KR101344915B1 - Substrate treating apparatus and chemical recycling method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 기판 상의 이물을 세정하는 세정 챔버; 상기 기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액을 회수하여 재생하는 재생 유닛을 포함하고, 상기 재생 유닛은, 상기 세정 챔버에서 회수된 상기 혼합액을 분리하는 분리 유닛; 상기 분리 유닛과 상기 세정 챔버를 연결하며, 상기 혼합액이 상기 분리 유닛으로 유입되도록 하는 회수라인; 일측이 상기 분리 유닛과 연결되고, 상기 분리 유닛에서 증발된 혼합액이 배기되는 감압라인; 상기 감압라인에 설치되고, 상기 분리 유닛 내부의 압력을 낮추어 주는 감압유닛을 포함한다.The present invention relates to a substrate processing apparatus. Substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention comprises a cleaning chamber for cleaning the foreign matter on the substrate; And a regeneration unit for recovering and regenerating the mixed liquid including the first chemical liquid and the second chemical liquid used for cleaning the substrate, wherein the regeneration unit comprises: a separation unit for separating the mixed liquid recovered from the cleaning chamber; A recovery line connecting the separation unit and the cleaning chamber to allow the mixed liquid to flow into the separation unit; A pressure reducing line having one side connected to the separation unit and exhausting the mixed liquid evaporated from the separation unit; It is installed in the decompression line, and includes a decompression unit for lowering the pressure in the separation unit.

Description

기판 처리 장치 및 약액 재생 방법{SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND CHEMICAL RECYCLING METHOD}SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND CHEMICAL RECYCLING METHOD}

본 발명은 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 세정에 사용된 약액을 재생하는 기판 처리 장치 및 약액 재생 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate, and more particularly, to a substrate processing apparatus and a chemical liquid regeneration method for regenerating a chemical liquid used for cleaning a substrate.

반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착등의 다양한 공정들이 수행된다. 각각의 공정에서 생성된 오염물 및 파티클을 제거하기 위해 공정이 진행되기 전 또는 후 단계에서 기판을 세정하는 세정공정이 실시된다.In order to manufacture semiconductor devices or liquid crystal displays, various processes such as photolithography, etching, ashing, ion implantation, and thin film deposition are performed on the substrate. In order to remove contaminants and particles generated in each process, a cleaning process is performed to clean the substrate before or after the process.

일반적으로 세정공정으로는 기판 상에 약액을 공급하여 기판을 세정 처리한다. 약액은 기판 상에 부착된 이물을 제거한 후 외부로 배출되어 버려진다. 또는, 사용된 약액은 끓는 점의 차이를 이용하여 분리된 후 재생된다. 종래에는 사용된 약액을 대기압에서 가열하여 분리하였다. 따라서, 약액이 끓는점에 도달하도록 하기 위해 약액을 고온으로 가열하여야 하므로, 약액의 재생에 소비되는 에너지가 커서, 효율이 떨어지는 문제점이 있었다.In general, the cleaning process is performed by supplying a chemical solution onto the substrate. The chemical liquid is discarded after being discharged to the outside after removing the foreign matter attached to the substrate. Alternatively, the used chemical liquid is separated using the difference in boiling point and then regenerated. Conventionally, the used chemical liquid was separated by heating at atmospheric pressure. Therefore, since the chemical liquid has to be heated to a high temperature in order to reach the boiling point, the energy consumed for regeneration of the chemical liquid is large, resulting in a problem of low efficiency.

본 발명은 기판의 세정에 사용된 약액을 재생하는 기판 처리 장치 및 약액 재생 방법을 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a substrate processing apparatus and a chemical liquid regeneration method for regenerating a chemical liquid used for cleaning a substrate.

또한, 본 발명은 약액의 재생에 소요되는 시간이 단축되는 기판 처리 장치 및 약액 재생 방법을 제공하기 위한 것이다.In addition, the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a chemical liquid regeneration method that the time required for regeneration of the chemical liquid is shortened.

또한, 본 발명은 약액의 재생에 소요되는 비용이 절감되는 기판 처리 장치 및 약액 재생 방법을 제공하기 위한 것이다.In addition, the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a chemical liquid regeneration method that the cost required for regeneration of the chemical liquid is reduced.

본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 기판 상의 이물을 세정하는 세정 챔버; 상기 기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액을 회수하여 재생하는 재생 유닛을 포함하고, 상기 재생 유닛은, 상기 세정 챔버에서 회수된 상기 혼합액을 분리하는 분리 유닛; 상기 분리 유닛과 상기 세정 챔버를 연결하며, 상기 혼합액이 상기 분리 유닛으로 유입되도록 하는 회수라인; 일측이 상기 분리 유닛과 연결되고, 상기 분리 유닛에서 증발된 혼합액이 배기되는 감압라인; 상기 감압라인에 설치되고, 상기 분리 유닛 내부의 압력을 낮추어 주는 감압유닛을 포함한다.Substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention comprises a cleaning chamber for cleaning the foreign matter on the substrate; And a regeneration unit for recovering and regenerating the mixed liquid including the first chemical liquid and the second chemical liquid used for cleaning the substrate, wherein the regeneration unit comprises: a separation unit for separating the mixed liquid recovered from the cleaning chamber; A recovery line connecting the separation unit and the cleaning chamber to allow the mixed liquid to flow into the separation unit; A pressure reducing line having one side connected to the separation unit and exhausting the mixed liquid evaporated from the separation unit; It is installed in the decompression line, and includes a decompression unit for lowering the pressure in the separation unit.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 약액 재생 방법은 기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액이 회수 라인을 통해서 분리 유닛으로 유입되는 단계; 감압 펌프로 상기 분리 유닛 내부에서 증발된 약액 및 기체를 배기하여 상기 분리 유닛이 감압된 상태에서, 상기 분리 유닛 내부의 혼합액을 가열하는 단계; 상기 분리 유닛의 내부에 남아있는 상기 제 1 약액의 순도가 설정 순도에 도달하면, 상기 제 1 약액을 회수하는 단계를 포함한다.In addition, the chemical liquid regeneration method according to an embodiment of the present invention comprises the steps of introducing a mixed liquid containing the first chemical liquid and the second chemical liquid used for cleaning the substrate to the separation unit through the recovery line; Exhausting the chemical liquid and the gas evaporated inside the separation unit by a pressure reducing pump to heat the mixed liquid inside the separation unit while the separation unit is depressurized; And recovering the first chemical liquid when the purity of the first chemical liquid remaining inside the separation unit reaches a set purity.

또한, 본 발명의 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 기판 상의 이물을 황산 및 과산화수소의 혼합액으로 세정하는 세정 챔버; 상기 기판의 세정에 사용된 상기 혼합액을 상기 세정 챔버에서 회수하는 회수라인; 회수된 상기 혼합액을 가열하여 상기 황산을 분리하는 분리 유닛; 상기 분리 유닛에서 증발된 상기 혼합액이 배출되는 감압라인; 상기 분리 유닛의 압력을 낮추어 상기 혼합액의 끓는 점을 낮추는 감압 유닛을 포함한다. In addition, the substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention comprises a cleaning chamber for cleaning the foreign matter on the substrate with a mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide; A recovery line for recovering the mixed liquid used for cleaning the substrate from the cleaning chamber; A separation unit for heating the recovered liquid mixture to separate the sulfuric acid; A decompression line for discharging the mixed solution evaporated from the separation unit; And a pressure reducing unit for lowering the boiling point of the mixed liquid by lowering the pressure of the separation unit.

본 발명에 의하면, 기판의 세정에 사용된 약액을 재생할 수 있다.According to the present invention, the chemical liquid used for cleaning the substrate can be regenerated.

또한, 본 발명에 의하면, 기판의 세정에 사용된 약액을 재생하는데 소요되는 시간이 단축될 수 있다.Further, according to the present invention, the time required for regenerating the chemical liquid used for cleaning the substrate can be shortened.

또한, 본 발명에 의하면, 기판의 세정에 사용된 약액을 재생하는데 소요되는 비용이 절감될 수 있다.In addition, according to the present invention, the cost of regenerating the chemical liquid used for cleaning the substrate can be reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성도.
도 2는 제 2 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성도.
도 3은 재생유닛의 구성을 나타낸 도면.
도 4는 일 실시 예에 따른 분리유닛의 구성을 보여주는 도면.
도 5는 다른 실시 예에 따른 분리유닛의 구성을 보여주는 도면.
도 6은 응축기의 구성을 보여주는 도면.
도 7은 다른 실시 예에 따른 예비 가열유닛의 구성을 보여주는 도면.1 is a block diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a configuration diagram of a substrate processing apparatus according to a second embodiment.
3 is a view showing a configuration of a playback unit.
4 is a view showing the configuration of a separation unit according to an embodiment.
5 is a view showing the configuration of a separation unit according to another embodiment.
6 shows a configuration of a condenser.
7 is a view showing the configuration of a preliminary heating unit according to another embodiment.

이하 이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면, 도 1 내지 도 7을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings and FIGS. 1 to 7. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Thus, the shape of the elements in the figures has been exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1 은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 세정챔버(2), 재생유닛(3) 그리고 약액공급유닛(6)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the substrate processing apparatus 1 includes a cleaning chamber 2, a regeneration unit 3, and a chemical liquid supply unit 6.

약액공급유닛(6)은 공급라인(7)으로 세정챔버(2)에 연결된다. 약액공급유닛(6)은 공급라인(7)을 통해서 세정챔버(2)로 혼합액을 공급한다. 혼합액은 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함한다. 제 1 약액은 황산, 암모니아 또는 질산 중 하나일 수 있다. 제 2 약액은 과산화수소일 수 있다. 이하에서는, 혼합액은 제 1 약액이 황산이고, 제 2 약액이 과산화수소인 경우를 예로 들어 설명한다.The chemical liquid supply unit 6 is connected to the cleaning chamber 2 by a supply line 7. The chemical liquid supply unit 6 supplies the mixed liquid to the cleaning chamber 2 through the supply line 7. The mixed liquid includes a first chemical liquid and a second chemical liquid. The first chemical liquid may be one of sulfuric acid, ammonia or nitric acid. The second chemical liquid may be hydrogen peroxide. Hereinafter, the case where the mixed liquid is the first chemical liquid is sulfuric acid and the second chemical liquid is hydrogen peroxide will be described as an example.

세정챔버(2)는 약액공급유닛(6)에서 혼합액을 공급받아 기판을 세정한다. 기판의 세정에 사용된 혼합액은 회수되어 재생유닛(3)으로 공급된다. 혼합액에 포함된 과산화수소의 일부는 세정챔버(2)에 공급되는 과정 및 기판의 세정에 사용된 후 회수되는 과정에서 물이 된다. 따라서, 재생유닛(3)으로 공급되는 혼합액에는 황산, 과산화수소 또는 물이 포함된다.The cleaning chamber 2 receives the mixed liquid from the chemical liquid supply unit 6 to clean the substrate. The mixed liquid used for cleaning the substrate is recovered and supplied to the regeneration unit 3. Part of the hydrogen peroxide contained in the mixed solution becomes water in the process of being supplied to the cleaning chamber 2 and in the process of being recovered after being used for cleaning the substrate. Therefore, the mixed liquid supplied to the regeneration unit 3 contains sulfuric acid, hydrogen peroxide or water.

재생유닛(3)은 회수된 혼합액에서 황산을 분리한다. 재생유닛(3)은 혼합액에서 황산이 설정 순도를 가지도록 분리한 후 약액공급유닛(6)으로 공급한다.The regeneration unit 3 separates sulfuric acid from the recovered liquid mixture. The regeneration unit 3 separates sulfuric acid from the mixed liquid to have a predetermined purity and then supplies it to the chemical liquid supply unit 6.

약액공급유닛(6)은 재생유닛(3)에서 공급받은 황산을 공급라인(7)을 통해서 세정챔버(2)에 공급한다.The chemical liquid supply unit 6 supplies the sulfuric acid supplied from the regeneration unit 3 to the cleaning chamber 2 through the supply line 7.

도 2는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 기판 처리 장치의 구성도이다.2 is a block diagram of a substrate processing apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 재생유닛(3)은 세정챔버(2)에 바로 황산을 공급할 수 있다. 따라서, 황산은 약액공급유닛(6)에서 세정챔버(2)로 공급되거나, 재생유닛(3)에서 세정챔버(2)로 공급될 수 있다.Referring to FIG. 2, the regeneration unit 3 may directly supply sulfuric acid to the cleaning chamber 2. Thus, sulfuric acid can be supplied from the chemical liquid supply unit 6 to the cleaning chamber 2 or from the regeneration unit 3 to the cleaning chamber 2.

도 3은 재생유닛의 구성을 나타낸 도면이다.3 is a diagram showing the configuration of a playback unit.

도 3을 참조하면, 재생유닛(3)은 분리유닛(30), 감압유닛(40), 그리고 예비가열유닛(50) 을 포함한다.Referring to FIG. 3, the regeneration unit 3 includes a separation unit 30, a pressure reduction unit 40, and a preheating unit 50.

분리유닛(30)은 회수라인(700), 감압라인(710), 그리고 제 1 배출라인(720)의 일측과 각각 연결된다. 회수라인(700)의 타측은 세정챔버(2)와 연결된다. 따라서, 세정챔버(2)에서 기판의 세정에 사용된 혼합액은 회수라인(700)을 통해서 분리유닛(30)으로 유입된다. 분리유닛(30)은 설정량의 혼합액이 내부로 유입되면, 혼합액을 가열한다. 혼합액의 가열을 계속하면, 혼합액에 포함된 과산화수소 및 물이 증발된다. 또한, 혼합액에 포함된 황산의 일부도 흄으로 증발된다.Separation unit 30 is connected to each side of the recovery line 700, the decompression line 710, and the first discharge line (720). The other side of the recovery line 700 is connected to the cleaning chamber (2). Therefore, the mixed liquid used for cleaning the substrate in the cleaning chamber 2 flows into the separation unit 30 through the recovery line 700. The separation unit 30 heats the mixed liquid when a predetermined amount of the mixed liquid flows into the inside. If heating of the mixed liquid is continued, hydrogen peroxide and water contained in the mixed liquid are evaporated. In addition, a part of sulfuric acid contained in the mixed liquid is also evaporated into fume.

감압유닛(40)은 감압라인(710)에 설치된다. 감압유닛(40)은 감압라인(710)을 통해서 분리유닛(30)에 흡입압력을 제공한다. 따라서, 분리유닛(30) 내부에 있는 기체 및 증발된 혼합액은 감압라인(710)을 통해서 배기되고, 분리유닛(30) 내부의 압력은 떨어진다. 분리유닛(30) 내부의 압력이 떨어지면, 혼합액의 끓는 점이 낮아진다. 일 예로 감압유닛(40)은 분리유닛(30) 내부의 압력이 0.005~0.025bar로 형성되도록 압력을 제공하고, 분리유닛(30)은 혼합액을 150~170℃로 가열한다.The decompression unit 40 is installed in the decompression line 710. The pressure reduction unit 40 provides a suction pressure to the separation unit 30 through the pressure reduction line 710. Therefore, the gas and the vaporized mixed solution in the separation unit 30 is exhausted through the pressure reduction line 710, the pressure in the separation unit 30 is dropped. When the pressure inside the separation unit 30 drops, the boiling point of the mixed solution is lowered. For example, the decompression unit 40 provides a pressure such that the pressure inside the separation unit 30 is 0.005 to 0.025 bar, and the separation unit 30 heats the mixed solution to 150 to 170 ° C.

그리고, 감압라인(710)에는 분리유닛(30)과 감압유닛(40)사이에 후술할 응축기(43)가 설치된다.And, the pressure reducing line 710 is provided with a condenser 43 to be described later between the separation unit 30 and the pressure reduction unit 40.

제 1 배출라인(720)에는 배출밸브(721), 그리고 배출펌프(722)가 설치된다. 혼합액을 가열하는 동안 배출밸브(721)는 혼합액이 제 1 배출라인(720)으로 유동하는 것을 차단한다. 또한, 분리유닛(30)에서 설정량의 혼합액으로부터 황산을 분리하는 동안, 혼합액은 추가적으로 분리유닛(30)에 유입되지 않는다. 혼합액은 가열되는 과정에서, 과산화 수소 및 물이 주로 증발된다. 따라서, 혼합액의 가열 과 증발된 혼합액의 배출을 계속하면, 혼합액에 포함된 황산의 순도가 증가된다. 분리유닛(30)에 남아있는 황산의 순도가 설정 순도가 되면, 배출밸브(721)는 개방되고, 배출펌프(722)가 동작하여, 황산은 제 1 배출라인(720)으로 배출된다.The first discharge line 720 is provided with a discharge valve 721 and a discharge pump 722. The discharge valve 721 blocks the mixed liquid from flowing to the first discharge line 720 while heating the mixed liquid. In addition, while the sulfuric acid is separated from the set amount of the mixed liquid in the separating unit 30, the mixed liquid is not additionally introduced into the separating unit 30. In the process of heating the mixed liquid, hydrogen peroxide and water are mainly evaporated. Therefore, continuing heating of the mixed liquor and discharging the evaporated mixed liquor increases the purity of sulfuric acid contained in the mixed liquor. When the purity of sulfuric acid remaining in the separation unit 30 is the set purity, the discharge valve 721 is opened, the discharge pump 722 is operated, the sulfuric acid is discharged to the first discharge line (720).

예비가열유닛(50)은 회수라인(700)에 설치된다. 예비가열유닛(50)은 하우징(501) 및 히터(502)를 포함한다. 하우징(501)은 예비가열유닛(50)의 외관을 형성하면서, 설정량의 혼합액을 저장하는 공간을 제공한다. 히터(502)는 하우징(501)에 저장된 혼합액을 가열한다. The preheating unit 50 is installed in the recovery line 700. The preheating unit 50 includes a housing 501 and a heater 502. The housing 501 forms a facade of the preheating unit 50 and provides a space for storing a predetermined amount of the mixed liquid. The heater 502 heats the mixed liquid stored in the housing 501.

분리유닛(30)에서 혼합액에 포함된 황산을 분리하는 동안, 회수라인(700)을 통해서 추가적으로 공급되는 혼합액은 하우징(501)에 저장되면서, 히터(502)로 가열된다. 분리유닛(30)에서 분리된 황산이 제 1 배출라인(720)을 통해서 배출되면, 하우징(501)에 저장된 혼합액 또는 세정챔버(2)로부터 공급되는 혼합액이 분리유닛(30)으로 공급된다. 따라서, 예비가열유닛(50)이 설치되면, 분리유닛(30)으로 공급되는 혼합액의 온도는 상승하게 되어, 혼합액이 증발온도까지 도달하는데 소요되는 시간이 감소된다.While the sulfuric acid contained in the mixed liquid is separated in the separation unit 30, the mixed liquid additionally supplied through the recovery line 700 is stored in the housing 501 and heated by the heater 502. When the sulfuric acid separated from the separation unit 30 is discharged through the first discharge line 720, the mixed liquid stored in the housing 501 or the mixed liquid supplied from the cleaning chamber 2 is supplied to the separation unit 30. Therefore, when the preheating unit 50 is installed, the temperature of the mixed liquid supplied to the separation unit 30 is increased, so that the time required for the mixed liquid to reach the evaporation temperature is reduced.

예비가열 유닛(50)과 분리유닛(30)을 연결하는 회수라인(700)에는 순환라인(730)이 분기되고, 순환라인(730)의 다른 한 쪽은 예비가열 유닛(50)에 연결된다. 회수라인(700)에서 순환라인(730)이 분기되는 곳에는 제 1 삼방밸브(731)가 설치된다.The circulation line 730 is branched to the recovery line 700 connecting the preheating unit 50 and the separation unit 30, and the other side of the circulation line 730 is connected to the preheating unit 50. A first three-way valve 731 is installed in the recovery line 700 where the circulation line 730 branches.

제 1 삼방밸브(731)는 분리유닛(30)으로 유입되는 유로 또는 순환라인(730)으로 연결되는 유로를 선택적으로 개폐하게 제어된다. 따라서, 예비가열유닛(50)에서 배출된 혼합액은 분리유닛(30)으로 유입되거나 순환라인(730)을 통해서 예비가열유닛(50)으로 다시 유입된다. 분리유닛(30)에서 혼합액에 포함된 황산을 분리하는 동안, 제 1 삼방밸브(731)는 분리유닛(30)으로 유입되는 회수라인(700)은 차단하고 순환라인(730)은 개방하도록 제어되어, 혼합액은 하우징(501) 내부에서 유동하게 된다. 따라서, 예비가열유닛(50)에서 히터(502)와 혼합액이 열교환 되는 면적이 증가하여, 혼합액이 가열되는 시간이 단축된다. 일 예로 예비가열유닛(50)은 혼합액을 100~160℃로 가열한다.The first three-way valve 731 is controlled to selectively open and close the flow path introduced into the separation unit 30 or the flow path connected to the circulation line 730. Therefore, the mixed liquid discharged from the preheating unit 50 is introduced into the separation unit 30 or back into the preheating unit 50 through the circulation line 730. While separating the sulfuric acid contained in the mixed liquid in the separation unit 30, the first three-way valve 731 is controlled to block the recovery line 700 flowing into the separation unit 30 and open the circulation line 730 The mixed solution flows inside the housing 501. Therefore, the area in which the heater 502 and the mixed liquid heat exchange in the preheating unit 50 increases, thereby shortening the time for heating the mixed liquid. For example, the preheating unit 50 heats the mixed solution at 100 to 160 ° C.

그리고, 예비가열유닛(50)에서 혼합액이 배출되는 쪽의 회수라인(700)에는 펌프(703)가 설치된다. 펌프(703)는 분리유닛(30) 또는 순환라인(730)으로 유입되는 혼합액의 유동을 원활히 한다.In addition, a pump 703 is installed in the recovery line 700 at which the mixed liquid is discharged from the preheating unit 50. The pump 703 facilitates the flow of the mixed liquid introduced into the separation unit 30 or the circulation line 730.

예비가열 유닛(50)과 분리유닛(30)을 연결하는 회수라인(700)에는 라인 히터(709)가 설치된다. 라인 히터(709)는 회수라인(700)의 외주면에 접하도록 설치되어, 회수라인(700)을 유동하는 혼합액을 가열한다. 따라서, 예비가열유닛(50)에서 배출된 혼합액의 온도가 유동 중에 낮아지는 것을 방지한다. 또한, 유동하는 혼합액은 라인 히터(709)와 열교환 면적이 크게 형성되므로, 열교환 효율이 향상된다. 또한, 순환라인(730)에도 라인 히터(709)가 설치된다.A line heater 709 is installed in the recovery line 700 connecting the preheating unit 50 and the separation unit 30. The line heater 709 is installed to contact the outer circumferential surface of the recovery line 700 to heat the mixed liquid flowing through the recovery line 700. Therefore, the temperature of the mixed liquid discharged from the preheating unit 50 is prevented from being lowered during the flow. In addition, since the heat exchange area of the mixed liquid that flows is largely formed with the line heater 709, the heat exchange efficiency is improved. In addition, the line heater 709 is installed in the circulation line 730.

회수라인(700)에는 세정챔버(2)와 예비가열 유닛(50) 사이에 제 2 삼방밸브(741) 및 필터(705)가 설치된다. 제 2 삼방밸브(741)가 설치된 곳에는 회수라인(700)에서 폐기라인(740)이 분지된다. 제 2 삼방밸브(741)는 혼합액이 폐기라인(740) 또는 예비가열 유닛(50)과 연결되는 회수라인(700)을 선택적으로 개폐한다. 폐기라인(740)으로 유입된 혼합액은 폐기된다. 따라서, 사용자는 제 2 삼방밸브(741)를 제어하여 혼합액을 재생하거나 폐기할 수 있다. 일 예로 황산 및 과산화수소를 1:1 내지 1:4의 비율로 혼합하여 사용한 혼합액은 폐기하고, 1:5 내지 1:7의 비율로 혼합하여 사용한 혼합액은 재생되도록 선택할 수 있다. 필터(705)는 예비가열 유닛(50)으로 유입되는 혼합액에서 이물을 걸러낸다.In the recovery line 700, a second three-way valve 741 and a filter 705 are installed between the cleaning chamber 2 and the preheating unit 50. Where the second three-way valve 741 is installed, the discard line 740 is branched in the recovery line 700. The second three-way valve 741 selectively opens and closes the recovery line 700 in which the mixed liquid is connected to the waste line 740 or the preheating unit 50. The mixed liquor flowing into the discard line 740 is discarded. Therefore, the user can regenerate or discard the mixed liquid by controlling the second three-way valve 741. For example, the mixed solution containing sulfuric acid and hydrogen peroxide at a ratio of 1: 1 to 1: 4 may be discarded and mixed at a ratio of 1: 5 to 1: 7. The filter 705 filters foreign matter from the mixed liquid flowing into the preheating unit 50.

본 실시 예에서 응축기(43)는 생략하고 실시 할 수 있다.In the present embodiment, the condenser 43 may be omitted.

또한, 본 실시 예에서 순환라인(730)은 생략하고 실시 할 수 있다.In addition, in the present embodiment, the circulation line 730 may be omitted.

또한, 본 실시 예에서 예비가열유닛(50)은 생략하고 실시 할 수 있다.In addition, in the present embodiment, the preheating unit 50 may be omitted.

도 4는 분리유닛(30)의 구성을 보여주는 도면이다.4 is a view showing the configuration of the separation unit 30.

도 4를 참조하면, 분리유닛(30)은 하우징(301), 분리 히터(302) 및 여과부재(303)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the separation unit 30 includes a housing 301, a separation heater 302, and a filtration member 303.

하우징(301)은 설정량의 혼합액이 저장되는 공간을 형성하도록 제공된다. 하우징(301)의 내부에는 여과부재(303)가 설치된다. 여과부재(303)는 다공성 소재로 제공된다. 여과부재(303)가 제공되면, 하우징의 내부는 상부공간 및 하부공간으로 나누어진다. 회수라인(700) 및 제 1 배출라인(720)은 하부공간에, 감압라인(710)은 상부공간에 각각 연결된다. 또한, 제 1 배출라인(720)은 회수라인(700)보다 아래쪽에 연결된다.The housing 301 is provided to form a space in which a predetermined amount of the mixed liquid is stored. The filtering member 303 is installed inside the housing 301. The filtration member 303 is provided with a porous material. When the filtering member 303 is provided, the inside of the housing is divided into an upper space and a lower space. The recovery line 700 and the first discharge line 720 are connected to the lower space, and the decompression line 710 is connected to the upper space, respectively. In addition, the first discharge line 720 is connected to the lower side than the recovery line 700.

분리 히터(302)는 하우징(301)에 연전달 가능하게 설치된다. 분리 히터(302)는 하우징(301)의 내부, 내벽, 또는 외벽에 설치된다. 분리 히터(302)가 동작하면, 하우징(301)에 유입된 혼합액은 가열되어 증발한다. 증발된 혼합액은 여과부재(303)를 통과한 후 감압라인(710)으로 이동한다. 증발된 혼합액은 여과부재(303)를 통과하는 과정에서, 황산이 걸러진다. 즉, 증발된 혼합액은 여과부재(303)를 통과하면서 여과부재(303)와 충돌한다. 증발된 혼합액의 일부는 여과부재(303)와 충돌하는 과정에서 점성에 의해서 여과부재(303)에 부착된다. 증발이 계속되면, 여과부재(303)에 부착된 혼합액은 입자가 커진 후, 중력에 의해서 아래로 떨어지게 된다.The separation heater 302 is installed in the housing 301 so as to be capable of transmission. The separation heater 302 is installed on the inner, inner wall, or outer wall of the housing 301. When the separation heater 302 is operated, the mixed liquid introduced into the housing 301 is heated to evaporate. The evaporated mixed solution moves to the decompression line 710 after passing through the filtration member 303. In the process of passing the evaporated mixed solution through the filtration member 303, sulfuric acid is filtered. That is, the evaporated mixed liquid collides with the filtration member 303 while passing through the filtration member 303. A portion of the mixed liquid evaporated is attached to the filtering member 303 by viscosity in the process of colliding with the filtering member 303. If the evaporation continues, the mixed liquid attached to the filtration member 303 is dropped down by gravity after the particles become large.

증발된 혼합액에 포함된 황산은 증발된 과산화수소 또는 물보다 입자가 크고 점성이 높다. 따라서, 증발된 혼합액이 여과부재(303)와 충돌하면, 여과부재(303)에 부착되는 황산이 여과부재(303)에 부착되는 과산화수소 또는 물보다 많다. 따라서, 여과부재(303)에서 떨어지는 혼합액에는 황산이 과산화수소 및 물보다 많이 포함된다.Sulfuric acid contained in the evaporated mixture is larger in particle and more viscous than evaporated hydrogen peroxide or water. Therefore, when the evaporated mixed solution collides with the filtration member 303, more sulfuric acid is attached to the filtration member 303 than hydrogen peroxide or water attached to the filtration member 303. Therefore, the mixed liquid falling from the filtration member 303 contains more sulfuric acid than hydrogen peroxide and water.

도 5는 다른 실시 예에 따른 분리유닛의 구성을 보여주는 도면이다.5 is a view showing the configuration of a separation unit according to another embodiment.

도 5를 참조하면, 감압라인(710)은 하부공간을 가로질러 상부공간에 연결된다. 즉, 감압라인(710)은 하우징(301) 내부에서 하부공간에서 상부공간으로 연장 형성되고, 여과부재(303)에 형성된 홀(304)을 통해서 상부공간에 연결된다. 따라서, 감압라인(710)이 하우징(301) 외부에 연결되는 위치는, 상부공간이 형성된 곳에 한정되지 않아, 분리유닛(30)에 연결되는 감압라인(710)의 위치를 변경할 수 있다.Referring to FIG. 5, the decompression line 710 is connected to the upper space across the lower space. That is, the decompression line 710 extends from the lower space to the upper space in the housing 301 and is connected to the upper space through the hole 304 formed in the filtering member 303. Therefore, the position where the decompression line 710 is connected to the outside of the housing 301 is not limited to the place where the upper space is formed, and the position of the decompression line 710 connected to the separation unit 30 may be changed.

도 6은 응축기의 구성을 보여주는 도면이다.6 is a view showing the configuration of a condenser.

도 6을 참조하면, 응축기(43)는 하우징(430), 제 1 구획부재(431), 제 2 구획부재(432) 및 연결관(436)을 포함한다.Referring to FIG. 6, the condenser 43 includes a housing 430, a first partition member 431, a second partition member 432, and a connection pipe 436.

외관을 이루는 하우징(430)의 내부에는 제 1 구획부재(431) 및 제 2 구획부재(432)가 설치되어, 유입공간(433), 냉각공간(435) 및 유출공간(434)이 형성된다. 유입공간(433)에는 혼합액이 유입되는 감압라인(710)이 연결된다. 유출공간(434)에는 혼합액이 유출되는 감압라인(710) 및 제 2 배출라인(750)이 연결된다. 제 2 배출라인(750)은 혼합액이 유출되는 감압라인(710) 보다 낮은 곳에 연결된다. 연결관(436)은 냉각공간(435)을 가로질러 설치되어, 유입공간(433)과 유출공간(434)을 연결한다. 또한, 냉각공간(435)에는 냉매유입관(437) 및 냉매유출관(438)이 연결된다.The first partition member 431 and the second partition member 432 are installed inside the housing 430 forming the exterior, and an inflow space 433, a cooling space 435, and an outflow space 434 are formed. The inlet space 433 is connected to the pressure reducing line 710 into which the mixed liquid is introduced. The outlet space 434 is connected to the decompression line 710 and the second discharge line 750 through which the mixed solution flows out. The second discharge line 750 is connected to a lower place than the decompression line 710 through which the mixed liquid flows out. The connecting pipe 436 is installed across the cooling space 435, and connects the inflow space 433 and the outflow space 434. In addition, the cooling space 435 is connected to the refrigerant inlet pipe 437 and the refrigerant outlet pipe 438.

유입공간(433)으로 유입된 증발된 혼합액은 연결관(436)을 통해서 유출공간(434)으로 유동한다. 또한, 냉매유입관(437)으로 들어온 냉매는 냉각공간(435)을 유동한 후 냉매유출관(438)으로 배출된다. 연결관(436)을 유동하는 증발된 혼합액은 냉각공간(435)을 유동하는 저온의 냉매와 열교환 하는 과정에서 응축되어, 일부는 액상이 된다. 액상의 혼합액은 유출공간(434)에서 제 2 배출라인(750)으로 유동하고, 기상의 혼합액은 감압라인(710)으로 유동한다. 제 2 배출라인(750) 및 감압라인(710)으로 유동된 혼합액은 폐기된다.The evaporated mixed solution introduced into the inlet space 433 flows to the outlet space 434 through the connecting pipe 436. In addition, the refrigerant entering the refrigerant inlet pipe 437 flows through the cooling space 435 and is discharged into the refrigerant outlet pipe 438. The evaporated mixed liquid flowing through the connection pipe 436 is condensed in the process of heat exchange with the low temperature refrigerant flowing through the cooling space 435, and a part becomes a liquid phase. The liquid mixed liquid flows from the outlet space 434 to the second discharge line 750, and the gaseous mixed liquid flows into the reduced pressure line 710. The mixed liquid flowing into the second discharge line 750 and the decompression line 710 is discarded.

증발된 혼합액에 포함된 황산은 증발된 혼합액에 포함된 과산화수소 및 물보다 끓는 점이 높아, 혼합액에 포함된 과산화수소 및 물보다 쉽게 액화된다. 따라서, 유출공간(434)에서 감압라인(710)으로 유동하는 혼합액보다 제 2 배출라인(750)으로 유동하는 혼합액에 황산이 많이 포함된다. 감압유닛(40)으로 유입되는 황산의 양이 감소하여, 황산으로 인한 감압유닛(40)의 부식이 방지된다.Sulfuric acid contained in the evaporated mixed solution has a higher boiling point than hydrogen peroxide and water contained in the evaporated mixed solution, so that it is more easily liquefied than hydrogen peroxide and water included in the mixed solution. Therefore, the sulfuric acid is contained in the mixed liquid flowing to the second discharge line 750 more than the mixed liquid flowing from the outlet space 434 to the decompression line 710. Since the amount of sulfuric acid introduced into the pressure reduction unit 40 is reduced, corrosion of the pressure reduction unit 40 due to sulfuric acid is prevented.

또한, 감압유닛(40)으로 유입되는 증발된 혼합액의 양이 감소하여 감압유닛(40)에 가해지는 부하가 감소되어, 감압유닛(40)에서 소비되는 에너지가 감소된다.In addition, the amount of the evaporated mixed solution flowing into the decompression unit 40 is reduced to reduce the load on the decompression unit 40, thereby reducing the energy consumed in the decompression unit 40.

도 7은 또 다른 실시 예에 따른 예비가열유닛의 구성을 보여주는 도면이다.7 is a view showing the configuration of a preheating unit according to another embodiment.

도 7을 참조하면 예비가열 유닛(50)은 2개가 병렬로 제공된다. 회수라인(700)은 제 1 분지라인(706) 및 제 2 분지라인(707)으로 병렬로 분지된다. 제 1 분지라인(706) 및 제 2 분지라인(707)에는 각각 제 1 예비가열유닛(51) 및 제 2 예비가열유닛(52)이 설치된다. 또한, 회수라인(700)이 분지되는 곳에는 제 3 삼방밸브(708)가 설치된다.Referring to FIG. 7, two preheating units 50 are provided in parallel. The recovery line 700 is branched in parallel to the first branch line 706 and the second branch line 707. The first preheating unit 51 and the second preheating unit 52 are respectively installed in the first branch line 706 and the second branch line 707. In addition, a third three-way valve 708 is installed where the recovery line 700 is branched.

제 3 삼방밸브(708)는 회수라인(700)으로 유입된 혼합액이 제 1 분지라인(706) 또는 제 2 분지라인(707)으로 선택적으로 유입되도록 제어된다. 따라서, 회수라인(700)으로 유입된 혼합액은 제 1 예비가열유닛(51) 또는 제 2 예비가열유닛(52)으로 유입된다. 따라서, 제 1 예비가열유닛(51) 및 제 2 예비가열유닛(52)은 각각 설정량은 혼합액을 설정온도로 가열할 수 있다.The third three-way valve 708 is controlled such that the mixed liquid introduced into the recovery line 700 is selectively introduced into the first branch line 706 or the second branch line 707. Therefore, the mixed liquid introduced into the recovery line 700 flows into the first preheating unit 51 or the second preheating unit 52. Therefore, each of the first preheating unit 51 and the second preheating unit 52 may heat the mixed liquid to the set temperature.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and explain the preferred embodiments of the present invention, and the present invention may be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope of the disclosure, and / or within the skill and knowledge of the art. The embodiments described herein are intended to illustrate the best mode for implementing the technical idea of the present invention and various modifications required for specific applications and uses of the present invention are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. It is also to be understood that the appended claims are intended to cover such other embodiments.

30: 분리유닛 40: 감압유닛
43: 응축기 50: 예비가열유닛
700: 회수라인 710: 감압라인 30: separation unit 40: decompression unit
43: condenser 50: preheating unit
700: recovery line 710: decompression line

Claims (25)

기판 상의 이물을 세정하는 세정 챔버;
상기 기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액을 회수하여 재생하는 재생 유닛을 포함하고,
상기 재생 유닛은, 상기 세정 챔버에서 회수된 상기 혼합액을 분리하는 분리 유닛;
상기 분리 유닛과 상기 세정 챔버를 연결하며, 상기 혼합액이 상기 분리 유닛으로 유입되도록 하는 회수라인;
상기 회수라인에 설치되어 상기 혼합액을 가열하는 예비 가열 유닛;
일측이 상기 분리 유닛과 연결되고, 상기 분리 유닛에서 증발된 혼합액이 배기되는 감압라인;
상기 감압라인에 설치되고, 상기 분리 유닛 내부의 압력을 낮추어 주는 감압유닛을 포함하되,
상기 회수라인에는 상기 예비 가열 유닛 및 상기 분리 유닛 사이에서 분기되고, 상기 예비 가열 유닛에서 토출된 상기 혼합액이 상기 예비 가열 유닛으로 다시 유입되도록 하는 순환 라인이 설치되는 기판 처리 장치.A cleaning chamber for cleaning foreign matter on the substrate;
A regeneration unit for recovering and regenerating a mixed liquid containing a first chemical liquid and a second chemical liquid used for cleaning the substrate,
The regeneration unit may include a separation unit that separates the mixed liquid recovered from the cleaning chamber;
A recovery line connecting the separation unit and the cleaning chamber to allow the mixed liquid to flow into the separation unit;
A preheating unit installed in the recovery line to heat the mixed liquid;
A pressure reducing line having one side connected to the separation unit and exhausting the mixed liquid evaporated from the separation unit;
Installed in the decompression line, including a decompression unit for lowering the pressure inside the separation unit,
And a circulation line which is branched between the preliminary heating unit and the separation unit and is provided in the recovery line so that the mixed liquid discharged from the preliminary heating unit flows back into the preliminary heating unit. 제 1항에 있어서,
상기 감압라인에 설치되고, 상기 분리 유닛과 상기 감압 유닛 사이에 위치되는 응축기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
And a condenser disposed in the decompression line and positioned between the separation unit and the decompression unit. 제 2항에 있어서,
상기 응축기에는, 상기 증발된 혼합액이 상기 응축기에서 응축되어 배출되는 제 2 배출라인이 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.3. The method of claim 2,
And a second discharge line through which the evaporated mixed liquid is condensed and discharged from the condenser is connected to the condenser. 제 1 항 내제 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 예비 가열 유닛은 혼합액이 저장되는 하우징;
상기 하우징에 저장된 혼합액을 가열하는 히터를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
The preliminary heating unit includes a housing in which the mixed liquid is stored;
And a heater for heating the mixed liquid stored in the housing. 삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 회수라인에는, 상기 예비 가열 유닛 및 분리 유닛 사이에 라인 히터가 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
And a line heater is provided in the recovery line between the preheating unit and the separation unit. 제 1항에 있어서,
상기 회수라인은 제 1 분지라인 및 제 2 분지라인으로 병렬로 분지되고,
상기 예비 가열 유닛은 상기 제 1 분지라인에 설치되는 제 1 예비 가열 유닛 및 상기 제 2 분지라인에 위치하는 제 2 예비 가열 유닛으로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
The recovery line is branched in parallel to the first branch line and the second branch line,
The preliminary heating unit is provided with a first preliminary heating unit installed in the first branch line and a second preliminary heating unit located in the second branch line. 제 1 항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 재생 유닛은, 일측이 상기 분리 유닛에 연결되어, 상기 분리 유닛에서 분리된 상기 제 1 약액이 배출되는 제 1 배출라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치. 4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The regeneration unit further comprises a first discharge line, one side of which is connected to the separation unit, through which the first chemical liquid separated from the separation unit is discharged. 제 8항에 있어서,
상기 제 1 배출라인은 세정 챔버에 상기 제 1 약액을 공급하는 약액공급유닛 또는 상기 세정 챔버에 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method of claim 8,
The first discharge line is a substrate processing apparatus, characterized in that connected to the chemical liquid supply unit or the cleaning chamber for supplying the first chemical liquid to the cleaning chamber. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분리 유닛에는, 여과부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A substrate processing apparatus, characterized in that a filtration member is provided in the separation unit. 제 10항에 있어서,
상기 여과부재에 의해 상기 분리 유닛 내부는 상부 공간과 하부 공간으로 나누어지고,
상기 회수라인은 상기 하부 공간에 직접 연결되고,
상기 감압라인은 상기 상부 공간에 직접 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method of claim 10,
The separating unit is divided into an upper space and a lower space by the filtration member.
The recovery line is directly connected to the lower space,
The decompression line is a substrate processing apparatus, characterized in that directly connected to the upper space. 제 10항에 있어서,
상기 여과부재에 의해 상기 분리 유닛의 내부는 상부 공간과 하부 공간으로 나누어지고,
상기 회수라인은 상기 하부 공간에 직접 연결되고,
상기 감압라인은 상기 분리 유닛의 내부에서 상기 하부 공간을 가로질러 상기 여과 부재에 제공된 홀을 통해 상기 상부 공간에 직접 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method of claim 10,
The interior of the separation unit is divided into an upper space and a lower space by the filtration member,
The recovery line is directly connected to the lower space,
And the pressure reducing line is directly connected to the upper space through a hole provided in the filtering member across the lower space inside the separation unit. 제 1항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 약액은 황산이고, 상기 제 2 약액은 과산화수소 또는 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
And the first chemical liquid is sulfuric acid, and the second chemical liquid contains hydrogen peroxide or water. 제 1항 내지 제 3 항 중 어느 한에 있어서,
상기 제 1 약액은 황산, 암모니아 또는 질산 중 하나인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The method according to any one of claims 1 to 3,
And said first chemical liquid is one of sulfuric acid, ammonia or nitric acid. 약액을 재생하는 방법에 있어서,
기판의 세정에 사용된 제 1 약액 및 제 2 약액을 포함하는 혼합액이 회수 라인을 통해서 분리 유닛으로 유입되는 단계;
감압 펌프로 상기 분리 유닛 내부에서 증발된 약액 및 기체를 배기하여 상기 분리 유닛이 감압된 상태에서, 상기 분리 유닛 내부의 혼합액을 가열하는 단계;
상기 분리 유닛의 내부에 남아있는 상기 제 1 약액의 순도가 설정 순도에 도달하면, 상기 제 1 약액을 회수하는 단계를 포함하되,
상기 회수 라인에는 예비 가열 유닛이 제공되어 상기 혼합액이 상기 분리 유닛으로 유입되기 전에 가열되고,
상기 회수라인에는 상기 예비 가열 유닛과 상기 분리 유닛 사이에서 분기 되어 상기 예비 가열 유닛에 연결되는 순환 라인이 설치되어 상기 예비 가열 유닛에서 토출된 상기 혼합액이 상기 예비 가열 유닛으로 다시 유입될 수 있는 약액 재생 방법.In the method of regenerating the chemical liquid,
Introducing a mixed liquid including a first chemical liquid and a second chemical liquid used for cleaning the substrate into a separation unit through a recovery line;
Exhausting the chemical liquid and the gas evaporated inside the separation unit by a pressure reducing pump to heat the mixed liquid inside the separation unit while the separation unit is depressurized;
Recovering the first chemical liquid when the purity of the first chemical liquid remaining inside the separation unit reaches a set purity;
The recovery line is provided with a preheating unit to heat the mixed liquor before entering the separation unit,
The recovery line is provided with a circulation line branched between the preheating unit and the separation unit and connected to the preheating unit so that the mixed liquid discharged from the preheating unit can flow back into the preheating unit. Way. 제 15항에 있어서,
상기 분리 유닛에서 증발된 약액이 상기 감압 유닛으로 흐르는 동안 상기 증발된 약액을 응축하는 단계를 더 포함하는 약액 재생 방법. 16. The method of claim 15,
And condensing the evaporated chemical liquid while the chemical liquid evaporated in the separation unit flows to the decompression unit. 삭제delete 제 15항에 있어서,
상기 예비 가열 유닛은 상기 혼합액을 100~160℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 약액 재생 방법.16. The method of claim 15,
The preliminary heating unit is a chemical liquid regeneration method, characterized in that for heating the mixture to 100 ~ 160 ℃. 제 15항에 있어서,
상기 제 1 약액은 황산이고, 상기 제 2 약액은 과산화수소 또는 물을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 재생 방법.16. The method of claim 15,
The first chemical solution is sulfuric acid, and the second chemical solution comprises hydrogen peroxide or water. 제 19항에 있어서,
상기 혼합액은 상기 황산 및 과산화수소가 1: 5내지 1:7로 혼합되어 사용된 것을 특징으로 하는 약액 재생 방법.20. The method of claim 19,
The mixed solution is a chemical solution regeneration method, characterized in that the sulfuric acid and hydrogen peroxide is used in a mixture of 1: 5 to 1: 7. 제 15항에 있어서,
상기 혼합액을 가열하는 단계는, 상기 분리 유닛을 0.005~0.025bar로 감압하고, 상기 혼합액을 150~170℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 약액 재생 방법.16. The method of claim 15,
In the heating of the mixed solution, the separation unit is depressurized to 0.005 to 0.025 bar and the mixed solution is heated to 150 to 170 ° C. 제 15항에 있어서,
상기 제 1 약액은 황산, 암모니아 또는 질산 중 하나인 것을 특징으로 하는 약액 재생 방법.16. The method of claim 15,
The first chemical liquid is one of sulfuric acid, ammonia or nitric acid. 기판 상의 이물을 황산 및 과산화수소의 혼합액으로 세정하는 세정 챔버;
상기 기판의 세정에 사용된 상기 혼합액을 상기 세정 챔버에서 회수하는 회수라인;
회수된 상기 혼합액을 가열하여 상기 황산을 분리하는 분리 유닛;
상기 회수라인에 설치되어 상기 혼합액을 상기 분리 유닛으로 유입되기 전에 가열하는 예비 가열 유닛;
상기 분리 유닛에서 증발된 상기 혼합액이 배출되는 감압라인;
상기 분리 유닛의 압력을 낮추어 상기 혼합액의 끓는 점을 낮추는 감압 유닛을 포함하되,
상기 회수라인에는 상기 예비 가열 유닛 및 상기 분리 유닛 사이에서 분기되고, 상기 예비 가열 유닛에서 토출된 상기 혼합액이 상기 예비 가열 유닛으로 다시 유입되도록 하는 순환 라인이 설치되는 기판 처리 장치. A cleaning chamber for cleaning the foreign matter on the substrate with a mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide;
A recovery line for recovering the mixed liquid used for cleaning the substrate from the cleaning chamber;
A separation unit for heating the recovered liquid mixture to separate the sulfuric acid;
A preliminary heating unit installed in the recovery line and heating the mixed liquid before flowing into the separation unit;
A decompression line for discharging the mixed solution evaporated from the separation unit;
It includes a decompression unit for lowering the boiling point of the mixed liquid by lowering the pressure of the separation unit,
And a circulation line which is branched between the preliminary heating unit and the separation unit and is provided in the recovery line so that the mixed liquid discharged from the preliminary heating unit flows back into the preliminary heating unit. 제 23항에 있어서,
상기 기판 처리 장치는, 상기 감압 유닛으로 배출되는 상기 증발된 혼합액을 응축시키는 응축기를 더 포함하는 기판 처리 장치.24. The method of claim 23,
The substrate processing apparatus further includes a condenser for condensing the evaporated mixed liquid discharged to the decompression unit. 제 23항에 있어서,
상기 기판 처리 장치는, 상기 분리 유닛으로 유입되는 상기 혼합액을 가열하는 예비 가열 유닛을 더 포함하는 기판 처리 장치.24. The method of claim 23,
The substrate processing apparatus further comprises a preliminary heating unit for heating the mixed liquid introduced into the separation unit.
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