KR101775394B1 - 위생 세정 장치 - Google Patents

Abstract

토수구멍을 갖고, 상기 토수구멍으로부터 세정수를 분출해서 여성 국부에 착수시키는 노즐을 구비하고, 상기 노즐은 상기 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 1 토수와, 상기 토수구멍을 이동시키지 않고 상기 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 상기 제 1 토수보다 확산시켜서 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행하고, 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 유속은 상기 제 2 토수의 상기 제 2 범위에 있어서의 유속보다 느려지도록 상기 세정수를 분출시키는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치를 제공한다.

Description

위생 세정 장치{SANITARY CLEANING APPARATUS}

(관련 출원의 상호 참조)

본 출원은 2010년 7월 16일에 출원된 선행 일본 특허 출원 제 2010-162327호, 2010년 7월 16일에 출원된 선행 일본 특허 출원 제 2010-162328호, 2011년 1월 28일에 출원된 선행 일본 특허 출원 제 2011-016351호에 의거하여 우선권의 이익을 주장하고, 그 전체 내용은 여기에 참조 문헌으로 통합된다.

본 발명의 형태는 일반적으로 위생 세정 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 양식 좌변기에 앉은 사용자의 여성 국부를 물로 세정하는 위생 세정 장치에 관한 것이다.

비데 세정에 있어서 세정 면적이 넓은 와이드 세정과, 세정 면적이 좁은 스폿 세정을 버튼 조작에 의해 변경할 수 있는 인체 세정 장치가 있다(일본 공개 특허 제 2000-282545호 공보). 일본 공개 특허 제 2000-282545호 공보에 기재된 인체 세정 장치에 의하면, 예를 들면 토수(吐水) 형태로 해서 적은 유량으로 세정력을 저감시키지 않고 넓은 세정 면적에서 세정하는 형태를 채용할 수 있다. 그러나, 일본 공개 특허 제 2000-282545호 공보에 기재된 인체 세정 장치는 노즐을 이동시킴으로써 넓은 범위를 토수할 경우가 있다. 이 경우에는, 사용자는 비데 세정시에 위화감을 느낄 우려가 있다. 그 때문에, 이 점에 있어서는 개선의 여지가 있다.

또한, 급수된 세정수에 토수구멍의 축심 주위의 선회력을 부여해서 세정수를 토수구멍으로 도출하고, 선회력을 가진 상태에서 세정수를 토수구멍으로부터 토수시키는 인체 세정 장치가 있다(일본 공개 특허 제 2001-90155호 공보). 일본 공개 특허 제 2001-90155호 공보에 기재된 인체 세정 장치는 노즐 이동을 수반하지 않고 세정수를 선회 토수할 수 있고, 세정 범위를 선회에 의해 정해지는 2차원적인 형상으로 확대할 수 있다. 그러나, 선회 토수를 행하면 선회 토수의 내부의 중공 부분, 즉 중심 누락 부분이 착수시에 생기기 때문에 그 중심 누락 부분에 있어서의 세정 성능에 대해서는 개선의 여지가 있다. 즉, 예를 들면 여성의 생리시에는 경혈 오염이 여성 국부 주위의 넓은 범위에 걸쳐서 부착되기 때문에 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하고 싶다는 요망에 대응하기 위해서는 한층 더 개량이 요구되고 있다.

또한, 사용자로부터 배출된 배설물의 물성에 따라서 수세(水勢), 세정 범위의 넓이나 그 형상 등을 적합하게 변경하도록 노즐로부터 토출되는 세정수의 토수 조건을 변경하는 인체 국부 세정 장치가 있다(일본 공개 특허 제 2001-279779호 공보). 일본 공개 특허 제 2001-279779호 공보에 기재된 인체 국부 세정 장치에 의하면 복잡하고 번거로운 조작·조정을 행하지 않고, 배설물의 종류나 상태에 구애되지 않고 확실하고 높은 세정 능력을 발휘할 수 있다. 그러나, 일본 공개 특허 제 2001-279779호 공보에 기재된 인체 국부 세정 장치는 분비물의 세정에 있어서, 「끈적끈적 모드」에서는 「보송보송 모드」보다 유속을 높게 함과 아울러 공기의 혼입율을 저감함으로써 강한 수세를 얻는다. 또한, 「끈적끈적 모드」에서는 분비물이 질 입구 부근에서 퍼지기 어려운 것에 대해 「보송보송 모드」에서는 퍼지기 쉽기 때문에 후자에서는 전자보다 세정 범위를 넓히고 있다. 그 때문에, 세정 범위의 중심부에 있어서의 수세가 강하여 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해질 우려가 있다. 그 때문에, 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하고 싶다는 비데 세정에 요구되는 세정감으로서는 과제가 남는다. 또한, 세정 범위를 단순하게 광협(廣狹)시키는 것만이면 세정 범위를 스위칭했을 때에 넓은 범위를 세정할 경우에 비해서 좁은 범위를 세정할 경우의 자극이 지나치게 강해져버려 불쾌감을 느껴버린다.

본 발명의 한 형태에 의하면 토수구멍을 갖고, 상기 토수구멍으로부터 세정수를 분출해서 여성 국부에 착수시키는 노즐을 구비하고, 상기 노즐은 상기 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 1 토수와, 상기 토수구멍을 이동시키지 않고 상기 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 상기 제 1 토수보다 확산시켜서 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행하고, 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 유속은 상기 제 2 토수의 상기 제 2 범위에 있어서의 유속보다 느려지도록 상기 세정수를 분출시키는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치가 제공된다.

도 1은 본 발명의 실시형태에 의한 위생 세정 장치를 구비한 변기 장치를 도시하는 사시 모식도이다.
도 2는 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치의 요부 구성을 도시하는 블록도이다.
도 3은 와이드 토수를 설명하기 위한 단면 모식도이다.
도 4는 스폿 토수를 설명하기 위한 단면 모식도이다.
도 5는 착수부 또는 토수구멍으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 세정수의 착수력을 도시하는 그래프도이다.
도 6은 착수부 또는 토수구멍으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 세정수의 유속을 도시하는 그래프도이다.
도 7은 착수부 또는 토수구멍으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 단위 면적당 세정수의 유량을 도시하는 그래프도이다.
도 8은 본 실시형태의 노즐의 구체예를 예시하는 사시 모식도이다.
도 9는 본 구체예의 노즐을 상방으로부터 바라본 상면 모식도이다.
도 10은 도 9에 도시한 절단면 A-A에 있어서의 단면 모식도이다.
도 11은 본 실시형태의 압력 변조 장치의 구체예를 예시하는 단면 모식도이다.
도 12는 본 발명의 다른 실시형태에 의한 위생 세정 장치를 구비한 변기 장치를 도시하는 사시 모식도이다.
도 13은 본 실시형태의 노즐의 구체예를 예시하는 상면 모식도이다.
도 14는 도 13에 도시한 절단면 A-A에 있어서의 단면 모식도이다.
도 15는 도 13에 도시한 절단면 A-A에 있어서의 다른 구체예의 단면 모식도이다.

제 1 발명은 토수구멍을 갖고, 상기 토수구멍으로부터 세정수를 분출해서 여성 국부에 착수시키는 노즐을 구비하고, 상기 노즐은 상기 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 1 토수와, 상기 토수구멍을 이동시키지 않고 상기 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 상기 제 1 토수보다 확산시켜서 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행하고, 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 유속은 상기 제 2 토수의 상기 제 2 범위에 있어서의 유속보다 느려지도록 상기 세정수를 분출시키는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 노즐의 토수구멍으로부터 세정수를 분사하는 제 1 토수와, 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 노즐의 토수구멍으로부터 세정수를 분사하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행할 수 있다. 즉, 사용자는 보다 좁은 범위를 한 번에 휙 세정하는 제 1 토수와, 보다 넓은 범위를 중점적으로 세정하는 제 2 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다. 제 1 토수의 제 1 범위의 중심부에 있어서의 유속은 제 2 토수의 제 2 범위의 유속보다 느리다.

제 2 토수에 의하면 변좌에 앉은 사용자의 여성 국부의 보다 넓은 범위에 세정수를 착수시킬 수 있다. 그 때문에, 소망하는 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다.

한편, 제 1 토수에 의하면 제 2 토수의 경우보다 좁은 범위를 세정할 수 있음과 아울러 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제할 수 있다. 그 때문에, 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

이것에 의하면, 비데 세정의 용도에 따라 세정수의 착수 범위의 광협을 스위칭해서 노즐로부터 분출된 세정수는 여성 국부로의 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 되어서 착수된다. 그 때문에, 비데 세정에 있어서의 세정수 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 비데 세정을 실행할 수 있다.

또한, 제 2 발명은 토수구멍을 갖고, 상기 토수구멍으로부터 세정수를 분출해서 여성 국부에 착수시키는 노즐을 구비하고, 상기 노즐은 상기 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 1 토수와, 상기 토수구멍을 이동시키지 않고 상기 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 상기 제 1 토수보다 확산시켜서 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행하고, 상기 제 2 토수로부터 상기 제 1 토수로 스위칭했을 때에 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 착수력을 억제하는 착수력 억제 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 노즐의 토수구멍으로부터 세정수를 분출하는 제 1 토수와, 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 노즐의 토수구멍으로부터 세정수를 분출하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행할 수 있다. 즉, 사용자는 보다 좁은 범위를 한 번에 휙 세정하는 제 1 토수와, 보다 넓은 범위를 중점적으로 세정하는 제 2 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다. 그리고, 착수력 억제 수단에 의해 넓은 범위를 세정하는 제 2 토수로부터 좁은 범위를 세정하는 제 1 토수로 스위칭했을 때에 제 1 토수의 여성 국부에 있어서의 착수력이 억제되도록 세정수를 분출시킨다.

제 2 토수에 의하면 변좌에 앉은 사용자의 여성 국부의 보다 넓은 범위에 세정수를 착수시킬 수 있다. 그 때문에, 소망하는 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다. 한편, 제 1 토수에 의하면 제 2 토수의 경우보다 좁은 범위를 세정할 수 있음과 아울러 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제할 수 있다. 그 때문에, 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

그리고, 넓은 범위를 세정하는 제 2 토수의 실행 도중에 좁은 범위를 세정하는 제 1 토수로 스위칭했을 때에는 착수력 억제 수단에 의해 제 1 토수의 여성 국부에 있어서의 착수력이 억제되도록 세정수를 분출시키기 때문에 제 1 토수에 있어서 제 2 토수보다 좁은 범위에 세정수가 집중해서 착수되어도 필요 이상으로 강한 자극을 느낄 일이 없다.

이것에 의하면, 비데 세정의 용도에 따라 세정수의 착수 범위의 광협을 스위칭해서 노즐로부터 분출된 세정수는 여성 국부로의 착수 범위의 광협에 적합한 착수력이 되도록 분출된다. 또한, 특히 넓은 착수 범위를 좁게 하도록 스위칭해도 필요 이상으로 강한 자극으로는 안된다. 그 때문에, 비데 세정에 있어서의 세정수 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 쾌적한 비데 세정을 실행할 수 있다.

또한, 제 3 발명은 제 2 발명에 있어서 상기 착수력 억제 수단은 상기 제 2 토수로부터 상기 제 1 토수로 스위칭했을 때에 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 유속을 상기 제 2 토수의 상기 제 2 범위에 있어서의 유속보다 느리게 해서 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 착수력을 억제하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 노즐의 토수구멍으로부터 세정수를 분출하는 제 1 토수와, 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 노즐의 토수구멍으로부터 세정수를 분출하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행할 수 있다. 즉, 사용자는 보다 좁은 범위를 한 번에 휙 세정하는 제 1 토수와 보다 넓은 범위를 중점적으로 세정하는 제 2 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다. 제 1 토수의 제 1 범위의 중심부에 있어서의 유속은 제 2 토수의 제 2 범위의 유속보다 느리다.

제 2 토수에 의하면 변좌에 앉은 사용자의 여성 국부의 보다 넓은 범위에 세정수를 착수시킬 수 있다. 그 때문에, 소망하는 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다. 또한, 제 2 토수의 제 2 범위의 유속은 제 1 토수의 제 1 범위의 중심부에 있어서의 유속보다 빠르기 때문에 여성 국부의 주변부를 보다 큰 세정력으로 세정할 수 있다. 그 때문에, 여성 국부 주위의 넓은 범위에 부착된 경혈 오염을 효율적으로 씻어 버릴 수 있다.

한편, 제 1 토수에 의하면 제 2 토수의 경우보다 좁은 범위를 세정할 수 있음과 아울러 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제할 수 있다. 그 때문에, 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

이것에 의하면 비데 세정의 용도에 따라 세정수의 착수 범위의 광협을 스위칭해서 노즐로부터 분출된 세정수는 여성 국부로의 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 되어서 착수된다. 그 때문에, 비데 세정에 있어서의 세정수 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 비데 세정을 실행할 수 있다.

그리고, 넓은 범위를 세정하는 제 2 토수로부터 좁은 범위를 세정하는 제 1 토수로 스위칭했을 때에는 착수력 억제 수단에 의해 제 1 토수의 여성 국부에 있어서의 착수력이 억제되도록 세정수를 분출시키기 때문에 제 1 토수에 있어서 제 2 토수보다 좁은 범위에 세정수가 집중해서 착수되어도 필요 이상으로 강한 자극을 느낄 일이 없다.

또한, 제 4 발명은 제 2 발명에 있어서 상기 착수력 억제 수단은 상기 제 1 토수에서는 상기 제 2 토수보다 적은 유량으로 상기 세정수를 분출시키는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 제 1 토수는 제 2 토수보다 적은 유량으로 여성 국부에 착수되도록 세정수를 분출한다. 그 때문에, 제 1 토수는 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제하면서 쾌적하게 세정할 수 있다. 한편, 제 2 토수는 제 1 토수보다 많은 유량으로 여성 국부에 착수된다. 그 때문에, 제 2 토수의 세정력은 제 1 토수의 세정력보다 크다. 그 때문에, 여성 국부 주위의 넓은 범위에 부착된 경혈 오염을 효율적으로 씻어 버릴 수 있다.

또한, 제 5 발명은 제 1 발명에 있어서 상기 제 1 토수에 있어서 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수가 분출될 때의 토수 방향으로부터 보았을 때의 세정수가 상기 토수구멍을 차지하는 면적을 상기 제 2 토수보다 크게 한 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 토수구멍으로부터 세정수를 분출할 때에 제 1 토수에서는 단면적을 상대적으로 크게, 제 2 토수에서는 단면적을 상대적으로 작게 하고 있다.

또한, 제 6 발명은 제 1∼제 6 중 어느 하나의 발명에 있어서 상기 노즐은 상기 토수구멍의 하방에 상기 세정수를 선회시키는 선회실을 갖고, 상기 제 1 토수에 있어서의 상기 선회실에서의 세정수의 선회 속도를 상기 제 2 토수보다 느리게 해서 상기 세정수를 상기 선회실로부터 분출하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 선회실을 설치함으로써 세정수를 선회시키고, 선회시킨 상태의 세정수를 토수구멍에 공급함으로써 토수구멍으로부터 분출되는 세정수의 토수 형태를 제어하고 있다. 그 때문에, 선회 속도를 다르게 한다는 간단한 방법으로 세정수의 토수 형태를 다르게 할 수 있다.

또한, 제 7 발명은 제 6 발명에 있어서 상기 노즐은 상기 제 1 토수에 있어서의 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수가 분출될 때의 유속을 상기 제 2 토수에 있어서의 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수가 분출될 때의 유속보다 느리게 하는 감속 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 토수구멍으로부터 분출될 때의 세정수의 유속을 제 2 토수보다 제 1 토수에서 느리게 할 수 있다. 이에 따라, 거대한 장치나 기기 등을 설치하지 않고 제 1 토수와 제 2 토수 사이에 유속을 다르게 할 수 있다.

또한, 제 8 발명은 제 7 발명에 있어서 상기 감속 수단은 상기 선회실로부터 토출된 세정수에 공기를 혼입시키는 공기 혼입부를 갖고, 상기 공기 혼입부는 상기 제 2 토수보다 제 1 토수에 있어서 공기의 혼입량을 크게 하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 제 1 토수에서는 공기 혼입부에서의 공기의 혼입량이 제 2 토수보다 크게 되어 있으므로 제 1 토수에서는 세정수에 공기를 혼입시킬 때에 발생되는 압력 손실이 제 2 토수보다 크다. 이 때문에, 제 1 토수에서는 제 2 토수보다 상대적으로 세정수의 유속을 제 2 토수보다 감속시킬 수 있다.

또한, 제 9 발명은 제 8 발명에 있어서 상기 제 1 토수에서는 토수의 외주측이 입자화된 상태의 상기 세정수를 상기 공기 혼입부를 통해서 상기 토수구멍에 공급하고, 상기 제 2 토수에서는 토수의 외주측이 수막으로 된 상태의 상기 세정수를 상기 공기 혼입부를 통해서 상기 토수구멍에 공급하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 제 1 토수에서는 공기 혼입부를 통과하는 세정수가 입상이므로 세정수에 공기를 도입시키기 쉽다. 한편, 제 2 토수에서는 토수의 외주가 수막 형상이므로 세정수에 공기를 도입시키기 어렵다. 그 때문에, 제 1 토수에서는 제 2 토수보다 상대적으로 세정수에 도입시키는 공기의 혼입량을 많게 하여 제 1 토수에서의 세정수의 유속을 제 2 토수보다 감속시킬 수 있다.

또한, 제 10 발명은 제 2 발명에 있어서 상기 제 1 토수 및 제 2 토수는 상기 세정수를 입자화해서 상기 토수구멍으로부터 분출시키고, 상기 착수력 억제 수단은 상기 제 1 토수에서는 상기 제 2 토수에 있어서의 입경보다 작은 입경이 되도록 상기 세정수를 입자화하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 입자화된 세정수의 입경이 제 2 토수보다 제 1 토수 쪽이 작아지므로 제 1 토수의 착수시의 자극감을 약화시키는 것이 가능해진다.

또한, 제 11 발명은 제 1∼제 5 중 어느 하나의 발명에 있어서 상기 세정수의 흐름에 맥동을 부여하는 압력 변조 장치를 더 구비하고, 상기 제 1 토수에 있어서는 상기 압력 변조 장치를 가동시켜서 상기 토수구멍으로부터 분출되는 세정수의 흐름에 맥동을 부여해서 상기 세정수의 유속을 연속적으로 변화시키고, 상기 제 2 토수에 있어서는 상기 압력 변조 장치를 가동시키지 않고 상기 토수구멍으로부터 세정수를 분출시키는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 제 1 토수에 있어서 세정수의 유속을 연속적으로 변화시키므로 세정수의 분출 후에 유속의 차이에 의한 세정수의 따라 붙음 현상이 발생되어 분출된 세정수의 단면적을 단속적으로 크게 할 수 있다. 그 때문에, 제 1 토수에 있어서 세정수의 유량이 저감되어도 양감(量感)의 저하를 억제할 수 있다.

또한, 제 12 발명은 제 1 또는 제 2 발명에 있어서 상기 노즐은 상기 토수구멍을 향해서 상기 세정수를 분사하는 스로틀부와, 상기 스로틀부에 상기 세정수를 선회시키면서 공급하는 제 1 물 공급 수로와, 상기 제 1 물 공급 수로로부터 공급된 세정수의 선회 정도보다 저감된 정도로 선회시키면서 또는 선회시키지 않고 상기 스로틀부에 상기 세정수를 공급하는 제 2 물 공급 수로와, 상기 제 1 토수를 실행할 때에는 상기 제 2 물 공급 수로로 상기 세정수를 공급하고 상기 제 2 토수를 실행할 때에는 상기 제 1 물 공급 수로로 상기 세정수를 공급하는 수로 선택 수단을 더 갖는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

사용자는 제 1 물 공급 수로를 통과하는 세정수의 유량과, 제 2 물 공급 수로를 통과하는 세정수의 유량의 비율을 적절하게 설정 변경함으로써 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하는 제 2 토수와 보다 좁은 범위를 중점적으로 세정하는 제 1 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다. 이에 따라, 비데 세정에 있어서의 세정수 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 비데 세정을 실행할 수 있다.

또한, 제 13 발명은 제 1∼제 3 중 어느 하나의 발명에 있어서 상기 토수구멍은 적어도 제 1 토수구멍과 제 2 토수구멍을 갖고, 상기 제 1 토수는 상기 제 1 토수구멍으로부터 토수되고, 상기 제 2 토수는 상기 제 2 토수구멍으로부터 토수되는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치이다.

이 위생 세정 장치에 의하면 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 노즐의 제 1 토수구멍으로부터 세정수를 분사하는 제 1 토수와, 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 노즐의 제 2 토수구멍으로부터 세정수를 분사하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행할 수 있다. 즉, 사용자는 보다 좁은 범위를 한 번에 휙 세정하는 제 1 토수와, 보다 넓은 범위를 중점적으로 세정하는 제 2 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다. 제 1 토수의 제 1 범위의 중심부에 있어서의 유속은 제 2 토수의 제 2 범위의 유속보다 느리다.

제 2 토수에 의하면 변좌에 앉은 사용자의 여성 국부의 보다 넓은 범위에 세정수를 착수시킬 수 있다. 그 때문에, 소망하는 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다.

한편, 제 1 토수에 의하면 제 2 토수의 경우보다 좁은 범위를 세정할 수 있음과 아울러 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제할 수 있다. 그 때문에, 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

이것에 의하면 비데 세정의 용도에 따라 세정수의 착수 범위의 광협을 스위칭해서 노즐로부터 분출된 세정수는 여성 국부로의 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 되어서 착수된다. 그 때문에, 비데 세정에 있어서의 세정수 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 비데 세정을 실행할 수 있다. 또한, 제 1 토수와 제 2 토수를 각각의 토수구멍으로 스위칭해서 실행하므로 1개의 토수구멍으로 제 1 토수와 제 2 토수를 스위칭하는 구성 등에 대해서 빠르게 스위칭하는 것이 가능하고, 또한 간단한 구조로 상술의 효과를 얻을 수 있다.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 각 도면 중 같은 구성 요소에는 동일한 부호를 부여해서 상세한 설명은 적절하게 생략한다.

도 1은 본 발명의 실시형태에 의한 위생 세정 장치를 구비한 변기 장치를 도시하는 사시 모식도이다.

도 1에 도시한 변기 장치는 양식 좌변기(이하 설명의 편의상 단지 「변기」로 칭함)(800)와, 그 위에 설치된 위생 세정 장치(100)를 구비한다. 위생 세정 장치(100)는 케이싱(400)과 변좌(200)와 커버(300)를 갖는다. 변좌(200)와 커버(300)는 케이싱(400)에 대해서 개폐 가능하게 각각 축지지되어 있다.

케이싱(400)의 내부에는 변좌(200)에 앉은 사용자의 여성 국부의 세정을 실현하는 국부 세정 기능부 등이 내장되어 있다. 또한, 예를 들면 케이싱(400)에는 사용자가 변좌(200)에 앉은 것을 검지하는 착좌 검지 센서(404)가 설치되어 있다. 착좌 검지 센서(404)가 변좌(200)에 앉은 사용자를 검지하고 있을 경우에 있어서 사용자가, 예를 들면 도시되지 않은 리모트 컨트롤 등의 조작부를 조작하면 노즐(410)을 변기(800)의 볼(bowl)(801) 내에 진출시킬 수 있다. 또한, 도 1에 도시한 위생 세정 장치(100)에서는 노즐(410)이 볼(801) 내에 진출한 상태를 도시하고 있다.

노즐(410)의 선단부에는 1개 또는 복수개의 토수구멍(411)이 형성되어 있다. 그리고, 노즐(410)은 그 선단부에 형성된 토수구멍(411)으로부터 물을 분출해서 변좌(200)에 앉은 사용자의 여성 국부를 세정할 수 있다. 예를 들면, 도 1에 도시한 노즐(410)에서는 2개의 토수구멍(411) 중 한쪽의 토수구멍(411)은 비데 세정용 토수구멍이며, 다른쪽의 토수구멍(411)은 엉덩이 세정용 토수구멍이다. 또한, 본원 명세서에 있어서 「물」이라고 할 경우에는 냉수뿐만 아니라 가열된 온수도 포함하는 것으로 한다.

도 2는 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치의 요부 구성을 도시하는 블록도이다.

본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 수도나 저수 탱크 등의 도시되지 않은 급수원으로부터 공급된 물을 도입하는 유로(10)를 갖는다. 유로(10)의 상류측에는 전자 밸브(440)가 설치되어 있다. 전자 밸브(440)는 개폐 가능한 전자 밸브이며, 케이싱(400)의 내부에 설치된 도시되지 않은 제어부로부터의 지령에 의거하여 열교환기(450)로의 물의 공급을 제어한다.

전자 밸브(440)의 하류측에는 열교환기(450)가 설치되어 있다. 열교환기(450)는 공급된 물을 가열해 소정의 온수로 한다. 또한, 열교환기(450)는, 예를 들면 시즈 히터(sheath heater) 등을 사용한 순간 가열식 열교환기이어도 좋고, 저탕 탱크를 사용한 저탕 가열식 열교환기이어도 좋다.

열교환기(450)의 하류측에는 압력 변조 장치(470)가 설치되어 있다. 이 압력 변조 장치(470)는 유로(10) 내의 물의 흐름에 맥동을 부여하여 노즐(410)의 토수구멍(411)으로부터 분출되는 물에 맥동을 부여할 수 있다.

압력 변조 장치(470)의 하류측에는 노즐(410)이 설치되어 있다. 노즐(410)은 수세(유량)의 조정을 행하는 유량 조정 밸브(수로 선택 수단)(480)와, 와이드 토수시에 통수되는 와이드 토수용 유로(제 1 물 공급 수로)(427)와, 스폿 토수시에 통수되는 스폿 토수용 유로(제 2 물 공급 수로)(428)와, 노즐 본체(420)를 갖는다. 유량 조정 밸브(480)는 수세의 조정을 행할 수 있음과 아울러 노즐(410)로의 급수의 개폐나 스위칭을 행할 수 있다. 보다 구체적으로 설명하면 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 노즐(410)의 토수구멍(411)으로부터 세정수를 분출하는 스폿 토수(제 1 토수)와, 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 노즐(410)의 토수구멍(411)으로부터 세정수를 분출하는 와이드 토수(제 2 토수)를 실행할 수 있다.

유량 조정 밸브(480)는 리모트 컨트롤의 스위치 조작에 의해 도시되지 않은 제어부로부터의 지령에 의거하여 와이드 토수용 유로(427)로 통수하거나 스폿 토수용 유로(428)로 통수할 수 있다. 또는, 유량 조정 밸브(480)는 소정의 비율로 와이드 토수용 유로(427) 및 스폿 토수용 유로(428)로 통수할 수 있다. 이에 따라, 사용자는 와이드 토수용 유로(427)와 스폿 토수용 유로(428)를 스위칭함으로써, 또는 와이드 토수용 유로(427)를 통과하는 세정수의 유량과 스폿 토수용 유로(428)를 통과하는 세정수의 유량의 비율을 적절하게 설정 변경함으로써 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하는 와이드 토수와 보다 좁은 범위를 중점적으로 세정하는 스폿 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다. 이것에 대해서는 후에 상술한다.

노즐(410)은, 예를 들면 모터 등으로부터의 구동력을 받아서 변기(800)의 볼(801) 내에 진출하거나 후퇴할 수 있다. 그리고, 노즐(410)은 볼(801) 내에 진출한 상태에서 토수구멍(411)으로부터 물을 분출해서 변좌(200)에 앉은 사용자의 여성 국부를 세정할 수 있다.

이어서, 본 실시형태의 노즐(410)의 구조, 및 와이드 토수 및 스폿 토수의 토수 형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

도 3은 와이드 토수를 설명하기 위한 단면 모식도이다.

본 실시형태의 노즐(410)은 노즐 본체(420)와 스로트(430)를 갖는다. 노즐 본체(420)의 내부에는 도시되지 않은 수원으로부터 공급된 세정수가 통과하는 와이드 토수용 유로(427)와, 선회류를 생성 가능한 선회실(423)과, 선회실(423)로부터의 세정수를 스로트(430)로 도입하는 연통로(스로틀부)(425)가 설치되어 있다. 또한, 선회실(423)의 중앙부에는 보다 안정된 선회력의 선회류를 생성하는 돌출부(424)가 형성되어 있다.

선회실(423)은 저부에 있어서 보다 큰 직경을 갖는 대경부 내주벽(423e)과, 연통로(425)를 향함에 따라서 수축된 직경을 갖는 경사 내주벽(423f)에 의하여 형성되어 중공실로 되어 있다. 그리고, 경사 내주벽(423f)은 그 일단에 있어서 연통로(425)에 접속되어 있다. 한편, 와이드 토수용 유로(427)는 선회실(423)에 편심되어 접속되어 있다. 보다 구체적으로는, 와이드 토수용 유로(427)는 선회실(423)의 대경부 내주벽(423e)의 접선 방향으로 접속되어 있다.

스로트(430)의 내부에는 노즐 본체(420)의 연통로(425)로부터 분출된 세정수가 통과하는 스로트 유로(431)가 형성되어 있다. 그리고, 스로트 유로(431)의 일단에는 스로트 유로(431)를 통과한 세정수를 스로트(430)의 외부로 토수하는 토수구멍(433)이 형성되어 있다. 즉, 도 3에 도시된 노즐(410)과 같이 노즐(410)이 스로트(430)를 가질 경우에는 스로트(430)에 형성된 토수구멍(433)이 도 1에 도시한 토수구멍(411)으로서 기능한다. 토수구멍(433) 근방의 스로트 유로(431)에는 토수구멍(433)을 향함에 따라서 유로가 확대되는 테이퍼부(432)가 형성되어 있다.

또한, 본 실시형태의 노즐(410)에서는 노즐 본체(420)와 스로트(430) 사이에 간극이 형성되어 있지만 이 간극은 반드시 형성되어 있지 않아도 좋다. 즉, 노즐 본체(420)와 스로트(430)가 일체적으로 형성되어 연통로(425)와 스로트 유로(431)가 접속되어 있어도 좋다.

와이드 토수를 실행할 경우에는 도시되지 않은 수원으로부터 공급되는 세정수는 와이드 토수용 유로(427)를 통과해서 노즐(410)에 공급되어 선회실(423)로 유입된다. 여기서, 와이드 토수용 유로(427)는 선회실(423)의 대경부 내주벽(423e)의 접선 방향으로 접속되어 있기 때문에 선회실(423)로 유입된 세정수는 도 3에 도시한 화살표(A3)와 같이, 대경부 내주벽(423e) 및 경사 내주벽(423f)을 따라 후술하는 스폿 토수보다 빠른 속도로 선회한다. 그리고, 선회실(423)에 있어서 선회된 세정수는 선회력을 유지하면서 연통로(425)를 통과하고, 스로트(430)의 스로트 유로(431) 내로 분출된다. 이 때, 노즐 본체(420)로부터 분출된 세정수는 선회력을 유지하고 있기 때문에 중앙부에 중공 부분을 갖는 액막으로서 중공 원추형으로 분출된다. 이하, 설명의 편의상 이와 같이 중공 원추형으로 분출된 세정수를 「중공 원추형 토수」라고 칭한다.

그리고, 스로트 유로(431)에 유입된 세정수는 선회력을 유지하면서 스로트 유로(431)의 내벽을 따라 흘러 토수구멍(433)으로 도입된다. 즉, 스로트 유로(431)를 통과하는 세정수는 스로트 유로(431)의 내벽에 부착되도록 흐른다. 그 때문에, 스로트 유로(431)를 흐르는 세정수는 스로트 유로(431)의 내벽으로부터 마찰력에 의한 저항을 받아 그 세정수의 유속은 토수구멍(433)을 향함에 따라서 작아진다. 이에 따라, 도 3에 도시한 바와 같이 토수구멍(433) 근방의 액막 두께는 노즐 본체(420)로부터 분출되었을 때의 액막의 두께 또는 스로트 유로(431)에 유입된 직후의 액막의 두께보다 두껍다.

또한, 스로트 유로(431)를 흐르는 세정수의 유속은 스로트 유로(431)의 내벽의 근방, 즉 경계층보다 스로트 유로(431)의 중심부 쪽이 빠르다. 그 때문에, 스로트 유로(431)를 흐르는 세정수의 내부에는 도 3에 도시한 화살표(A1)와 같이, 액막을 횡단하는 방향으로 와류가 발생된다. 또한, 토수구멍(433)의 근방에 있어서의 스로트 유로(431)에는 토수구멍(433)을 향함에 따라서 유로가 확대되는 테이퍼부(432)가 형성되어 있기 때문에 토수구멍(433)으로부터 분출되는 세정수는 테이퍼부(432)를 따라 흐른다. 그 때문에, 토수구멍(433)으로부터 분출되는 세정수의 내부에는 액막을 횡단하는 방향으로 와류가 보다 발생하기 쉽다.

그렇게 하면 토수구멍(433)으로부터 분출된 세정수는 중앙부에 중공 부분을 갖는 액막으로서, 즉 중공 원추형 토수(510)로서 분출되지만 토수구멍(433)으로부터 어느 정도 이간된 위치에 있어서 입자화된 수류(이하, 설명의 편의상 「입자화 수류」로 칭함)(520)로 천이된다. 보다 구체적으로는 토수구멍(433)으로부터 분출된 중공 원추형 토수(510)의 내부에는 액막을 횡단하는 방향으로 와류가 발생되고 있기 때문에 토수구멍(433)으로부터 어느 정도 이간된 위치에 있어서 인접하는 와류끼리 사이에 균열이 발생한다. 그렇게 하면 토수구멍(433)으로부터 분출된 중공 원추형 토수(510)는 도 3에 도시한 바와 같이 토수구멍(433)으로부터 어느 정도 이간된 위치에 있어서 파쇄된다. 이와 같이 해서, 토수구멍(433)으로부터 분출된 중공 원추형 토수(510)는 입자화 수류(520)로 천이된다. 그리고, 중공 원추형 토수(510)가 확산되는 영역의 내측에는 입자화 수류(520)가 빠짐없이 널리 퍼진다.

또한, 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 압력은 중공 원추형 토수(510)의 외측 압력보다 작다. 이것은 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분에는 외부로부터 공기가 들어가기 어렵고, 또한 그 중공 부분의 공기는 중공 원추형 토수(510)의 흐름에 의해 인출되기 때문이다. 이와 같이 해서 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 압력이 중공 원추형 토수(510)의 외측 압력보다 작음으로써 중공 원추형 토수(510)는 토수 직경(원추 직경)이 확대되는 것을 억제한다.

그 때문에, 본 실시형태의 노즐(410)에 의하면 입자화 수류(520)가 세정 에리어 밖에 착수되는 것을 억제할 수 있고, 소망하는 세정 에리어 밖의 부분(예를 들면, 대퇴부)이 불필요하게 젖는 것을 억제할 수 있다. 이에 따라, 변좌(200)에 앉은 사용자가 소망하는 세정 에리어 밖의 부분이 불필요하게 젖음으로써 불쾌감을 느끼는 것을 억제할 수 있다.

또한, 입자화 수류(520)의 직경은, 예를 들면 약 1㎜정도이며, 직경이 예를 들면 약 10∼100㎛ 정도인 안개(霧)와 비교하면 크다. 이것은 상술한 바와 같이 스로트 유로(431)를 흐르는 세정수의 유속은 토수구멍(433)을 향함에 따라서 작아지고, 토수구멍(433) 근방의 액막의 두께는 보다 두꺼워지기 때문이다. 즉, 액막의 두께가 보다 두꺼운 상태에서 분출된 중공 원추형 토수(510)를 스로트(430)의 내부에 있어서 발생된 와류에 의해 강제적으로 입자화시키기 때문에 입자화 수류(520)의 직경은 안개 등과 비교하면 크다.

이것에 의하면 입자화 수류(520)는 공기 중을 떠돌 우려는 적어 소망하는 세정 에리어의 외부에까지 비산될 우려는 적다. 즉, 본 실시형태의 노즐(410)에 의하면 입자화 수류(520)가 세정 에리어 밖에 착수되는 것을 억제할 수 있어 소망하는 세정 에리어 밖의 부분이 불필요하게 젖는 것을 억제할 수 있다. 또한, 입자화 수류(520)의 직경은 보다 크기 때문에 착수부에 있어서의 착수력을 보다 높일 수 있다. 그 때문에, 예를 들면 여성의 생리시에 있어서의 경혈 오염 등을 보다 단시간 동안에 떨어뜨리거나 뜨게 할 수 있고, 또한 보다 단시간 동안에 씻어 버릴 수 있다.

또한, 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 압력이 중공 원추형 토수(510)의 외측 압력보다 작은 것에 관해서 상술했지만 이 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 압력은 중공 원추형 토수(510)가 파쇄되지 않을 경우의 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 압력보다 크다. 이것은 도 3에 도시한 화살표(A2)와 같이, 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 외부 공기가 인접하는 와류끼리 사이에 생긴 균열 또는 파쇄된 중공 원추형 토수(510) 사이로부터 중공 부분에 들어가기 때문이다. 이것에 의하면 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 압력이 지나치게 작아짐으로써 충분한 넓이의 세정 범위를 확보할 수 없는 우려를 억제할 수 있다. 또한, 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 압력은 중공 원추형 토수(510)가 파쇄되지 않을 경우의 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분의 압력보다 크기 때문에 액막 파동이 생기는 것을 억제할 수 있다.

이와 같이, 본 실시형태의 와이드 토수에 의하면 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분[세정수(500)가 확산되는 영역의 내측]에 입자화 수류(520)를 빠짐없이 널리 퍼지게 한 상태에서 변좌(200)에 앉은 사용자의 여성 국부의 보다 넓은 범위에 세정수를 착수시킬 수 있다. 그 때문에, 소망하는 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다.

도 4는 스폿 토수를 설명하기 위한 단면 모식도이다.

노즐 본체(420)의 내부에는 와이드 토수용 유로(427)와 마찬가지로, 도시되지 않은 수원으로부터 공급된 세정수가 통과하는 스폿 토수용 유로(428)가 형성되어 있다. 스폿 토수용 유로(428)는 선회실(423)의 축심을 향하도록 선회실(423)의 대경부 내주벽(423e)에 접속되어 있다.

스폿 토수를 실행할 때에는 도시되지 않은 수원으로부터 공급되는 세정수는 스폿 토수용 유로(428)를 통과해서 노즐(410)에 공급되어 선회실(423)로 유입된다. 여기서, 스폿 토수용 유로(428)는 선회실(423)의 축심을 향하도록 선회실(423)의 대경부 내주벽(423e)에 접속되어 있기 때문에 선회실(423)로 유입된 세정수는 도 4에 도시한 화살표(A4)와 같이, 선회함이 없거나 또는 선회력을 저감한 상태에서 연통로(425)로 흐른다. 그리고, 선회함이 없거나 또는 선회력을 저감한 상태에서 연통로(425)로 흐른 세정수는 연통로(425)를 통과하고, 스로트(430)의 스로트 유로(431) 내로 분출된다. 이 때, 노즐 본체(420)로부터 분출된 세정수는 선회력을 갖고 있지 않거나 또는 선회력을 저감하고 있기 때문에 직진류(530)로서 분출된다.

노즐 본체(420)로부터 분출된 직진류(530)의 일부는 직진류(530)로부터 분리되어 액적(540)이 된다. 직진류(530)로부터 분리된 액적(540)은 도 4에 도시한 화살표(A5)와 같이 스로트 유로(431)의 내벽에 있어서 반사된다. 그리고, 스로트 유로(431)의 내벽에 있어서 반사된 액적(540)의 일부는 다시 직진류(530)와 합류한다. 이에 따라, 직진류(530)와 주위의 공기 사이에 있어서 기액 계면이 생성된다. 그리고, 노즐 본체(420)로부터 분출된 세정수는 직진류(530)와 액적(540)이 혼재된 상태에서 토수구멍(433)으로부터 분출된다. 즉, 노즐 본체(420)로부터 분출된 세정수는 물 입자 상태로 분출된다.

스폿 토수시에 토수구멍(433)으로부터 분출된 세정수는 와이드 토수시에 토수구멍(433)으로부터 분출된 세정수와 같이 확산되지 않아 중공 원추형 토수(510)로서 분출될 일은 없다. 즉, 스폿 토수시에 토수구멍(433)으로부터 분출된 세정수는 중공의 상태가 아니라 중실의 상태 또는 충전된 상태로 되어 있다.

이와 같이, 본 실시형태의 스폿 토수에 의하면 와이드 토수의 경우보다 좁은 범위를 세정할 수 있다. 즉, 스폿 토수의 착수 범위(제 1 범위)는 와이드 토수의 착수 범위(제 2 범위)보다 좁다. 바꿔 말하면 연통로(425)로부터 분출된 와이드 토수의 세정수의 퍼짐 각도가 연통로(425)로부터 분출된 스폿 토수의 세정수의 퍼짐 각도보다 크게 되어 있다. 그 때문에, 와이드 토수의 세정수는 착수면에 있어서 노즐을 움직이지 않고 한 번에 넓은 범위에 착수된다. 이에 따라, 와이드 토수의 착수 범위(제 2 범위)는 스폿 토수의 착수 범위(제 1 범위)보다 넓다. 사용자는 세정하고 싶은 세정 개소를 기호에 따라 중점적으로 세정할 수 있다.

따라서, 본 실시형태에 의하면 사용자는 와이드 토수용 유로(427)를 통과하는 세정수의 유량과 스폿 토수용 유로(428)를 통과하는 세정수의 유량의 비율을 적절하게 설정 변경함으로써 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하는 와이드 토수와 보다 좁은 범위를 중점적으로 세정하는 스폿 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다.

또한, 스폿 토수시에는 직진류(530) 및 액적(540)에 의해 스로트 유로(431)가 거의 만수 상태가 된다. 그 때문에, 상술한 바와 같이 스폿 토수시에 토수구멍(433)으로부터 분출된 세정수는 중실의 상태 또는 충전된 상태로 되어 있다. 한편, 와이드 토수시에 토수구멍(433)으로부터 분출된 세정수는 도 3에 관해서 상술한 바와 같이 중앙부에 중공 부분을 갖는 액막, 즉 중공 원추형 토수(510)로 되어 있다. 이에 따라, 스폿 토수시에 여성 국부에 착수되는 세정수의 유속은 와이드 토수시에 여성 국부에 착수되는 세정수의 유속보다 느리다.

그 때문에, 본 실시형태의 스폿 토수에 의하면 와이드 토수의 경우보다 좁은 범위를 세정할 수 있음과 아울러 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제할 수 있다. 그 때문에, 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

또한, 도 3 및 도 4에 도시한 노즐(410)과 같이 노즐 본체(420)와 스로트(430) 사이에 간극이 형성된 경우에는 그 간극을 통해서 스로트 유로(431)에 공기를 도입할 수 있다. 이것에 의하면 보다 좁은 범위를 중점적으로 세정하는 스폿 토수의 토수 형태를 보다 용이하게 형성할 수 있다. 또한, 스폿 토수시에 토수구멍(433)으로부터 분출되는 세정수에 보다 많은 공기를 혼입시킬 수 있다. 그 때문에, 스폿 토수는 와이드 토수보다 부드러운 세정감을 줄 수 있다. 또한, 세정수에 공기를 혼입시킴으로써 세정수의 외견상의 체적이 증대되므로 스폿 토수에 있어서 세정수의 유량이 저감해도 양감의 저하를 억제할 수 있다.

본 실시형태에서는 토수구멍(433)으로부터 분출되는 세정수에 혼입시키는 공기의 혼입량을 와이드 토수보다 스폿 토수에 있어서 많게 할 수 있다. 이것에 의해서도 스폿 토수는 와이드 토수보다 부드러운 세정감을 줄 수 있다. 그 때문에, 스폿 토수에 있어서 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 보다 억제할 수 있어 보다 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

노즐(410)은 선회실(423)과 토수구멍(411) 사이에 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 분사되는 세정수를 감속하기 위한 감속 수단을 설치하고 있고, 와이드 토수에서의 세정수의 감속량보다 스폿 토수에서의 세정수의 감속량이 보다 커지도록 감속된다.

선회실(423)에 있어서의 선회류의 속도를 와이드 토수와 스폿 토수에서 다르게 함으로써 선회류에 속도차를 주어서 토수 형태를 다르게 하고 있다. 또한, 와이드 토수에서의 세정수의 감속량보다 스폿 토수에서의 세정수의 감속량이 보다 커지도록 감속하는 감속 수단을 선회실(423)의 분사 구멍과 토수구멍(411) 사이에 설치함으로써 스폿 토수에 의한 토수 유속을 적극적으로 감속하고 있다.

구체적으로는 선회실(423)의 분사 구멍보다 토수구멍(411)측에 세정수를 일시적으로 저장함으로써 선회실(423)로부터 분사되는 세정수를 감속하도록 구성되어 있다. 와이드 토수에서의 세정수의 저류량보다 스폿 토수에서의 세정수의 저류량이 보다 커지도록 세정수를 일시적으로 저장함으로써 그 저장된 세정수에 선회실(423)로부터 분사되는 세정수가 돌입(突入)되는 것에 의한 스폿 토수에서의 압력 손실량이 와이드 토수에서의 압력 손실량보다 커지고, 와이드 토수에서의 세정수의 감속량보다 스폿 토수에서의 세정수의 감속량이 보다 커지도록 감속하는 것이다.

따라서, 선회실(423)로부터 분사된 세정수를 이용하고 저장된 세정수의 압력 손실을 이용해서 감속한다는 간단한 방법으로 스폿 토수에 있어서의 유속을 저하시킬 수 있다.

이 감속 수단은 선회실(423)의 분사 구멍보다 토수구멍(411)측에 선회실(423)의 분사 구멍보다 큰 내경의 스로트 유로(431)를 갖고 있다. 스폿 토수에서는 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 외주가 입자화된 수류를 토출하고, 와이드 토수에서는 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 외주가 액막화된 수류를 토출한다.

와이드 토수에서는 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 외주가 액막화된 수류를 토출해서 스로트 유로(431)를 따라 액막화된 채 토수구멍(411)으로부터 분출한다. 한편, 스폿 토수에서는 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 외주가 입자화된 수류를 토출해서 스로트 유로(431)에 그 입자화된 수류가 충돌해서 감속된다. 따라서, 선회실(423)의 하류에 선회실(423)의 분사 구멍보다 큰 직경의 스로트 유로(431)를 형성하고, 분사 구멍으로부터 분사되는 수류의 형태를 다르게 하는 것만으로 와이드 토수보다 스폿 토수에 있어서 세정수를 확실히 감속시켜서 토수하는 것이 가능해진다.

노즐(410)에서는 선회실(423)의 분사 구멍보다 토수구멍(411)측에서 공기를 도입시켜서 이젝터 효과에 의해 세정수에 공기를 자연 혼입하는 것이며, 스폿 토수에 있어서의 공기의 혼입량이 와이드 토수보다 많아지도록 세정수에 공기를 혼입하고, 이 공기를 혼입시키는 것에 의한 압력 손실량이 와이드 토수에서의 압력 손실량보다 스폿 토수에서의 압력 손실량이 커져서 감속된다.

이와 같이, 와이드 토수에서의 공기의 혼입량보다 스폿 토수에서의 공기의 혼입량이 보다 많아지도록 함으로써 스폿 토수에 있어서의 압력 손실량을 와이드 토수에 있어서의 압력 손실량보다 크게 하고, 결과적으로 스폿 토수에서의 세정수의 감속량이 보다 커지도록 감속하고 있다. 따라서, 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 분사된 세정수를 이용하고, 이젝터 효과를 이용한 공기 혼입에 의한 세정수의 압력 손실을 이용해서 감속한다는 간단한 방법으로 스폿 토수에 있어서의 토수 유속을 저하시킬 수 있다.

또한, 노즐(410)에서는 선회실(423)의 분사 구멍과 스로트 유로(431) 사이에 공기 혼입부를 갖고 있다. 구체적으로는 노즐 본체(420)와 스로트(430) 사이에 간극을 형성하여 공기 혼입부로서의 역할을 갖게 하고 있다. 그리고, 스폿 토수에서는 이젝터 효과를 발휘시키도록 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 외주가 입자화된 수류를 토출하고, 와이드 토수에서는 이젝터 효과를 발휘시키지 않도록 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 외주가 액막화된 수류를 토출한다.

이와 같이, 선회실(423)의 분사 구멍보다 토수구멍(411)측에 선회실(423)의 분사 구멍보다 큰 내경의 스로트 유로(431)와 공기 혼입부를 형성하고 있으므로 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 분사되는 세정수의 형태에 따라 그 분사되는 세정수에 혼입되는 기포량에 영향을 미치게 할 수 있다. 와이드 토수에서는 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 외주가 액막화된 수류를 토출하므로 공기 혼입부로부터는 공기를 거의 흡입하지 않고 스로트 유로(431)를 따라 액막화된 채 진행하고, 그대로 토수구멍(411)으로부터 토출할 수 있다. 한편, 스폿 토수에서는 선회실(423)의 분사 구멍으로부터 외주가 입자화된 수류를 토출하므로 스로트 유로(431)에 그 입자화된 수류가 충돌해서 감속된다. 또한, 공기 혼입부로부터는 공기가 흡입되어 이젝터 효과에 의해 공기가 혼입된다. 따라서, 선회실(423)의 하류에 선회실(423)의 분사 구멍보다 큰 직경의 스로트 유로(431)와 공기 혼입부를 형성하고, 분사 구멍으로부터 분사되는 수류의 형태를 다르게 하는 것만으로 동일한 구조로 와이드 토수보다 스폿 토수에 있어서 세정수를 확실히 감속시켜서 분출하는 것이 가능해진다.

또한, 세정수에 공기를 혼입함에 있어서 상술한 바와 같이 공기를 자연 혼입시키는 것 대신에 에어 펌프를 이용해서 공기의 혼입량을 제어해도 좋다.

또한, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 본 실시형태에서는 노즐 본체의 작성의 간편화를 도모하기 위해서 공통될 수 있는 부분은 와이드 토수와 스폿 토수에서 공통된 구성으로 되어 있다. 즉, 와이드 토수와 스폿 토수에 있어서 선회실, 연통로, 스로트, 스로트 유로, 토수구멍을 공통의 구성으로 하고, 선회실로의 토수용 유로 구성만이 다른 구성으로 되어 있다. 단, 본 발명은 이 실시형태에 한정되는 것은 아니고 스폿 토수와 와이드 토수에서 크게 다른 구성으로 해도 아무런 문제는 없다. 예를 들면 스폿 토수에서는 세정수를 선회시키지 않고 스폿 토수 유로로부터 직접 연통로, 스로트 유로에 흐르는 구성으로 하여도 좋다.

이어서, 와이드 토수 및 스폿 토수에 있어서 세정수의 착수력에 대해서 도면을 참조하면서 더욱 상세하게 설명한다.

도 5는 착수부 또는 토수구멍으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 세정수의 착수력을 도시하는 그래프도이다.

도 5에 도시한 바와 같이 본 실시형태에서는 와이드 토수의 착수 범위는 스폿 토수의 착수 범위보다 넓다. 바꿔 말하면, 스폿 토수의 착수 범위는 와이드 토수의 착수 범위보다 좁다. 또한, 도 5에 도시한 예에서는 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력은 와이드 토수의 착수 범위의 착수력보다 작지만 스폿 토수의 착수력을 와이드 토수의 착수력과 동등하게 해도 좋고, 스폿 토수의 착수력을 와이드 토수의 착수력보다 크게 해도 좋다.

여기서, 본원 명세서에 있어서, 「착수력」이란 세정수(500)의 착수 유속, 착수 수량, 착수 압력 중 적어도 어느 하나를 의미하고, 또한 단위 면적당 세정수가 갖는 운동량이며, 오염을 떨어뜨리거나 벗기거나 뜨게 하는 힘을 말한다. 또한, 「착수 유속」이란 착수부 또는 토수구멍(411)으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 세정수(500)의 유속을 말한다. 또한, 「착수 압력」이란 착수부 또는 토수구멍(411)으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 단위 면적당 운동량이며, 오염을 떨어뜨리거나 벗기거나 뜨게 하는 힘을 말한다. 또한, 「착수 수량」이란 착수부 또는 토수구멍(411)으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서 단위 시간당에 착수하는 수량이며, 오염을 씻어 버리는 힘을 말한다.

와이드 토수와 같은 유량, 유속으로 스폿 토수를 실행했을 경우 스폿 토수는 와이드 토수와 같은 양의 세정수를 와이드 토수보다 좁은 범위에 착수시키므로 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력(501s-1)은 도 5에 도시한 바와 같이 와이드 토수의 착수력보다 크다. 여기에서는, 스폿 토수시에 여성 국부의 민감한 영역에 주는 자극이 지나치게 강해서 불쾌감을 느끼게 해버린다. 그래서, 본 실시형태에서는 스폿 토수를 개시할 때 또는 와이드 토수로부터 스폿 토수로 스위칭했을 때에 와이드 토수보다 세정수의 유속을 저감시키거나, 또는 유량을 저감시키거나 또는 공기의 혼입량을 증대시켜서 스폿 토수시의 착수력을 억제시킨다. 즉, 착수력 억제 수단은 스폿 토수와 와이드 토수의 유속, 유량, 공기의 혼입량 등을 조정하는 수단이다. 그리고, 이와 같이 스폿 토수시의 착수력이 억제되도록 세정수를 분출시켜서 도 5에 도시한 바와 같이 스폿 토수의 착수력(501s)을 작게 해서, 바람직하게는 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력을 와이드 토수의 착수 범위의 착수력과 동등하거나 또는 그것보다 작게 한다. 이에 따라, 스폿 토수시에 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 방지해서 쾌적한 비데 세정을 실현하는 것이 가능해진다.

스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력은 와이드 토수와 같은 유량이나 유속으로 스폿 토수의 착수 범위에 세정수를 분사시켰을 경우보다 작게 되어 있다. 또한, 와이드 토수의 착수 범위의 착수력과 동등하거나 또는 그것보다 작게 하면 스폿 토수는 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 보다 확실히 억제하면서 쾌적하게 세정할 수 있다. 즉, 스폿 토수는 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 불쾌감을 주지 않고 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

한편, 와이드 토수는 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분에 입자화 수류(520)를 빠짐없이 널리 퍼지게 한 상태에서 변좌(200)에 앉은 사용자의 여성 국부의 보다 넓은 범위에 세정수를 착수시킬 수 있다. 그 때문에, 와이드 토수는 소망하는 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다.

이것에 의하면 비데 세정의 용도에 따라 세정수의 착수 범위의 광협을 스위칭해서 노즐(410)로부터 분출된 세정수는 여성 국부로의 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 되어서 착수된다. 그 때문에, 비데 세정에 있어서의 세정수 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 비데 세정을 실행할 수 있다.

또한, 와이드 토수시의 착수부에 있어서의 착수력의 분포는 도 5에 도시한 실선의 착수력(501w)과 같이 착수 범위의 전체에 걸쳐서 대략 동일한 것에 한정되는 것은 아니다. 와이드 토수시의 착수부에 있어서의 착수력의 분포는 도 5에 도시한 파선의 착수력(503w)과 같이 착수 범위의 중심부보다 외주부에서 커도 좋다. 또는, 와이드 토수시의 착수부에 있어서의 착수력의 분포는 도 5에 도시한 일점 쇄선의 착수력(505w)과 같이 착수 범위의 중심부보다 외주부에서 작아도 좋다.

또한, 스폿 토수시의 착수부에 있어서의 착수력의 분포는 도 5에 도시한 실선의 착수력(501s)과 같이 착수 범위의 전체에 걸쳐서 대략 동일한 것에 한정되는 것은 아니다. 스폿 토수시의 착수부에 있어서의 착수력의 분포는 도 5에 도시한 파선의 착수력(503s)과 같이 착수 범위의 중심부보다 외주부에서 커도 좋다. 또는, 스폿 토수시의 착수부에 있어서의 착수력의 분포는 도 5에 도시한 일점 쇄선의 착수력(505s)과 같이 착수 범위의 중심부보다 외주부에서 작아도 좋다.

와이드 토수 및 스폿 토수시의 착수부에 있어서의 착수력의 분포가 도 5에 도시한 착수력(501w, 503w, 505w) 및 착수력(501s, 503s, 505s) 중 어느 경우에도 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력은 와이드 토수의 착수 범위의 착수력과 동등하거나 또는 그것보다 작게 하는 것이 바람직하다.

와이드 토수시의 착수부에 있어서의 착수력의 분포가 도 5에 도시한 파선의 착수력(503w)과 같이 착수 범위의 중심부보다 외주부에서 클 경우에는, 예를 들면 여성의 생리시에는 경혈 오염이 여성 국부 주위의 넓은 범위에 걸쳐서 부착될 경우가 있지만 그 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하고 싶다는 요망에 대응할 수 있다.

보다 구체적으로 설명하면 소망하는 세정 에리어 중 외주부는 여성의 생리시의 경혈 오염이 부착되어 있을 경우에는 적극적으로 세정하고 싶은 에리어다. 그 때문에, 외주부의 착수력이 중심부의 착수력보다 클 경우에는 세정력이 높은 세정수(500)가 경혈 오염을 제거하고 싶은 에리어에 착수된다. 한편, 여성의 민감한 영역에는 착수력이 작은 세정수가 착수되기 때문에 필요 이상으로 강한 자극감이 가해질 일은 없다. 그 때문에, 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 보다 단시간 동안에 경혈 오염을 떨어뜨리거나 뜨게 할 수 있고, 또한 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다. 또한, 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 보다 단시간 동안에 경혈 오염을 씻어 버릴 수 있고, 또한 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다. 그 때문에, 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 여성이 생리시에 사용하는 장치로서 바람직하다. 특히, 여성 국부의 주변부에서는 경혈 오염이 건조되어 고착되는 경향이 있지만 외주부의 착수력이 중심부의 착수력보다 클 경우에는 고착된 경혈 오염을 씻어 내는데도 바람직하다.

또한, 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 착수부에 있어서의 착수력의 분포에 관계 없이 종래의 비데 세정보다 넓은 범위에 한 번에 착수시킬 수 있다. 그 때문에, 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 노즐(410)을 전후방향 및 좌우 방향(도 1에 도시한 화살표를 참조)으로 이동시킴으로써 착수 위치를 이동시키거나, 변좌(200)에 앉은 사용자 자신이 착좌 위치를 이동함으로써 착수 위치를 이동시키거나 할 필요는 없다. 그 때문에, 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 여성 국부를 넓은 범위에서 세정할 때에 되풀이되는 감각을 줄 우려는 적다. 이것에 의해서도 본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

또한, 와이드 토수와 스폿 토수의 착수력은 도 5에 도시한 이외의 형태로 하는 것도 가능하다. 예를 들면, 스폿 토수의 착수력이 와이드 토수의 착수력보다 다소 커도 스폿 토수시의 세정수의 유속이나 유량을 작게 함으로써 착수력을 억제해서 자극감을 약화시키는 것이 가능하다. 특히, 와이드 토수의 실행 도중에 리모트 컨트롤 조작에 의해 스폿 토수로 스위칭했을 때에는 거의 지수 시간이 없이 세정 범위가 스위칭된다. 그 때문에 넓은 범위에 확산해서 분출되고 있던 세정수는 보다 좁은 범위에 집중해서 착수되므로 착수력이 증가해서 강한 자극을 느끼기 쉽지만 스폿 토수를 실행할 때에 착수력을 억제하도록 유속이나 유량을 저감하면 여성 국부의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제할 수 있다. 이것에 의해서도 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

이어서, 와이드 토수시의 착수부에 있어서의 착수력이 착수 범위의 중심부보다 외주부에서 클 경우 및 스폿 토수시의 착수부에 있어서의 착수력이 착수 범위의 전체에 걸쳐서 대략 동일할 경우를 예로 들어 착수부 또는 토수구멍으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 세정수의 유속 및 단위 면적당 세정수의 유량에 대해서 설명한다.

도 6은 착수부 또는 토수구멍으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 세정수의 유속을 도시하는 그래프도이다.

본 실시형태에서는 도 6에 도시한 바와 같이 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 유속은 와이드 토수의 착수 범위의 유속과 동등하거나 또는 그것보다 작다. 이것은 도 4에 관해서 상술한 바와 같이 스폿 토수시에 토수구멍(433)으로부터 분출된 세정수는 중실의 상태 또는 충전된 상태로 되어 있는 한편, 와이드 토수시에 토수구멍(433)으로부터 분출된 세정수는 중공 원추형 토수(510)로 되어 있기 때문이다.

보다 구체적으로 설명하면 와이드 토수에서는 스로트 유로(431)에 유입된 세정수가 선회력을 유지하면서 스로트 유로(431)의 내벽을 따라 흐르기 때문에 스로트 유로(431)의 축 방향(토수 방향)으로 보았을 때의 세정수가 토수구멍(433) 또는 스로트 유로(431)를 차지하는 면적은 스폿 토수의 경우보다 작다. 한편, 스폿 토수에서는 직진류(530) 및 액적(540)에 의해 스로트 유로(431)가 거의 만수 상태가 되기 때문에 스로트 유로(431)의 축 방향(토수 방향)으로 보았을 때의 세정수가 토수구멍(433) 또는 스로트 유로(431)를 차지하는 면적은 와이드 토수의 경우보다 크다. 그 때문에, 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 유속은 와이드 토수의 착수 범위의 유속과 동등하거나 또는 그것보다 작다.

이것에 의하면 스폿 토수는 와이드 토수와 같은 유속으로 스폿 토수의 착수 범위를 향해서 세정수를 분출했을 경우보다 작고 또한 와이드 토수보다 작은 유속으로 여성 국부에 착수된다. 그 때문에, 본 실시형태의 스폿 토수는 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제하면서 쾌적하게 세정할 수 있다. 한편, 와이드 토수는 스폿 토수보다 빠른 유속으로 여성 국부에 착수된다. 그 때문에, 본 실시형태의 와이드 토수는 여성 국부의 주변부를 보다 큰 세정력으로 세정할 수 있다. 그 때문에, 여성 국부 주위의 넓은 범위에 부착된 경혈 오염을 효율적으로 씻어 버릴 수 있다.

또한, 스로트 유로(431)의 축 방향으로 보았을 때의 세정수가 토수구멍(433) 또는 스로트 유로(431)를 차지하는 면적에 따라 와이드 토수와 스폿 토수에 있어서의 유속이 서로 다르다. 그 때문에 와이드 토수와 스폿 토수가 스위칭됨으로써 유속차가 자동적으로 발생된다. 이에 따라, 거대한 장치나 기기 등을 설치하지 않고 와이드 토수와 스폿 토수 사이에서 유속을 다르게 할 수 있다.

도 7은 착수부 또는 토수구멍으로부터 소정의 거리만큼 떨어진 위치에 있어서의 단위 면적당 세정수의 유량을 나타내는 그래프도이다.

스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력을 작게 하는 수단은 도 6에 관해서 상술한 유속을 다르게 하는 것만에 한정되는 것은 아니다. 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력을 작게 하기 위해서 단위 면적당 세정수의 유량을 다르게 해도 좋다.

보다 구체적으로는 유량 조정 밸브(480)는 도시되지 않은 제어부로부터의 지령에 의거하여 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 단위 면적당 세정수의 유량을 와이드 토수의 착수 범위의 단위 면적당 세정수의 유량보다 적게 할 수 있다. 이에 따라, 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력을 와이드 토수의 착수 범위의 착수력과 동등하거나 또는 그것보다 작게 할 수 있다.

이것에 의하면 스폿 토수는 와이드 토수와 같은 유량으로 스폿 토수의 착수 범위를 향해서 세정수를 분출했을 경우보다 적고 또한 와이드 토수보다 적은 유량으로 여성 국부에 착수된다. 그 때문에, 본 실시형태의 스폿 토수는 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제하면서 쾌적하게 세정할 수 있다. 한편, 와이드 토수는 스폿 토수보다 많은 유량으로 여성 국부에 착수된다. 그 때문에, 본 실시형태의 와이드 토수의 세정력은 스폿 토수의 세정력보다 크다. 그 때문에, 여성 국부 주위의 넓은 범위에 부착된 경혈 오염을 효율적으로 씻어 버릴 수 있다.

이어서, 본 실시형태의 노즐(410)의 구체예에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

도 8은 본 실시형태의 노즐의 구체예를 예시하는 사시 모식도이다.

또한, 도 9는 본 구체예의 노즐을 상방으로부터 바라본 상면 모식도이다.

또한, 도 10은 도 9에 도시한 절단면 A-A에 있어서의 단면 모식도이다.

본 구체예에 의한 노즐(410)은 노즐 본체(420)를 갖는다. 노즐 본체(420)의 내부에는 와이드 토수용 유로(427)와 스폿 토수용 유로(428)가 형성되어 있다. 와이드 토수용 유로(427)는 도 9에 도시된 바와 같이 선회실(423)의 대경부 내주벽(423e)의 접선 방향으로 접속되어 있다. 한편, 스폿 토수용 유로(428)는 도 9에 도시된 바와 같이 선회실(423)의 축심을 향하도록 대경부 내주벽(423e)에 접속되어 있다. 그 밖의 구조는 도 3 및 도 4에 관해서 상술한 노즐(410)의 구조와 같다.

와이드 토수용 유로(427)는 선회실(423)의 대경부 내주벽(423e)의 접선 방향으로 접속되어 있기 때문에 와이드 토수용 유로(427)를 통과해서 선회실(423)로 유입된 세정수는 대경부 내주벽(423e) 및 경사 내주벽(423f)을 따라 선회한다. 이것은 도 3에 관해서 상술한 바와 같다. 한편, 스폿 토수용 유로(428)는 선회실(423)의 축심을 향하도록 대경부 내주벽(423e)에 접속되어 있기 때문에 스폿 토수용 유로(428)를 통과해서 선회실(423)로 유입된 세정수는 선회함이 없거나 또는 선회력을 저감한 상태에서 연통로(425)의 일단, 즉 토수구멍(426)으로부터 분출된다. 이것은 도 4에 관해서 상술한 바와 같다.

그 때문에, 본 구체예의 노즐(410)에 의하면 와이드 토수용 유로(427)만을 통해서 선회실(423)로 세정수를 유입시키면 보다 큰 선회력을 갖는 중공 원추형 토수(510)를 토수구멍(426)으로부터 토수할 수 있다. 또한, 본 구체예에 의한 노즐(410)이 도 3에 도시된 스로트(430)를 가질 경우에는 토수구멍(433)으로부터 분출된 중공 원추형 토수(510)는 입자화 수류(520)로 천이된다. 그 때문에 이 경우에는, 사용자는 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다.

이에 대해서 와이드 토수용 유로(427)뿐만 아니라 와이드 토수용 유로(427)와 스폿 토수용 유로(428)를 통해서 선회실(423)로 세정수를 유입시키면 선회실(423)에 있어서 발생되는 선회류의 선회력은 와이드 토수용 유로(427)만을 통해서 선회실(423)로 세정수를 유입시킬 경우보다 저감된다. 이것은 와이드 토수용 유로(427)로부터 선회실(423)로 유입된 세정수에 의한 선회류와 스폿 토수용 유로(428)로부터 선회실(423)로 유입된 세정수에 의한 직진류가 간섭하기 때문이다. 그 때문에 이 경우에는, 와이드 토수용 유로(427)만을 통해서 선회실(423)로 세정수를 유입시킬 경우보다 작은 선회력을 갖는 중공 원추형 토수(510)가 토수구멍(426)으로부터 분출된다.

또한, 이에 대해서 스폿 토수용 유로(428)만을 통해서 선회실(423)로 세정수를 유입시키면 직진류(530)와 액적(540)을 토수구멍(426)으로부터 토수할 수 있다. 그 때문에, 이 경우에는 사용자는 세정하고 싶은 세정 개소를 기호에 따라 중점적으로 세정할 수 있다.

이것에 의하면 와이드 토수용 유로(427)와 스폿 토수용 유로(428)를 통해서 선회실(423)로 세정수를 유입시킬 경우 및 스폿 토수용 유로(428)만을 통해서 선회실(423)로 세정수를 유입시킬 경우에는 와이드 토수용 유로(427)만을 통해서 선회실(423)로 세정수를 유입시킬 경우보다 좁은 범위를 세정할 수 있다. 즉, 사용자는 세정하고 싶은 세정 개소를 기호에 따라 중점적으로 세정할 수 있다.

따라서, 본 구체예에 의하면 사용자는 와이드 토수용 유로(427)를 통과하는 세정수의 유량과 스폿 토수용 유로(428)를 통과하는 세정수의 유량의 비율을 적절하게 설정 변경함으로써 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하는 와이드 토수와 보다 좁은 범위를 중점적으로 세정하는 스폿 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다.

이어서, 본 실시형태의 압력 변조 장치(470)의 구체예에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

도 11은 본 실시형태의 압력 변조 장치의 구체예를 예시하는 단면 모식도이다.

본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 도 2에 관해서 상술한 바와 같이 유로(10) 내의 물의 흐름에 맥동을 부여하여 노즐(410)의 토수구멍(411)으로부터 분출되는 물에 맥동을 부여하는 압력 변조 장치(470)를 구비한다. 압력 변조 장치(470)는 도시되지 않은 제어부로부터의 지령에 의거하여 스폿 토수시에 가동하고, 유로(10) 내의 물의 흐름에 맥동을 부여한다. 이 맥동이 부여된 물의 흐름은 압력이 변동함으로써 토수구멍으로부터 속도차를 가진 상태에서, 즉 유속이 큰 상태와 유속이 작은 상태를 교대로 반복하도록 분출된다. 속도차를 가진 세정수는 분출 후에 속도가 느린 부위에 속도가 빠른 부위가 따라 붙는 현상을 발생시켜 세정수가 합체됨으로써 세정수의 단면적이 단속적으로 커진다. 그 때문에, 스폿 토수에 있어서 세정수의 유량이 저감되어도 양감의 저하를 억제할 수 있어 세정감을 보다 높일 수 있다.

또한, 와이드 토수시는 압력 변조 장치(470)를 가동하지 않고 세정수에는 맥동을 부여시키지 않고 분출시킨다.

도 11에 도시한 압력 변조 장치(470)는 상술한 바와 같이 유로(10) 내의 물의 흐름에 맥동을 부여할 수 있다. 여기서, 본원 명세서에 있어서 「맥동」이란 압력 변조 장치(470)에 의해 발생되는 압력의 변동이다. 그 때문에, 압력 변조 장치(470)는 유로(10) 내의 물의 압력을 변동시키는 장치이다.

압력 변조 장치(470)는 도 11에 도시한 바와 같이 유로(10)에 접속되는 실린더(471)와, 실린더(471)의 내부로 진퇴 가능하게 설치된 플런저(472)와, 플런저(472)의 내부에 설치된 역지 밸브(473)와, 여자 전압을 제어함으로써 플런저(472)를 진퇴시키는 맥동 발생 코일(474)을 갖는다.

그리고, 플런저(472)의 위치가 노즐(410)의 측(하류측)으로 변화되었을 경우에는 압력 변조 장치(470)보다 하류측의 물의 압력이 증가하고, 노즐(410)과는 반대의 측(상류측)으로 변화되었을 경우에는 압력 변조 장치(470)보다 하류측의 물의 압력이 감소하도록 역지 밸브가 배치되어 있다. 바꿔 말하면, 플런저(472)의 위치가 노즐(410)의 측(하류측)으로 변화되었을 경우에는 압력 변조 장치(470)보다 상류측의 물의 압력은 감소하고, 노즐(410)과는 반대의 측(상류측)으로 변화되었을 경우에는 압력 변조 장치(470)보다 상류측의 물의 압력은 증가한다.

그리고, 맥동 발생 코일(474)의 여자를 제어함으로써 플런저(472)를 상류측·하류측으로 진퇴시킨다. 즉, 유로(10) 내의 물에 맥동을 부가할 경우[유로(10) 내의 물의 압력을 변동시킬 경우]에는 맥동 발생 코일(474)에 흐르는 여자 전압을 제어함으로써 플런저(472)를 실린더(471)의 축 방향(상류 방향·하류 방향)으로 진퇴시킨다.

이 경우 플런저(472)는 맥동 발생 코일(474)의 여자에 의해 도시하는 원위치(플런저 원위치)로부터 하류측(475)으로 이동한다. 그리고, 맥동 발생 코일(474)의 여자가 사라지면 복귀 스프링(476)의 바이어싱 포오스에 의해 원위치로 복귀한다. 이 때, 완충 스프링(477)에 의해 플런저(472)의 복귀의 동작이 완충된다. 플런저(472)는 그 내부에 덕빌(duckbill)식의 역지 밸브(473)를 갖고, 상류측으로의 역류를 방지하고 있다.

따라서, 플런저(472)는 플런저 원위치로부터 하류측으로 이동할 때는 실린더(471) 내의 물을 가압해서 하류측의 유로(10)로 밀어 흘리도록 되어 있다. 바꿔 말하면 플런저(472)는 플런저 원위치로부터 하류측으로 이동할 때는 상류측의 유로(10) 내의 물을 감압해서 실린더(471) 내에 흡인할 수 있다. 이 때, 플런저 원위치와 하류측으로 이동된 위치는 항상 일정하기 때문에 플런저(472)가 동작할 때에 하류측의 유로(10)에 보내지는 세정수의 양은 일정하게 된다.

그 후에 원위치로 복귀할 때는 역지 밸브(473)를 거쳐 실린더(471) 내에 세정수가 흘러들어 온다. 그 때문에, 다음번의 플런저(472)의 하류측 이동시는 다시 한번 일정량의 세정수가 하류측의 유로(10)에 보내지게 된다. 이와 같이 해서 도 11에 도시한 압력 변조 장치(470)는 유로(10) 내의 물의 흐름에 맥동을 부여할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이 본 실시형태에 의하면 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 노즐(410)의 토수구멍(411)으로부터 세정수를 분출하는 스폿 토수와, 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 노즐(410)의 토수구멍(411)으로부터 세정수를 분출하는 와이드 토수를 실행할 수 있다. 즉, 사용자는 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하는 와이드 토수와 보다 좁은 범위를 중점적으로 세정하는 스폿 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다. 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 유속은 와이드 토수의 착수 범위의 유속과 동등하거나 또는 그것보다 느리다. 또한, 스폿 토수의 착수 범위의 중심부에 있어서의 착수력은 와이드 토수의 착수 범위의 착수력과 동등하거나 또는 그것보다 작다.

와이드 토수에 의하면 중공 원추형 토수(510)의 중공 부분에 입자화 수류(520)를 빠짐없이 널리 퍼지게 한 상태에서 변좌(200)에 앉은 사용자의 여성 국부의 보다 넓은 범위에 세정수를 착수시킬 수 있다. 그 때문에, 소망하는 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다. 스폿 토수에 의하면 와이드 토수의 경우보다 좁은 범위를 세정할 수 있음과 아울러 여성 국부의 중심 부근에 위치하는 여성의 민감한 영역에 강한 자극이 필요 이상으로 가해지는 것을 억제할 수 있다. 그 때문에, 매우 기분이 좋은 세정감의 비데 세정을 실현할 수 있다.

이것에 의하면 비데 세정의 용도에 따라 세정수의 착수 범위의 광협을 스위칭해서 노즐(410)로부터 분출된 세정수는 여성 국부로의 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 되어서 착수된다. 그 때문에, 비데 세정에 있어서의 세정수 착수 범위의 광협에 적합한 착수력으로 비데 세정을 실행할 수 있다.

이어서, 본 발명의 다른 실시형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

도 12는 본 발명의 다른 실시형태에 의한 위생 세정 장치를 구비한 변기 장치를 도시하는 사시 모식도이다.

본 실시형태에 의한 노즐(410)의 선단부에는 적어도 2개의 토수구멍(411)이 형성되어 있다. 예를 들면, 도 12에 도시한 노즐(410)에서는 2개의 토수구멍(411) 중 한쪽의 토수구멍(411a)은 와이드 토수(제 2 토수)용 제 2 토수구멍이며, 다른쪽의 토수구멍(411b)은 스폿 토수(제 1 토수)용 제 1 토수구멍이다.

본 실시형태에 의한 위생 세정 장치(100)는 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 노즐(410)의 제 1 토수구멍(411b)으로부터 세정수를 분출하는 스폿 토수(제 1 토수)와, 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 노즐(410)의 제 2 토수구멍(411a)으로부터 세정수를 분출하는 와이드 토수(제 2 토수)를 실행할 수 있다. 그 밖의 변기 장치 및 위생 세정 장치의 구조나 와이드 토수 및 스폿 토수의 작용은 도 1∼도 11에 관해서 상술한 변기 장치 및 위생 세정 장치의 구조나 와이드 토수 및 스폿 토수의 작용과 같다.

이어서, 본 실시형태의 노즐(410)의 구체예에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

도 13은 본 실시형태의 노즐의 구체예를 예시하는 상면 모식도이다.

또한, 도 14는 도 13에 도시한 절단면 A-A에 있어서의 단면 모식도이다.

본 구체예에 의한 노즐(410)은 노즐 본체(420)를 갖는다. 노즐 본체(420)의 내부에는 와이드 토수용 유로(427)와, 스폿 토수용 유로(428)가 형성되어 있다. 와이드 토수용 유로(427)는 제 1 선회실(423a)의 대경부 내주벽(423e)의 접선 방향으로 접속되어 있다. 한편, 스폿 토수용 유로(428)는 제 2 선회실(423b)의 축심을 향하도록 대경부 내주벽(423e)에 접속되어 있다. 그 밖의 구조는 도 3 및 도 4에 관해서 상술한 노즐(410)의 구조와 같다.

와이드 토수용 유로(427)는 제 1 선회실(423a)의 대경부 내주벽(423e)의 접선 방향으로 접속되어 있기 때문에 와이드 토수용 유로(427)를 통과해서 제 1 선회실(423a)로 유입된 세정수는 대경부 내주벽(423e) 및 경사 내주벽(423f)을 따라 선회한다. 이것은 도 3에 관해서 상술한 바와 같다. 한편, 스폿 토수용 유로(428)는 제 2 선회실(423b)의 축심을 향하도록 대경부 내주벽(423e)에 접속되어 있기 때문에 스폿 토수용 유로(428)를 통과해서 제 2 선회실(423b)로 유입된 세정수는 선회함이 없거나 또는 선회력을 저감한 상태에서 제 2 연통로(425b)의 일단, 즉 제 1 토수구멍(426b)으로부터 분출된다. 이것은 도 4에 관해서 상술한 바와 같다.

그 때문에, 본 구체예의 노즐(410)에 의하면 와이드 토수용 유로(427)를 통해서 제 1 선회실(423a)에 세정수를 유입시키면 보다 큰 선회력을 갖는 중공 원추형 토수(510)를 제 2 토수구멍(426a)으로부터 토수할 수 있다. 또한, 본 구체예에 의한 노즐(410)이 도 3에 도시된 스로트(430)를 가질 경우에는 제 2 토수구멍(426a)으로부터 분출된 중공 원추형 토수(510)는 입자화 수류(520)로 천이된다. 그 때문에, 이 경우에는 사용자는 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정할 수 있다.

또한, 스폿 토수용 유로(428)를 통해서 제 2 선회실(423b)에 세정수를 유입시키면 직진류(530)와 액적(540)을 제 1 토수구멍(426b)으로부터 토수할 수 있다. 그 때문에, 이 경우에는 사용자는 세정하고 싶은 세정 개소를 기호에 따라 중점적으로 세정할 수 있다.

와이드 토수용 유로(427)는 큰 선회력을 갖도록 제 1 선회실(423a)로 유입시키고 있고, 큰 선회력을 부여함으로써 토수구멍 부근에서 축류가 발생되어 압력 손실이 생기지만 와이드 토수용 유로(427)로의 입수 압력을 스폿 토수용 유로(428)보다 큰 입수 압력에 의해 세정수를 유입시킴으로써 와이드 토수의 유속을 스폿 토수의 유속보다 높일 수 있다. 한편, 스폿 토수의 선회력은 커지지 않도록 제 2 선회실(423b)에 유입시키고 있어 압력 손실은 작고 높은 압력을 필요로 하지 않기 때문에 입수 압력을 작게 함으로써 유속을 억제하고 있다.

입수압을 변경하는 수단으로서 스폿 토수용 유로(428)로 통하는 유량 조정 밸브 또는 도중의 유로에 있어서 와이드 토수용 유로(427)로 통하는 유로보다 압력 손실이 커지도록 스로틀부를 설치하여 입수 압력을 변경하고 있다. 또한, 펌프 등을 탑재하여 펌프의 출력을 조정함으로써 입수 압력을 변경해도 좋다.

또한, 토수구멍으로부터 세정수가 분출될 때의 토수 방향으로 보았을 때의 제 2 토수구멍(426a)의 단면적은 제 1 토수구멍(426b)보다 크게 형성되어 있다. 그 때문에, 와이드 토수와 스폿 토수가 스위칭함으로써 유속차가 자동적으로 발생된다. 이에 따라, 거대한 장치나 기기 등을 설치하지 않고 제 1 토수와 제 2 토수 사이에 유속을 다르게 할 수 있다.

따라서, 본 구체예에 의하면 사용자는 세정수의 유로를 와이드 토수용 유로(427)와 스폿 토수용 유로(428)로 변경함으로써 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하는 와이드 토수와 보다 좁은 범위를 중점적으로 세정하는 스폿 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다.

이어서, 본 실시형태의 노즐(410)의 다른 구체예에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

도 15는 도 13에 도시한 절단면 A-A에 있어서의 다른 구체예의 단면 모식도이다.

다른 구체예에 의한 노즐(410)은 도 13, 도 14에 관해서 상술한 노즐(410)의 구조와 같기 때문에 이하에서 상술한 구체예와 다른 점에 대해서 이하에서 설명한다.

도 14에 도시한 구체예에서는 와이드 토수의 제 1 연통로(425a)와 스폿 토수의 제 2 연통로(425b)가 세정수가 분출될 때의 토수 방향으로부터 보았을 때의 단면적이 대략 동일하게 만났지만, 도 15에 도시한 다른 구체예에서는 제 1 연통로(425a)의 세정수가 분출될 때의 토수 방향으로부터 보았을 때의 단면적이 제 2 연통로(425b)보다 작게 형성되어 있다.

따라서, 다른 구체예에서는 예를 들면, 와이드 토수와 스폿 토수에서 동등의 유량을 흘렸다고 해도, 바꿔 말하면 도 13에서의 와이드 토수용 유로(427)를 흐르는 세정수의 유량과 스폿 토수용 유로(428)를 흐르는 세정수의 유량을 동등하게 했다고 해도 와이드 토수의 제 1 연통로(425a)의 직경을 좁히고 있으므로 스폿 토수의 제 1 범위에 있어서의 유속이 와이드 토수의 제 2 범위에 있어서의 유속보다 느려지도록 상기 세정수를 분출시킬 수 있다. 그 때문에, 와이드 토수와 스폿 토수가 스위칭함으로써 유속차가 자동적으로 발생된다. 이에 따라, 거대한 장치나 기기 등을 설치하지 않고 제 1 토수와 제 2 토수 사이에 유속을 다르게 할 수 있다.

따라서, 다른 구체예에 있어서도 사용자는 세정수의 유로를 와이드 토수용 유로(427)와 스폿 토수용 유로(428)로 변경함으로써 보다 넓은 범위를 한 번에 휙 세정하는 와이드 토수와 보다 좁은 범위를 중점적으로 세정하는 스폿 토수를 기호에 따라 스위칭할 수 있다.

이상, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명했다. 그러나, 본 발명은 이들 기술에 한정되는 것은 아니다. 상술의 실시형태에 관해서 당업자가 적절하게 설계 변경을 가한 것도 본 발명의 특징을 구비하고 있는 한 본 발명의 범위에 포함된다. 예를 들면, 노즐(410) 등이 구비하는 각 요소의 형상, 치수, 재질, 배치 등은 예시한 것에 한정되는 것은 아니고 적절하게 변경할 수 있다.

또한, 상술한 각 실시형태가 구비하는 각 요소는 기술적으로 가능한 한에 있어서 조합시킬 수 있고, 이들을 조합시킨 것도 본 발명의 특징을 포함하는 한 본 발명의 범위에 포함된다.

Claims (13)

1. 토수구멍을 갖고, 상기 토수구멍으로부터 세정수를 분출해서 여성 국부에 착수시키는 노즐을 구비하고,
   상기 노즐은 상기 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 1 토수와, 상기 토수구멍을 이동시키지 않고 상기 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 상기 제 1 토수보다 확산시켜서 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행하고,
   상기 제 2 토수로부터 상기 제 1 토수로 스위칭했을 때에 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 착수력을 억제하는 착수력 억제 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 착수력 억제 수단은 상기 제 2 토수로부터 상기 제 1 토수로 스위칭했을 때에 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 유속을 상기 제 2 토수의 상기 제 2 범위에 있어서의 유속보다 느리게 해서 상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 착수력을 억제하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 착수력 억제 수단은 상기 제 1 토수에서는 상기 제 2 토수보다 적은 유량으로 상기 세정수를 분출시키는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
4. 토수구멍을 갖고, 상기 토수구멍으로부터 세정수를 분출해서 여성 국부에 착수시키는 노즐을 구비하고,
   상기 노즐은 상기 여성 국부의 제 1 범위에 착수되도록 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 1 토수와, 상기 토수구멍을 이동시키지 않고 상기 제 1 범위보다 넓은 제 2 범위에 빠짐없이 착수되도록 상기 제 1 토수보다 확산시켜서 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수를 분출하는 제 2 토수를 스위칭해서 실행하고,
   상기 제 1 토수의 상기 제 1 범위에 있어서의 유속은 상기 제 2 토수의 상기 제 2 범위에 있어서의 유속보다 느려지도록 상기 세정수를 분출시키고,
   상기 제 1 토수에 있어서 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수가 분출될 때의 토수 방향으로 보았을 때의 세정수가 상기 토수구멍을 차지하는 면적을 상기 제 2 토수보다 크게 한 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 노즐은 상기 토수구멍의 하방에 상기 세정수를 선회시키는 선회실을 갖고,
   상기 제 1 토수에 있어서의 상기 선회실에서의 세정수의 선회 속도를 상기 제 2 토수보다 느리게 해서 상기 세정수를 상기 선회실로부터 분출하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
6. 제 5 항에 있어서,
   상기 노즐은 상기 제 1 토수에 있어서의 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수가 분출될 때의 유속을 상기 제 2 토수에 있어서의 상기 토수구멍으로부터 상기 세정수가 분출될 때의 유속보다 느리게 하는 감속 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 감속 수단은 상기 선회실로부터 토출된 세정수에 공기를 혼입시키는 공기 혼입부를 갖고,
   상기 공기 혼입부는 상기 제 2 토수보다 제 1 토수에 있어서 공기의 혼입량을 크게 하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
8. 제 7 항에 있어서,
   상기 제 1 토수에서는 토수의 외주측이 입자화된 상태의 상기 세정수를 상기 공기 혼입부를 통해서 상기 토수구멍에 공급하고,
   상기 제 2 토수에서는 토수의 외주측이 수막으로 된 상태의 상기 세정수를 상기 공기 혼입부를 통해서 상기 토수구멍에 공급하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
9. 제 1 항에 있어서,
   상기 제 1 토수 및 제 2 토수는 상기 세정수를 입자화해서 상기 토수구멍으로부터 분출시키고,
   상기 착수력 억제 수단은 상기 제 1 토수에서는 상기 제 2 토수에 있어서의 입경보다 작은 입경이 되도록 상기 세정수를 입자화하는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
10. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 세정수의 흐름에 맥동을 부여하는 압력 변조 장치를 더 구비하고;
    상기 제 1 토수에 있어서는 상기 압력 변조 장치를 가동시켜서 상기 토수구멍으로부터 분출되는 세정수의 흐름에 맥동을 부여해서 상기 세정수의 유속을 연속적으로 변화시키고, 상기 제 2 토수에 있어서는 상기 압력 변조 장치를 가동시키지 않고 상기 토수구멍으로부터 세정수를 분출시키는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
11. 제 1 항에 있어서,
    상기 노즐은,
    상기 토수구멍을 향해서 상기 세정수를 분사하는 스로틀부와,
    상기 스로틀부에 상기 세정수를 선회시키면서 공급하는 제 1 물 공급 수로와,
    상기 제 1 물 공급 수로로부터 공급된 세정수의 선회의 정도보다 저감된 정도로 선회시키면서 또는 선회시키지 않고 상기 스로틀부에 상기 세정수를 공급하는 제 2 물 공급 수로와,
    상기 제 1 토수를 실행할 때에는 상기 제 2 물 공급 수로로 상기 세정수를 공급하고 상기 제 2 토수를 실행할 때에는 상기 제 1 물 공급 수로로 상기 세정수를 공급하는 수로 선택 수단을 더 갖는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 토수구멍은 적어도 제 1 토수구멍과 제 2 토수구멍을 갖고;
    상기 제 1 토수는 상기 제 1 토수구멍으로부터 토수되고, 상기 제 2 토수는 상기 제 2 토수구멍으로부터 토수되는 것을 특징으로 하는 위생 세정 장치.
13. 삭제

Images