KR101927939B1 - Substrate treating apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 기판 상의 이물을 세정하는 세정 챔버; 상기 기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액을 회수하여 재생하는 재생 유닛을 포함하고, 상기 재생 유닛은, 상기 세정 챔버에서 회수된 상기 혼합액을 분리하는 분리 유닛; 상기 분리 유닛과 상기 세정 챔버를 연결하며, 상기 혼합액이 상기 분리 유닛으로 유입되도록 하는 회수라인; 일측이 상기 분리 유닛과 연결되고, 상기 분리 유닛에서 증발된 혼합액이 배기되는 감압라인; 일측이 상기 분리 유닛에 연결되어, 상기 분리 유닛에서 분리된 상기 제 1 약액이 배출되는 제 1 배출라인을 포함하고, 상기 분리 유닛은, 내부 공간이 형성되는 제 1 하우징; 및 상기 내부 공간에 제공되어 상기 내부 공간을 상부 공간과 하부 공간으로 나누는 여과부재를 포함한다.The present invention relates to a substrate processing apparatus. A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a cleaning chamber for cleaning foreign matters on a substrate; And a regeneration unit for recovering and regenerating a mixed liquid containing the first chemical liquid and the second chemical liquid used for cleaning the substrate, wherein the regeneration unit comprises: a separation unit for separating the mixed liquid recovered in the cleaning chamber; A recovery line connecting the separation unit and the cleaning chamber to allow the mixed liquid to flow into the separation unit; A decompression line to which one side is connected to the separation unit and the mixed liquid which is evaporated in the separation unit is exhausted; And a first discharge line, one side of which is connected to the separating unit and through which the first chemical liquid separated from the separating unit is discharged, the separating unit comprising: a first housing in which an internal space is formed; And a filtering member provided in the inner space and dividing the inner space into an upper space and a lower space.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE TREATING APPARATUS}[0001] SUBSTRATE TREATING APPARATUS [0002]

본 발명은 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 세정에 사용된 약액을 재생하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate, and more particularly, to a substrate processing apparatus for regenerating a chemical liquid used for cleaning a substrate.

반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착등의 다양한 공정들이 수행된다. 각각의 공정에서 생성된 오염물 및 파티클을 제거하기 위해 공정이 진행되기 전 또는 후 단계에서 기판을 세정하는 세정공정이 실시된다.In order to manufacture semiconductor devices or liquid crystal displays, various processes such as photolithography, etching, ashing, ion implantation, and thin film deposition are performed on the substrate. A cleaning process is performed to clean the substrate before or after the process is performed to remove contaminants and particles generated in each process.

일반적으로 세정공정으로는 기판 상에 약액을 공급하여 기판을 세정 처리한다. 약액은 기판 상에 부착된 이물을 제거한 후 외부로 배출되어 버려진다. 또는, 사용된 약액은 끓는 점의 차이를 이용하여 분리한 후 재생된다. 종래에는 사용된 약액을 대기압에서 가열하여 분리하였다. 따라서, 약액이 끓는점에 도달하도록 하기 위해 약액을 고온으로 가열하여야 하므로, 약액의 재생에 소비되는 에너지가 커서, 효율이 떨어지는 문제점이 있었다. Generally, in a cleaning step, a chemical liquid is supplied onto a substrate to clean the substrate. The chemical liquid is discharged to the outside after being removed from the substrate. Alternatively, the used chemical liquid is recovered after being separated using a difference in boiling point. Conventionally, the used chemical liquid was separated by heating at atmospheric pressure. Therefore, since the chemical liquid must be heated to a high temperature in order to reach the boiling point of the chemical liquid, there is a problem that the energy consumed in regeneration of the chemical liquid is large and the efficiency is low.

본 발명은 기판의 세정에 사용된 약액을 재생하는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a substrate processing apparatus for regenerating a chemical liquid used for cleaning a substrate.

또한, 본 발명은 약액의 재생에 소요되는 시간이 단축되는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention also provides a substrate processing apparatus that shortens the time required for regeneration of a chemical liquid.

또한, 본 발명은 약액의 재생에 소요되는 비용이 절감되는 기판 처리 장치를 제공하기 위한 것이다.The present invention also provides a substrate processing apparatus that reduces the cost required for regeneration of a chemical liquid.

본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는, 기판 상의 이물을 세정하는 세정 챔버; 상기 기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액을 회수하여 재생하는 재생 유닛을 포함하고, 상기 재생 유닛은, 상기 세정 챔버에서 회수된 상기 혼합액을 분리하는 분리 유닛; 상기 분리 유닛과 상기 세정 챔버를 연결하며, 상기 혼합액이 상기 분리 유닛으로 유입되도록 하는 회수라인; 일측이 상기 분리 유닛과 연결되고, 상기 분리 유닛에서 증발된 혼합액이 배기되는 감압라인; 일측이 상기 분리 유닛에 연결되어, 상기 분리 유닛에서 분리된 상기 제 1 약액이 배출되는 제 1 배출라인을 포함하고, 상기 분리 유닛은, 내부 공간이 형성되는 제 1 하우징; 및 상기 내부 공간에 제공되어 상기 내부 공간을 상부 공간과 하부 공간으로 나누는 여과부재를 포함한다.A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes: a cleaning chamber for cleaning foreign matters on a substrate; And a regeneration unit for recovering and regenerating a mixed liquid containing the first chemical liquid and the second chemical liquid used for cleaning the substrate, wherein the regeneration unit comprises: a separation unit for separating the mixed liquid recovered in the cleaning chamber; A recovery line connecting the separation unit and the cleaning chamber to allow the mixed liquid to flow into the separation unit; A decompression line to which one side is connected to the separation unit and the mixed liquid which is evaporated in the separation unit is exhausted; And a first discharge line, one side of which is connected to the separating unit and through which the first chemical liquid separated from the separating unit is discharged, the separating unit comprising: a first housing in which an internal space is formed; And a filtering member provided in the inner space and dividing the inner space into an upper space and a lower space.

본 발명에 의하면, 기판의 세정에 사용된 약액을 재생할 수 있다.According to the present invention, the chemical liquid used for cleaning the substrate can be regenerated.

또한, 본 발명에 의하면, 기판의 세정에 사용된 약액을 재생하는데 소요되는 시간이 단축될 수 있다.Further, according to the present invention, the time required for regenerating the chemical liquid used for cleaning the substrate can be shortened.

또한, 본 발명에 의하면, 기판의 세정에 사용된 약액을 재생하는데 소요되는 비용이 절감될 수 있다.Further, according to the present invention, the cost required for regenerating the chemical liquid used for cleaning the substrate can be reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성도이다.
도 2는 제 2 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성도이다.
도 3은 재생유닛의 구성을 나타낸 도면이다.
도 4는 일 실시 예에 따른 분리유닛의 구성을 보여주는 도면이다.
도 5는 다른 실시 예에 따른 분리유닛의 구성을 보여주는 도면이다.
도 6은 또 다른 실시 예에 따른 분리유닛의 구성을 보여주는 도면이다.
도 7은 응축기의 구성을 보여주는 도면이다.
도 8은 다른 실시 예에 따른 예비 가열유닛의 구성을 보여주는 도면이다.1 is a configuration diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a configuration diagram of a substrate processing apparatus according to the second embodiment.
3 is a diagram showing a configuration of a reproducing unit.
4 is a view showing a configuration of a separation unit according to an embodiment.
5 is a view showing a configuration of a separation unit according to another embodiment.
6 is a view showing a configuration of a separation unit according to another embodiment.
7 is a view showing a configuration of a condenser.
8 is a view showing a configuration of a preheating unit according to another embodiment.

이하 이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면, 도 1 내지 도 7을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings and FIGS. 1 to 7. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Thus, the shape of the elements in the figures has been exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1 은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성도이다.1 is a configuration diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 세정챔버(2), 재생유닛(3) 그리고 약액공급유닛(6)을 포함한다.Referring to Fig. 1, the substrate processing apparatus 1 includes a cleaning chamber 2, a regeneration unit 3, and a chemical liquid supply unit 6.

약액공급유닛(6)은 공급라인(7)으로 세정챔버(2)에 연결된다. 약액공급유닛(6)은 공급라인(7)을 통해서 세정챔버(2)로 혼합액을 공급한다. 혼합액은 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함한다. 제 1 약액은 황산, 암모니아 또는 질산 중 하나일 수 있다. 제 2 약액은 과산화수소일 수 있다. 이하에서는, 혼합액은 제 1 약액이 황산이고, 제 2 약액이 과산화수소인 경우를 예로 들어 설명한다.The chemical liquid supply unit 6 is connected to the cleaning chamber 2 by a supply line 7. The chemical liquid supply unit 6 supplies the mixed liquid to the cleaning chamber 2 through the supply line 7. The mixed liquid includes the first chemical liquid and the second chemical liquid. The first chemical liquid may be one of sulfuric acid, ammonia or nitric acid. The second chemical liquid may be hydrogen peroxide. Hereinafter, the mixed liquid will be described by taking as an example the case where the first chemical liquid is sulfuric acid and the second chemical liquid is hydrogen peroxide.

세정챔버(2)는 약액공급유닛(6)에서 혼합액을 공급받아 기판을 세정한다. 기판의 세정에 사용된 혼합액은 회수되어 재생유닛(3)으로 공급된다. 혼합액에 포함된 과산화수소의 일부는 세정챔버(2)에 공급되는 과정 및 기판의 세정에 사용된 후 회수되는 과정에서 물이 된다. 따라서, 재생유닛(3)으로 공급되는 혼합액에는 황산, 과산화수소 또는 물이 포함된다.The cleaning chamber 2 receives the mixed liquid from the chemical liquid supply unit 6 and cleans the substrate. The mixed liquid used for washing the substrate is recovered and supplied to the regeneration unit 3. [ Part of the hydrogen peroxide contained in the mixed solution becomes water in the process of being supplied to the cleaning chamber 2 and in the process of being recovered after being used for cleaning of the substrate. Therefore, the mixed liquid supplied to the regeneration unit 3 includes sulfuric acid, hydrogen peroxide, or water.

재생유닛(3)은 회수된 혼합액에서 황산을 분리한다. 재생유닛(3)은 혼합액에서 황산이 설정 순도를 가지도록 분리한 후 약액공급유닛(6)으로 공급한다.The regeneration unit 3 separates sulfuric acid from the recovered mixed liquor. The regeneration unit 3 separates sulfuric acid in the mixture liquid so as to have a set purity, and then supplies it to the chemical liquid supply unit 6.

약액공급유닛(6)은 재생유닛(3)에서 공급받은 황산을 공급라인(7)을 통해서 세정챔버(2)에 공급한다.The chemical liquid supply unit 6 supplies the sulfuric acid supplied from the regeneration unit 3 to the cleaning chamber 2 through the supply line 7.

도 2는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성도이다.2 is a configuration diagram of a substrate processing apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 재생유닛(3)은 세정챔버(2)에 바로 황산을 공급할 수 있다. 따라서, 황산은 약액공급유닛(6)에서 세정챔버(2)로 공급되거나, 재생유닛(3)에서 세정챔버(2)로 공급될 수 있다.Referring to FIG. 2, the regeneration unit 3 can supply sulfuric acid directly to the cleaning chamber 2. The sulfuric acid can be supplied to the cleaning chamber 2 from the chemical liquid supply unit 6 or supplied to the cleaning chamber 2 from the regeneration unit 3. [

도 3은 재생유닛의 구성을 나타낸 도면이다.3 is a diagram showing a configuration of a reproducing unit.

도 3을 참조하면, 재생유닛(3)은 분리유닛(30), 감압유닛(40), 그리고 예비가열유닛(50) 을 포함한다.Referring to Fig. 3, the regeneration unit 3 includes a separation unit 30, a decompression unit 40, and a preheating unit 50.

분리유닛(30)은 회수라인(700), 감압라인(710), 그리고 제 1 배출라인(720)의 일측과 각각 연결된다. 회수라인(700)의 타측은 세정챔버(2)와 연결된다. 따라서, 세정챔버(2)에서 기판의 세정에 사용된 혼합액은 회수라인(700)을 통해서 분리유닛(30)으로 유입된다. 분리유닛(30)은 설정량의 혼합액이 내부로 유입되면, 혼합액을 가열한다. 혼합액의 가열을 계속하면, 혼합액에 포함된 과산화수소 및 물이 증발된다. 또한, 혼합액에 포함된 황산의 일부도 흄으로 증발된다.The separation unit 30 is connected to one side of the recovery line 700, the decompression line 710, and the first discharge line 720, respectively. The other side of the recovery line 700 is connected to the cleaning chamber 2. Therefore, the mixed liquid used for cleaning the substrate in the cleaning chamber 2 is introduced into the separation unit 30 through the recovery line 700. [ The separation unit 30 heats the mixed liquid when the mixed liquid of the predetermined amount flows into the inside. When the heating of the mixed liquid is continued, hydrogen peroxide and water contained in the mixed liquid are evaporated. In addition, some of the sulfuric acid contained in the mixture is also evaporated into fumes.

감압유닛(40)은 감압라인(710)에 설치된다. 감압유닛(40)은 감압라인(710)을 통해서 분리유닛(30)에 흡입압력을 제공한다. 따라서, 분리유닛(30) 내부에 있는 기체 및 증발된 혼합액은 감압라인(710)을 통해서 배기되고, 분리유닛(30) 내부의 압력은 떨어진다. 분리유닛(30) 내부의 압력이 떨어지면, 혼합액의 끓는 점이 낮아진다. 일 예로 감압유닛(40)은 분리유닛(30) 내부의 압력이 0.005~0.025bar로 형성되도록 압력을 제공하고, 분리유닛(30)은 혼합액을 150~170℃로 가열한다.The decompression unit (40) is installed in the decompression line (710). The depressurization unit 40 provides suction pressure to the separation unit 30 via the depressurization line 710. Therefore, the gas and the evaporated mixed liquid inside the separation unit 30 are exhausted through the pressure reduction line 710, and the pressure inside the separation unit 30 drops. When the pressure inside the separation unit 30 is lowered, the boiling point of the mixture liquid is lowered. For example, the decompression unit 40 provides a pressure such that the pressure inside the separation unit 30 is formed to be 0.005 to 0.025 bar, and the separation unit 30 heats the mixture to 150 to 170 ° C.

그리고, 감압라인(710)에는 분리유닛(30)과 감압유닛(40)사이에 후술할 응축기(43)가 설치된다.A condenser 43, which will be described later, is provided between the separation unit 30 and the decompression unit 40 in the decompression line 710.

제 1 배출라인(720)에는 배출밸브(721), 그리고 배출펌프(722)가 설치된다. 혼합액을 가열하는 동안 배출밸브(721)는 혼합액이 제 1 배출라인(720)으로 유동하는 것을 차단한다. 또한, 분리유닛(30)에서 설정량의 혼합액으로부터 황산을 분리하는 동안, 혼합액은 추가적으로 분리유닛(30)에 유입되지 않는다. 혼합액은 가열되는 과정에서, 과산화 수소 및 물이 주로 증발된다. 따라서, 혼합액의 가열 과 증발된 혼합액의 배출을 계속하면, 혼합액에 포함된 황산의 순도가 증가된다. 분리유닛(30)에 남아있는 황산의 순도가 설정 순도가 되면, 배출밸브(721)는 개방되고, 배출펌프(722)가 동작하여, 황산은 제 1 배출라인(720)으로 배출된다.The first discharge line 720 is provided with a discharge valve 721 and a discharge pump 722. The discharge valve 721 blocks the mixed liquid from flowing to the first discharge line 720 while heating the mixed liquid. Further, while separating the sulfuric acid from the mixed liquid at the predetermined amount in the separating unit 30, the mixed liquid is not further introduced into the separating unit 30. [ During the heating process of the mixture liquid, hydrogen peroxide and water are mainly evaporated. Therefore, when heating of the mixed liquid and discharge of the evaporated mixed liquid are continued, the purity of the sulfuric acid contained in the mixed liquid is increased. When the purity of the sulfuric acid remaining in the separation unit 30 becomes a set purity, the discharge valve 721 is opened, the discharge pump 722 is operated, and the sulfuric acid is discharged to the first discharge line 720.

예비가열유닛(50)은 회수라인(700)에 설치된다. 예비가열유닛(50)은 하우징(501) 및 히터(502)를 포함한다. 하우징(501)은 예비가열유닛(50)의 외관을 형성하면서, 설정량의 혼합액을 저장하는 공간을 제공한다. 히터(502)는 하우징(501)에 저장된 혼합액을 가열한다. The preheating unit 50 is installed in the recovery line 700. The preliminary heating unit 50 includes a housing 501 and a heater 502. The housing 501 forms the appearance of the preliminary heating unit 50, and provides a space for storing a set amount of mixed liquid. The heater 502 heats the mixed liquid stored in the housing 501.

분리유닛(30)에서 혼합액에 포함된 황산을 분리하는 동안, 회수라인(700)을 통해서 추가적으로 공급되는 혼합액은 하우징(501)에 저장되면서, 히터(502)로 가열된다. 분리유닛(30)에서 분리된 황산이 제 1 배출라인(720)을 통해서 배출되면, 하우징(501)에 저장된 혼합액 또는 세정챔버(2)로부터 공급되는 혼합액이 분리유닛(30)으로 공급된다. 따라서, 예비가열유닛(50)이 설치되면, 분리유닛(30)으로 공급되는 혼합액의 온도는 상승하게 되어, 혼합액이 증발온도까지 도달하는데 소요되는 시간이 감소된다.During the separation of the sulfuric acid contained in the mixed liquid in the separation unit 30, the mixed liquid, which is additionally supplied through the recovery line 700, is heated by the heater 502 while being stored in the housing 501. When the sulfuric acid separated in the separation unit 30 is discharged through the first discharge line 720, the mixed liquid stored in the housing 501 or the mixed liquid supplied from the cleaning chamber 2 is supplied to the separation unit 30. Therefore, when the preliminary heating unit 50 is installed, the temperature of the mixed liquid supplied to the separation unit 30 is increased, and the time required for the mixed liquid to reach the evaporation temperature is reduced.

예비가열 유닛(50)과 분리유닛(30)을 연결하는 회수라인(700)에는 순환라인(730)이 분기되고, 순환라인(730)의 다른 한 쪽은 예비가열 유닛(50)에 연결된다. 회수라인(700)에서 순환라인(730)이 분기되는 곳에는 제 1 삼방밸브(731)가 설치된다.The circulation line 730 is branched to the recovery line 700 connecting the preliminary heating unit 50 and the separation unit 30 and the other of the circulation line 730 is connected to the preliminary heating unit 50. A first three-way valve 731 is installed in the recovery line 700 where the circulation line 730 branches.

제 1 삼방밸브(731)는 분리유닛(30)으로 유입되는 유로 또는 순환라인(730)으로 연결되는 유로를 선택적으로 개폐하게 제어된다. 따라서, 예비가열유닛(50)에서 배출된 혼합액은 분리유닛(30)으로 유입되거나 순환라인(730)을 통해서 예비가열유닛(50)으로 다시 유입된다. 분리유닛(30)에서 혼합액에 포함된 황산을 분리하는 동안, 제 1 삼방밸브(731)는 분리유닛(30)으로 유입되는 회수라인(700)은 차단하고 순환라인(730)은 개방하도록 제어되어, 혼합액은 하우징(501) 내부에서 유동하게 된다. 따라서, 예비가열유닛(50)에서 히터(502)와 혼합액이 열교환 되는 면적이 증가하여, 혼합액이 가열되는 시간이 단축된다. 일 예로 예비가열유닛(50)은 혼합액을 100~160℃로 가열한다.The first three-way valve 731 is controlled to selectively open and close the flow path to the separation unit 30 or the flow path to the circulation line 730. Thus, the mixed liquid discharged from the preliminary heating unit 50 flows into the separation unit 30 or flows back into the preheating unit 50 through the circulation line 730. During the separation of the sulfuric acid contained in the mixed liquid in the separation unit 30, the first three-way valve 731 is controlled so as to block the recovery line 700 flowing into the separation unit 30 and open the circulation line 730 , The mixed liquid flows inside the housing 501. Therefore, in the preliminary heating unit 50, the heat exchange area of the heater 502 with the mixed liquid is increased, and the time for heating the mixed liquid is shortened. For example, the preliminary heating unit 50 heats the mixture to 100 to 160 ° C.

그리고, 예비가열유닛(50)에서 혼합액이 배출되는 쪽의 회수라인(700)에는 펌프(703)가 설치된다. 펌프(703)는 분리유닛(30) 또는 순환라인(730)으로 유입되는 혼합액의 유동을 원활히 한다.A pump 703 is installed in the recovery line 700 where the mixed liquid is discharged from the preliminary heating unit 50. The pump 703 smoothly flows the mixed liquid flowing into the separation unit 30 or the circulation line 730.

예비가열 유닛(50)과 분리유닛(30)을 연결하는 회수라인(700)에는 라인 히터(502)가 설치된다. 라인 히터(502)는 회수라인(700)의 외주면에 접하도록 설치되어, 회수라인(700)을 유동하는 혼합액을 가열한다. 따라서, 예비가열유닛(50)에서 배출된 혼합액의 온도가 유동 중에 낮아지는 것을 방지한다. 또한, 유동하는 혼합액은 라인 히터(502)와 열교환 면적이 크게 형성되므로, 열교환 효율이 향상된다. 또한, 순환라인(730)에도 라인 히터(502)가 설치된다.A line heater 502 is installed in the recovery line 700 for connecting the preliminary heating unit 50 and the separation unit 30. The line heater 502 is disposed in contact with the outer circumferential surface of the recovery line 700 to heat the mixed liquid flowing through the recovery line 700. Thus, the temperature of the mixed liquid discharged from the preliminary heating unit 50 is prevented from being lowered during the flow. Further, since the mixed liquid that flows is formed with a large heat exchanging area with the line heater 502, heat exchange efficiency is improved. A line heater 502 is also installed in the circulation line 730.

회수라인(700)에는 세정챔버(2)와 예비가열 유닛(50) 사이에 제 2 삼방밸브(741) 및 필터(705)가 설치된다. 제 2 삼방밸브(741)가 설치된 곳에는 회수라인(700)에서 폐기라인(740)이 분지된다. 제 2 삼방밸브(741)는 혼합액이 폐기라인(740) 또는 예비가열 유닛(50)과 연결되는 회수라인(700)을 선택적으로 개폐한다. 폐기라인(740)으로 유입된 혼합액은 폐기된다. 따라서, 사용자는 제 2 삼방밸브(741)를 제어하여 혼합액을 재생하거나 폐기할 수 있다. 일 예로 황산 및 과산화수소를 1:1 내지 1:4의 비율로 혼합하여 사용한 혼합액은 폐기하고, 1:5 내지 1:7의 비율로 혼합하여 사용한 혼합액은 재생되도록 선택 할 수 있다. 필터(705)는 예비가열 유닛(50)으로 유입되는 혼합액에서 이물을 걸러낸다.A second three-way valve 741 and a filter 705 are installed in the recovery line 700 between the cleaning chamber 2 and the preheating unit 50. Where the second three-way valve 741 is installed, the discard line 740 is branched in the recovery line 700. The second three-way valve 741 selectively opens and closes the collection line 700 in which the mixed liquid is connected to the disposal line 740 or the preliminary heating unit 50. The mixed liquor flowing into the discard line 740 is discarded. Therefore, the user can regenerate or discard the mixed liquid by controlling the second three-way valve 741. For example, sulfuric acid and hydrogen peroxide are mixed at a ratio of 1: 1 to 1: 4, and the mixed solution is discarded and mixed at a ratio of 1: 5 to 1: 7. The filter 705 filters the foreign matter from the mixed liquid flowing into the preliminary heating unit 50.

본 실시 예에서 응축기(43)는 생략하고 실시 할 수 있다.In this embodiment, the condenser 43 may be omitted.

또한, 본 실시 예에서 순환라인(730)은 생략하고 실시 할 수 있다.In this embodiment, the circulation line 730 can be omitted.

또한, 본 실시 예에서 예비가열유닛(50)은 생략하고 실시 할 수 있다.In this embodiment, the preliminary heating unit 50 can be omitted.

도 4는 분리유닛(30)의 구성을 보여주는 도면이다.Fig. 4 is a view showing the configuration of the separation unit 30. Fig.

도 4를 참조하면, 분리유닛(30)은 제 1 하우징(301), 분리 히터(302) 및 여과부재(303)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the separation unit 30 includes a first housing 301, a separation heater 302, and a filtration member 303.

제 1 하우징(301)은 설정량의 혼합액이 저장되는 공간을 형성하도록 제공된다. 제 1 하우징(301)의 내부에는 여과부재(303)가 설치된다. 여과부재(303)는 다공성 소재로 제공된다. 여과부재(303)가 제공되면, 제 1 하우징(301)의 내부는 상부공간 및 하부공간으로 나누어진다. 회수라인(700) 및 제 1 배출라인(720)은 하부공간에, 감압라인(710)은 상부공간에 각각 연결된다. 또한, 제 1 배출라인(720)은 회수라인(700)보다 아래쪽에 연결된다.The first housing 301 is provided to form a space in which a set amount of mixed liquid is stored. A filter member (303) is installed inside the first housing (301). The filtration member 303 is provided as a porous material. When the filtration member 303 is provided, the interior of the first housing 301 is divided into an upper space and a lower space. The recovery line 700 and the first discharge line 720 are connected to the lower space, and the pressure reducing line 710 is connected to the upper space, respectively. In addition, the first discharge line 720 is connected below the recovery line 700.

분리 히터(302)는 제 1 하우징(301)에 연전달 가능하게 설치된다. 분리 히터(302)는 제 1 하우징(301)의 내부, 내벽, 또는 외벽에 설치된다. 분리 히터(302)가 동작하면, 제 1 하우징(301)에 유입된 혼합액은 가열되어 증발한다. 증발된 혼합액은 여과부재(303)를 통과한 후 감압라인(710)으로 이동한다. 증발된 혼합액은 여과부재(303)를 통과하는 과정에서, 황산이 걸러진다. 즉, 증발된 혼합액은 여과부재(303)를 통과하면서 여과부재(303)와 충돌한다. 증발된 혼합액의 일부는 여과부재(303)와 충돌하는 과정에서 점성에 의해서 여과부재(303)에 부착된다. 증발이 계속되면, 여과부재(303)에 부착된 혼합액은 입자가 커진 후, 중력에 의해서 아래로 떨어지게 된다.The separation heater 302 is installed so as to be connectable to the first housing 301. The separation heater 302 is installed on the inside, the inner wall, or the outer wall of the first housing 301. When the separation heater 302 operates, the mixed liquid flowing into the first housing 301 is heated and evaporated. The vaporized mixed liquor passes through the filtration member 303 and then moves to the decompression line 710. As the evaporated mixed liquor passes through the filtration member 303, sulfuric acid is filtered out. That is, the evaporated mixed liquid passes through the filtration member 303 and collides with the filtration member 303. Part of the evaporated mixed liquor is attached to the filtration member 303 by viscosity in the process of colliding with the filtration member 303. When the evaporation continues, the mixed liquid attached to the filtration member 303 falls down by gravity after the particles have grown.

증발된 혼합액에 포함된 황산은 증발된 과산화수소 또는 물보다 입자가 크고 점성이 높다. 따라서, 증발된 혼합액이 여과부재(303)와 충돌하면, 여과부재(303)에 부착되는 황산이 여과부재(303)에 부착되는 과산화수소 또는 물보다 많다. 따라서, 여과부재(303)에서 떨어지는 혼합액에는 황산이 과산화수소 및 물보다 많이 포함된다.The sulfuric acid contained in the evaporated mixed liquor is larger in particle and higher in viscosity than evaporated hydrogen peroxide or water. Therefore, when the evaporated mixed liquid collides with the filtration member 303, the sulfuric acid attached to the filtration member 303 is larger than hydrogen peroxide or water attached to the filtration member 303. Therefore, the mixed liquid falling from the filtration member 303 contains more sulfuric acid than hydrogen peroxide and water.

도 5는 다른 실시 예에 따른 분리유닛의 구성을 보여주는 도면이다.5 is a view showing a configuration of a separation unit according to another embodiment.

도 5를 참조하면, 감압라인(710)은 하부공간을 가로질러 상부공간에 연결된다. 즉, 감압라인(710)은 제 1 하우징(301) 내부에서 하부공간에서 상부공간으로 연장 형성되고, 여과부재(303)에 형성된 홀(304)을 통해서 상부공간에 연결된다. 따라서, 감압라인(710)이 제 1 하우징(301) 외부에 연결되는 위치는, 상부공간이 형성된 곳에 한정되지 않아, 분리유닛(30)에 연결되는 감압라인(710)의 위치를 변경할 수 있다.Referring to FIG. 5, the pressure reducing line 710 is connected to the upper space across the lower space. That is, the pressure reducing line 710 extends from the lower space to the upper space inside the first housing 301, and is connected to the upper space through the holes 304 formed in the filter member 303. Accordingly, the position where the pressure reducing line 710 is connected to the outside of the first housing 301 is not limited to the place where the upper space is formed, and the position of the pressure reducing line 710 connected to the separating unit 30 can be changed.

도 6은 또 다른 실시 예에 따른 분리유닛의 구성을 보여주는 도면이다.6 is a view showing a configuration of a separation unit according to another embodiment.

도 6을 참조하면, 분리유닛(30)은 제 1 하우징(301), 분리 히터(302), 여과부재(303), 충전부재(304) 및 지지부재(305)를 포함한다.Referring to Fig. 6, the separation unit 30 includes a first housing 301, a separation heater 302, a filtration member 303, a filling member 304, and a support member 305.

지지부재(305)는 여과부재(303)의 하부에 여과부재와 일정거리 이격되어 제공된다. 지지부재(305)에는 증발된 혼합액이 통과할 수 있는 공극이 형성된다. 여과부재(303)와 지지부재(305) 사이에 형성되는 공간에는 충전부재(304)가 제공된다. 충전부재(304)는 지지부재(305)에 형성된 공극보다 큰 입자들로 제공되어, 지지부재(305)에 지지된다. 그리고, 충전부재(304)에는 입자들 사이에 공극이 형성된다.The support member 305 is provided at a lower portion of the filtration member 303 with a certain distance from the filtration member. The support member 305 is formed with a cavity through which the vaporized mixed liquor can pass. A space formed between the filtration member 303 and the support member 305 is provided with a filling member 304. The filling member 304 is provided with particles larger than the pores formed in the supporting member 305 and is supported by the supporting member 305. [ In addition, voids are formed in the filling member 304 between the particles.

증발된 혼합액은 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)를 통과한 후 감압라인(710)으로 이동한다. 증발된 혼합액은 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)를 차례로 통과하는 과정에서, 황산이 걸러진다. 즉, 증발된 혼합액은 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)를 통과하면서 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)와 각각 충돌한다. 증발된 혼합액의 일부는 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)와 충돌하는 과정에서 점성에 의해서 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)에 부착된다. 충전부재(304)에 형성되는 공극은 서로 연결되어 있어, 증발된 혼합액은 여과부재(303)쪽으로 유동 될 수 하다. 증발이 계속되면, 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)에 부착된 혼합액은 입자가 커진 후, 중력에 의해서 아래로 떨어지게 된다.The vaporized mixed liquor passes through the support member 305, the filling member 304 and the filtration member 303 and then moves to the pressure reduction line 710. The evaporated mixed liquor is filtered through the supporting member 305, the filling member 304 and the filtration member 303 in order to remove sulfuric acid. That is, the evaporated mixed liquid collides with the support member 305, the filling member 304, and the filtration member 303 while passing through the supporting member 305, the filling member 304 and the filtration member 303, respectively. A part of the evaporated mixed liquid is adhered to the supporting member 305, the filling member 304 and the filtration member 303 viscously in the process of colliding with the supporting member 305, the filling member 304 and the filtration member 303 do. The voids formed in the filling member 304 are connected to each other, and the vaporized mixed solution can flow toward the filtration member 303. When the evaporation is continued, the mixed liquid attached to the support member 305, the filling member 304, and the filtration member 303 falls down by gravity after the particles have grown.

증발된 혼합액에 포함된 황산은 증발된 과산화수소 또는 물보다 입자가 크고 점성이 높다. 따라서, 증발된 혼합액이 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)와 충돌하면, 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)에 부착되는 황산이 여과부재(303)에 부착되는 과산화수소 또는 물보다 많다. 따라서, 지지부재(305), 충전부재(304) 및 여과부재(303)에서 떨어지는 혼합액에는 황산이 과산화수소 및 물보다 많이 포함된다.The sulfuric acid contained in the evaporated mixed liquor is larger in particle and higher in viscosity than evaporated hydrogen peroxide or water. Therefore, when the evaporated mixed liquid collides with the supporting member 305, the filling member 304 and the filtering member 303, the sulfuric acid attached to the supporting member 305, the filling member 304, Is greater than hydrogen peroxide or water attached to the member (303). Therefore, the mixed liquid falling in the support member 305, the filling member 304, and the filtration member 303 contains more sulfuric acid than hydrogen peroxide and water.

충전부재(304)가 제동되면, 증발된 혼합액과 충돌하는 면적이 증가된다. 따라서, 충전부재(304)에 부착된 후 아래로 떨어지는 혼합액의 양이 증가된다.When the filling member 304 is braked, the area of collision with the evaporated mixed liquid is increased. Accordingly, the amount of the mixed liquid falling down after being attached to the filling member 304 is increased.

도 7은 응축기의 구성을 보여주는 도면이다.7 is a view showing a configuration of a condenser.

도 7을 참조하면, 응축기(43)는 제 2 하우징(430), 제 1 구획부재(431), 제 2 구획부재(432) 및 연결관(436)을 포함한다.Referring to FIG. 7, the condenser 43 includes a second housing 430, a first partition member 431, a second partition member 432, and a connection pipe 436.

외관을 이루는 제 2 하우징(430)의 내부에는 제 1 구획부재(431) 및 제 2 구획부재(432)가 설치되어, 유입공간(433), 냉각공간(435) 및 유출공간(434)이 형성된다. 유입공간(433)에는 혼합액이 유입되는 감압라인(710)이 연결된다. 유출공간(434)에는 혼합액이 유출되는 감압라인(710) 및 제 2 배출라인(750)이 연결된다. 제 2 배출라인(750)은 혼합액이 유출되는 감압라인(710) 보다 낮은 곳에 연결된다. 연결관(436)은 냉각공간(435)을 가로질러 설치되어, 유입공간(433)과 유출공간(434)을 연결한다. 또한, 냉각공간(435)에는 냉매유입관(437) 및 냉매유출관(438)이 연결된다.A first partitioning member 431 and a second partitioning member 432 are provided in the interior of the second housing 430 which forms an appearance so that the inflow space 433, the cooling space 435, and the outflow space 434 are formed do. A pressure reducing line 710 through which the mixed liquid flows is connected to the inflow space 433. The depressurization line 710 and the second discharge line 750 through which the mixed liquid flows are connected to the outflow space 434. The second discharge line 750 is connected to a lower portion of the decompression line 710 through which the mixed liquid flows. The connection pipe 436 is installed across the cooling space 435 to connect the inflow space 433 and the outflow space 434. Further, a coolant inflow pipe 437 and a coolant outflow pipe 438 are connected to the cooling space 435.

유입공간(433)으로 유입된 증발된 혼합액은 연결관(436)을 통해서 유출공간(434)으로 유동한다. 또한, 냉매유입관(437)으로 들어온 냉매는 냉각공간(435)을 유동한 후 냉매유출관(438)으로 배출된다. 연결관(436)을 유동하는 증발된 혼합액은 냉각공간(435)을 유동하는 저온의 냉매와 열교환 하는 과정에서 응축되어, 일부는 액상이 된다. 액상의 혼합액은 유출공간(434)에서 제 2 배출라인(750)으로 유동하고, 기상의 혼합액은 감압라인(710)으로 유동한다. 제 2 배출라인(750) 및 감압라인(710)으로 유동된 혼합액은 폐기된다.The vaporized mixed liquor flowing into the inflow space 433 flows into the outflow space 434 through the connection pipe 436. The refrigerant introduced into the refrigerant inlet pipe 437 flows through the cooling space 435 and is discharged to the refrigerant outlet pipe 438. The evaporated mixed liquid flowing through the connection pipe 436 is condensed in the process of heat exchange with the low temperature refrigerant flowing in the cooling space 435, and a part thereof becomes liquid. The mixed liquid in the liquid phase flows from the outflow space 434 to the second discharge line 750, and the gaseous mixture flows to the reduced pressure line 710. The mixed liquid flowing into the second discharge line 750 and the decompression line 710 is discarded.

증발된 혼합액에 포함된 황산은 증발된 혼합액에 포함된 과산화수소 및 물보다 끓는 점이 높아, 혼합액에 포함된 과산화수소 및 물보다 쉽게 액화된다. 따라서, 유출공간(434)에서 감압라인(710)으로 유동하는 혼합액보다 제 2 배출라인(750)으로 유동하는 혼합액에 황산이 많이 포함된다. 감압유닛(40)으로 유입되는 황산의 양이 감소하여, 황산으로 인한 감압유닛(40)의 부식이 방지된다.The sulfuric acid contained in the evaporated mixed liquor has a higher boiling point than hydrogen peroxide and water contained in the evaporated mixed liquor, and is more easily liquefied than hydrogen peroxide and water contained in the mixed liquor. Therefore, the mixed liquid flowing into the second discharge line 750 from the mixed liquid flowing into the decompression line 710 in the outflow space 434 contains a large amount of sulfuric acid. The amount of sulfuric acid introduced into the decompression unit 40 is reduced, and corrosion of the decompression unit 40 due to sulfuric acid is prevented.

또한, 감압유닛(40)으로 유입되는 증발된 혼합액의 양이 감소하여 감압유닛(40)에 가해지는 부하가 감소되어, 감압유닛(40)에서 소비되는 에너지가 감소된다.Further, the amount of evaporated mixed liquor flowing into the decompression unit 40 is reduced, so that the load applied to the decompression unit 40 is reduced, and the energy consumed in the decompression unit 40 is reduced.

도 8은 또 다른 실시 예에 따른 예비가열유닛의 구성을 보여주는 도면이다.8 is a view showing a configuration of a preheating unit according to still another embodiment.

도 8을 참조하면 예비가열 유닛(50)은 2개가 병렬로 제공된다. 회수라인(700)은 제 1 분지라인(706) 및 제 2 분지라인(707)으로 병렬로 분지된다. 제 1 분지라인(706) 및 제 2 분지라인(707)에는 각각 제 1 예비가열유닛(51) 및 제 2 예비가열유닛(52)이 설치된다. 또한, 회수라인(700)이 분지되는 곳에는 제 3 삼방밸브(708)가 설치된다.Referring to Fig. 8, two preliminary heating units 50 are provided in parallel. The recovery line 700 is branched in parallel to a first branch line 706 and a second branch line 707. The first preliminary heating unit 51 and the second preliminary heating unit 52 are installed in the first branch line 706 and the second branch line 707, respectively. In addition, a third three-way valve 708 is installed where the recovery line 700 branches.

제 3 삼방밸브(708)는 회수라인(700)으로 유입된 혼합액이 제 1 분지라인(706) 또는 제 2 분지라인(707)으로 선택적으로 유입되도록 제어된다. 따라서, 회수라인(700)으로 유입된 혼합액은 제 1 예비가열유닛(51) 또는 제 2 예비가열유닛(52)으로 유입된다. 따라서, 제 1 예비가열유닛(51) 및 제 2 예비가열유닛(52)은 각각 설정량은 혼합액을 설정온도로 가열할 수 있다.The third three-way valve 708 is controlled such that the mixed liquid introduced into the recovery line 700 is selectively introduced into the first branch line 706 or the second branch line 707. Therefore, the mixed liquid flowing into the recovery line 700 flows into the first preliminary heating unit 51 or the second preliminary heating unit 52. Therefore, the first preliminary heating unit 51 and the second preliminary heating unit 52 can respectively heat the mixture liquid to the preset temperature.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and explain the preferred embodiments of the present invention, and the present invention may be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope of the disclosure, and / or within the skill and knowledge of the art. The embodiments described herein are intended to illustrate the best mode for implementing the technical idea of the present invention and various modifications required for specific applications and uses of the present invention are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. It is also to be understood that the appended claims are intended to cover such other embodiments.

30: 분리유닛 40: 감압유닛
43: 응축기 50: 예비가열유닛
700: 회수라인 710: 감압라인 30: Separation unit 40: Decompression unit
43: condenser 50: preheating unit
700: recovery line 710: decompression line

Claims (9)

기판 상의 이물을 세정하는 세정 챔버;
상기 기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액을 회수하여 재생하는 재생 유닛을 포함하고,
상기 재생 유닛은, 상기 세정 챔버에서 회수된 상기 혼합액을 분리하는 분리 유닛;
상기 분리 유닛과 상기 세정 챔버를 연결하며, 상기 혼합액이 상기 분리 유닛으로 유입되도록 하는 회수라인;
일측이 상기 분리 유닛과 연결되고, 상기 분리 유닛에서 증발된 혼합액이 배기되는 감압라인;
일측이 상기 분리 유닛에 연결되어, 상기 분리 유닛에서 분리된 상기 제 1 약액이 배출되는 제 1 배출라인을 포함하고,
상기 분리 유닛은,
내부 공간이 형성되는 제 1 하우징; 및
상기 내부 공간에 제공되어 상기 내부 공간을 상부 공간과 하부 공간으로 나누는 여과부재를 포함하며,
상기 회수라인과 상기 제 1 배출라인은 상기 하부 공간에 직접 연결되고,
상기 감압라인은 상기 여과 부재에 제공된 홀을 통해 상기 상부 공간에 직접 연결되는 기판 처리 장치.A cleaning chamber for cleaning foreign matter on the substrate;
And a regeneration unit for recovering and regenerating a mixed liquid containing the first chemical liquid and the second chemical liquid used for cleaning the substrate,
The regeneration unit may further include: a separation unit that separates the mixed liquid recovered in the cleaning chamber;
A recovery line connecting the separation unit and the cleaning chamber to allow the mixed liquid to flow into the separation unit;
A decompression line to which one side is connected to the separation unit and the mixed liquid which is evaporated in the separation unit is exhausted;
And a first discharge line through which the first chemical liquid separated from the separation unit is discharged, wherein one side is connected to the separation unit,
Wherein the separation unit comprises:
A first housing having an inner space formed therein; And
And a filtering member provided in the inner space to divide the inner space into an upper space and a lower space,
The recovery line and the first discharge line are directly connected to the lower space,
Wherein the pressure reducing line is directly connected to the upper space through a hole provided in the filtration member. 삭제delete 삭제delete 기판 상의 이물을 세정하는 세정 챔버;
상기 기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액을 회수하여 재생하는 재생 유닛을 포함하고,
상기 재생 유닛은, 상기 세정 챔버에서 회수된 상기 혼합액을 분리하는 분리 유닛;
상기 분리 유닛과 상기 세정 챔버를 연결하며, 상기 혼합액이 상기 분리 유닛으로 유입되도록 하는 회수라인;
일측이 상기 분리 유닛과 연결되고, 상기 분리 유닛에서 증발된 혼합액이 배기되는 감압라인;
일측이 상기 분리 유닛에 연결되어, 상기 분리 유닛에서 분리된 상기 제 1 약액이 배출되는 제 1 배출라인을 포함하고,
상기 분리 유닛은,
내부 공간이 형성되는 제 1 하우징; 및
상기 내부 공간에 제공되어 상기 내부 공간을 상부 공간과 하부 공간으로 나누는 여과부재를 포함하며,
상기 분리 유닛은,
상기 여과부재의 하부에 제공되는 지지부재를 더 포함하고,
상기 지지부재는 상기 여과부재와 일정거리 이격되게 위치되고,
상기 지지부재와 상기 여과부재 사이에는 충전부재가 제공되는 기판 처리 장치. A cleaning chamber for cleaning foreign matter on the substrate;
And a regeneration unit for recovering and regenerating a mixed liquid containing the first chemical liquid and the second chemical liquid used for cleaning the substrate,
The regeneration unit may further include: a separation unit that separates the mixed liquid recovered in the cleaning chamber;
A recovery line connecting the separation unit and the cleaning chamber to allow the mixed liquid to flow into the separation unit;
A decompression line to which one side is connected to the separation unit and the mixed liquid which is evaporated in the separation unit is exhausted;
And a first discharge line through which the first chemical liquid separated from the separation unit is discharged, wherein one side is connected to the separation unit,
Wherein the separation unit comprises:
A first housing having an inner space formed therein; And
And a filtering member provided in the inner space to divide the inner space into an upper space and a lower space,
Wherein the separation unit comprises:
Further comprising a support member provided at a lower portion of the filter member,
Wherein the support member is positioned at a distance from the filter member,
And a filling member is provided between the support member and the filtration member. 삭제delete 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 분리 유닛은,
상기 감압라인에 설치되고, 상기 증발된 혼합액을 응축하는 응축기를 더 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1 or 4,
Wherein the separation unit comprises:
And a condenser installed in the decompression line for condensing the evaporated mixed liquor. 제 6항에 있어서,
상기 응축기는,
유입공간, 냉각공간 및 유출공간이 형성되는 제 2 하우징;
상기 유입공간 및 냉각공간 사이에 제공되는 제 1 구획부재;
상기 냉각공간 및 유출공간 사이에 제공되는 제 2 구획부재를 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 6,
The condenser includes:
A second housing in which an inflow space, a cooling space, and an outflow space are formed;
A first partitioning member provided between the inflow space and the cooling space;
And a second partition member provided between the cooling space and the outflow space. 제 7항에 있어서,
상기 응축기는,
상기 냉각공간을 가로질러 제공되어, 상기 유입공간과 유출공간이 연결되도록 하는 연결관을 더 포함하는 기판 처리 장치.8. The method of claim 7,
The condenser includes:
Further comprising a coupling tube provided across the cooling space to allow the inlet space and the outlet space to be connected. 제 7항에 있어서,
상기 유입공간 및 유출공간에는 상기 감압라인이 연결되고,
상기 유출공간에는 응축된 상기 혼합액이 배출되는 제 2 배출라인이 연결되는 기판 처리 장치.8. The method of claim 7,
The pressure reducing line is connected to the inflow space and the outflow space,
And a second discharge line through which the condensed mixed liquid is discharged is connected to the discharge space.
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