KR101893972B1 - Deposition Chamber - Google Patents
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Abstract
본 발명은 분사노즐의 간격을 좁히면서도 히터를 장착시킬 수 있는 증착챔버에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 제1증착물질이 증발되도록 가열되는 제1도가니; 상기 제1도가니 내에 마련된 상기 제1수용공간 측과 연통되며, 상기 제1증착물질이 분사되도록 제1분사구가 형성된 제1분사노즐; 상기 제1도가니를 가열시키는 제1베이스히터; 기판에 증착시킬 제2증착물질이 증발되도록 가열되는 제2도가니; 상기 제2증착물질이 상기 기판 측으로 분사되도록 제2분사구가 형성된 제2분사노즐; 상기 제2도가니를 가열시키는 제2베이스히터;상기 제1도가니에서 증발된 상기 제1증착물질이 상기 제1분사노즐 측으로 이동되도록 가이더하는 제1분사가이더; 및상기 제1도가니와 상기 제2도가니의 상측에 배치되어 가열시키는 상부히터; 를 포함하되, 상기 상부히터에는 상기 제1분사가이더, 상기 제1분사노즐 및 상기 제2분사노즐의 적어도 일부분이 삽입되는 노즐홀이 형성되어 있고, 상기 상부히터는 선택적으로 상기 제1도가니와 상기 제2도가니의 상측에 배치 또는 탈거될 수 있으므로 제1도가니, 제2도가니 사이의 간격을 적정 수준으로 확보하면서도 동시에 제1분사노즐과 제2분사노즐의 간격을 좁힐 수 있으므로, 도가니 주변의 공간활용의 효율성이 증대되고, 증착균일도를 확보할 수 있는 기술이 개시된다. According to the present invention, there is provided a deposition chamber capable of mounting a heater while narrowing the gap between the spray nozzles, wherein the first crucible is heated so that the first deposition material evaporates; A first injection nozzle communicating with the first accommodation space side provided in the first crucible and having a first injection port for spraying the first deposition material; A first base heater for heating the first crucible; A second crucible heated to evaporate a second deposition material to be deposited on the substrate; A second ejection nozzle having a second ejection opening to eject the second evaporation material toward the substrate; A first base heater for heating the second crucible; a first injection guide for guiding the first evaporation material evaporated in the first crucible to move toward the first injection nozzle side; And an upper heater disposed on the upper side of the first crucible and the second crucible to heat the upper crucible; Wherein the upper heater is formed with a nozzle hole into which at least a portion of the first injection guider, the first injection nozzle and the second injection nozzle is inserted, and the upper heater selectively connects the first crucible and the second crucible, Since the interval between the first crucible and the second crucible can be ensured at an appropriate level and the interval between the first spray nozzle and the second spray nozzle can be narrowed at the same time as space between the crucible and the crucible can be utilized And the deposition uniformity can be ensured.
Description
본 발명은 진공기화증착(Evaporator)장비와 같은 증착챔버에 장착되어 기판에 증착시킬 증착물질을 증발시켜주는 증착챔버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 도가니의 분사노즐의 간격을 좁히면서도 히터를 장착시킬 수 있는 공간을 확보할 수 있는 증착챔버에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a deposition chamber mounted on a deposition chamber such as a vacuum evaporation apparatus to evaporate a deposition material to be deposited on a substrate, The present invention relates to a deposition chamber capable of ensuring a sufficient space for a substrate to be deposited.
유기발광소자 제조에 있어서, 기판 상에 유기막을 형성시키는 공정은 통상 도가니, 히터 및 쿨링플레이트 등을 포함하는 증착챔버 내에서 이루어지며, 도가니 내부에 증착물질을 내재시키고 히터에 의하여 도가니를 가열시킴으로써 증착물질을 증발시켜서 기판 상에 유기막을 증착시키게 된다.In the production of an organic light emitting device, a process of forming an organic film on a substrate is usually performed in a deposition chamber including a crucible, a heater, and a cooling plate. The deposition material is contained in the crucible, The material is evaporated to deposit an organic film on the substrate.
그리고, 기화온도를 달리하는 증착물질을 동시에 기판에 증착시키기 위하여 증착챔버의 내부에 복수개의 도가니가 설치된다. 그리고, 도가니를 중심으로 히터 리플렉터 쿨링플레이트 등이 설치되기 때문에 하나의 도가니의 노즐과 다른 도가니의 노즐 사이의 간격이 멀어지게 된다.In addition, a plurality of crucibles are installed inside the deposition chamber in order to simultaneously deposit the deposition materials having different vaporization temperatures on the substrate. Since the heater reflector cooling plate or the like is provided around the crucible, the distance between the nozzles of one crucible and the nozzles of the other crucible is increased.
이에 관련하여 대한민국 등록특허 10-1256193호 (발명의 명칭 : 박막 증착장치 및 이에 사용되는 선형증발원. 이하 선행기술 1) 등에서는 복수의 선형증발원 간에 설치된 노즐 사이의 거리가 멀어짐에 따라 박막균일도가 저하되는 문제점을 해결하고자 수직방향으로 평행하게 설치된 노즐을 상호 마주보는 방향으로 경사지게 형성시킨 기술을 제시하고 있다. Regarding this, in Korean Patent No. 10-1256193 (entitled "Thin Film Deposition Apparatus and Linear Evaporation Source Used therein", hereinafter referred to as "Prior Art 1"), as the distance between the nozzles installed between a plurality of linear evaporation sources is increased, There is proposed a technique in which nozzles provided in parallel in a vertical direction are inclined in directions opposite to each other.
그러나, 선행기술1 등에 따르더라도 다음과 같은 문제점이 있었다. 도 1은 종래기술 및 선행기술 1 등에 따른 복수개의 선형증발원을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 1의 (a),(b)에서 참조되는 바와 같이 도가니의 노즐이 상호 마주는 보는 방향으로 경사지게 형성되어 있었다. However, even if following the prior art 1, there are the following problems. 1 is a view schematically showing a plurality of linear evaporation sources according to the prior art and prior art 1 and the like. As shown in Figs. 1 (a) and 1 (b), the nozzles of the crucible were formed to be inclined in the viewing direction facing each other.
도 1의 (a)에 도시된 바와 같이, 증착균일도 확보를 위하여 노즐사이의 간격이 좁아지면, 도가니 상측과 주변에 히터가 장착될 수 있는 공간이 확보되지 않는 문제점이 있었으며, 도 2의 (b)에 도시된 바와 같이, 공간확보를 위하여 노즐의 길이를 길게 하더라도 도가니 사이에는 공간이 너무 많이 남고, 노즐주변은 협소해지므로 도가니 상측에 히터 설치가 곤란하며, 노즐자체의 길이가 너무 길게 되어 히터선이 많이 소요하게 되는 등의 문제점 등이 있었다. As shown in FIG. 1 (a), when the interval between the nozzles is narrowed in order to secure the uniformity of deposition, there is a problem in that a space for mounting the heater on the upper side and the periphery of the crucible is not secured. , It is difficult to install a heater on the upper side of the crucible because the space is too much left between the crucibles and the periphery of the nozzle is narrowed even if the length of the nozzle is long for securing the space, And a problem that a lot of wires were consumed.
본 발명의 목적은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 분사노즐 간의 간격을 좁히면서도 히터를 장착할 수 있는 공간이 확보할 수 있도록 도가니 및 분사노즐의 장착구조를 개선시킨 증착챔버를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a deposition chamber in which the mounting structure of the crucible and the spray nozzle is improved so as to secure a space for mounting the heater while narrowing the gap between the spray nozzles have.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버는 기판에 대하여 증착공정이 이루어지는 증착챔버로서, 일측에서 타측으로 긴 형태이고, 기판에 증착시킬 제1증착물질을 수용하기 위한 제1수용공간이 내측에 마련되어 있으며, 상기 제1증착물질이 증발되도록 가열되는 제1도가니; 상기 제1도가니 내에 마련된 상기 제1수용공간 측과 연통되며, 상기 제1수용공간 내에서 증발된 상기 제1증착물질이 상기 기판 측으로 분사되도록 제1분사구가 형성된 제1분사노즐; 일측과 타측이 수평하게 안착된 상기 제1도가니의 상측 이외의 부분을 에워싸도록 근접하여 배치되어 상기 제1도가니를 가열시키는 제1베이스히터; 일측에서 타측으로 긴 형태이고, 상기 기판에 증착시킬 제2증착물질을 수용하기 위한 제2수용공간이 마련되어 있으며, 상기 제2증착물질이 증발되도록 가열되는 제2도가니; 상기 제2도가니 내에 마련된 상기 제2수용공간 측과 연통되며, 상기 제2수용공간 내에서 증발된 상기 제2증착물질이 상기 기판 측으로 분사되도록 제2분사구가 형성된 제2분사노즐; 일측과 타측이 수평하게 안착된 상기 제2도가니의 상측 이외의 부분을 에워싸도록 근접하여 배치되어 상기 제2도가니를 가열시키는 제2베이스히터; 일측단이 상기 제1도가니와 연결되고, 타측단이 상기 제1분사노즐과 연결되어 상기 제1분사노즐이 상기 제2분사노즐과 인접한 위치에 있도록 지지하여 주며, 상기 제1도가니에서 증발된 상기 제1증착물질이 상기 제1분사노즐 측으로 이동되도록 가이더하는 제1분사가이더; 및 상기 제1도가니와 상기 제2도가니의 상측에 근접하게 배치되어 상기 제1도가니와 상기 제2도가니를 가열시키는 상부히터; 를 포함하되, 상기 상부히터에는 상기 제1분사가이더, 상기 제1분사노즐 및 상기 제2분사노즐의 적어도 일부분이 삽입되는 노즐홀이 형성되어 있고, 상기 상부히터는 선택적으로 상기 제1도가니와 상기 제2도가니의 상측에 배치 또는 탈거될 수 있는 것을 하나의 특징으로 할 수도 있다. According to an aspect of the present invention, there is provided a deposition chamber for depositing a first deposition material to be deposited on a substrate, A first crucible having a first accommodation space inside and being heated to evaporate the first deposition material; A first injection nozzle communicating with the first accommodation space side provided in the first crucible and having a first injection port for spraying the first evaporation material evaporated in the first accommodation space toward the substrate side; A first base heater disposed adjacent to the first crucible so as to surround a portion other than the upper side of the first crucible on which one side and the other side are horizontally mounted to heat the first crucible; A second crucible having a shape elongated from one side to the other side and having a second accommodation space for accommodating a second deposition material to be deposited on the substrate, the second deposition material being heated to evaporate; A second injection nozzle communicating with the second accommodation space side provided in the second crucible and having a second injection port for spraying the second evaporation material evaporated in the second accommodation space toward the substrate side; A second base heater disposed adjacent to the second crucible so as to surround a portion other than the upper side of the second crucible on which one side and the other side are mounted horizontally and to heat the second crucible; Wherein the first crucible is connected to the first crucible and the other end is connected to the first injection nozzle to support the first injection nozzle at a position adjacent to the second injection nozzle, A first injection guide for guiding the first deposition material to move toward the first injection nozzle side; And an upper heater disposed close to the upper side of the first crucible and the second crucible to heat the first crucible and the second crucible; Wherein the upper heater is formed with a nozzle hole into which at least a portion of the first injection guider, the first injection nozzle and the second injection nozzle is inserted, and the upper heater selectively connects the first crucible and the second crucible, And the second crucible can be disposed or removed on the upper side of the second crucible.
여기서, 상기 제1분사가이더는, 상기 제1도가니와 연결된 일측단으로부터 상기 제1분사노즐과 연결되는 타측단까지 꺾임없이 곧게 형성된 파이프 형태인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Here, the first injection guide may be a pipe formed straight from one end connected to the first crucible to the other end connected to the first injection nozzle without being bent.
여기서, 상기 제1분사가이더는, 상기 제1도가니의 상측에서 상기 제2도가니 측으로 일정한 각도만큼 틸트(tilt)되어 결합된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Here, the first injection guider may be tilted by a predetermined angle from the upper side of the first crucible to the second crucible side, and may be another feature.
나아가, 상기 제1분사가이더는, 상기 제1분사가이더의 타측단이 상기 제1도가니의 일측 또는 타측으로 일정 각도 틸트되도록 상기 제1도가니의 상측에 결합된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, the first injection guider may be further characterized in that the other end of the first injection guider is coupled to the upper side of the first crucible so as to be tilted at a predetermined angle to one side or the other side of the first crucible.
더 나아가 상기 제1분사노즐 및 상기 제1분사가이더는 다수개이고, 다수의 상기 제1분사노즐은 상기 제1도가니의 길이방향에 따라 열을 지어 배치되어 있되, 상기 제1도가니의 일측단에서부터 홀수번째에 위치하는 제1분사노즐은 상기 제1도가니의 일측을 향하여 틸트되고, 상기 제1도가니의 일측단에서부터 짝수번째에 위치하는 제1분사노즐은 상기 제1도가니의 타측을 향하여 틸트된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Wherein the first injection nozzles and the first injection guides are arranged in a row along the longitudinal direction of the first crucible, and a plurality of the first injection nozzles are arranged in rows from one end of the first crucible, Th first crucible nozzle is tilted toward one side of the first crucible and the first injection nozzle located at an even number from one end of the first crucible is tilted toward the other side of the first crucible, It can also be a feature.
또한, 상기 제1분사가이더의 중심축과 상기 제1분사노즐의 중심축 사이의 예각 은 다음의 관계식 ( : 제1분사가이더의 반지름, : 제1분사가이더의 중심축 길이, : 제1분사가이더의 중심축과 제1분사노즐의 중심축의 교점으로부터 제1분사노즐 끝단까지의 높이 )을 만족시키는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, an acute angle between the center axis of the first injection guide and the center axis of the first injection nozzle The following relation ( : The radius of the first injection guider, : The center axis length of the first injection guider, : The height from the intersection of the central axis of the first injection guider and the central axis of the first injection nozzle to the height of the first injection nozzle end).
여기서, 일측단이 상기 제2도가니와 연결되고, 타측단이 상기 제2분사노즐과 연결되어 상기 제2분사노즐이 상기 제1분사노즐과 인접한 위치에 있도록 지지하여 주며, 상기 제2도가니에서 증발된 상기 제2증착물질이 상기 제2분사노즐 측으로 이동되도록 가이더하는 제2분사가이더; 를 더 포함하고, 상기 상부히터가 상기 제2도가니의 상측에 배치되면서 상기 상부히터의 상기 노즐홀에 상기 제2분사가이더의 적어도 일부분이 삽입될 수 있는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. The first crucible is connected to the second crucible and the other end is connected to the second injection nozzle to support the second injection nozzle at a position adjacent to the first injection nozzle, A second injection guide for guiding the second deposition material to be moved toward the second injection nozzle side; And at least a part of the second injection guider may be inserted into the nozzle hole of the upper heater while the upper heater is disposed above the second crucible.
나아가, 상기 제2분사가이더는, 상기 제2도가니와 연결된 일측단으로부터 상기 제2분사노즐과 연결되는 타측단까지 꺾임없이 곧게 형성된 파이프 형태인 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, the second spray guider may be a pipe shape formed straight from one end connected to the second crucible to the other end connected to the second spray nozzle without being bent.
또한, 상기 제2분사가이더는,상기 제2도가니의 상측에서 상기 제1도가니 측으로 일정한 각도만큼 틸트(tilt)되어 결합된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. The second spray guider may be tilted by a predetermined angle from the upper side of the second crucible to the first crucible side so as to be another feature.
나아가, 상기 제2분사가이더는, 상기 제2분사가이더의 타측단이 상기 제2도가니의 일측 또는 타측으로 일정 각도 틸트되도록 상기 제2도가니의 상측에 결합된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, the second injection guider may be further characterized in that the other side end of the second injection guider is coupled to the upper side of the second crucible so as to be tilted at a predetermined angle to one side or the other side of the second crucible.
더 나아가, 상기 제2분사노즐 및 상기 제2분사가이더는 다수개이고, 다수의 상기 제2분사노즐은 상기 제2도가니의 길이방향에 따라 열을 지어 배치되어 있되, 상기 제2도가니의 일측단에서부터 홀수번째에 위치하는 제2분사노즐은 상기 제2도가니의 일측을 향하여 틸트되고, 상기 제2도가니의 일측단에서부터 짝수번째에 위치하는 제2분사노즐은 상기 제2도가니의 타측을 향하여 틸트된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, a plurality of the second injection nozzles and the second injection guides are arranged, and a plurality of the second injection nozzles are arranged in rows along the longitudinal direction of the second crucible, The second injection nozzles positioned at odd numbers are tilted toward one side of the second crucible and the second injection nozzles located at even numbers from one end of the second crucible are tilted toward the other side of the second crucible It may be another feature.
또한, 상기 제2분사가이더의 중심축과 상기 제2분사노즐의 중심축 사이의 예각 은 다음의 관계식 ( : 제2분사가이더의 반지름, : 제2분사가이더의 중심축 길이, : 제2분사가이더의 중심축과 제2분사노즐의 중심축의 교점으로부터 제2분사노즐 끝단까지의 높이 ) 을 만족시키는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다. Further, an acute angle between the center axis of the second injection guide and the center axis of the second injection nozzle The following relation ( : The radius of the second injection guider, : The center axis length of the second injection guider, : The height from the intersection of the central axis of the second injection guider and the central axis of the second injection nozzle to the height of the second injection nozzle end).
본 발명에 따른 증착챔버는 베이스히터의 배치를 고려하여 제1도가니, 제2도가니 사이의 간격을 적정 수준으로 확보하면서도 동시에 제1분사노즐과 제2분사노즐의 간격을 좁힐 수 있으므로, 도가니 주변의 공간활용의 효율성이 증대되고, 증착균일도를 확보할 수 있는 효과가 있다. The deposition chamber according to the present invention can reduce an interval between the first injection nozzle and the second injection nozzle while ensuring an appropriate level of the gap between the first crucible and the second crucible considering the arrangement of the base heater, The efficiency of space utilization is increased and the uniformity of deposition can be secured.
도 1의 (a), (b)는 종래 기술에 따른 증착챔버에서의 도가니 및 분사노즐의 위치관계를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버에서 도가니 분사노즐의 일부분등을 개략적으로 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버에서 도가니의 상측부분과 상부히터 및 분사노즐이 개략적으로 나타나도록 부분적으로 분해한 분해사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버에서 도가니와 제1, 제2베이스히터 등의 측단면을 개략적으로 나타낸 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버의 도가니, 분사가이더 및 분사노즐의 결합관계를 개략적으로 설명하기 위하여 분사가이더 및 분사노즐의 측단면을 개략적으로 나타낸 측단면도이다.1 (a) and 1 (b) are cross-sectional views schematically showing the positional relationship between a crucible and an injection nozzle in a deposition chamber according to the prior art.
2 is a perspective view schematically showing a part of a crucible injection nozzle in a deposition chamber according to an embodiment of the present invention.
3 is an exploded perspective view partially exploded to show an upper portion of a crucible and an upper heater and an injection nozzle in a deposition chamber according to an embodiment of the present invention.
4 is a side cross-sectional view schematically showing side surfaces of a crucible, first and second base heaters, and the like in a deposition chamber according to an embodiment of the present invention.
5 is a side cross-sectional view schematically showing a side cross-section of a spray guider and an injection nozzle in order to briefly explain a coupling relationship of a crucible, a spray guider and an injection nozzle of a deposition chamber according to an embodiment of the present invention.
이하에서는 본 발명에 대하여 보다 구체적으로 이해할 수 있도록 첨부된 도면을 참조한 바람직한 실시 예를 들어 설명하기로 한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버에서 도가니 분사노즐의 일부분등을 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버에서 도가니의 상측부분과 상부히터 및 분사노즐이 개략적으로 나타나도록 부분적으로 분해한 분해사시도이며, 도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버에서 도가니와 제1, 제2베이스히터 등의 측단면을 개략적으로 나타낸 측단면도이고, 도 5는 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버의 도가니, 분사가이더 및 분사노즐의 결합관계를 개략적으로 설명하기 위하여 분사가이더 및 분사노즐의 측단면을 개략적으로 나타낸 측단면도이다.FIG. 2 is a perspective view schematically showing a part of a crucible injection nozzle in a deposition chamber according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view of the upper part of a crucible and an upper heater and a spray nozzle in a deposition chamber according to an embodiment of the present invention FIG. 4 is a side cross-sectional view schematically showing a side cross section of a crucible, first and second base heaters, and the like in a deposition chamber according to an embodiment of the present invention, FIG. 5 is a cross- Sectional views schematically showing side cross-sectional views of a spray guider and an injection nozzle in order to briefly explain a coupling relationship of a crucible, a spray guider and an injection nozzle of a deposition chamber according to an embodiment of the present invention.
도 2 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 증착챔버는 제1도가니, 제1분사노즐, 제1베이스히터, 제2도가니, 제2분사노즐, 제2베이스히터, 제1분사가이더 및 상부히터를 포함하여 이루어진다. 2 to 5, a deposition chamber according to an embodiment of the present invention includes a first crucible, a first injection nozzle, a first base heater, a second crucible, a second injection nozzle, a second base heater, A guider and an upper heater.
제1도가니(110)는 진공기화증착(Evaporator)장비와 같은 증착챔버 내에 마련되는 증착공간의 하측에 배치되며, 증착공간 내에 인입되어 위치된 기판(미도시) 측으로 제1증착물질을 증발시켜준다. 여기서, 증착공간의 상측으로는 증착물질이 증착될 기판(미도시)이 인입되고, 증착 후에는 다시 증착챔버의 외부로 반출되어진다. The
증착챔버 내 증착공간에 위치한 기판 측으로 증착물질을 증발시키기 위하여 제1도가니(110)는 일측에서 타측으로 긴 형태이고, 내측에 제1증착물질을 수용할 수 있는 제1수용공간(112)이 마련되어 있다. 그리고 후술할 제1베이스히터(140) 등으로부터 열을 받아서 가열되어 제1증착물질을 증발시킨다. The
이러한 제1도가니(110)의 상측에는 증발된 제1증착물질이 기판 측으로 분사되어 갈 수 있도록 다수의 제1분사노즐(130)이 있으며, 제1도가니(110)와 제1분사노즐(130) 사이에 제1분사가이더(120)가 위치하고 있다. 그리고, 제1도가니(110)의 제1수용공간(112)과 제1분사가이더(120) 및 제1분사노즐(130)은 제1증착물질이 제1분사구(135)를 통해 제1증착물질이 분사될 수 있도록 서로 연통되어 있다. The
따라서 제1도가니(110)에서 증발된 제1증착물질은 다수의 제1분사노즐(130)을 통해 분사되어 제1도가니(110)의 상측에 위치하는 기판의 표면에 증착된다. Accordingly, the first evaporation material evaporated in the
제1분사노즐(130)은 제1도가니(110) 내에 마련된 제1수용공간(112)측과 연통되며, 제1수용공간(112) 내에서 증발된 제1증착물질이 기판 측으로 분사되도록 제1분사구(135)가 형성되어 있다. The
제1분사가이더(120)는 일측단이 제1도가니(110)와 연결되고, 타측단이 제1분사노즐(130)의 일측단과 연결된다. 그리고 제1분사노즐(130)이 후술할 제2분사노즐(230)과 인접한 위치에 있도록 지지하여 준다. 이러한 제1분사가이더(120)는 제1도가니(110)에서 증발된 제1증착물질이 제1분사노즐(130)측으로 이동되도록 가이더한다. The
이와 같은 제1분사가이더(120)는 제1도가니(110)와 연결된 일측단으로부터 제1분사노즐(130)과 연결되는 타측단까지 꺾임없이 곧게 형성된 파이프 형태인 것이 바람직하다. The
그리고, 제1분사가이더(120)는 제1도가니(110)의 상측에서 제2도가니(210) 측으로 일정한 각도만큼 틸트(tilt)되어 결합된 것이 바람직하다. 좀 더 구체적으로, 제1분사가이더(120)는, 제1분사가이더(120)의 타측단이 제1도가니(110)의 일측 또는 타측으로 일정 각도만큼 틸트되도록 제1도가니(110)의 상측에 결합된 것이 바람직하다. The
즉, 도 3 및 도 4에서 참조되는 바와 같이 제2도가니(210)측으로 일정 각도 기울어지되 제1도가니(110)의 일측 또는 타측방향으로도 일정각도 기울어지게 제1도가니(110)에 제1분사가이더(120)이 결합된다는 것이다. 여기서 기울어진 각도가 서로 같아야만 하는 것은 아니며, 기판에 대한 증착균일도나 증착프로파일(profile)에 따라 적절한 각도로 설정되는 것이 바람직하다. 3 and 4, the
여기서 좀 더 나아가, 제1분사노즐(130) 및 제1분사가이더(120)는 다수개이고, 다수의 제1분사노즐(130)은 제1도가니(110)의 길이방향에 따라 열을 지어 배치되어 있되, 제1도가니(110)의 일측단에서부터 홀수번째에 위치하는 제1분사노즐(130)은 제1도가니(110)의 일측을 향하여 틸트되고, 제1도가니(110)의 일측단에서부터 짝수번째에 위치하는 제1분사노즐(130)은 제1도가니(110)의 타측을 향하여 틸트된 것이 바람직하다. A plurality of
여기서 이해의 편의를 돕기 위하여 도 5를 참조하여 더욱 바람직한 형태를 설명하자면, 제1분사가이더(120)의 중심축(AX1)과 제1분사노즐(130)의 중심축(AX2) 사이의 예각 은 다음의 관계식을 만족시키는 것이 바람직하다. 5, an acute angle AX1 between the center axis AX1 of the
여기서, 은 제1분사가이더(120)의 반지름을 나타낸다. 그리고 은 제1분사가이더(120)의 중심축의 길이를 의미하며, 는 제1분사가이더(120))의 중심축(AX1)과 제1분사노즐(130)의 중심축(AX2)의 교점(CP1)으로부터 제1분사노즐(130) 끝단까지의 높이를 의미한다.here, Represents the radius of the
기본적인 수학적 원리상 두 개의 선분은 단 하나의 평면상에 공존한다. 따라서, 도 5에 나타낸 바와 같이 제1분사가이더(120))의 중심축(AX1)과 제1분사노즐(130)의 중심축(AX2)을 포함하는 가상의 평면을 고려할 때 도 5에 도시된 바와 같이 나타낼 수가 있게 된다. The basic mathematical principle is that two segments coexist on a single plane. 5, when considering a virtual plane including the center axis AX1 of the
이와 같은 가상의 평면에서 보면 두 중심축 AX1과 AX2의 교점 CP1을 기준으로 제1분사노즐(130)의 높이를 로 나타낼 수 있게 된다. In such a virtual plane, the height of the
그리고 x는 인 닮음비 관계를 통하여 이 된다. 따라서, 가 되는데, 여기서 각도 가 커서 를 만족시킬 경우, 외부에서 제1분사노즐(130)을 통하여 제1도가니(110) 내부의 제1수용공간(112)을 들여다 볼 수 없게 된다. And x is Through the relationship of resemblance . therefore, , Where the angle Is large The
이와 같이 제1분사가이더(120)에 대하여 제1분사노즐(130)이 을 만족시키는 각도 로 결합되면 제1분사노즐(130)에 의하여 증착물질이 분사되는 각도가 조절될 수 있으며, 요구되는 증착프로파일을 나타내도록 기판 상에 증착물질을 증착시킬 수가 있게 되므로 바람직하다는 것이다.In this way, the first injection nozzle (130) Angle The angle at which the deposition material is injected by the
제1베이스히터(140)는 일측과 타측이 수평하게 안착된 제1도가니(110)의 상측 이외의 부분을 에워싸도록 근접하여 배치되어 제1도가니(110)을 가열시켜준다. 이러한 제1베이스히터(140)는 하부하우징(110)의 내측에 장착된다. 그리고, 제1베이스히터(140)의 내측에 제1도가니(110)이 배치된다.The
여기서, 하부하우징(100)은 제1도가니(110) 및 후술할 제2도가니(210)을 수용하는 것으로서 증착챔버 내에서 기판이 증착되는 위치의 하측에 장착된다. The
그리고 상부하우징(410)은 제1도가니(110) 및 제2도가니(210)의 상측을 엄폐하듯이 덮되 제1분사노즐(130)이 도 2에 도시된 것 처럼 노출될 수 있도록 홀이 형성되어 있다. The
다음으로 제2도가니, 제2분사노즐, 제2분사가이더, 제2베이스히터 등에 대해서 언급하기로 한다. Next, the second crucible, the second injection nozzle, the second injection guider, the second base heater, etc. will be described.
둘 이상의 서로 다른 종류의 증착물질을 기판 상에 증착시키기 위한 증착챔버이므로, 앞서 언급한 제1도가니, 제1분사가이더, 제1분사노즐 외에 제2도가니 제2분사가이더, 제2분사노즐이 더 구비될 수 있다. The first crucible, the first injection nozzle, the second crucible second injection guider, and the second injection nozzle in addition to the first crucible, the first injection guide, the first injection nozzle, and the second injection nozzle .
제2도가니(210)에는 기판에 증착시킬 제2증착물질을 수용하기 위한 제2수용공간(212)이 마련되어 있다. 그리고, 제2도가니(210)는 제2베이스히터(240) 등으로부터 열을 받아서 가열되어 제2증착물질이 증발되도록 한다. The
이러한 제2도가니(210)는 앞서 설명한 제1도가니(110)와 대동소이하므로 자세한 설명은 생략하기로 한다. Since the
제2분사노즐(230)은 제2도가니(210) 내에 마련된 제2수용공간(212) 측과 연통되며, 제2수용공간(212) 내에서 증발된 제2증착물질이 기판 측으로 분사되도록 제2분사구(235)가 형성되어 있다. The
이러한 제2분사노즐(230) 자체는 앞서 설명한 제1분사노즐(130)과 대동소이하므로 자세한 설명은 생략하기로 한다. Since the
제2분사가이더(220)는 일측단이 제2도가니(210)와 연결되고, 타측단이 제2분사노즐(230)과 연결된다. 그리고, 제2분사노즐(230)이 제1분사노즐(130)과 인접한 위치에 있도록 지지하여 주며, 제2도가니(210)에서 증발된 제2증착물질이 제2분사노즐(230) 측으로 이동되도록 가이더한다. The
그리고, 제2분사가이더(220)는 앞서 설명한 제1분사가이더(120)와 마찬가지로 제2도가니(210)와 연결된 일측단으로부터 제2분사노즐(230)과 연결되는 타측단까지 꺾임없이 곧게 형성된 파이프 형태인 것이 바람직하다.Like the
그리고, 제2분사가이더(220)는 제2도가니(210)의 상측에서 제1도가니(110) 측으로 일정한 각도만큼 틸트(tilt)되어 결합된 것이 바람직하다. 좀 더 구체적으로, 제2분사가이더(220)는, 제2분사가이더(220)의 타측단이 제2도가니(210)의 일측 또는 타측으로 일정 각도만큼 틸트되도록 제2도가니(210)의 상측에 결합된 것이 바람직하다. The
즉, 도 3 및 도 4에서 참조되는 바와 같이 제1도가니(110)측으로 일정 각도 기울어지되 제2도가니(210)의 일측 또는 타측방향으로도 일정각도 기울어지게 제2도가니(210)에 제2분사가이더(220)이 결합된다는 것이다. 여기서 기울어진 각도가 서로 같아야만 하는 것은 아니며, 기판에 대한 증착균일도나 증착프로파일(profile)에 따라 적절한 각도로 설정되는 것이 바람직하다. 3 and 4, the
여기서 좀 더 나아가, 제2분사노즐(230) 및 제2분사가이더(220)는 다수개이고, 다수의 제2분사노즐(230)은 제2도가니(210)의 길이방향에 따라 열을 지어 배치되어 있되, 제2도가니(210)의 일측단에서부터 홀수번째에 위치하는 제2분사노즐(230)은 제2도가니(210)의 일측을 향하여 틸트되고, 제2도가니(210)의 일측단에서부터 짝수번째에 위치하는 제2분사노즐(230)은 제2도가니(210)의 타측을 향하여 틸트된 것이 바람직하다. A plurality of
여기서 제2분사가이더(220)의 중심축과 제2분사노즐(230)의 중심축 사이의 예각 은 다음의 관계식을 만족시키는 것이 바람직하다. Here, an acute angle between the central axis of the
여기서, 은 제2분사가이더(220)의 반지름을 나타내고, 은 제2분사가이더(220)의 중심축 길이를 나타낸 것이며, : 제2분사가이더(220)의 중심축과 제2분사노즐(230)의 중심축의 교점으로부터 제2분사노즐(230) 끝단까지의 높이를 의미한다.here, Represents the radius of the
여기서, 앞서 도 5를 참조하여 설명한 제1분사가이더(120)와 제1분사노즐(130)의 중심축 사이의 예각에 관한 관계가 제2분사가이더(220) 및 제2분사노즐(230)에 대하여도 같은 논리로써 그대로 적용될 수 있다. 다만, 앞서 설명한 제1분사가이더와 제1분사노즐의 중심축 사이의 예각에 관한 설명과 구별될 수 있게 표기상 같은 문자에 ‘ 을 부가하여 표기했다는 정도 차이가 있으며 기본적인 원리는 동일하다. 따라서 앞서 설명한 것으로 대신할 수 있다.Here, an acute angle between the central axis of the
제2베이스히터(240)는 일측과 타측이 수평하게 안착된 제2도가니(210)의 상측 이외의 부분을 에워싸도록 근접하여 배치되어 제2도가니(210)을 가열시켜준다. 이러한 제2베이스히터(240)는 하부하우징(100)의 내측에 장착된다. 그리고, 제2베이스히터(240)의 내측에 제2도가니(210)이 배치된다.The
상부히터(340)는 도 4에서 참조되는 바와 같이 제1분사가이더(120), 제1분사노즐(130), 제2분사가이더(220) 및 제2분사노즐(230)의 상측에서 덮듯이 배치된다. 그리고, 제1분사노즐(130) 및 제2분사노즐(230)이 도 2에 도시된 바와 같이 노출될 수 있게 노즐홀(345)이 형성되어 있다. 그리고, 도면부호 133은 제1분사노즐(130) 또는 제2분사노즐(230)의 끝단을 가열시켜주는 히터를 가리킨다.The
앞서 설명한 바와 같이 제1도가니(110)와 제2도가니(210)로부터 제1분사가이더(120)와 제2분사가이더(220)가 일정 각도 틸트된 상태에서 제1분사노즐(130), 제2분사노즐(230) 각각을 지지하여 줌으로써, 제1분사노즐(130)과 제2분사노즐(230)이 근접하게 배치될 수 있으며 동시에 하측으로는 히터가 배치될 수 있는 공간을 확보할 수 있다. 그리고 상부히터(340)는 선택적으로 제1도가니(110)와 제2도가니(210)의 상측에 선택적으로 배치 또는 탈거될 수 있게 된다.When the
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 증착챔버는 베이스히터의 배치를 고려하여 제1도가니, 제2도가니 사이의 간격을 적정 수준으로 확보하면서도 동시에 제1분사노즐과 제2분사노즐의 간격을 좁힐 수 있으므로, 도가니 주변의 공간활용의 효율성이 증대되고, 증착균일도를 확보할 수 있는 장점이 있다. As described above, in the deposition chamber according to the present invention, the gap between the first crucible and the second crucible is maintained at an appropriate level while considering the arrangement of the base heater, and at the same time, Therefore, the efficiency of utilization of the space around the crucible is increased, and the uniformity of deposition can be secured.
이상에서 설명된 바와 같이, 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시 예들에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시 예들은 본 발명의 바람직한 실시 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시 예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어져야 할 것이다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It is to be understood that the scope of the present invention is to be construed as being limited only by the embodiments, and the scope of the present invention should be understood as the following claims and their equivalents.
110 : 제1도가니 120 : 제1분사가이더
130 : 제1분사노즐 135 : 제1분사구
210 : 제2도가니 220 : 제2분사가이더
230 : 제2분사노즐 235 : 제1분사구
340 : 상부히터110: first crucible 120: first injection guider
130: first jet nozzle 135: first jet nozzle
210: second crucible 220: second injection guider
230: second injection nozzle 235: first injection nozzle
340: upper heater
Claims (12)
일측에서 타측으로 긴 형태이고, 기판에 증착시킬 제1증착물질을 수용하기 위한 제1수용공간이 내측에 마련되어 있으며, 상기 제1증착물질이 증발되도록 가열되는 제1도가니;
상기 제1도가니 내에 마련된 상기 제1수용공간 측과 연통되며, 상기 제1수용공간 내에서 증발된 상기 제1증착물질이 상기 기판 측으로 분사되도록 제1분사구가 형성된 제1분사노즐;
일측과 타측이 수평하게 안착된 상기 제1도가니의 상측 이외의 부분을 에워싸도록 근접하여 배치되어 상기 제1도가니를 가열시키는 제1베이스히터;
일측에서 타측으로 긴 형태이고, 상기 기판에 증착시킬 제2증착물질을 수용하기 위한 제2수용공간이 마련되어 있으며, 상기 제2증착물질이 증발되도록 가열되는 제2도가니;
상기 제2도가니 내에 마련된 상기 제2수용공간 측과 연통되며, 상기 제2수용공간 내에서 증발된 상기 제2증착물질이 상기 기판 측으로 분사되도록 제2분사구가 형성된 제2분사노즐;
일측과 타측이 수평하게 안착된 상기 제2도가니의 상측 이외의 부분을 에워싸도록 근접하여 배치되어 상기 제2도가니를 가열시키는 제2베이스히터;
일측단이 상기 제1도가니와 연결되고, 타측단이 상기 제1분사노즐과 연결되어 상기 제1분사노즐이 상기 제2분사노즐과 인접한 위치에 있도록 지지하여 주며, 상기 제1도가니에서 증발된 상기 제1증착물질이 상기 제1분사노즐 측으로 이동되도록 가이더하는 제1분사가이더; 및
상기 제1도가니와 상기 제2도가니의 상측에 근접하게 배치되어 상기 제1도가니와 상기 제2도가니를 가열시키는 상부히터; 를 포함하되,
상기 상부히터에는
상기 제1분사가이더, 상기 제1분사노즐 및 상기 제2분사노즐의 적어도 일부분이 삽입되는 노즐홀이 형성되어 있고,
상기 상부히터는 선택적으로 상기 제1도가니와 상기 제2도가니의 상측에 배치 또는 탈거될 수 있으며,
상기 제1분사가이더는,
상기 제1도가니의 상측에서 상기 제2도가니 측으로 일정한 각도만큼 틸트(tilt)되어 결합되되, 상기 제1분사가이더의 타측단이 상기 제1도가니의 일측 또는 타측으로 일정 각도 틸트되도록 상기 제1도가니의 상측에 결합된 것이며,
상기 제1분사노즐 및 상기 제1분사가이더는 다수개이고,
다수의 상기 제1분사노즐은 상기 제1도가니의 길이방향에 따라 열을 지어 배치되어 있되,
상기 제1도가니의 일측단에서부터 홀수번째에 위치하는 제1분사노즐은 상기 제1도가니의 일측을 향하여 틸트되고,
상기 제1도가니의 일측단에서부터 짝수번째에 위치하는 제1분사노즐은 상기 제1도가니의 타측을 향하여 틸트된 것을 특징으로 하는 증착챔버.
1. A deposition chamber in which a deposition process is performed on a substrate,
A first crucible having an elongated shape from one side to the other side and having a first accommodation space for accommodating a first deposition material to be deposited on a substrate and heated to evaporate the first deposition material;
A first injection nozzle communicating with the first accommodation space side provided in the first crucible and having a first injection port for spraying the first evaporation material evaporated in the first accommodation space toward the substrate side;
A first base heater disposed adjacent to the first crucible so as to surround a portion other than the upper side of the first crucible on which one side and the other side are horizontally mounted to heat the first crucible;
A second crucible having a shape elongated from one side to the other side and having a second accommodation space for accommodating a second deposition material to be deposited on the substrate, the second deposition material being heated to evaporate;
A second injection nozzle communicating with the second accommodation space side provided in the second crucible and having a second injection port for spraying the second evaporation material evaporated in the second accommodation space toward the substrate side;
A second base heater disposed adjacent to the second crucible so as to surround a portion other than the upper side of the second crucible on which one side and the other side are mounted horizontally and to heat the second crucible;
Wherein the first crucible is connected to the first crucible and the other end is connected to the first injection nozzle to support the first injection nozzle at a position adjacent to the second injection nozzle, A first injection guide for guiding the first deposition material to move toward the first injection nozzle side; And
An upper heater disposed adjacent to an upper side of the first crucible and the second crucible to heat the first crucible and the second crucible; , ≪ / RTI &
The upper heater
A nozzle hole into which at least a part of the first injection guider, the first injection nozzle and the second injection nozzle are inserted is formed,
The upper heater may optionally be disposed or removed above the first crucible and the second crucible,
Wherein the first injection guide
The first crucible is tilted at a predetermined angle from the upper side of the first crucible to the second crucible side so that the other end of the first injection guider is tilted to one side or the other side of the first crucible, And is coupled to the upper side,
A plurality of first injection nozzles and a plurality of first injection guiders,
The plurality of first injection nozzles are arranged in rows along the longitudinal direction of the first crucible,
The first injection nozzles located at odd-numbered positions from one end of the first crucible are tilted toward one side of the first crucible,
Wherein the first injection nozzle located at an even-numbered position from one end of the first crucible is tilted toward the other side of the first crucible.
상기 제1분사가이더는,
상기 제1도가니와 연결된 일측단으로부터 상기 제1분사노즐과 연결되는 타측단까지 꺾임없이 곧게 형성된 파이프 형태인 것을 특징으로 하는 증착챔버.
The method according to claim 1,
Wherein the first injection guide
Wherein the first injection nozzle is connected to the first crucible, and the second injection nozzle is connected to the first crucible.
상기 제1분사가이더의 중심축과 상기 제1분사노즐의 중심축 사이의 예각 은 다음의 관계식
( : 제1분사가이더의 반지름, : 제1분사가이더의 중심축 길이,
: 제1분사가이더의 중심축과 제1분사노즐의 중심축의 교점으로부터 제1분사노즐 끝단까지의 높이 )을 만족시키는 것을 특징으로 하는 증착챔버.
The method according to claim 1,
An acute angle between a center axis of the first injection guide and a center axis of the first injection nozzle The following relation
( : The radius of the first injection guider, : The center axis length of the first injection guider,
: Height from the intersection of the central axis of the first injection guider and the central axis of the first injection nozzle to the end of the first injection nozzle).
일측단이 상기 제2도가니와 연결되고, 타측단이 상기 제2분사노즐과 연결되어 상기 제2분사노즐이 상기 제1분사노즐과 인접한 위치에 있도록 지지하여 주며, 상기 제2도가니에서 증발된 상기 제2증착물질이 상기 제2분사노즐 측으로 이동되도록 가이더하는 제2분사가이더; 를 더 포함하고,
상기 상부히터가 상기 제2도가니의 상측에 배치되면서 상기 상부히터의 상기 노즐홀에 상기 제2분사가이더의 적어도 일부분이 삽입될 수 있는 것을 특징으로 하는 증착챔버.
The method according to claim 1,
And the other end of the second crucible is connected to the second injection nozzle to support the second injection nozzle at a position adjacent to the first injection nozzle, A second injection guider guiding the second deposition material to move toward the second injection nozzle side; Further comprising:
Wherein at least a portion of the second injection guider can be inserted into the nozzle hole of the upper heater while the upper heater is disposed above the second crucible.
상기 제2분사가이더는,
상기 제2도가니와 연결된 일측단으로부터 상기 제2분사노즐과 연결되는 타측단까지 꺾임없이 곧게 형성된 파이프 형태인 것을 특징으로 하는 증착챔버.
8. The method of claim 7,
Wherein the second injection guider comprises:
Wherein the first injection nozzle is connected to the second crucible, and the other end is connected to the second injection nozzle.
상기 제2분사가이더는,
상기 제2도가니의 상측에서 상기 제1도가니 측으로 일정한 각도만큼 틸트(tilt)되어 결합된 것을 특징으로 하는 증착챔버.
8. The method of claim 7,
Wherein the second injection guider comprises:
And the second crucible is tilted and coupled to the first crucible side by a predetermined angle from the upper side of the second crucible.
상기 제2분사가이더는,
상기 제2분사가이더의 타측단이 상기 제2도가니의 일측 또는 타측으로 일정 각도 틸트되도록 상기 제2도가니의 상측에 결합된 것을 특징으로 하는 증착챔버.
10. The method of claim 9,
Wherein the second injection guider comprises:
And the other end of the second injection guider is coupled to the upper side of the second crucible so as to be tilted at a predetermined angle to one side or the other side of the second crucible.
상기 제2분사노즐 및 상기 제2분사가이더는 다수개이고,
다수의 상기 제2분사노즐은 상기 제2도가니의 길이방향에 따라 열을 지어 배치되어 있되,
상기 제2도가니의 일측단에서부터 홀수번째에 위치하는 제2분사노즐은 상기 제2도가니의 일측을 향하여 틸트되고,
상기 제2도가니의 일측단에서부터 짝수번째에 위치하는 제2분사노즐은 상기 제2도가니의 타측을 향하여 틸트된 것을 특징으로 하는 증착챔버.
11. The method of claim 10,
A plurality of the second injection nozzles and the second injection guides are provided,
Wherein the plurality of second injection nozzles are arranged in rows along a longitudinal direction of the second crucible,
The second injection nozzles located at odd-numbered positions from one end of the second crucible are tilted toward one side of the second crucible,
And a second injection nozzle located at an even-numbered position from one end of the second crucible is tilted toward the other side of the second crucible.
상기 제2분사가이더의 중심축과 상기 제2분사노즐의 중심축 사이의 예각 은 다음의 관계식
( : 제2분사가이더의 반지름, : 제2분사가이더의 중심축 길이,
: 제2분사가이더의 중심축과 제2분사노즐의 중심축의 교점으로부터 제2분사노즐 끝단까지의 높이 ) 을 만족시키는 것을 특징으로 하는 증착챔버.
11. The method of claim 10,
An acute angle between the center axis of the second injection guide and the center axis of the second injection nozzle The following relation
( : The radius of the second injection guider, : The center axis length of the second injection guider,
: The height from the intersection of the central axis of the second injection guider and the central axis of the second injection nozzle to the end of the second injection nozzle).
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KR1020160167930A KR101893972B1 (en) | 2016-12-09 | 2016-12-09 | Deposition Chamber |
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- 2016-12-09 KR KR1020160167930A patent/KR101893972B1/en active IP Right Grant
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