적으로 탄성률이 높은 재료로 형성되는 제1 층(112c)으로 함으로써, 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때, 회로 기판 FX1의 요철을 흡수할 수 있다. 동시에, 제1 끼움 지지부(110) 측의 층을 상대적으로 탄성률이 낮은 재료로 형성되는 제2 층(112d)으로 함으로써, 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때, 회로 기판 FX1 전체의 제1 끼움 지지면(113)에 대한 기울기를 흡수할 수 있다.According to the configuration shown in FIG. 5B, the
또한, 본 실시 형태에서는, 신호 입력 수단(125)은, 제2 끼움 지지부(120)에 설치되어 있었지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 신호 입력 수단(125)은, 제1 끼움 지지부(110)에 설치되어도 된다. 이러한 구성에 의해, 입력 전극 EL'가 피검사 기판 EL과 기체 SB의 반대측의 면(도 1에서는, 하측의 면)에 설치되어 있는 경우에도, 입력 전극 EL'에 시험 신호를 입력하여 비접촉식 검사를 행할 수 있다.In the present embodiment, the signal input means 125 is provided in the second
또한, 본 실시 형태에서는, 신호 입력 수단(125)은, 입력 전극 EL'에 접촉하는 와이어 프로브로 했지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 신호 입력 수단(125)은, 센서 전극(122)과 마찬가지로, 입력 전극 EL'에 대향하는 전극으로 해도 된다. 이러한 구성에 의해, 입력 전극 EL'가 보호 부재 CL1로 덮여 있는 경우에도, 입력 전극 EL'와 용량적으로 결합한 신호 입력 수단(125)으로부터 비접촉식으로 시험 신호를 송신함으로써, 피검사 전극 EL과 용량적으로 결합한 센서 전극(122)으로 비접촉식으로 전기 신호를 검지할 수 있다.In the present embodiment, the signal input means 125 is a wire probe which contacts the input electrode EL ', but the present invention is not limited to this configuration. For example, the signal input means 125 may be an electrode opposing the input electrode EL ', like the
또한, 본 실시 형태에서는, 신호 입력 수단(125)은, 복수의 입력 전극 EL'의 각각에 대응하여 설치된 복수의 와이어 프로브로 했지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 신호 입력 수단(125)은, 제2 끼움 지지부(120)로 이동 가능하게 설치되고, 측정 수단(170)에 의해 제어 가능한, 단일의 와이어 프로브로 해도 된다. 이에 의해, 도체 패턴의 형상(복수의 입력 전극 EL'의 배치)에 따라 신호 입력 수단(125)을 구성하는 부재를 변경할 필요가 없어진다.In the present embodiment, the signal input means 125 is a plurality of wire probes provided corresponding to each of the plurality of input electrodes EL ', but the present invention is not limited to this configuration. For example, the signal input means 125 may be a single wire probe that is movably installed in the second
또한, 본 실시 형태에서는, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)와의 양쪽이 이동 가능한 구성으로 했지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 제1 끼움 지지부(110)가 고정되어 제2 끼움 지지부(120)가 이동 가능한 구성, 또는 제2 끼움 지지부(120)가 고정되어 제1 끼움 지지부(110)가 이동 가능한 구성으로 해도 된다. 이에 의해, 가동부가 적어지므로, 장치의 제조 비용이나 유지 보수 비용을 감소할 수 있다.In the present embodiment, both of the first
또한, 본 실시 형태에서는, 구동 장치(130)는, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)를, 제1 끼움 지지면(113) 및 제2 끼움 지지면(124)과 직교하는 방향으로 이동시키는 구성으로 했지만, 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)를, 제1 끼움 지지면(113) 및 제2 끼움 지지면(124)과 평행한 방향으로 상대적으로 이동시키는 것이 가능한, 위치 결정 수단을 포함하는 구성으로 해도 된다. 이에 의해, 회로 기판 FX1의 피검사 전극 EL의 바로 위에 대응하는 센서 전극(122)이 배치되도록, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)를 위치 결정할 수 있으므로, 보다 정확한 측정을 행할 수 있다.In this embodiment, the driving
또한, 본 실시 형태에서는, 회로 기판 FX1의 하측에 탄성 부재(112)가, 회로 기판 FX1의 상측에 센서 전극(122)이 배치되어 있었지만(도 1 참조), 이 구성에 한정되지 않는다. 예를 들어, 회로 기판 FX1의 상측에 탄성 부재(112)가, 회로 기판 FX1의 하측에 센서 전극(122)이 배치되어 있어도 된다. 회로 기판 FX1의 하나의 영역에서는, 회로 기판 FX1의 하측에 탄성 부재(112)가, 회로 기판 FX1의 상측에 센서 전극(122)이 배치되고, 회로 기판 FX1의 다른 영역에서는, 회로 기판 FX1의 상측에 탄성 부재(112)가, 회로 기판 FX1의 하측에 센서 전극(122)이 배치되어 있어도 된다. 이에 의해, 회로 기판 FX1의 피검사 전극 EL이, 입력 전극 EL'와 다른 측에 설치되어 있는 경우에도, 비접촉 검사를 행할 수 있다. 또한, 예를 들어 회로 기판 FX1의 표면과 피검사 전극 EL 사이에 배선 등의 장해물이 있기 때문에, 회로 기판 FX1의 표면측에 센서 전극(122)을 배치하면 정확한 검사를 할 수 없는 경우에도, 회로 기판 FX1의 이면측에 센서 전극(122)을 배치하여 비접촉 검사를 행할 수 있다.In the present embodiment, the
(검사 방법)(method of inspection)
이하, 본 실시 형태의 검사 장치(10)를 사용한 회로 기판의 검사 방법에 대해 설명한다. 검사 장치(10)를 이용한 회로 기판의 검사 방법은, 배치 스텝과, 끼움 지지 스텝과, 신호 입력 스텝과, 신호 처리 스텝과, 측정 스텝을 포함한다.Hereinafter, a method of inspecting a circuit board using the
(배치 스텝)(Batch step)
배치 스텝에서는, 서로 이격된 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120) 사이에 회로 기판 FX1을 배치한다. 검사 장치(10)가 상술한 위치 결정 수단을 포함하는 경우에는, 필요에 따라, 피검사 전극 EL의 바로 위에 대응하는 센서 전극(122)이 배치되도록, 제1 끼움 지지부(110)나 제2 끼움 지지부(120)의 위치를 조정한다.In the arranging step, the circuit board FX1 is disposed between the first and second
(끼움 지지 스텝)(Fitting step)
끼움 지지 스텝에서는, 구동 장치(130)를 사용하여 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)를 이동시키고, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(120)로 회로 기판 FX1을 끼움 지지한다. 이 때, 신호 입력 수단(125)은 공극 G'에 함입하여, 입력 전극 EL'에 접촉한다. 또한, 센서 전극(122)의 각각은, 대응하는 피검사 전극 EL과 용량적으로 결합한다.In the fitting step, the first and second
끼움 지지 스텝에 있어서는, 센서 전극(122)의 각각과, 대응하는 피검사 전극 EL의 거리가, 센서 기판(121)의 가압에 의해 자동으로 조정된다. 그 결과, 센서 전극(122)을 보호 부재 CL1과 밀착시킬 수 있다.In the fitting step, the distance between each of the
보다 구체적으로는, 회로 기판 FX1에 센서 기판(121)을 압박했을 때, 센서 기판(121)의 가압에 의해 탄성 부재(112)가 탄성 변형된다. 이로 인해, 지지대(111) 등의 요철이 탄성 부재(112)에 의해 흡수된다. 이에 의해, 회로 기판 FX1이 지지대(111) 등의 요철에 추종하여 구부러지는 것을 억제할 수 있으므로, 보호 부재 CL1의 상면이 평탄하게 유지된다. 그 결과, 센서 전극(122)이 보호 부재 CL1과 밀착한다.More specifically, when the
탄성 부재(112)가 복수의 상이한 재료로 형성되는 경우에는, 센서 전극(122)과 보호 부재 CL1을 보다 밀착시키는 것이 가능해진다.When the
예를 들어, 탄성 부재(112)가 면 내의 영역에 따라 상이한 재료로 형성되어 있는 경우는(도 5의 (a) 참조), 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때, 피검사 전극 EL이 배치되는 위치에 대응하는 영역 외에서는, 탄성 부재(112)의 탄성 변형이 억제된다. 이로 인해, 포괄적인 변형의 발생을 억제할 수 있으므로, 센서 전극(122)과 보호 부재 CL1과의 밀착을 높일 수 있다.For example, when the
또한 예를 들어, 탄성 부재(112)가 두께 방향으로 상이한 재료로 형성되어 있는 경우는(도 5의 (b) 참조), 회로 기판 FX1을 끼움 지지했을 때, 상대적으로 탄성률이 높은 재료로 형성되는 제1 층(112c)에 의해 회로 기판 FX1의 요철을 흡수함과 함께, 상대적으로 탄성률이 낮은 재료로 형성되는 제2 층(112d)에 의해 회로 기판 FX1 전체의 제1 끼움 지지면(113)에 대한 기울기를 흡수할 수 있다.Further, when the
(신호 입력 스텝)(Signal input step)
측정 수단(170)은 시험 신호 발생기(160)에, 시험 신호의 파형이나 타이밍을 지시한다.The measuring means 170 indicates to the
시험 신호 발생기(160)는, 시험 신호를 생성하여 신호 입력 수단(125)에 송신하고, 입력 전극 EL'에 시험 신호를 입력한다. 시험 신호의 입력에 의해, 피검사 전극 EL과 센서 전극(122)으로 형성되는 콘덴서에서 축전되어, 센서 전극(122)의 전압이 변화한다.The
(신호 처리 스텝)(Signal processing step)
센서 전극(122)에서 전압으로 검지되는 전기 신호를 신호 처리 회로(140)로 수신하고, 증폭 등의 신호 처리를 실시한다. 신호 처리에서 얻어진 전기 신호를, A/D 컨버터(150)에 송신한다. A/D 컨버터(150)는, 신호 처리에서 얻어진 전기 신호를 측정 수단(170)이 취득할 수 있도록 하기 위하여, 전처리(디지털 변환)를 행한다.The
(측정 스텝)(Measurement step)
측정 수단(170)은, A/D 컨버터(150)가 전처리한 전기 신호를 취득한다. 시험 신호 발생기(160)에 지시한 시험 신호의 파형과 타이밍의 데이터와 함께, 취득된 전기 신호의 데이터를 해석함으로써, 검사를 행한 피검사 전극 EL과 입력 전극 EL'의 사이에 있어서의 단선의 유무를 검사할 수 있다.The measuring means 170 acquires an electric signal that has been preprocessed by the A /
본 실시 형태에 따른 검사 방법에서는, 센서 전극(122)의 각각과, 대응하는 피검사 전극 EL의 거리가, 센서 기판(121)의 가압에 의해 자동으로 조정된다. 그 결과, 센서 전극(122)을 보호 부재 CL1과 밀착시킬 수 있기 때문에, 비접촉 검사에 서의 검사 값의 정밀도나 반복 안정성의 저감을 억제할 수 있다.In the inspection method according to the present embodiment, the distance between each of the
[제2 실시 형태][Second Embodiment]
이하, 도 6 내지 도 10을 참조하여, 본 발명의 제2 실시 형태에 대해 설명한다. 이하, 제1 실시 형태와 공통된 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고, 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 6 to 10. Fig. Hereinafter, the same elements as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.
도 6은, 회로 기판의 검사 장치(20)의 전체 구성을, 검사되는 회로 기판 FX2와 함께 모식적으로 나타내는 측면도이다. 도 7은, 회로 기판 FX2의 평면도이다. 도 8은, 검사 프로브 지지부(221)의 평면도이다. 도 9의 (a)는, 검사 프로브의 단면도이며, 도 9의 (b) 내지 (e)는, 검사 프로브의 베리에이션을 나타내는 측면도이다. 도 10은, 회로 기판 FX2를 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(220)로 끼움 지지한 상태를 나타내는 측면도이다. 도 6, 도 10에 있어서, 제1 실시 형태와 공통된 구성 요소인 구동 장치(130), 신호 처리 회로(140), A/D 컨버터(150), 시험 신호 발생기(160) 및 측정 수단(170)은, 도시를 생략하였다.6 is a side view schematically showing the entire configuration of the
본 실시 형태에 있어서 제1 실시 형태와 상이한 점은, 검사되는 회로 기판 FX2의 보호 부재 CL2가, 피검사 전극 EL의 근방에서 얇게 형성되어 있는 점 및 이 점에 대응하여, 제2 끼움 지지부(220)가 검사 프로브(222)를 포함하는 점이다. 따라서 이하에서는, 보호 부재 CL2의 구성 및 검사 프로브(222)의 구성을 중심으로 설명한다.The second embodiment differs from the first embodiment in that the protective member CL2 of the circuit board FX2 to be inspected is thinly formed in the vicinity of the electrodes EL to be inspected and corresponding to this point, ) Includes an
(회로 기판)(Circuit board)
도 6 및 도 7에 도시한 바와 같이, 검사 장치(20)로 검사되는 회로 기판 FX2는, 기체 SB와, 복수의 피검사 전극 EL과, 복수의 배선 LD와, 복수의 입력 전극 EL'와, 보호 부재 CL2를 포함한다.6 and 7, the circuit board FX2 inspected by the
(보호 부재)(Protective member)
보호 부재 CL2는, 기체 SB의 위에 적층된 제1 보호층 CL21과, 제1 보호층 CL21 위에 적층된 제2 보호층 CL22를 포함한다.The protective member CL2 includes a first protective layer CL21 laminated on the substrate SB and a second protective layer CL22 laminated on the first protective layer CL21.
제1 보호층 CL21은, 보호 부재 CL2의 기저를 이루고, 피검사 전극 EL이나 배선 LD를 땜납, 열, 습기 등에서 보호함과 함께, 제2 보호층 CL22를 지지한다. 제1 보호층 CL21은, 예를 들어 폴리이미드로 형성된다. 제1 보호층 CL21의 두께는, 수㎛ 내지 수백㎛이다. 제2 보호층 CL22는, 예를 들어 폴리이미드, PET 등의 플라스틱으로 형성된다. 제2 보호층 CL22의 두께는, 수㎛ 내지 수백㎛이다. 또한, 제2 보호층 CL22는, 다른 배선 레이어나 실드 재료로 형성되어도 된다.The first protection layer CL21 forms the base of the protection member CL2 and protects the electrodes EL and the wiring LD to be inspected by soldering, heat, moisture and the like, and supports the second protection layer CL22. The first protective layer CL21 is formed of, for example, polyimide. The thickness of the first protective layer CL21 is several 탆 to several hundred 탆. The second protective layer CL22 is formed of, for example, plastic such as polyimide or PET. The thickness of the second protective layer CL22 is several 탆 to several hundred 탆. The second protective layer CL22 may be formed of another wiring layer or a shielding material.
제1 보호층 CL21 및 제2의 보호층 CL22는, 입력 전극 EL' 근방에서는 제거되어 있다. 이에 의해, 입력 전극 EL'를 저면에 갖는 공극 G'가 형성되고, 신호 입력 수단(225)이 입력 전극 EL'에 접촉할 수 있다. 또한, 신호 입력 수단(225)의 구성은, 제1 실시 형태에 있어서의 신호 입력 수단(125)과 동일해도 된다.The first protection layer CL21 and the second protection layer CL22 are removed in the vicinity of the input electrode EL '. Thereby, a gap G 'having the input electrode EL' on the bottom face is formed, and the signal input means 225 can make contact with the input electrode EL '. The configuration of the signal input means 225 may be the same as that of the signal input means 125 in the first embodiment.
피검사 전극 EL의 근방에서는, 제2 보호층 CL22만이 제거되어 있고, 제1 보호층 CL21만이 피검사 전극 EL을 덮고 있다. 그 결과, 피검사 전극 EL(ELa, ELb, …, ELf)의 상부에는, 제1 보호층 CL21의 상면을 저면으로 하는 공극 G(Ga, Gb, …, Gf)가 형성된다. G의 깊이는, 제2 보호층 CL22의 두께와 동등하게, 수㎛ 내지 수백㎛이다.In the vicinity of the inspected electrode EL, only the second protective layer CL22 is removed, and only the first protective layer CL21 covers the electrodes EL to be inspected. As a result, voids G (Ga, Gb, ..., Gf) having the top surface of the first protective layer CL21 as the bottom surface are formed on the top of the electrodes ELa, ELb, ..., ELf to be inspected. The depth of G is several 탆 to several hundred 탆, which is equal to the thickness of the second protective layer CL22.
(제2 끼움 지지부)(Second fitting supporting portion)
본 실시 형태에 따른 검사 지그(200)는, 제1 끼움 지지부(110)와, 제2 끼움 지지부(220)를 포함한다. 도 6 및 도 10에 도시한 바와 같이, 제2 끼움 지지부(220)에는, 복수의 검사 프로브(전극간 거리 조정부)(222) 및 신호 입력 수단(225)이 설치된다. 복수의 검사 프로브(222)의 선단(검출 전극)(223)(도 9의 (a) 참조)은, 제2 끼움 지지부(220)의 제2 끼움 지지면(224)에서 돌출한다. 검사 프로브(222)는, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(220) 사이에 회로 기판 FX2이 배치되었을 때 피검사 전극 EL과 대향하도록, 제2 끼움 지지부(220)에 설치된다.The
(검사 프로브)(Inspection probe)
검사 프로브(222)의 선단(223)은, 제2 끼움 지지면(224)에 대략 직행하는 방향으로 왕복 이동 가능하다. 이에 의해, 검사 프로브(222)가 일정한 스트로크를 갖기 때문에, 공극 G의 깊이에 따라, 검사 프로브(222)의 선단(223)을, 제1 보호층 CL21에 밀착시킬 수 있다. 그 결과, 비접촉 검사에 있어서의 검사 값의 정밀도나 반복 안정성의 저감을 억제할 수 있다.The
검사 프로브(222)의 선단(223)은, 예를 들어 스프링(가압 부재)(2222)으로 가압된 프로브 핀(2223)이다. 도 9의 (a)에 도시한 바와 같이, 검사 프로브(222)는, 예를 들어 스프링(2222)으로 가압된 한 쌍의 프로브 핀(2223, 2224)이, 원통 형상의 하우징(2221)에 장착된 구성을 갖는다. 이에 의해, 검사 프로브(222)가 상하 방향으로 압력을 받았을 때, 스프링(2222)이 줄어들어 한 쌍의 프로브 핀(2223, 2224)이 서로 접근한다. 스프링(2222) 및 한 쌍의 프로브 핀(2223, 2224)은, 도전성 재료(예를 들어 금속)로 형성된다. 이에 의해, 한쪽 프로브 핀(2223)과 다른 쪽 프로브 핀(2224)이, 스프링(2222)을 사이에 두고 전기적으로 접속되어 있다.The
프로브 핀(2223)의 단면 직경은, 수십㎛ 내지 수백㎛이다. 도 9의 (b) 내지 (e)에 도시한 바와 같이, 프로브 핀(2223)은, 다양한 형상을 취할 수 있다. 프로브 핀(2223)은, 스프링(2222)으로 가압되어 있기 때문에, 제1 보호층 CL21을 가압한다. 즉, 검사 프로브(222)의 프로브 핀(2223)(첨단 223)의 각각과, 대응하는 비검사 전극 EL의 거리가, 스프링(가압 부재)(2222)의 가압력에 의해 자동으로 조정된다. 그 결과, 프로브 핀(2223)(첨단 223)이 제1 보호층 CL21에 확실하게 밀착할 수 있다.The cross-sectional diameter of the
평행 평판 콘덴서의 정전 용량이, 전극의 면적에 비례하는 것을 감안하면, 프로브 핀(2223)과 피검사 전극 EL으로 형성되는 콘덴서의 정전 용량을 크게 하기 위해서는, 프로브 핀(2223)의 선단의 바닥 면적을 최대한 넓게 하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 도 9의 (b)와 같이, 프로브 핀(2223)을 원기둥 형상으로 형성하는 것을 생각할 수 있다(이 경우, 프로브 핀(2223)의 코너부가 보호 부재 CL2에 흠집을 입히지 않도록, 평탄성을 손상시키지 않을 정도로 모따기를 행하는 것이 바람직하다).The capacitance of the parallel flat plate capacitor is proportional to the area of the electrode. In order to increase the capacitance of the capacitor formed by the
일반적으로, 피검사 전극 EL의 면적은, 프로브 핀(2223)의 단면 직경과 동일한 정도이기 때문에, 도 9의 (b)의 구성이 최적의 구성이다. 무엇보다, 더 넓은 면적의 피검사 전극 EL을, 하나의 프로브 핀(2223)으로 검사하는 것이라면, 예를 들어 도 9의 (c)와 같이, 프로브 핀(2223)을 피스톤 형상으로 해서, 피검사 전극 EL에 대향하는 면적을 보다 확장하는 것도 생각할 수 있다.In general, the area of the inspecting electrode EL is approximately equal to the cross-sectional diameter of the
도 9의 (d)의 라운드 형상이나, 도 9의 (e)의 니들 형상이어도, 어느 정도는 피검사 전극과 용량적으로 결합하기 때문에, 비접촉 검사에 사용하는 것은 가능하다. 무엇보다, 코너부가 보호 부재 CL2에 흠집을 입히지 않도록 하기 위해서는, 도 9의 (e)보다도 도 9의 (d)의 형상의 쪽이 바람직하다.9 (d) or the needle shape shown in Fig. 9 (e) can be used for noncontact inspection because they are capacitively coupled to the electrodes to be inspected to some extent. In order to prevent the corner portion from damaging the protective member CL2, the shape of FIG. 9 (d) is preferable to the shape of FIG. 9 (e).
또한, 프로브 핀(2224)에는, 후술하는 바와 같이, 신호 처리 회로(140)에 접속되는 와이어가 배선된다. 이로 인해, 프로브 핀(2224)의 형상은, 니들 형상이어도 상관없다.A wire connected to the
도 6 및 도 10으로 되돌아와서, 검사 프로브(222)는 제2 끼움 지지부(220)의 하측에 설치된 검사 프로브 지지부(221)에 의해 지지된다. 검사 프로브 지지부(221)는, 예를 들어 플라스틱 등의 절연체로 형성된 판상의 부재이며, 검사 프로브(222)가 판 두께 방향으로 가로지르도록 장착되어 있다.Referring back to Figs. 6 and 10, the
검사 프로브(222a, 222b, …, 222f)가 검사 프로브 지지부(221)에서 돌출되는 길이는, 피검사 전극 ELa, ELb, …, ELf의 상방에 형성된 공극 Ga, Gb, …, Gf의 깊이보다도 약간 길게 설정하고, 검사 프로브(222)의 스트로크를 공극 G의 깊이에 대응하는 길이로 한다. 이에 의해, 제1 끼움 지지면(113)과 제2 끼움 지지면(224)으로 회로 기판 FX2를 끼움 지지했을 때, 도 10에 도시한 바와 같이, 검사 프로브(222)의 선단(223)이, 제1 보호층 CL21을 거쳐서 피검사 전극 EL과 용량적으로 결합한다. 그 결과, 비접촉으로 전기 신호를 검지할 수 있다.The lengths of the inspection probes 222a, 222b, ..., 222f protruding from the inspection
도 8에 도시한 바와 같이, 검사 프로브 지지부(221)를 평면에서 보았을 때, 검사 프로브 지지부(221)에 설치된 검사 프로브(222a, 222b, …, 222f)는, 제1 끼움 지지부(110)와 제2 끼움 지지부(220) 사이에 배치된 회로 기판 FX2의 피검사 전극 ELa, ELb, …, ELf의 위치하는 영역 Aa, Ab, …, Af에, 각각 포함되게 배치되어 있다.The inspection probes 222a, 222b, ..., and 222f provided on the inspection
또한, 인접하는 검사 프로브(222) 사이의 거리가 짧은 경우에는, 검사 프로브(222)가, 인접하는 피검사 전극 EL과도 용량적으로 결합하여, 불필요한 전기 신호에 접속될 우려가 있다. 이것을 방지하기 위해, 복수의 검사 프로브(222)는, 서로 전자기적으로 차폐되어 있다. 예를 들어, 검사 프로브(222)의 각각을 둘러싸는 형상의 실드 전극(226)이, 검사 프로브 지지부(221)에 설치된다. 검사 프로브 지지부(221)가 제2 끼움 지지부(220)에 설치되었을 때에, 실드 전극(226)은 접지된다(도 6 참조).When the distance between adjacent inspection probes 222 is short, there is a possibility that the
도 6에 도시한 바와 같이, 검사 프로브 지지부(221)에 설치된 검사 프로브(222)의, 회로 기판 FX2와 반대측의 프로브 핀(2224)에는, 와이어가 배선된다. 와이어는, 신호 처리 회로(140)에 접속된다. 이에 의해, 프로브 핀(2223)(첨단(223))에서 검출된 전기 신호가, 검사 프로브(222) 내부의 스프링(2222), 프로브 핀(2224)을 경유하여, 신호 처리 회로(140)에 송신된다.As shown in Fig. 6, wires are wired in the
또한, 프로브 핀(2224)과 신호 처리 회로(140)의 배선은, 모든 프로브 핀(2224)을 공통으로 접속하지 않아도 된다. 예를 들어, 프로브 핀(2224)을 몇개의 그룹으로 나누고, 그룹마다 신호 처리 회로(140)에 배선해도 된다.The probe pins 2224 and the wiring of the
또한, 프로브 핀(2224)을 신호 처리 회로(140)에 접속하는 구성은, 상기한 것에 제한되지 않는다. 예를 들어, 검사 프로브(222)를 설치한 검사 프로브 지지부(221)를 제2 끼움 지지부(220)에 설치했을 때, 프로브 핀(2224)이 돌출되는 위치에, 신호 처리 회로(140)에 접속된 보조 전극을 배치해도 된다. 이에 의해, 검사 프로브 지지부(221)를 제2 끼움 지지부(220)에 설치했을 때, 스프링(2222)으로 가압된 프로브 핀(2224)이 보조 전극을 가압하기 위하여, 검사 프로브(222)의 각각과 대응하는 보조 전극 사이에서 확실하게 전기적 접촉을 취할 수 있다.The configuration for connecting the
본 실시 형태의 검사 지그(200)를 사용한 검사 장치(20)에 의하면, 피검사 전극 EL의 상방에 형성된 공극 G에 삽입 가능하게 설치된 검사 프로브(222)의 선단(223)(프로브 핀(2223))을 검출 전극으로 사용하기 위하여, 검출 전극을 제1 보호층 CL21에 밀착시켜 피검사 전극과 용량적으로 결합시킬 수 있다. 그 결과, 회로 기판 FX2를 지그로 끼움 지지했을 때, 검출 전극과 피검사 전극 EL 사이에 공기층(공극 G)이 존재하기 때문에, 양 전극간의 정전 용량이 감소되고, 검사 값의 정밀도가 저하되는 것을 방지할 수 있다.According to the
본 실시 형태의 검사 지그(200)를 사용한 검사 장치(20)에 의하면, 제1 실시 형태의 센서 전극(122)의 근방에 있어서, 탄성 부재(112)로 추종할 수 없는 단차가 있는 경우, 즉, 탄성 부재(112)만으로는 센서 전극(122)을 보호 부재와 밀착시킬 수 없는 경우에도, 프로브 핀(검출 전극)(2223)을 제1 보호층 CL21과 밀착시킬 수 있다. 따라서, 비접촉 검사에 있어서의 검사 값의 정밀도나 반복 안정성의 저감을 억제할 수 있다.According to the
또한, 본 실시 형태에서는, 피검사 전극을, 하나의 프로브 핀으로 검사하고 있었지만, 이 구성에 제한되지 않는다. 예를 들어, 넓은 면적의 전극에 대해서는, 당해 면적 내에 복수의 프로브 핀이 배치되도록, 검사 프로브(222)를 검사 프로브 지지부(221)로 지지한다. 또한, 이 검사 프로브(222)끼리 전기적으로 접속한다. 이 구성에 의해, 넓은 면적의 전극으로 검지된 전기 신호를, 이 프로브 핀으로 검지된 전기 신호와 함께 신호 처리 회로(140)에 송신할 수 있다. 또한, 동일한 프로브 핀(예를 들어, 도 9의 (b)의 형상)을, 전극의 면적에 맞춰서 개수를 바꾸어서 배치하기 때문에, 전극의 면적마다 상이한 형상의 프로브 핀(예를 들어, 도 9의 (c))을 제작할 필요가 없어진다. 그 결과, 검사 장치의 제작 비용이나 유지 보수 비용을 감소시킬 수 있다.In the present embodiment, the electrodes to be inspected are inspected by one probe pin, but the present invention is not limited to this configuration. For example, for a large-area electrode, the
[제3 실시 형태][Third embodiment]
이하, 도 11 및 도 12를 참조하여, 본 발명의 제3 실시 형태에 대해 설명한다. 이하, 제1, 제2 실시 형태와 공통된 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고, 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 11 and 12. Fig. Hereinafter, elements common to those of the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals, and a detailed description thereof will be omitted.
도 11은, 회로 기판의 검사 장치(30)의 전체 구성을, 검사되는 회로 기판 FX2와 함께 모식적으로 나타내는 측면도이다. 도 12는, 회로 기판 FX2를 제1 끼움 지지부(310)와 제2 끼움 지지부(220)로 끼움 지지한 상태를 나타내는 측면도이다. 도 11 및 도 12에 있어서, 제1 실시 형태와 공통된 구성 요소인 구동 장치(130), 신호 처리 회로(140), A/D 컨버터(150), 시험 신호 발생기(160) 및 측정 수단(170)은, 도시를 생략하였다.11 is a side view schematically showing the entire configuration of the
비접촉 검사는, 고온 환경 하(예를 들어, 50 내지 150℃)에서 행해지는 경우가 있다. 이 경우, 제1 끼움 지지부에, 엘라스토머로 형성되는 탄성 부재가 설치되어 있다고 하면, 탄성 부재나, 탄성 부재를 제1 끼움 지지부에 고정하는 접착제가 용융하여, 검사 지그가 손상될 우려가 있다.The noncontact inspection may be performed under a high temperature environment (for example, 50 to 150 DEG C). In this case, if an elastic member formed of an elastomer is provided on the first fitting supporting portion, there is a possibility that the elastic member and the adhesive for fixing the elastic member to the first fitting supporting portion are melted and the inspection jig is damaged.
본 실시 형태에 따른 검사 지그(300)는, 제1 끼움 지지부(310)와, 제2 끼움 지지부(220)를 포함한다. 제1 끼움 지지부(310)에는, 탄성 부재는 사용되지 않는다. 제1 끼움 지지부(310)는, 예를 들어 상면을 평탄화한 금속제의 지지대이다. 이 경우, 제1 실시 형태에서 설명한 대로, 제1 끼움 지지부(310)의 상면에 수십㎛정도의 요철이 발생하는 경우가 있다. 그러나, 요철의 유무에 관계 없이, 제2 끼움 지지부(220)에 설치된 검사 프로브는, 제2 끼움 지지부(220)를 회로 기판 FX2에 압박했을 때(도 12 참조), 적절히 프로브 핀을 신장시켜, 대응하는 피검사 전극의 바로 위의 보호 부재에 밀착할 수 있다. 따라서, 비접촉 검사에 있어서의 검사 값의 정밀도나 반복 안정성의 저감을 억제할 수 있다.The
본 실시 형태에 따른 검사 지그(300)를 사용한 검사 장치(30)에 의하면, 회로 기판 FX2를 고온 환경 하에서 검사하는 경우에, 탄성 부재를 사용하지 않고, 검사 프로브만으로 센서 전극을 보호 부재와 밀착시킬 수 있다. 이 경우, 가열의 열원을 제1 끼움 지지부(310)에 근접시키는 것 뿐만 아니라 제2 끼움 지지부(220)에 근접시켜도 되므로, 가열 효율이 양호하고, 또한 용이하게 온도 제어할 수 있다.According to the
이상, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 관한 바람직한 실시 형태예에 대해 설명했지만, 본 발명은 이러한 예에 한정되지 않는 것은 물론이다. 상술한 예에 있어서 나타낸 각 구성 부재의 제형상이나 조합 등은 일례이며, 본 발명의 주 요지로부터 일탈하지 않는 범위에서 설계 요구 등에 기초하여 다양한 변경이 가능하다.While the preferred embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, it goes without saying that the present invention is not limited to these examples. The configurations and combinations of the constituent members shown in the above-described examples are merely examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.
CL1, CL2: 보호 부재
EL(ELa, ELb, …, ELf): 피검사 전극
FX1, FX2: 회로 기판
SB: 기체
10, 20, 30: 검사 장치
11: 회로 기판 끼움 지지부
12: 시험 신호 발생부
13: 전기 신호 측정부
100, 200, 300: 검사 지그
110: 제1 끼움 지지부
112: 탄성 부재(전극간 거리 조정부)
112a: 제2 부재
112b: 제1 부재
112c: 제1 층
112d: 제2 층
113: 제1 끼움 지지면
120, 220: 제2 끼움 지지부
122, 122a, 122b, …, 122f): 센서 전극(검출 전극)
124, 224: 제2 끼움 지지면
222: 검사 프로브(전극간 거리 조정부)
223: 첨단(검출 전극)
2222: 스프링(가압 부재)
2223: 프로브 핀CL1, CL2: Protection member
EL (ELa, ELb, ..., ELf): ELF
FX1, FX2: Circuit board
SB: Gas
10, 20, 30: Inspection device
11: circuit board interposer
12: Test signal generator
13: Electrical signal measuring unit
100, 200, 300: inspection jig
110: first fitting support
112: elastic member (distance between electrodes)
112a: second member
112b: first member
112c: first layer
112d: second layer
113: first fitting surface
120, 220: a second fitting support
122, 122a, 122b, ... , 122f: sensor electrode (detection electrode)
124, 224: second fitting surface
222: Inspection probe (distance between electrodes)
223: tip (detection electrode)
2222: spring (pressing member)
2223: probe pin
Claims (15)
제1 끼움 지지면을 갖는 제1 끼움 지지부와,
상기 제1 끼움 지지면과 대향 배치된 제2 끼움 지지면을 갖고, 상기 제2 끼움 지지면에 검출 전극이 설치된 제2 끼움 지지부를 포함하고,
상기 피검사 전극과 상기 검출 전극이 대향하도록 상기 제1 끼움 지지부와 상기 제2 끼움 지지부가 상기 회로 기판을 끼움 지지했을 때, 상기 검출 전극이 상기 보호 부재와 밀착되도록 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리를 조정하는 전극간 거리 조정부가, 상기 제1 끼움 지지부 및 상기 제2 끼움 지지부 중 적어도 한쪽에 설치되어 있고,
상기 전극간 거리 조정부는 다른 탄성율을 갖도록 복수의 상이한 재료로 형성되는 탄성 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는, 비접촉식 검사 지그.1. A non-contact type inspection jig for inserting a circuit board on which an insulated protective member is laminated on a surface of a base provided with a to-be-inspected electrode on a base body,
A first fitting support portion having a first fitting surface,
And a second fitting support portion having a second fitting face disposed opposite to the first fitting face and provided with a detection electrode on the second fitting face,
And the detection electrode is brought into close contact with the protective member when the circuit board is sandwiched between the first and second fitting portions so that the electrodes to be inspected and the detection electrode face each other, An electrode-to-electrode distance adjusting unit for adjusting a distance between the first and the second fitting supporting units is provided on at least one of the first fitting supporting portion and the second fitting supporting portion,
Wherein the inter-electrode distance adjusting section includes an elastic member formed of a plurality of different materials so as to have different elastic moduli.
상기 회로 기판이 끼움 지지되었을 때 상기 피검사 전극이 배치되는 위치에 대응하는 상기 탄성 부재의 영역에는 상대적으로 탄성률이 높은 제1 부재가, 그 이외의 상기 탄성 부재의 영역에는 상대적으로 탄성률이 낮은 제2 부재가 각각 설치되는, 비접촉식 검사 지그.The method according to claim 1,
A first member having a relatively high elastic modulus is provided in a region of the elastic member corresponding to a position where the electrodes to be inspected are disposed when the circuit board is fitted and supported; And two members are provided, respectively.
상기 탄성 부재는, 상대적으로 탄성률이 높은 제1 층과, 상대적으로 탄성률이 낮은 제2 층을 포함하는, 비접촉식 검사 지그.The method according to claim 1,
Wherein the elastic member includes a first layer having a relatively high elastic modulus and a second layer having a relatively low elastic modulus.
상기 전극간 거리 조정부는, 상기 제2 끼움 지지부에 설치된 검사 프로브를 포함하고,
상기 검출 전극은, 상기 검사 프로브의 선단을 포함하고,
상기 검사 프로브의 선단은, 상기 제2 끼움 지지면으로부터 돌출되고, 상기 제2 끼움 지지면에 대략 직교하는 방향으로 왕복 이동 가능한, 비접촉식 검사 지그.The method according to claim 1,
Wherein the inter-electrode distance adjusting section includes an inspection probe provided in the second fitting support section,
Wherein the detection electrode includes a tip of the inspection probe,
Wherein the tip of the inspection probe is protruded from the second fitting surface and is reciprocable in a direction substantially perpendicular to the second fitting surface.
상기 검사 프로브의 선단은, 가압 부재로 가압된 프로브 핀인, 비접촉식 검사 지그.5. The method of claim 4,
Wherein a tip of the inspection probe is a probe pin pressed by a pressing member.
상기 피검사 전극에 입력하는 시험 신호를 생성하는 시험 신호 발생부와,
상기 검출 전극에서 검출된 전기 신호를 측정하는 전기 신호 측정부를 포함하는, 검사 장치.A circuit board interposer supporting unit including the non-contact type inspection jig according to any one of claims 1 to 5,
A test signal generator for generating a test signal to be input to the electrodes to be inspected;
And an electric signal measuring unit for measuring an electric signal detected by said detecting electrode.
상기 피검사 전극에 시험 신호를 입력하는 신호 입력 스텝과,
상기 보호 부재를 개재하여 상기 피검사 전극에 대향 배치된 검출 전극에서 검출된 전기 신호를 측정하는 측정 스텝을 포함하고,
상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 검출 전극이 상기 보호 부재와 밀착되도록 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리가 조정되고,
상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 다른 탄성율을 갖도록 복수의 상이한 재료로 형성되는 탄성 부재가 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리를 조정하는 것을 특징으로 하는, 비접촉식 검사 방법.A circuit board in which an inspected electrode is provided on a base body and an insulating protective member is laminated on a surface of the base provided with the electrodes to be inspected is provided with a first interposing supporting portion having a first interposing supporting surface, And a second fitting support portion provided with a detection electrode on the second fitting support face, the fitting projection having a second fitting face disposed to be opposed to the second fitting face,
A signal input step of inputting a test signal to the electrodes to be inspected;
And a measuring step of measuring an electric signal detected by a detection electrode disposed opposite to the electrode to be inspected through the protection member,
The distance between the detection electrode and the electrode to be inspected is adjusted so that the detection electrode is brought into close contact with the protective member in the fitting step,
Characterized in that, in the fitting step, an elastic member formed of a plurality of different materials so as to have different elastic modulus adjusts the distance between the detection electrode and the electrode to be inspected.
상기 회로 기판이 끼움 지지되었을 때 상기 피검사 전극이 배치되는 위치에 대응하는 상기 탄성 부재의 영역에는 상대적으로 탄성률이 높은 제1 부재가, 그 이외의 상기 탄성 부재의 영역에는 상대적으로 탄성률이 낮은 제2 부재가 각각 설치됨으로써, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 회로 기판이 끼움 지지되었을 때 상기 피검사 전극이 배치되는 위치에 대응하는 영역 외에서는, 상기 탄성 부재의 탄성 변형이 억제되는, 비접촉식 검사 방법.8. The method of claim 7,
A first member having a relatively high elastic modulus is provided in a region of the elastic member corresponding to a position where the electrodes to be inspected are disposed when the circuit board is fitted and supported; The elastic deformation of the elastic member is suppressed in a region other than the region corresponding to the position where the electrodes to be inspected are arranged when the circuit board is fitted in the fitting step, .
상기 탄성 부재가 상대적으로 탄성률이 높은 제1 층과 상대적으로 탄성률이 낮은 제2 층을 포함함으로써, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 제1 층에서 상기 회로 기판의 요철이 흡수되고, 상기 제2 층에서 상기 회로 기판의 상기 제2 끼움 지지면에 대한 기울기가 흡수되는, 비접촉식 검사 방법.8. The method of claim 7,
Wherein the elastic member includes a first layer having a relatively high modulus of elasticity and a second layer having a relatively low modulus of elasticity so that irregularities of the circuit board are absorbed in the first layer in the fitting step, Wherein the inclination of the circuit board with respect to the second fitting surface is absorbed.
상기 제2 끼움 지지부에 설치된 검사 프로브의 선단을 상기 검출 전극으로서 사용하고, 상기 검사 프로브의 선단이, 상기 제2 끼움 지지면으로부터 돌출되고, 상기 제2 끼움 지지면에 대략 직교하는 방향으로 왕복 이동 가능함으로써, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리가 조정되는, 비접촉식 검사 방법.8. The method of claim 7,
Wherein a tip end of an inspection probe provided on the second fitting support portion is used as the detection electrode and a tip end of the inspection probe protrudes from the second fitting supporting surface and is reciprocated in a direction substantially perpendicular to the second fitting supporting surface Whereby the distance between the detection electrode and the electrode to be inspected is adjusted in the fitting step.
상기 검사 프로브의 선단이, 가압 부재로 가압된 프로브 핀인 것에 의해, 상기 끼움 지지 스텝에 있어서, 상기 검출 전극과 상기 피검사 전극의 거리가 조정되는, 비접촉식 검사 방법.11. The method of claim 10,
Wherein a distance between the detecting electrode and the electrode to be inspected is adjusted in the fitting step by the tip of the inspection probe being a probe pin pressed by the pressing member.
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