KR101808726B1 - 3d 의상 착장 시뮬레이션 방법 및 장치 - Google Patents

3d 의상 착장 시뮬레이션 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

컴퓨터 시뮬레이션을 통한 3D 의상 제작에 있어서, 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법은 2D 의상 패턴을 입력 받는 패턴 입력 단계, 패턴블록을 입력 받는 패턴 블록 입력 단계, 입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시키는 패턴/블록 매칭 단계, 매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록들을 데이터베이스화 하는 패턴/블록 DB단계,패턴블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택 받는 패턴 블록 선택 단계, 선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉하는 자동 재봉 단계를 포함한다.

Description

3D 의상 착장 시뮬레이션 방법 및 장치{Method and apparatus for creating 3D cloth}
컴퓨터 시뮬레이션 기술에 관련된 것으로, 보다 상세하게는 2D 의상 패턴들을 아바타에 착장 시키는 착장 시뮬레이션(draping simulation) 기술에 관한 것이다.
현재 의상 시뮬레이션 기술은, 패션산업뿐만 아니라 게임, 애니메이션, 영화 특수효과에 이르기까지 다양한 분야에서 사용되고 있다. 또한 가상 세계에서의 의상 아이템 판매의 시장 규모도 수 조원에 달한다.
2014.09.11 일자 공개된 공개공보 10-2014-0108451 에는 3D 의상 착장 시뮬레이션의 과정으로서 의상을 3D 아바타에 드레이핑 하는 방법을 개시한다. 2D 패턴을 아바타 주위에 배치하고 재봉하여 아바타에 입혀진 의상을 생성하는 과정에서, 패턴이 아바타의 내부로 파고들어 패턴과 아바타의 교차가 발생할 수 있다. 이러한 교차를 제거하기 위해 드레이핑 방법에서는 패턴과 아바타 간에 교차가 발생한 메쉬를 찾아 교차 여부를 판단하고, 교차가 발생한 메쉬가 있는 경우에는 메쉬를 아바타의 피부 바깥 방향으로 밀어내는 미리 설정된 크기의 교차 제거 힘을 생성하고, 생성된 미리 설정된 크기의 교차 제거 힘을 해당 메쉬에 가하여 교차를 제거한다.
현재 이러한 방법을 이용하여 3D 의상을 제작하는 과정은, UI들을 통해 패턴을 그리고, 재봉될 패턴의 테두리들을 선택하여 재봉을 입력하며, 패턴을 3D 모델 위에 적절히 배치하여 드레이핑 하는 사용자 입력 과정을 거쳐야 한다.
제안된 발명은 의상 종류 별로 각 의상을 구성하는 2D 패턴들의 유형을 그룹화 또는 블록화 하고 이를 데이터베이스화 하여 제공하는 것을 목적으로 한다.
제안된 발명은 의상을 구성하는 2D 패턴들에 대한 재봉 관련 정보를 데이터베이스화 하여 제공하는 것을 목적으로 한다.
나아가, 제안된 발명은 그룹화 된 패턴 유형 및 데이터베이스화 된 재봉 관련 정보를 통해 자동으로 패턴을 재봉하여 3D 의상을 생성함을 목적으로 한다.
일 양상에 있어서, 2D 의상 패턴을 입력 받는 패턴 입력 단계, 패턴블록을 입력 받는 패턴 블록 입력 단계, 입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시키는 패턴/블록 매칭 단계, 매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록들을 데이터베이스화 하는 패턴/블록 DB단계, 패턴블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택 받는 패턴 블록 선택 단계, 선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉하는 자동 재봉 단계를 포함한다.
일 양상에 있어서, 패턴블록들은 2D 의상 패턴의 재봉 단위들과 각각 대응되는 모서리들을 포함하고, 상기 모서리마다 대응되는 2D 의상 패턴의 재봉 단위에 대한 자동 재봉 정보가 설정된다.
또 다른 일 양상에 있어서, 패턴/블록 매칭 단계는 입력된 2D 패턴 의상들의 모양을 분석하여 자동으로 패턴블록과 매칭시키는 자동 매칭 단계를 포함한다.
또 다른 일 양상에 있어서, 패턴/블록 매칭 단계는 패턴블록과 매칭된 2D 의상 패턴이 상기 패턴블록과 대응되는 패턴인지 확인하는 매칭 확인 단계를 더 포함한다.
또 다른 일 양상에 있어서, 패턴 입력 단계는 3D 의상을 구성하는 2D 의상 패턴들의 그룹인 의상 템플릿을 입력 받는 2D 의상 템플릿 선택 단계를 더 포함한다.
또 다른 일 양상에 있어서, 자동 재봉 단계 이전에 서로 재봉될 2D 패턴들의 재봉선 길이를 비교하여, 해당 길이가 동일하도록 2D 패턴의 크기를 자동으로 그레이딩 하는 자동 그레이딩 단계를 포함한다.
일 양상에 있어서, 의상 패턴 데이터베이스화 장치는 2D 의상 패턴을 입력 받는 패턴 입력부, 패턴블록을 입력 받는 패턴블록 입력부, 입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시키는 패턴/블록 매칭부, 매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록이 데이터베이스화 되어 등록된 패턴/블록 DB를 포함한다.
일 양상에 있어서, 패턴블록들은 2D 의상 패턴의 재봉 단위들과 각각 대응되는 모서리들을 포함하고, 상기 모서리마다 대응되는 2D 의상 패턴의 재봉 단위에 대한 자동 재봉 정보가 설정된다.
또 다른 일 양상에 있어서, 패턴/블록 매칭부는 입력된 2D 패턴 의상들의 모양을 분석하여 자동으로 패턴블록과 매칭시키는 자동 매칭부를 포함한다.
또 다른 일 양상에 있어서, 패턴/블록 매칭부는 패턴블록과 매칭된 2D 의상 패턴이 상기 패턴블록과 대응되는 패턴인지 확인하는 매칭 확인부를 더 포함한다.
또 다른 일 양상에 있어서, 패턴 입력부는 3D 의상을 구성하는 2D 의상 패턴들의 그룹인 의상 템플릿을 선택하는 2D 의상 템플릿 선택부를 더 포함한다.
일 양상에 있어서, 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치는 패턴블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택하는 패턴 블록 선택부, 선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉하는 자동 재봉부를 포함한다.
또 다른 일 양상에 있어서, 자동 재봉부는 서로 재봉될 2D 패턴들의 재봉선 길이를 비교하여, 해당 길이가 동일하도록 2D 패턴의 크기를 자동으로 그레이딩 하는 자동 그레이딩부를 더 포함한다.
일 양상에 있어서, 3D 의상 착장 시뮬레이션을 제공하는 시스템은 2D 의상 패턴을 입력 받는 패턴 입력부, 패턴블록을 입력 받는 패턴블록 입력부, 입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시키는 패턴/블록 매칭부, 및 매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록이 데이터베이스화 되어 등록된 패턴/블록 DB를 포함하는 의상 패턴 데이터베이스화 장치 및 의상 패턴 데이터베이스화 장치로부터 수신한 패턴블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택하는 패턴 블록 선택부, 선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉하는 자동 재봉부, 및 아바타 모델 위에 2D 의상 패턴들을 드레이핑(draping)하는 드레이핑부, 드레이핑 결과를 렌더링하여 표시하는 디스플레이부를 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치를 포함한다.
제안된 발명은 그룹화 된 2D 패턴 및 재봉 정보를 데이터베이스화 하고, 이를 시각적 정보로 표현하여 제공함을 목적으로 한다.
나아가, 제안된 발명은 제공받은 데이터베이스를 통해 재봉선의 설정 없이도 2D 패턴들을 자동으로 재봉함으로써 3D 의상을 생성하는데 필요한 노력과 시간을 줄일 수 있다.
도 1은 일 실시 예에 따른 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법의 구성을 도시한 흐름도이다.
도 2는 일 실시 예에 따른 2D 의상 패턴과 패턴블록을 도시한 그림이다.
도 3은 일 실시 예에 따른 패턴블록과 2D 의상 패턴을 매칭시킨 그림이다.
도 4는 일 실시 예에 따른 2D 의상 패턴을 재봉하여 완성한 3D 의상의 모습을 도시한 그림이다.
도 5는 또 다른 일 실시 예에 따른 2D 의상 패턴과 패턴블록이 매칭된 모습을 도시한 그림이다.
도 6은 또 다른 일 실시 예에 따른 2D 의상 패턴과 패턴블록이 매칭된 모습을 도시한 그림이다.
도 7은 일 실시 예에 따른 의상 패턴 데이터베이스화 장치의 구성을 도시한 그림이다.
도 8은 일 실시 예에 따른 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치의 구성을 도시한 그림이다.
전술한 그리고 추가적인 본 발명의 양상들은 후술하는 실시 예들을 통해 더욱 명확해 질 것이다. 이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 기술되는 실시 예들을 통해 본 발명을 당업자가 용이하게 이해하고 재현할 수 있을 정도로 상세히 설명하기로 한다. 나아가 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다.
도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. 그리고, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 명세서에서 기술한 부란, "하드웨어 또는 소프트웨어의 시스템을 변경이나 플러그인 가능하도록 구성한 블록"을 의미하는 것으로서, 즉 하드웨어나 소프트웨어에 있어 기능을 수행하는 하나의 단위 또는 블록을 의미한다.
3D 의상 착장 시뮬레이션 방법에 있어서, 의상 패턴의 재봉 정보를 데이터베이스화 하여 패턴을 재봉하는 방법 및 그 장치와, 그 방법을 실행시키기 위한 컴퓨터 프로그램을 기록한 매체로서, 3D 시뮬레이션 기술 분야에 적용될 수 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
3D 의상은 실제 의상 제작 과정을 모티브로 하여 그 과정을 반영한 컴퓨터 시뮬레이션 프로그램을 통하여 생성 된다. 예를 들어 제작자가 의상의 2D 패턴을 그린 후, 옷을 입게 될 아바타 모델에 2D 패턴을 드레이핑 시뮬레이션 한다. 드레이핑 결과를 렌더링 하여 표시함으로써 3D 의상이 화면으로 출력된다. 아바타 모델과 2D 의상 패턴은 사용자가 직접 컴퓨터 프로그램을 통하여 그리거나, 저장된 것을 사용할 수 있다. 사용자가 직접 그리는 경우 다양한 그래픽 소프트웨어나 CAD 프로그램을 사용하여 입력할 수 있으며, 제공되는 2D 패턴 제작 툴을 사용할 수도 있다.
일 실시 예에 따른 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법에서 드레이핑 시뮬레이션 방법은, 2D 패턴의 메쉬화 단계, 아바타 주변에서 패턴의 배치, 패턴과 아바타의 충돌 여부를 판단하는 단계와, 충돌 제거 힘(force)을 생성하는 단계 및 드레이핑 시뮬레이션 과정을 수행하는 단계를 포함한다.
여기서, 드레이핑 시뮬레이션 과정은 일 실시 예로 [Pascal Volino, Nadia MagnenatThalmann: Resolving surface collisions through intersection contour minimization. ACM Trans. Graph. 25(3): 1154-1159 (2006)]에 게시된 방법을 사용할 수 있다.
도 1은 일 실시 예에 따른 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법 중에서 패턴 블록을 이용하여 3D 의상을 생성하는 방법의 구성을 도시한 흐름도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법은 패턴 입력 단계(S1), 이후에 패턴 블록 입력 단계(S2), 이후에 패턴/블록 매칭 단계(S3), 이후에 패턴/블록DB단계(S4), 이후에 패턴/블록 선택 단계(S5), 이후에 자동 재봉 단계(S6)를 포함한다.
패턴 블록이란 의상을 구성하는 2D 패턴들을 각각 둘러싸는 블록으로서, 2D 패턴에 대한 재봉 정보를 포함하는 도형이다. 자세한 내용은 후술한다.
일 양상에 따르면, 패턴 입력 단계(S1)은 2D 의상 패턴을 입력 받는다. 일 실시 예에 따른 2D 패턴은 3D 의상을 구성하기 위해 재단되는 옷 본을 컴퓨터에서 2차원 객체로 모델링 한 것을 말한다
2D 패턴은 옷감의 외형과 물리적인 특성의 설정으로 생성된다. 2D 패턴의 외형을 나타내기 위해서는 2D 패턴의 외곽선 정보 입력이 필요하다. CAD 툴이나 다양한 그래픽 프로그램 툴을 이용하여 패턴의 외곽선과 꼭지점을 생성할 수 있고, 또는 의상 유형에 따른 2D 패턴 모델로 구성된 데이터베이스로부터 선택하여 사용할 수 있다. 외곽선에 의해 외형이 결정된 2D 패턴의 내부는 삼각형 또는 사각형의 메쉬로 구성될 수 있다. 메쉬는 질량을 갖는 격자 점과 격자 점을 연결하는 스프링으로 구성될 수 있다. 격자 점과 스프링을 통해 2D 패턴 소재의 성질, 옷감의 접힘, 늘어뜨림 등의 모양을 나타낼 수 있다. 재봉선은 2D 패턴을 잇는 재봉 과정 후에 표시되는 선으로, 두 2D 패턴에서 공통되는 외곽선 또는 내부선을 말한다.
일 실시 예에 있어서, 2D 패턴의 입력은 마우스 등의 입력 장치를 통하여 사용자로부터 2D 패턴의 모양에 해당하는 도형을 입력 받아 이루어질 수 있다.
도 2는 일 실시 예에 있어서 2D 패턴과 패턴 블록을 도시한 모습이다
일 양상에 따르면, 패턴 블록 입력 단계(S2)에서는 패턴블록을 입력 받는다. 일 실시 예에 있어서, 패턴블록은 자신과 대응되는 2D 패턴을 둘러싸는 다각형이다. 예를 들어, 패턴블록은 도 2의 상단에 도시된 바와 같은 다각형일 수 있다. 다만, 패턴블록의 정의는 이에 한정되지 않으며, 다각형뿐만 아니라 곡선을 포함하는 도형일 수도 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 하나의 의상을 생성하는데 필요한 패턴 블록들이 그룹화될 수 있다. 도 2에서 도시된 복수의 패턴 블록들은 셔츠를 생성하는데 필요한 패턴 블록들이 그룹화 된 모습을 도시한 것이다.
구체적인 일 양상에 있어서, 패턴블록들은 2D 의상 패턴의 재봉 단위들과 각각 대응되는 모서리들을 포함하고, 상기 모서리마다 대응되는 2D 의상 패턴의 재봉 단위에 대한 자동 재봉 정보가 설정된다. 구체적으로, 패턴블록의 각 모서리는 패턴의 재봉 단위를 의미하며, 각 모서리와 대응되는 2D 패턴의 테두리를 재봉 단위로 설정하게 된다. 여기서, 재봉 단위는 두 꼭지점을 연결하는 하나의 선분을 말한다. 도6에 도시된 바와 같이 패턴 블록의 6-1의 모서리는 2D 패턴의 6-2와 대응되고, 패턴 블록의 6-3은 2D 패턴의 6-4와 대응된다.
도 3는 일 실시 예에 따른 2D 패턴과 패턴블록이 매칭된 모습을 도시한다.
일 양상에 있어서, 패턴/블록 매칭 단계(S3)는 입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시킨다. 일 실시 예에 있어서, 사용자는 2D 의상 패턴들 중 하나를 클릭하고, 패턴블록들 중 클릭된 패턴과 대응되는 패턴블록을 클릭함으로써 패턴과 패턴블록을 매칭시킬 수 있다. 2D 패턴과 그에 대응되는 패턴블록에 대하여 매칭 명령을 입력하면, 2D 패턴이 패턴블록 안에 놓이게 된다. 예를 들어, 도 2의 패턴블록과 2D 패턴들에 대하여 매칭 명령을 입력하면, 도 3와 같이 패턴블록 내에 2D 패턴들이 놓이게 된다. 또 다른 예를 들면, 2D 패턴을 드래그하여 매칭시키고자 하는 패턴 블록 내에 드랍 시키면, 2D 패턴과 패턴 블록이 매칭된다.
일 양상에 있어서, 2D 패턴과 패턴블록의 매칭이 이루어질 때마다, 2D 패턴이 3D 모델 주변에 자동으로 배치될 수 있다. 따라서, 도 4에서와 같이 패턴들이 재봉되고 나면 3D 모델 위에 입혀진 3D 의상으로 생성되게 된다. 후술하겠지만, 패턴블록에는 2D 패턴이 3D 모델 주변에 놓일 위치 정보가 포함될 수 있다.
일 양상에 있어서, 패턴/블록 DB 단계(S4)는 매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록들을 데이터베이스화 한다. 일 실시 예에 따르면, 패턴블록의 유형은 3D 의상의 유형만큼 생성될 수 있다. 예를 들어, 3D 의상의 종류가 셔츠, 스커트, 원피스, 바지가 존재한다면, 이를 구성하는 패턴블록들의 정형화된 유형들이 존재한다. 나아가, 2D 의상 패턴들은 동일한 유형의 3D 의상을 구성하는 경우에도 의상 디자인에 따라 그 패턴의 모양이 상이 할 수 있다. 예를 들어, 남성의 셔츠와 동일한 패턴블록으로 구성되는 여성의 블라우스의 경우에 남성의 셔츠와는 달리 몸통 부분의 2D 패턴이 허리 라인이 잡히도록 형성된다. 또는, 2D 패턴이 셔츠의 소매인 경우에 7부/9부/긴팔에 따라 그 길이가 상이할 수 있고, T셔츠인지, Y셔츠인지 여부에 따라 소매나 카라 부분의 패턴 디자인이 달라질 수 있다. 따라서, 의류 업계에서 의상 유형에 따라 정형화가 가능한 패턴블록들과 다양한 의상 디자인에 따른 2D 패턴들을 서로 매칭시켜 데이터베이스화 함으로써 3D 의상 제작자에게 제공할 수 있다.
일 양상에 있어서, 패턴 블록 선택 단계(S5)는 패턴/블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택 받는다. 일 실시 예에 따르면, 전술한 패턴/블록 DB를 제공받은 3D 의상 제작자는 패턴/블록 D로부터 패턴블록과 매칭된 2D 패턴들 중 각 의상의 부위마다 원하는 2D 패턴을 선택할 수 있다.
일 양상에 있어서, 자동 재봉 단계(S6)는 선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉한다.
전술한 바와 같이, 패턴블록들에는 하나의 3D 의상 유형을 결정하는 패턴 블록들 간에 서로 재봉될 정보가 설정되어 있다. 도 5에는 3D 의상 유형이 셔츠인 경우에 패턴들과 패턴블록들이 매칭된 모습을 도시한 그림이다. 구체적으로, 도 5에서는 셔츠를 구성하는 몸통 부위의 패턴과 한쪽 소매를 재봉하기 위한 테두리 정보를 점선으로 표시하여 보여준다. 예를 들어, 도 5에서 도시된 패턴블록에서는 소매에 해당하는 패턴블록(a)의 좌측상단(5-1) 모서리, 몸통에 해당하는 패턴블록(b)의 좌측상단(5-2) 모서리가 서로 재봉되도록 설정되어 있다. 즉, 패턴블록은 5-1 모서리와 대응되는 패턴의 테두리를 하나의 재봉 단위로 설정하고, 5-2 모서리와 대응되는 패턴의 모서리를 하나의 재봉선 단위로 설정하여, 두 재봉선을 서로 재봉한다. 이는 별개의 재봉 명령 없이, 패턴들이 각각에 대응하는 패턴블록에 매칭됨으로써 패턴의 모서리마다 재봉 명령이 자동으로 설정되고, 자동으로 재봉이 이루어지는 것과 같다. 도 5에 따른 전술한 설명은 일 실시 예이며, 패턴블럭에는 모든 모서리마다 해당 패턴과 매칭 될 패턴에 대한 재봉 정보가 설정될 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 해당 재봉 정보에는 재봉이 필요하지 않는 부분에 대한 정보도 포함된다. 예를 들어, 셔츠의 포켓에서 상단 부분은 뚫려있어야 하므로, 5-5의 패턴 상단 모서리에는 재봉을 하지 않도록 재봉정보가 설정될 수 있다. 또한, 전술한 바와 같이 패턴블록에는 해당 패턴블록과 매칭될 2D 패턴이 3D 모델 주변에 배치될 위치정보를 포함할 수 있다. 따라서, 2D 패턴이 패턴블록과 매칭될 때마다 3D 모델 주변에 해당 2D 패턴과 동일한 패턴이 적절한 위치에 배치될 수 있다. 예를 들어, 소매부분 패턴은 3D 모델의 팔 주변에 배치되게 된다.
일 양상에 있어서, 패턴/블록 매칭 단계(S3)는 입력된 2D 패턴 의상들의 모양을 분석하여 자동으로 패턴블록과 매칭시키는 자동 매칭 단계를 더 포함할 수 있다. 전술한 바와 같이 사용자가 직접 2D 패턴과 패턴블록들을 선택하여 매칭할 수도 있지만, 일 실시 예에 있어서 의상 패턴 입력과 패턴 블록 유형 선택만으로도 자동으로 서로를 매칭시킬 수 있다. 예를 들어, 셔츠를 제작하는 경우 셔츠를 구성하는 2D 패턴들을 모두 입력하고, 셔츠에 해당하는 패턴 블록을 선택하여 데이터베이스로부터 불러들이면 사용자의 추가적인 입력 없이, 2D 패턴들과 패턴블록들이 서로 대응되는 것끼리 자동으로 매칭되어, 2D 패턴이 패턴블록 내부에 둘러싸이도록 배치될 수 있다. 또 다른 일 실시 예에 따르면, 각각의 2D 패턴의 입력 될 때마다 바로 패턴 블록과 자동으로 매칭될 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 자동 매칭은 2D 패턴의 모양정보와 패턴블록을 미리 대응시켜 데이터베이스화 함으로써 구현될 수 있다. 예를 들어, 2D 패턴이 입력될 때마다 그 모양을 분석함으로써 입력된 2D 패턴의 모양정보를 획득하고, 획득된 모양정보와 대응하는 패턴블록을 데이터베이스로부터 호출하여 자동으로 2D 패턴과 매칭시킨다. 예들 들어, 자동 매칭 단계는 2D 패턴의 모양과 패턴블록의 모양을 학습/인지하는 딥 러닝(Deep Learning)을 통하여 이루어질 수 있다.
일 양상에 있어서, 패턴/블록 매칭 단계(S3)는 패턴블록과 매칭된 2D 의상 패턴이 패턴블록과 대응되는 패턴인지 확인하는 매칭 확인 단계를 더 포함한다.
예를 들어, 사용자가 2D 의상 패턴과 패턴블록을 직접 매칭시키는 경우, 서로 대응되지 않는 경우인데 잘못 매칭 시키는 경우가 발생할 수 있다. 이러한 경우, 2D 패턴에 재봉 정보가 잘못 설정되어 의상이 생성되지 않거나, 해괴하게 재봉될 수 있다. 이러한 경우를 방지하기 위하여, 일 실시 예에 따르면 매칭 확인 단계를 통해 패턴블록과 매칭된 2D 의상 패턴이 패턴블록과 대응되는 패턴인지 확인할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 매칭 확인은 전술한 자동 매칭 방법을 활용할 수 있다. 예를 들어, 2D 패턴의 모양정보와 패턴블록의 매칭이 데이터베이스에 저장된 대응정보(2D 패턴모양-패턴블록)와 일치하는지 여부를 확인할 수 있다. 또 다른 일 실시 예에 따르면, 매칭 확인은 패턴블록의 모서리 개수와 2D 패턴의 테두리 개수가 동일한지 여부를 통해 확인할 수 있으며, 추가적으로 패턴블록의 모서리와 2D 패턴의 테두리가 서로 이루는 각도를 통해서 적절한 매칭 여부를 확인할 수도 있다. 매칭 확인 방법은 제시된 예에 한정되지 않으며, 2D 패턴에 관한 정보와 패턴블록에 관한 정보를 활용하여 다양한 방법으로 실시될 수 있다.
일 양상에 있어서, 패턴 입력 단계(S1)는 3D 의상을 구성하는 2D 의상 패턴들의 그룹인 의상 템플릿을 선택하는 의상 템플릿 선택 단계를 더 포함할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 의상 템플릿은 각 의상 유형별로, 해당 의상을 구성하는 패턴들을 모아 놓은 그룹이다. 예를 들어, 의상 유형은 셔츠, 치마, 바지, 자켓, 코드 등으로 다양하게 존재하는데, 의류 업계에서 통상적인 의상 유형에 해당하는 의상에 대해서는 그 의상을 구성하는 패턴 정보가 정형화 되어 있다. 의상 템플릿은 이러한 패턴 정보들을 데이터베이스화 한 것으로, 예를 들어 셔츠의 의상 템플릿은 도 2에 도시된 패턴에 해당한다.
다만, 의상 템플릿의 구성은 반드시 한가지 형태로 고정된 것은 아니며, 예를 들어 같은 셔츠이더라도 구성된 데이터베이스에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어, 도4는 포켓이 존재하지 않는 셔츠이지만, 포켓이 존재하는 셔츠가 의상 템플릿으로 데이터베이스화 될 수도 있다.
일 양상에 따르면, 자동 재봉 단계 이전에 서로 재봉될 2D 패턴들의 테두리 길이를 비교하여, 해당 길이가 동일하도록 2D 패턴의 크기를 자동으로 그레이딩 하는 자동 그레이딩 단계를 더 포함한다.
일 실시 예에 따르면, 패턴블록들에 매칭된 2D 패턴들은 서로 그 크기가 다양할 수 있다. 따라서, 자동 재봉 정보에 따라 서로 연결될 2D 패턴들의 테두리 길이를 비교하고, 길이가 서로 상이한 경우 동일하게 변경할 수 있다. 이 때, 2D 패턴 각각의 테두리들이 길이가 변경되면서, 2D 패턴의 크기가 함께 그레이딩 될 수 있다.
또 다른 일 실시 예에 따르면, 패턴블록과 매칭된 2D 패턴의 크기를 조절할 수 있다. 예를 들어, 3D 의상의 사이즈가 3D 모델의 신체 사이즈를 기준으로 하여 S/M/L 등으로 구분되어 미리 설정될 수 있다. 따라서, S/M/L 중 하나의 사이즈를 선택하면, 선택된 사이즈에 따라 2D 패턴들이 해당 사이즈로 자동 그레이딩 될 수 있다. 또는, 2D 패턴의 크기는 보간이나 외삽의 방법을 통해 임의의 사이즈로 변경될 수 있다.
제안된 발명의 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법은 다운로드 가능한 컴퓨터 프로그램으로 제작 되어 컴퓨터가 읽을 수 있는 비휘발성 기록매체에 저장될 수 있으며, 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록 매체의 예로는 ROM, RAM, CD-ROM, 자기 테이프, 플로피디스크, 광 데이터 저장장치 등이 있으며, 또한 캐리어 웨이브(예를 들어 인터넷을 통한 전송)의 형태로 구현되는 것도 포함한다.
도 7은 일 실시 예에 따른 패턴 블록 정보를 데이터베이스화하는 의상 패턴 데이터베이스화 장치의 구성을 도시한 블록도이다. 도시된 바와 같이, 의상 패턴 데이터베이스화 장치는 사용자 인터페이스부, 데이터베스화부, 디스플레이부를 포함한다.
일 실시 예에 있어서, 사용자 인터페이스부는 패턴 입력부와 패턴블록 입력부를 포함하고, 데이터베이스화부는 패턴/블록 매칭부와 패턴/블록 DB를 포함한다.
일 양상에 따르면, 패턴 입력부(11)는 2D 의상 패턴을 입력 받는다. 일 실시 예에 있어서, 2D 패턴의 입력은 마우스 등의 입력 장치를 통하여 사용자로부터 2D 패턴의 모양에 해당하는 도형을 입력 받아 이루어질 수 있다.
일 양상에 따르면, 패턴 블록 입력부(12)는 패턴블록을 입력 받는다. 전술한 바와 같이, 2D 의상 패턴의 재봉 단위들과 각각 대응되는 모서리들을 포함하고, 모서리마다 대응되는 2D 의상 패턴의 재봉 단위에 대한 자동 재봉 정보가 설정되어 있다. 일 실시 예에 있어서, 패턴블록은 2D 패턴이 각각 하나씩 입력될 때마다 하나씩 선택될 수 있으며, 또는 의상 템플릿이 선택된 경우 그에 대응하는 패턴블록 그룹이 선택될 수도 있다.
일 양상에 따르면, 패턴/블록 매칭부(21)는 입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시킨다. 일 실시 예에 따르면, 사용자의 입력에 의해 매칭될 수도 있고, 패턴의 입력 시마다 자동으로 매칭될 수도 있다.
일 양상에 따르면, 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치는 매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록이 데이터베이스화 되어 등록되는 패턴/블록DB(22)를 포함한다. 일 실시 예에 있어서, 하나의 의상을 구성하는 패턴블록들에 대하여, 각 패턴블록마다 다양한 디자인의 2D 의상 패턴이 매칭될 수 있다. 예를 들어, 셔츠 소매에 대응하는 패턴블록에 대하여는, 긴팔, 7부, 9부처럼 길이가 다르거나, 남/여 차이에 따라 어깨나 소매부분의 디테일이 다른 2D 패턴들이 대응될 수 있다. 따라서, 이와 같이 다양한 2D 패턴들을 대응되는 패턴블록에 매칭시켜 데이터베이스화 하고, 사용자에게 데이터베이스를 제공하여 패턴블록과 매칭된 원하는 디자인의 2D 패턴들을 선택하도록 할 수 있다.
일 양상에 따르면, 디스플레이부(30)는 입력되는 2D 의상 패턴과3D 패턴블록을 화면으로 출력할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 디스플레이부(30)는 입력되는 2D 패턴을 출력하여 사용자에게 화면으로 제공할 수 있다. 입력되는 2D 패턴은 사용자가 입력하는 2D 패턴의 속성 정보(외곽선, 메쉬 모양 등)의 입력이 있을 때 마다, 그 입력을 반영하여 화면으로 출력될 수 있다. 나아가, 디스플레이부는 입력되는 패턴 블록을 출력하여 사용자에게 화면으로 제공할 수 있다. 또한, 디스플레이부는 2D 패턴과 패턴 블록이 매칭된 모습을 출력하여 사용자에게 화면으로 제공할 수 있다.
일 양상에 따르면, 패턴/블록 매칭부(21)는 입력된 2D 패턴 의상들의 모양을 분석하여 자동으로 패턴블록과 매칭시키는 자동 매칭부를 포함한다. 일 실시 예에 있어서, 자동 매칭부는 의상 패턴 입력과 패턴 블록 유형 선택만으로도 자동으로 서로를 매칭시킬 수 있다. 예를 들어, 셔츠를 제작하는 경우 셔츠를 구성하는 2D 패턴들을 모두 입력하고, 셔츠에 해당하는 패턴 블록을 선택하여 데이터베이스로부터 불러들이면 사용자의 추가적인 입력 없이, 2D 패턴들과 패턴블록들이 서로 대응되는 것끼리 자동으로 매칭되어, 2D 패턴이 패턴블록 내부에 둘러싸이도록 배치될 수 있다. 또 다른 일 실시 예에 따르면, 자동매칭부는 각각의 2D 패턴의 입력 될 때마다 바로 패턴 블록과 자동으로 매칭시킬 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 자동 매칭은 2D 패턴의 모양정보와 패턴블록을 미리 대응시켜 데이터베이스화 함으로써 구현될 수 있다. 예를 들어, 2D 패턴이 입력될 때마다 그 모양을 분석함으로써 입력된 2D 패턴의 모양정보를 획득하고, 획득된 모양정보와 대응하는 패턴블록을 데이터베이스로부터 호출하여 자동으로 2D 패턴과 매칭시킨다. 예들 들어, 자동 매칭 단계는 2D 패턴의 모양과 패턴블록의 모양을 학습/인지하는 딥 러닝(Deep Learning)을 통하여 이루어질 수 있다.
일 양상에 따르면, 패턴/블록 매칭부(21)는 패턴블록과 매칭된 2D 의상 패턴이 상기 패턴블록과 대응되는 패턴인지 확인하는 매칭 확인부를 더 포함한다. 예를 들어, 사용자가 2D 의상 패턴과 패턴블록을 직접 매칭시키는 경우, 서로 대응되지 않는 경우인데 잘못 매칭 시키는 경우가 발생할 수 있다. 이러한 경우, 2D 패턴에 재봉 정보가 잘못 설정되어 의상이 생성되지 않거나, 해괴하게 재봉될 수 있다. 이러한 경우를 방지하기 위하여, 매칭 확인부는 패턴블록과 매칭된 2D 의상 패턴이 패턴블록과 대응되는 패턴인지 확인할 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 매칭 확인은 전술한 자동 매칭 방법을 활용할 수 있다. 예를 들어, 매칭 확인부는 2D 패턴의 모양정보와 패턴블록의 매칭이 데이터베이스에 저장된 대응정보(2D 패턴모양-패턴블록)와 일치하는지 여부를 확인할 수 있다. 또 다른 일 실시 예에 따르면, 매칭 확인부는 패턴블록의 모서리 개수와 2D 패턴의 테두리 개수가 동일한지 여부를 통해 확인할 수 있으며, 추가적으로 패턴블록의 모서리와 2D 패턴의 테두리가 서로 이루는 각도를 통해서 적절한 매칭 여부를 확인할 수도 있다. 매칭 확인부의 매칭 확인 방법은 제시된 예에 한정되지 않으며, 2D 패턴에 관한 정보와 패턴블록에 관한 정보를 활용하여 다양한 방법으로 실시될 수 있다.
일 양상에 따르면, 패턴 입력부(11)는 3D 의상을 구성하는 2D 의상 패턴들의 그룹인 의상 템플릿을 선택하는 2D 의상 템플릿 선택부를 더 포함한다. 일 실시 예에 있어서, 의상 템플릿은 각 의상 유형별로, 해당 의상을 구성하는 패턴들을 모아 놓은 그룹이다. 예를 들어, 의상 유형은 셔츠, 치마, 바지, 자켓, 코드 등으로 다양하게 존재하는데, 의류 업계에서 통상적인 의상 유형에 해당하는 의상에 대해서는 그 의상을 구성하는 패턴 정보가 정형화 되어 있다. 사용자는 2D 의상 템플릿 선택부를 통해 원하는 의상을 구성하는 2D 패턴들을 한번에 입력할 수 있다.
도8은 일 실시 예에 따라 패턴블록을 이용하여 3D 의상을 생성하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치의 구성을 도시한 블록도이다.
일 실시 예에 따르면, 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치는 저장부(500), 3D 의상 생성부(200), 사용자 인터페이스부(100), 렌더링부(300) 및 디스플레이부(400)를 포함한다.
일 실시 예에 있어서, 저장부(500)는 3D 의상 제작에 필요한 아바타, 패턴, 부자재 등을 저장해 두었다가 사용할 수 있다. 저장부(500)는 성별, 인종, 얼굴, 헤어스타일, 신체 골격 등을 달리하는 다양한 사람의 3D 아바타 모델을 저장할 수 있다. 각 신체 부위별로 저장된 아바타 정보들을 조합하여 새로운 아바타를 생성하는데 이용할 수 있다. 저장부(500)는 의류 업계에서 사용하는 의상의 종류에 따른 패턴의 데이터 베이스를 저장할 수 있다. 또는 CAD 툴을 통해 입력된 2D 패턴도 저장하였다가 2D 패턴 제작부에 제공할 수 있다. 저장부(500)는 지퍼, 단추, 파이핑, 리본 등 다양한 3D 부자재를 저장하였다가 3D 의상 생성에 제공할 수 있다.
또 다른 일 실시 예에 있어서, 저장부(500)는 의상 유형에 따른 2D 패턴 정보, 패턴블록정보, 2D 패턴과 패턴블록의 매칭 정보들을 데이터베이스화 하여 저장할 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 3D 의상 생성부(200)는 드레이핑부(220)를 포함한다. 드레이핑부(220)는 2D 패턴을 아바타 모델 주위로 배치한 뒤, 앞서 설명한 드레이핑 과정을 거쳐 모델에 입힌다.
일 실시 예에 있어서, 디스플레이부(400)는 3D 의상 생성이 완료되어 렌더링부(300)에서 렌더링 처리가 된 3D 의상을 화면으로 출력한다. 일 실시예로서, 3D 의상은 아바타에 입혀진 상태로 아바타와 함께 출력될 수 있다. 또는 아바타만 출력하거나, 3D 의상만 출력할 수도 있다. 또 다른 예로 디스플레이부(400)는 의상을 드레이핑에 따라 변형이 완료된 메쉬만으로 나타내거나, 의상의 압력 분포도로 표현하여 사용자에게 의상 제작의 정보로서 제공 할 수 있다. 일 실시예에 따르면 디스플레이부(400)는 3D 의상이 입혀진 아바타를 상하, 좌우, 앞뒤 등 모든 각도에서 바라보는 입체적 뷰(View)로 출력할 수 있다. 예를 들어, 사용자의 마우스 조작 또는 키보드 등의 입력 장치를 통해 3D 화면의 출력 각도가 정해 지면 그 각도에서 바라보는 입체적 뷰(View)로 3D 의상 및 아바타가 출력 된다.
일 양상에 따르면, 사용자 인터페이스부(100)는 패턴/블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택하는 패턴 블록 선택부(110)를 포함한다. 일 실시 예에 있어서, 사용자는 패턴/블록 DB로부터 패턴 블록 선택부(110)를 통해 원하는 3D 의상 유형을 선택하고, 해당 3D 의상 유형을 구성하며 2D 패턴들과 매칭된 패턴블록들을 선택할 수 있다. 이를 통해 사용자는 3D 의상을 구성할 각 패턴블록마다 원하는 2D 패턴들을 선택할 수 있다.
일 양상에 따르면, 3D 의상 생성부(200)는 선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉하는 자동 재봉부(210)를 포함한다. 전술한 바와 같이, 패턴블록들에는 하나의 3D 의상 유형을 결정하는 패턴 블록들 간에 서로 재봉될 정보가 설정되어 있다. 따라서, 자동 재봉부(210)는 재봉 명령 없이, 패턴들이 각각에 대응하는 패턴블록에 매칭됨으로써 패턴의 모서리마다 재봉 명령이 자동으로 설정되고, 설정된 명령에 따라 자동으로 재봉을 실행한다.
또 다른 일 양상에 따르면, 자동 재봉부(210)는 서로 재봉될 2D 패턴들의 테두리 길이를 비교하여, 해당 길이가 동일하도록 2D 패턴의 크기를 자동으로 그레이딩 하는 자동 그레이딩부를 더 포함한다. 일 실시 예에 따르면, 패턴블록들에 매칭된 2D 패턴들은 서로 그 크기가 다양할 수 있다. 따라서, 자동 재봉부(210)는 자동 재봉 정보에 따라 서로 연결될 2D 패턴들의 테두리 길이를 비교하고, 길이가 서로 상이한 경우 동일하게 변경할 수 있다. 이 때, 2D 패턴 각각의 테두리들이 길이가 변경되면서, 2D 패턴의 크기가 함께 그레이딩 될 수 있다.
제안된 발명은 3D 의상 착장 시뮬레이션 제공 시스템을 제공한다. 일 실시 예에 따르면, 3D 의상 착장 시뮬레이션 제공 시스템은 의상 패턴 데이터베이스화 장치와, 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치를 포함한다. 후술할 의상 패턴 데이터스화 장치와 3D 의상 착장 시뮬레이션의 각 구성의 자세한 내용은 위에서 도7, 8과 함께 언급한 내용을 포함한다.
일 실시 예에 따르면, 의상 패턴 데이터베이스화 장치는 패턴블록 입력부, 패턴/블록 매칭부, 및 패턴/블록 DB를 포함한다.
일 양상에 따르면, 패턴 입력부는 2D 의상 패턴을 입력 받는다.
일 양상에 따르면, 패턴블록 입력부는 패턴블록을 입력 받는다.
일 양상에 따르면, 패턴블록 매칭부는 입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시킨다.
일 양상에 따르면, 패턴/블록 DB는 매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록이 데이터베이스화 되어 등록된 패턴/블록 DB를 포함한다.
일 실시 예에 따르면, 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치는 패턴 블록 선택부, 자동재봉부, 드레이핑부 및 디스플레이부를 포함한다.
일 양상에 있어서, 패턴 블록 선택부는 의상 패턴 데이터베이스화 장치로부터 수신한 패턴블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택받는다.
일 양상에 있어서, 자동 재봉부는 선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉한다.
일 양상에 있어서, 드레이핑부는 아바타 모델 위에 2D 의상 패턴들을 드레이핑(draping)한다.
일 양상에 있어서, 디스플레이부는 드레이핑 결과를 렌더링하여 표시한다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정, 변경 및 치환이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예 및 첨부된 도면들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예 및 첨부된 도면에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구 범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
5-1, 5-2, 5-3, 5-4 : 패턴 블록 모서리
6-1, 6-3 : 패턴 블록 모서리
6-2, 6-4 : 2D 패턴 테두리
10 : 사용자 인터페이스부 11: 패턴 입력부
12 : 패턴블록 입력부 20 : 데이터베이스화부
21 : 패턴/블록 매칭부 22 : 패턴/블록 DB
30 : 디스플레이부 100: 사용자 인터페이스부
110 : 패턴블록 선택부 200 : 3D 의상 생성부
210 : 자동 재봉부 220: 드레이핑부
300: 렌더링부 400: 디스플레이부
500: 저장부

Claims (14)

  1. 아바타 모델 위에 2D 의상 패턴들을 드레이핑(draping)하는 단계;
    드레이핑 결과를 렌더링하여 표시하는 단계;
    를 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법에 있어서,
    2D 의상 패턴을 입력 받는 패턴 입력 단계;
    패턴블록을 입력 받는 패턴 블록 입력 단계;
    입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시키는 패턴/블록 매칭 단계;
    매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록들을 데이터베이스화 하는 패턴/블록 DB단계;
    패턴블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택 받는 패턴 블록 선택 단계;
    선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉하는 자동 재봉 단계;
    를 포함하되,
    상기 패턴블록은 2D 의상 패턴의 재봉 단위들과 각각 대응되는 모서리들을 포함하고, 상기 모서리마다 대응되는 2D 의상 패턴의 재봉 단위에 대한 자동 재봉 정보가 설정된 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서, 상기 패턴/블록 매칭 단계는
    입력된 2D 패턴 의상들의 모양을 분석하여 자동으로 패턴블록과 매칭시키는 자동 매칭 단계;
    를 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 패턴/블록 매칭 단계는
    패턴블록과 매칭된 2D 의상 패턴이 상기 패턴블록과 대응되는 패턴인지 확인하는 매칭 확인 단계;
    를 더 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 패턴 입력 단계는
    3D 의상을 구성하는 2D 의상 패턴들의 그룹인 의상 템플릿을 입력 받는 2D 의상 템플릿 선택 단계;
    를 더 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 자동 재봉 단계 이전에
    서로 재봉될 2D 패턴들의 재봉선 길이를 비교하여, 해당 길이가 동일하도록 2D 패턴의 크기를 자동으로 그레이딩 하는 자동 그레이딩 단계;
    를 더 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 방법.
  7. 2D 의상 패턴을 입력 받는 패턴 입력부;
    패턴블록을 입력 받는 패턴블록 입력부;
    입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시키는 패턴/블록 매칭부;
    매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록이 데이터베이스화 되어 등록된 패턴/블록 DB;
    를 포함하되,
    상기 패턴블록은 2D 의상 패턴의 재봉 단위들과 각각 대응되는 모서리들을 포함하고, 상기 모서리마다 대응되는 2D 의상 패턴의 재봉 단위에 대한 자동 재봉 정보가 설정된 의상 패턴 데이터베이스화 장치.
  8. 삭제
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 패턴/블록 매칭부는
    입력된 2D 패턴 의상들의 모양을 분석하여 자동으로 패턴블록과 매칭시키는 자동 매칭부;
    를 포함하는 의상 패턴 데이터베이스화 장치.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 패턴/블록 매칭부는
    패턴블록과 매칭된 2D 의상 패턴이 상기 패턴블록과 대응되는 패턴인지 확인하는 매칭 확인부;
    를 더 포함하는 의상 패턴 데이터베이스화 장치.
  11. 제 7 항에 있어서, 상기 패턴 입력부는
    3D 의상을 구성하는 2D 의상 패턴들의 그룹인 의상 템플릿을 선택하는 2D 의상 템플릿 선택부;
    를 더 포함하는 의상 패턴 데이터베이스화 장치.
  12. 3D 아바타 모델과 2D 의상 패턴들이 저장되는 저장부;
    아바타 모델 위에 2D 의상 패턴들을 드레이핑(draping)하는 드레이핑부;
    드레이핑 결과를 렌더링하여 표시하는 디스플레이부;
    를 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치에 있어서,
    패턴블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택하는 패턴 블록 선택부;
    선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉하는 자동 재봉부;
    를 포함하되,
    상기 패턴블록은 2D 의상 패턴의 재봉 단위들과 각각 대응되는 모서리들을 포함하고, 상기 모서리마다 대응되는 2D 의상 패턴의 재봉 단위에 대한 자동 재봉 정보가 설정된 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 자동 재봉부는
    서로 재봉될 2D 패턴들의 재봉선 길이를 비교하여, 해당 길이가 동일하도록 2D 패턴의 크기를 자동으로 그레이딩 하는 자동 그레이딩부;
    를 더 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치.
  14. 3D 의상 착장 시뮬레이션을 제공하는 시스템에 있어서,
    2D 의상 패턴을 입력 받는 패턴 입력부,
    패턴블록을 입력 받는 패턴블록 입력부,
    입력된 2D 의상 패턴과 패턴블록을 매칭시키는 패턴/블록 매칭부, 및
    매칭된 2D 의상 패턴과 패턴블록이 데이터베이스화 되어 등록된 패턴/블록 DB를 포함하는 의상 패턴 데이터베이스화 장치; 및
    상기 의상 패턴 데이터베이스화 장치로부터 수신한 패턴블록 DB로부터 2D 의상 패턴과 매칭된 패턴블록을 선택하는 패턴 블록 선택부,
    선택된 패턴블록들에 매칭된 2D 의상 패턴들을 서로 재봉하되, 패턴블록들의 재봉 정보에 따라 자동으로 재봉하는 자동 재봉부, 및
    아바타 모델 위에 2D 의상 패턴들을 드레이핑(draping)하는 드레이핑부,
    드레이핑 결과를 렌더링하여 표시하는 디스플레이부를 포함하는 3D 의상 착장 시뮬레이션 장치를 포함하되,
    상기 패턴블록은 2D 의상 패턴의 재봉 단위들과 각각 대응되는 모서리들을 포함하고, 상기 모서리마다 대응되는 2D 의상 패턴의 재봉 단위에 대한 자동 재봉 정보가 설정된 3D 의상 착장 시뮬레이션 제공 시스템.

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