KR101853409B1 - 자기 필터 장치, 액체 세정 시스템 및 액체 세정 방법 - Google Patents

자기 필터 장치, 액체 세정 시스템 및 액체 세정 방법 Download PDF

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Abstract

자석 유닛으로부터 떨어진 위치에서의 자계 강도의 저하를 방지하는 자기 필터 장치를 제공한다. 자기 필터 장치(1A(1B))는, 내부를 흐르는 피처리 유체 중에 분산되는 강자성체 입자를 자력 작용을 이용하여 흡착하고, 상기 피처리 유체로부터 여과 제거하는 처리실(S1)을 갖는 처리 용기(6)와, 다른 자극을 포함하는 복수의 자극이 피처리 유체의 흐름 방향을 따라 배치되면서 처리실(S1)의 외부에 위치하도록 구성된 자석 유닛(2)과, 피처리 유체의 흐름을 허용하도록 처리실(S1) 내에 마련되어, 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 처리실(S1) 내에서의 자석 유닛(2)으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들이는 하나 이상의 자기 요크(41)를 구비한다.

Description

자기 필터 장치, 액체 세정 시스템 및 액체 세정 방법{MAGNETIC FILTER DEVICE, LIQUID WASHING SYSTEM AND LIQUID WASHING METHOD}
본 발명은 자기 필터 장치, 액체 세정 시스템 및 액체 세정 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 호닝 머신(honing machine)이나 연삭기 등의 공작 기계는 가공부에 배치 지지된 공작물(이하, 워크라고 칭함.)에 대하여, 공급 탱크에 저장된 쿨런트(연삭액, 절삭액 등)를 공급하면서 연삭 가공을 실시한다. 이 연삭 가공 시에 발생하는 워크의 금속 연삭분은 쿨런트와 함께 회수된다. 회수된, 사용이 끝난 쿨런트는 필터 장치에 의해 여과됨으로써 금속 연삭분이 제거되어 재사용된다.
이 사용이 끝난 쿨런트로부터 금속 연삭분을 여과하는 필터 장치로서, 예를 들면 특허문헌 1에 기재되어 있는 자기 필터 장치가 제안되고 있다.
이 자기 필터 장치는, 처리 용기 내에 배치된 자기 재료로 이루어지는 여재(濾材)와, 이 여재를 자화(磁化)시키는 자석을 구비하고, 사용이 끝난 쿨런트 중에 포함되는 금속 연삭분(강자성체 입자)을 자화된 여재에 흡착시킨다.
일본국 공개특허공보 2011-11205호
처리실 내에서, 자석의 자력선은 어느 자극(磁極)으로부터 자석의 근방을 통해 나머지 다른 자극으로 향하는 것이 많아진다. 따라서 처리실 내에서 자석 근방에서는 자계 강도가 커지지만, 자석으로부터 떨어져 있는 위치에서는 자계 강도가 저하된다.
본 발명은 상기 사유에 비추어 이루어진 것이며, 자석 유닛으로부터 떨어진 위치에서의 자계 강도의 저하를 방지하는 자기 필터 장치 및 액체 세정 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
(1) 본 발명에 따른 자기 필터 장치는, 내부를 흐르는 피처리 유체 중에 분산되는 강자성체 입자를 자력 작용을 이용하여 흡착하고, 피처리 유체로부터 여과 제거하는 처리실을 갖는 처리 용기와, 다른 자극을 포함하는 복수의 자극이 피처리 액체의 흐름 방향을 따라 배치되면서 처리실의 외부에 위치하도록 구성된 자석 유닛과, 피처리 유체의 흐름을 허용하도록 처리실 내에 마련되어, 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 상기 처리실 내에서의 상기 자석 유닛으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들이는 하나 이상의 자기 요크(yoke)를 구비하고 있다.
상술한 바와 같이, 처리실 내에 자기 요크가 배치되어 있지 않은 구성에서는, 자력선은 어느 자극으로부터 자석 유닛의 근방을 통해 나머지 다른 자극으로 향하는 것이 많아진다. 따라서 처리실 내에서, 자석 유닛 근방에서는 자계 강도가 커지지만, 자석 유닛으로부터 떨어진 위치에서는 자계 강도가 저하된다.
이에 반해, 본 발명에 따른 자기 필터 장치는, 자력선을 자석 유닛으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들이는 자기 요크를 구비하고 있기 때문에, 자석 유닛으로부터 떨어진 위치에서의 자계 강도의 저하를 방지할 수 있다.
(2) 상기 하나 이상의 상기 자기 요크는 제1 자기 요크와 제2 자기 요크를 포함하고, 제1 자기 요크가 처리실 내에서 자석 유닛 중 하나의 자극에 대응하는 제1 위치의 근방에 배치되며, 제2 자기 요크가 처리실 내에서 자석 유닛 중 나머지 다른 자극에 대응하는 제2 위치의 근방에 배치되고, 제2 자기 요크가 하나의 자극으로부터 제1 자기 요크를 따라 자석 유닛으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들여진 자계의 방향을, 처리실 내에서 제1 자기 요크로부터 제2 자기 요크로 향하는 방향으로 변화시키는 것이어도 된다.
본 구성에 따르면, 제2 자기 요크가 하나의 자극으로부터 제1 자기 요크를 따라 자석 유닛으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들여진 자계의 방향을, 처리실 내에서 제1 자기 요크로부터 제2 자기 요크로 향하는 방향으로 변화시킨다. 이로써, 제1 자기 요크로부터 제2 자기 요크로 향하는 자계의 자속밀도를 향상시킬 수 있다.
(3) 상기 자석 유닛은 상기 피처리 유체의 흐름 방향을 따라 배치된 복수의 자석을 가지며, 상기 복수의 자석 각각은, 이웃하는 다른 자석과 동일한 극성의 자극이 마주하도록 배치되고, 상기 자기 요크가 복수 존재하며, 복수의 자기 요크 각각이 피처리 유체의 흐름 방향으로 복수의 자석의 자극이 마주하는 위치의 근방에 배치되어 있는 것이어도 된다.
본 구성에 따르면, 복수의 자석 각각으로부터 피처리 유체의 흐름 방향의 자계가 발생하므로, 피처리 유체의 흐름 방향의 자계의 자속밀도를 향상시킬 수 있다.
(4) 상기 자석 유닛은, 또한 복수의 부(副)자기 요크를 가지며, 복수의 상기 부자기 요크 각각은, 이웃하는 2개의 자석 사이에 개재되어 있어도 된다.
(5) 상기 처리 용기는 통상체를 가지며, 통상체의 내측이 상기 처리실을 구성하고, 자석 유닛이 통상체의 외측에 배치되어 있어도 된다.
본 구성에 따르면, 처리실 내에서의 자속밀도 향상을 도모할 수 있으므로 여과 성능 향상을 도모할 수 있다.
(6) 상기 처리 용기는 제1 통상체의 외측에 제2 통상체가 배치된 형상을 가지며, 제1 통상체와 제2 통상체 사이의 영역이 상기 처리실을 구성하고, 자석 유닛이 상기 제1 통상체의 내측에 배치되어 있어도 된다.
본 구성에 따르면, 처리실을 크게 하기 쉽다는 이점이 있다.
(7) 상기 자기 요크는, 상기 처리실의 내부에서 상기 자석 유닛과의 사이에 상기 피처리 유체의 유로가 형성되도록 배치되어, 상기 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 끌어들이는 것이어도 된다.
본 구성에 따르면, 자기 요크가 자석 유닛의 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 끌어들인다. 이로써, 자석 유닛으로부터 자기 요크로 향하는 자계의 자속밀도를 향상시킬 수 있다.
(8) 본 발명에 따른 자기 필터 장치는, 자기 재료로 구성되어 상기 처리 용기의 상기 처리실 내에 배치된 여재를 더 구비하는 것이어도 된다.
본 구성에 따르면, 여재를 구비함으로써 여과 성능 향상을 도모할 수 있다.
(9) 다른 관점에서 본, 본 발명에 따른 액체 세정 시스템은 상기 (8)의 자기 필터 장치와, 자기 필터 장치가 구비하는 상기 처리 용기의 상기 처리실에 액체로 이루어지는 상기 피처리 유체를 공급하는 펌프와, 펌프가 공급하는 상기 피처리 유체의 유로를 전환하는 전환부를 구비하고, 처리 용기가 처리실 내에 연통하는 제1 배관과, 처리실에서의 여재의 제1 배관 측과는 반대측에 위치하여 상기 처리실 내에 연통하는 제2 배관과, 처리실 내에서의 상기 여재의 상기 제2 배관 측에 공기가 모여 있는 공기 저장 영역을 형성하는 공기 저장 영역 형성부를 가지며, 전환부가, 펌프가 공급하는 피처리 유체의 유로를 제1 배관 및 상기 제2 배관을 통하도록 전환함으로써, 상기 공기 저장 영역에 존재하는 공기를 압축한 후, 펌프가 공급하는 피처리 유체의 유로를 제2 배관을 통하도록 전환함으로써, 공기 저장 영역에 존재하는 압축된 공기의 압력에 의해 처리실 내에 존재하는 피처리 유체를 제1 배관을 통해 상기 처리실의 외부로 밀어낸다.
본 구성에 따르면, 전환부를 제어하여 피처리 유체의 유로를 전환함으로써 공기 저장 영역에 존재하는 공기가 압축된다. 그 후, 전환부 또한 피처리 유체의 유로를 전환함으로써, 처리실 내에 존재하는 피처리 유체가 공기 저장 영역에 존재하는 공기의 압력으로, 제1 배관으로 세게 밀려간다. 이 때, 여재에 부착된 강자성체 입자 등의 슬러지(sludge)가 피처리 유체에 의해 씻겨 내려가므로 여재의 막힘이 해소된다.
(10) 또한 본 발명에 따른 액체 세정 시스템은, 상기 공기 저장 영역 형성부가 상기 제2 배관에 연통하여 처리실 내에 돌출한 배관으로 구성되는 것이어도 된다.
본 구성에 따르면, 공기 저장 영역 형성부의 간소화를 도모할 수 있다.
(11) 또한 본 발명에 따른 액체 세정 시스템은, 상기 전환부가 다방(多方)밸브를 포함하여 구성되어 있는 것이어도 된다.
(12) 또한 본 발명에 따른 액체 세정 시스템은, 상기 펌프에 접속된 제3 배관과, 처리가 끝난 액체용의 제4 배관과, 상기 피처리 유체의 배출용인 배출용 배관과, 상기 제2 배관과 제3 배관을 바이패스(bypass)하는 바이패스 배관을 더 구비하고, 상기 전환부가 상기 제1 배관을 제3 배관 및 배출용 배관 중 어느 한쪽에 접속하는 제1 삼방밸브(three way valve)와, 제2 배관을 제4 배관 및 바이패스 배관 중 어느 한쪽에 접속하는 제2 삼방밸브와, 제1 삼방밸브 및 제2 삼방밸브를 제어하는 제어부를 가지며, 제어부가 제1 삼방밸브를 제어하여 제1 배관을 제3 배관에 접속함과 함께, 제2 삼방밸브를 제어하여 제2 배관을 제4 배관에 접속함으로써 펌프부터 제1 배관, 여재의 순서대로 경유하여 제2 배관으로 흐르는 제1 유로로 전환하고, 제1 삼방밸브를 제어하여 제1 배관을 제3 배관에 접속함과 함께, 제2 삼방밸브를 제어하여 제2 배관을 상기 바이패스 배관에 접속함으로써 펌프로부터 제1 배관 및 제2 배관을 통해 처리실 내로 흐르는 제2 유로로 전환하며, 제1 삼방밸브를 제어하여 제1 배관을 배출용 배관에 접속함과 함께, 제2 삼방밸브를 제어하여 제2 배관을 바이패스 배관에 접속함으로써 펌프부터 제2 배관, 여재의 순서대로 경유하여 제1 배관으로 흐르는 제3 유로로 전환한다.
(13) 다른 관점에서 본, 본 발명에 따른 액체 세정 방법은, 청구항 8에 기재된 자기 필터 장치와, 상기 자기 필터 장치가 구비하는 상기 처리 용기의 상기 처리실에 액체로 이루어지는 상기 피처리 유체를 공급하는 펌프를 이용한 액체 세정 방법으로서, 상기 처리 용기는, 상기 처리실 내에 연통하는 제1 배관과, 상기 처리실에서의 상기 여재의 상기 제1 배관 측과는 반대측에 위치하여 상기 처리실 내에 연통하는 제2 배관을 가지며, 상기 처리실 내에서의 상기 여재의 상기 제2 배관 측에 공기가 모여 있는 공기 저장 영역을 형성하는 단계와, 상기 펌프가 공급하는 상기 피처리 유체의 유로를 상기 제1 배관 및 상기 제2 배관을 통하도록 전환함으로써 상기 공기 저장 영역에 존재하는 공기를 압축하는 단계와, 상기 펌프가 공급하는 상기 피처리 유체의 유로를 상기 제2 배관을 통하도록 전환함으로써, 공기 저장 영역에 존재하는 압축된 공기의 압력에 의해 상기 처리실 내에 존재하는 상기 피처리 유체를 상기 제1 배관을 통해 상기 처리실의 외부로 밀어내는 단계를 포함한다.
본 발명에 의하면, 여과 성능 향상을 도모할 수 있는 자기 필터 장치 및 액체 세정 시스템을 제공할 수 있다.
도 1은 실시형태에 따른 액체 세정 시스템의 개략 구성도이다.
도 2는 실시형태에 따른 자기 필터 장치의 개략 구성도이다.
도 3은 실시형태에 따른 자기 요크를 나타내고, (a)는 사시도, (b)는 단면도이다.
도 4는 실시형태에 따른 제어부의 블록도이다.
도 5는 실시형태에 따른 자기 필터 장치의 동작 설명도이다.
도 6은 비교예에 따른 자기 필터 장치의 동작 설명도이다.
도 7은 실시형태에 따른 자기 필터 장치의 성능 설명도이다.
도 8은 실시형태에 따른 제어부의 동작을 나타내는 플로 차트이다.
도 9는 실시형태에 따른 제어부의 동작을 나타내는 플로 차트이다.
도 10은 실시형태에 따른 제어부의 동작을 나타내는 플로 차트이다.
도 11은 실시형태에 따른 자기 필터 장치의 동작 설명도이다.
도 12는 실시형태에 따른 자기 필터 장치의 동작 설명도이다.
도 13은 실시형태에 따른 자기 필터 장치의 동작 설명도이다.
도 14는 변형예에 따른 자기 필터 장치의 개략 구성도이다.
도 15는 변형예에 따른 자기 요크를 나타내고, (a)는 사시도, (b)는 단면도이다.
도 16은 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 개략 구성도이다.
도 17은 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 개략 구성도이다.
도 18은 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 개략 구성도이다.
도 19는 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 개략 구성도이다.
도 20은 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 개략 구성도이다.
도 21은 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 개략 구성도이다.
도 22는 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 개략 구성도이다.
<실시형태>
<1> 구성
[전체 구성]
도 1은 본 실시형태에 따른 유체 세정 시스템의 개략도이다.
유체 세정 시스템은, 호닝 머신 등의 공작 기계(108)에서 사용된 쿨런트(피처리 유체)를 세정하는 시스템이다.
유체 세정 시스템은 자기 필터 장치(1A, 1B)와, 펌프(90)와, 어큐물레이터(accumulator)(96)와, 탈액ㆍ고화(固化) 유닛(100)과, 버퍼 탱크(104)와, 회수 탱크(106)와, 압력 센서(120)와, 제어부(190)를 구비한다.
회수 탱크(106)는 공작 기계(108)에서 사용된 쿨런트(사용이 끝난 쿨런트)를 회수하기 위한 것이다.
펌프(90)는 회수 탱크(106)에 저장된, 사용이 끝난 쿨런트를 배관(114)을 통해 2개의 자기 필터 장치(1A)에 공급한다.
자기 필터 장치(1A, 1B)는 배관(114)을 통해 보내져 오는, 사용이 끝난 쿨런트를 세정한다. 이 자기 필터 장치(1A, 1B)의 상세한 것은 후술한다.
어큐물레이터(96)는 자기 필터 장치(1A(1B))에 의해 세정된 쿨런트(세정이 끝난 쿨런트)와 공기를 저장하고 있다. 어큐물레이터(96)에 저장된 쿨런트는 자기 필터 장치(1A(1B))로부터 배관(118)을 통해 유입되고, 공기는 배관(99)과 밸브(98)를 통해 유입된다.
버퍼 탱크(104)는 공작 기계(108)에 공급하는, 세정이 끝난 쿨런트를 저장하고 있다. 그리고 펌프(102)가 버퍼 탱크(104)에 저장된, 세정이 끝난 쿨런트를 공작 기계(108)에 공급한다.
밸브(98)는 배관(118)을 흐르는, 세정이 끝난 쿨런트의 유로를 전환하기 위한 것이다. 밸브(98)가 닫혀 있는 경우, 배관(118)을 흐르는, 세정이 끝난 쿨런트는 어큐물레이터(96)로 유입된다. 한편, 밸브(98)가 열려 있는 경우, 세정이 끝난 쿨런트는 배관(99)을 통해 버퍼 탱크(104)로 유입된다. 또한 공기가 배관(99)을 통해 어큐물레이터(96)로 유입된다.
탈액ㆍ고화 유닛(100)은, 후술하는 자기 필터 장치(1A)의 세정 시, 자기 필터 장치(1A)로부터 배관(116)을 통해 유입되는, 쿨런트에 포함되는 금속분 등의 슬러지를 분리하여 고화한다.
압력 센서(120)는 펌프(90)의 근방에 마련되어 있으며 펌프(90)의 송출 압력을 검출하고 있다.
[자기 필터 장치]
도 2는 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)의 개략 단면도이다. 또한 자기 필터 장치(1B)는 자기 필터 장치(1A)와 동일하다.
자기 필터 장치(1A)는 배관(114)을 통해 유입되는 사용이 끝난 쿨런트 중에 분산되는 강자성체 입자(예를 들면, 호닝에 의해 생기는 금속 연삭분)를 자력 작용을 이용하여 쿨런트로부터 여과 제거하는 장치이다.
자기 필터 장치(1A)는 주로, 처리 용기(6)와, 자석 유닛(2)과, 여재(4)와, 자기 요크(41)와, 액체 삼방밸브(16, 18), 공기 삼방밸브(134, 136)와, 압축공기원(138)과, 압력 센서(120)를 구비한다.
처리 용기(6)는 대략 원통상의 제2 통상체(62)와, 대략 원통상의 제1 통상체(61)와, 윗덮개(17b)와, 아래덮개(17a)와, 상판(7)과, 받침대(9)를 포함하여 구성된다.
제2 통상체(62)의 통축방향에 직교하는 단면에서, 제1 통상체(61)의 바깥 지름은 제2 통상체(62)의 안쪽 지름과 비교하여 작다. 처리 용기(6)는 제1 통상체(61)의 외측에 제2 통상체(62)가 배치된 형상을 갖는다. 제2 통상체(62) 및 제1 통상체(61)의 통축방향으로의 길이는 대략 동일하다. 제2 통상체(62) 및 제1 통상체(61)는, 예를 들면 비(非)자성체 스테인리스 강철 등의 비자성체 재료로 구성되어 있다.
상판(7)은, 제2 통상체(62) 및 제1 통상체(61)의 통축방향으로의 일단 측(도 2에서의 상단 측)을 폐쇄하도록 제2 통상체(62) 및 제1 통상체(61)에 장착되어 있다. 받침대(9)는, 제2 통상체(62) 및 제1 통상체(61)의 통축방향으로의 타단 측(도 2에서의 하단 측)을 폐쇄하도록 제2 통상체(62) 및 제1 통상체(61)에 장착되어 있다. 그리고 제2 통상체(62)와 제1 통상체(61) 사이의 영역이 처리실(S1)을 구성하고, 제1 통상체(61)의 내측의 영역이, 자석 유닛(2)이 배치되는 자석실(S2)을 구성하고 있다.
상판(7)에서의 제1 통상체(61)의 내측에 대응하는 부위에는, 압축 공기 유입용의 공기 배관(142)이 마련되어 있다. 또한 상판(7)에서의 처리실(S1)에 대응하는 부위에는, 세정이 끝난 쿨런트를 처리실(S1)로부터 배출하기 위한 배관(10)이 마련되어 있다. 배관(10)의 선단부(10a)는 상판(7)의 아랫면보다 아래쪽으로 돌출해 있다. 이 배관(10)에서의 처리실(S1) 내에 돌출한 부분(돌출부)이 공기가 모이는 공기 저장 영역(후술하는 도 11의 A1 참조)을 형성하는 공기 저장 영역 형성부를 구성한다. 상기 돌출부는 배관(10)에서의 상기 돌출부 이외의 부위(제2 배관)에 연통하고 있다.
그리고 자기 필터 장치(1A(1B))의 사용 시에는, 처리실(S1)에서의 상판(7)의 아랫면과 배관(10)의 선단부(10a) 사이에, 공기가 모이는 공기 저장 영역(후술하는 도 11의 A1 참조)이 형성된다.
받침대(9)에서의 제1 통상체(61)의 내측에 대응하는 부위에는 하부 포트(143a)가 마련되어 있다. 또한 받침대(9)에서의 처리실(S1)에 대응하는 부위에는 배관(제1 배관)(8)이 접속되어 있다. 이 배관(8)의 선단부가, 쿨런트를 처리실(S1)로 유입하거나 쿨런트를 처리실(S1)로부터 배출하기 위한 처리 유체 유입 배출 포트(8a)를 구성하고 있다.
처리실(S1)에는, 여재(4)가 배치된 여재 배치 영역(S11)이 형성되어 있다. 여재(4)는 자기 재료로 구성되어 있다. 여재(4)로는, 예를 들면 스틸 울(steel wool), 철망, 선재 등을 채용할 수 있다. 이와 같이, 여재(4)를 구비함으로써 자기 필터 장치(1A)의 여과 성능 향상을 도모할 수 있다.
윗덮개(17b) 및 아래덮개(17a)는, 여재(4)를 처리 용기(6) 내에서 보호하고 있다. 윗덮개(17b) 및 아래덮개(17a)에는, 여재(4)가 통과할 수 없으면서 쿨런트가 통과할 수 있는 크기의 통액(通液) 구멍이 다수 배치되어 있다.
액체 삼방밸브(18)는 배관(10, 22, 118)에 접속되어 있으며, 배관(10)의 접속처를 배관(118) 측 또는 배관(22) 측으로 전환한다. 액체 삼방밸브(18)는 제어부(190)로부터의 제어 신호에 의해 전환 동작을 실시한다.
액체 삼방밸브(16)는 배관(8, 114, 116)에 접속되어 있으며, 배관(8)의 접속처를 배관(114) 측 또는 배관(116) 측으로 전환한다. 액체 삼방밸브(18)는 제어부(190)로부터의 제어 신호에 의해 전환 동작을 실시한다.
공기 삼방밸브(134, 136)는 공기 배관(135, 137)에 접속되어 있으며, 공기 배관(135, 137)의 접속처를 공기 배관(142, 143) 측 또는 개방 측으로 전환한다.
공기 배관(135, 137)은 압축공기원(138)에 접속되어 있다.
압축공기원(138)은, 예를 들면 공기압축기 등으로 구성된다.
자석 유닛(2)은 제1 통상체(61)의 내측(처리실(S1)의 외부)에서의 여재 배치 영역(S11)에 대응하는 영역에 배치되어 있다. 즉, 처리 용기(6)가 제1 통상체(61)의 외측에 제2 통상체(62)가 배치된 형상을 가지며, 제1 통상체(61)와 제2 통상체(62) 사이의 영역이 처리실(S1)을 구성하고, 자석 유닛(2)이 제1 통상체(61)의 내측에 배치되어 있다.
이로써, 처리실(S1)을 크게 하기 쉽다는 이점이 있다.
자석 유닛(2)은 대략 원주상의 형상을 가지며, 복수(도 2에서는 8개)의 자석(25)과, 복수(도 2에서는 9개)의 부자기 요크(27, 27A, 27B)로 구성되어 있다.
부자기 요크(27, 27A, 27B)는, 자석(25)으로부터 방사되는 자속을 후술하는 자기 요크(41)로 이끄는 기능을 한다. 이로써, 자석(25)으로부터 방사되는 자속이 효율적으로 자기 요크(41)로 이끌려 가므로, 자석(25)으로부터 방사되는 자속의 손실을 저감할 수 있다.
또한 자석(25)과 부자기 요크(27, 27A, 27B)는, 대략 원반상의 형상을 갖는다. 자석(25)은, 예를 들면 네오디뮴 자석 등의 영구 자석으로 구성되어 있다. 부자기 요크(27, 27A, 27B)는, 예를 들면 연철 등의 자기 재료로 구성되어 있다. 부자기 요크(27)의 지름 치수는 자석실(S2)의 안쪽 지름 치수보다 약간 작아지도록 설정되어 있다. 자석(25)의 지름 치수는 부자기 요크(27)의 지름 치수보다 작게 설정되어 있다.
복수의 자석(25)과 복수의 부자기 요크(27, 27A, 27B)는 교대로 적층된 상태로 배치되어 있다. 자석 유닛(2)의 중심축 방향으로 이웃하는 2개의 자석(25)끼리는, 부자기 요크(27)를 통해 동일한 극성의 자극(N극과 N극 또는 S극과 S극)이 마주하도록 배치되어 있다. 이로써, 자석 유닛(2)은 S극, N극의 서로 다른 자극을 포함하고 있다. 부자기 요크(27, 27A, 27B) 각각은, 쿨런트의 흐름 방향으로 복수의 자석(25) 각각의 자극에 대응하는 위치의 근방에 배치되어 있다.
자석 유닛(2)이, 이상에 설명한 구성을 가짐으로써, 복수의 자석(25) 각각으로부터 상기 복수의 자석(25)의 배열방향의 자계가 발생하므로, 복수의 자석(25)의 배열방향의 자계의 자속밀도를 향상시킬 수 있다.
자석 유닛(2)은 자석실(S2) 내에서, 제1 통상체(61)의 통축방향(도 2에서의 상하방향)으로 이동 가능하게 되어 있다.
자기 요크(41)는 처리실(S1)에서의 여재 배치 영역(S11)에 배치되어 있다. 이 자기 요크(41)는, 예를 들면 연철 등의 자기 재료로 구성되어 있다. 자기 요크(41)는, 적어도 일부(예를 들면, 자기 요크(41)의 지름방향 외측부)가 쿨런트의 흐름 방향에 직교하는 방향에 관해 자석 유닛(2)으로부터 떨어진 위치에 배치되어 있다. 그 때문에, 자기 요크(41)는, 자석 유닛(2)의 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 처리실(S1) 내에서의 자석 유닛(2)으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들이도록 배치되어 있다.
또한 하나의 자기 요크(41)가 처리실(S1) 내에서 자석 유닛(2) 중 하나의 자극에 대응하는 위치(제1 위치)의 근방에 배치되며, 그 밖의 자기 요크(41)가 처리실(S1) 내에서 자석 유닛(2)의 나머지 다른 자극에 대응하는 위치(제2 위치)의 근방에 배치되어 있다. 그리고 그 밖의 자기 요크(41)는, 하나의 자극으로부터 하나의 자기 요크(41)를 따라 자석 유닛(2)으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들여진 자계의 방향을, 처리실(S1) 내에서 하나의 자기 요크(41)로부터 다른 자기 요크(41)로 향하는 방향으로 변화시킨다.
이 경우, 다른 자기 요크(41)가, 하나의 자극으로부터 하나의 자기 요크(41)를 따라 자석 유닛(2)으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들여진 자계의 방향을, 처리실(S1) 내에서 하나의 자기 요크로부터 다른 자기 요크로 향하는 방향(쿨런트의 흐름 방향)으로 변화시킨다. 이로써, 하나의 자기 요크(41)로부터 다른 자기 요크(41)로 향하는 자계(쿨런트의 흐름 방향을 따른 자계)의 자속밀도를 향상시킬 수 있다.
도 3은 본 실시형태에 따른 자기 요크(41)를 나타내고, (a)는 사시도, (b)는 단면도이다.
자기 요크(41)는, 자기 요크(41)의 주면을 향하여 봤을 때 원형의 관통 구멍(41b)이 형성된 원반상(즉, 자기 요크(41)의 주면을 향하여 봤을 때 대략 원환상)의 형상을 갖는다. 자기 요크(41)의 안쪽 지름 치수는, 처리 용기(6)의 제1 통상체(61)의 바깥 지름 치수보다 약간 크다. 또한 자기 요크(41)의 바깥 지름 치수는, 처리 용기(6)의 제2 통상체(62)의 안쪽 지름 치수보다 약간 작다. 그리고 자기 요크(41)는, 관통 구멍(41b)에 제1 통상체(61)가 삽입된 상태로 여재 배치 영역(S11)에 배치된다. 또한 자기 요크(41)에는, 그 두께방향으로 관통하는 복수의 관통 구멍(41a)이 형성되어 있다. 또한 자기 요크(41)는, 그 두께방향이 처리 용기(6)의 통축방향을 따르도록 배치되어 있다. 그리고 자기 요크(41)가 여재 배치 영역(S11)에 배치된 상태에서는, 자기 요크(41)의 관통 구멍(41a)의 내측에 여재(4)가 충전된 상태로 되어 있다. 자기 요크(41)의 바깥둘레와 제2 통상체(62)의 틈이나 자기 요크(41)에 형성된 관통 구멍(41a)을 쿨런트가 통과함으로써, 처리실(S1)에서의 쿨런트의 흐름이 허용되고 있다.
[제어부]
제어부(190)는 유체 세정 시스템의 동작 제어를 실시한다.
도 4는 본 실시형태에 따른 제어부(190)의 블록도이다.
제어부(190)는 CPU(200)와, 메모리(292)와, 입출력 포트(296)를 구비한다. CPU(200), 메모리(292) 및 입출력 포트(296)는 버스(BUS)를 통해 접속되어 있다. 메모리(292)에는 제어 프로그램(290)이 저장되어 있다.
입출력 포트(296)에는 밸브(98), 공기 삼방밸브(134, 136), 액체 삼방밸브(16, 18), 펌프(90), 압축공기원(138)을 제어하는 제어 소자(예를 들면, 릴레이) 및 압력 센서(120)의 출력을 측정하는 측정 소자(예를 들면, 아날로그 디지털 변환기)가 접속되어 있다.
CPU(200)는 메모리(292)에 저장된 제어 프로그램(298)을 실행함으로써 제어부(190)의 각종 기능을 실현하고 있다.
제어부(190)는 2개의 자기 필터 장치(1A, 1B) 중 바로 직후에 후술할 역세(逆洗) 처리를 실시한 것이 어느 것인지를 나타내는 정보를 관리하고 있다. 구체적으로는, 2개의 자기 필터 장치(1A, 1B) 각각에 식별 정보를 부여하고 있으며, 바로 직전에 역세 처리를 실시한 자기 필터 장치(1A(1B))의 식별 정보를, 지난번 역세 처리를 실시한 자기 필터 장치의 식별 정보로서 메모리(292)에 저장하고 있다. 이 식별 정보는 역세 처리가 실시될 때마다 갱신되어 간다.
<2> 자기 필터 장치의 성능
다음으로, 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)의 성능에 대해 설명한다. 여기서는, 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)(도 5 참조)의 성능에 대해, 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)(도 6 참조)와 비교하면서 설명한다. 또한 자기 필터 장치(1B)는 자기 필터 장치(1A)와 동일하므로 여기서는 설명을 생략한다.
비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)는, 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)와 대략 동일한 구성이며, 처리 용기(6)의 처리실(S1) 내에 자기 요크가 없는 점이 자기 필터 장치(1A)와 상이하다.
본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)와 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)에서는, 모두 부자기 요크(27, 27A, 27B)가 자석 유닛(2)의 발생하는 자계의 자력선의 기점이 되는 자극으로 되어 있다.
도 5는 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)의 동작 설명도이며, 도 6은 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)의 동작 설명도이다. 도 5 및 도 6에서는, 자석 유닛(2)의 부자기 요크(27)의 주면으로부터 방사되는 자력선(M)의 이미지를 나타내고 있다.
도 6에 나타내는 바와 같이, 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)에서는, 부자기 요크(27)의 주면으로부터 방사된 자력선(M)의 밀도가, 제1 통상체(61)의 외주면 근방과 비교하여 제2 통상체(62)의 내주면 근방이 작아져 있다.
이에 반해, 도 5에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)에서는, 자기 요크(41)가 자석 유닛(2)(부자기 요크(27))이 발생하는 자계의 자력선의 경로를 처리실(S1) 내에서의 자석 유닛(2)으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들이고 있다. 이로써, 부자기 요크(27)의 주면으로부터 방사된 자력선(M)의 밀도분포의 편차가, 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)의 경우와 비교하여 작아져 있다. 즉, 제1 통상체(61)의 외주면 근방의 자력선(M)의 밀도(자속밀도)와, 제2 통상체(62)의 내주면 근방의 자력선(M)의 밀도(자속밀도)의 차이가 작아져 있다. 이것은, 자기 필터 장치(1A)는 자기 필터 장치(1001)와 비교하여, 자석 유닛(2)으로부터 방사되는 자계가 제2 통상체(62)의 내주면 근방까지 도달해 있는 것을 나타내고 있다.
또한 자기 요크(41)는 처리실(S1) 내에 처리 용기(6)의 통축방향을 따른 것 같은 자계를 발생시키도록 배치되어 있다. 자력선(M)은 제1 통상체(61)의 외벽에 가까운 측에서도, 제2 통상체(62)의 내벽에 가까운 측에서도, 제2 통상체(62)의 통축으로 대략 평행으로 되어 있다. 또한 자속밀도는, 제1 통상체(61)의 외벽에 가까운 측에서도, 제2 통상체(62)의 내벽에 가까운 측에서도, 대략 동일해진다.
도 7은 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)와, 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)로 자속밀도의 분포를 비교한 결과이다. 도 7(b)의 자속밀도(B)의 분포는 도 7(a)에 나타내는 바와 같이, 제1 통상체(61)의 외주면을 기점으로 한 경우의 제1 통상체(61) 및 제2 통상체(62)의 지름방향(r)의 분포를 나타내는 것이다. 또한 도 7(b)에서, 실선은 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A)의 경우의 분포를 나타내고, 파선은 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)의 경우의 분포를 나타내고 있다. 또한 도 7(b)는, 제1 통상체(61) 및 제2 통상체(62)의 통축방향으로의 2개의 부자기 요크(27)의 중앙부에서의 분포를 나타내고 있다.
도 7(b)에 나타내는 바와 같이, 자기 필터 장치(1A)는 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001)와 비교하여, 제1 통상체(61) 및 제2 통상체(62)의 지름방향(r)의 자속밀도 분포의 편차가 작아진다. 그리고 자기 필터 장치(1A)의 여재(4)에는, 제1 통상체(61) 및 제2 통상체(62)의 지름방향으로, 자석 유닛(2)으로부터 방사되는 자계가 비교예와 비교하여 균일하게 인가된다.
즉, 여재(4)에 인가되는 자계가 제1 통상체(61) 및 제2 통상체(62)의 지름방향으로 균일하게 인가되므로, 여재(4)에서의 여과 성능의 제1 통상체(61) 및 제2 통상체(62)의 지름방향의 편차를 해소할 수 있다. 특히, 여재(4) 중 제2 통상체(62)의 내주면 근방에서의 여과 성능을 향상시킬 수 있다.
<3> 동작
<3-1> 전체 동작
다음으로, 본 실시형태에 따른 액체 세정 시스템의 제어부(190)의 동작에 대해 설명한다.
도 8 및 도 9는 본 실시형태에 따른 액체 세정 시스템의 제어부(190)의 동작을 나타내는 플로 차트이다.
먼저, 제어부(190)는 자기 필터 장치(1A)를 사용할지 여부를 판정한다(단계 S1). 구체적으로는, 제어부(190)는 메모리(292)에 저장되어 있는 자기 필터 장치의 식별 정보에 기초하여, 지난번에 자기 필터 장치(1A)에 대해 역세 처리를 실시했는지 여부를 판정한다. 그리고 제어부(190)는, 지난번에 자기 필터 장치(1A)에 대해 역세 처리를 실시한 경우에는 자기 필터 장치(1A)를 사용한다고 판정한다.
단계 S1에서, 자기 필터 장치(1A)를 사용한다고 판정되면(단계 S1: Yes), 제어부(190)는 자기 필터 장치(1A)의 공기 삼방밸브(134, 136)를 제어하여 압축공기원(138)의 공기 공급처를 상부 포트(142a) 측으로 전환한다(단계 S2). 이 때, 제어부(190)는 자기 필터 장치(1A)에 대해, 공기 삼방밸브(134, 136)를 제어하여 공기 배관(135)의 접속처를 공기 배관(142) 측으로 전환한다.
다음으로, 제어부(190)는 압축공기원(138)을 동작시킨다(단계 S3). 이 때, 자기 필터 장치(1A)에서는 처리 용기(6)의 상부 포트(142a)로부터, 자석실(S2)에서의 자석 유닛(2)의 위쪽에 압축 공기가 유입된다. 이로써, 자석 유닛(2)이 자석실(S2)에서의 아래쪽에 고정되어 자기 필터 장치(1A)를 사용할 준비가 이루어진다.
한편, 단계 S1에서, 자기 필터 장치(1A)를 사용하지 않는다고 판정되면(단계 S1: No), 제어부(190)는 자기 필터 장치(1B)의 공기 삼방밸브(134, 136)를 제어하여 압축공기원(138)의 공기 공급처를 상부 포트(142a) 측으로 전환한다(단계 S4). 이 때, 제어부(190)는 자기 필터 장치(1A)에 대해, 공기 삼방밸브(134, 136)를 제어하여 공기 배관(135)의 접속처를 공기 배관(142) 측으로 전환한다.
다음으로, 제어부(190)는 압축공기원(138)을 동작시킨다(단계 S5). 이 때, 자기 필터 장치(1B)에서는 처리 용기(6)의 상부 포트(142a)로부터, 자석실(S2)에서의 자석 유닛(2)의 위쪽에 압축 공기가 유입된다. 이로써, 자석 유닛(2)이 자석실(S2)에서의 아래쪽에 고정되어 자기 필터 장치(1B)를 사용할 준비가 이루어진다.
이어서, 제어부(190)는 밸브(98)를 연다(단계 S6). 그러면, 회수 탱크(106)로부터 배관(114), 자기 필터 장치(1A)(또는 자기 필터 장치(1B)), 배관(118)을 경유하여 버퍼 탱크(104)로 통하는 유로가 개통된다.
그 후, 제어부(190)는 펌프(90)를 구동시킨다(단계 S7). 그러면, 회수 탱크(106)에 저장되어 있는, 사용이 끝난 쿨런트가 펌프(90)에 의해 빨려 올라가, 자기 필터 장치(1A)(또는 자기 필터 장치(1B))의 처리 유체 유입 배출 포트(8a)로 전달된다. 또한 제어부(190)는, 이미 펌프(90)가 구동되어 있는 경우, 단계 S4의 처리를 생략한다.
이로써, 처리 유체 유입 배출 포트(8a)로 전달된, 사용이 끝난 쿨런트는 처리실(S1)로 이끌려 간다. 그리고 처리실(S1)에서 여재(4)에 의해 여과된 쿨런트는 배관(118)을 통해 버퍼 탱크(104)로 유입된다.
다음으로, 제어부(190)는 압력 센서(120)의 값을 취득한다(단계 S8).
이어서, 제어부(190)는 취득한 압력 센서(120)의 값이 소정값 이하인지 여부를 판정한다(단계 S9). 단계 S6에서, 압력 센서(120)의 값이 소정값 이하인 경우(단계 S9: Yes), 제어부(190)는 다시 단계 S5의 처리를 실시한다. 한편, 단계 S6에서, 압력 센서(120)의 값이 소정값을 넘는 경우(단계 S9: No), 제어부(190)는 밸브(98)를 닫는다(단계 S11).
자기 필터 장치(1A, 1B)에서는 여재(4)에 슬러지가 포착된 결과, 이른바 막힘이 생긴다. 이 때, 펌프(90)의 송출 압력이 상승한다. 따라서 자기 필터 장치(1A)에서는, 제어부(190)가 펌프(90)의 송출 압력을 압력 센서(120)에 의해 감시하여, 펌프(90)의 송출 압력이 소정값을 넘은 경우, 밸브(98)를 닫고 후술하는 역세 처리의 준비를 실시한다.
단계 S11에서, 밸브(98)를 닫음으로써, 자기 필터 장치(1A)로부터 유출된 세정이 끝난 쿨런트가 어큐물레이터(96)로 유입되어, 어큐물레이터(96)에 세정이 끝난 쿨런트가 축적된다.
그 후, 제어부(190)는 밸브(98)를 닫고 나서 어큐물레이터(96)에 대한 세정이 끝난 쿨런트 축적을 위한 소정 시간이 경과했는지 여부를 판정한다(단계 S12). 여기서는, 제어부(190)의 CPU(200)가, 예를 들면 내장 타이머를 이용하여 시간 측정을 실시한다. 또한 소정 시간은, 어큐물레이터(96)의 용량과 자기 필터 장치(1A, 1B)로부터 어큐물레이터(96)에 대한 단위 시간당 쿨런트의 유입량에 기초하여 설정된다.
다음으로, 제어부(190)는, 지난번의 역세 처리가 자기 필터 장치(1A)를 대상으로 하는 것이었는지 여부를 판정한다(단계 S13). 구체적으로는, 제어부(190)는, 메모리(292)에 저장되어 있는 자기 필터 장치(1A)의 식별 정보에 기초하여 지난번의 역세 처리가 자기 필터 장치(1A)를 대상으로 하는 것이었는지 여부를 판정한다.
단계 S13에서, 지난번의 역세 처리가 자기 필터 장치(1A)를 대상으로 하는 것이었던 경우(단계 S13: Yes), 제어부(190)는 자기 필터 장치(1B)의 공기 삼방밸브(134, 136)를 제어하여 압축공기원(138)의 공기 공급처를 하부 포트(143a) 측으로 전환한다(단계 S14). 이 때, 제어부(190)는 자기 필터 장치(1B)에 대해, 공기 배관(135)의 접속처를 공기 배관(142) 측으로 전환한다.
이어서, 제어부(190)는 압축공기원(138)을 동작시킨다(단계 S15). 이 때, 자기 필터 장치(1B)에서는 처리 용기(6)의 하부 포트(143a)로부터, 자석실(S2)에서의 자석 유닛(2)의 아래쪽으로 압축 공기가 유입된다. 이로써, 자석 유닛(2)이 자석실(S2)에서의 위쪽에 고정되어 자기 필터 장치(1B)의 역세 처리를 실행할 준비가 이루어진다. 그 후, 제어부(190)는 역세 처리를 실시한다(단계 S16). 이 역세 처리의 상세한 것은 <3-2>에서 상세하게 설명한다.
한편, 단계 S13에서, 지난번의 역세 처리가 자기 필터 장치(1A)를 대상으로 하는 것이 아닌, 즉, 지난번의 역세 처리가 자기 필터 장치(1B)를 대상으로 하는 것이었다고 한다(단계 S13: Yes). 이 경우, 제어부(190)는 자기 필터 장치(1A)의 공기 삼방밸브(134, 136)를 제어하여 압축공기원(138)로부터의 통로를 하부 포트(143a) 측으로 전환한다(단계 S17). 이 때, 제어부(190)는 자기 필터 장치(1B)에 대해, 공기 삼방밸브(134, 136)를 제어하여 압축공기원(138)로부터의 통로를 상부 포트(142a) 측으로 전환한다.
이어서, 제어부(190)는 압축공기원(138)을 동작시킨다(단계 S18). 이 때, 자기 필터 장치(1A)에서는 처리 용기(6)의 하부 포트(143a)로부터, 자석실(S2)에서의 자석 유닛(2)의 아래쪽으로 압축 공기가 유입된다. 이로써, 자석 유닛(2)이 자석실(S2)에서의 위쪽에 고정되어 자기 필터 장치(1A)의 역세 처리를 실행할 준비가 이루어진다. 그 후, 제어부(190)는 역세 처리를 실시한다(단계 S16). 이 역세 처리의 상세한 것은 <3-2>에서 상세하게 설명한다.
이상 설명한 바와 같이, 본 실시형태에 따른 액체 세정 시스템에서는 자기 필터 장치(1A, 1B)를 교대로 세정한다.
<3-2> 역세 처리
다음으로, 본 실시형태에 따른 액체 세정 시스템의 역세 처리에 대해 상세하게 설명한다.
도 10은 본 실시형태에 따른 제어부(190)의 역세 처리에서의 동작을 나타내는 플로 차트이다. 또한 도 11~도 13은 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A(1B))의 동작 설명도이다.
처음에는, 쿨런트의 유로가 펌프(90)부터 배관(8), 처리실(S1)의 순서대로 경유하여 배관(10)으로 흐르는 유로(제1 유로)로 설정되어 있다.
이 상태에서, 제어부(190)는 먼저, 액체 삼방밸브(18)를 제어하여 배관(10)의 접속처를 배관(22) 측으로 전환한다(단계 S21). 그러면, 쿨런트의 유로가 상기 제1 유로로부터, 펌프(90)부터 배관(8) 및 배관(10)의 양쪽을 통해 처리실(S1) 내로 흘러 드는 유로(제2 유로)로 전환된다. 그리고 도 11에 나타내는 바와 같이, 펌프(90)에 의해 배관(22), 액체 삼방밸브(18) 및 배관(10)을 통한 유로에서도 처리 용기(6)의 처리실(S1) 내에 쿨런트가 공급된다(도 11 중의 화살표 참조). 이 때, 쿨런트의 액면은 펌프(90)의 송출 압력에 의해 배관(10)의 선단부보다 위쪽으로 밀려 올라간다. 그리고 처리실(S1)의 위쪽의 공기 저장 영역(A1)에 모여 있는 공기가 쿨런트에 의해 압축된 상태가 된다.
제어부(190)는 액체 삼방밸브(16)를 제어하여 처리실(S1)에 연통하는 배관(8)의 접속처를 탈액ㆍ고화 유닛(100)에 접속된 배관(116) 측으로 전환한다(단계 S22). 그러면, 쿨런트의 유로가 상기 제2 유로로부터, 펌프(90)부터 배관(10), 처리실(S1)의 순서대로 경유하여 배관(8)으로 흐르는 유로(제3 유로)로 전환된다. 그리고 도 12에 나타내는 바와 같이, 공기 저장 영역(A1)에 모여 있는 압축된 공기의 압력에 의해, 처리실(S1) 내로 유입된 쿨런트가 배관(116)으로 세게 유출된다(도 12 중의 화살표 참조).
이어서, 제어부(190)는 배관(8)의 접속처 및 배관(10)의 접속처를 전환한 후, 소정 시간만 경과했는지 여부를 판정한다(단계 S23). 제어부(190)는 소정 시간을 경과하지 않는 한 대기 상태를 유지한다(단계 S23: No).
이 때, 도 13에 나타내는 바와 같이, 펌프(90)에 의해 공급되는 쿨런트가 배관(22)을 통해 처리실(S1) 내에 계속 공급된다(도 13 중의 화살표 참조). 이로써, 여재(4)는 자기 필터 장치(1A(1B)) 사용 시와는 역방향으로 흐르는 쿨런트에 의해 세정된다.
단계 S23에서, 소정 시간만 경과했다고 판정되면(단계 S23: Yes), 제어부(190)는 액체 삼방밸브(18)를 제어하여 배관(10)의 접속처를 배관(118) 측으로 전환한다(단계 S24).
그 후, 제어부(190)는 펌프(90)를 정지한다(단계 S25). 또한 제어부(190)는 단계 S25의 처리를 실시하지 않고, 펌프(90)를 계속 구동 시키도록 해도 된다.
마지막으로, 제어부(190)는 액체 삼방밸브(16)를 제어하여 배관(8)의 접속처를 펌프(90)에 접속된 배관(114) 측으로 전환한다(단계 S26).
<4> 정리
그런데 처리실(S1) 내에 자기 요크가 배치되어 있지 않은 구성(예를 들면, 도 6에 나타내는 비교예에 따른 자기 필터 장치(1001))에서는, 자력선은 어느 자극으로부터 자석 유닛의 근방을 통해 나머지 다른 자극으로 향하는 것이 많아진다. 따라서 처리실(S1) 내에서 자석 유닛(2) 근방에서는 자계 강도가 커지지만, 자석 유닛(2)으로부터 떨어진 위치에서는 자계 강도가 저하된다.
이에 반해, 본 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A(1B))에서는, 자기 요크(41)가 자력선을 자석 유닛(2)으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들이도록 배치되어 있기 때문에, 자석 유닛(2)으로부터 떨어진 위치에서의 자계 강도의 저하를 방지할 수 있다.
그 결과, 자석 유닛(2)의 복수의 자극 각각이 처리실(S1) 내에서 발생시키는 자계에 대해, 처리가 끝난 쿨런트의 흐름 방향에 직교하는 방향으로의 자계 강도의 분포의 편차를 작게 할 수 있다.
또한 제어부(190)가 액체 삼방밸브(16, 18)를 제어하여 쿨런트의 유로를 제1 유로로부터 제2 유로로 전환함으로써, 공기 저장 영역(A1)에 존재하는 공기가 압축된다. 그 후, 제어부(190)가 액체 삼방밸브(16, 18)를 제어하여 쿨런트의 유로를 제2 유로로부터 제3 유로로 전환함으로써, 처리실(S1) 내에 존재하는 쿨런트가 공기 저장 영역(A1)에 존재하는 공기의 압력으로, 배관(8)으로 세게 밀려간다. 이 때, 여재(4)에 부착된 강자성체 입자 등의 슬러지가 쿨런트에 의해 씻겨 내려가므로, 여재(4)의 막힘이 해소된다.
<변형예>
(1) 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A(1B))에서는, 처리 용기(6)가 제1 통상체(61)의 내측이 자석실(S2)을 구성하고, 제2 통상체(62)와 제1 통상체(61) 사이의 영역이 처리실(S1)을 구성하는 예에 대해 설명했다. 단, 처리 용기가 실시형태와 마찬가지로, 제2 통상체(62)와 제1 통상체(61)로 구성되는 것이며, 제1 통상체(61)의 내측이 처리실을 구성하고, 제2 통상체(62)와 제1 통상체(61) 사이의 영역이 자석실을 구성하는 것이어도 된다. 즉, 처리 용기(6)의 제1 통상체(61)의 내측이 처리실(S1)을 구성하고, 자석 유닛(2)이 제1 통상체(61)의 일부를 통축 주변에 둘러싸도록 배치되어 있는 것이어도 된다.
도 14는 본 변형예에 따른 자기 필터 장치(201)의 개략 구성도이다. 또한 도 14에서, 실시형태와 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
자기 필터 장치(201)에서는, 처리 용기(206)가 실시형태와 마찬가지로, 제2 통상체(62)와 제1 통상체(61)로 구성되어 있다. 그리고 제1 통상체(61)의 내측이 처리실(S21)을 구성하고 있고, 제2 통상체(62)와 제1 통상체(61) 사이의 영역이 자석실(S22)을 구성하고 있다.
자석실(S22)에는 자석 유닛(202)이 배치되어 있다. 자석 유닛(202)은 복수(도 14에서는 8개)의 자석(225)과, 복수(도 14에서는 9개)의 부자기 요크(227, 227A, 227B)로 구성되어 있다. 자석(225)과 부자기 요크(227, 227A, 227B)는, 자석(225)과 부자기 요크(227, 227A, 227B)의 주면을 향하여 봤을 때 대략 원환상의 형상을 갖는다. 그리고 자석(225) 및 부자기 요크(27)의 안쪽 지름 치수는 제1 통상체(61)의 바깥 지름 치수보다 약간 커지도록 설정되어 있다.
그리고 자석 유닛(202)은, 실시형태와 마찬가지로, 자석실(S22) 내에서 제1 통상체(61)의 통축방향(도 14에서의 상하방향)으로 이동 가능하게 되어 있다.
도 15는 본 변형예에 따른 자기 요크(241)를 나타내고, (a)는 사시도, (b)는 단면도이다.
자기 요크(241)는 원반상의 형상을 갖는다. 자기 요크(241)의 바깥 지름 치수는 처리 용기(6)의 제1 통상체(61)의 안쪽 지름 치수보다 약간 작다. 또한 자기 요크(241)에는, 그 두께방향으로 관통하는 복수의 관통 구멍(241a)이 형성되어 있다. 그리고 자기 요크(241)가 여재 배치 영역(S211)에 배치된 상태에서는, 자기 요크(241)의 관통 구멍(241a)의 내측에 여재(4)가 충전된 상태로 되어 있다.
본 구성에 따르면, 처리실(S21) 내에서의 자속밀도 향상을 도모할 수 있으므로, 여과 성능 향상을 도모할 수 있다.
(2) 실시형태에서는 자석 유닛(2)이 부자기 요크(27)를 구비하는 구성에 대해 설명했지만, 반드시 부자기 요크를 구비하는 구성에 한정되는 것이 아니다.
도 16(a)~(d)는, 본 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 16(a)에 나타내는 자기 필터 장치는 통상의 처리 용기(306)와, 처리 용기(306)의 내측에서 처리 용기(306)의 통축방향으로 나란히 배치된 2개의 판상의 자기 요크(341a)와, 처리 용기(306)의 외부에 배치된 자석 유닛(302a)을 구비한다. 2개의 자기 요크(341a)는 두께방향으로 관통하는 관통 구멍(도시하지 않음)이 형성되어 있으며, 처리 용기(306)의 내측을 막도록 배치되어 있다. 또한 2개의 자기 요크(341a) 사이에는 여재(4)가 배치되어 있다.
그리고 자석 유닛(302a)이 처리 용기(306)의 외벽에서의, 처리 용기(306)의 통축 주변의 일부에 대향하여 배치되어 있다. 또한 자석 유닛(302a)은 대략 C자상의 형상을 갖는 1개의 자석으로 구성되어 있으며, 2개의 선단부 각각이 자기 요크(341a)와 자기적으로 결합되어 있다. 자석 유닛(302a)의 2개의 선단부가 자극이 된다.
도 16(b)에 나타내는 자기 필터 장치는, 처리 용기(306)의 외부에 배치된 자석 유닛(302b)이 도 16(a)에 나타내는 구성과 상이하다.
자석 유닛(302b)에서는 3개의 자석(302b1)이 적층된 상태로 배치되어 있다. 이웃하는 2개의 자석(302b1)끼리는 동일한 극성의 자극(N극과 N극 또는 S극과 S극)이 마주하도록 배치되어 있다. 그리고 이웃하는 2개의 자석(302b1)의 경계 부분이 처리 용기(306)의 외벽에서의, 자기 요크(341a)에 대응하는 부위에 위치하고 있다. 또한 자석 유닛(302b)이 이웃하는 2개의 자석(302b1)의 경계 부분이 자극이 된다.
도 16(a) 및 (b)에 나타내는 바와 같은 자기 요크(341a)의 배치에서는, 처리 용기(306)의 내측의 처리실 내에 처리 용기(306)의 통축방향을 따른 것 같은 자계가 발생한다.
도 16(c)에 나타내는 자기 필터 장치는, 자기 요크(341b)의 배치가 도 16(a)에 나타내는 구성과 상이하다.
자기 요크(341b)는 처리 용기(306)의 내부에서의 자석 유닛(302a) 측과는 반대측에 배치되어 있다. 그리고 자기 요크(341b)와 자석 유닛(302a) 사이에는 여재(4)가 개재되어 있다. 여재(4)는 상술한 실시형태와 동일한 윗덮개(도시하지 않음) 및 아래덮개(도시하지 않음)에 의해 소정의 장소에 고정되어 있다. 또한 자기 요크(341b)는, 처리 용기(306)의 통축방향으로, 자석 유닛(302a)의 2개의 선단부를 넘도록 배치되어 있다. 이로써, 자석 유닛(302a)의 2개의 선단부로부터 방사되는 자속 중 자기 요크(341b) 밖으로의 누설 자속의 성분을 저감할 수 있으므로, 자석 유닛(302a)으로부터 방사되는 자속을 효율적으로 활용할 수 있다.
도 16(d)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 16(b)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일한 구성을 가지며, 자기 요크(341b)의 배치가 도 16(b)에 나타내는 구성과 상이하다.
자기 요크(341b)는 처리 용기(306)의 내부에서의 자석 유닛(302b) 측과는 반대측에 배치되어 있다. 또한 자기 요크(341b)는, 처리 용기(306)의 통축방향으로, 자석 유닛(302b)을 구성하는 이웃하는 2개의 자석(302b1)의 경계 부분을 넘도록 배치되어 있다. 이로써, 이웃하는 2개의 자석(302b1)의 경계 부분으로부터 방사되는 자속 중 자기 요크(341b) 밖으로의 누설 자속의 성분을 저감할 수 있으므로, 자석 유닛(302a)으로부터 방사되는 자속을 효율적으로 활용할 수 있다.
또한 도 16(c) 및 (d)에 나타내는 바와 같은 자기 요크(341b)의 배치에서는, 처리 용기(306)의 내측의 처리실 내에 처리 용기(306)의 통축방향에 직교하는 것 같은 자계가 발생한다.
결국, 도 16(c) 및 (d)에 나타내는 자기 필터 장치에서는, 자기 요크(341b)가, 처리실의 내부에서 자석 유닛(2)과의 사이에 쿨런트의 유로가 형성되도록 배치되어 쿨런트의 흐름을 허용하도록 마련되어 있다. 그리고 자기 요크(341b)는, 자석 유닛(2)의 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 끌어들인다.
이 경우, 자기 요크(341b)가 자석 유닛(2)의 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 끌어들이므로, 자석 유닛(2)으로부터 자기 요크(341b)로 향하는 자계의 자속밀도를 향상시킬 수 있다.
(3) 부자기 요크의 수나 부자기 요크의 배치는, 실시형태에 따른 자기 필터 장치(1A(1B))의 구성에 한정되는 것이 아니다.
도 17(a)~(f)는, 본 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 17(a)에 나타내는 자기 필터 장치는, 앞서 (2)에서 설명한 도 16(a)에 나타내는 구성과 대략 동일하고, 자석 유닛(402a)이 상이하다. 또한 도 16(a)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다. 또한 도 17(a)~(f)에 나타내는 자기 필터 장치에서는, 자석 유닛이 처리 용기(306)의 외벽에서의, 처리 용기(306)의 통축 주변의 일부에 대향하여 배치되어 있다.
도 17(a)에 나타내는 바와 같이, 자석 유닛(402a)은 1개의 자석(425a)과, 2개의 부자기 요크(427a)로 구성되어 있다. 그리고 2개의 부자기 요크(427a) 각각은, 자석(425a) 및 자기 요크(341a) 각각과 자기적으로 결합되어 있다.
도 17(b)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 16(a)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일한 구성을 가지며, 자석 유닛(402b)이 상이하다. 또한 도 16(a)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
도 17(b)에 나타내는 바와 같이, 자석 유닛(402b)은 2개의 자석(425b)과, 1개의 부자기 요크(427b)로 구성되어 있다. 그리고 2개의 자석(425b) 각각은, 일단 측에서 자기 요크(341a)와 자기적으로 결합되어 있고, 타단 측에서 부자기 요크(427b)와 자기적으로 결합되어 있다. 또한 2개의 자석(425b)은 처리 용기(306)의 통축방향에 직교하는 지름방향으로 극성이 서로 반대로 되어 있다.
도 17(c)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 16(a)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일한 구성을 가지며, 자석 유닛(402c)이 상이하다. 또한 도 16(a)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
도 17(c)에 나타내는 바와 같이, 자석 유닛(402c)은 3개의 자석(425c, 425d, 425e)이 부자기 요크(427c)를 통해 적층된 상태로 배치되어 있다. 이웃하는 2개의 자석(자석(425c)과 자석(425d), 및 자석(425d)과 자석(425e))끼리는, 동일한 극성의 자극(N극과 N극 또는 S극과 S극)이 마주하도록 배치되어 있다. 그리고 부자기 요크(427c)가 처리 용기(306)의 외벽에서의, 자기 요크(341a)에 대응하는 부위에 위치하고 있으며, 자기 요크(341a)와 자기적으로 결합되어 있다.
도 17(d)~(f)에 나타내는 자기 필터 장치 각각은, 자기 요크(341b)의 배치가 도 17(a)~(c)에 나타내는 구성과 상이하다.
도 17(d)~(f)에 나타내는 자기 필터 장치에서는, 자기 요크(341b)가 처리 용기(306)의 내벽의 일부를 따른 형태로 배치되어 있다. 즉, 자기 요크(41)는, 그 전체가 쿨런트의 흐름 방향에 직교하는 방향에 관해 자석 유닛(402a, 402b, 402c)으로부터 떨어진 위치에 배치되어 있다. 그리고 자기 요크(341b)와 처리 용기(306)의 둘레 벽에서의 자석 유닛(402a, 402b, 402c) 측 일부 사이에는 여재(4)가 개재되어 있다. 또한 여재(4)는, 상술한 실시형태와 동일한 윗덮개(도시하지 않음) 및 아래덮개(도시하지 않음)에 의해 소정의 장소에 고정되어 있다.
도 17(d) 및 (f)에 나타내는 자기 필터 장치에서는, 자기 요크(341b)가 처리 용기(306)의 통축방향으로, 처리 용기(306)에서의 부자기 요크(427a, 427c)에 대향하는 2개의 부위를 넘도록 배치되어 있다. 또한 도 17(e)에 나타내는 자기 필터 장치에서는, 자기 요크(341b)가 처리 용기(306)의 통축방향으로, 처리 용기(306)에서의 자석(425b)에 대향하는 2개의 부위를 넘도록 배치되어 있다.
이로써, 자석 유닛(402a, 402b, 402c)의 2개의 선단부로부터 방사되는 자속 중 자기 요크(341b) 밖으로의 누설 자속의 성분을 저감할 수 있으므로, 자석 유닛(402a, 402b, 402c)으로부터 방사되는 자속을 효율적으로 활용할 수 있다.
(4) 변형예(2) 및 (3)에서는, 자석 유닛이 처리 용기(306)의 외벽에서의, 처리 용기(306)의 통축 주변의 일부에 대향하여 배치되어 있는 예에 대해 설명했지만, 자석 유닛(2)의 배치는 이에 한정되는 것이 아니다. 예를 들면, 자석 유닛이 처리 용기(306)의 외벽의 일부를 처리 용기(306)의 통축 주변에 둘러싸도록 배치되는 것이어도 된다.
도 18(a)~(d) 및 도 19(a)~(e)는, 본 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 18(a)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 16(a)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일하고, 자석 유닛(502a)의 구성이 상이하다. 또한 도 16(a)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
자석 유닛(502a)은, 처리 용기(306)를 통축 주변에 둘러싸는 대략 원환상의 형상을 가지며, 그 둘레방향에 직교하는 단면이 대략 C자상의 형상을 갖는 1개의 영구 자석으로 구성되어 있다. 그리고 자석 유닛(502a)은, 처리 용기(306)의 주위에 배치된 상태에서, 그 둘레방향에 직교하는 단면에서 2개의 선단부가 처리 용기(306)의 외벽에 대향한다. 이 때, 자석 유닛(502a)의 2개의 선단부 각각이 자기 요크(341a)와 자기적으로 결합되어 있다.
도 18(b)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 16(a)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일하고, 자석 유닛(502b)의 구성이 도 16(a)에 나타내는 구성과 상이하다.
자석 유닛(502b)에서는, 대략 원환상의 형상을 갖고 처리 용기(306)의 일부를 처리 용기(306)의 통축 주변에 둘러싸는 3개의 자석(502b1)이 적층된 상태로 배치되어 있다. 이웃하는 2개의 자석(302b1)끼리는 동일한 극성의 자극(N극과 N극 또는 S극과 S극)이 마주하도록 배치되어 있다. 그리고 이웃하는 2개의 자석(502b1)의 경계 부분이, 처리 용기(306)의 외벽에서의, 자기 요크(341a)에 대응하는 부위에 위치하고 있다.
도 18(c)에 나타내는 자기 필터 장치는 도 16(a)에 나타내는 구성과 대략 동일하고, 자석 유닛(502c)의 구성이 상이하다. 또한 도 16(a)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
도 18(c)에 나타내는 바와 같이, 자석 유닛(502c)은 1개의 자석(525c)과, 2개의 부자기 요크(527c)로 구성되어 있다. 자석(525c) 및 부자기 요크(527c)는 모두 대략 원환상의 형상을 가지며, 처리 용기(306)의 외벽의 일부를 처리 용기(306)의 통축 주변에 둘러싸고 있다. 그리고 2개의 부자기 요크(527c) 각각은, 자석(525c) 및 자기 요크(341a) 각각과 자기적으로 결합되어 있다.
도 18(d)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 16(a)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일한 구성을 가지며, 자석 유닛(502d)이 상이하다. 또한 도 16(a)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
도 18(d)에 나타내는 바와 같이, 자석 유닛(502d)은 2개의 자석(525d)과, 1개의 부자기 요크(527d)로 구성되어 있다. 자석(525d) 및 부자기 요크(527d)는 모두 대략 원환상의 형상을 가지며, 처리 용기(306)의 외벽의 일부를 처리 용기(306)의 통축 주변에 둘러싸고 있다. 그리고 2개의 자석(525d) 각각은 일단 측에서 자기 요크(341a)와 자기적으로 결합되어 있고, 타단 측에서 부자기 요크(527b)와 자기적으로 결합되어 있다. 또한 2개의 자석(525d)은, 처리 용기(306)의 통축방향에 직교하는 지름방향으로 극성이 서로 반대로 되어 있다.
도 19(a)~(d)에 나타내는 자기 필터 장치 각각은, 자기 요크(841a)의 배치가 도 18(a)~(d)에 나타내는 구성과 상이하다. 또한 도 18(a)~(d)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
도 19(a)~(d)에 나타내는 자기 필터 장치에서는, 자기 요크(841a)가 처리 용기(306)의 중심축을 따른 형태로 배치되어 있다. 그리고 자기 요크(841a)와 처리 용기(306)의 내벽 사이에는 여재(4)가 개재되어 있다. 또한 여재(4)는, 상술한 실시형태와 동일한 윗덮개(도시하지 않음) 및 아래덮개(도시하지 않음)에 의해 소정의 장소에 고정되어 있다.
또한 도 19(b)에 나타내는 자기 필터 장치에서, 이웃하는 2개의 자석(502b1) 사이에 부자기 요크를 마련해도 된다.
도 19(e)에 나타내는 자기 필터 장치에서는, 자석(825a)과 자석(825b) 사이, 자석(825b)과 자석(825c) 사이 각각에, 대략 원환상의 부자기 요크(827a)가 개재되어 있다. 그리고 자기 요크(841a)가 처리 용기(306)의 통축방향으로, 처리 용기(306)에서의 2개의 부자기 요크(827a) 각각 대향하는 2개의 부위를 넘도록 배치되어 있다.
또한 도 19(a)~(e)에 나타내는 바와 같은 자기 요크(841a)의 배치에서는, 처리 용기(306)의 내측의 처리실 내에 처리 용기(306)의 통축방향에 직교하는 자계가 발생한다.
(5) 변형예(1)에서는, 자석 유닛(2)이 복수의 자석(225)과, 복수의 부자기 요크(27, 227A, 227B)를 구비하는 구성에 대해 설명했지만, 자석 유닛은 부자기 요크를 구비하는 구성에 한정되는 것이 아니다. 또한 자석 유닛은, 복수의 자석(225)을 구비하는 구성에 한정되는 것이 아니다.
도 20(a) 및 (b), 그리고 도 21(a)~(d)는, 본 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 20(a)에 나타내는 자기 필터 장치는, 처리 용기(606)와, 2개의 판상의 자기 요크(641a)와, 여재(4)와, 자석 유닛(602a)을 구비한다. 처리 용기(606)는 원통상의 제2 통상체(662)와, 원통상이며 통축방향에 직교하는 단면에서, 바깥 지름이 제2 통상체(662)의 안쪽 지름보다 작은 제1 통상체(661)를 포함하여 구성되어 있다. 2개의 자기 요크(641a)는 대략 원환상으로 형성되어 있으며, 처리 용기(606)의 제2 통상체(662)와 제1 통상체(661) 사이의 처리실에서, 처리 용기(606)의 통축방향으로 나란히 배치되어 있다. 2개의 자기 요크(641a)는 두께방향으로 관통하는 관통 구멍(도시하지 않음)이 형성되어 있으며, 상기 처리실을 막도록 배치되어 있다. 또한 2개의 자기 요크(641a)의 사이에는 여재(4)가 배치되어 있다.
자석 유닛(602a)은 3개의 원주상의 자석(602a1)으로 구성되어 있다. 이 3개의 자석(602a1)은 제1 통상체(661)의 내측의 자석실에서 제1 통상체(661)의 통축방향으로 적층된 상태로 배치되어 있다. 또한 이웃하는 2개의 자석(602a1)의 경계 부분이, 제1 통상체(661)의 내벽에서의 자기 요크(641a)에 대응하는 부위에 위치하고 있다.
도 20(b)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 20(a)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일한 구성을 가지며, 자석 유닛(602b)의 구성이 상이하다. 또한 도 20(a)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
자석 유닛(602b)은 1개의 자석(625b)과, 2개의 부자기 요크(627b)를 구비한다. 그리고 2개의 부자기 요크(627b) 각각은, 자석(625b) 및 자기 요크(641a) 각각과 자기적으로 결합되어 있다.
또한 도 20(a) 및 (b)에 나타내는 바와 같은 자기 요크(641a)의 배치에서는, 처리 용기(306)의 내측의 처리실 내에 처리 용기(606)의 통축방향을 따른 자계가 발생한다.
도 21(a) 및 (b)에 나타내는 자기 필터 장치 각각은, 자기 요크(941a)의 배치가 도 20(a) 및 (b)에 나타내는 구성과 상이하다. 또한 도 20(a) 및 (b)에 나타내는 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 적절하게 설명을 생략한다.
도 21(a) 및 (b)에 나타내는 자기 필터 장치에서는, 원통상의 자기 요크(941a)가 처리 용기(606)의 제2 통상체(662)의 내벽을 따른 형태로 배치되어 있다. 그리고 자기 요크(941a)와 제1 통상체(661)의 외벽 사이에는 여재(4)가 개재되어 있다. 또한 여재(4)는, 상술한 실시형태와 동일한 윗덮개(도시하지 않음) 및 아래덮개(도시하지 않음)에 의해 소정의 장소에 고정되어 있다.
도 21(c) 및 (d)에 나타내는 자기 필터 장치 각각은, 도 21(a) 및 (b)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일한 구성을 가지며, 자석 유닛의 구성이 상이하다.
도 21(c)에 나타내는 자기 필터 장치에서, 자석 유닛(902a)이 복수(도 21(c)에서는 5개)의 자석(902a1)으로 구성되어 있다. 복수의 자석(902a1)은 적층된 상태로 배치되어 있다. 또한 이웃하는 2개의 자석(902a1)끼리는 동일한 극성의 자극(N극과 N극 또는 S극과 S극)이 마주하도록 배치되어 있다. 그리고 원통상의 자기 요크(941b)가 이웃하는 2개의 자석(902a1)의 경계 부분 모두를 넘도록, 제2 통상체(662)의 내벽을 따라 배치되어 있다.
도 21(d)에 나타내는 자기 필터 장치에서, 자석 유닛(902b)이 복수(도 21(d)에서는 4개)의 자석(925b)과, 복수(도 21(d)에서는 5개)의 부자기 요크(927b)로 구성되어 있다. 복수의 자석(925b)과 복수의 부자기 요크(927b)는 교대로 적층된 상태로 배치되어 있다. 또한 이웃하는 2개의 자석(925b)끼리는 동일한 극성의 자극(N극과 N극 또는 S극과 S극)이 마주하도록 배치되어 있다. 그리고 원통상의 자기 요크(941b)가 제1 통상체(661)의 외벽에서의 복수의 부자기 요크(927b)에 대향하는 부분 모두를 넘도록, 제2 통상체(662)의 내벽을 따라 배치되어 있다.
또한 도 21(a)~(d)에 나타내는 바와 같은 자기 요크(941a, 941b)의 배치에서는, 처리 용기(606)의 내측의 처리실 내에 처리 용기(606)(제1 통상체(661), 제2 통상체(662))의 통축방향에 직교하는 자계가 발생한다.
(6) 실시형태에 따른 자기 필터 장치나 변형예(1)에서 설명한 자기 필터 장치에서는, 복수의 자석과 복수의 부자기 요크가 교대로 적층된 1개의 자석 유닛을 구비하는 예에 대해 설명했다. 단, 자석 유닛의 수는 1개로 한정되는 것이 아니며, 복수의 자석 유닛을 구비하는 것이어도 된다.
도 22(a) 및 (b)는, 본 변형예에 따른 자기 필터 장치의 일부를 나타내는 단면도이다.
도 22(a)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 16(a)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일한 구성을 가지며, 처리 용기(306)의 외벽에서의, 처리 용기(306)의 통축방향으로 이간된 2개의 부위 각각을 둘러싸도록, 자석 유닛(702a, 702b)이 배치되어 있는 점이 도 16(a)에 나타내는 구성과 상이하다.
각 자석 유닛(702a, 702b)은, 각각 1개의 자석(725a, 725b)과, 2개의 부자기 요크(727a, 727b)로 구성되어 있다. 자석(725a, 725b) 및 부자기 요크(727a, 727b)는 모두 대략 원환상의 형상을 가지며, 처리 용기(306)의 외벽의 일부를 처리 용기(306)의 통축 주변에 둘러싸고 있다. 그리고 2개의 부자기 요크(727a, 727b) 각각은, 자석(725a, 725b) 및 자기 요크(741a, 741b) 각각과 자기적으로 결합되어 있다.
도 22(b)에 나타내는 자기 필터 장치는, 도 20(b)에 나타내는 자기 필터 장치와 대략 동일한 구성을 가지며, 처리 용기(306)의 외벽에서의, 처리 용기(306)의 통축방향으로 이간된 2개의 부위 각각을 둘러싸도록, 자석 유닛(702c, 702d)이 배치되어 있는 점이 도 20(b)에 나타내는 구성과 상이하다.
각 자석 유닛(702c, 702d)은, 각각 1개의 자석(725c, 725d)과, 2개의 부자기 요크(727c, 727d)로 구성되어 있다. 자석(725c, 725d) 및 부자기 요크(727c, 727d)는 모두 대략 원반상의 형상을 갖고 있다. 그리고 2개의 부자기 요크(727c, 727d)각각은, 자석(725c, 725d) 및 자기 요크(741g, 741h) 각각과 자기적으로 결합되어 있다.
또한 도 22(a) 및 (b)에 나타내는 바와 같은 자기 요크(741a, 741b, 741g, 741h)의 배치에서는, 처리 용기(306, 606)의 내측의 처리실 내에 처리 용기(306, 606)(제1 통상체(661), 제2 통상체(662))의 통축방향을 따른 자계가 발생한다.
(7) 실시형태나 변형예에서는, 처리 용기의 처리실 내에서의, 자석 유닛의 각 자극에 대응하는 위치의 근방에 자기 요크가 1개씩 배치되어 있는 예에 대해 설명했다. 단, 자기 요크의 배치는 이에 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 복수의 자기 요크가 처리실에서의 각 자극에 대응하는 위치의 근방에, 처리 용기 통축방향(쿨런트의 흐름 방향)으로 겹쳐 배치되는 것이어도 된다.
(8) 실시형태 및 전술한 각 변형예에서는, 자기 필터 장치가 쿨런트 등의 액체에 포함되는 강자성체 입자를 여과 제거하여 액체를 세정하는 예에 대해 설명했다. 단, 자기 필터 장치가 세정하는 대상인 피처리 유체는 액체에 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 강자성체 입자가 분산된 기체여도 된다.
(9) 실시형태에서는, 자석 유닛의 일부를 구성하는 자석이 영구 자석인 것으로 설명했지만, 자석의 종류는 영구 자석에 한정되는 것이 아니고, 전자석이어도 된다.
(10) 실시형태에서는, 여재(4)의 세정 시에는 자기 필터 장치(1A(1B)) 사용 시의 쿨런트의 흐름 방향과는 역방향으로 쿨런트를 흘려보내는 예에 대해 설명했다. 단, 여재(4)의 세정 방향은 이에 한정되는 것이 아니고, 예를 들면 자석 유닛(2)을 자석실(S2)의 위쪽에 배치하여, 자기 필터 장치(1A(1B)) 사용 시의 쿨런트의 흐름 방향과 동일한 방향으로 쿨런트를 흘려보내도록 해도 된다.
이 경우, 예를 들면 액체 삼방밸브(18)가 배관(10)의 접속처를 배관(118) 측과, 탈액ㆍ고화 유닛(100)에 직접 접속된 배관(도시하지 않음) 측으로 전환하도록 하면 된다. 그리고 여재(4)의 세정 시에는, 액체 삼방밸브(18)가 배관(10)의 접속처를 탈액ㆍ고화 유닛(100)에 접속된 배관 측으로 전환하도록 하면 된다.
(11) 실시형태에서는, 압력 센서(120)가 펌프(90)의 근방, 즉, 자기 필터 장치(1A(1B))의 쿨런트 입구 측의 배관(114)에 마련되어 펌프(90)의 송출 압력을 검지하는 예에 대해 설명했지만, 압력 센서(120)가 자기 필터 장치(1A(1B))의 쿨런트 출구 측의 배관(118)에 마련되어도 된다. 이 경우, 압력 센서(120)는 배관(118)과, 밸브(98)와, 배관(114)으로 구성되는 유로에 의한 압력 손실을 검지하고, 단계 S9에서는 소정값 이상인지 여부를 판정하면 된다. 또한 압력 센서(120)는, 자기 필터 장치(1A(1B))의 쿨런트 입구 측의 배관(114)과 쿨런트 출구 측의 배관(118)의 차압(差壓)을 검지하는 것이어도 된다. 그리고 단계 S9(도 8 참조)에서는, 소정값 이상인지 여부를 판정하면 된다.
(12) 실시형태에서는, 처리실 내에 여재가 배치되어 있었지만, 여재를 생략할 수도 있다. 이 경우, 처리실 내의 쿨런트 중의 슬러지를 자기 요크에 흡착시켜, 쿨런트로부터 여과 제거할 수 있다.
1A, 1B, 1001: 자기 필터 장치
2, 202, 302a, 302b, 402a, 402b, 402c, 502a, 502b, 502c, 502d, 602a, 602b, 702a, 702b, 702c, 702d, 902a, 902b: 자석 유닛
4: 여재
6, 206, 306, 606: 처리 용기
7: 상판
8, 10, 22, 99, 114, 116, 118: 배관
8a: 처리 유체 유입 배출 포트
9: 받침대
16, 18: 액체 삼방밸브
17a: 아래덮개
17b: 윗덮개
98: 밸브
25, 225, 302b1, 425a, 425b, 425c, 425d, 425e, 502b1, 525c, 525d, 602a1, 625b, 725a, 725b, 725c, 725d, 825a, 825b, 825c, 902a1, 925b: 자석
27, 27A, 27B, 227, 227A, 227B, 427a, 427b, 427c, 527b, 527c, 527d, 627b, 727a, 727c, 727d, 827a, 927b: 부자기 요크
41, 241, 341a, 341b, 641a, 741a, 741b, 741g, 741h, 841a, 941a, 941b: 자기 요크
41a, 41b, 241a: 관통 구멍
61, 661: 제1 통상체
62, 662: 제2 통상체
90, 102: 펌프
96: 어큐물레이터
100: 탈액ㆍ고화 유닛
104: 버퍼 탱크
106: 회수 탱크
108: 공작 기계
120: 압력 센서
134, 136: 공기 삼방밸브
135, 137, 142, 143: 공기 배관
138: 압축공기원
142a: 상부 포트
143a: 하부 포트
190: 제어부
292: 메모리
296: 입출력 포트
298: 제어 프로그램
A1: 공기 저장 영역
S1, S21: 처리실
S2, S22: 자석실
S11, S211: 여재 배치 영역

Claims (13)

  1. 내부를 흐르는 피처리 유체 중에 분산되는 강자성체 입자를 자력 작용을 이용하여 흡착하고, 상기 피처리 유체로부터 여과 제거하는 처리실을 갖는 처리 용기와,
    상기 처리 용기의 상기 처리실 내에 배치된 여재와,
    다른 자극(磁極)을 포함하는 복수의 자극이 상기 피처리 유체의 흐름 방향을 따라 배치되면서 상기 처리실의 외부에 위치하도록 구성된 자석 유닛과,
    상기 피처리 유체의 흐름을 허용하도록 상기 처리실 내에 마련되어, 상기 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 상기 처리실 내에서의 상기 자석 유닛으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들이는 둘 이상의 자기 요크(yoke)를 구비하고 있고,
    상기 처리실은, 상기 피처리 유체가, 상기 자기 요크 내에 형성된 관통 구멍, 및 상기 자기 요크 사이에 배치된 상기 여재를 통과하여 배출되도록 구성된 것을 특징으로 하는 자기 필터 장치.
  2. 내부를 흐르는 피처리 유체 중에 분산되는 강자성체 입자를 자력 작용을 이용하여 흡착하고, 상기 피처리 유체로부터 여과 제거하는 처리실을 갖는 처리 용기와,
    상기 처리 용기의 상기 처리실 내에 배치된 여재와,
    다른 자극을 포함하는 복수의 자극이 상기 피처리 유체의 흐름 방향을 따라 배치되면서 상기 처리실의 외부에 위치하도록 구성된 자석 유닛과,
    상기 피처리 유체의 흐름을 허용하도록 상기 처리실 내에 마련되어, 상기 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 상기 처리실 내에서의 상기 자석 유닛으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들이는 하나 이상의 자기 요크를 구비하고 있고,
    상기 처리실은, 상기 피처리 유체가, 상기 자기 요크와 상기 자석 유닛 사이에 개재되도록 배치된 상기 여재를 통과하여 배출되도록 구성된 것을 특징으로 하는 자기 필터 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 둘 이상의 상기 자기 요크는 제1 자기 요크와, 제2 자기 요크를 포함하고,
    상기 제1 자기 요크는 상기 처리실 내에서 상기 자석 유닛 중 하나의 자극에 대응하는 제1 위치의 근방에 배치되며,
    상기 제2 자기 요크는 상기 처리실 내에서 상기 자석 유닛 중 나머지 다른 자극에 대응하는 제2 위치의 근방에 배치되고,
    상기 제2 자기 요크는 상기 하나의 자극으로부터 상기 제1 자기 요크를 따라 상기 자석 유닛으로부터 멀어지는 방향으로 끌어들여진 자계의 방향을, 상기 처리실 내에서 상기 제1 자기 요크로부터 상기 제2 자기 요크로 향하는 방향으로 변화시키는 것을 특징으로 하는 자기 필터 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 자석 유닛은 상기 피처리 유체의 흐름 방향을 따라 배치된 복수의 자석을 가지며,
    상기 복수의 자석 각각은, 이웃하는 다른 자석과 동일한 극성의 자극이 마주하도록 배치되고,
    상기 자기 요크 각각은, 상기 피처리 유체의 흐름 방향으로 상기 복수의 자석의 자극이 마주하는 위치의 근방에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 필터 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 자석 유닛은, 또한 복수의 부(副)자기 요크를 가지며,
    복수의 상기 부자기 요크 각각은, 이웃하는 2개의 자석 사이에 개재되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 필터 장치.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 처리 용기는 통상체를 가지며, 상기 통상체의 내측이 상기 처리실을 구성하고,
    상기 자석 유닛이 상기 통상체의 외측에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 필터 장치.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 처리 용기는 제1 통상체의 외측에 제2 통상체가 배치된 형상을 가지며, 상기 제1 통상체와 상기 제2 통상체 사이의 영역이 상기 처리실을 구성하고,
    상기 자석 유닛은 상기 제1 통상체의 내측에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 자기 필터 장치.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 자기 요크는 상기 처리실의 내부에서 상기 자석 유닛과의 사이에 상기 피처리 유체의 유로가 형성되도록 배치되어, 상기 복수의 자극 각각을 기점으로 하는 자력선을 끌어들이는 것을 특징으로 하는 자기 필터 장치.
  9. 제1항 또는 제2항에 기재된 자기 필터 장치와,
    상기 자기 필터 장치가 구비하는 상기 처리 용기의 상기 처리실에 액체로 이루어지는 상기 피처리 유체를 공급하는 펌프와,
    상기 펌프가 공급하는 상기 피처리 유체의 유로를 전환하는 전환부를 구비하고,
    상기 처리 용기는,
    상기 처리실 내에 연통하는 제1 배관과,
    상기 처리실에서의 상기 여재의 상기 제1 배관 측과는 반대측에 위치하여 상기 처리실 내에 연통하는 제2 배관과,
    상기 처리실 내에서의 상기 여재의 상기 제2 배관 측에 공기가 모여 있는 공기 저장 영역을 형성하는 공기 저장 영역 형성부를 가지며,
    상기 전환부는,
    상기 펌프가 공급하는 상기 피처리 유체의 유로를 상기 제1 배관 및 상기 제2 배관을 통하도록 전환함으로써 상기 공기 저장 영역에 존재하는 공기를 압축한 후,
    상기 펌프가 공급하는 상기 피처리 유체의 유로를 상기 제2 배관을 통하도록 전환함으로써, 상기 공기 저장 영역에 존재하는 압축된 공기의 압력에 의해 상기 처리실 내에 존재하는 상기 피처리 유체를 상기 제1 배관을 통해 상기 처리실의 외부로 밀어내는 것을 특징으로 하는 액체 세정 시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 공기 저장 영역 형성부는 상기 제2 배관에 연통하여 상기 처리실 내에 돌출한 배관으로 구성되는 것을 특징으로 하는 액체 세정 시스템.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 전환부는 다방(多方)밸브를 포함하여 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 세정 시스템.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 펌프에 접속된 제3 배관과,
    처리가 끝난 액체용의 제4 배관과,
    상기 피처리 유체의 배출용인 배출용 배관과,
    상기 제2 배관과 상기 제3 배관을 바이패스(bypass)하는 바이패스 배관을 더 구비하고,
    상기 전환부는,
    상기 제1 배관을 상기 제3 배관 및 상기 배출용 배관 중 어느 한쪽에 접속하는 제1 삼방밸브(three way valve)와,
    상기 제2 배관을 상기 제4 배관 및 상기 바이패스 배관 중 어느 한쪽에 접속하는 제2 삼방밸브와,
    상기 제1 삼방밸브 및 상기 제2 삼방밸브를 제어하는 제어부를 가지며,
    상기 제어부는 상기 제1 삼방밸브를 제어하여 상기 제1 배관을 상기 제3 배관에 접속함과 함께, 상기 제2 삼방밸브를 제어하여 상기 제2 배관을 상기 제4 배관에 접속함으로써 상기 펌프부터 상기 제1 배관, 상기 여재의 순서대로 경유하여 상기 제2 배관으로 흐르는 제1 유로로 전환하고,
    상기 제1 삼방밸브를 제어하여 상기 제1 배관을 상기 제3 배관에 접속함과 함께, 상기 제2 삼방밸브를 제어하여 상기 제2 배관을 상기 바이패스 배관에 접속함으로써 상기 펌프로부터 상기 제1 배관 및 상기 제2 배관을 통해 상기 처리실 내로 흐르는 제2 유로로 전환하며,
    상기 제1 삼방밸브를 제어하여 상기 제1 배관을 상기 배출용 배관에 접속함과 함께, 상기 제2 삼방밸브를 제어하여 상기 제2 배관을 상기 바이패스 배관에 접속함으로써 펌프부터 제2 배관, 여재의 순서대로 경유하여 제1 배관으로 흐르는 제3 유로로 전환하는 것을 특징으로 하는 액체 세정 시스템.
  13. 제1항 또는 제2항에 기재된 자기 필터 장치와,
    상기 자기 필터 장치가 구비하는 상기 처리 용기의 상기 처리실에 액체로 이루어지는 상기 피처리 유체를 공급하는 펌프를 이용한 액체 세정 방법으로서,
    상기 처리 용기는 상기 처리실 내에 연통하는 제1 배관과, 상기 처리실에서의 상기 여재의 상기 제1 배관 측과는 반대측에 위치하여 상기 처리실 내에 연통하는 제2 배관을 가지며,
    상기 처리실 내에서의 상기 여재의 상기 제2 배관 측에 공기가 모여 있는 공기 저장 영역을 형성하는 단계와,
    상기 펌프가 공급하는 상기 피처리 유체의 유로를 상기 제1 배관 및 상기 제2 배관을 통하도록 전환함으로써 상기 공기 저장 영역에 존재하는 공기를 압축하는 단계와,
    상기 펌프가 공급하는 상기 피처리 유체의 유로를 상기 제2 배관을 통하도록 전환함으로써, 상기 공기 저장 영역에 존재하는 압축된 공기의 압력에 의해 상기 처리실 내에 존재하는 상기 피처리 유체를 상기 제1 배관을 통해 상기 처리실의 외부로 밀어내는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액체 세정 방법.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106363455B (zh) * 2016-11-17 2018-09-21 青岛博锐密封技术有限公司 一种车床结构
CN111421382B (zh) * 2020-05-18 2021-09-10 江苏富邦电子科技有限公司 一种数控车床上切屑液的过滤装置
CN111604708B (zh) * 2020-06-19 2021-10-12 新昌县林球机械配件厂 一种机械加工切削液过滤装置
CN111673533B (zh) * 2020-06-27 2021-11-12 万秀芬 一种便于排屑的数控机床废料收集装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011056369A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Toshiba Corp 磁気分離装置及び磁気分離システム

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6164310A (ja) * 1984-09-07 1986-04-02 Atsugi Motor Parts Co Ltd 燃料フイルタ装置
JPH06182125A (ja) * 1992-12-22 1994-07-05 Japan Organo Co Ltd 電磁ろ過装置
JPH0852379A (ja) * 1994-08-09 1996-02-27 Shinko Electric Co Ltd ドラム磁選機
JPH08206420A (ja) * 1994-11-16 1996-08-13 Hitachi Ltd 磁気分離装置
JPH11244625A (ja) * 1998-03-06 1999-09-14 Hitachi Ltd 浄化装置
JP2004290855A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Sumitomo Bakelite Co Ltd 不純物の除去装置
CN1780795A (zh) * 2003-05-30 2006-05-31 东洋纺工程株式会社 净水器
JP2011011205A (ja) * 2009-06-02 2011-01-20 Nisshin Seisakusho:Kk 磁気フィルタ装置および工作機械のクーラント浄化装置
JP5275291B2 (ja) * 2010-06-21 2013-08-28 株式会社東芝 磁気分離システム及び磁気分離装置
CN102451586B (zh) * 2010-10-19 2013-11-20 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 磁性过滤器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011056369A (ja) * 2009-09-08 2011-03-24 Toshiba Corp 磁気分離装置及び磁気分離システム

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