KR101784278B1 - 광확산 점착제층 및 광확산 점착 필름 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 종래의 광확산판을 대신하여 사용할 수 있는 광학 부재로서, 광확산 시트의 기능과 대전 방지 기능을 갖고, 디스플레이 두께의 박형화를 도모할 수 있는 광확산 점착제층 및 광확산 점착 필름을 제공한다. 광확산 점착제층이 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상과, 공중합 가능한 관능기 함유 모노머로서 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머, 질소 함유 비닐 모노머 및 방향족 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택한 적어도 1종 이상을 포함하는 공중합체와, 가교제와, 규소계 입자와, 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 형성되어 이루어지고, 광확산 점착제층의 투과율이 90% 이상, 헤이즈값이 40% 이상이며, 굴절률이 1.47 이상이고, 표면 저항률이 1.0×1012Ω/□ 이하이다.
Description
본 발명은 광확산 점착제층 및 그것을 사용한 광확산 점착 필름에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 주로 액정 디스플레이 내의 편광판의 상하 재료의 층간에 사용되어, 광학 부재를 고정하는 광확산 점착제층 및 광확산 점착 필름을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 특히, 액정 디스플레이의 백 라이트 위에 있는 광확산 시트의 기능을 점착층이 갖도록 함으로써, 광확산 시트가 없어도 디스플레이로서의 성능을 보유하고, 또한 광확산 시트를 사용하지 않음으로써 박막화(디스플레이의 박형화)가 가능하다는 특별한 장점이 얻어지는 광확산 점착제층 및 광확산 점착 필름을 제공하는 것이다. 또한, 점착 시트를 다시 첩합하는 등의 리워크 작업시에 발생하는 정전기로부터, 디스플레이의 회로 보호를 목적으로 하여, 광확산 기능을 갖는 점착층에 대전 방지 성능을 부여시킨 광확산 점착제층 및 광확산 점착 필름을 제공하는 것이다.
최근, 액정 디스플레이는 중소형 사이즈를 중심으로 제조·판매 수량이 증가하고 있다. 또한, 중소형 사이즈 액정 디스플레이의 수요 증가에 따라, 디스플레이의 구조를 보다 간략화 및 광학 부재를 박막화시켜, 제조 비용의 절감 및 디스플레이 패널의 두께를 박형화하는 것이 요구되고 있다.
이러한 과제에 대해, 점착제층을 개재하여 편광판, 위상차판 등의 광학 부재를 액정 셀 등의 피착체에 첩합하기 위해, 우수한 점착력을 갖는 다양한 점착 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1∼2 참조).
특허문헌 1에는, 부틸아크릴레이트 등을 주성분 모노머로 하고, 아크릴아미드 화합물 등을 함유하는 광학용 점착제 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 2에는, 탄소수 4∼8의 알킬기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 주성분 모노머로 하고, 카르복실기 함유 모노머 및 질소 함유 비닐 모노머를 함유하는 광학용 점착제 조성물이 기재되어 있다.
또한, 점착제층의 굴절률을 높이기 위해 다양한 연구를 한 점착 필름이 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 3∼9 참조).
특허문헌 3에는, 방향족 고리를 갖고 굴절률 1.51∼1.75의 점착 부여제(tackifier)를 함유하는 광학용 점착제 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 4에는, 방향족 고리를 갖는 아크릴산 변성 모노머의 공중합성 폴리머를 포함하는 점착제 조성물을 함유하는 점착 시트가 기재되어 있다.
특허문헌 5에는, 방향족 고리를 갖는 점착 부여 수지와 방향족 인산에스테르계 가소제를 함유하는 광학용 점착제 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 6에는, 아크릴계 수지와 에틸렌성 불포화기를 1개 함유하는 방향족 화합물을 함유하는 점착제 조성물이 경화되어 이루어지는 점착제가 기재되어 있다.
특허문헌 7에는, 방향족 모노머를 함유하는 아크릴계 점착제를 개재하여 위상차 필름 및 복굴절판을 서로 고착시켜 이루어지는 광학 부품이 기재되어 있다.
특허문헌 8에는, 방향족 디이소시아네이트와 방향족 폴리에스테르디올을 반응시켜 이루어지는 우레탄 수지를 포함하는 점착제 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 9에는, 아크릴산에스테르 공중합체 등의 점착성 수지 중에 이소시아네이트 등의 가교제와 폴리스티렌 수지 입자 등의 수지 입자로 이루어지는 광확산제가 첨가된 광확산성 점착제 조성물이 기재되어 있다.
특허문헌 10에는, 아크릴계 공중합체로 이루어지는 폴리머 입자를 포함하는 수계 에멀션과, 유기계 미립자(단, 상기 폴리머 입자를 제외한다)와, 경화제와, 4급 암모늄 화합물을 함유하는 광확산성 점착제 조성물이 기재되어 있다.
근래에 있어서, 광학 부재의 층간을 첩합하기 위해 사용되는 점착 필름에 대해 요구되고 있는 사항은 광학 부재의 박막화를 도모하기 위해 점착제층의 두께를 20㎛ 이하로 얇게 한 점착 필름으로 하는 것이다.
일반적으로, 점착제층의 점착력은 점착제층의 두께에 대략 비례한다는 점에서, 점착제층의 두께를 얇게 하면 거기에 수반되어 점착력이 저하된다.
그러나, 근래에 요구되고 있는 점착 필름은 점착제층의 두께를 얇게 해도, 종래의 점착 필름(점착제층의 두께가 약 30㎛로 두껍다)과 동등한 점착력을 가지면서, 또한 고온·고습도 분위기하에 장시간 방치한 후의 내구성에 있어서도 종래의 점착 필름과 동등 이상의 성능을 갖는 것이 요구되고 있다.
또한, 점착제층의 두께를 얇게 할 수 있다는 점, 및 에이징 처리(항온에서 양생을 행하는 것)를 실시할 필요가 없는 점착제층을 형성할 수 있다는 점에서, 점착 필름의 기재를 생략한 점착제층만으로 이루어지는 「이형 필름/점착제층/이형 필름」의 부재 구성으로 한 NCF(Non Carrier Film)의 형태로 하는 것이 요구되고 있다.
또한, 종래의 점착 필름에서는 피착체에 점착 필름을 첩합한 후에 에이징 처리가 실시되기 때문에, 피착체와 점착제층의 밀착성 향상을 도모할 수 있었다.
그러나, NCF의 형태를 한 점착 필름은 이미 점착제층의 에이징이 종료되어 있다는 점에서, 피착체와 점착제층의 밀착력이 부족해진다. 이 때문에, 피착체의 표면에 대해서 코로나 처리 등의 표면 처리를 실시할 필요가 있다는 문제가 있었다.
이들 요구 사항 및 문제를 극복한 점착 필름이 필요로 되고 있다.
본 발명은 종래의 광확산판을 대신하여 사용할 수 있는 광학 부재로서, 광확산 시트의 기능과 대전 방지 기능을 갖고, 디스플레이 두께의 박형화를 도모할 수 있는 광확산 점착제층 및 광확산 점착 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 광확산 점착제층은 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상과, 공중합 가능한 관능기 함유 모노머로서 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머, 질소 함유 비닐 모노머, 방향족 함유 모노머로부터 선택한 적어도 1종 이상을 포함하는 공중합체와, 가교제와, 규소 미립자와, 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물을 함유시킨 점착제층에 광확산 점착제층을 형성하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.
또한 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 광확산 기능을 갖는 광확산 점착제층으로, 상기 광확산 점착제층이 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상과, 공중합 가능한 관능기 함유 모노머로서 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머, 질소 함유 비닐 모노머 및 방향족 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택한 적어도 1종 이상을 포함하는 공중합체와, 가교제와, 규소계 입자와, 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 형성되어 이루어지고, 상기 광확산 점착제층의 투과율이 90% 이상, 헤이즈값이 40% 이상이며, 굴절률이 1.47 이상이고, 표면 저항률이 1.0×1012Ω/□ 이하인 광확산 점착제층을 제공한다.
또한, 상기 광확산 점착제층의 두께가 20㎛에 있어서, 유리판에 대한 점착력이 2.0N/25㎜ 이상인 것이 바람직하다.
또한, 상기 점착제 조성물이 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상과, 공중합 가능한 관능기 함유 모노머로서 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머, 질소 함유 비닐 모노머 및 방향족 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택한 적어도 1종 이상으로 이루어지는 중량 평균 분자량 20∼250만의 공중합체 100중량부에 대해, 가교제로서 이소시아네이트 화합물 0.01∼5중량부, 규소계 입자 0.1∼20중량부, 이온성 화합물 0.1∼5중량부를 함유하여 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 광확산 점착제층의 헤이즈값이 40% 이상 90% 이하인 것이 바람직하다.
또한, 상기 규소계 입자가 실리카 입자, 실리카 멜라민 코어 쉘 입자, 실리콘 입자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기 광확산 점착제층이 이형 필름의 한쪽 면에 형성되어 이루어지고, 이형 필름/광확산 점착제층/이형 필름의 구성인 것을 특징으로 하는 광확산 점착 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 기재의 한쪽 면 위에 상기 광확산 점착제층이 적층되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광확산 점착 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 광확산 점착 필름이 사용된 편광판 주변 부재용 점착 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 광확산 점착제층이 편광판과 휘도 향상 필름의 층간에 사용된 점착 필름을 제공한다.
또한, 본 발명은 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 상기 광확산 점착제층이 적층되어 있는 점착제층이 형성된 광학 필름을 제공한다.
본 발명에 의하면, 종래의 요구 사항 및 문제를 극복하고 종래의 광확산판을 대신하여 사용할 수 있는 광학 부재로서, 광확산 시트의 기능과 대전 방지 기능을 갖고, 디스플레이 두께의 박형화를 도모할 수 있는 광확산 점착제층, 그것을 사용한 광확산 점착 필름을 제공할 수 있다.
이하, 바람직한 실시형태에 기초하여 본 발명을 설명한다.
본 발명의 광확산 점착제층은 광확산 기능을 갖는 광확산 점착제층으로, 상기 광확산 점착제층은 아크릴계 폴리머와, 규소계 입자와, 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 형성되어 이루어지고, 상기 광확산 점착제층의 투과율이 90% 이상, 헤이즈값이 40% 이상이며, 굴절률이 1.47 이상이고, 표면 저항률이 1.0×1012Ω/□ 이하라는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 광확산 점착제층의 헤이즈값이 40% 이상 90% 이하인 것이 바람직하다. 또한, 상기 광확산 점착제층이 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상과, 공중합 가능한 관능기 함유 모노머로서 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머, 질소 함유 비닐 모노머 및 방향족 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택한 적어도 1종 이상을 포함하는 공중합체(아크릴계 폴리머)와, 가교제와, 규소계 입자와, 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 형성되어 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 점착제 조성물이 점착제 조성물의 아크릴계 폴리머(공중합체) 100중량부에 대해, 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상 50∼99중량부와, 공중합 가능한 관능기 함유 모노머로서 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머, 질소 함유 비닐 모노머 및 방향족 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택한 적어도 1종 이상의 관능기 함유 모노머 1∼50중량부를 포함하며, 또한 상기 관능기 함유 모노머의 배합 비율은 주성분의 알킬(메타)아크릴레이트 모노머인 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 100중량부에 대해, 히드록실기 함유 공중합성 모노머 0.1∼50중량부와, 카르복실기 함유 공중합성 모노머 0∼5중량부(함유하는 경우에는 0.1∼5중량부)와, 질소 함유 비닐 모노머 0∼50중량부(함유하는 경우에는 0.1∼50중량부)와, 방향족 함유 모노머 0∼30중량부(함유하는 경우에는 0.1∼30중량부)로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한 공중합체의 100중량부에 대해, 가교제로서 이소시아네이트 화합물 0.01∼5중량부, 규소계 입자 0.1∼20중량부, 이온성 화합물 0.1∼5중량부를 함유하여 이루어지는 것이 바람직하다.
알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 운데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트, 테트라데실(메타)아크릴레이트, 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트 등의 적어도 1종 이상을 들 수 있다. 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 알킬기는 직쇄, 분기형, 고리형 중 어느 것이어도 된다. 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머는 점착제 조성물의 아크릴계 폴리머(공중합체) 100중량부에 대한 비율이 50∼99중량부인 것이 바람직하다.
방향족기를 함유하는 공중합성 비닐 모노머(방향족 함유 모노머)로는, 벤질(메타)아크릴레이트, 나프틸(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시부틸(메타)아크릴레이트, 2-(1-나프틸옥시)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(2-나프틸옥시)에틸(메타)아크릴레이트, 6-(1-나프틸옥시)헥실(메타)아크릴레이트, 6-(2-나프틸옥시)헥실(메타)아크릴레이트, 8-(1-나프틸옥시)옥틸(메타)아크릴레이트, 8-(2-나프틸옥시)옥틸(메타)아크릴레이트 등의 방향족 함유 아크릴계 모노머, 스티렌 등의 방향족 함유 비닐 모노머를 들 수 있다. 굴절률이 높은 점착제층을 얻기 위해서는, 방향족 함유 모노머의 적어도 1종 이상을 배합하는 것이 바람직하다.
이들 방향족 함유 모노머를 주성분 모노머인 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머와 혼합함으로써, 얻어지는 광확산 점착제층의 굴절률을 상승시켜 조정할 수 있고, 광학 부재간의 굴절률차를 줄여 전반사를 저감시킴으로써 전광선 투과율을 향상시킬 수 있다. 본 발명에 따른 광확산 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 방향족 함유 모노머를 함유시키는 경우는, 주성분의 알킬(메타)아크릴레이트 모노머 100중량부 중 0.1∼30중량부의 비율로 함유시키는 것이 바람직하고, 5∼30중량부의 비율로 함유시키는 것이 더욱 바람직하다.
질소 함유 비닐 모노머로는, 예를 들면 N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐, (메타)아크릴로일모르폴린 등의 고리형 질소 비닐 화합물, N-에틸-N-메틸(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-프로필(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-이소프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸(메타)아크릴아미드, N,N-디프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디이소프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디부틸(메타)아크릴아미드 등의 디알킬 치환 (메타)아크릴아미드, N-에틸-N-메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N-메틸-N-프로필아미노에틸(메타)아크릴레이트, N-메틸-N-이소프로필아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노메틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노부틸(메타)아크릴레이트, N,N-디프로필아미노에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디부틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 디알킬아미노(메타)아크릴레이트, N-에틸-N-메틸아미노프로필(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-프로필아미노프로필(메타)아크릴아미드, N-메틸-N-이소프로필아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디프로필아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸아미노에틸(메타)아크릴아미드 등의 디알킬 치환 아미노알킬(메타)아크릴아미드 등의 적어도 1종 이상을 들 수 있다.
상기 질소 함유 비닐 모노머로는, 후술하는 히드록실기 함유 공중합성 모노머와 구별 가능하게 하기 위해 히드록실기를 함유하지 않는 것이 바람직하고, 히드록실기 및 카르복실기를 함유하지 않는 것이 보다 바람직하다. 이러한 모노머로는 상기 예시한 모노머, 예를 들면, N,N-디알킬 치환 아미노기나 N,N-디알킬 치환 아미드기를 함유하는 아크릴계 모노머; N-비닐피롤리돈, N-비닐카프로락탐 등의 N-비닐 치환 락탐류; N-(메타)아크릴로일모르폴린 등의 N-(메타)아크릴로일 치환 고리형 아민류가 바람직하다.
또한, 본 발명에 따른 광확산 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 함유시키는 질소 함유 비닐 모노머는 광확산 점착제층에 대해서 필요한 점착력 및 내구성을 부여시킬 수 있다. 본 발명에 따른 광확산 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 함유시키는 질소 함유 비닐 모노머는 주성분인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머 100중량부에 대해 0.1∼50중량부인 것이 바람직하고, 4∼50중량부인 것이 보다 바람직하다.
또한, 본 발명에 따른 광확산 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 함유시키는 질소 함유 비닐 모노머로는, N-비닐피롤리돈, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸(메타)아크릴아미드, N,N-디프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디이소프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디부틸(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디에틸아미노프로필(메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴아미드, N-비닐카프로락탐 등이 특히 바람직하게 사용된다.
카르복실기를 함유하는 공중합성 비닐 모노머(카르복실기 함유 공중합성 모노머)로는, 예를 들면, (메타)아크릴산, 카르복시에틸(메타)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산 등의 적어도 1종 이상을 들 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 광확산 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 함유시키는 카르복실기 함유 공중합성 모노머는 광확산 점착제층에 대해서 필요한 응집력을 부여시킬 수 있다. 본 발명에 따른 광확산 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 카르복실기 함유 공중합성 모노머를 함유시키지 않아도 되지만, 함유시키는 경우, 카르복실기 함유 공중합성 모노머의 비율은 주성분인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머 100중량부에 대해 0.1∼5중량부인 것이 바람직하다.
히드록실기를 함유하는 공중합성 비닐 모노머(히드록실기 함유 공중합성 모노머)로는, 예를 들면, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류나, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 히드록실기 함유 (메타)아크릴아미드류 등의 적어도 1종 이상을 들 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 광확산 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 함유시키는 히드록실기 함유 공중합성 모노머는, 얻어지는 광확산 점착제층이 투명 도전성 필름의 ITO 표면 등 부식되기 쉬운 피착체에 대한 부식성에 영향을 준다고 여겨지는 카르복실기 함유 공중합성 모노머의 함유량을 감소시키기 위한 공중합성 모노머로서 사용할 수 있다. 이 때문에, 히드록실기 함유 공중합성 모노머는 광확산 점착제층의 점착력을 향상시키고, 또한 부식성을 저감시키기 위해 유용하게 쓸 수 있다. 본 발명에 따른 광확산 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 함유시키는 히드록실기 함유 공중합성 모노머는 주성분인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머 100중량부에 대해 0.1∼50중량부인 것이 바람직하다.
본 발명의 광확산 점착제층에 사용하는 점착제 조성물의 아크릴계 폴리머는 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상과, 공중합 가능한 관능기 함유 모노머로서 히드록실기 함유 공중합성 모노머, 카르복실기 함유 공중합성 모노머, 질소 함유 비닐 모노머 및 방향족 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택한 적어도 1종 이상으로 이루어지는 중량 평균 분자량 20∼250만의 공중합체가 바람직하다.
공중합체의 중합 방법은 특별히 한정되지 않으며, 용액 중합법, 유화 중합법 등 적절히 공지된 중합 방법을 사용 가능하다. 공중합체의 중량 평균 분자량은 20만∼250만인 것이 바람직하다.
상기 공중합체는 아크릴계 폴리머인 것이 바람직하고, (메타)아크릴레이트 모노머나 (메타)아크릴산, (메타)아크릴아미드류 등의 아크릴계 모노머를 50∼100중량% 포함하는 것이 바람직하다.
상기 점착제 조성물은 상기 공중합체(아크릴계 폴리머)에 광확산제로서 규소계 입자를 배합함으로써 원하는 광학 특성(투과율, 헤이즈값)을 부여할 수 있다. 또한, 가교제나 적절히 임의의 첨가제를 배합함으로써 필요로 되는 물성값 등의 특성을 조정할 수 있다.
규소계 입자로는 규소를 포함하는 화합물의 단독 입자 또는 복합 입자에서 선택할 수 있으며, 구체적으로는 실리카 입자, 실리카 멜라민 코어 쉘 입자, 실리콘 입자, 실리케이트 유리 입자 등을 들 수 있다. 실리카 입자, 실리카 멜라민 코어 쉘 입자, 실리콘 입자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이 바람직하다. 실리카 멜라민 코어 쉘 입자는 멜라민의 코어와 실리카의 쉘을 갖는 복합 입자이다. 이 복합 입자는 멜라민 입자의 표면에 콜로이달실리카의 미소 입자(나노 입자)를 조밀하게 충전한 구조를 갖는다. 실리콘 입자로는 실리콘 수지 입자, 실리콘 고무 입자, 가교 실리콘 입자 등을 들 수 있다.
본 발명의 광확산 점착제층에 사용되는 점착제 조성물은 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 규소계 입자 0.1∼20중량부를 함유하는 것이 바람직하다.
가교제로는, 예를 들면, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트류의 뷰렛 변성체나 이소시아누레이트 변성체, 트리메틸올프로판이나 글리세린 등 3가 이상의 폴리올과의 어덕트체 등의 폴리이소시아네이트 화합물, 금속계 킬레이트 화합물, 에폭시 화합물 등의 적어도 1종 이상을 들 수 있다. 또한, 자외선 등 광가교에 의해 점착제를 가교시켜도 된다.
가교제를 사용하여 공중합체를 가교시키는 경우, 공중합체가 가교제와 가교 반응 가능한 관능기(가교제의 종류에 따라서 다르지만, 히드록실기나 카르복실기 등)를 갖는 것이 바람직하고, 또한, 이들의 관능기를 측쇄에 갖는 모노머를 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 점착제 조성물이 공중합체 100중량부에 대해 가교제로서 이소시아네이트 화합물 0.01∼5중량부를 함유하는 것이 바람직하다.
대전 방지제로는 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물이면 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면, 양이온 또는 음이온에 치환기로서 탄소수가 C6∼C14인 알킬기를 갖는 피리디늄염, 이미다졸륨염, 피리미디늄염, 피라졸륨염, 피롤리디늄염 및 암모늄염, 포스포늄염, 술포늄염 등의 이온성 화합물이 바람직하다. 이들 대전 방지제는 융점이 낮고, 또한 장쇄의 알킬기를 갖기 때문에, 아크릴 공중합체와의 친화성은 높은 것으로 추측된다.
융점이 25∼50℃인 이온성 화합물로는, 양이온과 음이온을 갖는 이온성 화합물로서, 양이온이 피리디늄 카티온, 이미다졸륨 카티온, 피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피롤리디늄 카티온, 암모늄 카티온 등의 함질소 오늄 카티온이나, 포스포늄 카티온, 술포늄 카티온 등이고, 음이온이 6불화인산염(PF6 -), 티오시안산염(SCN-), 알킬벤젠술폰산염(RC6H4SO3 -), 과염소산염(ClO4 -), 4불화붕산염(BF4 -) 등의 무기 혹은 유기 음이온인 화합물을 들 수 있다. 상온(예를 들면, 25℃)에서 고체인 것이 바람직하고, 알킬기의 사슬 길이나 치환기의 위치, 개수 등의 선택에 따라, 융점이 25∼50℃인 것을 얻을 수 있다. 양이온은 바람직하게는 4급 함질소 오늄 카티온이고, 1-알킬피리디늄(2∼6위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피리디늄 카티온, 1,3-디알킬이미다졸륨(2, 4, 5위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 이미다졸륨 카티온, 테트라알킬암모늄 등의 4급 암모늄 카티온 등을 들 수 있다.
융점이 25∼50℃인 이온성 화합물은 공중합체의 100중량부에 대해 0.1∼5.0중량부 포함되는 것이 바람직하다.
융점이 25∼50℃인 이온성 화합물의 구체예로는, 1-옥틸피리디늄 6불화인산염, 1-노닐피리디늄 6불화인산염, 2-메틸-1-도데실피리디늄 6불화인산염, 1-옥틸피리디늄 도데실벤젠술폰산염, 1-도데실피리디늄 티오시안산염, 1-도데실피리디늄 도데실벤젠술폰산염, 4-메틸-1-옥틸피리디늄 6불화인산염 등을 들 수 있다.
본 발명의 광확산 점착제층에 사용되는 점착제 조성물은 대전 방지제로서 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물만을 포함해도 되지만, 다른 대전 방지제를 병용해도 된다. 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물과 병용되는 다른 대전 방지제로는 특별히 한정되지 않지만, 아크릴로일기 함유 이온성 화합물이 바람직하다. 아크릴로일기 함유 이온성 화합물로는, 양이온과 음이온을 갖는 이온성 화합물로서, 양이온이 (메타)아크릴로일옥시알킬트리알킬암모늄〔R3N+-CnH2n-OCOCQ=CH2, 단, Q=H 또는 CH3, R=알킬〕등의 (메타)아크릴로일기 함유 양이온이고, 음이온이 6불화인산염(PF6 -), 티오시안산염(SCN-), 유기 술폰산염(RSO3 -), 과염소산염(ClO4 -), 4불화붕산염(BF4 -), F함유 이미드염(RF 2N-) 등의 무기 혹은 유기 음이온인 화합물을 들 수 있다. F함유 이미드염(RF 2N-)의 RF로는, 트리플루오로메탄술포닐기, 펜타플루오로에탄술포닐기 등의 퍼플루오로알칸술포닐기나 플루오로술포닐기를 들 수 있다. F함유 이미드염으로는, 비스(플루오로술포닐)이미드염〔(FSO2)2N-〕, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드염〔(CF3SO2)2N-〕, 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드염〔(C2F5SO2)2N-〕등의 비스술포닐이미드염을 들 수 있다.
아크릴로일기 함유 이온성 화합물을 병용하는 경우, 공중합체에 대해 0.1∼5.0중량% 정도의 비율로 공중합 또는 첨가하는 것이 바람직하다.
아크릴로일기 함유 이온성 화합물의 구체예로는, 디메틸아미노메틸(메타)아크릴레이트 6불화인산메틸염〔(CH3)3N+CH2OCOCQ=CH2·PF6 -, 단, Q=H 또는 CH3〕, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드메틸염〔(CH3)3N+(CH2)2OCOCQ=CH2·(CF3SO2)2N-, 단, Q=H 또는 CH3〕, 디메틸아미노메틸메타크릴레이트 비스(플루오로술포닐)이미드메틸염〔(CH3)3N+CH2OCOCQ=CH2·(FSO2)2N-, 단, Q=H 또는 CH3〕등을 들 수 있다.
그 밖의 임의의 성분으로서, 실란 커플링제, 산화 방지제, 계면활성제, 경화 촉진제, 가소제, 충전제, 가교 촉매, 가교 지연제, 경화 지연제, 가공 보조제, 노화 방지제 등의 공지된 첨가제를 적절하게 배합할 수 있다. 이들은 단독으로, 또는 2종 이상을 함께 사용해도 된다.
본 발명의 광확산 점착제층은 상기 점착제 조성물을 기재나 이형 필름에 도포한 후, 점착제 조성물을 가교시킴으로써 얻을 수 있다.
광학 부재의 층간 첩합 등에 사용되는 점착제층은 얇은 점착제층인 것이 바람직하고, 상기 광확산 점착제층의 두께가 1㎛∼20㎛인 것이 바람직하다. 또한, 일반적으로 점착제층의 점착력은 점착제층의 두께에 대략 비례하고 있지만, 광확산 점착제층의 두께 20㎛에 있어서 유리판에 대한 점착력이 2.0N/25㎜ 이상인 것이 바람직하다. 또한 점착제층의 두께가 20㎛가 아닌 경우, 「두께가 20㎛일 때의 점착력」(N/25㎜)은 점착제층의 두께를 T(㎛), 점착제층의 점착력을 F(N/25㎜)로 하여, 수식 「(두께가 20㎛일 때의 점착력)=20×F/T」에 의해 추정할 수 있다.
본 발명에 따르는 광확산 점착제층을 광학 부재의 층간 첩합 등에 사용하는 경우, 광확산 점착제층의 투과율이 90% 이상, 헤이즈값이 40% 이상이며, 굴절률이 1.47 이상인 것이 바람직하다. 헤이즈값이 40% 이상 90% 이하인 것이 바람직하다. 광확산 점착제층과 광학 부재의 계면에서의 광선 반사를 저감시키기 위해, 굴절률의 차가 가능한 한 작은 것이 바람직하다. 이 때문에, 상기 광확산 점착제층의 굴절률이 1.47∼1.50인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 광확산 점착제층의 표면 저항률이 1.0×1012Ω/□ 이하인 것이 바람직하다. 표면 저항률이 크면 박리시에 대전에 의해 발생한 정전기를 빠져나가게 하는 성능이 떨어지기 때문에, 표면 저항률을 충분히 작게 함으로써, 점착제층을 피착체가 박리할 때에 발생하는 정전기에 수반하여 발생하는 박리 대전압이 저감되어, 피착체의 전기 제어 회로 등에 영향을 주는 것을 억제할 수 있다.
본 발명의 광확산 점착 필름은 본 발명의 광확산 점착제층을 기재 또는 이형 필름의 한쪽 면 위에 형성함으로써 제조할 수 있다.
광확산 점착제층의 형성에 사용되는 기재 필름이나 점착면을 보호하는 이형 필름(세퍼레이터)으로는, 폴리에스테르 필름 등의 수지 필름 등을 사용할 수 있다.
기재 필름에는 수지 필름의 광확산 점착제층이 형성된 측과는 반대 면에, 실리콘계, 불소계의 이형제나 코트제, 실리카 미립자 등에 의한 방오 처리, 대전 방지제의 도포나 혼입 등에 의한 대전 방지 처리를 실시할 수 있다.
이형 필름에는 광확산 점착제층의 점착면과 맞춰지는 측의 면에, 실리콘계, 불소계의 이형제 등에 의해 이형 처리가 실시된다.
1개의 광확산 점착제층의 양면에 각각 이형 필름의 이형 처리가 실시된 면을 맞춤으로써, 「이형 필름/광확산 점착제층/이형 필름」의 구성으로 할 수도 있다. 이 경우, 양측의 이형 필름을 순차적으로, 혹은 동시에 박리하여 점착면을 표출시킴으로써, 광학 필름 등의 광학 부재와 첩합 가능하게 된다. 광학 필름으로는 편광 필름, 위상차 필름, 반사 방지 필름, 방현(안티 글레어) 필름, 자외선 흡수 필름, 적외선 흡수 필름, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름 등을 들 수 있다. 예를 들면, 편광판과 휘도 향상 필름의 층간에 광확산 점착제층을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 광확산 점착 필름은 편광판을 주로 하는 액정 디스플레이의 주변 부재용의 각종 광학 필름, 터치 패널용의 각종 광학 필름, 전자 종이용의 각종 광학 필름, 유기 EL용의 각종 광학 필름 등의 첩합에 사용할 수 있다.
또한, 이들 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 상기 광확산 점착제층이 적층되어 이루어지는 점착제층이 형성된 광학 필름으로 할 수 있다. 구체적으로는, 「광학 필름/광확산 점착제층/광학 필름」, 「광학 필름/광확산 점착제층/이형 필름」, 「광학 필름/광확산 점착제층」, 「광학 필름/광확산 점착제층/광학 필름/광확산 점착제층/광학 필름」, 「광학 필름/광확산 점착제층/광학 필름/광확산 점착제층/이형 필름」, 「이형 필름/광확산 점착제층/광학 필름/광확산 점착제층/이형 필름」 등의 구성을 들 수 있다. 광학 필름의 양면에 점착제층을 형성하는 경우, 그 한쪽 면만을 광확산 점착제층으로 할 수도 있다.
예를 들면, 「광학 필름/광확산 점착제층/이형 필름」과 같이 이형 필름으로 보호된 광확산 점착제층을 갖는 경우, 이형 필름을 박리하여 「광학 필름/광확산 점착제층」과 같이 광확산 점착제층을 표출시키고 다른 광학 필름과 첩합함으로써, 광확산 점착제층이 층간 첩합에 사용된 「광학 필름/광확산 점착제층/광학 필름」과 같은 구성이 얻어진다.
실시예
이하, 실시예를 통해 본 발명을 구체적으로 설명한다.
〈아크릴 공중합체의 제조〉
[실시예 1]
교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에 질소 가스를 도입하여, 반응 장치 내의 공기를 질소 가스로 치환하였다. 그 후, 반응 장치에 부틸아크릴레이트 90중량부, 4-히드록시부틸아크릴레이트 1.0중량부, 디에틸아크릴아미드 9중량부와 함께 용제(초산에틸) 60중량부를 첨가하였다. 그 후, 중합 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 0.1중량부를 2시간에 걸쳐 적하시키고, 65℃에서 6시간 반응시켜, 중량 평균 분자량 70만의 실시예 1에 사용되는 아크릴 공중합체 용액(1)을 얻었다. 아크릴 공중합체의 일부를 채취하여, 후술하는 산가의 측정 시료로 사용하였다.
[실시예 2∼5 및 비교예 1∼3]
모노머의 조성을 각각 표 1의 (A), (B), (C), (D)의 기재와 같이 하는 것 이외에는 상기 실시예 1에 사용되는 아크릴 공중합체 용액(1)과 동일하게 하여, 실시예 2∼5 및 비교예 1∼3에 사용되는 아크릴 공중합체 용액을 얻었다.
〈점착제 조성물, 광확산 점착제층 및 광확산 점착 필름의 제조〉
[실시예 1]
상기와 같이 제조한 실시예 1의 아크릴 공중합체 용액(1)에 대해서, 코로네이트 L-45(톨릴렌디이소시아네이트(TDI) 화합물의 어덕트체) 0.1중량부와, 실리카 멜라민 코어 쉘 입자(입경 2㎛) 3.0중량부와, 1-옥틸피리디늄 6불화인산염 1.5중량부를 첨가하고 교반 혼합하여 실시예 1의 점착제 조성물을 얻었다. 이 점착제 조성물을 실리콘 수지 코트된 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름으로 이루어지는 이형 필름 위에 도포한 후, 90℃에서 건조시킴으로써 용제를 제거한 후에 23℃, 50%RH의 분위기하에서 7일간 에이징함으로써, 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 광확산 점착제층(두께 20㎛)을 이형 필름의 한쪽 면 위에 갖는 실시예 1의 광확산 점착 필름을 얻었다.
[실시예 2∼5 및 비교예 1∼3]
첨가제의 조성을 각각 표 1의 (E), (F), (G)의 기재와 같이 하는 것 이외에는, 상기 실시예 1의 광확산 점착 필름과 동일하게 하여, 실시예 2∼5 및 비교예 1∼3의 광확산 점착 필름을 얻었다.
표 1에서는 각 성분의 배합비를 나타내는 중량부의 수치를 괄호로 둘러싸 나타낸다. 중량부는 모노머의 합계량, 즉 (A)∼(D)군의 합계가 약 100중량부가 되도록 구하였다. 다만 모노머의 합계량은, 실시예 2에서 105중량부, 실시예 3에서 92중량부, 비교예 2에서 110.5중량부, 비교예 3에서 110중량부이다.
또한, 표 1에 사용된 각 성분의 약기호의 화합물명을 표 2에 나타낸다. 한편, 코로네이트(등록상표) L-45는 니혼 폴리우레탄 공업 주식회사의 상품명이고, D-110N은 미츠이 화학 주식회사의 상품명이다. TDI는 톨릴렌디이소시아네이트를 의미하고, XDI는 자일릴렌디이소시아네이트를 의미한다.
〈시험 방법 및 평가〉
실시예 1∼5 및 비교예 1∼3에 있어서의 광확산 점착 필름으로부터 이형 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여 광확산 점착제층을 표출시키고, 편광판(필름)의 한쪽 면에 광확산 점착제층을 전사하였다.
〈점착력의 측정 방법〉
두께 180㎛인 편광판(필름)의 한쪽 면에 광확산 점착제층을 전사하여, 시료가 되는 광확산 점착 필름(점착제층이 형성된 광학 필름)을 얻었다.
광확산 점착 필름을 소다 석회 유리의 아세톤으로 세정한 비주석면에 압착 롤로 첩합하고, 50℃, 0.5MPa×20분간의 조건에서 오토클레이브 처리하였다. 그 후, 23℃×50%RH의 분위기하에 되돌리고, 1시간 경과 후의 광확산 점착 필름의 박리 강도를 인장 시험기에 의해, JIS Z0237 「점착 테이프·점착 시트 시험 방법」에 준거하여 측정하고, 180°방향으로 300㎜/min의 속도로 박리했을 때의 박리 강도를 광확산 점착 필름의 광확산 점착제층의 점착력으로 하였다.
〈굴절률의 측정 방법〉
23℃의 광확산 점착제층의 굴절률을 아베식 굴절계(메이커명: ERMA, 형식: ER-2S)로 측정한다.
〈투과율의 측정 방법〉
광투과율의 측정 방법: JIS K7105, 「플라스틱의 광학적 특성 시험 방법」에 의해, 광확산 점착제층의 투과율을 측정한다.
〈표면 저항률의 측정 방법〉
이형 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여 광확산 점착제층을 표출시키고, 저항률계 하이레스타 UP-HT450(미츠비시 화학 애널리테크 제조)을 사용하여 광확산 점착제층의 표면 저항률을 측정하였다.
〈헤이즈값의 측정 방법〉
헤이즈값의 측정 방법: JIS K7136, 「플라스틱-투명 재료의 헤이즈를 구하는 방법」에 의해, 광확산 점착제층의 헤이즈값을 측정한다.
〈내구성의 시험 방법〉
점착력의 측정시와 동일한 방법으로 제작한 사방 10㎝의 광확산 점착 필름을 소다 석회 유리의 비주석면에 첩합하여 제작한 시료를 60℃×90%RH의 분위기하에 250시간 방치한 후, 23℃×50%RH 분위기하에 꺼내어, 1시간 후에 광확산 점착 필름의 상태를 육안으로 관찰하여 내구성을 판단하였다.
○…광확산 점착 필름의 박리 및 발포가 전혀 없다.
△…광확산 점착 필름의 일부에 박리 및 발포가 발생되어 있다.
×…광확산 점착 필름의 전체에 박리 및 발포가 발생되어 있다.
표 3에 실시예 1∼5 및 비교예 1∼3의 측정 결과를 나타낸다. 또한, 표면 저항률은 「m×10+n」을 「mE+n」으로 하는 방식(단, m은 임의의 실수값, n은 양의 정수)에 의해 표기하였다.
실시예 1∼5의 광확산 점착 필름은 광확산 점착제층의 두께가 20㎛에 있어서, 유리판에 대한 점착력이 2.0N/25㎜ 이상이었다. 또한 광확산 점착제층의 굴절률이 1.47 이상이고, 투과율이 90% 이상, 표면 저항률이 1.0×1012Ω/□ 이하, 또한 헤이즈값이 40% 이상이며, 내구성도 우수하였다. 즉, 실시예 1∼5의 광확산 점착 필름은 요구 사항 및 문제를 극복할 수 있었다.
참고로, 표 4에 실시예 1∼5와 동일한 광확산 점착제 조성물을 사용하여 동일한 방법으로 제조한, 광확산 점착제층의 두께가 각각 10㎛, 13㎛, 15㎛, 20㎛인 광확산 점착 필름에 대해, 광확산 점착제층의 투과율 및 헤이즈값을 측정한 결과를 나타낸다. 광확산 점착제 조성물을 사용한 광확산 점착제층의 투과율은 점착제층의 막 두께에 의존하지 않지만, 헤이즈값은 점착제층의 막 두께가 얇아지면 저하된다는 것을 알 수 있다.
비교예 1의 점착 필름은 아크릴계 폴리머의 모노머 조성이 2EHA 단독이기 때문에 굴절률이 낮고, 규소계 입자를 포함하지 않기 때문에 헤이즈값이 낮았다. 또한, 이온성 화합물을 포함하지 않기 때문에 표면 저항률이 높았다. 또한, 내구성도 떨어져 있었다.
비교예 2의 점착 필름은 규소계 입자의 함유량이 많기 때문인지 점착력이 낮고, 투과율이 낮았다. 또한, 이온성 화합물의 함유량이 적기 때문에 표면 저항률이 높았다. 또한, 내구성도 떨어져 있었다.
비교예 3의 점착 필름은 규소계 입자의 함유량이 적기 때문에 굴절률이 낮고, 헤이즈값이 낮았다. 또한, 이온성 화합물의 함유량이 적기 때문에 표면 저항률이 높았다. 또한, 점착제 조성물이 가교되어 있지 않기 때문에 밀착성 및 내구성도 떨어져 있었다.
이와 같이, 비교예 1∼3의 점착 필름은 종래의 요구 사항 및 문제를 극복할 수 없었다.
Claims (5)
- 광확산 기능을 갖는 광확산 점착제층으로, 상기 광확산 점착제층이 아크릴계 폴리머와, 대전 방지제와, 가교제와, 규소계 입자를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성되어 이루어지고,
상기 아크릴계 폴리머가 (A) 알킬기의 탄소수가 C1∼C14인 알킬(메타)아크릴레이트 모노머의 적어도 1종 이상의 합계 100중량부에 대해, (B) 히드록실기 함유 공중합성 모노머 0.1∼50중량부와, (C) 질소 함유 비닐 모노머 0∼50중량부와, (D) 방향족 함유 모노머 0∼30중량부를, 카르복실기 함유 공중합성 모노머를 포함하지 않고서 공중합시켜 얻어진 중량 평균 분자량이 20만∼250만인 공중합체이고,
상기 대전 방지제가 융점이 25∼50℃인 이온성 화합물이며,
상기 광확산 점착제층의 두께가 20㎛에서의 투과율이 90% 이상, 헤이즈값이 40% 이상 90% 이하이고,
상기 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 상기 규소계 입자를 0.1∼15중량부 함유하며,
피착체에 상기 광확산 점착제층이 형성된 점착 필름을 첩합하기 전에 에이징 처리가 이미 실시되어, 피착체에 상기 광확산 점착제층이 형성된 점착 필름을 첩합한 후에는 에이징 처리를 실시할 필요가 없고,
상기 광확산 점착제층의 두께 20㎛에 있어서의 유리판에 대한 점착력이 3.0N/25㎜ 이상 20.0N/25㎜ 이하인 광확산 점착제층. - 제 1 항에 있어서,
상기 규소계 입자가 실리카 입자, 실리카 멜라민 코어 쉘 입자, 실리콘 입자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이고,
상기 아크릴계 폴리머의 100중량부에 대해, 상기 가교제로서 이소시아네이트 화합물 0.01∼5중량부, 상기 이온성 화합물 0.1∼5중량부의 비율로 함유하여 이루어지는 광확산 점착제층. - 제 1 항 또는 제 2 항의 광확산 점착제층이 이형 필름의 한쪽 면에 형성되어 이루어지고, 이형 필름/광확산 점착제층/이형 필름의 구성인 광확산 점착 필름.
- 기재의 한쪽 면 위에 제 1 항 또는 제 2 항의 광확산 점착제층이 적층되어 이루어지는 광확산 점착 필름.
- 광학 필름의 적어도 한쪽 면에 제 1 항 또는 제 2 항의 광확산 점착제층이 적층되어 있는 점착제층이 형성된 광학 필름.
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